JP2009002970A - Manufacturing method for microlens and microlens - Google Patents

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JP2009002970A
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Fumio Jinno
文夫 神野
Tomoyuki Takada
知行 高田
Junya Kojima
淳也 小島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for simply and inexpensively manufacturing a microlens having high accuracy in shape and in-plane disposition of the lens. <P>SOLUTION: In this manufacturing method for the microlens, a resin sheet contains an acid generation agent generating acid or a base generation agent generating base by action of an active energy line and further contains a chemical compound having a decomposition functional group for decomposing and desorbing one or more kinds of low boiling point volatile material by interaction with acid or base, the active energy line is applied to the resin sheet, which is then heated to cause decomposition reaction, and fine bubbles are formed to have distribution in plane direction or thickness direction in the resin sheet by the generated low boiling point volatile material. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光通信、デジタルカメラ、プロジェクトスクリーン用光拡散フィルムなどの分野で使用されるマイクロレンズに関し、特に、製造コストが低く、生産性に優れる平板マイクロレンズの製造方法を提供するものである。   The present invention relates to a microlens used in fields such as optical communication, a digital camera, and a light diffusion film for a project screen, and particularly provides a method for manufacturing a flat microlens with low manufacturing cost and excellent productivity. .

近年、光通信技術の発展により、光部品の高集積化が進められてきており、それらを結ぶ光学レンズの微小化と高集積化のため、従来の球面レンズの代わりに、非球面レンズやマイクロレンズアレイが商品化されている。一方、急速に普及しているデジタルカメラに必須のデバイスであるCCDにおいても、ウエハ上に形成した多数の固体撮像素子のそれぞれにマイクロレンズを付設したものがカメラ等に実装されて実用化されている。それ以外にもプロジェクションスクリーンの光を均一化させるための光拡散フィルムにも使用されている。
これらに使用されているマイクロレンズの製造方法として様々な方法が提案されている。例えば、金型(スタンパ)により熱プレスして型を作る方法、光重合の程度を変えることで屈折率を変化させて形成する方法(特許文献1参照)、ガラスの表面をマスクで一部被覆してエッチングすることで形成する方法(特許文献2参照)、光反応性物質の移動を利用して光照射した部分の体積を増加させる方法(特許文献3参照)、レジスト材料で膜を形成後に光照射により反応させて照射部または非照射部を溶出させて形成する方法(特許文献4参照)、樹脂でパターンを形成後に熱溶融させてレンズ形状に加工する方法(特許文献5参照)などが挙げられる。
In recent years, with the development of optical communication technology, higher integration of optical components has been promoted. In order to miniaturize and increase the integration of optical lenses that connect them, instead of conventional spherical lenses, aspherical lenses and micro lenses are used. Lens arrays have been commercialized. On the other hand, even in CCDs, which are essential devices for digital cameras that are rapidly spreading, devices with microlenses attached to each of a large number of solid-state image sensors formed on a wafer are mounted and put into practical use. Yes. In addition, it is also used for a light diffusion film for making the light of the projection screen uniform.
Various methods have been proposed as a manufacturing method of the microlens used in these. For example, a method of making a mold by hot pressing with a mold (stamper), a method of changing the refractive index by changing the degree of photopolymerization (see Patent Document 1), and partially covering the glass surface with a mask And then etching (see Patent Document 2), a method of increasing the volume of the light-irradiated portion using the movement of the photoreactive substance (see Patent Document 3), and after forming a film with a resist material A method of reacting by light irradiation to elute an irradiated portion or a non-irradiated portion (see Patent Document 4), a method of forming a pattern with a resin and then melting it into a lens shape (see Patent Document 5), etc. Can be mentioned.

金型でマイクロレンズを形成する方法では、熱可塑性樹脂の場合、加熱状態で作製されるため、金型、樹脂共に熱膨張の影響を受けるため、アレイの位置精度が出せないという欠点がある。リソグラフィ工程は、通常クリーンルーム内で管理された温度で行われるため熱膨張の影響がなく、高い位置精度のパターンが作製できるという利点があるが、上記公報に記載の方法においては、溶出の程度を精密に制御することが困難であり、結果として再現性良く製造することが難しい。   In the method of forming a microlens with a mold, since a thermoplastic resin is produced in a heated state, both the mold and the resin are affected by thermal expansion, so that there is a drawback that the position accuracy of the array cannot be obtained. Since the lithography process is usually performed at a temperature controlled in a clean room, there is an advantage that there is no influence of thermal expansion and a pattern with high positional accuracy can be produced. However, in the method described in the above publication, the degree of elution is reduced. It is difficult to control precisely, and as a result, it is difficult to manufacture with good reproducibility.

一方、特許文献1のように、光照射により重合度の変化によって屈折率変化を持たせたマイクロレンズを作製する方法では、屈折率変化の程度は微小であり、レンズとしての機能に限界が生じる。ガラスをエッチングする方法や、パターン化した樹脂を熱溶融させる方法ではレンズの形状を精密に制御することが難しく、用途に最適化された光学部品を設計することが困難である。
特許第3553929号公報 特公平7−23237号公報 特許第2541584号公報 特許第3003808号公報 特許第3317506号公報
On the other hand, as in Patent Document 1, in the method of manufacturing a microlens having a refractive index change due to a change in polymerization degree by light irradiation, the degree of refractive index change is very small, and the function as a lens is limited. . It is difficult to precisely control the shape of the lens by a method of etching glass or a method of thermally melting a patterned resin, and it is difficult to design an optical component optimized for the application.
Japanese Patent No. 3553929 Japanese Patent Publication No. 7-23237 Japanese Patent No. 2541584 Japanese Patent No. 3003808 Japanese Patent No. 3317506

レンズの形状と面内配置の精度が高いマイクロレンズを簡便に且つ安価に製造する方法を提供することを課題とする。   It is an object of the present invention to provide a method for easily and inexpensively manufacturing a microlens having high accuracy of lens shape and in-plane arrangement.

上記課題について鋭意検討した結果、樹脂シートの一部を発泡することにより、物理的な凹凸を作ることなくレンズを作成すること、ならびに、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解性官能基を含有する樹脂に活性エネルギー線を照射した後に加熱することにより分解反応させ、樹脂中に微細気泡が集合した発泡部を形成することで、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明にかかるマイクロレンズの製造方法は下記の構成を採用する。
As a result of intensive studies on the above-mentioned problems, an acid generator or base that generates an acid by the action of active energy rays, as well as creating a lens without foaming part of the resin sheet and creating physical irregularities. It is heated after irradiating a resin containing a decomposable functional group that reacts with an acid or base and decomposes or desorbs one or more low-boiling volatile substances with active energy rays. Thus, the present invention was completed by forming a foamed portion in which fine bubbles are gathered in the resin.
That is, the manufacturing method of the microlens according to the present invention employs the following configuration.

本発明の第1は、「微小なレンズが多数並べられたシート状の樹脂製マイクロレンズの製造方法において、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解性官能基を有する化合物を含有する樹脂シートに活性エネルギー線を照射した後に加熱することにより分解反応させ、発生した低沸点揮発性物質により樹脂シート中に平面方向及び厚さ方向に分布を持つように微細な気泡を形成させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法」である。   According to a first aspect of the present invention, an “acid generator that generates an acid or a base generator that generates a base by the action of an active energy ray in a method for manufacturing a sheet-like resin microlens in which a large number of microlenses are arranged” In addition, the resin sheet containing a compound having a decomposable functional group that reacts with an acid or a base to decompose and desorb one or more low-boiling volatile substances is irradiated with active energy rays and then heated. A method for producing a microlens, characterized in that fine bubbles are formed in a resin sheet so as to have a distribution in a plane direction and a thickness direction by a low boiling volatile substance generated by a decomposition reaction.

本発明の第2は、上記第1の発明において、前記樹脂中に形成させる微細な気泡の平均気泡径が500nm以下であることを特徴とするマイクロレンズの製造方法である。   A second aspect of the present invention is the method for producing a microlens according to the first aspect, wherein the average bubble diameter of fine bubbles formed in the resin is 500 nm or less.

本発明の第3は、上記第1または第2の発明において、前記樹脂中に形成させる発泡部分において、微細な気泡の体積分率が5〜90%であることを特徴とするマイクロレンズの製造方法である。   According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the invention, the microbubble volume fraction is 5 to 90% in the foamed portion formed in the resin. Is the method.

本発明の第4は、上記第1〜第3のいずれかの発明において、活性エネルギー線を照射する際に、1個のレンズ形成部の中心から外側にかけて活性エネルギー線の透過率が連続的に変化するマスクを用いることを特徴とするマイクロレンズの製造方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects of the invention, when the active energy ray is irradiated, the transmittance of the active energy ray is continuous from the center of one lens forming portion to the outside. A manufacturing method of a microlens using a changing mask.

本発明の第5は、樹脂シート中に、微細気泡が多数集合して微小な凸レンズ形状または凹レンズ形状の発泡部分が形成され、かつ、該レンズ形状の発泡部分が二次元方向に多数並んでいることを特徴とするマイクロレンズである。   According to a fifth aspect of the present invention, in the resin sheet, a large number of fine bubbles are aggregated to form a fine convex lens-shaped or concave lens-shaped foamed portion, and the lens-shaped foamed portions are arranged in a two-dimensional direction. This is a microlens.

上記のように、本発明では、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解性官能基を含有する樹脂に活性エネルギー線を照射した後に加熱することにより分解反応させ、樹脂中に500nm以下の微細気泡を体積分率で5〜95%となるように、樹脂の表裏で分布が異なるように発泡部を形成して樹脂の屈折率を部分的に制御することによって精度良く安価にマイクロレンズを製造出来る。
また、本発明のマイクロレンズは、表面に凹凸がなく、他の平面部材に隙間なく密着して接合できるという利点がある。
As described above, the present invention contains an acid generator that generates an acid by the action of an active energy ray or a base generator that generates a base, and further reacts with an acid or a base to produce one or more low-boiling point volatilizations. The resin containing a decomposable functional group that decomposes and desorbs the active substance is irradiated with an active energy ray and then heated to cause a decomposition reaction, so that fine bubbles of 500 nm or less in the resin have a volume fraction of 5 to 95%. As described above, the microlens can be manufactured with high accuracy and at low cost by forming the foamed portion so that the distribution is different between the front and back surfaces of the resin and partially controlling the refractive index of the resin.
In addition, the microlens of the present invention has an advantage that there is no unevenness on the surface, and the microlens can be bonded closely to other planar members without gaps.

この方法によれば、照射する光の強度と反応させる熱の調整により広いレンジで屈折率変化を制御することが可能となり、従来の方法では困難であった精度と簡単な方法の両立を可能とすることが出来、コスト的にも従来の製造方法と比較して有利である。   According to this method, it is possible to control the change in the refractive index in a wide range by adjusting the intensity of the light to be irradiated and the heat to be reacted, and it is possible to achieve both the accuracy and the simple method that were difficult with the conventional method. This is advantageous in terms of cost as compared with the conventional manufacturing method.

本発明の実施について説明すると以下の通りである。
まず、本発明においてレンズとは、物理的に凹凸がある凸レンズ、凹レンズのことではなく、凸レンズ、凹レンズと同じ機能を有するものを意味する。本明細書では、マイクロレンズはレンズの集合体のことを指し、1個1個のレンズに言及する場合にはその旨を明示する。また、シートとは薄いフィルム状から比較的厚い板状のものまでを指す。
本発明を構成するマイクロレンズに用いられる樹脂の原料となる組成物について説明する。樹脂組成物は活性エネルギー線を照射して加熱処理を施すことで少なくとも一種類の低沸点揮発性物質が発現する組成物である。その樹脂組成物としては、少なくとも次の2つの構成要素を共存させた組成物であることが望ましい。その一つは、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤、または塩基を発生する塩基発生剤であり、他のもう一つは、前記発生した酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性を分解脱離する分解性化合物である。
The implementation of the present invention will be described as follows.
First, in the present invention, a lens means not a convex lens or concave lens with physical irregularities but a lens having the same function as a convex lens or concave lens. In this specification, a microlens refers to an assembly of lenses, and when referring to individual lenses, this is clearly indicated. The sheet refers to a thin film shape to a relatively thick plate shape.
The composition used as the raw material of the resin used for the microlens constituting the present invention will be described. The resin composition is a composition in which at least one low boiling point volatile substance is expressed by irradiating active energy rays and performing a heat treatment. The resin composition is desirably a composition in which at least the following two components coexist. One is an acid generator that generates an acid by the action of active energy rays, or a base generator that generates a base, and the other is one or more types that react with the generated acid or base. It is a decomposable compound that decomposes and desorbs the low boiling point volatility.

<酸発生剤及び塩基発生剤>
本発明に使用する樹脂組成物に用いられる酸発生剤又は塩基発生剤には、一般的に化学増幅型フォトレジスト、及び光カチオン重合などに利用されている光酸発生剤や光塩基発生剤と呼ばれているものを用いることができる。
<Acid generator and base generator>
The acid generator or base generator used in the resin composition used in the present invention includes a chemically amplified photoresist, a photoacid generator or a photobase generator generally used for photocationic polymerization, and the like. What is called can be used.

