JP2008192527A - Light guide body and method for manufacturing the same - Google Patents

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JP2008192527A JP2007027539A JP2007027539A JP2008192527A JP 2008192527 A JP2008192527 A JP 2008192527A JP 2007027539 A JP2007027539 A JP 2007027539A JP 2007027539 A JP2007027539 A JP 2007027539A JP 2008192527 A JP2008192527 A JP 2008192527A
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Fumio Jinno
文夫 神野
Tomoyuki Takada
知行 高田
Junya Kojima
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light guide body using a wave guide of a type of taking out light to a front side from a side directly and reconciling improvement of efficiency of utilizing light and productivity by integration or reduction of members, by realizing thinning by forming a curvature by making a large difference between refractive indices of a core and a clad, and to provide a method for manufacturing the same. <P>SOLUTION: The light guide body guides light by a light wave guide formed with core portions formed from a polymer material and a clad portion formed from a material having a lower refractive index than that of the core portions, and the clad portion consists of foam including fine closed pores having an average pore diameter of 5 to 200 nm and a volume porosity of the foam portion is 1 to 95%. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

照明装置や表示装置などにおいて使用され、一方向の光源からの入射光を、他の方向に変えて出射光として導く導光体に関する。
本発明は、特に、光源からの光の変換効率に優れる導光体、およびその製造方法を提供するものである。
The present invention relates to a light guide that is used in an illumination device, a display device, and the like and guides incident light from a light source in one direction as emitted light by changing the light in another direction.
In particular, the present invention provides a light guide excellent in conversion efficiency of light from a light source, and a method for manufacturing the same.

導光体は、透光性の成形物からなり、その表面または内部に屈折率変化を生じさせる出光パターンが設けられている。その出光パターンを得る手法としては、(1)白色ドットを表面に印刷する方法、(2)溝やドットを表面に成形加工する方法、(3)光散乱子を内部に分散する方法、が用いられている。
(3)の方法を用いた光散乱導光体は、内在する光散乱子によって入射光を散乱させて出光面に導く方式の導光体である。導光体表面にパターン加工することがないので、(1)の方法を用いた印刷導光体や(2)の方法を用いた成形導光体に比べて、光拡散シートが不要となり省部材化できるメリットがある。また、比重の小さい光散乱子を用いることにより導光体を軽量化できるというメリットもある。 光散乱子としては、例えば、特許文献1に記載のスチレン微粒子、特許文献2に記載のシリコンビーズ、特許文献3に記載のメタクリル微粒子、特許文献4に記載の中空ビーズ等の光散乱性粒子や、特許文献5に記載の二酸化炭素からなる気泡等が用いられている。
さらに効率を高める目的で、光導波路の原理を応用した導光体も提案されている。光ファイバーや光導波路を通った光をマイクロレンズアレイで集光させる特許文献6に記載の照明装置、バックライトからの光を集光する手段として導波路を利用する特許文献7に記載の表示素子、導波路を通して入れた光を途中で散乱によって取り出す特許文献8に記載の面状発光装置、導波路を通ってきた光をアウトカップリング部材により取り出す特許文献9に記載のバックライトなどがある。
特開平06−324215号公報 特開平10−183532号公報 特開平11−19928号公報 特開平9−17221号公報 特開平11−291374号公報 特開平06−222326号公報 特開2002−333619号公報 特開2006−134720号公報 特表2006−520076号公報
The light guide is made of a translucent molded article, and a light output pattern that causes a change in refractive index is provided on the surface or inside thereof. As a method for obtaining the light emission pattern, (1) a method of printing white dots on the surface, (2) a method of forming grooves and dots on the surface, and (3) a method of dispersing light scatterers inside are used. It has been.
The light-scattering light guide using the method (3) is a light guide of a type in which incident light is scattered by an inherent light scatterer and guided to the light exit surface. Since there is no pattern processing on the surface of the light guide, a light diffusing sheet becomes unnecessary compared with a printed light guide using the method (1) and a molded light guide using the method (2). There is merit that can be made. In addition, there is an advantage that the light guide can be reduced in weight by using a light scatterer having a small specific gravity. Examples of the light scatterer include light scattering particles such as styrene fine particles described in Patent Document 1, silicon beads described in Patent Document 2, methacrylic fine particles described in Patent Document 3, and hollow beads described in Patent Document 4. For example, bubbles made of carbon dioxide described in Patent Document 5 are used.
In order to further increase the efficiency, a light guide that applies the principle of an optical waveguide has also been proposed. An illumination device described in Patent Document 6 that condenses light passing through an optical fiber or an optical waveguide by a microlens array, a display element described in Patent Document 7 that uses a waveguide as a means for condensing light from a backlight, There are a planar light-emitting device described in Patent Document 8 that extracts light entering through a waveguide by scattering in the middle, a backlight described in Patent Document 9 that extracts light that has passed through the waveguide by an outcoupling member, and the like.
Japanese Patent Laid-Open No. 06-324215 JP-A-10-183532 JP-A-11-19928 JP 9-17221 A JP 11-291374 A Japanese Patent Laid-Open No. 06-222326 JP 2002-333619 A JP 2006-134720 A JP-T-2006-520076

導光体は、主にエッジライト方式の面発光装置に内蔵されている。このエッジライト方式の面発光装置は、一般の照明機器や表示装置に使用されている。
例えば、液晶表示装置は、表示素子の液晶自身に発光性がないため、エッジライト方式のバックライトやフロントライトと言われる面発光装置と併用して表示機能を発現させている。液晶表示装置等の用途の多様化に伴い、導光体に要求される品質項目も厳しくなってきている。
特に、表示装置の省スペース化や携帯性が重視され、光源として用いられるLEDが小型化していることから、導光体の薄物化や軽量化が強く求められている。導光体は、面発光装置の厚さのうち半分以上を占めるため薄物化への寄与が大きい。また、表示品質の向上や省電力化のために、光利用効率の向上も求められている。
しかし、光散乱子を単純に均一分散した導光体の場合、上述のように導光体全体をくさび形状に成形する必要がある。具体的には、射出成形により成形することとなるが、薄物になるほど金型への充填率や転写精度が悪くなるため(樹脂流動性の限界のため)、肉厚1mm以下に成形することは困難であった。
また、従来の光導波路を応用したバックライトでは、導波路から部分的に光を取り出すタイプのものは取り出す効率が低く、効率の良い直接サイドから正面に光路を曲げるタイプのものは、コアとクラッド間で屈折率差を付けられないために急激に曲げることが困難であり、曲率を大きく取る必要性からバックライトが厚くなる欠点があった。
本発明は、上記事情に鑑みて、直接サイドから正面に光を取り出すタイプの導波路を応用した導光体を提供し、コアとクラッドの屈折率差を大きく付けることで曲率を小さくすることにより薄型化を実現し、一体化や省部材化による光利用効率の向上と生産性向上とを両立する導光体とその製造方法を提供することを課題とする。
The light guide is mainly built in an edge light type surface emitting device. This edge light type surface light emitting device is used in general lighting equipment and display devices.
For example, in a liquid crystal display device, since the liquid crystal itself of the display element does not emit light, a display function is exhibited in combination with a surface light emitting device called an edge light type backlight or a front light. With the diversification of applications such as liquid crystal display devices, the quality items required for the light guide are becoming stricter.
In particular, space-saving and portability of display devices are emphasized, and LEDs used as light sources are downsized, so that light guides are strongly reduced in thickness and weight. Since the light guide occupies more than half of the thickness of the surface light emitting device, it contributes greatly to thinning. In addition, in order to improve display quality and save power, it is also required to improve light utilization efficiency.
However, in the case of a light guide in which light scatterers are simply uniformly dispersed, the entire light guide needs to be formed into a wedge shape as described above. Specifically, it will be molded by injection molding, but the thinner the mold, the worse the filling rate and transfer accuracy to the mold (due to the limit of resin fluidity). It was difficult.
In addition, in the backlight using the conventional optical waveguide, the type in which light is partially extracted from the waveguide is low in efficiency, and the type in which the optical path is bent from the efficient direct side to the front is the core and cladding. Since there is no difference in refractive index between the two, it is difficult to bend abruptly, and there is a drawback in that the backlight becomes thick due to the necessity of taking a large curvature.
In view of the above circumstances, the present invention provides a light guide that applies a waveguide that directly takes out light from the side to the front, and reduces the curvature by increasing the difference in refractive index between the core and the cladding. It is an object of the present invention to provide a light guide body that realizes a reduction in thickness and achieves both improvement in light utilization efficiency and productivity improvement through integration and member saving, and a manufacturing method thereof.

上記課題を解決するため、本発明は以下の(1)〜(6)の構成を採用する。
(1) 高分子材料から形成され、コア部と、該コア部より屈折率の低い材料からなるクラッド部とにより形成された光導波路により光を導く導光体であって、該クラッド部は平均気泡径が5〜200nmの微細独立気泡を内包する発泡体からなり、該発泡体部の体積空隙率が1〜95%であることを特徴とする導光体。
(2) 活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する化合物を含有する発泡性組成物に対して、クラッド部を形成させる位置に活性エネルギー線を照射し発泡させて得られることを特徴とする(1)に記載の導光体。
(3) 2枚以上のシートを積層したシート状または板状の導光体であって、隣り合う層のコア部同士が繋がることにより、光導波路が2以上のシートに跨って形成されていることを特徴とする(1)または(2)に記載の導光体。
(4) 前記発泡体部が活性エネルギー線を照射し、加熱処理を施すことにより該微細独立気泡を形成することを特徴とする(2)または(3)に記載の導光体の製造方法。
(5) 前記発泡体部の形成過程で、低沸点揮発物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させる工程を含むことを特徴とする(4)に記載の導光体の製造方法。
(6) 前記発泡体部の形成過程で、低沸点揮発物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させる工程の後に圧力制御しながら冷却する工程を含むことを特徴とする(4)または(5)に記載の導光体の製造方法。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configurations (1) to (6).
(1) A light guide that is formed of a polymer material and guides light through an optical waveguide formed by a core portion and a cladding portion made of a material having a refractive index lower than that of the core portion. A light guide comprising a foam containing fine closed cells having a bubble diameter of 5 to 200 nm, and having a volume porosity of 1 to 95%.
(2) Contains an acid generator that generates an acid by the action of active energy rays or a base generator that generates a base, and further decomposes and desorbs one or more low-boiling volatile substances by reacting with the acid or base. A foamable composition containing a compound having a decomposable foamable functional group is obtained by irradiating an active energy ray at a position where a clad portion is to be formed and foaming the conductive composition. Light body.
(3) A sheet-like or plate-like light guide in which two or more sheets are laminated, and the optical waveguide is formed across two or more sheets by connecting the core portions of adjacent layers. The light guide according to (1) or (2), wherein
(4) The method for producing a light guide according to (2) or (3), wherein the foam part forms the fine closed cells by irradiating an active energy ray and performing a heat treatment.
(5) The method for producing a light guide according to (4), characterized in that, in the formation process of the foam part, the process includes foaming by controlling the pressure in a temperature region where the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs. .
(6) The process of forming the foam part includes a step of cooling while controlling the pressure after the step of foaming by controlling the pressure in a temperature range where the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs (4) Or the manufacturing method of the light guide as described in (5).

上記のように、本発明では、導光体中に光導波路を内在し、該光導波路のクラッド部を形成する低屈折率材料の一部に、活性エネルギー線により酸および塩基を発生する物質と酸または塩基と反応して低沸点揮発物を分解脱離する化合物を含有する独立気泡を有する発泡体を用い、その平均気泡径が5〜200nmであり発泡部位の空隙率が1〜95%である。発泡体部を電子線照射や紫外線によって照射後、加熱して微細な気泡を発生させることによって光導波路の曲率半径を劇的に小さく出来る。
この方法によれば、複雑な導波路のパターンを導光板内部に形成することが可能になり、導光板の薄型化が可能となる。また、電子線や紫外線により導波路のパターンを露光して加熱するという簡単な方法で製造できるため、コスト的にも従来の製造方法と比較して有利である。
As described above, in the present invention, a substance that generates an acid and a base by active energy rays is formed on a part of a low refractive index material that includes an optical waveguide in a light guide and forms a cladding portion of the optical waveguide. Using a foam having closed cells containing a compound that decomposes and desorbs low-boiling volatiles by reacting with an acid or base, the average cell diameter is 5 to 200 nm, and the porosity of the foamed part is 1 to 95%. is there. The curvature radius of the optical waveguide can be dramatically reduced by generating fine bubbles by irradiating the foamed part with electron beam irradiation or ultraviolet rays and then heating.
According to this method, a complicated waveguide pattern can be formed inside the light guide plate, and the light guide plate can be thinned. Further, since it can be manufactured by a simple method of exposing and heating a waveguide pattern with an electron beam or ultraviolet rays, it is advantageous in terms of cost as compared with the conventional manufacturing method.

以下に本発明の構成について詳細に説明する。
本発明にかかる平面状発光装置とは、例えば液晶ディスプレイ等のように、光を用いたシステムに用いられる平面状の画像表示装置を製造する際に用いられる材料、または光部品の構成要素となり得る基本的な部品としての平面状発光装置を指す。得られる平面状発光装置を構成する導光体に内在する光導波路は、コア部の屈折率が周辺の部位よりも屈折率が高くなっており、該導光体を様々な機能を発揮する光部品(例えばサインパネル、一般の照明装置)にも使用することが可能である。それゆえ、本発明にかかる平面状発光装置には、それ単独で光部品として用いることが可能なものも含まれる。かかる導光体を単体で使用することができるが、光部品の一部に使用されることもあり、特に限定されるものではない。
The configuration of the present invention will be described in detail below.
The planar light emitting device according to the present invention can be a material used when manufacturing a planar image display device used in a system using light, such as a liquid crystal display, or a component of an optical component. It refers to a planar light emitting device as a basic part. The optical waveguide included in the light guide constituting the obtained planar light emitting device has a refractive index higher than that of the peripheral portion of the core portion, and the light that performs various functions on the light guide. It can also be used for parts (eg, sign panels, general lighting devices). Therefore, the planar light emitting device according to the present invention includes one that can be used alone as an optical component. Such a light guide can be used alone, but it may be used as a part of an optical component and is not particularly limited.

上記導光体に内在する光導波路とは、光を一定領域内に閉じ込めて伝送する線路そのもの、または、屈折率の低い透光性の基板上に屈折率の高い部位を線状に加工することで上記光の線路を基板上に形成し、光を伝搬させる光の方向を変換する素子を指す。   The optical waveguide inherent in the light guide is a line itself for confining and transmitting light within a certain region, or processing a portion having a high refractive index into a linear shape on a light-transmitting substrate having a low refractive index. The above-mentioned optical line is formed on a substrate, and refers to an element that changes the direction of light propagating.

以下に、まず、本発明を構成する導光体に用いられる発泡体の原料となる発泡性組成物について説明する。発泡性組成物は活性エネルギー線を照射して加熱処理を施すことで発泡性が発現する組成物である。その発泡性組成物としては、少なくとも次の2つの構成要素を共存させた組成物であることが望ましい。その一つは、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤、または塩基を発生する塩基発生剤であり、他のもう一つは、前記発生した酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性化合物を分解脱離する分解発泡性化合物である。   Below, the foamable composition used as the raw material of the foam used for the light guide which comprises this invention first is demonstrated. The foamable composition is a composition that develops foamability when irradiated with active energy rays and subjected to heat treatment. The foamable composition is desirably a composition in which at least the following two components coexist. One is an acid generator that generates an acid by the action of active energy rays, or a base generator that generates a base, and the other is one or more types that react with the generated acid or base. It is a decomposition foamable compound that decomposes and desorbs a low boiling point volatile compound.

