JP2008522937A - ファイバフェルトを形成するためのデバイス - Google Patents

Abstract

本発明は、ファイバフェルト形成設備のためのデバイス（６）であって、前記ファイバは内部紡糸によって及びガス流を用いた延伸によって延伸され得る材料からなり、ファイバの束は管状ウェブ（２）の形態にあり、前記デバイスは、管状ウェブ（２）上に接線方向に空気を噴霧して、前記ウェブに回転動作を付与する空気送風手段（６）を具備したデバイスに関する。本発明は、前記送風手段（６）が、前記空気を、前記管状ウェブ束の主方向に垂直な方向に沿って流すことを特徴とする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、断熱及び防音用などのファイバフェルトの形成に係り、より詳細には、レシーブ部材上に集められるファイバの分布を改良するためのデバイスに関する。

ファイバ、特にはガラスファイバなどの鉱物ファイバの形成は、ガラスなどの材料を遠心法によって及び高温ガス流の作用によって延伸する繊維化プロセスに由来している。

今日、一般に使用されている繊維化プロセスは、内部遠心プロセスと呼ばれるものである。それは、溶融状態にある延伸可能な材料の流れを、繊維化皿とも呼ばれ、高速で回転し、周囲に非常に多数の孔があけられているスピナ中に導入することにあり、遠心力のせいで、先の材料はそれら孔を介してフィラメントの形態で射出される。環状バーナによって、これらフィラメントは、次いで、スピナの壁を抱え込む高温高速延伸ガスの環状流の作用に供され、フィラメントの径を減少させ、それらをファイバへと変換する。

更に、延伸ガス流は、一般には、周囲の低温ガスシースによって閉じ込められ、それを適切に管状流の形態にする。このガスシースは、環状バーナを取り囲んでいるリングに送風することによって生成される。低温であるので、このガスシースは繊維の冷却を助け、それゆえ、その機械的強度は温度消失効果によっておそらくは改良される。

スピナの熱平衡を保つために延伸デバイスの下に環状インダクタを追加することも一般に行われている。このインダクタは、スピナの周辺バンドの底を加熱し、その底は、環状からバーナから更に離れているので延伸ガスによってはあまり加熱されず、周囲空気によって冷却される。

形成されたファイバは、延伸ガス流によって、一般にはガス透過性ベルトからなるレシーブベルトへ向けて運ばれ、その上で、それらファイバは、ブランケットの形態に絡め合わされる。

それらファイバを相互に固定するため、一般には、バインダが、レシーブベルトに向かう経路の間でファイバに噴霧される。このバインダは、例えば、ガス流を取り囲み、複数の噴霧口を有するリングによって噴霧される。

このバインダは、次いで、例えばレシーブベルトを介した熱処理によって硬化される。

これらフェルトの準備において遭遇する困難の１つは、フェルト全体内におけるファイバの分布に起因しており、その分布は、最高限度に均一であることが望まれる。その分布におけるどのような不均一さも、所望の密度よりも低い局所的な密度をもたらすかも知れず、これは、一般には、製造の間に、フェルトの平均密度を高めることによって是正されている。しかしながら、良好な絶縁、特には断熱性能を得ながら、製品をより軽くするためにその密度を減少させることが常に望ましい。それゆえ、フェルト中のファイバの分布を製造ライン上で可能な限り均質にするというねらいは、絶えることなく存在している。

ファイバの分布を改良する公知の手段は、仏国出願公開第２５４４７５４号に記載されているような「バケット」と呼ばれているデバイスの使用であって、それは、スピナの下であってバインダ噴霧デバイスの上方のガス流経路内に設置される案内ダクトからなる。このダクトはファイバを運び、それは、ファイバ流をファイバレシーブベルトの一辺から他辺へと交互に向かせるための揺動動作をする。

しかしながら、この解決法は、ファイバの性質を、そのバケットデバイスの壁への衝突に伴う擦れ効果によって劣化させる傾向を有している。

他の公知の手段は、空気を、環状ガス流に向けて、それに通過させるために実質的に垂直に吹き込むことにある。

仏国特許第１２４４５３０号は、バインダ噴霧デバイスの上方であってガス流を挟んで反対側に設置された２つのノズルを記載しており、それらの空気ジェットは、ファイバのベールがレシーブベルト上に堆積するときに往復動作するように交互に動かされる。

