JP2008535950A - 光画像形成可能な熱硬化性フッ素化レジスト - Google Patents
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Abstract
Description
a.テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、パーフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、パーフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(ここで、tは1または2である)、およびRf”OCF=CF2(式中、Rf”は1〜10個の炭素原子のフルオロアルキル基である)よりなる群から選択されるフルオロ−オレフィンから誘導される繰り返し単位、
b.酸触媒開環重合によって架橋することができる少なくとも1つの架橋性官能基、Rを含んでなる繰り返し単位、ならびに
c.少なくとも1つの保護された酸官能基を含んでなる繰り返し単位
を含んでなるポリマー組成物を提供する。
a.テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、パーフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、パーフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(ここで、tは1または2である)、およびRf”OCF=CF2(式中、Rf”は1〜10個の炭素原子のフルオロアルキル基である)から選択されるフルオロ−オレフィンから誘導される繰り返し単位、
b.少なくとも1つの架橋性官能基を含んでなる繰り返し単位、
c.少なくとも1つの保護された酸官能基を含んでなる繰り返し単位、ならびに
d.光活性成分
を含んでなる光画像形成可能な組成物を提供する。
下記の定義が本特許請求の範囲のおよび本明細書の解釈に適用される:
本明細書で用いるところでは、「酸触媒」は、マイクロリソグラフィ用途向けの本質的にすべての化学増幅型レジストシステムのための基礎原料を形成する化学反応に関する。これらの反応は一般に、架橋(光重合)反応か脱保護反応かのどちらかとして分類される。
から誘導されるものが含まれる。
本発明ポリマーの好ましい製造方法はラジカル付加重合である。バルク重合または溶液重合が用いられてもよい。ジ−(4−第三ブチルシクロヘキシル)ペルオキシ−ジカーボネートなどの、任意の好適な重合開始剤が適切な条件下に使用されてもよい。重合圧力は約50〜約10,000psig、好ましくは約200〜約1,000psigの範囲であってもよい。重合温度は約30℃〜約120℃、好ましくは約40℃〜約80℃の範囲であってもよい。好適な溶媒には、1,1,2−トリクロロフルオロエタンと1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンなどの非クロロフルオロカーボンとが含まれる。
ポリマーは、共重合体を少なくとも1つの光活性成分(PAC)、化学線への露光時に酸か塩基かのどちらかをもたらす化合物と組み合わせることによって光画像形成可能にすることができる。酸が化学線への露光時に生み出される場合、PACは光酸発生剤(PAG)と称される。塩基が化学線への露光時に生み出される場合、PACは光塩基発生剤(PBG)と称される。幾つかの好適な光酸発生剤は、参照により本明細書に援用される、国際公開第00/66575号パンフレットに開示されている。
様々な溶解抑制剤(DI)を、本明細書に開示される共重合体から誘導される光画像形成可能な組成物に添加することができる。理想的には、溶解抑制剤と添加剤との混合物は、得られる組成物に溶解抑制だけでなく、耐プラズマエッチ性、および所望の付着挙動をも与えるようにデザインされる/選ばれるべきである。幾つかの溶解抑制化合物はまた、レジスト組成物で可塑剤としても役立つ。幾つかの好適な溶解抑制剤は、参照により本明細書に援用される、米国特許第6,653,419号明細書に開示されている。
本明細書に開示されるポリマーから誘導される光画像形成可能な組成物は、フルオロポリマー中の成分の選択、任意の溶解抑制剤および架橋剤の存在または不存在、ならびに現像に使用される溶媒の選択に依存して、ポジティブ−ワーキングかネガティブ−ワーキングかのどちらかであることができる。これらの成分のすべての選択は十分に当業者の技能内である。
ポリマー組成物は追加の任意の成分を含有することができる。任意の成分の例には、解像度エンハンサー、接着促進剤、残渣低減剤、コーティング助剤、可塑剤、およびTg(ガラス転移温度)改質剤が挙げられるが、それらに限定されない。これらの追加の成分の選択もまた十分に当業者の技能内である。
熱硬化性ポリマーの硬化は、酸触媒反応、マイクロリソグラフィ用途向けの化学増幅レジストシステムの基礎をなす基本的反応によって成し遂げられる。これらの反応は一般に、架橋(光重合)か脱保護かのどちらかとして分類される。脱保護反応は、フェノール基またはペンダントカルボン酸基などの酸性官能性のマスクを外すために用いられ、こうしてポジティブ−ワーキングレジスト用途と結び付く。一方、酸触媒ポリマー架橋および光重合反応はネガティブ−ワーキングレジストシステムで用いられる。
次の省略形が本特許請求の範囲および本明細書の解釈に適用される。
TFE、NB−F−OH、NB−F−O−Glyおよびt−BuAcのポリマー
