JP2008517895A - 塩酸イルベサルタンの製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、2−n−ブチル−4−スピロシクロペンタン−1−[(2'−(テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]−2−イミダゾリン−5−オン塩酸塩の製造方法、塩酸イルベサルタン、その新規な水和された及び無水の結晶形態、無定形塩酸イルベサルタン、該化合物を含有した製剤、その治療上の使用、及び該化合物を使用する治療方法に関するものである。
本発明の方法は、中間化合物である、2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ[4,4]ノン−1−エン−4−オンと5−(4'−ブロモメチル−ビフェニル−2−イル)−トリチル−1H−テトラゾールとを反応させることを含むワンポット法である。
【選択図】なし

Description

本発明は、2−n−ブチル−4−スピロシクロペンタン−1−[(2'−(テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]−2−イミダゾリン−5−オン塩酸塩、即ち塩酸イルベサルタン、該化合物の新規な結晶形態の製造方法、該化合物を含有した製剤、該化合物の治療上での使用、及び該化合物を使用する治療方法に関するものである。
イルベサルタン、即ち2−n−ブチル−4−スピロシクロペンタン−1−[(2'−(テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]−2−イミダゾリン−5−オンは、次の構造式で表すことができる。
Figure 2008517895
イルベサルタンは、非ペプチド系アンジオテンシン−II拮抗薬である。イルベサルタンは、アンジオテンシン−IIのその受容体に対する作用を阻害し、そのため、ホルモン−受容体の相互作用によって引き起こされる血圧の上昇を防止する。従って、イルベサルタンは、高血圧及び心不全などの心血管病訴を治療するのに使用される。
米国特許第5,270,317号には、2−n−ブチル−4−スピロシクロペンタン−1−[(2'−(テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]−2−イミダゾリン−5−オンを始めとする特定のN−置換複素環誘導体、並びに該誘導体の製造及び使用方法が開示されている。
米国特許第5,629,331号には、2−n−ブチル−4−スピロシクロペンタン−1−[(2'−(テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]−2−イミダゾリン−5−オンの2種の多形形態、即ち形態A及び形態B、それらの製造方法、並びに高血圧の治療のための該多形形態の使用が開示されている。
国際公開第99/67236号には、2−n−ブチル−4−スピロシクロペンタン−1−[(2'−(テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]−2−イミダゾリン−5−オンの形態Aの新規な結晶晶癖、その製造方法、及び該結晶晶癖を含有する組成物が開示されている。
国際公開第03/050110A1号には、形態A及び形態Bからの無定形2−n−ブチル−4−スピロシクロペンタン−1−[(2'−(テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−イル)メチル]−2−イミダゾリン−5−オンの製造が開示されている。
国際公開第04/007482A2号には、トリチルイルベサルタンの段階で相間移動触媒を使用する、イルベサルタンの2相調製が開示されている。
国際公開第04/072064A1号には、相間移動触媒、無機塩基、及び溶媒の存在下で下記出発原料を反応させることを含む、irb−Trのいくつかの製造方法が開示されている。
Figure 2008517895
国際公開第2004/072064号の方法は、イルベサルタンに変換する前に、irb−Trを(分離カラムクロマトグラフィー、及び場合によっては蒸留により)単離することを含んでいる。
しかし、次の理由により、イルベサルタンの改善された製造方法が求められている。
米国特許第5,270,317号、米国特許第5,559,233号、及び欧州特許第045451B号で考察されているようなイルベサルタンの合成は、ビフェニル環上のシアノ基とアジ化物、例えばトリブチルスズアジドとの反応からなる終わりから(後処理及び精製を除いて)2番前の反応ステップを含む。210時間もの長い反応時間が必要とされ(米国特許第5,270,317号の20段5行目を参照のこと)、アジ化物の使用に関連する安全上の危険性のあることが、当技術分野で認識されている。
米国特許第5,629,331号には、また、アジ化物とシアノ基との上記のように反応が開示されており、その方法は、双極性非プロトン性溶媒、例えば、比較的沸点が高く除去が困難である場合もあるメチルピロリドンの存在下で実施される。米国特許第5,629,331号は、高温でのアジ化物の使用に伴う安全上の危険性を承知している(4段39行を参照)。
