JP2008535549A5 - - Google Patents

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Claims (30)

  1. 有効成分の送達のためのコーティングを備える埋め込み型デバイスであって、前記コーティングが、
    埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、厚さXを有するプライマー領域と、
    前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、厚さYを有するリザーバー領域と
    を含み、前記有効成分が前記リザーバー領域から前記プライマー領域まで移動する前に、前記プライマー領域の外表面から前記埋め込み型デバイスの表面までの厚さXが測定され、
    (a)前記厚さXが、0.1ミクロンから10ミクロンであり、前記厚さYが、0.5ミクロンから10ミクロンであるか、又は
    (b)X/Yが、以下の範囲、0.01から0.2、0.05から0.2、0.01から20、0.05から20、0.01から1、0.05から1及び0.01から0.05から選択され
    バイス。
  2. X/Yが、0.01以上及び20以下である、請求項1に記載の埋め込み型デバイス。
  3. X/Yが、0.01以上及び0.2以下である、請求項1に記載の埋め込み型デバイス。
  4. X/Yが、0.05以上及び20以下である、請求項1に記載の埋め込み型デバイス。
  5. X/Yが、0.05以上及び0.2以下である、請求項1に記載の埋め込み型デバイス。
  6. 前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ(ブチルメタクリレート)を含む、請求項1に記載の埋め込み型デバイス。
  7. 前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上へのバリア領域の形成をさらに含む、請求項1に記載の埋め込み型デバイス。
  8. 埋め込み型デバイス用のコーティングの製造方法であって、
    埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、厚さXを有するプライマー領域を形成するステップと、
    前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、厚さYを有するリザーバー領域を形成するステップとを含み、
    (a)前記厚さXが、0.1ミクロンから10ミクロンであり、前記厚さYが、0.5ミクロンから10ミクロンであるか、又は
    (b)X/Yが、以下の範囲、0.01から0.2、0.05から0.2、0.01から20、0.05から20、0.01から1、0.05から1及び0.01から0.05から選択され
    造方法。
  9. X/Yが、0.01以上及び20以下である、請求項に記載の製造方法。
  10. X/Yが、0.01以上及び0.2以下である、請求項に記載の製造方法。
  11. X/Yが、0.05以上及び20以下である、請求項に記載の製造方法。
  12. X/Yが、0.05以上及び0.2以下である、請求項に記載の製造方法。
  13. 前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上にバリア領域を形成するステップをさらに含む、請求項に記載の製造方法。
  14. 前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ(ブチルメタクリレート)を含む、請求項に記載の製造方法。
  15. 有効成分の送達のためのコーティングを備える埋め込み型デバイスであって、前記コーティングが、
    埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、質量Xを有するプライマー領域と、
    前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、質量Yを有するリザーバー領域とを含み、
    X/Yが、以下の範囲、0.01から0.2、0.05から0.2及び0.01から0.05から選択されるデバイス。
  16. 前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ(ブチルメタクリレート)を含む、請求項15に記載の埋め込み型デバイス。
  17. 前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上へのバリア領域の形成をさらに含む、請求項15に記載の埋め込み型デバイス。
  18. 埋め込み型デバイス用のコーティングの製造方法であって、
    埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、質量Xを有するプライマー領域を形成するステップと、
    前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、質量Yを有するリザーバー領域を形成するステップとを含み、
    X/Yが、以下の範囲、0.01から0.2、0.05から0.2及び0.01から0.05から選択される製造方法。
  19. 前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上にバリア領域を形成するステップをさらに含む、請求項18に記載の製造方法。
  20. 前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ(ブチルメタクリレート)を含む、請求項18に記載の製造方法。
  21. 有効成分の送達のためのコーティングを備える埋め込み型デバイスであって、前記コーティングが、
    埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含む、質量Xを有するプライマー領域と、
    前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含む、前記有効成分を除いた質量Yを有するリザーバー領域とを含み、
    X/Yが、以下の範囲、0.01から0.2、0.05から0.2及び0.01から0.05から選択されるデバイス。
  22. 前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ(ブチルメタクリレート)を含む、請求項21に記載の埋め込み型デバイス。
  23. 前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上へのバリア領域の形成をさらに含む、請求項21に記載の埋め込み型デバイス。
  24. 埋め込み型デバイス用のコーティングの製造方法であって、
    埋め込み型デバイスの表面の少なくとも一部分上にポリマーを含み、質量Xを有するプライマー領域を形成するステップと、
    前記プライマー領域の少なくとも選択された一部分上にポリマー及び有効成分を含み、前記有効成分を除いた質量Yを有するリザーバー領域を形成するステップとを含み、
    (i)X/Yが、以下の範囲、0.01から0.2、0.05から0.2及び0.01から0.05から選択される製造方法。
  25. 前記デバイスが患者の体内に挿入された後、前記有効成分が前記リザーバー領域から放出される速度を低減するために、前記リザーバー領域の少なくとも選択された一部分上にバリア領域を形成するステップをさらに含む、請求項24に記載の製造方法。
  26. 前記プライマー領域又は前記リザーバー領域が、エチレンビニルアルコールコポリマー又はポリ(ブチルメタクリレート)を含む、請求項24に記載の製造方法。
  27. 埋め込み型デバイスがステントである、請求項8、18、24のいずれか一項に記載の製造方法。
  28. ステントである、請求項1、2、4、6、15、16、21、22のいずれか一項に記載の埋め込み型デバイス。
  29. 有効成分が、ラパマイシン、メチルラパマイシン、エベロリムス、42−Epi−(テトラゾイルイル)ラパマイシン(ABT−578)、タクロリムス、40−O−(2−ヒドロキシ)エチル−ラパマイシン、40−O−(3−ヒドロキシ)プロピルラパマイシン、40−O−[2−(2−ヒドロキシ)エトキシ]エチル−ラパマイシン、テトラゾール含有ラパマイシン、パクリタキセル又はドセタキセルである、請求項1、6、7、15〜17、21〜23のいずれか一項に記載の埋め込み型デバイス。
  30. 有効成分が、ラパマイシン、メチルラパマイシン、エベロリムス、42−Epi−(テトラゾイルイル)ラパマイシン(ABT−578)、タクロリムス、40−O−(2−ヒドロキシ)エチル−ラパマイシン、40−O−(3−ヒドロキシ)プロピルラパマイシン、40−O−[2−(2−ヒドロキシ)エトキシ]エチル−ラパマイシン、テトラゾール含有ラパマイシン、パクリタキセル又はドセタキセルである、請求項8、13、14、18、19、20、24〜26のいずれか一項に記載の製造方法。
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