モノマーNB−F−O−Glyは、マルノ(Maruno)、ナカムラ(Nakamura)、ムラタ(Murata)(Macromolecules、第29巻(1996)、2006−2010ページ)によって記載された手順に従って塩基の存在下でのNB−F−OHのエピクロロヒドリン(シグマ−アルドリッチ・ケミカル・カンパニー(Sigma−Aldrich Chemical Company)との反応によって製造する。
機械撹拌機、滴加漏斗および窒素注入口を備えた乾燥した丸底フラスコを窒素で掃引し、19.7g(0.78モル)の95%水素化ナトリウムおよび500mLの無水DMFを装入する。撹拌混合物を5℃に冷却し、温度が15℃より下に留まるように80.1g(0.728モル)のエキソ−5−ノルボルネン−2−オールを滴加する。生じた混合物を0.5時間撹拌する。HFIBO(131g、0.728モル)を室温で滴加する。生じた混合物を室温で一晩撹拌する。メタノール(40mL)を加え、DMFのほとんどを減圧下にロータリーエバポレーターで除去する。残渣を200mLの水で処理し、氷酢酸をpHが約8.0になるまで加える。水性混合物を3×150mLのエーテルで抽出する。組み合わせたエーテル抽出物を3×150mLの水および150mLの食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させ、ロータリーエバポレーターでオイルへ濃縮する。0.15〜0.20トルおよび30〜60℃のポット温度でのクーゲルロール(Kugelrohr)蒸留は所望の生成物を与える。
おおよそ270mL容量の金属圧力容器に、56.55gのNB−F−OH、17.3gのNB−F−O−Gly、0.64gの第三ブチルアクリレート、および25mLのソルケイン(登録商標)365を装入する。容器を閉じ、約−15℃に冷却し、数回窒素で400psiに加圧し、そしてガス抜きをする。反応器内容物を50℃に加熱する。TFEを340psiの圧力まで加え、そして必要に応じてTFEを加えることにより重合の全体にわたって圧力を340psiに維持するように圧力調整器をセットする。ソルケイン(登録商標)365mfcで100mLに希釈した66.46gのNB−F−OH、19.22gのNB−F−O−Glyおよび7.68gの第三ブチルアクリレートの溶液を、0.10mL/分の速度で12時間反応器へポンプ送液する。モノマー・フィード溶液と同時に、ソルケイン(登録商標)365mfcで100mLに希釈した7.3gのパーカドックス(Perkadox)(登録商標)16Nおよび60mLの酢酸メチルの溶液を2.0mL/分の速度で6分間、次に0.1mL/分の速度で8時間反応器へポンプ送液する。16時間の反応時間後に、容器を室温に冷却し、1気圧にガス抜きをする。回収ポリマー溶液を、撹拌しながら過剰のヘキサンにゆっくり加える。沈澱を濾過し、ヘキサンで洗浄し、風乾させる。得られた固体をTHFとソルケイン(登録商標)365mfcとの混合物に溶解させ、過剰のヘキサンにゆっくり加える。沈澱を濾過し、ヘキサンで洗浄し、真空オーブン中で一晩乾燥させてフルオロアルコール基、グリシジル基および第三ブチルエステル基を含んでなるポリマーを与える。
TFE、NB−F−OH、t−BuAcおよびGAのポリマー
おおよそ270mL容量の金属圧力容器に、70.33gのNB−F−OH、0.64gのt−BuAc、0.32gのGAおよび25mLのソルケイン(登録商標)365を装入する。容器を閉じ、約−15℃に冷却し、数回窒素で400psiに加圧し、そしてガス抜きをする。反応器内容物を50℃に加熱する。TFEを340psiの圧力まで加え、そして必要に応じてTFEを加えることにより重合の全体にわたって圧力を340psiに維持するように圧力調整器をセットする。ソルケイン(登録商標)365mfcで100mLに希釈した80.56gのNB−F−OH、7.68gの第三ブチルアクリレートおよび2.67gのGAの溶液を、0.10mL/分の速度で12時間反応器へポンプ送液する。モノマー・フィード溶液と同時に、ソルケイン(登録商標)365mfcで100mLに希釈した7.3gのパーカドックス(登録商標)16Nおよび60mLの酢酸メチルの溶液を2.0mL/分の速度で6分間、次に0.1mL/分の速度で8時間反応器へポンプ送液する。16時間の反応時間後に、容器を室温に冷却し、1気圧にガス抜きをする。回収ポリマー溶液を、撹拌しながら過剰のヘキサンにゆっくり加える。沈澱を濾過し、ヘキサンで洗浄し、風乾させる。得られた固体をTHFとソルケイン(登録商標)365mfcとの混合物に溶解させ、過剰のヘキサンにゆっくり加える。沈澱を濾過し、ヘキサンで洗浄し、真空オーブン中で一晩乾燥させてフルオロアルコール基、グリシジル基および第三ブチルエステル基を含んでなるポリマーを与える。
エポキシドの放射線および熱硬化
実施例1でのように製造したポリマー(1.097グラム)、0.485グラムのサイラキュア(Cyracure)(登録商標)UVI−6976、および0.08グラムのクァンチキュア(Quanticure)ITX(シグマ−アルドリッチ)を2.546グラムのプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート中の無色透明溶液へ溶解させる。溶液を3000rpmで基材上へスピンコートして約1ミクロン厚さのフィルムを与える。フィルムを次にホットプレート上90℃で2分間乾燥させる。フィルムを、20ミクロンフォトマスクを用いておおよそ600mJ/cm2の広帯域UV光で露光させ、次にホットプレート上120℃で2分間熱処理する。画像形成部分を、AZ300現像液中へ浸漬することによって現像する。残ったフィルムを水で1分間リンスし、次に90℃で1分間乾燥させる。このフィルムを、50〜2000mJ/cm2用の水銀ランプUV光でフラッド露光させ、次に120℃で2分間熱処理し、引き続きフィルムを250℃で100分間加熱する。フィルムはこの時点で硬化している。
