JP2008546553A - キャップを備えたmems用基板コンタクト及び同基板コンタクトをウェハレベルにて形成する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下の詳細な説明は、本来は例示のみのものであり、本発明又は本願及び本発明の使用を制限することを意図していない。加えて、上記した技術分野、発明の背景、簡単な概要又は以下の詳細な説明に示されたいかなる表現された又は意味された理論とも結び付けることを意図していない。この点に関して、本発明は加速度計の文脈において例示され、記載されているが、本発明は、電磁妨害から保護する必要のある基板又は任意の微小電気機械システム(MEMS)装置上に懸架された移動可能なプルーフマスを含む種々の装置の任意のものに少なくとも使用することができることは理解されるであろう。
本発明の上記した詳細な説明においては少なくとも一つの例示的な実施形態を提示してきたが、当然のことながら種々の変更が可能である。また、当然のことながら、一つ又は複数の例示的な実施形態は単なる例のみであり、本発明の範囲、応用、又は形態をいかなる様式にても制限することを意図していない。むしろ、上記した詳細な説明は本発明の例示的な実施形態を実施するための簡便な指針を当業者に提供するものであり、添付された特許請求の範囲及びそれらの合法的な均等物に記載されている本発明の範囲から逸脱することなく、例示的な実施形態において記載された要素の機能及び配置において種々の変更がなされることは理解されるであろう。
Claims (20)
- ハンドル層と、前記ハンドル層を覆うキャップとからなる基板から微小電気機械システム(MEMS)装置を形成する方法において、前記方法は、
第一の側壁を形成するために、前記キャップ及び前記基板の少なくとも一部を貫通する第一の切断部を形成する工程と、
前記第一の側壁上に導電性材料を堆積させて、前記キャップと前記基板とを電気的に接続させる工程と、
を含む、方法。 - 請求項1に記載の方法は、第二の側壁と、前記第一の側壁及び同第二の側壁の間のトレンチと、を形成するために、前記キャップと前記基板の別の部分とを貫通するとともに前記第一の側壁に対して所定の角度をなす第二の切断部を形成する工程を更に含む、方法。
- 前記第二の切断部を形成する工程は、前記第一の側壁に隣接して第二の側壁を形成する工程を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記第二の切断部を形成する工程は、前記第一の側壁と前記第二の側壁との間で約60°未満の角度を形成する工程を含む、請求項3に記載の方法。
- 前記導電性材料を堆積させる工程は、前記トレンチに同導電性材料を充填する工程を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記基板は第一のダイ領域と第二のダイ領域とを有し、かつ前記方法は、同第一のダイ領域を同第二のダイ領域からダイシングするために、前記導電性材料及び基板をソーにより切断する工程を更に含む、請求項5に記載の方法。
- 前記第一の切断部を形成する工程は、前記キャップ及び前記基板の一部を貫通する単一のベベル切断部を形成するために、ベベルブレードを使用する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第一の切断部を形成する工程は、前記キャップと前記ハンドル層の少なくとも一部とを貫通する第一の切断部を形成する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記導電性材料を堆積させる工程は、前記キャップの少なくとも一部を覆うとともに前記第一の側壁を露出させるマスクを前記基板上に配置させる工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記導電性材料を堆積させる工程は、前記第一の側壁上に導電性材料層をスパッタリングする工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板は第一のダイ領域と第二のダイ領域とを有し、前記第一の切断部を形成する工程は、前記第一のダイ領域と前記第二のダイ領域との間に切断部を形成する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板は第一のダイ領域と第二のダイ領域とを有し、かつ前記方法は、同第一のダイ領域を同第二のダイ領域からダイシングするために、前記導電性材料及び基板を貫通して切断する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- ハンドル層と、前記ハンドル層上に配置される犠牲層と、前記犠牲層上に配置される活性層と、前記活性層上に配置されるキャップ固定部と、前記キャップ固定部上に配置させるキャップと、を含む基板からMEMS装置を形成する方法であって、前記方法は、
前記キャップ、前記キャップ固定部、前記活性層、前記犠牲層及び前記ハンドル層の一部を貫通する第一の切断部を形成する工程と、
前記キャップ、前記キャップ固定部、前記活性層、前記犠牲層及び前記ハンドル層の少なくとも一部を貫通する第二の切断部であって、トレンチを形成するために前記第一のベベル切断部に対して所定の角度をなす第二のベベル切断部、を配置する工程と、
前記キャップ、前記キャップ固定部及び前記ハンドル層と接触するトレンチに導電性材料を堆積させる工程と、
を含む、方法。 - 前記第二の切断部を配置する工程は、V字型のトレンチを形成するために、前記第一の側壁に隣接して前記第二のベベル切断部を配置する工程を含む、請求項13に記載の方法。
- 前記第二の切断部を形成する工程は、前記第一の切断部と前記第二の切断部との間に約60°未満の角度を形成する工程を含む、請求項14に記載の方法。
- 前記導電性材料を堆積させる工程は、前記トレンチに導電性エポキシ樹脂を充填する工程を含む、請求項13に記載の方法。
- 前記第一の切断部を形成する工程は、前記キャップ及び前記基板の一部を貫通する一つのベベル切断部を形成するために、ベベルブレードを使用する工程を含む、請求項13に記載の方法。
- 前記基板は第一のダイ領域と第二のダイ領域とを含み、かつ前記方法は、同第一のダイ領域を同第二のダイ領域からダイシングするために、前記導電性エポキシ樹脂及びハンドル層をソーにより切断する工程を更に含む、請求項13に記載の方法。
- MEMS装置であって、
側壁を有するハンドル層と、
前記ハンドル層を覆うとともに側壁を有するキャップと、
導電性材料であって、前記キャップの前記側壁及び前記ハンドル層の前記側壁の少なくとも一部に配置され、それにより前記ハンドル層と前記キャップとを電気的に接続させるための導電性材料と、
からなる、MEMS装置。 - 前記導電性材料は、導電性エポキシ樹脂と金属とからなる群より選択される少なくとも一つの材料を含む、請求項19に記載のMEMS装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/158,793 US7316965B2 (en) | 2005-06-21 | 2005-06-21 | Substrate contact for a capped MEMS and method of making the substrate contact at the wafer level |
PCT/US2006/023122 WO2007001856A2 (en) | 2005-06-21 | 2006-06-13 | Substrate contact for a capped mems and method of making the substrate contact at the wafer level |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008546553A true JP2008546553A (ja) | 2008-12-25 |
JP2008546553A5 JP2008546553A5 (ja) | 2009-07-09 |
Family
ID=37573898
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008518238A Pending JP2008546553A (ja) | 2005-06-21 | 2006-06-13 | キャップを備えたmems用基板コンタクト及び同基板コンタクトをウェハレベルにて形成する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7316965B2 (ja) |
EP (1) | EP1897122A4 (ja) |
JP (1) | JP2008546553A (ja) |
TW (1) | TWI399793B (ja) |
WO (1) | WO2007001856A2 (ja) |
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- 2006-06-13 WO PCT/US2006/023122 patent/WO2007001856A2/en active Application Filing
- 2006-06-16 TW TW095121526A patent/TWI399793B/zh not_active IP Right Cessation
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090520 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111004 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120110 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120123 |
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A02 | Decision of refusal |
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