米国特許第４２６６９６０号は２つのデバイスを示しており、それらの各々は、環状ガス流に対して垂直に及びその環状ガス流中に高速で到達する平たい空気ジェットを送り出し、それら２つのデバイスは、それら空気ジェットの方位が、環状流が複数の発散流へと分かれるのを確実にするように、ガス流の何れか一方側に設置される。

これら送風手段は、それゆえ、管状流を分割するため及び／又はその方位を変更するために、空気をファイバの管状シースに対してほぼ垂直になるように向かせる。しかしながら、これら手段には、空気ジェットの衝突の瞬間にベールに孔を生じさせるリスクがあり、それは、結局は、レシーブベルト上でのファイバの均一な分布を最適化しない。

更に、これら手段を用いることに伴うリスクの１つは、それらは、オペレータによる調節が非常に難しいことである。

最後に、文献ＦＲ２５１０９０９は、ファイバ分布を改良する方法を開示しており、それは、ファイバを搬送している管状ベールを、それを被包することによって、その周辺部の周りで抱え込むように向きが合わされたガスシースを生成することにあり、管状ベールと正接する平面におけるガスシースの流れ方向は、ベールの流れ方向に対して１０乃至６０°の角度を為している。

この方法を実行するためのデバイスは、環状のチャンバを備えた送風リングからなり、そのベースは、ガスシースを発生するように加圧ガスを流す。或る配置において、チャンバのベースは、第１態様では傾斜孔などを有し、他の態様では連続スロットを有し、その流れ方向は、ガスシースの経路に沿ってこのスロット内に規則的な間隔で設置された複数の傾斜フィンによって提供される。

しかしながら、このタイプのデバイスは、チャンバのベースから、ファイバに対して接線方向に、管状シースの流れに対して１０乃至６０°の角度で及びそれらファイバが延伸される領域又はその領域の端の中に空気を送風し、これにより分布の調整を妨げ、それは、得られるファイバの品質から独立している。

それゆえ、本発明の目的は、特には、要求されるファイバの品質を延伸される際に維持しつつ、フェルト中のファイバの分布を改良することを意図したファイバフェルトを製造するためのデバイスであって、所定の熱又は絶縁性能を達成するために所望の密度の均一なフェルトを得ることを可能としつつ、従来技術の欠点を有していないデバイスを提供することにある。

本発明によると、そのデバイスは、内部遠心法によって及びガス流による延伸によって延伸され得る材料からなるファイバフェルトを形成するための設備用であり、ファイバの流れは実質的に管状ベールの形態にあり、このデバイスは、そのベールに回転動作を付与するようにベールに対して接線方向に空気を吹き出す空気送風手段を含み、その送風手段がそのベールの流れの主方向に対して垂直に空気を供給することを特徴とする。

「流れの主方向に対して垂直に」という表現は、ガスの速度が単一成分を有し、その方向はベールの流れの主方向に対して垂直であることを意味すると理解される。

それゆえ、ベールに対して接線方向に送風された空気は、回転動作を非常に効果的に生じさせ、この回転動作は、発生する遠心エネルギーによって、渦を生じさせることを可能とし、この渦はベールを拡大させ（ベールの直径が増大し）、ベールがベルト上へと降りたときに、それは均一に広がる。

ファイバのベールの円周の周りに均一に空気を送風するこのデバイスは、従来技術のデバイスとは異なり、ベール内に局所的な混乱を生じさせない。経験から、このデバイスは、より信頼性の高い制御を提供することが分かっており、これに対し、従来技術の送風デバイスは、制御が困難なより不安定な状態をもたらすであろう。

より均一な分布は、同じ絶縁特性を保ちつつ、フェルトの密度が減少させられることを可能とし、それゆえ、製品はより軽く且つ製造がより安価である。密度の減少は、遠心可能な溶融材料の同じ出力について、製造されるフェルトの量を増加させることも可能とする。

或る特徴によると、送風手段は、空気を５乃至４０ｍ／秒の速度で送り出すが、それは、１乃至４５ｍ／秒であってもよく、有利には約１乃至３０ｍ／秒であるかも知れない。空気を送風するための供給圧力は、最大で６０ｍｍＷＣであるが、３５０ｍｍＷＣにまで及んでもよい。

それゆえ、このシステムは、それは低圧（６０ｍｍＷＣ未満）の空気を使用するという事実のおかげで、エネルギーを殆ど消費しない。それゆえ、この低速度及び低圧空気の接線方向送風は、製品の構造に好ましくないストランドの形成を最小化しつつ、ファイバベールの構造に孔をつくることなしに、ファイバのジェットが内側から外側に向けて拡大するのを可能とする。