<酸発生剤及び塩基発生剤>
本発明に使用する発泡性組成物に用いられる酸発生剤又は塩基発生剤には、一般的に化学増幅型フォトレジスト、及び光カチオン重合などに利用されている光酸発生剤や光塩基発生剤と呼ばれているものを用いることができる。
本発明に好適な光酸発生剤としては、
(1)ジアゾニウム塩系化合物
(2)アンモニウム塩系化合物
(3)ヨードニウム塩系化合物
(4)スルホニウム塩系化合物
(5)オキソニウム塩系化合物
(6)ホスホニウム塩系化合物
などから選ばれた芳香族もしくは脂肪族オニウム化合物のPF6−、AsF6−、SbF6−、CF3SO3−塩を挙げることができる。その具体例を下記に列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
<Acid generator and base generator>
Examples of the acid generator or base generator used in the foamable composition used in the present invention include a chemically amplified photoresist and a photoacid generator or a photobase generator generally used for photocationic polymerization. What is called can be used.
As a photoacid generator suitable for the present invention,
(1) Diazonium salt compounds (2) Ammonium salt compounds (3) Iodonium salt compounds (4) Sulfonium salt compounds (5) Oxonium salt compounds (6) Phosphonium salt compounds Mention may be made of PF 6- , AsF 6- , SbF 6 -and CF 3 SO 3 -salts of aliphatic onium compounds. Although the specific example is enumerated below, it is not limited to what was illustrated.

ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(tert−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(p−メチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(4−クロロフェニルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(p−トリルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(4−tert−ブチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(2,4−キシリルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、
ベンゾイルフェニルスルホニルジアゾメタン、
トリフルオロメタンスルホネート、
トリメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
2,4,6−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、p−トリルジフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート、
4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
1−(2−ナフトイルメチル)チオラニウムヘキサフルオロアンチモネート、
1−(2−ナフトイルメチル)チオラニウムトリフルオロメタンスルホネート、
4−ヒドロキシ−1−ナフチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
4−ヒドロキシ−1−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
(2−オキソ−1−シクロヘキシル)(シクロヘキシル)メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
(2−オキソ−1−シクロヘキシル)(2−ノルボルニル)メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−4−メチルフェニルスルホニウムパーフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−4−tert−ブチルフェニルスルホニウムパーフルオロオクタンスルホネート、
ジフェニル−4−メトキシフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、
ジフェニル−4−メチルフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−4−メトキシフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−4−イソプロピルフェニルスルホニウムトシレート
ジフェニルヨードニウム、
ジフェニルヨードニウムトシレート、
ジフェニルヨードニウムクロライド、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ジフェニルヨードニウムナイトレート、
ジフェニルヨードニウムパークロレート、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス(メチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス(メチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート、
ビス(メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス(メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、
2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−フェニル−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、
2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、
2−ナフチル−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、
2−ビフェニル−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、
2−(4’−ヒドロキシ−4−ビフェニル)−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、
2−(4’−メチル−4−ビフェニル)−4,6−ジトリクロロメチル−1,3,5−トリアジン、
2−(p−メトキシフェニルビニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(4−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(4−メトキシ−1−ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(ベンゾ[d][1,3]ジオキソラン−5−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(3,4,5−トリメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(3,4−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(2,4−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(2−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(4−ブトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−(4−ペンチルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルピリリウムトリフロオロメタンスルホネート、
トリメチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
トリエチルオキシニウムテトラフロオロボレート、
N−ヒドロキシフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
N−ヒドロキシナフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
(α−ベンゾイルベンジル)p−トルエンスルホネート、
(β−ベンゾイル−β−ヒドロキシフェネチル)p−トルエンスルホネート、
1,2,3−ベンゼントリイルトリスメタンスルホネート、
(2,6−ジニトロベンジル)p−トルエンスルホネート、
(2−ニトロベンジル)p−トルエンスルホネート、
(4−ニトロベンジル)p−トルエンスルホネート、
などが挙げられる。なかでも、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物が好ましい。
また、前記オニウム化合物以外にも、活性エネルギー線照射によりスルホン酸を光発生するスルホン化物、例えば2−フェニルスルホニルアセトフェノン、活性エネルギー線照射によりハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、例えば、フェニルトリブロモメチルスルホン、及び1,1−ビス(4−クロロフェニル)−2,2,2−トリクロロエタン、並びに活性エネルギー線照射により燐酸を光発生するフェロセニウム化合物、例えば、ビス(シクロペンタジエニル)フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェート、及びビス(ベンジル)フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェートなどを用いることができる。
さらには、下記に挙げる酸発生能を有するイミド化合物誘導体も使用できる。
N−(フェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、
N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)スクシンイミド、
N−(10−カンファースルホニルオキシ)スクシンイミド、
N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フタルイミド、
N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド、
N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ナフタルイミド、
N−(10−カンファースルホニルオキシ)ナフタルイミド。
Bis (phenylsulfonyl) diazomethane,
Bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane,
Bis (tert-butylsulfonyl) diazomethane,
Bis (p-methylphenylsulfonyl) diazomethane,
Bis (4-chlorophenylsulfonyl) diazomethane,
Bis (p-tolylsulfonyl) diazomethane,
Bis (4-tert-butylphenylsulfonyl) diazomethane,
Bis (2,4-xylylsulfonyl) diazomethane,
Bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane,
Benzoylphenylsulfonyldiazomethane,
Trifluoromethanesulfonate,
Trimethylsulfonium trifluoromethanesulfonate,
Triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate,
Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate,
2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, p-tolyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate,
4-phenylthiophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate,
4-phenylthiophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate,
1- (2-naphthoylmethyl) thiolanium hexafluoroantimonate,
1- (2-naphthoylmethyl) thiolanium trifluoromethanesulfonate,
4-hydroxy-1-naphthyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate,
4-hydroxy-1-naphthyldimethylsulfonium trifluoromethanesulfonate,
(2-oxo-1-cyclohexyl) (cyclohexyl) methylsulfonium trifluoromethanesulfonate,
(2-oxo-1-cyclohexyl) (2-norbornyl) methylsulfonium trifluoromethanesulfonate,
Diphenyl-4-methylphenylsulfonium perfluoromethanesulfonate,
Diphenyl-4-tert-butylphenylsulfonium perfluorooctanesulfonate,
Diphenyl-4-methoxyphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate,
Diphenyl-4-methylphenylsulfonium tosylate,
Diphenyl-4-methoxyphenylsulfonium tosylate,
Diphenyl-4-isopropylphenylsulfonium tosylate diphenyliodonium,
Diphenyliodonium tosylate,
Diphenyliodonium chloride,
Diphenyliodonium hexafluoroarsenate,
Diphenyliodonium hexafluorophosphate,
Diphenyliodonium nitrate,
Diphenyliodonium perchlorate,
Diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate,
Bis (methylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate,
Bis (methylphenyl) iodonium tetrafluoroborate,
Bis (methylphenyl) iodonium hexafluorophosphate,
Bis (methylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate,
Bis (4-tert-butylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate,
Bis (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate,
Bis (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate,
Bis (4-tert-butylphenyl) iodonium perfluorobutanesulfonate,
2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2,4,6-tri (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2-phenyl-4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine,
2- (p-methoxyphenyl) -4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine,
2-naphthyl-4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine,
2-biphenyl-4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine,
2- (4′-hydroxy-4-biphenyl) -4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine,
2- (4′-methyl-4-biphenyl) -4,6-ditrichloromethyl-1,3,5-triazine,
2- (p-methoxyphenylvinyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (4-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (4-methoxy-1-naphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (benzo [d] [1,3] dioxolan-5-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (4-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (3,4,5-trimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (3,4-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (2,4-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (2-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (4-butoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2- (4-pentyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine,
2,6-di-tert-butyl-4-methylpyrylium trifluoromethanesulfonate,
Trimethyloxynium tetrafluoroborate,
Triethyloxynium tetrafluoroborate,
N-hydroxyphthalimide trifluoromethanesulfonate,
N-hydroxynaphthalimide trifluoromethanesulfonate,
(Α-benzoylbenzyl) p-toluenesulfonate,
(Β-benzoyl-β-hydroxyphenethyl) p-toluenesulfonate,
1,2,3-benzenetriyltrismethanesulfonate,
(2,6-dinitrobenzyl) p-toluenesulfonate,
(2-nitrobenzyl) p-toluenesulfonate,
(4-nitrobenzyl) p-toluenesulfonate,
Etc. Of these, iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds are preferred.
In addition to the onium compounds, sulfonates that generate sulfonic acid upon irradiation with active energy rays, such as 2-phenylsulfonylacetophenone, halides that generate hydrogen halide upon irradiation with active energy rays, such as phenyltribromo. Methylsulfone and 1,1-bis (4-chlorophenyl) -2,2,2-trichloroethane, and ferrocenium compounds that generate phosphoric acid upon irradiation with active energy rays, such as bis (cyclopentadienyl) ferrocenium hexa Fluorophosphate, bis (benzyl) ferrocenium hexafluorophosphate, and the like can be used.
Furthermore, the following imide compound derivatives having acid generating ability can also be used.
N- (phenylsulfonyloxy) succinimide,
N- (trifluoromethylsulfonyloxy) succinimide,
N- (10-camphorsulfonyloxy) succinimide,
N- (trifluoromethylsulfonyloxy) phthalimide,
N- (trifluoromethylsulfonyloxy) -5-norbornene-2,3-dicarboximide,
N- (trifluoromethylsulfonyloxy) naphthalimide,
N- (10-camphorsulfonyloxy) naphthalimide.

本発明に好適な光塩基発生剤としては、
(1)オキシムエステル系化合物
(2)アンモニウム系化合物
(3)ベンゾイン系化合物
(4)ジメトキシベンジルウレタン系化合物
(5)オルトニトロベンジルウレタン系化合物
などが挙げられ、これらは活性エネルギー線の照射により塩基としてアミンを発生する。その他にも、光の作用によりアンモニアやヒドロキシイオンを発生する塩基発生剤を用いてもよい。これらは、例えばN−(2−ニトロペンジルオキシカルボニル)ピペリジン、1,3−ビス〔N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−ピペリジル〕プロパン、N,N’−ビス(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ジヘキシルアミン、及びO−ベンジルカルボニル−N−(1−フェニルエチリデン)ヒドロキシルアミンなどから選ぶことができる。さらには加熱により塩基が発生する化合物を上記光塩基発生剤と併用してもよい。
また、光酸発生剤または光塩基発生剤の活性エネルギー線の波長領域をシフトまたは拡大するために、適宜光増感剤を併用してもよい。例えば、オニウム塩化合物に対する光増感剤には、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、アクリジンオレンジなどが挙げられる。
As a photobase generator suitable for the present invention,
(1) Oxime ester compounds (2) Ammonium compounds (3) Benzoin compounds (4) Dimethoxybenzylurethane compounds (5) Orthonitrobenzylurethane compounds As an amine. In addition, a base generator that generates ammonia or hydroxy ions by the action of light may be used. These include, for example, N- (2-nitropentyloxycarbonyl) piperidine, 1,3-bis [N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-piperidyl] propane, N, N′-bis (2-nitrobenzyl). It can be selected from oxycarbonyl) dihexylamine, O-benzylcarbonyl-N- (1-phenylethylidene) hydroxylamine, and the like. Further, a compound that generates a base by heating may be used in combination with the photobase generator.
In addition, a photosensitizer may be used in combination as appropriate in order to shift or expand the wavelength region of the active energy ray of the photoacid generator or photobase generator. For example, examples of photosensitizers for onium salt compounds include acridine yellow, benzoflavin, and acridine orange.

必要な酸または塩基を生成しながらも酸発生剤または塩基発生剤の添加量や光照射エネルギーを最小限に抑制する方法として、酸増殖剤や塩基増殖剤を酸発生剤または塩基発生剤とともに用いることができる。酸増殖剤は、常温付近で熱力学的に安定であるが、酸によって分解し、自ら強酸を発生し、酸触媒反応を大幅に加速させる。この反応を利用することにより、酸または塩基の発生効率を向上させて、発泡生成速度や発泡構造をコントロールすることも可能である。   As a method of minimizing the amount of acid generator or base generator added and the light irradiation energy while generating the necessary acid or base, an acid proliferator or base proliferator is used together with the acid generator or base generator. be able to. The acid proliferator is thermodynamically stable at around room temperature, but decomposes with acid and generates a strong acid by itself to greatly accelerate the acid-catalyzed reaction. By utilizing this reaction, it is possible to improve the generation efficiency of acid or base, and to control the foam generation rate and the foam structure.

<分解発泡性化合物>
本発明に使用する発泡性組成物に用いられる分解発泡性化合物(以下、分解性化合物と略す)は、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質(低沸点揮発性化合物)が分解脱離する。すなわち、この分解性化合物には、低沸点揮発性物質を発生し得る分解性官能基があらかじめ導入されていなければならない。低沸点とは発泡時にガス化する温度が上限になる。通常100℃以下、常温以下が好ましい。低沸点揮発性物質としては、例えばイソブテン(沸点;−7℃)、二酸化炭素(沸点;−79℃)、窒素(沸点;−196℃)などがあげられる。分解性官能基としては、酸と反応するものとしてtert−ブチル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、ケト酸およびケト酸エステル基などが挙げられ、塩基と反応するものとしてウレタン基、カーボネート基などが挙げられる。酸と反応するものとしては、tert−ブチル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、酸と反応して、tert−ブチル基はイソブテンガスを、tert−ブチルオキシカルボニル基はイソブテンガスと二酸化炭素を、ケト酸部位は二酸化炭素を、ケト酸エステルたとえばケト酸tert−ブチル基は二酸化炭素とイソブテンを発生する。塩基と反応するものとしては、ウレタン基、カーボネート基は二酸化炭素ガスを発生する。このようにして、それぞれのガスが分解性化合物から離脱する。
<Decomposable foamable compound>
A decomposable foamable compound (hereinafter abbreviated as a decomposable compound) used in the foamable composition used in the present invention reacts with an acid or a base to produce one or more low-boiling volatile substances (low-boiling volatile compounds). Decomposes and desorbs. That is, this decomposable compound must be previously introduced with a degradable functional group capable of generating a low boiling point volatile substance. The low boiling point is the upper limit of the temperature at which gasification occurs during foaming. Usually, it is preferably 100 ° C. or lower and room temperature or lower. Examples of the low boiling point volatile substance include isobutene (boiling point: −7 ° C.), carbon dioxide (boiling point: −79 ° C.), nitrogen (boiling point: −196 ° C.), and the like. Examples of the decomposable functional group include tert-butyl group, tert-butyloxycarbonyl group, keto acid and keto ester group as those that react with acid, and urethane group and carbonate group as those that react with base. Can be mentioned. Reacting with acid includes tert-butyl group, tert-butyloxycarbonyl group, and acid, tert-butyl group is isobutene gas, tert-butyloxycarbonyl group is isobutene gas and carbon dioxide, keto Acid sites generate carbon dioxide and ketoesters such as the tert-butyl keto acid group generate carbon dioxide and isobutene. As those that react with the base, urethane groups and carbonate groups generate carbon dioxide gas. In this way, each gas is released from the decomposable compound.

