JP2009015193A - 液晶表示パネル、その製造方法及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】ラビング処理に起因して発生する横スジが目立たないようにしたラビング処理さ
れた配向膜を有する液晶表示パネル、その製造方法及びこの液晶表示パネルを使用した電
子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶表示パネル１０Ａは、周囲側の一辺の表面に複数の入力端子３
３_１からなる入力端子列３３_２が形成されていると共に、中央側の表示領域ＤＡの表面に
ラビング処理された配向膜２６が形成されたアレイ基板ＡＲ_１を有し、前記周囲側の一辺
の表面に前記入力端子列３３_２とは別にダミー端子３４が形成されていることを特徴とす
る。この配向膜２６は前記入力端子列３３_２側からラビング処理されていることが好まし
い。
【選択図】図３

Description

本発明はラビング処理された配向膜を有する液晶表示パネル、その製造方法及びこの液
晶表示パネルを使用した電子機器に関する。更に詳しくは、本発明は、ラビング処理に起
因して発生する横スジが目立たないようにしたラビング処理された配向膜を有する液晶表
示パネル、その製造方法及びこの液晶表示パネルを使用した電子機器に関する。

液晶表示パネルは、ガラス等の透明基板からなる一対の基板間に液晶が封入された構成
を備えている。このような液晶表示パネルは、内部に封入された液晶の液晶分子を一定の
配列で並べる（配向する）必要がある。そのため、前述のような一対の基板の対向面上に
は、それぞれ液晶分子を配向するための配向膜が形成されている。この配向膜は、所定の
材料（例えばポリイミド）からなり、液晶分子を基板に対して垂直方向もしくは垂直方向
からわずかに傾斜した方向に配向させる垂直配向膜と、液晶を基板に対して水平方向もし
くは水平方向からわずかに傾斜した方向に配向させる水平配向膜とがあり、種々の表示方
式に応じて使い分けられる。

この配向膜を形成する工程は、一般に、例えばポリイミド等の配向膜形成材料を溶媒に
溶解させた溶液を基板上に所定の方法で塗布し、この基板を加熱することにより溶媒のみ
を揮発させ（仮焼成）、続いて、溶媒が揮発した配向膜形成材料をさらに高温で加熱する
ことにより配向膜形成材料を硬化させ（本焼成）て配向膜を形成した後、この配向膜にラ
ビング処理を施している（下記特許文献１及び２参照）。

ここで、ラビング処理とは、クロス材等のラビング布を巻着させたラビングローラに、
基板表面に形成された配向膜を接触させ、このローラを回転させて配向膜の表面を一方向
に擦る（ラビングする）ことにより、配向膜表面を毛羽立たせたり溝を形成したりするこ
とで一定のエネルギー指向性をもたせて液晶分子の配列方向をラビング方向に規制するも
のである。このラビング処理工程を図８を用いて説明する。

なお、図８は一般的なラビング処理工程における被処理基板とラビングローラとの位置
関係を示す平面図である。

図８において、ステージ上に配置された被処理基板４０（図８にはアレイ基板ＡＲの例
が示されている）は、矩形平板状のガラス等からなる透明基板４１の一主面に透明電極（
図示省略）が形成され、それを覆って配向膜４２が形成された構成を有している。また、
ラビングローラ４３は、回転ローラ４４の表面にラビング布４５を巻着した構成を有して
いる。

ラビング処理は、ラビングローラ４３を配向膜４２の表面に一定の圧力で接触させ、ラ
ビングローラ４３を回転軸４６を中心として所定の方向４８に所定の速度で回転させなが
ら、例えば被処理基板４０の長手方向側に移動させて、配向膜４２の表面を一定方向に擦
っていく処理である。このとき、ステージ載置面に平行な平面において、ラビングローラ
４３の回転軸方向４７と相対移動方向４９とは通常９０°で行われるが、被処理基板４０
の幅方向Ｙとラビングローラ４３の移動方向４９のなす角φは種々の表示モードによって
変わる。

例えば、ＴＮモードの場合は、一方の基板に対する配向方向と他方の基板に対する配向
方向とは９０°ずれている必要がある。また、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefr
ingence：電界制御複屈折）モードの場合には、一方の基板に対する配向方向と他方の基
板に対する配向方向とは１８０°ずれている必要がある。更に、ＩＰＳ（In-Plane Switc
hing）モードないしＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードの場合には、両基板の配向
方向を同一方向とする必要がある。そして、被処理基板４０の幅方向Ｙとラビングローラ
４３の移動方向４９のなす角φは、上記要件を満たす限りにおいて、適宜決定し得る。
特開平５−２０３９５３号公報 特開平１０−１６１０７８号公報