他の特徴によると、送風手段は、開口部のない外壁と、管状ベールを取り囲むように意図され、部分的に開口した内壁とを有する環状チャンバからなり、外壁は少なくとも１つの空気取り入れ口を有しており、内壁は複数の部分閉塞フィンを有している。

好ましくは、環状チャンバは、複数の、例えば３又は４つの空気取り入れ口を介して供給され、周辺全体に亘って均質に送風される空気を導入するために、又は、必要であれば、ファイバベールの流れにおける不均整を正すべく、チャンバの周囲に沿った圧力差を導入して、セクタ毎に異なる空気速度によって補償するために、各取り入れ口から発せられる空気の圧力が調節され得る。

他の特徴によると、それらフィン、特には軸の周りで揺動させられ得るフィンは、好ましくは１５乃至２５°の開放角に合わされるが、それは、４０°までであってもよく、好ましくは２０乃至３０°である。

好ましくは、内壁は、ベールと向き合い且つそれらフィンの高さの少なくとも一部に亘って延びた環状ライニングで裏付けされる。このライニングは、空気誘導口のベールに対して正接する断面を調節するための追加の手段を構成する。

任意に、環状チャンバは、それらフィンと向き合った内壁を通して空気を分配するための環状グリッドを含む。

有利には、このデバイスは、環状チャンバの一方側から（そのデバイスの設置位置における下流側で）延びた少なくとも１つのフレア形状の管状伸長壁を含み、その壁は、送風手段によって出力された管状ベールを拡散させることが意図されている。

第１伸長壁から反対側に延びたフレア形状の他の管状伸長壁が、環状チャンバから反対側に（そのデバイスの設置位置における上流側に）さらに設けられていてもよく、この壁は、送風手段に入る際に管状ベールを案内することが意図されている。

また、本発明は、ファイバフェルトを形成するための設備であって、遠心可能な材料に遠心力を作用させるデバイスであって、前記材料の複数のフィラメントを送り出す繊維化皿が設けられたデバイスと、その遠心デバイスの下に設置されたインダクタと、それらフィラメントを複数のファイバへと変換する高温ガス流を実質的に管状ベールの形態で送り出すガス延伸デバイスとを含み、前記設備は、本発明に係るファイバの分布を改良するためのデバイスを含み、このデバイスは、インダクタの直下に又はインダクタから或る距離を隔てて設置された設備に関する。

好ましくは、特には、そのデバイスがインダクタの下に設置される場合、それは、インダクタが発生する磁場を拾わない耐熱材料からなる。

或る特徴によると、そのデバイスをインダクタから隔てている距離は、繊維化皿の直径の約０．５乃至１．５倍である。しかしながら、そのデバイスは、インダクタの直下にあってもよく、それに取り付けられていてもよい。

この設備は、ファイバの分布を改良するためのデバイスの下流に設置されたバインダ供給デバイスを含んでいてもよい。

残りの記述における用語「上流」及び「下流」は、それぞれ、その設備の、その運転のために据え付けられ、繊維化されるべき材料の上方からの下向きの流れを受け取る部分に対して、或る素子の下部及び上部であると理解されなければならない。

最後に、本発明は、フェルト中におけるファイバの分布を改良するための本発明のデバイスを使用するファイバフェルトの製造プロセスに関する。

本発明の他の利益及び特徴は、添付の図面に関してより詳細に説明され、そこで、
− 図１及び２は、本発明に係るファイバ分布を改良するためのデバイスを含んだファイバフェルトを形成するための設備の２つの態様の概略部分断面図を示し、
− 図３は、本発明に係る上記改良デバイスの詳細な断面図を例示し、
− 図４は、改良デバイスの一態様の縦断面図を示し、
− 図５は、本発明のデバイスによって射出される空気の速度の関数としての、フェルトの単位面積当たりの質量の変動係数曲線を示している。

それら図面に例示される代表例は、それらの理解を容易にするために、概略的であって、厳密な縮尺で描かれてはいない。

図１及び２は、本発明のデバイス６を備えたファイバフェルトを形成するための設備の２つの態様の部分鉛直断面面図を示しており、それらの配置は、特には、一方の態様と他方の態様とで異なっている。