酸と反応して分解する酸分解性化合物また塩基と反応して分解する塩基分解性化合物の形態としては、モノマー、オリゴマー、高分子化合物(ポリマー)等として使用することができ、例えば、以下のような化合物群に分類することができる。
(1)非硬化性低分子系の分解性化合物群
(2)硬化性モノマー系の分解性化合物群
(3)重合体系の分解性化合物群
硬化性モノマー系の分解性化合物に代表される例として、活性エネルギー線を照射したときに重合反応を生じるようなビニル基を含んだ活性エネルギー線硬化性化合物の場合には、均一な微細気泡の形成が容易であり、強度的に優れた発泡体を得ることが可能である。分解性化合物の具体例を下記に列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。
The form of an acid-decomposable compound that decomposes by reacting with an acid or a base-decomposable compound that decomposes by reacting with a base can be used as a monomer, oligomer, polymer compound (polymer), etc. It can be classified into such compound groups.
(1) Non-curing low molecular weight decomposable compound group (2) Curing monomer based degradable compound group (3) Polymerizable degradable compound group Examples represented by curable monomer based degradable compounds In the case of an active energy ray-curable compound containing a vinyl group that causes a polymerization reaction when irradiated with active energy rays, it is easy to form uniform fine bubbles, and a foam having excellent strength is obtained. It is possible to obtain. Although the specific example of a decomposable compound is enumerated below, it is not limited to what was illustrated.

(1)−a、非硬化性低分子系の分解性化合物群
<酸分解性化合物>
1−tert−ブトキシ−2−エトキシエタン、
2−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)ナフタレン、
N−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フタルイミド、
2,2−ビス[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニル]プロパンなど
(1) -a, non-curing low molecular weight decomposable compound group <acid decomposable compound>
1-tert-butoxy-2-ethoxyethane,
2- (tert-butoxycarbonyloxy) naphthalene,
N- (tert-butoxycarbonyloxy) phthalimide,
2,2-bis [p- (tert-butoxycarbonyloxy) phenyl] propane, etc.

(1)−b、非硬化性低分子系の分解性化合物群
<塩基分解性化合物>
N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)ピペリジンなど
(2)−a、硬化性モノマー系の分解性化合物群
<酸分解性化合物>
tert−ブチルアクリレート、
tert−ブチルメタクリレート、
tert−ブトキシカルボニルメチルアクリレート、
2−(tert−ブトキシカルボニル)エチルアクリレート、
p−(tert−ブトキシカルボニル)フェニルアクリレート、
p−(tert−ブトキシカルボニルエチル)フェニルアクリレート、
1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)シクロヘキシルアクリレート、
4−tert−ブトキシカルボニル−8−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ
[5.2.1.02,6]デカン、
2−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)エチルアクリレート、
p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニルアクリレート、
p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)ベンジルアクリレート、
2−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)エチルアクリレート、
6−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ヘキシルアクリレート、
p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)フェニルアクリレート、
p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ベンジルアクリレート、
p−(tert−ブトキシカルボニルアミノメチル)ベンジルアクリレート、
(2−tert−ブトキシエチル)アクリレート、
(3−tert−ブトキシプロピル)アクリレート、
(1−tert−ブチルジオキシ−1−メチル)エチルアクリレート、
3,3−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)プロピルアクリレート、
4,4−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)ブチルアクリレート、
p−(tert−ブトキシ)スチレン、
m−(tert−ブトキシ)スチレン、
p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン、
m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン、
アクリロイル酢酸、メタクロイル酢酸
tert−ブチルアクロイルアセテート、
tert−ブチルメタクロイルアセテートなど
N−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)マレイミド
(1) -b, non-curing low molecular weight decomposable compound group <base decomposable compound>
N- (9-fluorenylmethoxycarbonyl) piperidine and the like (2) -a, a curable monomer-based decomposable compound group <acid-decomposable compound>
tert-butyl acrylate,
tert-butyl methacrylate,
tert-butoxycarbonylmethyl acrylate,
2- (tert-butoxycarbonyl) ethyl acrylate,
p- (tert-butoxycarbonyl) phenyl acrylate,
p- (tert-butoxycarbonylethyl) phenyl acrylate,
1- (tert-butoxycarbonylmethyl) cyclohexyl acrylate,
4-tert-butoxycarbonyl-8-vinylcarbonyloxy-tricyclo [5.2.1.02,6] decane,
2- (tert-butoxycarbonyloxy) ethyl acrylate,
p- (tert-butoxycarbonyloxy) phenyl acrylate,
p- (tert-butoxycarbonyloxy) benzyl acrylate,
2- (tert-butoxycarbonylamino) ethyl acrylate,
6- (tert-butoxycarbonylamino) hexyl acrylate,
p- (tert-butoxycarbonylamino) phenyl acrylate,
p- (tert-butoxycarbonylamino) benzyl acrylate,
p- (tert-butoxycarbonylaminomethyl) benzyl acrylate,
(2-tert-butoxyethyl) acrylate,
(3-tert-butoxypropyl) acrylate,
(1-tert-butyldioxy-1-methyl) ethyl acrylate,
3,3-bis (tert-butyloxycarbonyl) propyl acrylate,
4,4-bis (tert-butyloxycarbonyl) butyl acrylate,
p- (tert-butoxy) styrene,
m- (tert-butoxy) styrene,
p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene,
m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene,
Acryloyl acetate, methacryloyl acetate tert-butyl acryloyl acetate,
N- (tert-butoxycarbonyloxy) maleimide such as tert-butylmethacloyl acetate

(2)−b、硬化性モノマー系の分解性化合物群
<塩基分解性化合物>
4−[(1、1−ジメチル−2−シアノ)エトキシカルボニルオキシ]スチレン、
4−[(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン、
4−[(1、1−ジメチル−2−メトキシカルボニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン、
4−(2−シアノエトキシカルボニルオキシ)スチレン、
(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エチルメタクリレート、
(1、1−ジメチル−2−シアノ)エチルメタクリレートなど
(2) -b, curable monomer group decomposable compound group <base decomposable compound>
4-[(1,1-dimethyl-2-cyano) ethoxycarbonyloxy] styrene,
4-[(1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene,
4-[(1,1-dimethyl-2-methoxycarbonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene,
4- (2-cyanoethoxycarbonyloxy) styrene,
(1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) ethyl methacrylate,
(1,1-dimethyl-2-cyano) ethyl methacrylate, etc.

(3)−a、重合体系の分解性化合物群
<酸分解性化合物>
ポリ(tert−ブチルアクリレート)、
ポリ(tert−ブチルメタクリレート)、
ポリ(tert−ブトキシカルボニルメチルアクリレート)、
ポリ[2−(tert−ブトキシカルボニル)エチルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニル)フェニルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルエチル)フェニルアクリレート]、
ポリ[1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)シクロヘキシルアクリレート]、
ポリ{4−tert−ブトキシカルボニル−8−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン}、
ポリ[2−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)エチルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)ベンジルアクリレート]、
ポリ[2−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)エチルアクリレート]、
ポリ[6−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ヘキシルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)フェニルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ベンジルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルアミノメチル)ベンジルアクリレート]、
ポリ(2−tert−ブトキシエチルアクリレート)、
ポリ(3−tert−ブトキシプロピルアクリレート)、
ポリ[(1−tert−ブチルジオキシ−1−メチル)エチルアクリレート]、
ポリ[3,3−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)プロピルアクリレート]、
ポリ[4,4−ビス(tert−ブチルオキシカルボニル)ブチルアクリレート]、
ポリ[p−(tert−ブトキシ)スチレン]、
ポリ[m−(tert−ブトキシ)スチレン]、
ポリ[p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン]、
ポリ[m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン]、
ポリアクリロイル酢酸、ポリメタクロイル酢酸、
ポリ[tert−ブチルアクロイルアセテート]、
ポリ[tert−ブチルメタクロイルアセテート]
N−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)マレイミド/スチレン共重合体など
(3)−b、重合体系の分解性化合物群
<塩基分解性化合物>
ポリ{p−[(1、1−ジメチル−2−シアノ)エトキシカルボニルオキシ]スチレン}、
ポリ{p−[(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン}、
ポリ{p−[(1、1−ジメチル−2−メトキシカルボニル)エトキシカルボニルオキシ]スチレン}、
ポリ[p−(2−シアノエトキシカルボニルオキシ)スチレン]、
ポリ[(1、1−ジメチル−2−フェニルスルホニル)エチルメタクリレート]、
ポリ[(1、1−ジメチル−2−シアノ)エチルメタクリレート]、
などを挙げることができる。
(3) -a, decomposable compound group of polymer system <acid-decomposable compound>
Poly (tert-butyl acrylate),
Poly (tert-butyl methacrylate),
Poly (tert-butoxycarbonylmethyl acrylate),
Poly [2- (tert-butoxycarbonyl) ethyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxycarbonyl) phenyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxycarbonylethyl) phenyl acrylate],
Poly [1- (tert-butoxycarbonylmethyl) cyclohexyl acrylate],
Poly {4-tert-butoxycarbonyl-8-vinylcarbonyloxy-tricyclo [5.2.1.02,6] decane},
Poly [2- (tert-butoxycarbonyloxy) ethyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxycarbonyloxy) phenyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxycarbonyloxy) benzyl acrylate],
Poly [2- (tert-butoxycarbonylamino) ethyl acrylate],
Poly [6- (tert-butoxycarbonylamino) hexyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxycarbonylamino) phenyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxycarbonylamino) benzyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxycarbonylaminomethyl) benzyl acrylate],
Poly (2-tert-butoxyethyl acrylate),
Poly (3-tert-butoxypropyl acrylate),
Poly [(1-tert-butyldioxy-1-methyl) ethyl acrylate],
Poly [3,3-bis (tert-butyloxycarbonyl) propyl acrylate],
Poly [4,4-bis (tert-butyloxycarbonyl) butyl acrylate],
Poly [p- (tert-butoxy) styrene],
Poly [m- (tert-butoxy) styrene],
Poly [p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene],
Poly [m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene],
Polyacryloyl acetic acid, polymethacryloyl acetic acid,
Poly [tert-butyl acroyl acetate],
Poly [tert-butyl methacryloyl acetate]
N- (tert-butoxycarbonyloxy) maleimide / styrene copolymer and the like (3) -b, decomposable compound group of polymer system <base decomposable compound>
Poly {p-[(1,1-dimethyl-2-cyano) ethoxycarbonyloxy] styrene},
Poly {p-[(1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene},
Poly {p-[(1,1-dimethyl-2-methoxycarbonyl) ethoxycarbonyloxy] styrene},
Poly [p- (2-cyanoethoxycarbonyloxy) styrene],
Poly [(1,1-dimethyl-2-phenylsulfonyl) ethyl methacrylate],
Poly [(1,1-dimethyl-2-cyano) ethyl methacrylate],
And so on.

分解性官能基を導入したポリエーテル、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、デンドリマーなどの有機系高分子化合物を酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物として用いることができる。さらには、シリカなどの無機系化合物に分解性官能基を導入した酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物も含む。なかでも、分解性官能基は、カルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる官能基を有する化合物群に導入されることが好ましい。   Organic polymer compounds such as polyethers, polyamides, polyesters, polyimides, polyvinyl alcohols and dendrimers into which degradable functional groups are introduced can be used as acid-decomposable or base-decomposable polymer compounds. Furthermore, an acid-decomposable or base-decomposable polymer compound in which a decomposable functional group is introduced into an inorganic compound such as silica is also included. Especially, it is preferable that a decomposable functional group is introduce | transduced into the compound group which has a functional group chosen from the group which consists of a carboxylic acid group or a hydroxyl group, and an amine group.

これらの分解性官能基を導入した高分子化合物の中で、光導波路用途で特に好適なのは光学特性に優れ、耐熱性を有する高分子化合物である。例としては、ポリイミド、ポリカーボネート、フッ素系樹脂(特にフッ素系脂肪族環構造含有重合体)、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリシラン、シアン酸エステル樹脂を好ましくが挙げることができる。上記光学特性の優れている高分子材料の中でも、特にポリイミドが耐熱性の点で好ましい。   Among these polymer compounds into which a degradable functional group is introduced, polymer compounds having excellent optical characteristics and heat resistance are particularly suitable for optical waveguide applications. Preferable examples include polyimide, polycarbonate, fluorine-based resin (particularly a fluorine-containing aliphatic ring structure-containing polymer), epoxy resin, silicone resin, polysilane, and cyanate ester resin. Among the polymer materials having excellent optical properties, polyimide is particularly preferable from the viewpoint of heat resistance.

上記分解性化合物群は単独で用いてもよいし、異なる2種以上を混合併用してもよい。また、上記分解性化合物は他の樹脂と混合して用いることもできる。混合した時に分解性化合物と他樹脂とが相溶でも非相溶でもどちらでもかまわない。他の樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系複合樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、アクリロイル樹脂、ABS樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニル樹脂、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、及びシリコーン樹脂など一般に用いられる樹脂から適宜選択して用いることができる。また、分解性化合物から分解してガス化する低沸点揮発性物質を成形体内に内在させることを目的として、ガスバリヤ性樹脂を用いることもできる。ガスバリヤ性樹脂は、混合しても被覆または積層してもよく、低沸点揮発性物質を成形体内により内在させるには、成形体表面に被覆または積層するのが好ましい。   The decomposable compound group may be used alone or in combination of two or more different types. Moreover, the decomposable compound can be used by mixing with other resins. When mixed, the decomposable compound and the other resin may be either compatible or incompatible. Other resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, unsaturated polyester resins, polycarbonate resins, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyolefin composite resins, polystyrene resins, polybutadiene resins, (meth) acrylic resins, Acryloyl resin, ABS resin, fluororesin, polyimide resin, polyacetal resin, polysulfone resin, vinyl chloride resin, methyl cellulose, ethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, starch, polyvinyl alcohol, polyamide resin, phenol resin, melamine resin, urea resin, urethane resin, It can be appropriately selected from commonly used resins such as epoxy resins and silicone resins. Moreover, a gas barrier resin can also be used for the purpose of allowing a low-boiling volatile substance that decomposes and gasifies from a decomposable compound to be contained in the molded body. The gas barrier resin may be mixed, coated or laminated, and in order to allow the low boiling point volatile substance to be contained in the molded body, it is preferable to coat or laminate the molded body surface.

分解性発泡化合物のうち、硬化性モノマー系の分解性化合物群および重合体系の分解性化合物群は単独で用いてもよいし、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いてもよい。これに対して、非硬化性低分子系の分解性化合物群は単独では成形できないので、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いる必要がある。   Among the decomposable foaming compounds, the curable monomer-based decomposable compound group and the polymer-based decomposable compound group may be used singly or in combination with the generally used resins. On the other hand, since the non-curable low molecular weight decomposable compound group cannot be molded alone, it is necessary to use it by mixing with the generally used resin.