国際公開第04/007482A2号には、トリチルイルベサルタンを2相反応で使用する、イルベサルタンの製造が開示されている。トリチルイルベサルタンを、まず製造し、残留物の形態で単離し、次いで、アセトン−HCl混合物中で脱トリチル化し、さらに、塩基化し、トリタノールと共に濾過し、再酸性化してイルベサルタンを単離する。粗イルベサルタンの単離には、その方法を厄介で且つ工業的規模で使用するのに適さないものにする、塩基化、再酸性化、トルエン蒸留、及び単離が必要とされる。
さらに、上述の従来法で製造されるイルベサルタンを製剤するには、得られるイルベサルタン粉末が、その高い帯電性により装置の壁体に、例えば、ポンチの側面に、又は混合機の壁体に固着する傾向があるので、より多くの注意が必要であった。従って、イルベサルタンの改善された製造方法、特に、非帯電性であり、自由に移動する流動特性を有し、反応時間及び後処理時間がより短く、生産性及び良好な本質的溶解性を高める単純化された仕上げ操作を含む、イルベサルタンを提供可能な方法が必要とされている。このことは、優れた流動特性を有する塩酸イルベサルタンをもたらす本発明によるワンポット法によって本質的に達成されることとなった。
従って、本発明によれば、式(I)の塩酸イルベサルタンのワンポット製造方法が提供され、
Figure 2008517895
該ワンポット方法は、中間化合物である、塩形態、好ましくは塩酸塩でもよい式(II)の2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ[4,4]ノン−1−エン−4−オン、及び式(III)の5−(4'−ブロモメチル−ビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾールを反応させることを含む。
Figure 2008517895
(式中、Halは、ブロモ、クロロ、フルオロ、又はヨード、好ましくはブロモである。)。
式(II)及び(III)の中間化合物は当技術分野で周知である。
式(II)及び(III)の中間化合物を反応させると、下記式(IV)の中間化合物、即ち、塩形態、好ましくは塩酸塩でもよい2−n−ブチル−3−[2'−(トリフェニルメチルテトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル]−1,3−ジアザスピロ[4,4]ノン−1−エン−4−オンが形成され、続いて脱トリチル化されて式(I)の塩酸イルベサルタンを生成する。
Figure 2008517895
従って、本発明による塩酸イルベサルタンのワンポット製造方法は、下記反応スキームで表すことができ、
Figure 2008517895
ここで、Halは、ブロモ、クロロ、フルオロ、又はヨード、好ましくはブロモを表し、中間化合物(II)及び(IV)のそれぞれは、任意に、塩形態、好ましくは塩酸塩で存在できる。
本発明によるワンポット法は、自由に流動し、非固着性で、非帯電性である結晶性の水和又は無水形態の、或いは無定形形態の塩酸イルベサルタンを高い純度及び収率で提供できる。好ましくは、本発明によるワンポット法は、塩酸イルベサルタンを、セスキ水和物、半水和物、無水又は無定形形態として提供し、また、該方法は、イルベサルタンの遊離塩基を形態A又は形態Bとして製造するのに使用できる。
典型的には、式(II)の中間化合物は、塩形態で、好ましくは塩酸塩で使用される。
好ましくは、本発明によるワンポット法は、任意に、第一及び第二相を含む反応系中において、相間移動触媒の存在下で、さらには無機塩基の存在下で実施される。脱トリチル化は、好ましくは、鉱酸を使用して達成される。
類似タイプの反応に相間移動触媒を使用することは、前に、アンジオテンシンII受容体拮抗薬ロサルタンの製造に関して記載されている。相間移動触媒は、少なくとも第一及び第二反応物が、それらの反応物に実質上共通な溶媒が存在せず、従って一方のための溶媒を他方のための溶媒と組み合わせると2相系が生じるような異なる溶解特性を有する場合に、特に有用性がある。いくつかの部類の化合物、例えば、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物、又はクラウンエーテルなどが相間移動触媒として作用する能力を有することが知られている。
本発明による方法は、好ましくは、ワンポット反応系の溶媒として芳香族又は脂肪族炭化水素を使用し、好ましい溶媒は、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、又はm−キシレンなどの芳香族炭化水素である。トルエンは、本発明に使用するのに特に好ましい芳香族炭化水素である。アセトン及びMIBKなどの脂肪族ケトンも、該反応系の溶媒として使用できる。本発明の実施において有用なその他の炭化水素は、当業者にとって明らかであろう。