設備１は、両図面に共通している様式で、及び、上流から下流への又は上から下への公知の様式で、溶融状態にある延伸可能な材料の流れの方向に沿って、延伸可能な材料の複数のフィラメントを送り出す内部延伸デバイス１０と、それらフィラメントを複数のファイバへと変換するガス流を送り出す延伸デバイス２０と、延伸デバイス１０の下に設置された環状インダクタ３０と、バインダ供給デバイス４０と、それらファイバを受け取るためのベルト５０とを備えており、そのベルトの上にファイバが集められてフェルトを形成する。

延伸デバイス１０は、繊維化皿とも呼ばれており、高速で回転し、その周壁の周囲に非常に多数の孔が穿孔されているスピナ１１を備えており、遠心力のおかげで、それら孔を介して、溶融した材料が複数のフィラメントの形態で射出される。

延伸デバイス２０は、高温及び高速度のガス流を送り出す環状バーナを備えており、それは、スピナの壁１２を抱え込んでいる。このバーナは、スピナの壁を高温に保つ役割を果たすと共に、それらフィラメントを複数のファイバへと変換するためのそれらの延伸に寄与し、それらファイバは、実質的に管状のベールの形態で落ちる。

延伸ガス流は、一般には、低温包囲ガスシースの手段によって導かれる。このガスシースは、環状バーナを取り囲んでいる送風リング２１によって生成される。低温であるので、このガスシースは、それらファイバの冷却を助け、それゆえ、それらの機械的強度は温度消失効果によって改良される。

環状インダクタ３０は、繊維化皿の熱平衡を維持するのを助けるために、延伸デバイスの下側を加熱する。

バインダ供給デバイス４０はリングからなり、それを通って、ファイバの管状ベールが流れる。このリングは、ファイバのベールにバインダを噴霧する複数のノズルを含んでいる。

ファイバのベールは、次いで、レシーブベルト５０上に堆積される。

ベルト上でのファイバの分布を改良するために、この設備は、本発明のデバイス６を含んでおり、これは、延伸デバイス及びインダクタの下に設置されている。このデバイスは、ファイバの管状ベールの流れに対して接線方向に及び垂直に低圧空気を送風又は衝風して、そのベールの軸の周りに渦が発達するように力強い回転動作を付与するための手段からなり、それゆえ、そのベールは、最早、管状ではないが、漸次広がる。それゆえ、この渦は、ファイバジェットの均質な膨張をもたらし、それらファイバがレシーブベルトの幅に亘って均一に広がることを可能とする。

空気射出手段は、空気を１乃至４５ｍ／秒で変動してもよい速度で送り出す。この速度は、特には、低圧、即ち、３５０ｍｍＷＣまでの圧力で送風される空気から得られる。

図１に示す設備に例示される第１態様において、空気射出手段６は、インダクタ３０の直下に設置されている。本態様における手段６は、インダクタが発生する磁場を拾わない耐熱材料からなる。

手段６は、ファイバベール２を取り囲む環状チャンバからなる。

この環状チャンバは、図３においては上方から描かれており、環状キャビティ６０を規定する外壁６１及び内壁６２を有しており、そのキャビティ中には外壁を介して空気が入り、これを用いて、内壁を介して、空気が管状ベール２に対して接線方向に及び垂直に供給される。

外壁６１は、少なくとも１つ、例えば３又は４つの空気供給オリフィス６３を含んでおり、それらは、有利には、チャンバの周囲に沿って等距離に配置されて、キャビティ６０に入る空気の堆積を均質化する。

有利には、それら供給オリフィスの各々の上流には、個別の圧力調節手段（ここでは図示せず）が提供されて、それらオリフィスの各々からの空気の出口速度を調整し、必要であれば、ファイバベール内に分布の欠陥をもたらすかも知れない周囲の不均衡を正すべく、圧力差がチャンバの周囲に発生させられてもよい。

内壁６２は部分的に開口しており、それは、射出空気の速度及び方向を制御するように適当に方向付けられた複数のフィン６４を用いて仕切られていてもよい。

それらフィン６４は、壁６１及び６２に平行な軸に沿って並んだ少なくとも２点で壁に固定されている。それらは、固定位置に、フィンの取り付け点に正接する平面Ｐに対して選択された傾斜角又は開放角αで保たれており、この角度は、１５乃至４０°であり、好ましくは２０乃至３０°である。

それらフィンは、特定の位置でキャビティ６０に留められるか、又は、一変形例では、それらはそれらの壁への取り付け点を通る軸の周りで揺動して、所望の傾斜角αを制御することができる。