本発明に好適な光酸発生剤としては、(1)ジアゾニウム塩系化合物(2)アンモニウム塩系化合物(3)ヨードニウム塩系化合物(4)スルホニウム塩系化合物(5)オキソニウム塩系化合物(6)ホスホニウム塩系化合物などから選ばれた芳香族もしくは脂肪族オニウム化合物のPF6 、AsF6 、SbF6 、CF3SO3 塩を挙げることができる。
その具体例を下記に列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(tert−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−メチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(4−クロロフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−トリルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(4−tert−ブチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2,4−キシリルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ベンゾイルフェニルスルホニルジアゾメタン、トリフルオロメタンスルホネート、トリメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、2,4,6−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、p−トリルジフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、1−(2−ナフトイルメチル)チオラニウムヘキサフルオロアンチモネート、1−(2−ナフトイルメチル)チオラニウムトリフルオロメタンスルホネート、4−ヒドロキシ−1−ナフチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−ヒドロキシ−1−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、(2−オキソ−1−シクロヘキシル)(シクロヘキシル)メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、(2−オキソ−1−シクロヘキシル)(2−ノルボルニル)メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル−4−メチルフェニルスルホニウムパーフルオロメタンスルホネート、ジフェニル−4−tert−ブチルフェニルスルホニウムパーフルオロオクタンスルホネート、ジフェニル−4−メトキシフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、ジフェニル−4−メチルフェニルスルホニウムトシレート、ジフェニル−4−メトキシフェニルスルホニウムトシレート、ジフェニル−4−イソプロピルフェニルスルホニウムトシレートジフェニルヨードニウム、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニルヨードニウムナイトレート、ジフェニルヨードニウムパークロレート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス(メチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス(メチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス(メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス(メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリ(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニル−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−ナフチル−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−ビフェニル−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−(4’−ヒドロキシ−4−ビフェニル)−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−(4’−メチル−4−ビフェニル)−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、2−(p−メトキシフェニルビニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシ−1−ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(ベンゾ[d][1,3]ジオキソラン−5−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(3,4,5−トリメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(3,4−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−ブトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−ペンチルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルピリリウムトリフロオロメタンスルホネート、トリメチルオキシニウムテトラフロオロボレート、トリエチルオキシニウムテトラフロオロボレート、N−ヒドロキシフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、N−ヒドロキシナフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、(αベンゾイルベンジル)p−トルエンスルホネート、(β−ベンゾイル−β−ヒドロキシフェネチル)p−トルエンスルホネート、1,2,3−ベンゼントリイルトリスメタンスルホネート、(2,6−ジニトロベンジル)p−トルエンスルホネート、(2−ニトロベンジル)p−トルエンスルホネート、(4−ニトロベンジル)p−トルエンスルホネート、などが挙げられる。なかでも、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物が好ましい。
Suitable photoacid generators for the present invention include (1) diazonium salt compounds (2) ammonium salt compounds (3) iodonium salt compounds (4) sulfonium salt compounds (5) oxonium salt compounds (6) PF 6 , AsF 6 , SbF 6 and CF 3 SO 3 salts of aromatic or aliphatic onium compounds selected from phosphonium salt compounds and the like can be mentioned.
Although the specific example is enumerated below, it is not limited to what was illustrated.
Bis (phenylsulfonyl) diazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane, bis (tert-butylsulfonyl) diazomethane, bis (p-methylphenylsulfonyl) diazomethane, bis (4-chlorophenylsulfonyl) diazomethane, bis (p-tolylsulfonyl) diazomethane Bis (4-tert-butylphenylsulfonyl) diazomethane, bis (2,4-xylylsulfonyl) diazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane, benzoylphenylsulfonyldiazomethane, trifluoromethanesulfonate, trimethylsulfonium trifluoromethanesulfonate, triphenylsulfonium Trifluoromethanesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, p-tolyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, 4-phenylthiophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-phenylthiophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 1- (2 -Naphthoylmethyl) thiolanium hexafluoroantimonate, 1- (2-naphthoylmethyl) thiolanium trifluoromethanesulfonate, 4-hydroxy-1-naphthyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-hydroxy-1-naphthyldimethylsulfonium Trifluoromethanesulfonate, (2-oxo-1-cyclohexyl) (cyclohexyl) methylsulfoniu Trifluoromethanesulfonate, (2-oxo-1-cyclohexyl) (2-norbornyl) methylsulfonium trifluoromethanesulfonate, diphenyl-4-methylphenylsulfonium perfluoromethanesulfonate, diphenyl-4-tert-butylphenylsulfonium perfluorooctanesulfonate, Diphenyl-4-methoxyphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate, diphenyl-4-methylphenylsulfonium tosylate, diphenyl-4-methoxyphenylsulfonium tosylate, diphenyl-4-isopropylphenylsulfonium tosylate diphenyliodonium, diphenyliodonium tosylate, diphenyl Iodonium chloride, diphenyliodonium hexafluo Loarsenate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium nitrate, diphenyliodonium perchlorate, diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate, bis (methylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate, bis (methylphenyl) iodonium tetrafluoroborate, bis (methylphenyl) Iodonium hexafluorophosphate, bis (methylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (4- tert-Butylphenyl) iodonium hexafluo Antimonate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium perfluorobutanesulfonate, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tri (trichloromethyl) ) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-ditrichloromethyl-1,3 , 5-triazine, 2-naphthyl-4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine, 2-biphenyl-4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine, 2- (4 ′ -Hydroxy-4-biphenyl) -4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine, 2- (4'-methyl-4-biphenyl) -4,6-ditrichloromethyl- , 3,5-triazine, 2- (p-methoxyphenylvinyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-methoxy-1-naphthyl)- 4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (benzo [d] [1,3] dioxolan-5-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3 , 5-triazine, 2- (4-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (3,4,5-trimethoxystyryl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -1,3,5 Triazine, 2- (3,4-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (2,4-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -1,3,5-triazine, 2- (2-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-butoxystyryl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-pentyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,6-di-tert- Butyl-4-methylpyrylium trifluoromethanesulfonate, trimethyloxynium tetrafluoroborate, triethyloxynium tetrafluoroborate, N-hydroxyphthalimide Trifluoromethanesulfonate, N-hydroxynaphthalimide trifluoromethanesulfonate, (αbenzoylbenzyl) p-toluenesulfonate, (β-benzoyl-β-hydroxyphenethyl) p-toluenesulfonate, 1,2,3-benzenetriyltrismethane Examples include sulfonate, (2,6-dinitrobenzyl) p-toluenesulfonate, (2-nitrobenzyl) p-toluenesulfonate, (4-nitrobenzyl) p-toluenesulfonate, and the like. Of these, iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds are preferred.

また、前記オニウム化合物以外にも、活性エネルギー線照射によりスルホン酸を光発生するスルホン化物、例えば2−フェニルスルホニルアセトフェノン、活性エネルギー線照射によりハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、例えば、フェニルトリブロモメチルスルホン、及び1,1−ビス(4−クロロフェニル)−2,2,2−トリクロロエタン、並びに活性エネルギー線照射により燐酸を光発生するフェロセニウム化合物、例えば、ビス(シクロペンタジエニル)フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェート、及びビス(ベンジル)フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェートなどを用いることができる。
さらには、下記に挙げる酸発生能を有するイミド化合物誘導体も使用できる。N−(フェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ナフタルイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)ナフタルイミド。
In addition to the onium compounds, sulfonates that generate sulfonic acid upon irradiation with active energy rays, such as 2-phenylsulfonylacetophenone, halides that generate hydrogen halide upon irradiation with active energy rays, such as phenyltribromo. Methylsulfone and 1,1-bis (4-chlorophenyl) -2,2,2-trichloroethane, and ferrocenium compounds that generate phosphoric acid upon irradiation with active energy rays, such as bis (cyclopentadienyl) ferrocenium hexa Fluorophosphate, bis (benzyl) ferrocenium hexafluorophosphate, and the like can be used.
Furthermore, the following imide compound derivatives having acid generating ability can also be used. N- (phenylsulfonyloxy) succinimide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) succinimide, N- (10-camphorsulfonyloxy) succinimide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) phthalimide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) ) -5-norbornene-2,3-dicarboximide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) naphthalimide, N- (10-camphorsulfonyloxy) naphthalimide.

本発明に好適な光塩基発生剤としては、(1)オキシムエステル系化合物(2)アンモニウム系化合物(3)ベンゾイン系化合物(4)ジメトキシベンジルウレタン系化合物(5)オルトニトロベンジルウレタン系化合物などが挙げられ、これらは活性エネルギー線の照射により塩基としてアミンを発生する。その他にも、光の作用によりアンモニアやヒドロキシイオンを発生する塩基発生剤を用いてもよい。これらは、例えばN−(2−ニトロペンジルオキシカルボニル)ピペリジン、1,3−ビス〔N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−ピペリジル〕プロパン、N,N’−ビス(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ジヘキシルアミン、及びO−ベンジルカルボニル−N−(1−フェニルエチリデン)ヒドロキシルアミンなどから選ぶことができる。さらには加熱により塩基が発生する化合物を上記光塩基発生剤と併用してもよい。   Examples of the photobase generator suitable for the present invention include (1) oxime ester compounds, (2) ammonium compounds, (3) benzoin compounds, (4) dimethoxybenzyl urethane compounds, and (5) orthonitrobenzyl urethane compounds. They generate amines as bases upon irradiation with active energy rays. In addition, a base generator that generates ammonia or hydroxy ions by the action of light may be used. These include, for example, N- (2-nitropentyloxycarbonyl) piperidine, 1,3-bis [N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-piperidyl] propane, N, N′-bis (2-nitrobenzyl). It can be selected from oxycarbonyl) dihexylamine, O-benzylcarbonyl-N- (1-phenylethylidene) hydroxylamine, and the like. Further, a compound that generates a base by heating may be used in combination with the photobase generator.

また、光酸発生剤または光塩基発生剤の活性エネルギー線の波長領域をシフトまたは拡大するために、適宜光増感剤を併用してもよい。例えば、オニウム塩化合物に対する光増感剤には、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、アクリジンオレンジなどが挙げられる。   In addition, a photosensitizer may be used in combination as appropriate in order to shift or expand the wavelength region of the active energy ray of the photoacid generator or photobase generator. For example, examples of photosensitizers for onium salt compounds include acridine yellow, benzoflavin, and acridine orange.

必要な酸を生成しながらも酸発生剤または塩基発生剤の添加量や光照射エネルギーを最小限に抑制する方法として、酸増殖剤や塩基増殖剤を酸発生剤または塩基発生剤とともに用いることができる。酸増殖剤は、常温付近で熱力学的に安定であるが、酸によって分解し、自ら強酸を発生し、酸触媒反応を大幅に加速させる。この反応を利用することにより、酸または塩基の発生効率を向上させて、低沸点揮発性物質生成速度をコントロールすることも可能である。   As a method of minimizing the amount of addition of the acid generator or base generator and the light irradiation energy while generating the necessary acid, it is possible to use an acid multiplier or base multiplier together with the acid generator or base generator. it can. The acid proliferator is thermodynamically stable at around room temperature, but decomposes with acid and generates a strong acid by itself to greatly accelerate the acid-catalyzed reaction. By utilizing this reaction, it is possible to improve the generation efficiency of acid or base and control the production rate of low boiling point volatile substances.