本発明の発泡体の耐水性をあげるためには、発泡性組成物として少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。本発明に用いられる疎水性官能基は、主に脂肪族基、脂肪環族基、芳香族基、ハロゲン基、ニトリル基からなる群の中から選ばれることが好ましい。分解発泡性官能基は、主にカルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる親水性官能基に導入されやすい。したがって、本発明の分解性化合物としては、前記親水性官能基に分解発泡性官能基を導入した分解性ユニットと、疎水性官能基を含む疎水性ユニットからなる複合化合物が好ましい。より好ましい前記複合化合物は、分解性ユニットおよび疎水性ユニットがビニル系重合体である。疎水性ユニットは、メチル(メタ)アクリレートやエチル(メタ)アクリレートなどの脂肪族(メタ)アクリレート群、スチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレンなどの芳香族ビニル化合物群、(メタ)アクリロニトリル化合物群、酢酸ビニル化合物群、塩化ビニル化合物群などが挙げられる。分解性化合物の代表的な例としては、分解性ユニットが、親水性官能基のカルボン酸基を有するアクリル酸に分解性官能基であるtert−ブチル基を導入したtert−ブチルアクリレートであり、そして疎水性ユニットが疎水性官能基のメチル基を有するメチルアクリレートである組合わせからなるビニル系共重合体が挙げられる。分解性ユニット/疎水性ユニットの組合わせからなる分解性化合物の具体例を以下に示す。
tert−ブチルアクリレート/メチルメタクリレート共重合体
tert−ブチルメタクリレート/メチルアクリレート共重合体
tert−ブチルメタアクリレート/メチルメタクリレート共重合体
tert−ブチルアクリレート/エチルアクリレート共重合体
tert−ブチルアクリレート/エチルメタクリレート共重合体
tert−ブチルメタクリレート/エチルアクリレート共重合体
tert−ブチルメタクリレート/エチルメタクリレート共重合体
tert−ブチルアクリレート/スチレン共重合体
tert−ブチルアクリレート/塩化ビニル共重合体
tert−ブチルアクリレート/アクリロニトリル共重合体
p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン/スチレン共重合体
また、分解性化合物中の分解性ユニットおよび疎水性ユニットは、一種単独でまたは2種以上併用することができる。共重合の形式は、ランダム共重合、ブロック共重合、グラフト共重合などの任意に行なうことができる。また、疎水性ユニットの共重合比は、分解性化合物全量に対して1〜95質量%であることが好ましく、分解性化合物の分解発泡性および発泡構造の環境保存性を勘案すると、5〜80質量%がより好ましい。
上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる2種以上を混合併用してもよい。 上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物となる。
In order to increase the water resistance of the foam of the present invention, a compound obtained by introducing a decomposable foamable functional group into a compound containing at least one or more types of hydrophobic functional groups can also be used as the foamable composition. The hydrophobic functional group used in the present invention is preferably selected from the group consisting mainly of an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a halogen group, and a nitrile group. The decomposable and foamable functional group is easily introduced into a hydrophilic functional group selected from the group consisting mainly of a carboxylic acid group, a hydroxyl group and an amine group. Therefore, the decomposable compound of the present invention is preferably a composite compound comprising a decomposable unit in which a decomposable and foamable functional group is introduced into the hydrophilic functional group and a hydrophobic unit containing a hydrophobic functional group. In the more preferable composite compound, the decomposable unit and the hydrophobic unit are vinyl polymers. Hydrophobic units include aliphatic (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate, aromatic vinyl compounds such as styrene, methylstyrene and vinylnaphthalene, (meth) acrylonitrile compounds, vinyl acetate A compound group, a vinyl chloride compound group, etc. are mentioned. As a representative example of the decomposable compound, the decomposable unit is tert-butyl acrylate in which a tert-butyl group which is a decomposable functional group is introduced into acrylic acid having a carboxylic acid group of a hydrophilic functional group, and Examples thereof include vinyl copolymers comprising a combination in which the hydrophobic unit is methyl acrylate having a hydrophobic functional group methyl group. Specific examples of the decomposable compound comprising a combination of degradable unit / hydrophobic unit are shown below.
tert-butyl acrylate / methyl methacrylate copolymer tert-butyl methacrylate / methyl acrylate copolymer tert-butyl methacrylate / methyl methacrylate copolymer tert-butyl acrylate / ethyl acrylate copolymer tert-butyl acrylate / ethyl methacrylate copolymer Tert-butyl methacrylate / ethyl acrylate copolymer tert-butyl methacrylate / ethyl methacrylate copolymer tert-butyl acrylate / styrene copolymer tert-butyl acrylate / vinyl chloride copolymer tert-butyl acrylate / acrylonitrile copolymer p -(Tert-Butoxycarbonyloxy) styrene / styrene copolymer In addition, a degradable unit in the decomposable compound and The hydrophobic unit can be used alone or in combination of two or more. The form of copolymerization can be performed arbitrarily such as random copolymerization, block copolymerization, and graft copolymerization. In addition, the copolymerization ratio of the hydrophobic unit is preferably 1 to 95% by mass with respect to the total amount of the decomposable compound, and considering the decomposable foamability of the decomposable compound and the environmental preservation of the foamed structure, 5 to 80 The mass% is more preferable.
The decomposable compounds may be used alone or in combination of two or more different types. The decomposable compound is a compound containing at least one or more kinds of hydrophobic functional groups after the decomposable and foamable functional groups are decomposed and released to generate a bubble forming gas.

本発明の発泡体の耐水性をあげるためには、発泡性組成物として、温度30℃相対湿度60%の環境雰囲気下においてJIS K−7209D法で測定した平衡吸水率が10%未満低の吸湿性化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物を用いることもできる。分解発泡性官能基を導入しやすい構造を有する低吸湿性化合物としては、例えばp−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。したがって、分解性化合物は、p−(tert−ブトキシ)スチレン、m−(tert−ブトキシ)スチレン、p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン、m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレンが挙げられる。これらは硬化性モノマーでも一種類以上を混合した重合体でもよい。
また、吸水率が10%以上の高吸湿性化合物と、吸水率10%未満の低吸湿性化合物との組合わせからなる複合化合物に分解発泡性官能基を導入してもよい。ただし、複合化合物は、適切な組合わせにより10%未満の吸水率を有していることが好ましい。例えば、高吸湿性化合物であるアクリル酸と低吸湿性化合物であるp−ヒドロキシスチレンの共重合体(複合化合物)は、その共重合比がアクリル酸/p−ヒドロキシスチレン=90/10〜0/100であることが好ましい。分解性化合物の具体的な例としては、
tert−ブチルアクリレート/p−(tert−ブトキシ)スチレン共重合体
tert−ブチルアクリレート/m−(tert−ブトキシ)スチレン共重合体
tert−ブチルアクリレート/p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン共重合体
tert−ブチルアクリレート/m−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン共重合体
tert−ブチルメタクリレート/p−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)スチレン共重合体
さらには、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、デンドリマーからなる群の中から選ばれた低吸湿性高分子材料などに分解発泡性官能基を導入してもよい。
上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる2種以上を混合併用してもよい。上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、低吸湿性化合物となる。
In order to increase the water resistance of the foam of the present invention, the foamable composition has a low moisture content of less than 10% as measured by the JIS K-7209D method in an environmental atmosphere at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 60%. A compound in which a decomposable and foaming functional group is introduced into a functional compound can also be used. Examples of the low hygroscopic compound having a structure in which a decomposable and foamable functional group can be easily introduced include p-hydroxystyrene and m-hydroxystyrene. Accordingly, examples of the decomposable compound include p- (tert-butoxy) styrene, m- (tert-butoxy) styrene, p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene, and m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene. These may be a curable monomer or a polymer in which one or more kinds are mixed.
Further, a decomposable and foamable functional group may be introduced into a composite compound comprising a combination of a highly hygroscopic compound having a water absorption rate of 10% or more and a low hygroscopic compound having a water absorption rate of less than 10%. However, the composite compound preferably has a water absorption of less than 10% by an appropriate combination. For example, a copolymer (composite compound) of acrylic acid, which is a highly hygroscopic compound, and p-hydroxystyrene, which is a low hygroscopic compound, has a copolymerization ratio of acrylic acid / p-hydroxystyrene = 90 / 10-0 / 100 is preferred. Specific examples of degradable compounds include
tert-butyl acrylate / p- (tert-butoxy) styrene copolymer tert-butyl acrylate / m- (tert-butoxy) styrene copolymer tert-butyl acrylate / p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene copolymer tert-butyl acrylate / m- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene copolymer tert-butyl methacrylate / p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene copolymer Further polyester, polyimide, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride Further, a decomposable and foamable functional group may be introduced into a low-hygroscopic polymer material selected from the group consisting of polyacrylonitrile, phenol resin, and dendrimer.
The decomposable compounds may be used alone or in combination of two or more different types. The decomposable compound becomes a low hygroscopic compound after the decomposable and foaming functional group is decomposed and eliminated to generate a bubble forming gas.

<発泡性組成物>
本発明に使用する発泡性組成物には、酸発生剤または塩基発生剤と分解発泡性化合物以外に、他の活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物を組み合わせて用いてもよい。併用化合物の例としては、
(1)脂肪族、脂環族、芳香族の1〜6価のアルコール及びポリアルキレングリコールの(メタ)アクリレート類
(2)脂肪族、脂環族、芳香族の1〜6価のアルコールにアルキレンオキサイドを付加させて得られた化合物の(メタ)アクリレート類
(3)ポリ(メタ)アクリロイルアルキルリン酸エステル類
(4)多塩基酸とポリオールと(メタ)アクリル酸との反応生成物
(5)イソシアネート、ポリオール、(メタ)アクリル酸の反応生成物
(6)エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸の反応生成物
(7)エポキシ化合物、ポリオール、(メタ)アクリル酸の反応生成物
(8)メラミンと(メタ)アクリル酸の反応生成物
等を挙げることができる。
<Foaming composition>
In the foamable composition used in the present invention, in addition to the acid generator or base generator and the decomposition foamable compound, other active energy ray-curable unsaturated organic compounds may be used in combination. Examples of combination compounds include
(1) Aliphatic, alicyclic, aromatic 1-6 valent alcohols and polyalkylene glycol (meth) acrylates (2) Aliphatic, alicyclic, aromatic 1-6 valent alcohols with alkylene (Meth) acrylates of compounds obtained by adding oxide (3) Poly (meth) acryloylalkyl phosphate esters (4) Reaction products of polybasic acid, polyol and (meth) acrylic acid (5) Reaction product of isocyanate, polyol, (meth) acrylic acid (6) Reaction product of epoxy compound and (meth) acrylic acid (7) Reaction product of epoxy compound, polyol, (meth) acrylic acid (8) Melamine and A reaction product of (meth) acrylic acid can be mentioned.

併用できる化合物の中で、硬化性モノマーや樹脂は、発泡体の強度や耐熱性といった物性の向上効果や発泡性の制御効果などが期待できる。また分解性化合物および併用化合物に硬化性モノマーを用いれば、無溶剤成形ができ、環境負荷の少ない製造方法を提供できる。例としては次のような材料を挙げることが出来る。
併用化合物の具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、イソボロニルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸ダイマー、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、アクリル酸−9,10−エポキシ化オレイル、マレイン酸エチレングリコールモノアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチレンアクリレート、4,4−ジメチル−1,3−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、3−メチル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸アクリレート、エタンジオールジアクリレート、エタンジオールジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、2−ブチル−2−エチルプロパンジオールジアクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性水添ビスフェノールAジアクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ポリオキシエチレンエピクロロヒドリン変性ビスフェノールAジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、エチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることが出来るが、これらに限られるものではない。
さらに、前記の併用活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物の一部または全部として、分子鎖末端に(メタ)アクリロイル基を有する分子量が400〜5000程度の活性エネルギー線硬化性樹脂を組み合わせることもできる。このような硬化性樹脂として、例えば、ポリウレタン変性ポリエーテルポリ(メタ)アクリレートやポリウレタン変性ポリエステルポリ(メタ)アクリレートなどのポリウレタンポリ(メタ)アクリレートポリマー類を用いることが好ましい。
Among the compounds that can be used in combination, curable monomers and resins can be expected to improve physical properties such as foam strength and heat resistance, and control foamability. Moreover, if a curable monomer is used for the decomposable compound and the combination compound, solvent-free molding can be performed, and a production method with less environmental load can be provided. Examples include the following materials.
Specific examples of the combined compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, dicyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, benzyl acrylate , Benzylmeta Relate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, phenoxy polypropylene glycol acrylate, ethylene oxide modified phenoxy acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, phthalic acid monohydroxyethyl acrylate, acrylic acid dimer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, acrylic acid-9,10-epoxidized oleyl, ethylene maleate Glycol monoacrylate, dicyclo Pentenyloxyethylene acrylate, acrylate of caprolactone adduct of 4,4-dimethyl-1,3-dioxolane, acrylate of caprolactone adduct of 3-methyl-5,5-dimethyl-1,3-dioxolane, polybutadiene acrylate, ethylene oxide modified Phenoxylated phosphate acrylate, ethanediol diacrylate, ethanediol dimethacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,3-propanediol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol di Methacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 1,9-nonanediol dimethacrylate, di Tylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 2-butyl-2-ethylpropanediol diacrylate, ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate, Polyethylene oxide modified bisphenol A diacrylate, polyethylene oxide modified hydrogenated bisphenol A diacrylate, propylene oxide modified bisphenol A diacrylate, polypropylene oxide modified bisphenol A diacrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid diacrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate 1,6-hexanediol diglycidyl ether acrylic acid adduct, polyoxyethylene epichlorohydrin modified bisphenol A diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, polyethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, Propylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, polypropylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid triacrylate, ethylene oxide modified glycerol triacrylate, polyethylene oxide modified glycerol triacrylate, propylene oxide modified glycerol triacrylate Polypropylene oxide modified glycerol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexaacrylate, polycaprolactone modified Although dipentaerythritol hexaacrylate etc. can be mentioned, it is not restricted to these.
Further, as part or all of the combined active energy ray-curable unsaturated organic compound, an active energy ray-curable resin having a (meth) acryloyl group at the molecular chain terminal and having a molecular weight of about 400 to 5000 can be combined. . As such a curable resin, for example, polyurethane poly (meth) acrylate polymers such as polyurethane-modified polyether poly (meth) acrylate and polyurethane-modified polyester poly (meth) acrylate are preferably used.

本発明に使用する発泡性組成物は、必要により、分解性化合物以外の添加物を含ませることができる。添加物としては、無機系または有機系化合物充填剤、並びに各種界面活性剤などの分散剤、多価イソシアネート化合物、エポキシ化合物、有機金属化合物などの反応性化合物および酸化防止剤、シリコーンオイルや加工助剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤、スリップ防止剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、光安定剤、滑剤、軟化剤、有色染料、その他の安定剤等が一種類以上を含ませてもよい。添加剤を用いることにより、成形性や発泡性などの向上が期待できる。   The foamable composition used for this invention can contain additives other than a decomposable compound as needed. Additives include inorganic or organic compound fillers, dispersants such as various surfactants, reactive compounds and antioxidants such as polyvalent isocyanate compounds, epoxy compounds and organometallic compounds, silicone oils and processing aids. Contains one or more types of agents, UV absorbers, optical brighteners, anti-slip agents, antistatic agents, anti-blocking agents, anti-fogging agents, light stabilizers, lubricants, softeners, colored dyes, and other stabilizers. You may not. By using an additive, improvement in moldability, foamability and the like can be expected.

無機系化合物充填剤の具体例としては、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、珪酸カルシウム、水酸化アルミニウム、クレー、タルク、シリカ等の顔料、ステアリン酸亜鉛のような金属石鹸、並びに各種界面活性剤などの分散剤、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、カオリン、珪酸白土、珪藻土、酸化亜鉛、酸化珪素、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、マイカ、アスベスト粉、ガラス粉、シラスバルーン、ゼオライトなどが遂げられる。有機系化合物充填剤としては、木粉、パルプ粉などのセルロース系粉末が挙げられる。   Specific examples of inorganic compound fillers include titanium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, calcium carbonate, barium sulfate, magnesium carbonate, calcium silicate, aluminum hydroxide, clay, talc, silica and other pigments, stearic acid Metal soap such as zinc, as well as dispersants such as various surfactants, calcium sulfate, magnesium sulfate, kaolin, silicate clay, diatomaceous earth, zinc oxide, silicon oxide, magnesium hydroxide, calcium oxide, magnesium oxide, alumina, mica, Asbestos powder, glass powder, shirasu balloon, zeolite, etc. are achieved. Examples of the organic compound filler include cellulose powders such as wood powder and pulp powder.