それらフィン６４の揺動は、それらを、キャビティ６０内に設置され、回転するように設計されたディスクなどの環状素子６５に留めることによって達成される。このディスクは、外壁６２の外側にある把持部材６６に接続されており、その動作はディスクの回転を可能とする。把持部材は、ディスクの回転を棒すするための手段（図示せず）と組み合わされる。

それらフィンは、内壁６２の閉鎖エリアの変動が制御されるのを、そして、その結果、ファイバベールの周りの空気供給速度及び方向の変動が制御されるのを可能とする。傾斜角αがより大きくなると、すなわち、内壁がより少なく閉鎖されると、空気はガラスベールから出るときにより少なく加速される。傾斜角αがより小さくなると、それゆえ、それらフィンが内壁６２に対して最大限に接線方向に方向付けられると、ガラスベールに到達する空気の加速はより大きくなる。

更に、空気の速度は、空気供給圧力によって制御される。

それらフィンからの出力として送り出される空気は、約１乃至４５ｍ／秒である。

任意に、設けられる供給オリフィス６３の数に依存して、例えば、有孔シートからなり、キャビティ６０内でフィン６４と向き合った環状空気分配グリッド６７（図４）が想起され、フィンの位置で空気送風の均一性を最適化してもよい。

更に、フィンと向き合って及びフィンの出口位置に、ベールの方向に、フィンの上部が部分的に遮断されるのを可能とする高さ調整が可能な環状ライニング６８を追加することが好ましいかも知れない。このライニングは、空気の送り出し速度を調節するために壁の開口を調整する他の手段を構成する。

図２に示す態様では、改良デバイス６は、図１に示すのと類似しているが、バインダ噴霧デバイス４０の上流に留まったまま、インダクタ３０から或る距離を隔てている。デバイス６をインダクタから隔てているこの距離は、繊維化皿の直径の約０．５乃至１．５倍である。

デバイス６は、図１、３及び４に記載したデバイスと同様の素子を有している。

しかしながら、そのインダクタ３０からの距離のため、それは、必ずしも、非常に高い耐熱性を有し且つ磁場を拾わない材料からなる必要はなく、例えば、それはステンレス鋼からなる。

更に、それは、好ましくは、フレア形状の管状伸長壁６９ａ及び６９ｂを備えており、それらは、環状チャンバの何れかの側で、実質的に管状のファイバベールの方向に、上流ではファイバベールを導くために、及び、下流ではそのベールをレシーブベルトに向けて拡散させるために延びている。それゆえ、上流壁６９ｂは、設備の頂部に向けて広がっており、下流壁６９ｂは下方に向けて広がっている。

図１及び２に示す態様では、それらフィンの配向は、ガラスベールを膨張させるためにその周りに到達する空気に与えられるべき速度及び方向に応じて調整され、その速度は改良デバイス６の高さ位置に応じて、即ち、延伸デバイスに近いか又は遠いかに依存して異なる。

図５は、手段６によって射出される空気の速度の関数としての、フェルトの単位面積当たりの質量の変動係数曲線を例示している。この曲線は、図２に示す態様に係るパイロット設備において得られる。ここでは、空気の速度は、空気供給圧力を調整することにより変化させられる。

その形成設備は、幅１４００ｍｍのウェブを送り出した。幅２００ｍｍ、長さ３００ｍｍの７つのストリップが裁断され、それらの重量が測定された。

７つの測定された重量の平均とこれら測定の標準偏差とが計算された。

次いで、裁断されたウェブの幅の場合における変動係数が、それら重量の平均に対する標準偏差の比によって計算された。

０乃至３７ｍ／秒の射出空気速度の４つの測定値のために、複数のウェブのサンプルが用いられた。

本発明のデバイスが動作しない場合（速度が０ｍ／秒と等しい）、変動係数は約３５％である。これは、空気送風なしでは、伸長壁６９ａ及び６９ｂは、フェルトのチユ真にファイバを集中させ、より高い変動係数を与えるためである。

本発明のデバイスが動作する場合、空気の速度を２０乃至３０ｍ／秒に調節することにより、変動係数がたった約１７％となることが見出されている。

先のデバイスを用いた変動係数の減少は、ファイバのより良好な分布をもたらし、それゆえ、本発明のデバイスを用いて製造されるフェルトの密度を低減する。

本発明に係るファイバ分布を改良するためのデバイスを含んだファイバフェルトを形成するための設備の一態様を示す概略部分断面図。 本発明に係るファイバ分布を改良するためのデバイスを含んだファイバフェルトを形成するための設備の他の態様を示す概略部分断面図。 本発明に係る上記改良デバイスの詳細な断面図。 改良デバイスの一態様を示す縦断面図。 本発明のデバイスによって射出される空気の速度の関数としての、フェルトの単位面積当たりの質量の変動係数曲線を示す図。