<分解性化合物>
本発明に用いられる分解性化合物は、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質(低沸点揮発性化合物)が分解脱離する。すなわち、この分解性化合物には、低沸点揮発性物質を発生し得る分解性官能基があらかじめ導入されていなければならない。低沸点とは発泡時にガス化する温度が上限になる。通常100℃以下、常温以下が好ましい。低沸点揮発性物質としては、例えばイソブテン(沸点;−7℃)、二酸化炭素(沸点;−79℃)、窒素(沸点;−196℃)などがあげられる。分解性官能基としては、酸と反応するものとしてtert−ブチル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、ケト酸およびケト酸エステル基などが挙げられ、塩基と反応するものとしてウレタン基、カーボネート基などが挙げられる。酸と反応するものとしては、tert−ブチル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、酸と反応して、tert−ブチル基はイソブテンガスを、tert−ブチルオキシカルボニル基はイソブテンガスと二酸化炭素を、ケト酸部位は二酸化炭素を、ケト酸エステルたとえばケト酸tert−ブチル基は二酸化炭素とイソブテンを発生する。塩基と反応するものとしては、ウレタン基、カーボネート基は二酸化炭素ガスを発生する。このようにして、それぞれのガスが分解性化合物から離脱する。酸と反応して分解する酸分解性化合物また塩基と反応して分解する塩基分解性化合物の形態としては、モノマー、オリゴマー、高分子化合物(ポリマー)等として使用することができ、例えば、以下のような化合物群に分類することができる。(1)非硬化性低分子系の分解性化合物群(2)硬化性モノマー系の分解性化合物群(3)重合体系の分解性化合物群硬化性モノマー系の分解性化合物に代表される例として、活性エネルギー線を照射したときに重合反応を生じるようなビニル基を含んだ活性エネルギー線硬化性化合物の場合には、均一に分解させることが容易であり、精度に優れたマイクロレンズを得ることが可能である。分解性化合物の具体例を下記に列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
<Degradable compounds>
The decomposable compound used in the present invention reacts with an acid or a base to decompose and desorb one or more low-boiling volatile substances (low-boiling volatile compounds). That is, this decomposable compound must be previously introduced with a degradable functional group capable of generating a low boiling point volatile substance. The low boiling point is the upper limit of the temperature at which gasification occurs during foaming. Usually, it is preferably 100 ° C. or lower and room temperature or lower. Examples of the low boiling point volatile substance include isobutene (boiling point: −7 ° C.), carbon dioxide (boiling point: −79 ° C.), nitrogen (boiling point: −196 ° C.), and the like. Examples of the decomposable functional group include tert-butyl group, tert-butyloxycarbonyl group, keto acid and keto ester group as those that react with acid, and urethane group and carbonate group as those that react with base. Can be mentioned. Reacting with acid includes tert-butyl group, tert-butyloxycarbonyl group, and acid, tert-butyl group is isobutene gas, tert-butyloxycarbonyl group is isobutene gas and carbon dioxide, keto Acid sites generate carbon dioxide and ketoesters such as the tert-butyl keto acid group generate carbon dioxide and isobutene. As those that react with the base, urethane groups and carbonate groups generate carbon dioxide gas. In this way, each gas is released from the decomposable compound. The form of an acid-decomposable compound that decomposes by reacting with an acid or a base-decomposable compound that decomposes by reacting with a base can be used as a monomer, oligomer, polymer compound (polymer), etc. It can be classified into such compound groups. (1) Non-curing low molecular weight decomposable compound group (2) Curing monomer based degradable compound group (3) Polymerizable degradable compound group Examples represented by curable monomer based degradable compounds In the case of an active energy ray-curable compound containing a vinyl group that causes a polymerization reaction when irradiated with an active energy ray, it is easy to uniformly decompose and obtain a microlens with excellent accuracy. Is possible. Although the specific example of a decomposable compound is enumerated below, it is not limited to what was illustrated.

(1)−a、非硬化性低分子系の分解性化合物群
<酸分解性化合物>
1−tert−ブトキシ−2−エトキシエタン、2−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)ナフタレン、N−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フタルイミド、2,2−ビス[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニル]プロパンなど
(1) -a, non-curing low molecular weight decomposable compound group <acid decomposable compound>
1-tert-butoxy-2-ethoxyethane, 2- (tert-butoxycarbonyloxy) naphthalene, N- (tert-butoxycarbonyloxy) phthalimide, 2,2-bis [p- (tert-butoxycarbonyloxy) phenyl] Propane, etc.

(1)−b、非硬化性低分子系の分解性化合物群
<塩基分解性化合物>
N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)ピペリジンなど
(1) -b, non-curing low molecular weight decomposable compound group <base decomposable compound>
N- (9-fluorenylmethoxycarbonyl) piperidine, etc.

(2)−a、硬化性モノマー系の分解性化合物群
<酸分解性化合物>
tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、tert−ブトキシカルボニルメチルアクリレート、2−(tert−ブトキシカルボニル)エチルアクリレート、p−(tert−ブトキシカルボニル)フェニルアクリレート、p−(tert−ブトキシカルボニルエチル)フェニルアクリレート、1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)シクロヘキシルアクリレート、4−tert−ブトキシカルボニル−8−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、2−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)エチルアクリレート、p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニルアクリレート、p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)ベンジルアクリレート、2−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)エチルアクリレート、6−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ヘキシルアクリレート、p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)フェニルアクリレート、p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ベンジルアクリレート、p−(tert−ブトキシカルボニルアミノメチル)ベンジルアクリレート、(2−tert−ブトキシエチル)アクリレート、(3−tert−ブトキシプロピル)アクリレート、(1−tert−ブチルジオキシ−1−メチル)エチルアクリレート、3,3−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)プロピルアクリレート、4,4−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)ブチルアクリレート、p−(tert−ブトキシ)スチレン、m−(tert−ブトキシ)スチレン、p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン、m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン、アクリロイル酢酸、メタクロイル酢酸tert−ブチルアクロイルアセテート、tert−ブチルメタクロイルアセテートなどN−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)マレイミド
(2) -a, curable monomer-based decomposable compound group <acid-decomposable compound>
tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, tert-butoxycarbonylmethyl acrylate, 2- (tert-butoxycarbonyl) ethyl acrylate, p- (tert-butoxycarbonyl) phenyl acrylate, p- (tert-butoxycarbonylethyl) phenyl acrylate 1- (tert-butoxycarbonylmethyl) cyclohexyl acrylate, 4-tert-butoxycarbonyl-8-vinylcarbonyloxy-tricyclo [5.2.1.02,6] decane, 2- (tert-butoxycarbonyloxy) ethyl Acrylate, p- (tert-butoxycarbonyloxy) phenyl acrylate, p- (tert-butoxycarbonyloxy) benzyl acrylate, 2- (tert-butyl) Xoxycarbonylamino) ethyl acrylate, 6- (tert-butoxycarbonylamino) hexyl acrylate, p- (tert-butoxycarbonylamino) phenyl acrylate, p- (tert-butoxycarbonylamino) benzyl acrylate, p- (tert-butoxycarbonyl) Aminomethyl) benzyl acrylate, (2-tert-butoxyethyl) acrylate, (3-tert-butoxypropyl) acrylate, (1-tert-butyldioxy-1-methyl) ethyl acrylate, 3,3-bis (tert-butyloxy) Carbonyl) propyl acrylate, 4,4-bis (tert-butyloxycarbonyl) butyl acrylate, p- (tert-butoxy) styrene, m- (tert-butoxy) s N- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene, p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene, m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene, acryloyl acetate, methacryloyl acetate, tert-butyl acryloyl acetate, tert-butyl methacryloyl acetate, etc. Oxy) maleimide

(2)−b、硬化性モノマー系の分解性化合物群
<塩基分解性化合物>
4−[(1、1−ジメチル−2−シアノ)エトキシカルボニルオキシ]スチレン、4−[(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン、4−[(1、1−ジメチル−2−メトキシカルボニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン、4−(2−シアノエトキシカルボニルオキシ)スチレン、(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エチルメタクリレート、(1、1−ジメチル−2−シアノ)エチルメタクリレートなど
(2) -b, curable monomer group decomposable compound group <base decomposable compound>
4-[(1,1-dimethyl-2-cyano) ethoxycarbonyloxy] styrene, 4-[(1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene, 4-[(1,1-dimethyl -2-methoxycarbonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene, 4- (2-cyanoethoxycarbonyloxy) styrene, (1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) ethyl methacrylate, (1,1-dimethyl-2-cyano) Ethyl methacrylate, etc.

(3)−a、重合体系の分解性化合物群
<酸分解性化合物>
ポリ(tert−ブチルアクリレート)、ポリ(tert−ブチルメタクリレート)、ポリ(tert−ブトキシカルボニルメチルアクリレート)、ポリ[2−(tert−ブトキシカルボニル)エチルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニル)フェニルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルエチル)フェニルアクリレート]、ポリ[1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)シクロヘキシルアクリレート]、ポリ{4−tert−ブトキシカルボニル−8−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン}、ポリ[2−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)エチルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)ベンジルアクリレート]、ポリ[2−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)エチルアクリレート]、ポリ[6−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ヘキシルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)フェニルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ベンジルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルアミノメチル)ベンジルアクリレート]、ポリ(2−tert−ブトキシエチルアクリレート)、ポリ(3−tert−ブトキシプロピルアクリレート)、ポリ[(1−tert−ブチルジオキシ−1−メチル)エチルアクリレート]、ポリ[3,3−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)プロピルアクリレート]、ポリ[4,4−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)ブチルアクリレート]、ポリ[p−(tert−ブトキシ)スチレン]、ポリ[m−(tert−ブトキシ)スチレン]、ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン]、ポリ[m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン]、ポリアクリロイル酢酸、ポリメタクロイル酢酸、ポリ[tert−ブチルアクロイルアセテート]、ポリ[tert−ブチルメタクロイルアセテート]N−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)マレイミド/スチレン共重合体など
(3) -a, decomposable compound group of polymer system <acid-decomposable compound>
Poly (tert-butyl acrylate), poly (tert-butyl methacrylate), poly (tert-butoxycarbonylmethyl acrylate), poly [2- (tert-butoxycarbonyl) ethyl acrylate], poly [p- (tert-butoxycarbonyl) Phenyl acrylate], poly [p- (tert-butoxycarbonylethyl) phenyl acrylate], poly [1- (tert-butoxycarbonylmethyl) cyclohexyl acrylate], poly {4-tert-butoxycarbonyl-8-vinylcarbonyloxy-tricyclo [5.2.1.02,6] decane}, poly [2- (tert-butoxycarbonyloxy) ethyl acrylate], poly [p- (tert-butoxycarbonyloxy) phenyl acrylate], poly [P- (tert-butoxycarbonyloxy) benzyl acrylate], poly [2- (tert-butoxycarbonylamino) ethyl acrylate], poly [6- (tert-butoxycarbonylamino) hexyl acrylate], poly [p- (tert -Butoxycarbonylamino) phenyl acrylate], poly [p- (tert-butoxycarbonylamino) benzyl acrylate], poly [p- (tert-butoxycarbonylaminomethyl) benzyl acrylate], poly (2-tert-butoxyethyl acrylate) , Poly (3-tert-butoxypropyl acrylate), poly [(1-tert-butyldioxy-1-methyl) ethyl acrylate], poly [3,3-bis (tert-butyloxycarbonyl) pro Acrylate], poly [4,4-bis (tert-butyloxycarbonyl) butyl acrylate], poly [p- (tert-butoxy) styrene], poly [m- (tert-butoxy) styrene], poly [p- (Tert-butoxycarbonyloxy) styrene], poly [m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene], polyacryloylacetic acid, polymethacryloylacetic acid, poly [tert-butylacryloylacetate], poly [tert-butylmethacloyl] Acetate] N- (tert-butoxycarbonyloxy) maleimide / styrene copolymer, etc.

(3)−b、重合体系の分解性化合物群
<塩基分解性化合物>
ポリ{p−[(1、1−ジメチル−2−シアノ)エトキシカルボニルオキシ]スチレン}、ポリ{p−[(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン}、ポリ{p−[(1、1−ジメチル−2−メトキシカルボニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン}、ポリ[p−(2−シアノエトキシカルボニルオキシ)スチレン]、ポリ[(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エチルメタクリレート]、ポリ[(1、1−ジメチル−2−シアノ)エチルメタクリレート]、などを挙げることができる。
(3) -b, decomposable compound group of polymer system <base decomposable compound>
Poly {p-[(1,1-dimethyl-2-cyano) ethoxycarbonyloxy] styrene}, poly {p-[(1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene}, poly {p -[(1,1-dimethyl-2-methoxycarbonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene}, poly [p- (2-cyanoethoxycarbonyloxy) styrene], poly [(1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) Ethyl methacrylate], poly [(1,1-dimethyl-2-cyano) ethyl methacrylate], and the like.

分解性官能基を導入したポリエーテル、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、デンドリマーなどの有機系高分子化合物を酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物として用いることができる。さらには、シリカなどの無機系化合物に分解性官能基を導入した酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物も含む。なかでも、分解性官能基は、カルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる官能基を有する化合物群に導入されることが好ましい。   Organic polymer compounds such as polyethers, polyamides, polyesters, polyimides, polyvinyl alcohols and dendrimers into which degradable functional groups are introduced can be used as acid-decomposable or base-decomposable polymer compounds. Furthermore, an acid-decomposable or base-decomposable polymer compound in which a decomposable functional group is introduced into an inorganic compound such as silica is also included. Especially, it is preferable that a decomposable functional group is introduce | transduced into the compound group which has a functional group chosen from the group which consists of a carboxylic acid group or a hydroxyl group, and an amine group.

これらの分解性官能基を導入した高分子化合物の中で、マイクロレンズ用途で特に好適なのは光学特性に優れ、耐熱性を有する高分子化合物である。例としては、ポリイミド、ポリカーボネート、フッ素系樹脂(特にフッ素系脂肪族環構造含有重合体)、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリシラン、シアン酸エステル樹脂を好ましく挙げることができる。   Among these polymer compounds into which a degradable functional group has been introduced, polymer compounds having excellent optical properties and heat resistance are particularly suitable for microlens applications. Preferred examples include polyimide, polycarbonate, fluorine-based resin (particularly a fluorine-based aliphatic ring structure-containing polymer), epoxy resin, silicone resin, polysilane, and cyanate ester resin.