ところで、液晶表示パネルのアレイ基板には、通常ドライバＩＣを実装するための実装
端子形成領域５０に形成された実装端子５１や、入力端子５２、ＴＥＧ（Test Elementar
y Group）端子５３等の各種端子が設けられている。このうち、これらの各種端子を有す
るアレイ基板側の配向膜４２に対して特定方向にラビング処理を行ったものを使用して液
晶表示パネルを作製すると、ミクロ的に見ると表示画像に横スジが発生し、特に横スジ発
生領域と非発生領域との境界が目立つことがあった。この横スジの発生状態及び発生原因
を図９を用いて説明する。

なお、図９は液晶表示パネルの横スジ発生状態を示す模式平面図である。

この液晶表示パネル６０は、配向膜に対して入力端子５２側から矢印方向にラビング処
理を行ったアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦを用いた液晶表示パネルの場合で
あって、ドライバＩＣ５４を搭載して組み立てられている。この液晶表示パネル６０を点
灯すると、図９に示すように、ラビング方向に沿って横スジ６１が生成されている横スジ
発生領域６２と横スジが発生していない横スジ非発生領域６３とが認められた。この横ス
ジ６１ないし横スジ発生領域６２は、ラビング方向が液晶表示パネル６０の長手方向から
所定角φだけ傾いていると、所定角φだけ傾いて形成される。同様に、例えば図８に示し
た位置にＴＥＧ端子５３が形成されているアレイ基板に対してＹ軸方向へラビング処理さ
れたアレイ基板ＡＲを用いた場合、作製された液晶表示パネルにはＴＥＧ端子５３に起因
する横スジがＹ軸方向に生じる。

発明者等は、この横スジ６１の発生原因を種々追求した結果、実装端子形成領域５０に
形成された各実装端子５１、入力端子５２やＴＥＧ端子５３等の各種端子は、薄膜で形成
されているが、被接続対象との間の電気的接続状態が良好となるようにするため、高さが
高くなるようにされていることに起因するものであることを見出した。すなわち、ラビン
グローラが各種端子の表面を擦るときに、ラビングローラの表面部分は、各端子が接触し
た部分が圧縮され、これらの各種端子の幅に対応する凹みが生じる。このラビングローラ
の表面に生じた凹み部分はその両側よりも擦る機能が弱くなるため、配向膜にはラビング
ローラの凹み部分に対応するストライプ状の弱く擦られた箇所が生じ、この部分が液晶表
示パネルにおける横スジとして現れるものである。

このうち、小型の液晶表示パネルの場合には、個々の実装端子５１の幅は１５〜２０μ
ｍ程度であり、入力端子５２ないしＴＥＧ端子の幅は１００μｍ程度である。また、隣接
する入力端子５２間距離及びＴＥＧ端子５３間距離は、入力端子５２ないしＴＥＧ端子５
３の幅よりは小さいが、実装端子５１間距離よりも大きい。従って、個々の実装端子５１
に起因する横スジ６１は間隔及び幅が狭いので目立ち難いが、入力端子５１ないしＴＥＧ
端子５３に起因する横スジ６１は、幅及び間隔が広いこともあって、非常に目立ち易くな
る。加えて、横スジ形成領域６２と横スジ非形成領域６３との境界部分は非常に目立って
しまう。

このような横スジの発生を抑制するためには、不要な端子を削除したり、移動したりす
れば、一応は解決可能である。しかしながら、ＴＥＧ端子５３を配線長を変えることによ
って適宜の場所に移動したり削除することは可能であるが、入力端子５２は製品の設計上
の問題からして適当な場所に移動したり削除したりすることはできない。従って、特に入
力端子５２に起因する横スジを発生させ難くすることや目立たないようにすることは表示
画質を向上させるために強く要望されている。

本発明は上述のような従来技術に鑑みてなされたものであって、その目的は、ラビング
処理に起因して発生する横スジが目立たないようにしたラビング処理された配向膜を有す
る液晶表示パネル、その製造方法及びこの液晶表示パネルを使用した電子機器を提供する
ことにある。

上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルは、周囲側の一辺の表面に複数の入
力端子からなる入力端子列が形成されていると共に、中央側の表示領域の表面にラビング
処理された配向膜が形成されたアレイ基板を有する液晶表示パネルにおいて、前記周囲側
の一辺の表面に前記入力端子列とは別にダミー端子の列が形成されていることを特徴とす
る。