有機系化合物充填剤としては、例えば、木粉、パルプ粉などのセルロース系粉末、ポリマービーズなどが挙げられる。ポリマービーズとしては、例えばアクリル樹脂、スチレン樹脂又はセルロース誘導体、ポリビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレタン及びポリカーボネート、架橋用モノマーなどから製造されたものが使用できる。
これらの充填剤は、2種類以上混合したものであってもよい。これらの充填剤を添加する場合は、導光体としての特性を低下させないように好ましくは100nm以下の大きさまで微粒子化したものを添加することが好ましい。
Examples of the organic compound filler include cellulose powder such as wood powder and pulp powder, and polymer beads. As the polymer beads, for example, those produced from acrylic resin, styrene resin or cellulose derivative, polyvinyl resin, polyvinyl chloride, polyester, polyurethane and polycarbonate, monomers for crosslinking, and the like can be used.
These fillers may be a mixture of two or more. When these fillers are added, it is preferable to add those finely divided to a size of 100 nm or less so as not to deteriorate the properties of the light guide.

紫外線吸収剤の具体例としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤から選ばれる。サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレートなどが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
酸化防止剤の具体例としては、モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが挙げられる。
光安定剤としては、代表的なものにヒンダードアミン系化合物が挙げられる。
Specific examples of the ultraviolet absorber are selected from salicylic acid-based, benzophenone-based, or benzotriazole-based ultraviolet absorbers. Examples of salicylic acid-based ultraviolet absorbers include phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, and the like. Examples of the benzophenone ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone. Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-5′-t-butylphenyl) benzotriazole and the like.
Specific examples of the antioxidant include monophenol-based, bisphenol-based, polymer-type phenol-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and the like.
A typical example of the light stabilizer is a hindered amine compound.

軟化剤は、成形性または成形体の加工性を向上させる目的で使用でき、具体的には、エステル化合物類、アミド化合物類、側鎖を有する炭化水素重合体類、鉱油類、流動パラフィン類、ワックス類などが挙げられる。
エステル化合物としては、アルコールとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリエステルであれば特に制限はなく、ヒドロキシル基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、エステル基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリルステアレート、ソルビタントリステアレート、エポキシ大豆油、精製ひまし油、硬化ひまし油、脱水ひまし油、エポキシ大豆油、極度硬化油、トリメリット酸トリオクチル、エチレングリコールジオクタノエート、ペンタエリスリトールテトラオクタノエートなどが挙げられる。
アミド化合物としては、アミンとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリアミド化合物であれば特に制限はなく、アミノ基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、アミド基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、トリメチレンビスオクチル酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、トリオクタトリメリット酸アミド、ジステアリル尿素、ブチレンビスステアリン酸アミド、キシリレンビスステアリン酸アミド、ジステアリルアジピン酸アミド、ジステアリルフタル酸アミド、ジステアリルオクタデカ二酸アミド、イプシロンカプロラクタム、およびこれらの誘導体が挙げられる。
側鎖を有する炭化水素重合体としては、ポリα−オレフィン類で、炭素数4以上の側鎖を有する通常オリゴマーに分類されるものが好ましい。具体的には、エチレン−プロピレンの共重合体やそのマレイン酸誘導体、イソブチレンの重合体、ブタジエン、イソプレンのオリゴマーおよびその水添物、1−ヘキセンの重合物、ポリスチレンの重合物およびこれらから誘導される誘導体、ヒドロキシポリブタジエンやその水添物、末端ヒドロキシポリブタジエン水添物などが挙げられる。
本発明に使用する発泡性組成物は、一般的な混練機を用いて調製することができる。例えば、二本ロール、三本ロール、カウレスデゾルバー、ホモミキサー、サンドグラインダー、プラネタリーミキサー、ボールミル、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザーなどである。また超音波分散機などを使用することもできる。
また、本発明で用いられる発泡性組成物で形成される光導波路の光損失は、600nm〜1600nmの範囲内にある波長の光において3dB/cm以下となっていることが好ましい。3dB/cmより大きい場合、得られる導光体としては、光損失が大き過ぎて実用に耐えない場合がある。光損失の下限については特に限定されるものではなく、光損失が少なければ少ない程良い。
The softening agent can be used for the purpose of improving moldability or processability of the molded body. Specifically, ester compounds, amide compounds, hydrocarbon polymers having side chains, mineral oils, liquid paraffins, Examples thereof include waxes.
The ester compound is not particularly limited as long as it is a mono- or polyester having a structure comprising an alcohol and a carboxylic acid, and may be a compound in which the hydroxyl group and carbonyl group ends are left in the molecule, or a compound blocked in the form of an ester group. . Specifically, stearyl stearate, sorbitan tristearate, epoxy soybean oil, refined castor oil, hydrogenated castor oil, dehydrated castor oil, epoxy soybean oil, extremely hardened oil, trioctyl trimellitic acid, ethylene glycol dioctanoate, pentaerythritol tetra Examples include octanoate.
The amide compound is not particularly limited as long as it is a mono- or polyamide compound having a structure composed of an amine and a carboxylic acid, and may be a compound in which the amino group and carbonyl group ends are left in the molecule, or a compound blocked in the form of an amide group. Good. Specifically, stearic acid amide, behenic acid amide, hexamethylene bis stearic acid amide, trimethylene bisoctylic acid amide, hexamethylene bishydroxy stearic acid amide, triocta trimellitic acid amide, distearyl urea, butylene bis stearic acid Amides, xylylene bis stearic acid amides, distearyl adipic acid amides, distearyl phthalic acid amides, distearyl octadecadioic acid amides, epsilon caprolactam, and derivatives thereof.
The hydrocarbon polymer having a side chain is preferably a poly α-olefin and classified into a normal oligomer having a side chain having 4 or more carbon atoms. Specifically, ethylene-propylene copolymer and its maleic acid derivative, isobutylene polymer, butadiene, isoprene oligomer and hydrogenated product thereof, 1-hexene polymer, polystyrene polymer and the like are derived from these. Derivatives thereof, hydroxypolybutadiene and hydrogenated products thereof, and terminal hydroxypolybutadiene hydrogenated products.
The foamable composition used in the present invention can be prepared using a general kneader. For example, two rolls, three rolls, cowless resolver, homomixer, sand grinder, planetary mixer, ball mill, kneader, high speed mixer, homogenizer, and the like. An ultrasonic disperser or the like can also be used.
Further, the optical loss of the optical waveguide formed from the foamable composition used in the present invention is preferably 3 dB / cm or less for light having a wavelength in the range of 600 nm to 1600 nm. If it is greater than 3 dB / cm, the resulting light guide may have a large optical loss and may not be practical. The lower limit of optical loss is not particularly limited, and the lower the optical loss, the better.

<導光体の製造工程>
本発明の導光体の製造工程は、発泡性組成物に活性エネルギー線を照射する工程と、発泡性組成物から低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させる工程とを含む。低沸点揮発物質が分解脱離して発泡する際に圧力を制御することにより、クラッド部の発泡構造制御及び形状制御を容易にすることが可能になる。
所望の厚さ、形状及び発泡構造を有する微細気泡発泡体を安定的に得るために、本発明の製造方法では成形工程を含めることができる。成形工程は予備成形工程と発泡体成形工程に分類できる。予備成形工程とは、活性エネルギー線を照射する工程の前後に設けた成形工程、および照射中に成形する工程で、発泡前の樹脂である発泡性組成物を成形する工程である。発泡体成形工程とは、低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域で必要に応じて圧力制御して発泡させながら成形する工程、および発泡工程後に発泡体を成形する工程である。
<Light guide manufacturing process>
The light guide manufacturing process of the present invention includes a step of irradiating the foamable composition with active energy rays, and a step of foaming by controlling the pressure in a temperature region where the low boiling point volatile substance is decomposed and desorbed from the foamable composition. Including. By controlling the pressure when the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs and foams, it becomes possible to easily control the foam structure and shape of the clad.
In order to stably obtain a fine cell foam having a desired thickness, shape and foam structure, the production method of the present invention can include a molding step. The molding process can be classified into a preforming process and a foam molding process. A preforming process is a process of shape | molding the foamable composition which is resin before foaming by the formation process provided before and after the process of irradiating an active energy ray, and the process shape | molded during irradiation. The foam molding step is a step of molding while foaming by controlling pressure as necessary in a temperature range where the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs, and a step of molding the foam after the foaming step.

まず、発泡性組成物に活性エネルギー線を照射する工程について説明する。本発明で使用する活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、可視光線、γ線等の電離性放射線などが挙げられる。これらの中では電子線および紫外線を用いることが好ましい。
電子線照射を用いる場合は、発泡性組成物の厚さに応じて加速電圧を20〜1000kVで調整すると良く、より好ましくは30〜300kVの条件で、カーテン型電子線照射装置、あるいは電子線描画装置を用いることが好ましい。加速電圧が上記範囲より低いと、電子線の透過力が不十分になり、成形体の内部まで十分に透過することができず、またこの範囲より大きすぎると、エネルギー効率が悪化するばかりでなく、得られた成形体の強度が不十分になり、それに含まれる樹脂及び添加剤の分解を生じ、得られる発泡体の品質が不満足なものになることがある。電子線照射に際しては照射雰囲気の酸素濃度が高いと、酸もしくは塩基の発生、および/または硬化性分解性化合物の硬化が妨げられることがあり、このため照射雰囲気の空気を、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスにより置換することが好ましい。照射雰囲気の酸素濃度は1000ppm以下であることが好ましく、さらに安定的な電子線エネルギーを得るため、500ppm以下に抑制されることがより好ましい。
First, the process of irradiating an active energy ray to a foamable composition is demonstrated. Examples of active energy rays used in the present invention include ionizing radiation such as electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and γ rays. In these, it is preferable to use an electron beam and an ultraviolet-ray.
When electron beam irradiation is used, the acceleration voltage may be adjusted to 20 to 100 kV according to the thickness of the foamable composition, and more preferably a curtain type electron beam irradiation apparatus or electron beam drawing under the condition of 30 to 300 kV. It is preferable to use an apparatus. If the accelerating voltage is lower than the above range, the transmission power of the electron beam becomes insufficient, and the inside of the molded body cannot be sufficiently transmitted. If it is larger than this range, the energy efficiency is not only deteriorated. In some cases, the strength of the obtained molded article becomes insufficient, the resin and additives contained therein are decomposed, and the quality of the obtained foam is unsatisfactory. When the oxygen concentration in the irradiation atmosphere is high during electron beam irradiation, generation of acid or base and / or curing of the curable decomposable compound may be hindered. Substitution with an inert gas such as carbon is preferred. The oxygen concentration in the irradiation atmosphere is preferably 1000 ppm or less, and more preferably 500 ppm or less in order to obtain more stable electron beam energy.

紫外線照射の場合は、半導体・フォトレジスト分野や紫外線硬化分野などで一般的に使用されている紫外線ランプを用いることができる。一般的な紫外線ランプとしては、例えば、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーターランプ、キセノンショートアークランプ、キセノンフラッシュランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、ディープUVランプ、メタルハライドランプ、希ガス蛍光ランプ、クリプトンアークランプ、エキシマランプなどがあり、近年では、極短波長(214nmにピーク)を発光するY線ランプもある。これらのランプには、オゾン発生の少ないオゾンレスタイプもある。これらの紫外線は、散乱光であっても、直進性の高い平行光であってもよい。部分発泡を精度よく形成するためには、平行光が好ましい。また、紫外線照射には、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーや、非線形光学結晶を含む高調波ユニットを介したYAGレーザーなどに挙げられる種々のレーザーや、紫外発光ダイオードを用いることもできる。紫外線ランプやレーザー、紫外発光ダイオードの発光波長は、発泡性組成物の発泡性を妨げないものであれば限定はないが、好ましくは、光酸発生剤または光塩基発生剤が酸または塩基を効率よく発生させられる発光波長がよい。すなわち、使用する光酸発生剤または光塩基発生剤の感光波長領域と重なる発光波長が好ましい。さらには、それら発生剤の感光波長領域における極大吸収波長または最大吸収波長と重なる発光波長がより好ましく、発生効率が高くなりやすい。紫外線のエネルギー照射強度は、発泡性組成物によって適宜決められる。種々の水銀ランプやメタルハライドランプなどに代表される照射強度が高い紫外線ランプを使用する場合は、生産性を高めることができ、その照射強度(ランプ出力)はロングアークランプのときは30W/cm以上が好ましい。紫外線の積算照射光量(J/cm2)は、エネルギー照射強度に照射時間を積算したものであり、発泡性組成物および所望の気泡分布によって適宜決められる。酸発生剤や塩基発生剤の吸光係数に応じて設定することもある。安定かつ連続的に製造する上では、1.0mJ/cm2〜20J/cm2の範囲が好ましい。紫外線ランプを使用する場合は、照射強度が高いため、照射時間を短縮することができる。エキシマランプやエキシマレーザーを使用する場合は、その照射強度は弱いが、ほぼ単一光に近いため、発光波長が発生剤の感光波長に最適化したものであれば、より高い発生効率および発泡性が可能となる。照射光量を多くした場合、紫外線ランプによっては熱の発生が発泡性を妨げる場合がある。そのときは、コールドミラーなどの冷却処置を行なうことができる。 In the case of ultraviolet irradiation, an ultraviolet lamp generally used in the semiconductor / photoresist field or the ultraviolet curing field can be used. Typical UV lamps include, for example, halogen lamps, halogen heater lamps, xenon short arc lamps, xenon flash lamps, ultra high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, medium pressure mercury lamps, deep UV lamps, metal halide lamps. There are noble gas fluorescent lamps, krypton arc lamps, excimer lamps, etc., and in recent years, there are also Y-ray lamps that emit an extremely short wavelength (peak at 214 nm). Some of these lamps are ozone-less types that generate less ozone. These ultraviolet rays may be scattered light or parallel light with high straightness. In order to form partial foaming accurately, parallel light is preferable. For ultraviolet irradiation, various lasers such as ArF excimer laser, KrF excimer laser, YAG laser via a harmonic unit including a nonlinear optical crystal, and ultraviolet light emitting diodes may be used. The emission wavelength of the ultraviolet lamp, laser, or ultraviolet light emitting diode is not limited as long as it does not interfere with the foaming property of the foamable composition. Preferably, the photoacid generator or the photobase generator is efficient in acid or base efficiency. The emission wavelength that is often generated is good. That is, an emission wavelength that overlaps with the photosensitive wavelength region of the photoacid generator or photobase generator to be used is preferable. Furthermore, the light emission wavelength which overlaps the maximum absorption wavelength or the maximum absorption wavelength in the photosensitive wavelength region of these generators is more preferable, and the generation efficiency tends to increase. The energy irradiation intensity of ultraviolet rays is appropriately determined depending on the foamable composition. When using UV lamps with high irradiation intensity, such as various mercury lamps and metal halide lamps, productivity can be improved, and the irradiation intensity (lamp output) is 30 W / cm or more for long arc lamps. Is preferred. The integrated irradiation light quantity (J / cm 2 ) of ultraviolet rays is obtained by adding the irradiation time to the energy irradiation intensity, and is appropriately determined depending on the foamable composition and the desired bubble distribution. It may be set according to the extinction coefficient of the acid generator or base generator. For stable and continuous production, a range of 1.0 mJ / cm 2 to 20 J / cm 2 is preferable. When using an ultraviolet lamp, the irradiation time can be shortened because the irradiation intensity is high. When an excimer lamp or excimer laser is used, the irradiation intensity is weak, but it is close to a single light, so if the emission wavelength is optimized for the photosensitive wavelength of the generator, higher generation efficiency and foamability Is possible. When the amount of irradiation light is increased, heat generation may interfere with foaming properties depending on the ultraviolet lamp. At that time, a cooling treatment such as a cold mirror can be performed.