上記分解性化合物群は単独で用いてもよいし、異なる2種以上を混合併用してもよい。また、上記分解性化合物は他の樹脂と混合して用いることもできる。混合した時に分解性化合物と他樹脂とが相溶でも非相溶でもどちらでもかまわない。他の樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系複合樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、アクリロイル樹脂、ABS樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニル樹脂、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、及びシリコーン樹脂など一般に用いられる樹脂から適宜選択して用いることができる。   The decomposable compound group may be used alone or in combination of two or more different types. Moreover, the decomposable compound can be used by mixing with other resins. When mixed, the decomposable compound and the other resin may be either compatible or incompatible. Other resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, unsaturated polyester resins, polycarbonate resins, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyolefin composite resins, polystyrene resins, polybutadiene resins, (meth) acrylic resins, Acryloyl resin, ABS resin, fluororesin, polyimide resin, polyacetal resin, polysulfone resin, vinyl chloride resin, methyl cellulose, ethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, starch, polyvinyl alcohol, polyamide resin, phenol resin, melamine resin, urea resin, urethane resin, It can be appropriately selected from commonly used resins such as epoxy resins and silicone resins.

分解性発泡化合物のうち、硬化性モノマー系の分解性化合物群および重合体系の分解性化合物群は単独で用いてもよいし、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いてもよい。これに対して、非硬化性低分子系の分解性化合物群は単独では成形できないので、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いる必要がある。   Among the decomposable foaming compounds, the curable monomer-based decomposable compound group and the polymer-based decomposable compound group may be used singly or in combination with the generally used resins. On the other hand, since the non-curable low molecular weight decomposable compound group cannot be molded alone, it is necessary to use it by mixing with the generally used resin.

本発明のマイクロレンズの耐湿性をあげるためには、分解性組成物として少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物に分解性官能基を導入した化合物を用いることもできる。本発明に用いられる疎水性官能基は、主に脂肪族基、脂肪環族基、芳香族基、ハロゲン基、ニトリル基からなる群の中から選ばれることが好ましい。分解発泡性官能基は、主にカルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる親水性官能基に導入されやすい。したがって、本発明の分解性化合物としては、前記親水性官能基に分解性官能基を導入した分解性ユニットと、疎水性官能基を含む疎水性ユニットからなる複合化合物が好ましい。より好ましい前記複合化合物は、分解性ユニットおよび疎水性ユニットがビニル系重合体である。疎水性ユニットは、メチル(メタ)アクリレートやエチル(メタ)アクリレートなどの脂肪族(メタ)アクリレート群、スチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレンなどの芳香族ビニル化合物群、(メタ)アクリロニトリル化合物群、酢酸ビニル化合物群、塩化ビニル化合物群などが挙げられる。分解性化合物の代表的な例としては、分解性ユニットが、親水性官能基のカルボン酸基を有するアクリル酸に分解性官能基であるtert−ブチル基を導入したtert−ブチルアクリレートであり、そして疎水性ユニットが疎水性官能基のメチル基を有するメチルアクリレートである組合わせからなるビニル系共重合体が挙げられる。分解性ユニット/疎水性ユニットの組合わせからなる分解性化合物の具体例を以下に示す。tert−ブチルアクリレート/メチルメタクリレート共重合体tert−ブチルメタクリレート/メチルアクリレート共重合体tert−ブチルメタアクリレート/メチルメタクリレート共重合体tert−ブチルアクリレート/エチルアクリレート共重合体tert−ブチルアクリレート/エチルメタクリレート共重合体tert−ブチルメタクリレート/エチルアクリレート共重合体tert−ブチルメタクリレート/エチルメタクリレート共重合体tert−ブチルアクリレート/スチレン共重合体tert−ブチルアクリレート/塩化ビニル共重合体tert−ブチルアクリレート/アクリロニトリル共重合体p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン/スチレン共重合体
また、分解性化合物中の分解性ユニットおよび疎水性ユニットは、一種単独でまたは2種以上併用することができる。共重合の形式は、ランダム共重合、ブロック共重合、グラフト共重合などの任意に行なうことができる。また、疎水性ユニットの共重合比は、分解性化合物全量に対して1〜95質量%であることが好ましく、分解性化合物の分解発泡性および発泡構造の環境保存性を勘案すると、5〜80質量%がより好ましい。
In order to increase the moisture resistance of the microlens of the present invention, a compound in which a decomposable functional group is introduced into a compound containing at least one kind of hydrophobic functional group can also be used as the decomposable composition. The hydrophobic functional group used in the present invention is preferably selected from the group consisting mainly of an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a halogen group, and a nitrile group. The decomposable and foamable functional group is easily introduced into a hydrophilic functional group selected from the group consisting mainly of a carboxylic acid group, a hydroxyl group and an amine group. Therefore, the decomposable compound of the present invention is preferably a composite compound comprising a decomposable unit having a degradable functional group introduced into the hydrophilic functional group and a hydrophobic unit containing a hydrophobic functional group. In the more preferable composite compound, the decomposable unit and the hydrophobic unit are vinyl polymers. Hydrophobic units include aliphatic (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate, aromatic vinyl compounds such as styrene, methylstyrene and vinylnaphthalene, (meth) acrylonitrile compounds, vinyl acetate A compound group, a vinyl chloride compound group, etc. are mentioned. As a representative example of the decomposable compound, the decomposable unit is tert-butyl acrylate in which a tert-butyl group which is a decomposable functional group is introduced into acrylic acid having a carboxylic acid group of a hydrophilic functional group, and Examples thereof include vinyl copolymers comprising a combination in which the hydrophobic unit is methyl acrylate having a hydrophobic functional group methyl group. Specific examples of the decomposable compound comprising a combination of degradable unit / hydrophobic unit are shown below. tert-butyl acrylate / methyl methacrylate copolymer tert-butyl methacrylate / methyl acrylate copolymer tert-butyl methacrylate / methyl methacrylate copolymer tert-butyl acrylate / ethyl acrylate copolymer tert-butyl acrylate / ethyl methacrylate copolymer Tert-butyl methacrylate / ethyl acrylate copolymer tert-butyl methacrylate / ethyl methacrylate copolymer tert-butyl acrylate / styrene copolymer tert-butyl acrylate / vinyl chloride copolymer tert-butyl acrylate / acrylonitrile copolymer p -(Tert-Butoxycarbonyloxy) styrene / styrene copolymer In addition, a degradable unit in the decomposable compound and The hydrophobic unit can be used alone or in combination of two or more. The form of copolymerization can be performed arbitrarily such as random copolymerization, block copolymerization, and graft copolymerization. In addition, the copolymerization ratio of the hydrophobic unit is preferably 1 to 95% by mass with respect to the total amount of the decomposable compound, and considering the decomposable foamability of the decomposable compound and the environmental preservation of the foamed structure, 5 to 80 The mass% is more preferable.

上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる2種以上を混合併用してもよい。
上記分解性化合物は、分解性官能基が分解脱離して低沸点揮発性物質を発生した後に、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物となる。
The decomposable compounds may be used alone or in combination of two or more different types.
The decomposable compound is a compound containing at least one kind of hydrophobic functional group after the decomposable functional group is decomposed and eliminated to generate a low boiling point volatile substance.

本発明のマイクロレンズの耐湿性をあげるためには、分解性組成物として、温度30℃相対湿度60%の環境雰囲気下においてJIS K−7209D法で測定した平衡吸水率が10%未満低の吸湿性化合物に分解性官能基を導入した化合物を用いることもできる。分解性官能基を導入しやすい構造を有する低吸湿性化合物としては、例えばp−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。したがって、分解性化合物は、p−(tert−ブトキシ)スチレン、m−(tert−ブトキシ)スチレン、p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン、m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレンが挙げられる。これらは硬化性モノマーでも一種類以上を混合した重合体でもよい。   In order to increase the moisture resistance of the microlens of the present invention, the decomposable composition has a low moisture absorption of less than 10% as measured by the JIS K-7209D method in an environmental atmosphere at a temperature of 30 ° C and a relative humidity of 60%. A compound in which a decomposable functional group is introduced into a functional compound can also be used. Examples of the low hygroscopic compound having a structure in which a degradable functional group can be easily introduced include p-hydroxystyrene and m-hydroxystyrene. Accordingly, examples of the decomposable compound include p- (tert-butoxy) styrene, m- (tert-butoxy) styrene, p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene, and m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene. These may be a curable monomer or a polymer in which one or more kinds are mixed.

また、吸水率が10%以上の高吸湿性化合物と、吸水率10%未満の低吸湿性化合物との組合わせからなる複合化合物に分解性官能基を導入してもよい。ただし、複合化合物は、適切な組合わせにより10%未満の吸水率を有していることが好ましい。例えば、高吸湿性化合物であるアクリル酸と低吸湿性化合物であるp−ヒドロキシスチレンの共重合体(複合化合物)は、その共重合比がアクリル酸/p−ヒドロキシスチレン=90/10〜0/100であることが好ましい。分解性化合物の具体的な例としては、tert−ブチルアクリレート/p−(tert−ブトキシ)スチレン共重合体tert−ブチルアクリレート/m−(tert−ブトキシ)スチレン共重合体tert−ブチルアクリレート/p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン共重合体tert−ブチルアクリレート/m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン共重合体tert−ブチルメタクリレート/p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン共重合体
さらには、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、デンドリマーからなる群の中から選ばれた低吸湿性高分子材料などに分解性官能基を導入してもよい。
Further, a degradable functional group may be introduced into a composite compound composed of a combination of a highly hygroscopic compound having a water absorption of 10% or more and a low hygroscopic compound having a water absorption of less than 10%. However, the composite compound preferably has a water absorption of less than 10% by an appropriate combination. For example, a copolymer (composite compound) of acrylic acid, which is a highly hygroscopic compound, and p-hydroxystyrene, which is a low hygroscopic compound, has a copolymerization ratio of acrylic acid / p-hydroxystyrene = 90 / 10-0 / 100 is preferred. Specific examples of the decomposable compound include tert-butyl acrylate / p- (tert-butoxy) styrene copolymer tert-butyl acrylate / m- (tert-butoxy) styrene copolymer tert-butyl acrylate / p- (Tert-Butoxycarbonyloxy) styrene copolymer tert-butyl acrylate / m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene copolymer tert-butyl methacrylate / p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene copolymer A degradable functional group may be introduced into a low hygroscopic polymer material selected from the group consisting of polyester, polyimide, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, phenol resin, and dendrimer.

上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる2種以上を混合併用してもよい。上記分解性化合物は、分解性官能基が分解脱離して低沸点揮発性物質を発生した後に、低吸湿性化合物となる。   The decomposable compounds may be used alone or in combination of two or more different types. The decomposable compound becomes a low hygroscopic compound after the decomposable functional group is decomposed and eliminated to generate a low boiling point volatile substance.

<分解性組成物>
本発明に使用する分解性組成物には、酸発生剤または塩基発生剤と分解性化合物以外に、他の活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物を組み合わせて用いてもよい。併用化合物の例としては、(1)脂肪族、脂環族、芳香族の1〜6価のアルコール及びポリアルキレングリコールの(メタ)アクリレート類(2)脂肪族、脂環族、芳香族の1〜6価のアルコールにアルキレンオキサイドを付加させて得られた化合物の(メタ)アクリレート類(3)ポリ(メタ)アクリロイルアルキルリン酸エステル類(4)多塩基酸とポリオールと(メタ)アクリル酸との反応生成物(5)イソシアネート、ポリオール、(メタ)アクリル酸の反応生成物(6)エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸の反応生成物(7)エポキシ化合物、ポリオール、(メタ)アクリル酸の反応生成物(8)メラミンと(メタ)アクリル酸の反応生成物等を挙げることができる。
<Degradable composition>
In addition to the acid generator or base generator and the decomposable compound, other active energy ray-curable unsaturated organic compounds may be used in combination for the decomposable composition used in the present invention. Examples of combined compounds include (1) (meth) acrylates of aliphatic, alicyclic, and aromatic 1- to 6-valent alcohols and polyalkylene glycols (2) aliphatic, alicyclic, and aromatic 1 (Meth) acrylates of compounds obtained by adding alkylene oxide to 6-valent alcohol (3) poly (meth) acryloylalkyl phosphate esters (4) polybasic acid, polyol, (meth) acrylic acid, Reaction product of (5) Reaction product of isocyanate, polyol, (meth) acrylic acid (6) Reaction product of epoxy compound and (meth) acrylic acid (7) Reaction of epoxy compound, polyol, (meth) acrylic acid Product (8) The reaction product of melamine and (meth) acrylic acid, etc. can be mentioned.