本発明の液晶表示パネルによれば、アレイ基板の周囲側の一辺の表面には、複数の入力
端子からなる入力端子列が形成されていると共に、この入力端子列が形成されていない部
分にはダミー端子が形成されている。すなわち、アレイ基板の周囲側の一辺の表面に形成
されている入力端子列の傍には、ダミー端子が存在していることになる。そのため、液晶
表示パネルの表示領域には入力端子及びダミー端子の存在に起因するラビング処理による
横スジが発生することがあるが、この横スジは液晶表示パネルの表示領域全体に亘って均
等に発生するため、非常に目立たなくなる。

なお、ダミー端子がないと、液晶表示パネルの表示領域には入力端子の存在に起因する
横スジの発生領域と入力端子が存在していない部分の存在に起因する横スジの非発生領域
とが隣接する状態となるので、その境界が非常に目立ってしまう。なお、液晶表示領域の
配向膜のラビング方向が入力端子列が形成されている一辺と平行方向であると、入力端子
列の存在に起因する横スジ発生の問題は生じない。

また、本発明の液晶表示パネルは、前記配向膜は、前記入力端子列側からラビング処理
が行われていることが好ましい。

係る態様の液晶表示パネルによれば、配向膜のラビング処理が必ず入力端子列とダミー
端子の列を通過した後で行われるので、入力端子列による横スジをダミー端子の列によっ
て確実に目立ち難くすることが可能となる。

また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記ダミー端子は前記入力端子と同幅及び
同間隔で形成されていることが好ましい。

係る態様の液晶表示パネルによれば、表示領域に生成した横スジは、入力端子に起因す
るものとダミー端子に起因するものとで区別がつかなくなるため、横スジが非常に目立た
なくなる。

また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記入力端子列と表示領域の間には実装端
子が形成されているものとすることができる。

係る態様の液晶表示パネルによれば、ドライバＩＣ等をアレイ基板に載置することがで
きるようになるので入力端子の数を減らすことができ、上記発明の効果を奏しながらも、
入力端子にＦＰＣ（フレキシブルプリント配線基板）等の接続を容易に行うことができる
ようになり、小型の液晶表示パネルに最適となる。

また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記入力端子列が形成されている辺に隣接
する辺の一方に複数の試験用端子及び実装端子の少なくとも一方が形成されているものと
することができる。

係る態様の液晶表示パネルによれば、入力端子列が形成されている一辺に隣接する辺の
一方に複数の試験用端子及び実装端子の少なくとも一方が形成されていても、これらの端
子は入力端子列とは直角方向に形成されており、しかも、配向膜は入力端子列側からラビ
ング処理されている。そのため、試験用端子及び実装端子共に表示領域に形成される横ス
ジに影響を与えることがない。したがって、係る態様の液晶表示パネルによれば、上記発
明の効果を奏しながらも入力端子列が形成されている一辺に隣接する辺の任意の位置に試
験用端子を設けることができるようになり、更には、ドライバＩＣないしＬＳＩをＴＡＢ
（Tape Automated Bonding）により取り付けた中型ないし大型の液晶表示パネルにも適用
できるようになる。

また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記配向膜のラビング方向は、前記入力端
子列が形成されている一辺との間の角度θが絶対値で０°<θ≦９０°となる方向とする
ことが好ましい。

係る態様の液晶表示パネルによれば、配向膜は必ず入力端子列が形成されている一辺と
交差する方向にラビング処理されたものとなる。そのため、液晶表示パネルの表示領域に
は入力端子及びダミー端子の存在に起因する横スジが発生することがあっても、この横ス
ジは液晶表示パネルの表示領域全体に亘って均等に発生するため、非常に目立たなくなる
。

更に、上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、以下の（１）
〜（３）の工程を含むことを特徴とする。
（１）周囲側の一辺に複数の入力端子からなる入力端子列が形成されていると共に、前記
周囲側の一辺の表面に前記入力端子列とは別にダミー端子の列が形成されたアレイ基板を
作製する工程、
（２）前記アレイ基板の表面に配向膜を被覆する工程、
（３）前記配向膜を前記入力端子列側からラビング処理する工程。

本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、上記効果を奏する液晶表示パネルを製造
することができるようになる。