Claims (14)

1. ファイバフェルトの形成を助けるデバイス（６）であって、それらファイバは内部遠心法によって及びガス流を用いた延伸によって延伸され得る材料からなり、それらファイバの流れは管状ベール（２）の形態にあり、前記デバイスは、前記管状ベール（２）に対して接線方向に空気を射出して、前記ベールに回転動作を付与する送風手段（６）を含み、前記送風手段（６）は、前記管状ベールの流れの主方向に垂直な方向に空気を供給することを特徴とするデバイス。
2. 請求項１に記載のデバイスであって、前記送風手段（６）は、空気を約１乃至４５ｍ／秒で送り出すことを特徴とするデバイス。
3. 請求項１又は２に記載のデバイスであって、前記送風手段（６）は、開口部のない外壁（６１）と、前記管状ベール（２）を取り囲むように意図され、部分的に開口した内壁（６２）とを有する環状チャンバ（６０）からなり、前記外壁は少なくとも１つの空気取り入れ口（６３）を有しており、前記内壁（６２）は複数の部分閉塞フィン（６４）を有していることを特徴とするデバイス。
4. 請求項３に記載のデバイスであって、前記環状チャンバ（６０）は複数の空気取り入れ口（６３）を介して供給され、必要であれば、前記チャンバの周囲に沿った圧力差を提供するために、各取り入れ口から発せられる空気の圧力が調節され得ることを特徴とするデバイス。
5. 請求項３又は４に記載のデバイスであって、前記フィン、特には軸の周りで揺動させられ得るフィン（６４）は、好ましくは１５乃至２５°の開放角に合わされることを特徴とするデバイス。
6. 請求項３乃至５の何れか１項に記載のデバイスであって、前記内壁（６２）は、前記ベールと向き合い且つ前記フィンの高さの少なくとも一部に亘って延びた環状ライニング（６８）で裏付けされていることを特徴とするデバイス。
7. 請求項３乃至６の何れか１項に記載のデバイスであって、前記環状チャンバ（６０）は、前記フィン（６４）と向き合った内壁（６２）を通して空気を分配するための環状グリッド（６７）を含んだことを特徴とするデバイス。
8. 請求項３乃至７の何れか１項に記載のデバイスであって、前記環状チャンバの一方側から延びた少なくとも１つのフレア形状の管状伸長壁（６９ａ）を含み、その壁は、前記手段（６）によって出力された前記管状ベール（２）を拡散させることが意図されていることを特徴とするデバイス。
9. 請求項８に記載のデバイスであって、その反対側で前記環状チャンバの他方の側から延びたフレア形状の他の管状伸長壁（６９ｂ）を含み、それは、前記手段（６）に入る際に前記管状ベール（２）を案内することが意図されていることを特徴とするデバイス。
10. ファイバフェルトを形成するための設備であって、遠心可能な材料に遠心力を作用させるデバイス（１０）であって、前記材料の複数のフィラメントを送り出す繊維化皿（１１）が設けられたデバイスと、前記遠心デバイス（１０）の下に設置されたインダクタ（３０）と、前記フィラメントを複数のファイバへと変換する高温ガス流を実質的に管状ベール（２）の形態で送り出すガス延伸デバイス（２０）とを含み、前記設備は、請求項１乃至９の何れか１項に係るデバイス（６）を含み、このデバイスは、前記インダクタ（３０）の直下に又は前記インダクタ（３０）から或る距離を隔てて設置されたことを特徴とする設備。
11. 請求項１０に記載の設備であって、前記デバイス（６）は、前記インダクタが発生する磁場を拾わない耐熱材料からなることを特徴とする設備。
12. 請求項１１に記載の設備であって、前記デバイス（６）を前記インダクタ（３０）から隔てている距離は、前記繊維化皿（１１）の直径の１．５倍までであることを特徴とする設備。
13. 請求項１０乃至１２の何れか１項に記載の設備であって、前記ファイバの分布を改良するための前記デバイス（６）の下流に設置されたバインダ供給デバイス（４０）を含んでいることを特徴とする設備。
14. ファイバフェルトを、前記フェルトにおける前記ファイバの分布を改良するために、請求項１乃至９の何れか１項に記載のデバイスを用いて製造する方法。

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