併用できる化合物の中で、硬化性モノマーや樹脂は、マイクロレンズの強度や耐熱性といった物性の向上効果や体積収縮性の制御効果などが期待できる。また分解性化合物および併用化合物に硬化性モノマーを用いれば、無溶剤成形ができ、環境負荷の少ない製造方法を提供できる。例としては次のような材料を挙げることが出来る。
併用化合物の具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、 2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、イソボロニルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸ダイマー、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、アクリル酸−9,10−エポキシ化オレイル、マレイン酸エチレングリコールモノアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチレンアクリレート、4,4−ジメチル−1,3−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、3−メチル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸アクリレート、エタンジオールジアクリレート、エタンジオールジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、2−ブチル−2−エチルプロパンジオールジアクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性水添ビスフェノールAジアクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ポリオキシエチレンエピクロロヒドリン変性ビスフェノールAジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、エチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることが出来るが、これらに限られるものではない。
Among the compounds that can be used in combination, curable monomers and resins can be expected to have an effect of improving physical properties such as the strength and heat resistance of microlenses and a volume shrinkage control effect. Moreover, if a curable monomer is used for the decomposable compound and the combination compound, solvent-free molding can be performed, and a production method with less environmental load can be provided. Examples include the following materials.
Specific examples of the combination compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, dicyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, benzyl acrylate , Benzylmeta Acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, phenoxy polypropylene glycol acrylate, ethylene oxide modified phenoxy acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, phthalic acid monohydroxyethyl acrylate, acrylic acid dimer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, acrylic acid-9,10-epoxidized oleyl, ethylene maleate Glycol monoacrylate, disic Pentenyloxyethylene acrylate, acrylate of caprolactone adduct of 4,4-dimethyl-1,3-dioxolane, acrylate of caprolactone adduct of 3-methyl-5,5-dimethyl-1,3-dioxolane, polybutadiene acrylate, ethylene oxide modified Phenoxylated phosphate acrylate, ethanediol diacrylate, ethanediol dimethacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,3-propanediol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol di Methacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 1,9-nonanediol dimethacrylate, di Ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 2-butyl-2-ethylpropanediol diacrylate, ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate, Polyethylene oxide modified bisphenol A diacrylate, polyethylene oxide modified hydrogenated bisphenol A diacrylate, propylene oxide modified bisphenol A diacrylate, polypropylene oxide modified bisphenol A diacrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid diacrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate 1,6-hexanediol diglycidyl ether acrylic acid adduct, polyoxyethylene epichlorohydrin modified bisphenol A diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, polyethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, Propylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, polypropylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid triacrylate, ethylene oxide modified glycerol triacrylate, polyethylene oxide modified glycerol triacrylate, propylene oxide modified glycerol triacrylate Polypropylene oxide modified glycerol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexaacrylate, polycaprolactone modified Although dipentaerythritol hexaacrylate etc. can be mentioned, it is not restricted to these.

さらに、前記の併用活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物の一部または全部として、分子鎖末端に(メタ)アクリロイル基を有する分子量が400〜5000程度の活性エネルギー線硬化性樹脂を組み合わせることもできる。このような硬化性樹脂として、例えば、ポリウレタン変性ポリエーテルポリ(メタ)アクリレートやポリウレタン変性ポリエステルポリ(メタ)アクリレートなどのポリウレタンポリ(メタ)アクリレートポリマー類を用いることが好ましい。   Further, as part or all of the combined active energy ray-curable unsaturated organic compound, an active energy ray-curable resin having a (meth) acryloyl group at the molecular chain terminal and having a molecular weight of about 400 to 5000 can be combined. . As such a curable resin, for example, polyurethane poly (meth) acrylate polymers such as polyurethane-modified polyether poly (meth) acrylate and polyurethane-modified polyester poly (meth) acrylate are preferably used.

本発明に使用する分解性組成物中の分解性官能基の割合によって、反応・揮散後の体積収縮率が変わってくる。好適な分解性官能基の質量比は5〜50%であり、より好ましくは10〜30%である。50%以上になると親水性が強くなりすぎて耐湿性が非常に低下し、5%より少ないと反応に時間を要するようになり、体積変化が少なくなる。   Depending on the ratio of the decomposable functional group in the decomposable composition used in the present invention, the volume shrinkage after reaction and volatilization varies. A suitable mass ratio of the degradable functional group is 5 to 50%, more preferably 10 to 30%. If it is 50% or more, the hydrophilicity becomes too strong and the moisture resistance is extremely lowered. If it is less than 5%, the reaction takes time, and the volume change is reduced.

本発明に使用する分解性組成物は、必要により、分解性化合物以外の添加物を含ませることができる。添加物としては、多価イソシアネート化合物、エポキシ化合物、有機金属化合物などの反応性化合物および酸化防止剤、シリコーンオイルや加工助剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤、スリップ防止剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、光安定剤、滑剤、軟化剤、有色染料、その他の安定剤等が一種類以上を含ませてもよい。添加剤を用いることにより、成形性や均一性などの向上が期待できる。   The decomposable composition used in the present invention can contain additives other than the decomposable compound, if necessary. Additives include polyisocyanate compounds, epoxy compounds, reactive compounds such as organometallic compounds and antioxidants, silicone oils and processing aids, UV absorbers, fluorescent brighteners, antislip agents, antistatic agents, One or more antiblocking agents, antifogging agents, light stabilizers, lubricants, softeners, colored dyes, other stabilizers, and the like may be included. By using the additive, improvement in moldability and uniformity can be expected.

紫外線吸収剤の具体例としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤から選ばれる。サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレートなどが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。   Specific examples of the ultraviolet absorber are selected from salicylic acid-based, benzophenone-based, or benzotriazole-based ultraviolet absorbers. Examples of salicylic acid-based ultraviolet absorbers include phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, and the like. Examples of the benzophenone ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone. Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-5'-t-butylphenyl) benzotriazole and the like.

酸化防止剤の具体例としては、モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが挙げられる。
光安定剤としては、代表的なものにヒンダードアミン系化合物が挙げられる。
軟化剤は、成形性または成形体の加工性を向上させる目的で使用でき、具体的には、エステル化合物類、アミド化合物類、側鎖を有する炭化水素重合体類、鉱油類、流動パラフィン類、ワックス類などが挙げられる。
エステル化合物としては、アルコールとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリエステルであれば特に制限はなく、ヒドロキシル基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、エステル基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリルステアレート、ソルビタントリステアレート、エポキシ大豆油、精製ひまし油、硬化ひまし油、脱水ひまし油、エポキシ大豆油、極度硬化油、トリメリット酸トリオクチル、エチレングリコールジオクタノエート、ペンタエリスリトールテトラオクタノエートなどが挙げられる。
アミド化合物としては、アミンとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリアミド化合物であれば特に制限はなく、アミノ基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、アミド基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、トリメチレンビスオクチル酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、トリオクタトリメリット酸アミド、ジステアリル尿素、ブチレンビスステアリン酸アミド、キシリレンビスステアリン酸アミド、ジステアリルアジピン酸アミド、ジステアリルフタル酸アミド、ジステアリルオクタデカ二酸アミド、イプシロンカプロラクタム、およびこれらの誘導体が挙げられる。
Specific examples of the antioxidant include monophenol-based, bisphenol-based, polymer-type phenol-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and the like.
A typical example of the light stabilizer is a hindered amine compound.
The softening agent can be used for the purpose of improving moldability or processability of the molded body. Specifically, ester compounds, amide compounds, hydrocarbon polymers having side chains, mineral oils, liquid paraffins, Examples thereof include waxes.
The ester compound is not particularly limited as long as it is a mono- or polyester having a structure comprising an alcohol and a carboxylic acid, and may be a compound in which the hydroxyl group and carbonyl group ends are left in the molecule, or a compound blocked in the form of an ester group. . Specifically, stearyl stearate, sorbitan tristearate, epoxy soybean oil, refined castor oil, hydrogenated castor oil, dehydrated castor oil, epoxy soybean oil, extremely hardened oil, trioctyl trimellitic acid, ethylene glycol dioctanoate, pentaerythritol tetra Examples include octanoate.
The amide compound is not particularly limited as long as it is a mono- or polyamide compound having a structure composed of an amine and a carboxylic acid, and may be a compound in which the amino group and carbonyl group ends are left in the molecule, or a compound blocked in the form of an amide group. Good. Specifically, stearic acid amide, behenic acid amide, hexamethylene bis stearic acid amide, trimethylene bisoctylic acid amide, hexamethylene bishydroxy stearic acid amide, triocta trimellitic acid amide, distearyl urea, butylene bis stearic acid Amides, xylylene bis stearic acid amides, distearyl adipic acid amides, distearyl phthalic acid amides, distearyl octadecadioic acid amides, epsilon caprolactam, and derivatives thereof.

側鎖を有する炭化水素重合体としては、ポリα−オレフィン類で、炭素数4以上の側鎖を有する通常オリゴマーに分類されるものが好ましい。具体的には、エチレン−プロピレンの共重合体やそのマレイン酸誘導体、イソブチレンの重合体、ブタジエン、イソプレンのオリゴマーおよびその水添物、1−ヘキセンの重合物、ポリスチレンの重合物およびこれらから誘導される誘導体、ヒドロキシポリブタジエンやその水添物、末端ヒドロキシポリブタジエン水添物などが挙げられる。   The hydrocarbon polymer having a side chain is preferably a poly α-olefin and classified into a normal oligomer having a side chain having 4 or more carbon atoms. Specifically, ethylene-propylene copolymer and its maleic acid derivative, isobutylene polymer, butadiene, isoprene oligomer and hydrogenated product thereof, 1-hexene polymer, polystyrene polymer and the like are derived from these. Derivatives thereof, hydroxypolybutadiene and hydrogenated products thereof, and terminal hydroxypolybutadiene hydrogenated products.

本発明に使用する分解性組成物は、一般的な混練機を用いて調製することができる。例えば、二本ロール、三本ロール、カウレスデゾルバー、ホモミキサー、サンドグラインダー、プラネタリーミキサー、ボールミル、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザーなどである。また超音波分散機などを使用することもできる。   The decomposable composition used in the present invention can be prepared using a general kneader. For example, two rolls, three rolls, cowless resolver, homomixer, sand grinder, planetary mixer, ball mill, kneader, high speed mixer, homogenizer, and the like. An ultrasonic disperser or the like can also be used.

<マイクロレンズの製造工程>
本発明のマイクロレンズの製造工程は、分解性組成物に活性エネルギー線を照射する工程と、分解性組成物から低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域で温度制御して発泡させる工程とを含む。
所望の厚さ、形状及び構造を有するマイクロレンズを安定的に得るために、本発明の製造方法では予備成形工程を含むことが出来る。予備成形工程とは、活性エネルギー線を照射する工程の前に設けた成形工程で、分解前の樹脂である分解性組成物を成形する工程である。
まず、分解性組成物に活性エネルギー線を照射する工程について説明する。本発明で使用する活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、可視光線、γ線等の電離性放射線などが挙げられる。これらの中では電子線および紫外線を用いることが好ましい。
<Manufacturing process of micro lens>
The manufacturing process of the microlens of the present invention includes a step of irradiating an active energy ray to a decomposable composition, a step of foaming by controlling the temperature in a temperature range where a low boiling point volatile substance is decomposed and desorbed from the decomposable composition, and including.
In order to stably obtain a microlens having a desired thickness, shape and structure, the manufacturing method of the present invention can include a preforming step. The preliminary molding step is a molding step provided before the step of irradiating active energy rays, and is a step of molding a decomposable composition that is a resin before decomposition.
First, the process of irradiating the decomposable composition with active energy rays will be described. Examples of active energy rays used in the present invention include ionizing radiation such as electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and γ rays. In these, it is preferable to use an electron beam and an ultraviolet-ray.

電子線照射を用いる場合は、分解性組成物の厚さに応じて加速電圧を20〜1000kVで調整すると良く、より好ましくは30〜300kVの条件で、カーテン型電子線照射装置、あるいは電子線描画装置を用いることが好ましい。加速電圧が上記範囲より低いと、電子線の透過力が不十分になり、成形体の内部まで十分に透過することができず、またこの範囲より大きすぎると、エネルギー効率が悪化するばかりでなく、得られた成形体の強度が不十分になり、それに含まれる樹脂及び添加剤の分解を生じ、得られる発泡体の品質が不満足なものになることがある。電子線照射に際しては照射雰囲気の酸素濃度が高いと、酸もしくは塩基の発生、および/または硬化性分解性化合物の硬化が妨げられることがあり、このため照射雰囲気の空気を、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスにより置換することが好ましい。照射雰囲気の酸素濃度は1000ppm以下であることが好ましく、さらに安定的な電子線エネルギーを得るため、500ppm以下に抑制されることがより好ましい。   When electron beam irradiation is used, the acceleration voltage may be adjusted to 20 to 100 kV according to the thickness of the decomposable composition, and more preferably a curtain type electron beam irradiation apparatus or electron beam drawing under the condition of 30 to 300 kV. It is preferable to use an apparatus. If the accelerating voltage is lower than the above range, the transmission power of the electron beam becomes insufficient, and the inside of the molded body cannot be sufficiently transmitted. If it is larger than this range, the energy efficiency is not only deteriorated. In some cases, the strength of the obtained molded article becomes insufficient, the resin and additives contained therein are decomposed, and the quality of the obtained foam is unsatisfactory. When the oxygen concentration in the irradiation atmosphere is high during electron beam irradiation, generation of acid or base and / or curing of the curable decomposable compound may be hindered. Substitution with an inert gas such as carbon is preferred. The oxygen concentration in the irradiation atmosphere is preferably 1000 ppm or less, and more preferably 500 ppm or less in order to obtain more stable electron beam energy.