更に、上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、以下の（１）
〜（３）の工程を含むことを特徴とする。
（１）周囲側の一辺に複数の入力端子からなる入力端子列が形成されていると共に、前記
周囲側の一辺の表面に前記入力端子列とは別にダミー端子の列が形成されたアレイ基板領
域を、複数個マトリクス状に配置したアレイ側マザー基板を作製する工程、
（２）前記アレイ側マザー基板の各アレイ基板領域の表面に配向膜を被覆する工程、
（３）前記配向膜を前記入力端子列側から隣接する他のアレイ基板領域へ向ってラビング
処理していく工程。

本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、上記効果を奏する液晶表示パネルを多数
同時に製造することができるようになる。

また、本発明の電子機器は、上記本発明の液晶表示パネルを備えていることを特徴とす
る。

本発明の電子機器によれば、液晶表示パネルの横スジが目立たない、表示画質が良好な
液晶表示パネルを備えた電子機器が得られる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について、実施例及び図面を参照しながら詳
細に説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明の技術思想を具体化するために透過
型液晶表示パネルを例にとって説明するものであって、本発明をこの実施例に記載された
透過型液晶表示パネルに特定することを意図するものではなく、本発明は特許請求の範囲
に含まれるその他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。

なお、図１は実施例の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表したアレイ基
板の１画素分の平面図である。図２は図１のII−II線に沿った断面図である。図３は実施
例の液晶表示パネルのアレイ基板の概略平面図である。図４は図３のIV−IV線に沿った断
面図である。図５は実施例２の液晶表示パネルのアレイ基板の概略平面図である。図６は
実施例３のアレイ側マザー基板の概略平面図である。図７Ａは本発明の液晶表示パネルを
搭載したパーソナルコンピュータを示す図であり、図７Ｂは本発明の液晶表示パネルを搭
載した携帯電話機を示す図である。

実施例１の液晶表示パネル１０Ａを図１〜図４を用いて説明する。この液晶表示パネル
１０Ａは、液晶層を挟んで互いに対向するアレイ基板ＡＲ_１及びカラーフィルタ基板ＣＦ
を備えている。アレイ基板ＡＲ_１は、例えばガラス基板等の透明基板１１を有し、この透
明基板１１上の表示領域ＤＡには、アルミニウムやモリブデン等の金属からなる複数の走
査線１２が等間隔に平行になるように形成され、更に走査線１２からＴＦＴのゲート電極
Ｇが延設されている。同じく、透明基板１１上の表示領域ＤＡには、走査線１２と同じ材
料で、隣り合う走査線１２間に走査線１２と平行になるように補助容量線１３が形成され
、この補助容量線１３には補助容量線１３よりも幅広となされた補助容量電極１４が形成
されている。この走査線１２及び補助容量線１３は同時に形成される。更に、このアレイ
基板ＡＲ_１液晶表示パネルの周縁には、走査線１２と同じ材料でゲート引き回し配線、試
験用端子配線、実装端子用配線、入力端子用配線等が適宜形成されている（なお、これら
の構成は従来例のものと相違はないので、図示省略した。）。

また、透明基板１１の全面に走査線１２、補助容量線１３及びゲート電極Ｇを覆うよう
にして窒化ケイ素や酸化ケイ素などからなるゲート絶縁膜１５が積層されている。そして
、ゲート電極Ｇの上にゲート絶縁膜１５を介して例えばアモルファスシリコン（以下、「
ａ−Ｓｉ」という。）層１６が形成されている。また、ゲート絶縁膜１５上にアルミニウ
ムやモリブデン等の金属からなる複数の信号線１７が走査線１２と直交するようにして形
成されており、この信号線１７からａ−Ｓｉ層１６と接触するようにＴＦＴのソース電極
Ｓが延設されている。更に、信号線１７及びソース電極Ｓと同一の材料でドレイン電極Ｄ
が同じくａ−Ｓｉ層１６と接触するようにゲート絶縁膜１５上に設けられている。また、
信号線１７及びソース電極Ｓと同一の材料でソース引き回し配線、試験用端子配線、実装
端子用配線等（なお、これらの構成は従来例のものと相違はないので、図示省略した。）
と、図３および図４に示すように、透明基板１１の周囲側の一辺の表面に複数の入力端子
配線３１が形成されている。

ここで、走査線１２と信号線１７とに囲まれた領域が１画素に相当する。そしてゲート
電極Ｇ、ゲート絶縁膜１５、ａ−Ｓｉ層１６、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄによってス
イッチング素子となるＴＦＴが構成され、それぞれの画素にこのＴＦＴが形成される。こ
の場合、ドレイン電極Ｄと補助容量電極１４によって各画素の補助容量を形成することに
なる。