本発明による方法におけるワンポット反応系で使用される溶媒は、本質的には、実質的に上述の炭化水素溶媒から構成できる。代わりに、反応系が、第一及び第二溶媒相を含むことが好ましい場合もある。適切には、第一溶媒相は実質的に上述の炭化水素溶媒を含み、それと第二溶媒相の溶媒は実質的に非混和性である。典型的には、第二溶媒相の溶媒は水を含み、その水は単独で使用してもよいし、或いはより好ましくはそれと無機塩基を組み合わせることができる。
本発明による反応系で使用される無機塩基は、アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、又はアルコキシド、例えば、KOH、NaOH、LiOH、K2CO3、Na2CO3、Cs2CO3、ナトリウムメトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、及びカリウムt−ブトキシドなどからなる群から選択できる。本発明に使用するための無機塩基は、上記反応系の第二相の溶媒としての水と組み合わせることが可能であり、或いは、それ自体粉末形態として使用できる。本発明によるワンポット反応で使用するための好ましい塩基は、NaOH、カリウムt−ブトキシド、又はナトリウムt−ブトキシドである。
本発明により提供されるようなワンポット合成法は、好ましくは、式(III)の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾールと、HClとしての式(II)の2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ[4,4]−ノン−1−エン−4−オンとの反応を、炭化水素溶媒、好ましくはトルエンの存在下で、場合によってはワンポット反応系の第二相としての水の存在下で、塩基の存在下での相間移動触媒を用いて行うことにより、先に示した式(IV)の2−n−ブチル−3−[2'−(トリフェニルメチルテトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル]−1,3−ジアザスピロ[4,4]ノン−1−エン−4−オン塩酸塩を製造することを含む。好ましくは、式(II)及び(III)の中間化合物の縮合は、約20℃〜約95℃、好ましくは約85℃の温度で実施する。該反応は、当業者により反応温度に従って調節されることが知られている時間で進行される。例えば、該反応温度が約90℃である場合には、通常約1〜2時間の反応時間で十分である。該反応は、薄層クロマトグラフィーを用いて容易に監視できる。反応が完結した後、該反応物を約25℃に冷却し、もし存在するなら水層を分離し、該反応物を水で洗浄し、層を分離する。HCl(4N)などの適切な酸を該反応物に添加し、約55℃で40分〜1時間撹拌する。該反応は、やはり、薄層クロマトグラフィーを用いて容易に監視可能であり、該反応が完結した後、生成物を濾過することができる。濾過の際には、生成物を水で洗浄、乾燥し、水和形態の塩酸イルベサルタンを得る。
場合によっては、本発明による塩酸イルベサルタンを、高温でメタノールなどの溶媒に溶解することによってさらに精製し、酢酸エチルなどの非溶媒を用いて沈殿させることができる。また、本発明による塩酸イルベサルタンは、高温で、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、又は酢酸エチル−メタノール混合物などの溶媒に懸濁させること、及び該懸濁液を室温で濾過することによって精製することができる。水和の水は、上記の精製方法において塩酸イルベサルタンによって保持される。
本発明による方法は、さらに、任意に、該方法によって製造された塩酸イルベサルタンをイルベサルタン遊離塩基の形態A又は形態Bに変換することを含むことができる。従って、適切には、該方法は、pHを約6〜7に調節するためにアンモニア水などの塩基を添加すること、続いてイルベサルタン遊離塩基を形態A又は形態Bとして単離することをさらに含む。本発明は、さらに、本明細書に記載の方法で製造された形態A又は形態Bのイルベサルタン遊離塩基を提供する。
本発明によるワンポット法では、トリチルイルベサルタンの単離が回避され、国際公開第04/007482号で言及されているような、蒸留、反応物の塩基性化、及び酸性化などの厄介な後処理手順を含まない。本発明の特に有利な実施態様によれば、カップリング及び加水分解の2つのステップは、同一溶媒を使用して行われ、それ自体、ある溶媒を別の溶媒で置き換えることがない。本発明の上記特徴により、厄介な蒸留工程が排除され、そのため、従来方法の1つの特徴である不純物の形成が回避される。本発明の他の実施態様において、脱トリチル化後に、反応の副生物であるトリタノールはトルエンに溶解しており、それゆえ、イルベサルタンを純粋な塩酸塩の形態で直接濾過できる。従って、本発明は、トリタノールの濾過を必要とせず、全工程が、シングルポット(single pot)で完結し、トリチルイルベサルタンを単離する必要がない。