本発明の導光体の製造方法では、パターン化されたクラッド部を発泡体の形で得るために、照射工程において活性エネルギーの強度分布が生じるようにフォトマスクを使用して活性エネルギー線を照射することができる。描画パターンが含まれるフォトマスクを使用した場合は、その描画パターンを転写した活性エネルギー線の強度分布を得ることができる。フォトマスクの描画パターンとしては、光導波路部分のコア部をマスクで遮蔽し、クラッド部に活性エネルギー線が当たるようにパターンを作成し、クラッド部の発泡倍率を調整する手段としてエネルギー透過性が階調になっているものなど様々なものを用途によって適宜設計できる。コア部は未発泡部であり、光導波路の光の通路となる。   In the light guide manufacturing method of the present invention, in order to obtain a patterned clad portion in the form of a foam, irradiation with active energy rays is performed using a photomask so that an intensity distribution of active energy is generated in the irradiation process. can do. When a photomask including a drawing pattern is used, an intensity distribution of active energy rays to which the drawing pattern is transferred can be obtained. As a photomask drawing pattern, the core part of the optical waveguide part is shielded with a mask, a pattern is created so that the active energy ray hits the clad part, and the energy transmission is adjusted as a means of adjusting the expansion ratio of the clad part. Various things such as the ones that are tones can be designed as appropriate according to the application. The core part is an unfoamed part and serves as a light path of the optical waveguide.

フォトマスクには、クロムマスクやメタルマスク、銀塩ガラスマスク、銀塩フィルム、スクリーンマスク、ガラスをイオンエッチングしたマスク、及び集光機能を有する平面レンズの干渉縞を電子線描画したマスクなどが利用できる。フォトマスク基材上に、インクジェットプリンターや紫外線硬化インクを用いた印刷機などで描画パターンを印刷したものをマスクとして利用することもできる。印刷は基材の片面でも両面でも構わない。また、描画パターンの印刷精度を高めるために、印刷する基材表面側を改質処理することが好ましい。改質処理の具体例としては、印刷するインクの吸収性を高める機能層を基材表面に塗工法や接着法などで設けることが挙げられる。ただし、この機能層はフォトマスクの光学的な基本的性能を大きく損なわないようにしなければならない。   Photomasks include chrome masks, metal masks, silver salt glass masks, silver salt films, screen masks, glass ion-etched masks, and masks with electron beam-drawing interference fringes on planar lenses that have a condensing function. it can. A mask obtained by printing a drawing pattern on a photomask substrate with a printer using an ink jet printer or an ultraviolet curable ink can also be used as a mask. Printing may be performed on one side or both sides of the substrate. In order to increase the printing accuracy of the drawing pattern, it is preferable to modify the surface of the substrate to be printed. As a specific example of the modification treatment, a functional layer that enhances the absorbability of the ink to be printed is provided on the surface of the substrate by a coating method or an adhesion method. However, this functional layer must not significantly impair the basic optical performance of the photomask.

さらに、使用するインクは活性エネルギー線を吸収あるいは散乱、反射する材質が好ましく、一方、フォトマスク基材には活性エネルギー線を透過する材質であることが好ましい。波長300nm以下の紫外線を照射する場合は、フォトマスクの基材は石英ガラスを使用することが好ましい。本発明で得られた気泡分布を有する発泡体をフォトマスクとして利用しても構わない。フォトマスクを使用した照射方法は、密着照射、投影照射など方式が採用できる。フォトマスクのパターンを精度良く転写させるためには、照射する光が均一平行光であることが好ましい。平行光を照射するための露光システムとしては、例えば、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系、フレネルレンズを利用した光学系、ハニカムボードと拡散板を利用した光学系などが挙げられる。高い均一性を得るには、インテグレーターと放物鏡を利用した光学系が一般的に好ましく、この光学系に用いる光源としては、ショートアークランプが好ましい。ショートアークランプには、メタルハライドランプや超高圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、ナトリウムランプ、Y線ランプが挙げられる。また、干渉縞を発生させた放射線を照射する方法も可能である。   Further, the ink to be used is preferably a material that absorbs, scatters, or reflects active energy rays, while the photomask base material is preferably a material that transmits active energy rays. When irradiating ultraviolet rays with a wavelength of 300 nm or less, it is preferable to use quartz glass as the base material of the photomask. You may utilize the foam which has the bubble distribution obtained by this invention as a photomask. As an irradiation method using a photomask, methods such as contact irradiation and projection irradiation can be adopted. In order to transfer the pattern of the photomask with high accuracy, it is preferable that the irradiated light is uniform parallel light. Examples of the exposure system for irradiating parallel light include an optical system using an integrator and a parabolic mirror, an optical system using a Fresnel lens, and an optical system using a honeycomb board and a diffusion plate. In order to obtain high uniformity, an optical system using an integrator and a parabolic mirror is generally preferable, and a short arc lamp is preferable as a light source used in this optical system. Examples of the short arc lamp include a metal halide lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a mercury xenon lamp, a sodium lamp, and a Y-ray lamp. Further, a method of irradiating radiation that generates interference fringes is also possible.

次に、発泡工程では発泡性組成物にかかる温度が高いほど、低沸点揮発物質が分解脱離する反応速度が高いので気泡が微細化しやすくなる。ところが発泡後の発泡体樹脂のガラス転移温度が低いとき、発泡工程の後に高温状態のまま圧力を開放すると、気泡が成長及び合一して気泡径が一気に大きくなり微細気泡を維持できない場合や、発泡による変形倍率が大きくなるため所望の形状の発泡体を得られなくなる場合がある。このような場合、圧力制御発泡工程の後に圧力を制御しながら冷却する工程を含めることがより好ましい。冷却方法としてはプレス機の加圧加熱部位及び成形型に、冷却水を流せる構造を作り水冷によって冷却する方法及びペルチェ素子を用いて電気的に強制冷却する方法などがあげられる。   Next, in the foaming step, the higher the temperature applied to the foamable composition, the higher the reaction rate at which the low-boiling volatile substances decompose and desorb, so the bubbles are more likely to be refined. However, when the glass transition temperature of the foam resin after foaming is low, when the pressure is released in a high temperature state after the foaming step, the bubbles grow and coalesce and the bubble diameter increases at a stretch and the fine bubbles cannot be maintained. Since the deformation ratio due to foaming becomes large, a foam having a desired shape may not be obtained. In such a case, it is more preferable to include a step of cooling while controlling the pressure after the pressure control foaming step. Examples of the cooling method include a method in which a structure capable of flowing cooling water is formed in the pressurization heating part and the mold of the press machine and the method is cooled by water cooling and the method of electrically forced cooling using a Peltier element.

本発明の導光体の製造方法における工程はこれらに限定されるものではなく、これら以外にもさまざまな工程を適宜の所望の部分で付加できる。例えば延伸工程、洗浄工程、乾燥工程及び緩和工程などの工程を適宜導入してもかまわない。本発明の製造方法はこれらの工程の組合せにより成り、各工程を不連続若しくは連続に組み合わせたり、又は少なくとも二つ以上の工程を同時工程とすることもできる。バッチ法でも連続法どちらの方法となってもかまわない。さらに本発明の導光体の製造方法において、活性エネルギーの強度分布、熱エネルギーの強度分布、発泡性組成物の濃度分布などをつけることができるので,クラッド部に形成した発泡部位の気泡径や気泡密度に係る気泡分布の制御が任意可変となり、気泡分布を有する導光体を得ることもできる。以下に各工程の具体例について説明するが、本発明を限定するものではない。   The steps in the method of manufacturing the light guide according to the present invention are not limited to these, and various steps other than these can be added at appropriate desired portions. For example, processes such as a stretching process, a cleaning process, a drying process, and a relaxation process may be appropriately introduced. The production method of the present invention comprises a combination of these steps, and the steps can be combined discontinuously or continuously, or at least two steps can be simultaneous steps. Either the batch method or the continuous method may be used. Further, in the light guide manufacturing method of the present invention, since the active energy intensity distribution, the thermal energy intensity distribution, the concentration distribution of the foamable composition, and the like can be attached, the bubble diameter of the foamed part formed in the clad portion and Control of the bubble distribution related to the bubble density is arbitrarily variable, and a light guide having a bubble distribution can also be obtained. Although the specific example of each process is demonstrated below, this invention is not limited.

はじめに、発泡性組成物から低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させる工程について説明する。圧力制御法の例としては、図1のように2枚の板を用いて対向する面からのみ加圧して圧力制御する一部対向面圧力制御方法、図2のように型を用いて全面から加圧して圧力制御する全面圧力制御方法などがあげられる。また、図1及び図2のようにギャップ制御機能を持たないで押込力に応じて圧力を可変できるタイプ、図3及び図4などのようにギャップ制御機能を有しているタイプなどがある。全面圧力制御法の場合、閉じた型内に気体、液体、溶融体などの流体を注入して圧力制御する方法、発泡性組成物の発泡による発泡体自己膨張力及び発生ガス圧力により圧力制御する方法、型や型内容物の熱膨張力により圧力制御する方法などがあげられる。
低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域にするためには、加熱器を用いて加熱したり、または前工程で熱がかかる場合、その余熱を利用したりすることができる。発泡性組成物から低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域とは、低沸点揮発性物質が分解脱離する最低温度より高く、さらに低沸点揮発性物質が分解脱離した後の樹脂(すなわち発泡体樹脂)の分解温度若しくは強度などの諸物性を損なわない温度より低い範囲の温度領域をいう。この温度領域は発泡性組成物の種類により変化する。例えば、アクリル系発泡性組成物の場合は分解脱離最低温度は約75〜85℃、発泡体樹脂の分解温度は約180〜200℃であり、スチレン系発泡性組成物の場合は分解脱離最低温度は約65〜80℃、発泡体樹脂の分解温度は約160〜180℃である。発泡時の温度は高い方が低沸点揮発性物質の分解脱離速度が大きくなり過飽和度が上りやすく気泡微細化には一見好ましく思える。しかし、高温になるほど樹脂粘度が低下して気泡が成長及び合一して巨大化しやすくなる。しがたって発泡に適した温度領域が存在する。その領域は発泡性組成物の種類によって異なるが、65〜200℃、好ましくは90〜180℃、さらに好ましくは100〜160℃である。
First, the step of foaming by controlling the pressure in a temperature range where the low boiling point volatile substance is decomposed and desorbed from the foamable composition will be described. Examples of pressure control methods include a partly facing surface pressure control method in which pressure is controlled by applying pressure only from the facing surfaces using two plates as shown in FIG. 1, and from the entire surface using a mold as shown in FIG. For example, an overall pressure control method in which pressure is controlled by pressurization. Further, there are a type in which the pressure can be varied according to the pushing force without having a gap control function as shown in FIGS. 1 and 2, and a type having a gap control function as in FIGS. In the case of the entire surface pressure control method, pressure control is performed by injecting a fluid such as gas, liquid, or melt into a closed mold, and pressure control is performed by the foam self-expanding force by foaming of the foamable composition and the generated gas pressure. And a method of controlling the pressure by the thermal expansion force of the mold and the mold contents.
In order to obtain a temperature region in which the low boiling point volatile substance is decomposed and desorbed, it is possible to use a heater or to use the remaining heat when heat is applied in the previous step. The temperature range where the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs from the foamable composition is higher than the minimum temperature at which the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs. That is, it refers to a temperature range in a range lower than the temperature at which various physical properties such as the decomposition temperature or strength of the foam resin are not impaired. This temperature range varies depending on the type of foamable composition. For example, in the case of an acrylic foamable composition, the minimum decomposition and desorption temperature is about 75 to 85 ° C, and the decomposition temperature of the foam resin is about 180 to 200 ° C. The minimum temperature is about 65 to 80 ° C, and the decomposition temperature of the foam resin is about 160 to 180 ° C. The higher the temperature during foaming, the higher the decomposition and desorption rate of the low boiling point volatile substances, and the higher the degree of supersaturation. However, the higher the temperature, the lower the resin viscosity, and bubbles tend to grow and coalesce and become larger. Therefore, there exists a temperature range suitable for foaming. The region varies depending on the type of the foamable composition, but is 65 to 200 ° C, preferably 90 to 180 ° C, and more preferably 100 to 160 ° C.

加熱器としては特に制限はないが、誘導加熱、抵抗加熱、誘電加熱(およびマイクロ波加熱)、赤外線加熱により加熱ができるもの等が例示できる。放射熱を利用した電気あるいはガス式の赤外線ドライヤーや、電磁誘導を利用したロールヒーター、油媒を利用したオイルヒーター、電熱ヒーター、およびこれらの熱風を利用した熱風ドライヤーなどが挙げられる。誘電加熱や赤外線加熱の場合,材料内部を直接加熱する内部加熱方式なので,熱風ドライヤーなどの外部加熱法よりも瞬時に均一な加熱を行うことができるが、圧力制御に用いる板や型の材質を適宜選択する必要がある。誘電加熱の場合,周波数1MHzから300MHz(波長30m〜1m)の高周波エネルギーを用いる。6MHz〜40MHzの周波数が用いられることが多い。誘電加熱のうち特にマイクロ波加熱では周波数が300MHzから300GHz(波長が1m〜1mm)のマイクロ波をもちいるが、2450MHz、915MHz(電子レンジと同じ)を使うことが多い。赤外線加熱の場合,赤外領域の波長0.76〜1000μmの電磁波を利用する。ヒータ表面温度および被加熱材料の赤外吸収スペクトルなどから、状況により選択される波長の最適帯は変化するが、好ましくは1.5〜25μm、さらに好ましくは2〜15μmの波長帯を用いることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular as a heater, What can be heated by induction heating, resistance heating, dielectric heating (and microwave heating), infrared heating, etc. can be illustrated. Examples include an electric or gas infrared dryer using radiant heat, a roll heater using electromagnetic induction, an oil heater using an oil medium, an electric heater, and a hot air dryer using these hot airs. In the case of dielectric heating and infrared heating, the internal heating method directly heats the inside of the material, so it can be heated more uniformly and instantaneously than external heating methods such as hot air dryers, but the material of the plate or mold used for pressure control can be changed. It is necessary to select appropriately. In the case of dielectric heating, high frequency energy with a frequency of 1 MHz to 300 MHz (wavelength 30 m to 1 m) is used. A frequency of 6 MHz to 40 MHz is often used. Among dielectric heating, especially microwave heating uses microwaves with a frequency of 300 MHz to 300 GHz (wavelength 1 m to 1 mm), but 2450 MHz and 915 MHz (same as microwave ovens) are often used. In the case of infrared heating, an electromagnetic wave having a wavelength in the infrared region of 0.76 to 1000 μm is used. Although the optimum band of the wavelength selected varies depending on the situation from the heater surface temperature and the infrared absorption spectrum of the material to be heated, a wavelength band of preferably 1.5 to 25 μm, more preferably 2 to 15 μm can be used.

本発明の製造方法では、気泡分布を任意に変化させた発泡体部位を得るために、熱エネルギーの強度分布が生じるように加熱処理を施すこともできる。熱エネルギーの強度分布は、加熱温度により調整することが好ましい。熱エネルギーの強度分布を作り出す方法としては、対向する面で温度差を設けておく方法、一般の熱記録用プリンターに使用されている加熱方式を応用した方法、すなわち感熱プリンターに用いられるプリントヘッドのような電流を流すことで発熱する微細な発熱体を多数並べた加熱体により加熱部位を制御する方式、レーザープリンターに用いられるレーザー加熱ヘッドのようなレーザー照射により加熱部位を制御する方式などがあげられる。   In the production method of the present invention, in order to obtain a foam part in which the bubble distribution is arbitrarily changed, heat treatment can be performed so as to produce a thermal energy intensity distribution. The intensity distribution of thermal energy is preferably adjusted by the heating temperature. As a method of creating a thermal energy intensity distribution, a method of providing a temperature difference on the opposite surface, a method of applying a heating method used in a general thermal recording printer, that is, a print head used in a thermal printer. The heating part is controlled by a heating element in which a large number of fine heating elements that generate heat when such current is passed, and the heating part is controlled by laser irradiation such as a laser heating head used in a laser printer. It is done.