紫外線照射の場合は、半導体・フォトレジスト分野や紫外線硬化分野などで一般的に使用されている紫外線ランプを用いることができる。一般的な紫外線ランプとしては、例えば、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーターランプ、キセノンショートアークランプ、キセノンフラッシュランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、ディープUVランプ、メタルハライドランプ、希ガス蛍光ランプ、クリプトンアークランプ、エキシマランプなどがあり、近年では、極短波長(214nmにピーク)を発光するY線ランプもある。これらのランプには、オゾン発生の少ないオゾンレスタイプもある。これらの紫外線は、散乱光であっても、直進性の高い平行光であってもよい。部分発泡を精度よく形成するためには、平行光が好ましい。また、紫外線照射には、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーや、非線形光学結晶を含む高調波ユニットを介したYAGレーザーなどに挙げられる種々のレーザーや、紫外発光ダイオードを用いることもできる。紫外線ランプやレーザー、紫外発光ダイオードの発光波長は、分解性組成物の発泡性を妨げないものであれば限定はないが、好ましくは、光酸発生剤または光塩基発生剤が酸または塩基を効率よく発生させられる発光波長がよい。すなわち、使用する光酸発生剤または光塩基発生剤の感光波長領域と重なる発光波長が好ましい。さらには、それら発生剤の感光波長領域における極大吸収波長または最大吸収波長と重なる発光波長がより好ましく、発生効率が高くなりやすい。紫外線のエネルギー照射強度は、分解性組成物によって適宜決められる。種々の水銀ランプやメタルハライドランプなどに代表される照射強度が高い紫外線ランプを使用する場合は、生産性を高めることができ、その照射強度(ランプ出力)はロングアークランプのときは30W/cm以上が好ましい。紫外線の積算照射光量(J/cm2)は、エネルギー照射強度に照射時間を積算したものであり、発泡組成物および所望の気泡分布によって適宜決められる。酸発生剤や塩基発生剤の吸光係数に応じて設定することもある。安定かつ連続的に製造する上では、1.0mJ/cm2〜20J/cm2の範囲が好ましい。紫外線ランプを使用する場合は、照射強度が高いため、照射時間を短縮することができる。エキシマランプやエキシマレーザーを使用する場合は、その照射強度は弱いが、ほぼ単一光に近いため、発光波長が発生剤の感光波長に最適化したものであれば、より高い発生効率および発泡性が可能となる。照射光量を多くした場合、紫外線ランプによっては熱の発生が発泡性を妨げる場合がある。そのときは、コールドミラーなどの冷却処置を行なうことができる。 In the case of ultraviolet irradiation, an ultraviolet lamp generally used in the semiconductor / photoresist field or the ultraviolet curing field can be used. Typical UV lamps include, for example, halogen lamps, halogen heater lamps, xenon short arc lamps, xenon flash lamps, ultra high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, medium pressure mercury lamps, deep UV lamps, metal halide lamps. There are noble gas fluorescent lamps, krypton arc lamps, excimer lamps, etc., and in recent years, there are also Y-ray lamps that emit an extremely short wavelength (peak at 214 nm). Some of these lamps are ozone-less types that generate less ozone. These ultraviolet rays may be scattered light or parallel light with high straightness. In order to form partial foaming accurately, parallel light is preferable. For ultraviolet irradiation, various lasers such as ArF excimer laser, KrF excimer laser, YAG laser via a harmonic unit including a nonlinear optical crystal, and ultraviolet light emitting diodes may be used. The emission wavelength of the ultraviolet lamp, laser, or ultraviolet light emitting diode is not limited as long as it does not interfere with the foaming property of the decomposable composition. Preferably, the photoacid generator or the photobase generator makes the acid or base efficient. The emission wavelength that is often generated is good. That is, an emission wavelength that overlaps with the photosensitive wavelength region of the photoacid generator or photobase generator to be used is preferable. Furthermore, the light emission wavelength which overlaps the maximum absorption wavelength or the maximum absorption wavelength in the photosensitive wavelength region of these generators is more preferable, and the generation efficiency tends to increase. The intensity of ultraviolet energy irradiation is appropriately determined depending on the decomposable composition. When using UV lamps with high irradiation intensity, such as various mercury lamps and metal halide lamps, productivity can be improved, and the irradiation intensity (lamp output) is 30 W / cm or more for long arc lamps. Is preferred. The integrated irradiation light quantity (J / cm 2 ) of ultraviolet rays is obtained by adding the irradiation time to the energy irradiation intensity, and is appropriately determined depending on the foam composition and the desired bubble distribution. It may be set according to the extinction coefficient of the acid generator or base generator. For stable and continuous production, a range of 1.0 mJ / cm 2 to 20 J / cm 2 is preferable. When using an ultraviolet lamp, the irradiation time can be shortened because the irradiation intensity is high. When an excimer lamp or excimer laser is used, the irradiation intensity is weak, but it is close to a single light, so if the emission wavelength is optimized for the photosensitive wavelength of the generator, higher generation efficiency and foamability Is possible. When the amount of irradiation light is increased, heat generation may interfere with foaming properties depending on the ultraviolet lamp. At that time, a cooling treatment such as a cold mirror can be performed.

本発明のマイクロレンズの製造方法では、パターン化されたレンズ部を得るために、照射工程において活性エネルギーの強度分布が生じるようにフォトマスクを使用して活性エネルギー線を照射することができる。描画パターンが含まれるフォトマスクを使用した場合は、その描画パターンを転写した活性エネルギー線の強度分布を得ることができる。フォトマスクの描画パターンとしては、樹脂を発泡させない部分をマスクで遮蔽し、発泡させる部分に活性エネルギー線が当たるようにパターンを作成し、発泡させる部分の気泡体積分率を調整する手段としてエネルギー透過性が階調になっているものなど様々なものを用途によって適宜設計できる。フォトマスクには、クロムマスクやメタルマスク、銀塩ガラスマスク、銀塩フィルム、スクリーンマスク、ガラスをイオンエッチングしたマスク、及び集光機能を有する平面レンズの干渉縞を電子線描画したマスクなどが利用できる。フォトマスク基材上に、インクジェットプリンターや紫外線硬化インクを用いた印刷機などで描画パターンを印刷したものをマスクとして利用することもできる。印刷は基材の片面でも両面でも構わない。
また、厚さ方向の気泡分布を変えるために、照射した活性エネルギー線が樹脂内部で適度に減衰するような材料を樹脂中に含めることで、活性エネルギー線照射側は強度が強く、反対側は強度が弱くなるように調整することが出来る。その他、マスクにレンズを組み合わせて、活性エネルギー線の厚さ方向の照射量を制御する方法、或いは、加熱時に表裏の温度差を付ける方法などにより、厚さ方向の気泡分布を変えることができる。
In the microlens manufacturing method of the present invention, in order to obtain a patterned lens portion, active energy rays can be irradiated using a photomask so that an intensity distribution of active energy is generated in the irradiation step. When a photomask including a drawing pattern is used, an intensity distribution of active energy rays to which the drawing pattern is transferred can be obtained. As a photomask drawing pattern, the part that does not foam the resin is shielded with a mask, a pattern is created so that the active energy ray hits the foamed part, and energy transmission is used as a means to adjust the bubble volume fraction of the foamed part. Various things such as the one having the gradation can be appropriately designed depending on the application. Photomasks include chrome masks, metal masks, silver salt glass masks, silver salt films, screen masks, glass ion-etched masks, and masks with electron beam-drawing interference fringes on planar lenses that have a condensing function. it can. A mask obtained by printing a drawing pattern on a photomask substrate with a printer using an ink jet printer or an ultraviolet curable ink can also be used as a mask. Printing may be performed on one side or both sides of the substrate.
In addition, in order to change the bubble distribution in the thickness direction, by including a material in the resin in which the irradiated active energy rays are moderately attenuated inside the resin, the active energy ray irradiation side is strong and the opposite side is The strength can be adjusted to be weak. In addition, the bubble distribution in the thickness direction can be changed by combining a lens with a mask to control the irradiation amount of the active energy ray in the thickness direction, or by adding a temperature difference between the front and the back during heating.

また、描画パターンの印刷精度を高めるために、印刷する基材表面側を改質処理することが好ましい。改質処理の具体例としては、印刷するインクの吸収性を高める機能層を基材表面に塗工法や接着法などで設けることが挙げられる。ただし、この機能層はフォトマスクの光学的な基本的性能を大きく損なわないようにしなければならない。さらに、使用するインクは活性エネルギー線を吸収あるいは散乱、反射する材質が好ましく、一方、フォトマスク基材には活性エネルギー線を透過する材質であることが好ましい。波長300nm以下の紫外線を照射する場合は、フォトマスクの基材は石英ガラスを使用することが好ましい。フォトマスクを使用した照射方法は、密着照射、投影照射など方式が採用できる。フォトマスクのパターンを精度良く転写させるためには、照射する光が均一平行光であることが好ましい。平行光を照射するための露光システムとしては、例えば、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系、フレネルレンズを利用した光学系、ハニカムボードと拡散板を利用した光学系などが挙げられる。高い均一性を得るには、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系が一般的に好ましく、この光学系に用いる光源としては、ショートアークランプが好ましい。ショートアークランプには、メタルハライドランプや超高圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、ナトリウムランプ、Y線ランプが挙げられる。また、干渉縞を発生させた放射線を照射する方法も可能である。   In order to increase the printing accuracy of the drawing pattern, it is preferable to modify the surface of the substrate to be printed. As a specific example of the modification treatment, a functional layer that enhances the absorbability of the ink to be printed is provided on the surface of the substrate by a coating method or an adhesion method. However, this functional layer must not significantly impair the basic optical performance of the photomask. Further, the ink to be used is preferably a material that absorbs, scatters, or reflects active energy rays, while the photomask base material is preferably a material that transmits active energy rays. When irradiating ultraviolet rays with a wavelength of 300 nm or less, it is preferable to use quartz glass as the base material of the photomask. As an irradiation method using a photomask, methods such as contact irradiation and projection irradiation can be adopted. In order to transfer the pattern of the photomask with high accuracy, it is preferable that the irradiated light is uniform parallel light. Examples of the exposure system for irradiating parallel light include an optical system using an integrator and a parabolic mirror, an optical system using a Fresnel lens, and an optical system using a honeycomb board and a diffusion plate. In order to obtain high uniformity, an optical system using an integrator and a parabolic mirror is generally preferable, and a short arc lamp is preferable as a light source used in this optical system. Examples of the short arc lamp include a metal halide lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a mercury xenon lamp, a sodium lamp, and a Y-ray lamp. Further, a method of irradiating radiation that generates interference fringes is also possible.

次に、熱エネルギーを付与して発泡させる工程は、微細な気泡のみを作るときには、放射線照射工程後に加熱発泡工程が行われることが好ましい。放射線照射工程と加熱工程とを順次行うことにより、安定した発泡体が形成できる。これは、樹脂の発泡機構が、放射線により酸又は塩基を発生させ、その酸又は塩基と加熱とにより分解発泡性化合物が分解し発泡するという機構であるためである。樹脂は比較的低い温度で気泡核を多数発生させ、更に温度を上げて気泡を成長させると微細な気泡が均一にできる。しかし、初めから高温にしておきそこに放射線を当てると、大きな気泡ができてしまう。   Next, in the step of foaming by applying thermal energy, the heating foaming step is preferably performed after the radiation irradiation step when only fine bubbles are produced. A stable foam can be formed by sequentially performing the radiation irradiation step and the heating step. This is because the foaming mechanism of the resin is a mechanism in which an acid or a base is generated by radiation, and the decomposition foamable compound is decomposed and foamed by the acid or base and heating. The resin generates a large number of bubble nuclei at a relatively low temperature, and when the temperature is further increased to grow the bubbles, fine bubbles can be made uniform. However, if the temperature is raised from the beginning and radiation is applied to it, large bubbles will be formed.

本発明のマイクロレンズの製造方法における工程はこれらに限定されるものではなく、これら以外にもさまざまな工程を適宜の所望の部分で付加できる。例えば延伸工程、洗浄工程、乾燥工程及び緩和工程などの工程を適宜導入してもかまわない。本発明の製造方法はこれらの工程の組合せにより成り、各工程を不連続若しくは連続に組み合わせたり、又は少なくとも二つ以上の工程を同時工程とすることもできる。バッチ法でも連続法どちらの方法となってもかまわない。さらに本発明のマイクロレンズの製造方法において、活性エネルギーの強度分布、熱エネルギーの強度分布、分解性組成物の濃度分布などをつけることができるので,マイクロレンズの形状の制御が任意可変となる。以下に各工程の具体例について説明するが、本発明を限定するものではない。   The steps in the method for producing a microlens of the present invention are not limited to these, and various other steps can be added at appropriate desired portions. For example, processes such as a stretching process, a cleaning process, a drying process, and a relaxation process may be appropriately introduced. The production method of the present invention comprises a combination of these steps, and the steps can be combined discontinuously or continuously, or at least two steps can be simultaneous steps. Either the batch method or the continuous method may be used. Furthermore, in the microlens manufacturing method of the present invention, since the active energy intensity distribution, the thermal energy intensity distribution, the concentration distribution of the decomposable composition, and the like can be added, the control of the shape of the microlens is arbitrarily variable. Although the specific example of each process is demonstrated below, this invention is not limited.