これらの信号線１７、ＴＦＴ、ゲート絶縁膜１５を覆うようにして透明基板１１の全面
にわたり例えば無機絶縁材料からなる保護絶縁膜（パッシベーション膜ともいわれる）１
８が積層され、少なくとも表示領域ＤＡの保護絶縁膜１８上には、有機絶縁膜からなる層
間膜１９（平坦化膜ともいわれる）が積層されている。そして、保護絶縁膜１８と層間膜
１９にはＴＦＴのドレイン電極Ｄに対応する位置にコンタクトホール２０が形成されてお
り、また、入力端子形成部分の複数の入力端子配線３１上の保護絶縁膜１８にもコンタク
トホール３２（図４参照）が形成されている。

更に、それぞれの画素においてコンタクトホール２０及び層間膜１９の表面に例えばＩ
ＴＯ（Indium Tin Oxide）ないしＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）からなる画素電極２１が
形成されている。また、入力端子形成部分のコンタクトホール３２及びその周囲の保護絶
縁膜１８上にもＩＴＯないしＩＺＯからなる複数の入力端子３３_１からなる入力端子列３
３_２が形成されている。この入力端子列３３_２が形成されている辺の保護絶縁膜１８の表
面には、入力端子３３_１と同じ大きさ及び間隔で、複数個のダミー端子３４が、入力端子
列３３_２の延在方向に沿って、入力端子列３２_２の直ぐ傍に列を成して形成されている。
なお、この入力端子列３２_２には実際にはフレキシブル基板等が接続され、映像信号等の
種々の信号が外部より入力端子列３２_２を介して実装領域３５に実装されるＩＣに入力さ
れていくが、ダミー端子３４には映像信号等の表示に必要とされる種々の信号が入力され
ることはなく、フレキシブル基板等が実際に接続されることはない。なお、ドライバＩＣ
（図示せず）の実装領域３５にも実装端子３６が形成されるが、これらの実装端子３６の
構成は入力端子３３_１の構成と実質的に同一であるので、その詳細な説明は省略する。

そして、表示領域ＤＡの画素電極２１等の表面には配向膜２２を被覆し、この配向膜２
２に、図３に示したように、入力端子列３３_２の延在方向との間の角度が０°<θ≦９０
°となる方向に、入力端子列３３_２側からラビング処理することにより製造されている。

なお、カラーフィルタ基板ＣＦは、別途ガラス基板等の透明基板２３の表面に、前記ア
レイ基板ＡＲ_１の少なくとも表示領域ＤＡに対応する位置に、それぞれの画素に対応して
例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）等からなるカラーフィルタ層２４が設けられ
ている。更にカラーフィルタ層２４の表面に共通電極２５及び配向膜２６が積層されてお
り、このカラーフィルタ基板ＣＦの配向膜２６も所定方向にラビング処理されている。

そして、上述のようにして得られたアレイ基板ＡＲ_１及びカラーフィルタ基板ＣＦをそ
れぞれ対向させ、適宜間隔でセルギャップを一定に保つための柱状スペーサ（図示せず）
を配置するとともに、アレイ基板ＡＲ_１及びカラーフィルタ基板ＣＦの周囲をシール材（
図示せず）によりシールし、両基板間に液晶３０を注入した後、この液晶３０の注入した
孔を封止することにより、実施例１の液晶表示パネル１０Ａが得られる。

このように、実施例１の液晶表示パネル１０Ａにおけるアレイ基板ＡＲ_１の入力端子３
３_１は、入力端子配線３１の表面に形成された保護絶縁膜１８の表面に位置するように形
成されているため、ゲート絶縁膜１５上の保護絶縁膜１８の高さを基準とすると、保護絶
縁膜１８及び入力端子配線３１の高さ分だけ高くなっている。また、ダミー端子３４も、
ゲート絶縁膜１５上の保護絶縁膜１８の高さを基準とすると、ダミー端子３４の高さだけ
高くなっている。