Claims (18)
- a.テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、パーフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、パーフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(ここで、tは1または2である)、およびRf”OCF=CF2(式中、Rf”は1〜10個の炭素原子のフルオロアルキル基である)よりなる群から選択されるフルオロ−オレフィンから誘導される繰り返し単位、
b.酸触媒開環重合によって架橋することができる少なくとも1つの架橋性官能基、Rを含んでなる繰り返し単位、ならびに
c.少なくとも1つの保護された酸官能基を含んでなる繰り返し単位
を含んでなるポリマー組成物。 - 少なくとも1つの架橋性官能基を含んでなる前記繰り返し単位がグリシジルアクリレートから誘導される、請求項1に記載のポリマー組成物。
- 保護された酸官能基を含んでなる前記繰り返し単位がアクリレートモノマー、CH2=CR2CO2R3(式中、R2はH、F、C1〜C3アルキルまたはヒドロキシアルキルであり、そしてR3は酸保護基である)から誘導される、請求項1に記載のポリマー。
- R3が置換または非置換の第三アルキルまたは環式アルキル基である、請求項5に記載のポリマー。
- RfおよびRf’がトリフルオロメチルである、請求項4に記載のポリマー。
- a.テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、パーフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、パーフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(ここで、tは1または2である)、およびRf”OCF=CF2(式中、Rf”は1〜10個の炭素原子のフルオロアルキル基である)から選択されるフルオロ−オレフィンから誘導される繰り返し単位、
b.酸触媒開環重合によって架橋することができる少なくとも1つの官能基を含んでなる繰り返し単位、
c.少なくとも1つの保護された酸官能基を含んでなる繰り返し単位、ならびに
d.光酸発生剤
を含んでなる光画像形成可能な組成物。 - a.テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、パーフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、パーフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(ここで、tは1または2である)、およびRf”OCF=CF2(式中、Rf”は1〜10個の炭素原子のフルオロアルキル基である)から選択されるフルオロ−オレフィンから誘導される繰り返し単位、
b.酸触媒開環重合によって架橋することができる少なくとも1つの官能基を含んでなる繰り返し単位、
c.少なくとも1つの保護された酸官能基を含んでなる繰り返し単位、ならびに
d.酸触媒
を含んでなる熱硬化性組成物。 - 前記酸触媒が光酸発生剤から発生する、請求項8に記載の熱硬化性組成物。
- 請求項8または9に記載の熱硬化性組成物を加熱する工程を含んでなる熱硬化方法。
- 請求項10に記載の方法によって製造される熱硬化生成物。
- 請求項11に記載の熱硬化生成物を含んでなるフィルムまたは物品。
- 誘電性が3.0未満である、請求項11に記載の熱硬化生成物。
- シリコンウェハおよび請求項11に記載の熱硬化生成物を含んでなる物品。
- 請求項14に記載の物品を含んでなる電子デバイス。
- a.テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、パーフルオロ−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、パーフルオロ−(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)、CF2=CFO(CF2)tCF=CF2(ここで、tは1または2である)、およびRf”OCF=CF2(式中、Rf”は1〜10個の炭素原子のフルオロアルキル基である)から選択されるフルオロ−オレフィンから誘導される繰り返し単位、
b.酸触媒開環重合によって架橋することができる少なくとも1つの官能基を含んでなる繰り返し単位、
c.少なくとも1つの保護された酸官能基を含んでなる繰り返し単位、ならびに
d.光酸発生剤
を含んでなる光画像形成可能なおよび熱硬化性の組成物。 - 請求項1、7、8、または16のいずれか一項に記載の組成物を含んでなる有機発光ダイオード。
- 請求項1、7、8、または16のいずれか一項に記載の組成物を含んでなる液晶ディスプレイ。
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