はじめに、発泡性組成物から低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させる工程について説明する。圧力制御法の例としては、図1のように2枚の板を用いて対向する面からのみ加圧して圧力制御する一部対向面圧力制御方法、図2のように型を用いて全面から加圧して圧力制御する全面圧力制御方法などがあげられる。また、図1及び図2のようにギャップ制御機能を持たないで押込力に応じて圧力を可変できるタイプ、図3及び図4などのようにギャップ制御機能を有しているタイプなどがある。全面圧力制御法の場合、閉じた型内に気体、液体、溶融体などの流体を注入して圧力制御する方法、発泡性組成物の発泡による発泡体自己膨張力及び発生ガス圧力により圧力制御する方法、型や型内容物の熱膨張力により圧力制御する方法などがあげられる。
低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域にするためには、加熱器を用いて加熱したり、または前工程で熱がかかる場合、その余熱を利用したりすることができる。発泡性組成物から低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域とは、低沸点揮発性物質が分解脱離する最低温度より高く、さらに低沸点揮発性物質が分解脱離した後の樹脂(すなわち発泡体樹脂)の分解温度若しくは強度などの諸物性を損なわない温度より低い範囲の温度領域をいう。この温度領域は発泡性組成物の種類により変化する。例えば、アクリル系発泡性組成物の場合は分解脱離最低温度は約75〜85℃、発泡体樹脂の分解温度は約180〜200℃であり、スチレン系発泡性組成物の場合は分解脱離最低温度は約65〜80℃、発泡体樹脂の分解温度は約160〜180℃である。発泡時の温度は高い方が低沸点揮発性物質の分解脱離速度が大きくなり過飽和度が上りやすく気泡微細化には一見好ましく思える。しかし、高温になるほど樹脂粘度が低下して気泡が成長及び合一して巨大化しやすくなる。しがたって発泡に適した温度領域が存在する。その領域は発泡性組成物の種類によって異なるが、65〜200℃、好ましくは90〜180℃、さらに好ましくは100〜160℃である。発泡工程で用いることのできる加熱器に特に制限はないが、接触加熱、誘導加熱、抵抗加熱、誘電加熱(およびマイクロ波加熱)、赤外線加熱により加熱ができるもの等が例示できる。具体的には、放射熱を利用した電気あるいはガス式の赤外線ドライヤーや、電磁誘導を利用したロールヒーター、油媒を利用したオイルヒーター、電熱ヒーター、およびこれらの熱風を利用した熱風ドライヤーなどが挙げられる。成形体に加熱体を接触させて加熱する接触加熱では、金属ブロック、金属板、金属ロールなどの加熱体が使用できる。接触加熱では加圧しながら加熱してもよい。この場合、プレス成形の際に使用する加熱プレス機を用いることができる。
First, the step of foaming by controlling the pressure in a temperature range where the low boiling point volatile substance is decomposed and desorbed from the foamable composition will be described. As an example of the pressure control method, as shown in FIG. 1, a pressure control method is performed by applying pressure only from the opposing surfaces using two plates, and the pressure control method is partially opposed, using a mold as shown in FIG. For example, an overall pressure control method in which pressure is controlled by pressurization. Further, there are a type in which the pressure can be varied according to the pushing force without having a gap control function as shown in FIGS. 1 and 2, and a type having a gap control function as in FIGS. In the case of the entire surface pressure control method, pressure control is performed by injecting a fluid such as gas, liquid, or melt into a closed mold, and pressure control is performed by the foam self-expanding force by foaming of the foamable composition and the generated gas pressure. And a method of controlling the pressure by the thermal expansion force of the mold and the mold contents.
In order to obtain a temperature region in which the low boiling point volatile substance is decomposed and desorbed, it is possible to use a heater or to use the remaining heat when heat is applied in the previous step. The temperature range where the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs from the foamable composition is higher than the minimum temperature at which the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs. That is, it refers to a temperature range in a range lower than the temperature at which various physical properties such as the decomposition temperature or strength of the foam resin are not impaired. This temperature range varies depending on the type of foamable composition. For example, in the case of an acrylic foamable composition, the minimum decomposition and desorption temperature is about 75 to 85 ° C, and the decomposition temperature of the foam resin is about 180 to 200 ° C. The minimum temperature is about 65 to 80 ° C, and the decomposition temperature of the foam resin is about 160 to 180 ° C. The higher the temperature during foaming, the higher the decomposition and desorption rate of the low boiling point volatile substances, and the higher the degree of supersaturation. However, the higher the temperature, the lower the resin viscosity, and bubbles tend to grow and coalesce and become larger. Therefore, there exists a temperature range suitable for foaming. The region varies depending on the type of the foamable composition, but is 65 to 200 ° C, preferably 90 to 180 ° C, and more preferably 100 to 160 ° C. Although there is no restriction | limiting in particular in the heater which can be used at a foaming process, What can be heated by contact heating, induction heating, resistance heating, dielectric heating (and microwave heating), infrared heating, etc. can be illustrated. Specific examples include an electric or gas infrared dryer using radiant heat, a roll heater using electromagnetic induction, an oil heater using an oil medium, an electric heater, and a hot air dryer using these hot airs. It is done. In contact heating in which a heating body is brought into contact with the molded body and heated, a heating body such as a metal block, a metal plate, or a metal roll can be used. In contact heating, heating may be performed while applying pressure. In this case, a hot press machine used for press molding can be used.

誘電加熱や赤外線加熱の場合,材料内部を直接加熱する内部加熱方式なので,熱風ドライヤーなどの外部加熱法よりも瞬時に均一な加熱を行うのに好ましい。誘電加熱の場合,周波数1MHzから300MHz(波長30m〜1m)の高周波エネルギーを用いる。6MHz〜40MHzの周波数が用いられることが多い。誘電加熱のうち特にマイクロ波加熱では周波数が300MHzから300GHz(波長が1m〜1mm)のマイクロ波をもちいるが、2450MHz、915MHz(電子レンジと同じ)を使うことが多い。
赤外線加熱の場合,赤外領域の波長0.76〜1000μmの電磁波を利用する。ヒータ表面温度および被加熱材料の赤外吸収スペクトルなどから、状況により選択される波長の最適帯は変化するが、好ましくは1.5〜25μm、さらに好ましくは2〜15μmの波長帯を用いることができる。
In the case of dielectric heating and infrared heating, since the internal heating method directly heats the inside of the material, it is preferable to perform uniform heating instantaneously compared to an external heating method such as a hot air dryer. In the case of dielectric heating, high frequency energy with a frequency of 1 MHz to 300 MHz (wavelength 30 m to 1 m) is used. A frequency of 6 MHz to 40 MHz is often used. Among dielectric heating, especially microwave heating uses a microwave with a frequency of 300 MHz to 300 GHz (wavelength is 1 m to 1 mm), but 2450 MHz and 915 MHz (same as a microwave oven) are often used.
In the case of infrared heating, an electromagnetic wave having a wavelength in the infrared region of 0.76 to 1000 μm is used. Although the optimum band of the selected wavelength varies depending on the situation from the heater surface temperature and the infrared absorption spectrum of the material to be heated, a wavelength band of preferably 1.5 to 25 μm, more preferably 2 to 15 μm can be used.

本発明の製造方法では、屈折率を制御したマイクロレンズを得るために、面内、および表裏で熱エネルギーの強度分布が生じるように加熱処理を施すこともできる。熱エネルギーの強度分布は、加熱温度により調整することが好ましい。熱エネルギーの強度分布を作り出す方法としては、一般の熱記録用プリンターに使用されている加熱方式を応用した方法、すなわち感熱プリンターに用いられるプリントヘッドのような電流を流すことで発熱する微細な発熱体を多数並べた加熱体により加熱部位を制御する方式、レーザープリンターに用いられるレーザー加熱ヘッドのようなレーザー照射により加熱部位を制御する方式などがあげられる。   In the production method of the present invention, in order to obtain a microlens having a controlled refractive index, heat treatment can be performed so that a thermal energy intensity distribution is generated in the surface and on the front and back surfaces. The intensity distribution of thermal energy is preferably adjusted by the heating temperature. As a method of creating the intensity distribution of thermal energy, a heating method used in general thermal recording printers is applied, that is, minute heat generation that generates heat by passing a current like a print head used in thermal printers. Examples include a method of controlling a heating part by a heating body in which a large number of bodies are arranged, a method of controlling a heating part by laser irradiation such as a laser heating head used in a laser printer, and the like.

本発明のマイクロレンズの製造方法に含まれる予備成形工程について説明する。予備成形工程で用いられる成形方法としては、成形したい形状に応じて、塗工成形、押出成形、射出成形、キャスト成形、プレス成形など選択することができる。成形工程で得られる樹脂形状はとくに限定されず、マイクロレンズの使用目的によって適宜決められる。シート状物(フィルム状を含む)、ファイバー状物、ロッド状物、それ以外の所望の形状を有した物などが挙げられる。シート状物においては、単独のシート状物であっても支持体上に密着したシート層であってもよいし、複数の樹脂の積層構造物であってもよい。更に、マイクロレンズの最終形状もしくはそれに近い形状に多段階で成形する方法を用いることもできる。   The preforming step included in the method for manufacturing a microlens of the present invention will be described. As a molding method used in the preliminary molding step, coating molding, extrusion molding, injection molding, cast molding, press molding, or the like can be selected according to the shape to be molded. The resin shape obtained in the molding step is not particularly limited, and can be appropriately determined depending on the purpose of use of the microlens. Examples include sheet-like materials (including film-like materials), fiber-like materials, rod-like materials, and materials having other desired shapes. The sheet-like material may be a single sheet-like material or a sheet layer in close contact with the support, or may be a laminated structure of a plurality of resins. Furthermore, it is possible to use a method in which the final shape of the microlens or a shape close thereto is formed in multiple stages.

塗工成形の例としては、支持体に分解性組成物を塗工した後、分解性組成物が溶剤等で希釈された溶液ならば、乾燥器にて溶剤分を除去し、支持体上に分解性組成物からなるシート層を得る方法などが挙げられる。このとき、支持体からシート層を剥離することで、分解性組成物からなる単独のシート状物を得ることもできる。塗工方法には、スピンコート法、バーコート法、エアードクターコート法、ブレードコート法、スクイズコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、グラビアコート法、トランスファーコート法、コンマコート法、スムージングコート法、マイクログラビアコート法、リバースロールコート法、マルチロールコート法、ディップコート法、ロッドコート法、キスコート法、ゲートロールコート法、落下カーテンコート法、スライドコート法、ファウンテンコート法、およびスリットダイコート法などがあげられる。支持体のとしては、Siウェハー基板、紙、合成紙、プラスチック樹脂シート、金属シート、金属蒸着シート等が挙げられ、これらは単独で用いられてもよく、或は、互いに積層されていてもよい。プラスチック樹脂シートは、例えば、ポリスチレン樹脂シート、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂シート、並びにポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂シート等の汎用プラスチックシートやポリイミド樹脂シート、ABS樹脂シート、ポリカーボネート樹脂シート等のエンジニアリングプラスチックシートなどが挙げられ、また金属シートを構成する金属としては、アルミニウムおよび銅などが挙げられる。金属蒸着シートとしては、アルミ蒸着シート・金蒸着シート・銀蒸着シートなどが挙げられる。   As an example of coating molding, after applying the decomposable composition to the support, if the decomposable composition is a solution diluted with a solvent or the like, the solvent content is removed with a dryer, Examples thereof include a method for obtaining a sheet layer made of a decomposable composition. At this time, it is also possible to obtain a single sheet-like material composed of the decomposable composition by peeling the sheet layer from the support. Coating methods include spin coating, bar coating, air doctor coating, blade coating, squeeze coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, transfer coating, comma coating, and smoothing coating. Method, microgravure coating method, reverse roll coating method, multi-roll coating method, dip coating method, rod coating method, kiss coating method, gate roll coating method, falling curtain coating method, slide coating method, fountain coating method, and slit die coating method Etc. Examples of the support include Si wafer substrate, paper, synthetic paper, plastic resin sheet, metal sheet, metal vapor deposition sheet and the like, and these may be used alone or may be laminated with each other. . The plastic resin sheet is, for example, a general-purpose plastic sheet such as a polystyrene resin sheet, a polyolefin resin sheet such as polyethylene or polypropylene, and a polyester resin sheet such as polyethylene terephthalate, an engineering resin such as a polyimide resin sheet, an ABS resin sheet, or a polycarbonate resin sheet. A plastic sheet etc. are mentioned, Moreover, aluminum, copper, etc. are mentioned as a metal which comprises a metal sheet. Examples of the metal deposition sheet include an aluminum deposition sheet, a gold deposition sheet, and a silver deposition sheet.