従って、配向膜２２に対して入力端子列３３_２側からラビング処理を行っていくと、ミ
クロ的には液晶表示パネル１０Ａの表示領域ＤＡの全体に亘って入力端子３３_１及びダミ
ー端子３４に起因する横スジが発生することになる。しかしながら、この横スジは液晶表
示パネル１０Ａの表示領域ＤＡ全体に亘って均等に発生するため、非常に目立たなくなる
。加えて、入力端子３３_１とダミー端子３４との間の高さの差は小さいので、入力端子３
３_１によって生じる横スジとダミー端子３４によって生じる横スジとの差異は小さいため
、特に隣り合う入力端子３３_１によって生じる横スジとダミー端子３４によって生じる横
スジとの境界も目立たなくなる。なお、ダミー端子３４の高さを入力端子３３_１の高さと
揃えるために、入力配線３１を形成する際ダミー端子３４の下にも入力配線３１の形成材
料と同じもの（具体的にはアルミニウムやモリブデン等の金属）を残しておいてもよい。

なお、ダミー端子３４に起因する横スジが表示領域ＤＡに生じるようにするには、ラビ
ング方向を入力端子列３３_２が形成されている一辺との間の角度θが絶対値で０°<θ≦
９０°となるようにすればよい。しかしながら、表示領域ＤＡの周囲の額縁領域の幅によ
っても変化するが、θが小さいと表示領域ＤＡに横スジが生じない部分が生じてしまうた
めに却って横スジの境界が目立つようになるので、θは９０°に近い方がよい。最適なθ
の数値範囲としては絶対値で７５°≦θ≦９０°の範囲であり、この場合ダミー端子３４
の存在が効果的に作用して横スジが目立たなくなる。またこのようなθの範囲であれば、
ダミー端子３４の列は、入力端子列３３_２の隣から表示領域ＤＡの境界に該当する部分（
つまり入力端子列３３_２の領域とダミー端子３４の列の領域とを合わせたものが、表示領
域ＤＡの領域と略等しくなる。）或いは、表示領域ＤＡの境界を越えた部分にまで設けて
おくと表示領域ＤＡ全体に亘って横スジを目立たなくするのに効果的である。

また、実施例１においては、ダミー端子３４の列を入力端子列３２_２の延在方向に沿っ
て設けているものを示しているが、ダミー端子３４の列は入力端子列３２_２が形成されて
いる辺において、入力端子列３２_２が形成されていない部分に設けられていればよい。し
かしながら、横スジを非常に目立ち難くするためにはできるだけダミー端子３４の形状、
位置等の条件が入力端子３３_１と同様な方が好ましいので、ダミー端子３４の列を入力端
子列３２_２の延在方向に沿って設けておくことが好ましい。

実施例１の液晶表示パネル１０Ａのアレイ基板ＡＲ_１では、小型の液晶表示パネルに最
適なものとするため、入力端子列３３_２と表示領域ＤＡの間にドライバＩＣの実装領域３
５を形成した例を示した。しかしながら、本発明は入力端子列が形成されている一辺に隣
接する辺の一方に複数の実装端子やＴＥＧ端子を配置した中型ないし大型の液晶表示パネ
ルに対しても適用可能である。この入力端子列が形成されている一辺に隣接する辺の一方
に複数の実装端子を形成した実施例２の液晶表示パネル１０Ｂのアレイ基板ＡＲ_２を図５
を用いて説明する。

この液晶表示パネル１０Ｂのアレイ基板ＡＲ_２においては、表示領域ＤＡにおける各画
素の構成、入力端子３３_１、ダミー端子３４等の構成は、これらの数、サイズが異なるに
しても、実質的に実施例１の液晶表示パネル１０Ａのアレイ基板ＡＲ_１の場合と同様であ
る。そこで、図５においては、実施例１の液晶表示パネル１０Ａのアレイ基板ＡＲ_１と同
一の構成部分には同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。

実施例２の液晶表示パネル１０Ｂのアレイ基板ＡＲ_２が実施例１の液晶表示パネル１０
Ａのアレイ基板ＡＲ_１と構成が相違する点は、入力端子列３３_２及び実装領域３５_１が形
成されている側の辺に隣接する一方の辺３７の額縁領域に複数の実装端子領域３５_２を形
成した点である。そして、配向膜（図示せず）は入力端子列３３_２側からラビング処理さ
れているが、ラビング方向と入力端子列３３_２が形成されている一辺との間の角度θが９
０°に近ければ、どのような方向にラビングしても実装端子３５_２に起因する横スジが表
示領域ＤＡ内に生じないようにすることができる。

