JP2009010401A - 磁気抵抗デバイスの製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の上に、第1磁性金属からなる第1膜及び該第1磁性金属以外の金属からなる第2膜を同一の第1チャンバ17Aで成膜する工程を用いて、第1多層金属膜を設ける第1工程、該第1工程後の基板の上に、金属酸化物からなる第3膜を、第2チャンバ17Bで設ける第2工程、並びに、該第2工程後の基板の上に、第2磁性金属からなる第4膜及び該第2磁性金属以外の金属からなる第5膜を同一の第3チャンバ17Cで成膜する工程を用いて、第2多層金属膜を設ける第3工程を有する磁気抵抗デバイスの製造方法とする。
【選択図】 図1
Description
前記第1工程後の基板の上に、金属酸化物からなる第3膜を、第2チャンバを用いて設ける第2工程、並びに、
前記第2工程後の基板の上に、第2磁性金属からなる第4膜を第3チャンバで成膜する工程及び該第2磁性金属以外の金属からなる第5膜を同一の第3チャンバを用いて、第2多層金属膜を設ける第3工程
を有することを特徴とする。
11 ロボット制御装置
12 搬送チャンバ
17A〜17C 成膜チャンバ
18 成膜チャンバ
19 クリーニングチャンバ
54 シャッタ機構
Claims (3)
- 基板の上に、第1磁性金属からなる第1膜を第1チャンバで成膜する工程及び該第1磁性金属以外の金属からなる第2膜を同一の第1チャンバを用いて成膜する工程を用いて、第1多層金属膜を設ける第1工程、
前記第1工程後の基板の上に、金属酸化物からなる第3膜を、第2チャンバを用いて設ける第2工程、並びに、
前記第2工程後の基板の上に、第2磁性金属からなる第4膜を第3チャンバで成膜する工程及び該第2磁性金属以外の金属からなる第5膜を同一の第3チャンバを用いて、第2多層金属膜を設ける第3工程
を有することを特徴とする磁気抵抗デバイスの製造方法。 - 前記第1磁性金属以外の金属は、反強磁性金属であることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗デバイスの製造方法。
- 前記請求項1又は2に記載された磁気抵抗デバイスの製造方法を用いて製造したことを特徴とする磁気抵抗デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008205529A JP2009010401A (ja) | 2008-08-08 | 2008-08-08 | 磁気抵抗デバイスの製造方法及び製造装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000365696A Division JP2002167661A (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | 磁性多層膜作製装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009010401A true JP2009010401A (ja) | 2009-01-15 |
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