本発明の導光体の製造方法に含まれる成形工程(予備成形工程、発泡成形工程)について説明する。成形工程で用いられる成形方法としては、成形したい形状に応じて、塗工成形、押出成形、射出成形、キャスト成形、プレス成形など選択することができる。成形工程で得られる樹脂形状はとくに限定されず、発泡体の使用目的によって適宜決められる。シート状物(フィルム状を含む)、ファイバー状物、ロッド状物、それ以外の所望の形状を有した物などが挙げられる。シート状物においては、単独のシート状物であっても支持体上に密着したシート層であってもよいし、複数の樹脂の積層構造物であってもよい。   The molding process (preliminary molding process, foam molding process) included in the method of manufacturing the light guide according to the present invention will be described. As a molding method used in the molding process, coating molding, extrusion molding, injection molding, cast molding, press molding, or the like can be selected according to the shape to be molded. The resin shape obtained in the molding step is not particularly limited, and can be appropriately determined depending on the purpose of use of the foam. Examples include sheet-like materials (including film-like materials), fiber-like materials, rod-like materials, and materials having other desired shapes. The sheet-like material may be a single sheet-like material or a sheet layer in close contact with the support, or may be a laminated structure of a plurality of resins.

塗工成形の例としては、支持体に塗工ヘッドを用いて発泡性組成物を塗工した後、発泡性組成物が溶剤等で希釈された溶液ならば、乾燥器にて溶剤分を除去し、支持体上に発泡性組成物からなるシート層を得る方法などが挙げられる。このとき、支持体からシート層を剥離することで、発泡性組成物からなる単独のシート状物を得ることもできる。塗工方法には、バーコート法、エアードクターコート法、ブレードコート法、スクイズコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、グラビアコート法、トランスファーコート法、コンマコート法、スムージングコート法、マイクログラビアコート法、リバースロールコート法、マルチロールコート法、ディップコート法、ロッドコート法、キスコート法、ゲートロールコート法、落下カーテンコート法、スライドコート法、ファウンテンコート法、およびスリットダイコート法などがあげられる。支持体としては、紙、合成紙、プラスチック樹脂シート、金属シート、金属蒸着シート等が挙げられ、これらは単独で用いられてもよく、或は、互いに積層されていてもよい。プラスチック樹脂シートは、例えば、ポリスチレン樹脂シート、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂シート、並びにポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂シート等の汎用プラスチックシートやポリイミド樹脂シート、ABS樹脂シート、ポリカーボネート樹脂シート等のエンジニアリングプラスチックシートなどが挙げられ、また金属シートを構成する金属としては、アルミニウムおよび銅などが挙げられる。金属蒸着シートとしては、アルミ蒸着シート・金蒸着シート・銀蒸着シートなどが挙げられる。   As an example of coating molding, after applying a foamable composition to a support using a coating head, if the foamable composition is diluted with a solvent, remove the solvent with a dryer. And a method of obtaining a sheet layer made of a foamable composition on a support. At this time, the sheet | seat layer which consists of a foamable composition can also be obtained by peeling a sheet | seat layer from a support body. Coating methods include bar coating, air doctor coating, blade coating, squeeze coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, transfer coating, comma coating, smoothing coating, and micro gravure. Examples include coating method, reverse roll coating method, multi-roll coating method, dip coating method, rod coating method, kiss coating method, gate roll coating method, falling curtain coating method, slide coating method, fountain coating method, and slit die coating method. . Examples of the support include paper, synthetic paper, plastic resin sheet, metal sheet, metal vapor deposition sheet, and the like, and these may be used alone or may be laminated with each other. The plastic resin sheet is, for example, a general-purpose plastic sheet such as a polystyrene resin sheet, a polyolefin resin sheet such as polyethylene or polypropylene, and a polyester resin sheet such as polyethylene terephthalate, an engineering resin such as a polyimide resin sheet, an ABS resin sheet, or a polycarbonate resin sheet. A plastic sheet etc. are mentioned, Moreover, aluminum, copper, etc. are mentioned as a metal which comprises a metal sheet. Examples of the metal deposition sheet include an aluminum deposition sheet, a gold deposition sheet, and a silver deposition sheet.

押出成形法としては、スクリュー状の押出軸を用いた一般の押出成形法、ピストン状押出軸を用いたラム押出成形法などがあげられる。
射出成形法の例としては、通常の射出成形方法に加えて、真空充填成形法、射出圧縮成形法、高速真空充填成形法、ガス吸収溶融成形法、型温冷熱サイクル成形法、低圧低速充填成形法、射出プレス成形法、スタックモールド成形法等があげられる。最近の動向である薄肉成形および微細形状の高転写率成形に向けた方法として、断熱金型成形法、射出速度が1000〜2000mm/sec.という超高速射出成形法、二酸化炭素や窒素などの不活性ガスを超臨界状態で溶融樹脂に溶解させて発泡させずに成形する超臨界流体を利用した射出成形法なども挙げられる。
キャスト成形の例としては、活性エネルギー線硬化型モノマーを含む液状発泡性組成物をプリズムシート状の型にキャストし、活性エネルギー線を照射して硬化して脱型することで、プリズムシート状成形物を得る方法などが挙げられる。活性エネルギー線の光源および波長等の照射条件を適宜選択することにより、樹脂硬化と酸及び塩基発生剤からの酸及び塩基発生を同時に起こすことも可能である。
Examples of the extrusion molding method include a general extrusion molding method using a screw-like extrusion shaft, and a ram extrusion molding method using a piston-like extrusion shaft.
Examples of injection molding methods include, in addition to the normal injection molding method, vacuum filling molding method, injection compression molding method, high-speed vacuum filling molding method, gas absorption melt molding method, mold thermal cooling / heating cycle molding method, low-pressure low-speed filling molding method. Method, injection press molding method, stack mold molding method and the like. The methods for thin-wall molding and high-transfer rate molding of fine shapes, which are the latest trends, are the heat-insulating mold molding method, the ultra-high-speed injection molding method with an injection speed of 1000 to 2000 mm / sec. Examples include an injection molding method using a supercritical fluid in which an active gas is dissolved in a molten resin in a supercritical state and molded without foaming.
As an example of cast molding, a liquid foamable composition containing an active energy ray-curable monomer is cast into a prism sheet-shaped mold, cured by irradiating with active energy rays, and demolded to form a prism sheet shape The method of obtaining a thing etc. are mentioned. By appropriately selecting the irradiation conditions such as the light source and wavelength of the active energy ray, it is possible to simultaneously cause resin curing and acid and base generation from the acid and base generator.

本発明の導光体の製造においては、予備成形工程で、原料である発泡性組成物を積層前の平面状発光装置(導光体)の最終形状もしくはそれに近い形状に直接成形する方法を用いることもできるし、シート状、ロッド状、ペレット状、粉体状など比較的単純な形状に仮成形してから発泡体の最終形状もしくはそれに近い形状に多段階で成形する方法を用いることもできる。どちらの方法でも、前述した成形方法を適宜使うことができる。   In the production of the light guide of the present invention, a method of directly forming the foamable composition as a raw material into the final shape of the planar light emitting device (light guide) before lamination or a shape close thereto is used in the preforming step. It is also possible to use a method of forming in a multi-stage from a temporary shape into a relatively simple shape such as a sheet shape, a rod shape, a pellet shape, and a powder shape, and then forming the final shape of the foam or a shape close thereto. . In either method, the molding method described above can be used as appropriate.

次に、発泡成形工程について、「2枚以上のシートを積層したシート状または板状の導光体であって、隣り合う層のコア部同士が繋がることにより、光導波路が2層以上のシートに跨って形成されている」場合を例に説明する。
この場合の導光体の発泡成形工程としては、(1)活性エネルギー線を用いてパターンに従って照射したものを積層して、低沸点揮発性物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させながら成形する工程、および、(2)クラッド部の発泡工程後に積層して導光体を成形する工程が挙げられる。
いずれの場合も、1つの層のコア部(未発泡部)と隣り合う層のコア部が繋がり、2層以上の層に跨ってコア部が形成され、その中を光が通るように設計しておく必要がある。そして、一番下の層は光を反射する層とし、一番上の層は、外部に向かって光が進むようなコア部を構成している。上記最下層の下に基板層があっても良いし、上記最上層の上に透明層あるいは光拡散層があっても良い。
ここにおいて、各層の高分子物質は同一であっても良いし、異なっていても良いが、接合性、生産効率の観点からは、導波路を形成する各層が同一材料あることが好ましい。
Next, regarding the foam molding process, “a sheet-shaped or plate-shaped light guide in which two or more sheets are laminated, and the core portions of adjacent layers are connected to each other, so that the optical waveguide has two or more layers. A case where it is formed over “is formed” will be described as an example.
In this case, the foaming process of the light guide is as follows: (1) A layer irradiated with an active energy ray in accordance with a pattern and foamed by controlling the pressure in a temperature range where the low-boiling volatile substances decompose and desorb. And a step of forming the light guide by laminating after the foaming step of the clad part.
In either case, the core part of one layer (unfoamed part) and the core part of the adjacent layer are connected, the core part is formed across two or more layers, and the light passes through it. It is necessary to keep. The lowermost layer is a layer that reflects light, and the uppermost layer constitutes a core that allows light to travel outward. There may be a substrate layer under the lowermost layer, and a transparent layer or a light diffusion layer may be formed on the uppermost layer.
Here, the polymer substances in each layer may be the same or different, but it is preferable that the layers forming the waveguide are made of the same material from the viewpoint of bonding properties and production efficiency.

<導光体の構造>
本発明により製造された導光体に内在するコア部とクラッド部を含めた導波路の入光部分の断面形状は、導波路の長さを縦長さ、これに垂直な方向の導波路の長さを横長さとするとき、(横長さ)÷(縦長さ)をアスペクト比とした。該アスペクト比は0.1〜10である。アスペクト比がこの範囲から外れると、光源から導光体への入光損失が大きくなり、効率が低下する。また、光導波路のコア部の厚み方向の長さである縦長さおよびこれに垂直な方向の横長さはそれぞれ1μm以上100μm以下である。コア部の最小曲率半径は気泡の含有量によって変化するが、クラッド部の体積空隙率が33%の場合は80μm程度まで小さくすることが出来る。
<Structure of light guide>
The cross-sectional shape of the light incident portion of the waveguide including the core portion and the cladding portion inherent in the light guide manufactured according to the present invention is the length of the waveguide in the vertical direction and the length of the waveguide in the direction perpendicular thereto. When the height is the horizontal length, the aspect ratio is (horizontal length) ÷ (vertical length). The aspect ratio is 0.1-10. When the aspect ratio is out of this range, the light incident loss from the light source to the light guide increases, and the efficiency decreases. Further, the longitudinal length, which is the length in the thickness direction of the core portion of the optical waveguide, and the lateral length in the direction perpendicular thereto are each 1 μm or more and 100 μm or less. The minimum radius of curvature of the core portion varies depending on the bubble content, but can be reduced to about 80 μm when the volume porosity of the cladding portion is 33%.

上記基板としては、可撓性がほとんど無い板状であってもよいし、可撓性を有するフィルム状であってもよいし、その中間的なものであってもよく、特に限定されるものではない。用いられる材料としても特に限定されるものではなく、具体的には、例えば、シリコンウエハー、金属基板、セラミック基板、高分子基板等を挙げることができる。
高分子基板の材質としても特に限定されるものではないが、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリケトン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、フッ素樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶ポリマー樹脂、エポキシ樹脂、シアナート樹脂等を挙げることができる。
The substrate may be a plate having little flexibility, a film having flexibility, or an intermediate one, and is particularly limited. is not. The material used is not particularly limited, and specific examples include a silicon wafer, a metal substrate, a ceramic substrate, and a polymer substrate.
The material of the polymer substrate is not particularly limited. For example, polyimide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyketone resin, polysulfone resin, polyphenylene ether resin , Polyolefin resin, polystyrene resin, polyphenylene sulfide resin, fluororesin, polyarylate resin, liquid crystal polymer resin, epoxy resin, cyanate resin and the like.

導光体を構成する2枚以上のシートの積層方法についても特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、接着剤を介さないで圧着あるいは熱圧着により積層することも可能であるし、接着剤を介して積層することも可能である。接着剤を使用する方法においては、当該接着剤として熱可塑性ポリイミドを用いることが好ましい。これにより耐熱性、接着性をより優れたものとすることができる。   The method for laminating two or more sheets constituting the light guide is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Specifically, it is possible to perform lamination by pressure bonding or thermocompression bonding without using an adhesive, and it is also possible to perform lamination by using an adhesive. In the method using an adhesive, it is preferable to use thermoplastic polyimide as the adhesive. Thereby, heat resistance and adhesiveness can be made more excellent.

<導光体の用途>
本発明の導光体は、平面状発光装置として応用される。平面状発光装置は当該導光体の入射面側に近接ないし接触して配置された光源とを備えている。光源としては、冷陰極管などの線光源や、発光ダイオード(LED)などの点光源を適宜採用できる。
本発明の導光体は、従来の導光体と同様に様々な表示装置に用いることが可能である。例えば、テレビや携帯電話、パソコン、自動車等のディスプレイに使用される液晶表示装置のバックライトまたはフロントライトとして用いることができる。また、駅や公共施設などにおける案内標示板や看板、交通標識等に使用される表示装置の内照式照明としても用いることができる。さらに、オフィスや家庭で使用される一般照明用としても用いることが可能である
<Use of light guide>
The light guide of the present invention is applied as a planar light emitting device. The planar light-emitting device includes a light source disposed in proximity to or in contact with the incident surface side of the light guide. As the light source, a linear light source such as a cold cathode tube or a point light source such as a light emitting diode (LED) can be appropriately employed.
The light guide of the present invention can be used for various display devices in the same manner as conventional light guides. For example, it can be used as a backlight or a front light of a liquid crystal display device used for a display of a television, a mobile phone, a personal computer, an automobile or the like. Further, it can also be used as internal illumination of a display device used for a guide sign board, a signboard, a traffic sign or the like in a station or public facility. It can also be used for general lighting used in offices and homes.

本発明を下記実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。また、特に断らない限り、例中の「部」および「%」は各々「質量部」および「質量%」を表わす。   The present invention will be described in detail by the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “parts” and “%” in the examples represent “parts by mass” and “mass%”, respectively.

<実施例1>
(1)発泡性組成物
分解性化合物としてtert−ブチルアクリレート(20%)とtert−ブチルメタクリレート(40%)とメタクリル酸メチル(40%)との共重合体100部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート(商品名:BBI−109、ミドリ化学製)3部の配合比した発泡性組成物Aを用いた。
<Example 1>
(1) Foamable composition As a decomposable compound, an iodonium salt system is used for 100 parts of a copolymer of tert-butyl acrylate (20%), tert-butyl methacrylate (40%) and methyl methacrylate (40%). As an acid generator, a foamable composition A in which 3 parts of bis (4-tert-butylphenyl) iodonium perfluorobutanesulfonate (trade name: BBI-109, manufactured by Midori Chemical) was mixed was used.

