JP2009003353A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. コイルと、前記コイルに高周波電流を流すための高周波回路と、前記コイルに通電される高周波電流により生ずる磁束により発熱する導電層を有し、記録材上の像を所定の像加熱温度で加熱する像加熱部材と、前記コイルへの通電を制御する通電制御手段と、第一の像加熱温度で第一の厚みの記録材上の像を加熱する第一の像加熱モードと、第一の像加熱温度よりも高い温度である第二の像加熱温度で前記第一の厚みよりも大きい第二の厚みの記録材上の像を加熱する第二の像加熱モードと、を有する像加熱装置において、
   前記像加熱部材のキュリー温度は像加熱装置の耐熱温度未満であり、第一の像加熱温度はキュリー温度よりも低く、第二の像加熱温度はキュリー温度よりも高いことを特徴とする像加熱装置。
2. 第二の像加熱モードのときに前記コイルに通電される電流の周波数は表皮深さが導電層の厚みよりも小さくなる周波数であって、第二の像加熱モードのときに前記コイルに通電される電流の周波数は第一の像加熱モードのときの周波数よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の像加熱装置。
3. 第一の像加熱モードのときに前記コイルに通電される電流の周波数と第一の像加熱モードのときに前記コイルに通電される電流の周波数は一定であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の像加熱装置。
4. 前記加熱部材の導電層の厚さをｄ（ｍｍ）と、前記加熱部材の導電層の固有抵抗をρ（Ω・ｍ）と、前記加熱部材の透磁率をμ（Ｈ／ｍ）と、第一の像加熱モードのときに前記コイルに通電される電流の第一の周波数をｆ１（Ｈｚ）、第二の像加熱モードのときに前記コイルに通電される電流の第二の周波数をｆ２（Ｈｚ）とは
   

   

   
   の関係を満たすことを特徴とする請求項２から請求項３のいずれかに記載の像加熱装置。