押出成形法としては、スクリュー状の押出軸を用いた一般の押出成形法、ピストン状押出軸を用いたラム押出成形法などがあげられる。
射出成形法の例としては、通常の射出成形方法に加えて、真空充填成形法、射出圧縮成形法、高速真空充填成形法、ガス吸収溶融成形法、型温冷熱サイクル成形法、低圧低速充填成形法、射出プレス成形法、スタックモールド成形法等があげられる。最近の動向である薄肉成形および微細形状の高転写率成形に向けた方法として、断熱金型成形法、射出速度が1000〜2000mm/sec.という超高速射出成形法、二酸化炭素や窒素などの不活性ガスを超臨界状態で溶融樹脂に溶解させて発泡させずに成形する超臨界流体を利用した射出成形法なども挙げられる。
キャスト成形の例としては、活性エネルギー線硬化型モノマーを含む液状分解性組成物を任意の型にキャストし、活性エネルギー線を照射して硬化して脱型することで、任意形状マイクロレンズを得る方法などが挙げられる。活性エネルギー線の光源および波長等の照射条件を適宜選択することにより、樹脂硬化と酸及び塩基発生剤からの酸及び塩基発生を分離させることも可能である。
Examples of the extrusion molding method include a general extrusion molding method using a screw-like extrusion shaft, and a ram extrusion molding method using a piston-like extrusion shaft.
Examples of injection molding methods include, in addition to the normal injection molding method, vacuum filling molding method, injection compression molding method, high-speed vacuum filling molding method, gas absorption melt molding method, mold thermal cooling / heating cycle molding method, low-pressure low-speed filling molding method. Method, injection press molding method, stack mold molding method and the like. The methods for thin-wall molding and high-transfer rate molding of fine shapes, which are the latest trends, are the heat-insulating mold molding method, the ultra-high-speed injection molding method with an injection speed of 1000 to 2000 mm / sec. Examples include an injection molding method using a supercritical fluid in which an active gas is dissolved in a molten resin in a supercritical state and molded without foaming.
As an example of cast molding, a liquid-degradable composition containing an active energy ray-curable monomer is cast into an arbitrary mold, cured by irradiating active energy rays, and demolded to obtain an arbitrarily shaped microlens. The method etc. are mentioned. It is also possible to separate the resin curing and the acid and base generation from the acid and base generator by appropriately selecting the irradiation conditions such as the light source and wavelength of the active energy ray.

以上のような製造方法で形成されたマイクロレンズの構造は、発泡部分の空隙率が5〜90%、好ましくは10〜50%、さらに好ましくは10〜40%である。空隙率が低すぎると発泡部と未発泡部の屈折率の差が小さく、レンズとしての効果が小さい。
本発明のマイクロレンズの素子としての1個の微小レンズは、例えば、図5のような模式図で表される。図5において、上段は平面図、下段は断面図であり、図5の左側が凹レンズタイプ、右側が凸レンズタイプの機能を有することになる。このような微小レンズが平面の縦横両方向に多数並べられたものが本発明のマイクロレンズであり、1個1個の微小レンズは隙間なく接触して並べても良いし、一定の間隔をおいて並べても良い。
In the structure of the microlens formed by the above manufacturing method, the porosity of the foamed portion is 5 to 90%, preferably 10 to 50%, more preferably 10 to 40%. If the porosity is too low, the difference in refractive index between the foamed part and the unfoamed part is small, and the effect as a lens is small.
One microlens as an element of the microlens of the present invention is represented by a schematic diagram as shown in FIG. 5, for example. In FIG. 5, the upper stage is a plan view and the lower stage is a cross-sectional view, and the left side of FIG. 5 has a concave lens type function and the right side has a convex lens type function. A large number of such microlenses arranged in both the vertical and horizontal directions of the plane is the microlens of the present invention. Each microlens may be arranged in contact with each other with no gap, or arranged at a fixed interval. Also good.

本発明を下記実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。また、特に断らない限り、例中の「部」および「%」は各々「質量部」および「質量%」を表わす。   The present invention will be described in detail by the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “parts” and “%” in the examples represent “parts by mass” and “mass%”, respectively.

<実施例1>(1)分解性組成物
分解性化合物としてtert−ブチルアクリレート(20%)とtert−ブチルメタクリレート(40%)とメタクリル酸メチル(40%)との共重合体100部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート(商標:BBI−109、ミドリ化学製)3部の配合比とした分解性組成物を用いる。
<Example 1> (1) Decomposable composition For 100 parts of a copolymer of tert-butyl acrylate (20%), tert-butyl methacrylate (40%) and methyl methacrylate (40%) as degradable compounds. Thus, a decomposable composition having a mixing ratio of 3 parts of bis (4-tert-butylphenyl) iodonium perfluorobutanesulfonate (trademark: BBI-109, manufactured by Midori Chemical) is used as an iodonium salt-based acid generator.

(2)予備成形工程
前記配合比の分解性組成物をMEK/酢酸エチル=65/35(質量比)の希釈液で25%の溶液を調製し、これを塗布液として用いた。この塗布液(図6a)を、厚さ75μmのシリコーンPET(図6b)(商標:MR−75:三菱ポリエステル製)からなる支持体のシリコーン処理面上に300μmのクリアランスをもつアプリケーターを用いてコーティングし、温度110℃の恒温乾燥機内で10分間放置して希釈液を蒸発除去する。サンプルを恒温乾燥機から取り出した後、塗布層をシリコーンPETから剥離して、厚さ45μmの分解性組成物フィルムを得る。
(2) Preliminary molding step A 25% solution of the decomposable composition having the above-described mixing ratio was prepared as a coating solution using a dilution solution of MEK / ethyl acetate = 65/35 (mass ratio). This coating solution (FIG. 6a) is coated using an applicator having a clearance of 300 μm on the silicone-treated surface of a support made of 75 μm thick silicone PET (FIG. 6b) (trademark: MR-75: manufactured by Mitsubishi Polyester). Then, it is left in a constant temperature drier at a temperature of 110 ° C. for 10 minutes to evaporate and remove the diluted solution. After removing the sample from the constant temperature dryer, the coating layer is peeled off from the silicone PET to obtain a decomposable composition film having a thickness of 45 μm.

(3)紫外線照射
前記工程(2)の分解性組成物フィルムに、マイクロレンズの発泡部となる部分(図の白い部分)に紫外線が当たるようにクロムメッキによるマスクが施された石英板(図6c)をフィルムに重ね、メタルハライドランプ(商品名:アイグラフィック(株)製 紫外線硬化用マルチメタルランプM03−L31)を光源として、照射線量2000mJ/cm2で紫外線照射したものを照射済みシート(図6d)とする。
(3) Ultraviolet irradiation Quartz plate in which a mask by chrome plating is applied to the decomposable composition film in the step (2) so that ultraviolet rays are applied to the foamed portion of the microlens (the white portion in the figure) (see FIG. 6c) is superimposed on the film and irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of 2000 mJ / cm 2 using a metal halide lamp (trade name: multi-metal lamp for ultraviolet curing M03-L31, manufactured by Eyegraphic Co., Ltd.) as a light source. 6d).

(4)発泡工程
前記工程(3)によって得られた照射済シートをそれぞれ5cm×6cmで切り出し、10cm×10cm、厚さ1mmのSUS板で挟み、ハンドプレス機(商品名:TOYOSEIKI製 Mini TEST PRESS−10)を用いて、当該積層サンプルに6MPaの圧力がかかる状態で上面のみ150℃の温度がかかるように熱板を制御して10分間プレス成形する。プレスを開放した後、SUS板に挟んだ状態のままサンプルをプレス機から取り出し、自然空冷してマイクロレンズ(図6e)を得ることができる。
(4) Foaming step Each irradiated sheet obtained in the step (3) is cut out at 5 cm × 6 cm, sandwiched between 10 cm × 10 cm and 1 mm thick SUS plates, and hand press machine (trade name: Mini TEST PRES manufactured by TOYOSEIKI). -10), press the hot plate for 10 minutes while controlling the hot plate so that only the upper surface is heated at 150 ° C. with the pressure of 6 MPa applied to the laminated sample. After the press is released, the sample can be taken out from the press machine while being sandwiched between SUS plates and naturally air-cooled to obtain a microlens (FIG. 6e).

このように、本発明では、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解性官能基を含有する樹脂に活性エネルギー線を照射した後に加熱することにより分解反応させ、樹脂中に500nm以下の微細気泡を体積分率で50〜95%となるように形成して樹脂の屈折率を部分的に制御することにより精密に且つ安価にマイクロレンズを製造することができる。それゆえ、本発明は、マイクロレンズアレイの小型化に寄与が大であり、高分子材料をマイクロレンズに加工する樹脂産業や、素材産業に利用できるだけでなく、具体的な光部品を製造する光学機器関連の産業や、ディスプレイ機器に関わる光電子機器関連の産業に広く応用することができる。 As described above, the present invention contains an acid generator that generates an acid by the action of an active energy ray or a base generator that generates a base, and further reacts with an acid or a base to produce one or more kinds of low-boiling-point volatility. A resin containing a degradable functional group that decomposes and desorbs a substance is irradiated with active energy rays and then heated to cause a decomposition reaction so that the fine bubbles of 500 nm or less in the resin have a volume fraction of 50 to 95%. The microlens can be precisely and inexpensively manufactured by partially forming and controlling the refractive index of the resin. Therefore, the present invention greatly contributes to the miniaturization of the microlens array, and can be used not only in the resin industry for processing a polymer material into a microlens, but also in the material industry, as well as the optical for manufacturing a specific optical component. The present invention can be widely applied to equipment-related industries and optoelectronic equipment-related industries related to display devices.

板を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能なし)Pressure control method using a plate (no gap control function) 金型を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能なし)Pressure control method using mold (no gap control function) 板を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能あり)Pressure control method using a plate (with gap control function) 金型を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能あり)Pressure control method using a mold (with gap control function) 本発明にかかる1個のマイクロレンズを示す模式図Schematic diagram showing one microlens according to the present invention. 本発明にかかるマイクロレンズの製造方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing method of the microlens concerning this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 発泡性組成物(板状)
2 圧力制御用の板(ギャップ調整機能なし)
3 圧力制御用金型の上型
4 圧力制御用の金型の下型(ギャップ調整機能なし)
5 圧力制御用の板(ギャップ調整機能あり)
6 圧力制御用の金型の下型(ギャップ調整機能あり)
7 ギャップ調整用機能部分
a 分解性組成物
b 基材(フィルムなど)
c 紫外線遮蔽マスク
d 照射済みシート(紫外線照射)
e マイクロレンズシート
1 Foamable composition (plate-like)
2 Pressure control plate (no gap adjustment function)
3 Upper mold of pressure control mold 4 Lower mold of pressure control mold (no gap adjustment function)
5 Pressure control plate (with gap adjustment function)
6 Lower mold for pressure control (with gap adjustment function)
7 Functional part for gap adjustment a Decomposable composition b Base material (film, etc.)
c UV shielding mask d Irradiated sheet (ultraviolet irradiation)
e Micro lens sheet

Claims (5)

微小なレンズが多数並べられたシート状の樹脂製マイクロレンズの製造方法において、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解性官能基を有する化合物を含有する樹脂シートに活性エネルギー線を照射した後に加熱することにより分解反応させ、発生した低沸点揮発性物質により樹脂シート中に平面方向及び厚さ方向に分布を持つように微細な気泡を形成させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。   In a method for producing a resin microlens in the form of a sheet in which a large number of minute lenses are arranged, it contains an acid generator that generates an acid by the action of active energy rays or a base generator that generates a base, and further an acid or base Low boiling point generated by decomposing reaction by heating after irradiating active energy rays to a resin sheet containing a compound having a decomposable functional group that decomposes and desorbs one or more low boiling point volatile substances by reacting with A method for producing a microlens, wherein fine bubbles are formed in a resin sheet by a volatile substance so as to have a distribution in a plane direction and a thickness direction. 前記樹脂中に形成させる微細な気泡の平均気泡径が500nm以下であることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズの製造方法。   The method for producing a microlens according to claim 1, wherein an average bubble diameter of fine bubbles formed in the resin is 500 nm or less. 前記樹脂中に形成させる発泡部分において、微細な気泡の体積分率が5〜90%であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のマイクロレンズの製造方法。   The method for producing a microlens according to claim 1 or 2, wherein a volume fraction of fine bubbles is 5 to 90% in a foamed portion formed in the resin. 活性エネルギー線を照射する際に、1個のレンズ形成部の中心から外側にかけて活性エネルギー線の透過率が連続的に変化するマスクを用いることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のマイクロレンズの製造方法。   4. The mask according to claim 1, wherein when irradiating the active energy ray, a mask in which the transmittance of the active energy ray continuously changes from the center of one lens forming portion to the outside is used. Microlens manufacturing method. 樹脂シート中に、微細気泡が多数集合して微小な凸レンズ形状または凹レンズ形状の発泡部分が形成され、かつ、該レンズ形状の発泡部分が二次元方向に多数並んでいることを特徴とするマイクロレンズ。   A microlens characterized in that a large number of fine bubbles are aggregated in a resin sheet to form a fine convex lens-shaped or concave lens-shaped foamed portion, and a large number of the foamed portions of the lens shape are arranged in a two-dimensional direction. .
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