ただし、ラビング方向を入力端子列３３_２側から辺３７に向かう方向とすれば、実質的
に実装端子領域３５_２に起因する横スジが表示領域ＤＡ内に生じないようにすることがで
きる。そのため、ラビング方向と入力端子列３３_２が形成されている一辺との間の角度θ
との間の許容範囲は広くなり、しかもこの辺３７側の額縁領域にＴＥＧ端子等を設けても
、表示領域にこのＴＥＧ端子等に起因する横スジは発生しない。従って、この実施例２の
液晶表示パネル１０Ｂのアレイ基板ＡＲ_２によれば、実施例１の液晶表示パネル１０Ａの
場合と同様に横スジの発生が目立たず、しかも、入力端子列が形成されている一辺に隣接
する辺の任意の位置に複数の実装端子領域３５_２やＴＥＧ端子等を設けることができるよ
うになる。更には、ドライバＩＣないしＬＳＩをＴＡＢ（Tape Automated Bonding）によ
り取り付けた中型ないし大型の液晶表示パネルにも適用できるようになる。

実施例１の液晶表示パネル１０Ａのアレイ基板ＡＲ_１及び実施例２の液晶表示パネル１
０Ｂのアレイ基板ＡＲ_２は単一の基板の例であるが、本発明は複数のアレイ基板領域を複
数個マトリクス状に配置したアレイ側マザー基板ＭＡＲの場合に対しても適用可能である
。実施例３としてはこのアレイ側マザー基板ＭＡＲを用いて液晶表示パネルを形成する例
について説明する。

実施例３のアレイ側マザー基板ＭＡＲは、大型のガラス基板１１等の表面に、アレイ基
板領域ＡＲ_３を複数個マトリクス状に同時に形成したものである（ここでは４×４＝１６
個形成した例を示す。）。このアレイ基板領域ＡＲ_３は、実質的に実施例１の液晶表示パ
ネル１０Ａのアレイ基板ＡＲ_１と同様の構成を備えている。そしてそれぞれ周囲側の一辺
の表面に複数の入力端子３３_１からなる入力端子列３３_２が形成されているとともに、こ
の辺の入力端子列３３_２が形成されていない部分には、入力端子列３３_２の直傍から複数
のダミー端子３４が入力端子列３３_２の延在方向に沿って併設されている。

そして、大型ガラス基板１１上に形成された複数個のアレイ基板領域ＡＲ_３の表面全体
に亘って配向膜（図示せず）を形成し、図６において最右端側の入力端子列３３_２側から
矢印で示した方向にラビング処理を行う。この場合のラビング処理方向に関する条件は、
ラビングローラは隣接するアレイ基板領域ＡＲ_３を跨って移動するが、基本的には実施例
１の液晶表示パネル１０Ａのアレイ基板ＡＲ_１の場合と同様である。

実施例３のアレイ側マザー基板ＭＡＲは、配向膜にラビング処理された後、対応する複
数個のカラーフィルタ基板領域が形成されたカラーフィルタ側マザー基板（図示せず）と
張り合わされた後、個々の液晶表示装置に分断される。なお、このカラーフィルタ側マザ
ー基板の具体的構成及び個々の分断方法は周知であるので、その詳細な説明は省略する。
なお、実施例３の場合もラビング方向と入力端子列３３_２が形成されている一辺との間の
角度θは９０°に近い方がよい。

また実施例３においては、ラビング処理方向が図６の矢印の方向について説明している
が、図６の矢印とは逆の方向であっても、本発明においては横スジを目立たなくすること
が可能である。つまりアレイ側マザー基板ＭＡＲで複数のアレイ基板領域ＡＲ_３を形成す
る場合に、図６の矢印の方向とは逆の方向にラビン処理を行ったとしても、入力端子列３
３_２の影響を隣接するアレイ基板領域ＡＲ_３（この場合右側に存在するアレイ基板領域Ａ
Ｒ_３）の配向膜が受けることになる。しかしながら、本発明のように入力端子列３３_２の
隣にダミー端子３４の列を形成しておけば、任意の入力端子列３３_２の影響を受けて横ス
ジが生じてしまうアレイ基板領域ＡＲ_３について、横スジを目立たなくすることができる
。

また角度θが仮にかなり０°よりになっていたとしても（例えば３０°）、ダミー端子
３４の列を形成しておけば、入力端子列３３_２によって自身のアレイ基板領域ＡＲ３へ与
える影響だけでなく、隣接するアレイ基板領域ＡＲ_３（図６の場合だと左上のアレイ基板
領域ＡＲ_３や上に位置するアレイ基板領域ＡＲ_３）へ与える影響も防ぐことができる。つ
まりラビング処理を行う際に、ラビング処理の方向の延長線上に入力端子列３３_２と配向
膜が形成されている表示領域が存在していれば、ダミー端子３４を形成しておくことで、
入力端子列３３_２によって生じる横スジを目立たなくすることができる。