(2)予備成形工程
前記配合比の発泡性組成物をMEK/酢酸エチル=65/35(質量比)の希釈液で25%の溶液を調製し、これを塗布液として用いた。この塗布液(図1a)を、厚さ75μmのシリコーンPET(図1b)(商品名:MR−75:三菱ポリエステル製)からなる支持体のシリコーン処理面上に300μmのクリアランスをもつアプリケーターを用いてコーティングし、温度110℃の恒温乾燥機内で10分間放置して希釈液を蒸発除去した。サンプルを恒温乾燥機から取り出した後、塗布層をシリコーンPETから剥離して、厚さ45μmの発泡性組成物フィルムを得た。
(2) Preliminary molding step A 25% solution of the foamable composition having the above-mentioned mixing ratio was prepared with a diluent of MEK / ethyl acetate = 65/35 (mass ratio), and this was used as a coating solution. Using this applicator (FIG. 1a), an applicator having a clearance of 300 μm on a silicone-treated surface of a support made of 75 μm thick silicone PET (FIG. 1b) (trade name: MR-75: manufactured by Mitsubishi Polyester). Coated and left in a constant temperature dryer at 110 ° C. for 10 minutes to evaporate and remove the diluted solution. After removing the sample from the constant temperature dryer, the coating layer was peeled off from the silicone PET to obtain a foamable composition film having a thickness of 45 μm.

(3)紫外線照射
前記工程(2)の発泡性組成物フィルムに、光導波路の低屈折率クラッド部となる部分に紫外線が当たるようにクロムメッキによるマスクが施された石英板(図5c)をフィルムに重ね、メタルハライドランプ(商品名:アイグラフィック(株)製 紫外線硬化用マルチメタルランプM03−L31)を光源として、照射線量2000mJ/cm2で紫外線照射したものをシート1〜10(図5d)、マスクを施さずにシート全面に照射線量2000mJ/cm2で紫外線照射したものをシート11(図5e)とする。
(3) Ultraviolet irradiation A quartz plate (FIG. 5c) in which a mask made of chromium plating is applied to the foamable composition film in the step (2) so that ultraviolet light hits a portion that becomes a low refractive index cladding portion of the optical waveguide. Sheets 1-10 (FIG. 5d), which were stacked on a film and irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of 2000 mJ / cm 2 using a metal halide lamp (trade name: multi-metal lamp for ultraviolet curing M03-L31, manufactured by Eyegraphic Co., Ltd.) as a light source. A sheet 11 (FIG. 5e) is obtained by irradiating the entire surface of the sheet with ultraviolet rays at an irradiation dose of 2000 mJ / cm 2 without applying a mask.

(4)発泡工程
前記工程(3)によって得られたシート1〜10およびシート11をそれぞれ5cm×6cmで切り出し、シート1の上下にシート2をそれぞれ積層したものを、10cm×10cm、厚さ1mmのSUS板で挟み、ハンドプレス機(商品名:TOYOSEIKI製 Mini TEST PRESS−10)を用いて、当該積層サンプルに6MPaの圧力がかかる状態で150℃3分間プレス成形した。プレスを開放した後、SUS板にはさんだ状態のままサンプルをプレス機から取り出し、自然空冷し、SUS板から導光体成形品を取り外した。
(4) Foaming step The sheets 1 to 10 and the sheet 11 obtained by the step (3) are cut out at 5 cm × 6 cm, respectively, and the sheets 2 are laminated on the upper and lower sides of the sheet 1, respectively, 10 cm × 10 cm, thickness 1 mm The laminate sample was press-molded at 150 ° C. for 3 minutes under a pressure of 6 MPa using a hand press machine (trade name: Mini TEST PRESS-10 manufactured by TOYOSEIKI). After the press was released, the sample was taken out from the press machine while being sandwiched between the SUS plates, naturally air-cooled, and the light guide molded product was removed from the SUS plate.

(5)導光体構造評価
得られた導光体の構造を確認するために断面観察した。サンプルを液体窒素中で凍結割断し、光学顕微鏡にてコア部(図6f)のサイズを測定した。コア部のサイズは10μm×10μmであった。
さらに発泡体断面上に金蒸着処理を施し、この金蒸着面を走査型電子顕微鏡(商品名:S−510、日立製作所製)を用いて断面構造を観察した。クラッド部(図6g)の発泡部分の平均気泡径は、断面観察画像(拡大倍率:20000倍)から無作為に100個の気泡を選び出し、それらの直径の平均とした。発泡倍率は単位面積当たりの気泡数(Nf)と気泡径(D)から次式を用いて算出した:発泡倍率=1/(1−πD3Nf/6)。クラッド部の平均気泡径は100nm、発泡倍率は1.5倍であった。
(5) Light guide structure evaluation A cross-sectional observation was performed to confirm the structure of the obtained light guide. The sample was frozen and cut in liquid nitrogen, and the size of the core (FIG. 6f) was measured with an optical microscope. The size of the core part was 10 μm × 10 μm.
Furthermore, gold vapor deposition treatment was performed on the foam cross section, and the cross-sectional structure of this gold vapor deposition surface was observed using a scanning electron microscope (trade name: S-510, manufactured by Hitachi, Ltd.). The average bubble diameter of the foamed portion of the clad portion (FIG. 6g) was selected as an average of 100 diameters by randomly selecting 100 bubbles from the cross-sectional observation image (magnification: 20000 times). The expansion ratio was calculated from the number of bubbles per unit area (Nf) and the bubble diameter (D) using the following formula: Expansion ratio = 1 / (1-πD 3 Nf / 6). The average cell diameter of the clad part was 100 nm, and the expansion ratio was 1.5 times.

(6)屈折率算出
前記シート1〜10のコア部、クラッド部それぞれの屈折率測定はビームプロファイル反射率測定法を応用して、測定装置として高精度膜厚計Opti−Probe2000(サーマウェーブ社製)を使用し、測定波長675nm、ビームスポット径1μmという条件で測定を行った。測定の結果、コア部は1.57、クラッド部は1.38であった。
(6) Refractive index calculation The refractive index measurement of each of the core part and the clad part of the sheets 1 to 10 applies a beam profile reflectance measurement method, and a high-precision film thickness meter Opti-Probe 2000 (manufactured by Therma Wave Co., Ltd.) as a measuring device. ), And the measurement wavelength was 675 nm and the beam spot diameter was 1 μm. As a result of the measurement, the core part was 1.57 and the clad part was 1.38.

(7)面発光装置と発光評価
前記工程で得られた導光体の側面に4個の白色チップLED(日亜化学製、外形寸法;縦1.2mm、横1.5mm、高さ0.6mm)を均一配置した。このときの入射方向は、ちょうど導光体側面の光導入部に正対する方向に調整した。これらを白色筐体に組み込むことで面発光装置を得た。
得られた平面状発光装置の均一発光性を目視で評価したところ、光拡散シートを重ねずとも均一な発光を示し、従来技術では困難であった、厚さ0.4mmと薄物で、かつ、光拡散シートがなくても輝度ムラなく均一に効率よく発光する平面状発光装置を容易に得ることができた。
(7) Surface light emitting device and light emission evaluation Four white chip LEDs (manufactured by Nichia, external dimensions: 1.2 mm long, 1.5 mm wide, 0.6 mm high) on the side surface of the light guide obtained in the above process. Evenly arranged. The incident direction at this time was adjusted to the direction facing the light introduction part on the side surface of the light guide. A surface light-emitting device was obtained by incorporating these into a white housing.
When the uniform light emitting property of the obtained planar light emitting device was visually evaluated, it showed uniform light emission without overlapping the light diffusing sheet, and it was difficult to achieve with conventional technology. Even if there was no diffusion sheet, it was possible to easily obtain a planar light emitting device that uniformly and efficiently emitted light without uneven brightness.

<実施例2>
(4)発泡工程での積層サンプルにかかる圧力を2MPaにした以外は、実施例1と同様な方法で導光体を形成し、評価を行った。
<Example 2>
(4) A light guide was formed and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the pressure applied to the laminated sample in the foaming step was 2 MPa.

<実施例3>
(1)〜(3)までの工程は実施例1と同様。
(4)発泡成形工程
積層したシートを底面が5cm×6cmの直方体成形用金型にセットして、4MPaの圧力がかかる状態で130℃2分間プレス成形しながら発泡させた。プレス開放後に型をハンドプレス機から取り外し自然空冷し、金型温度が40℃程度になったところで、直方体成形用型から導光体を取り外した。後は、実施例1と同様にして評価を行った。
<Example 3>
The steps from (1) to (3) are the same as in Example 1.
(4) Foam molding step The laminated sheets were set in a rectangular parallelepiped molding die having a bottom surface of 5 cm × 6 cm, and foamed while being press-molded at 130 ° C. for 2 minutes under a pressure of 4 MPa. After releasing the press, the mold was removed from the hand press machine and allowed to cool naturally, and when the mold temperature reached about 40 ° C., the light guide was removed from the rectangular parallelepiped mold. Thereafter, evaluation was performed in the same manner as in Example 1.

<実施例4>
(1)発泡性組成物
分解性化合物としてtert−ブチルアクリレート(60%)とメタクリル酸メチル(30%)とメタクリル酸(10%)の共重合体100部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート3部の配合比した発泡性組成物Bを用いた。
後は実施例1と同様にして導光体を形成、評価した。
<Example 4>
(1) Foamable composition An iodonium salt acid generator for 100 parts of a copolymer of tert-butyl acrylate (60%), methyl methacrylate (30%) and methacrylic acid (10%) as a decomposable compound. As the foaming composition B, 3 parts of bis (4-tert-butylphenyl) iodonium perfluorobutanesulfonate was used.
Thereafter, a light guide was formed and evaluated in the same manner as in Example 1.

<比較例1>
実施例1の(4)発泡工程でのサンプルに圧力をかけない条件で、発泡温度を150℃にした以外は、実施例1と同様な方法で導光体を作成、評価した。
その結果、クラッド部の気泡径が大きくなりすぎて白濁し、屈折率が評価出来なかった。
<Comparative Example 1>
A light guide was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the foaming temperature was set to 150 ° C. under the condition that pressure was not applied to the sample in (4) foaming step of Example 1.
As a result, the bubble diameter of the clad portion became too large and clouded, and the refractive index could not be evaluated.

Figure 2008192527
Figure 2008192527

このように、本発明では、平面状発光装置を構成する導光体に内在する光導波路のクラッド部を形成する低屈折率材料の一部が平均気泡径が5〜200nmであり発泡部位の空隙率が1〜95%であるような発泡体部から成り、その発泡体部は活性エネルギー線により酸および塩基を発生する物質と酸または塩基と反応して低沸点揮発物を分解脱離する化合物を含有する発泡性組成物に電子線照射や紫外線を照射後、加熱して微細な気泡を発生させることで形成されることにより薄型で発光効率の高い平面状発光装置を製造することができる。それゆえ、本発明は、平面状発光装置の小型化に寄与が大であり、高分子材料を導光体に加工する樹脂産業や、素材産業に利用できるだけでなく、具体的な光部品を製造する光学機器関連の産業や、ディスプレイ機器に関わる光電子機器関連の産業に広く応用することができる。   As described above, in the present invention, a part of the low refractive index material forming the cladding portion of the optical waveguide inherent in the light guide constituting the planar light emitting device has an average bubble diameter of 5 to 200 nm and the voids in the foamed portion. A compound comprising a foam part having a rate of 1 to 95%, wherein the foam part reacts with an acid or base to generate acid and base by active energy rays and decomposes and desorbs low-boiling volatiles. A thin planar light emitting device with high luminous efficiency can be produced by forming fine bubbles by heating the foamable composition containing the above after irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. Therefore, the present invention greatly contributes to the miniaturization of the planar light emitting device, and can be used not only for the resin industry and the material industry for processing a polymer material into a light guide, but also for producing a specific optical component. The present invention can be widely applied to industries related to optical equipment and optoelectronic equipment related to display equipment.

板を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能なし)Pressure control method using a plate (no gap control function) 金型を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能なし)Pressure control method using mold (no gap control function) 板を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能あり)Pressure control method using a plate (with gap control function) 金型を用いた圧力制御法(ギャップ制御機能あり)Pressure control method using a mold (with gap control function) 本発明にかかる複数枚シート積層導光体の製造方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing method of the multiple sheet laminated light guide concerning this invention. 本発明にかかる複数枚シート積層導光体の断面(光源からの入光部断面と内部の横断面)を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross section (the light-incident part cross section from a light source, and an internal cross section) of the multi-sheet lamination | stacking light guide concerning this invention.

符号の説明Explanation of symbols

図1〜4について
1.発泡性組成物(板状)、2.圧力制御用の板(ギャップ調整機能なし)、3.圧力制御用金型の上型、4.圧力制御用の金型の下型(ギャップ調整機能なし)、5.圧力制御用の板(ギャップ調整機能あり)、6.圧力制御用の金型の下型(ギャップ調整機能あり)、7.ギャップ調整用機能部分
図5〜6について
a 発泡性組成物
b 基材(フィルムなど)
c 紫外線遮蔽マスク
d シート1〜10(コア部以外紫外線照射)
e シート11(全面紫外線照射)
f コア部(未発泡)
g クラッド部(発泡またはコア部より低屈折率の材料)
1 to 4. 1. Foamable composition (plate-like); 2. Pressure control plate (no gap adjustment function); 3. Upper die of pressure control mold 4. Lower die for pressure control (no gap adjustment function) 5. Pressure control plate (with gap adjustment function), 6. Lower die for pressure control (with gap adjustment function) Functional part for gap adjustment About FIGS. 5 to 6 a Foamable composition b Base material (film, etc.)
c UV shielding mask d Sheets 1 to 10 (irradiation with ultraviolet rays other than the core)
e Sheet 11 (entire UV irradiation)
f Core part (unfoamed)
g Cladding part (material with lower refractive index than foamed or core part)

Claims (6)

高分子材料から形成され、コア部と、該コア部より屈折率の低い材料からなるクラッド部とにより形成された光導波路により光を導く導光体であって、該クラッド部は平均気泡径が5〜200nmの微細独立気泡を内包する発泡体からなり、該発泡体部の体積空隙率が1〜95%であることを特徴とする導光体。   A light guide that is made of a polymer material and guides light through an optical waveguide formed by a core part and a clad part made of a material having a refractive index lower than that of the core part. The clad part has an average bubble diameter. A light guide comprising a foam containing fine closed cells of 5 to 200 nm, and having a volume porosity of 1 to 95%. 活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する化合物を含有する発泡性組成物に対して、クラッド部を形成させる位置に活性エネルギー線を照射し発泡させて得られることを特徴とする請求項1に記載の導光体。   Decomposing foam that contains an acid generator that generates an acid by the action of active energy rays or a base generator that generates a base, and further decomposes and desorbs one or more low-boiling volatile substances by reacting with the acid or base. 2. The light guide according to claim 1, wherein the foamed composition containing a compound having a functional functional group is obtained by irradiating an active energy ray at a position where a clad portion is formed and foaming. 2枚以上のシートを積層したシート状または板状の導光体であって、隣り合う層のコア部同士が繋がることにより、光導波路が2以上のシートに跨って形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の導光体。   It is a sheet-like or plate-like light guide in which two or more sheets are laminated, and the optical waveguide is formed across two or more sheets by connecting the core portions of adjacent layers. The light guide according to claim 1 or 2. 前記発泡体部が活性エネルギー線を照射し、加熱処理を施すことにより該微細独立気泡を形成することを特徴とする請求項2または3に記載の導光体の製造方法。   The method for manufacturing a light guide according to claim 2 or 3, wherein the foam part irradiates active energy rays and heat-treats to form the fine closed cells. 前記発泡体部の形成過程で、低沸点揮発物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させる工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の導光体の製造方法。   5. The method of manufacturing a light guide according to claim 4, further comprising a step of foaming by controlling the pressure in a temperature range where the low boiling point volatile substance is decomposed and desorbed in the process of forming the foam part. 前記発泡体部の形成過程で、低沸点揮発物質が分解脱離する温度領域で圧力制御して発泡させる工程の後に圧力制御しながら冷却する工程を含むことを特徴とする請求項4または5に記載の導光体の製造方法。   The process of forming the foam part includes a step of cooling while controlling pressure after the step of foaming by controlling the pressure in a temperature range where the low boiling point volatile substance decomposes and desorbs. The manufacturing method of the light guide as described.
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