以上、本発明の実施例として液晶表示パネルを説明した。この液晶表示パネルは、パー
ソナルコンピュータ、携帯電話機、携帯情報端末などの電子機器に使用することができる
。このうち、液晶表示パネル７１をパーソナルコンピュータ７０に使用した例を図７Ａに
、同じく液晶表示パネル７６を携帯電話機７５に使用した例を図７Ｂに示す。ただし、こ
れらのパーソナルコンピュータ７０及び携帯電話機７５の基本的構成は当業者に周知であ
るので、詳細な説明は省略する。

実施例の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表したアレイ基板の１画素分の平面図である。 図１のII−II線に沿った断面図である。 実施例の液晶表示パネルのアレイ基板の概略平面図である。 図３のIV−IV線に沿った断面図である。 実施例２の液晶表示パネルのアレイ基板の概略平面図である。 実施例３のアレイ側マザー基板の概略平面図である。 図７Ａは本発明の液晶表示パネルを搭載したパーソナルコンピュータを示す図であり、図７Ｂは本発明の液晶表示パネルを搭載した携帯電話機を示す図である。 一般的なラビング処理工程における被処理基板とラビングローラとの位置関係を示す平面図である 液晶表示パネルの横スジ発生状態を示す模式平面図である。

符号の説明

１０Ａ、１０Ｂ：液晶表示パネル １１：透明基板 １２：走査線 １３：補助容量線
１４：補助容量電極 １５：ゲート絶縁膜 １６：ａ−Ｓｉ層 １７：信号線 １８：保
護絶縁膜 １９：層間膜 ２０：コンタクトホール ２１：画素電極 ２２：配向膜 ２
３：透明基板 ２４：カラーフィルタ層 ２５：共通電極 ２６：配向膜 ２９：垂直配
向膜 ３０：液晶 ３１：入力端子配線 ３２：コンタクトホール ３３_１：入力端子
３３_２：入力端子列 ３５、３５_１、３５_２：実装端子領域 ＡＲ_１、ＡＲ_２：アレイ基
板 ＡＲ_３：アレイ基板領域 ＭＡＲ：アレイ側マザー基板 ＣＦ：カラーフィルタ基板

Claims (9)

1. 周囲側の一辺の表面に複数の入力端子からなる入力端子列が形成されていると共に、中
   央側の表示領域の表面にラビング処理された配向膜が形成されたアレイ基板を有する液晶
   表示パネルにおいて、
   前記周囲側の一辺の表面に前記入力端子列とは別にダミー端子の列が形成されているこ
   とを特徴とする液晶表示パネル。
2. 前記配向膜は、前記入力端子列側からラビング処理が行われていることを特徴とする請
   求項１に記載の液晶表示パネル。
3. 前記ダミー端子は前記入力端子と同幅及び同間隔で形成されていることを特徴とする請
   求項１又は２に記載の液晶表示パネル。
4. 前記入力端子列と表示領域の間には実装端子が形成されていることを特徴とする請求項
   １〜３の何れかに記載の液晶表示パネル。
5. 前記入力端子列が形成されている辺に隣接する辺の一方に複数の試験用端子及び実装端
   子の少なくとも一方が形成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の液
   晶表示パネル。
6. 前記配向膜のラビング方向は、前記入力端子列が形成されている一辺との間の角度θが
   絶対値で０°<θ≦９０°となる方向であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示
   パネル。
7. 以下の（１）〜（３）の工程を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
   （１）周囲側の一辺に複数の入力端子からなる入力端子列が形成されていると共に、前記
   周囲側の一辺の表面に前記入力端子列とは別にダミー端子の列が形成されたアレイ基板を
   作製する工程、
   （２）前記アレイ基板の表面に配向膜を被覆する工程、
   （３）前記配向膜を前記入力端子列側からラビング処理する工程。
8. 以下の（１）〜（３）の工程を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
   （１）周囲側の一辺に複数の入力端子からなる入力端子列が形成されていると共に、前記
   周囲側の一辺の表面に前記入力端子列とは別にダミー端子の列が形成されたアレイ基板領
   域を、複数個マトリクス状に配置したアレイ側マザー基板を作製する工程、
   （２）前記アレイ側マザー基板の各アレイ基板領域の表面に配向膜を被覆する工程、
   （３）前記配向膜を前記入力端子列側から隣接する他のアレイ基板領域へ向ってラビング
   処理していく工程。
9. 請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示パネルを備えた電子機器。

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