従って、有利には、トリチルイルベサルタンを形成するステップ、及びトリチルイルベサルタンをイルベサルタンに変換するステップは、同一の溶媒又は溶媒群中で実施される。有利には、イルベサルタンを塩酸イルベサルタンに変換するステップは、前のステップ(群)と同様の溶媒又は溶媒群中で実施される。
さらに、このワンポット反応において、イルベサルタンを単離するのに必要な総時間は約8〜10時間であり、より長時間を必要とする従来方法と比較すると、本発明による生産性の莫大な利得につながる。本発明により得られる水和された塩酸イルベサルタン又は無水の塩酸イルベサルタンは、自由に移動する流動性、低帯電性、非固着性、非吸湿性であり、良好な本質的溶解性を有し、且つ高収率及び高純度で得られる。
本発明によれば、さらに、上述したように実質的に非吸湿性であり、且つ良好な流動特性を有する、結晶性の水和及び無水の塩酸イルベサルタンが提供される。本発明により、さらに、本発明による方法で製造されるような水和形態又は無水形態の結晶性塩酸イルベサルタンが提供される。本発明による塩酸イルベサルタンの水和物は、1重量%〜約10重量%の水分含有量を有し、塩酸イルベサルタンの無水形態は、0.1重量%〜1.0重量%の範囲の水分含有量を有する。本発明は、さらに、無定形形態の塩酸イルベサルタンを提供する。
従って、具体的には、本発明は、塩酸イルベサルタンの無定形、無水物、半水和物、及びセスキ水和物の形態を開示する。
従って、本発明により、図2に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを有する結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物が提供される。より詳細には、塩酸イルベサルタンセスキ水和物は、約3638、3273、2451、1761、1639、1541、1477、1323、及び1302cm-1に、特徴的なIR吸収を有する。
本発明による結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物は、約5.7%〜7.5%の水分含有量を有することをさらに特徴とする。
本発明による結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物は、図1に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することをさらに特徴とする。本発明による結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物は、特徴的なピーク(2θ):7.49、8.24、11.01、14.92、15.32、16.28、17.38、22.52、22.98、23.42、24.68、26.57、27.00、及び28.47°を有することをさらに特徴とする。
X線回折で得られる本発明による結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物をさらに特徴とするデータを次表1に示す。
Figure 2008517895
Figure 2008517895
従って、本発明により、図4に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを有する結晶性塩酸イルベサルタン半水和物がさらに提供される。より詳細には、塩酸イルベサルタン半水和物は、約1772、1627、1519、1476、1226、1070、998、959、940、708、及び645cm-1に、特徴的なIR吸収を有する。
本発明による結晶性塩酸イルベサルタン半水和物は、約1.7%〜2.8%の水分含有量、及び適切には約186℃の融点を有することをさらに特徴とする。
本発明による結晶性塩酸イルベサルタン半水和物は、図3に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することをさらに特徴とする。本発明による結晶性塩酸イルベサルタン半水和物は、特徴的なピーク(2θ):8.2、10.33、11.02、12.42、12.87、15.32、15.76、16.25、17.46、22.42、22.98、23.3、24.81、25.75、26.53、及び27.06°を有することをさらに特徴とする。
X線回折で得られる本発明による結晶性塩酸イルベサルタン半水和物をさらに特徴とするデータを次表2に示す。
Figure 2008517895
Figure 2008517895
本発明により、図6に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを有する結晶性無水塩酸イルベサルタンがさらに提供される。より詳細には、無水塩酸イルベサルタンは、約3400、2958、1628、1515、1475、及び846cm-1に、特徴的なIR吸収を有する。
本発明による結晶性無水イルベサルタンは、約0.2%〜0.9%の水分含有量を有することをさらに特徴とする。
本発明による結晶性無水塩酸イルベサルタンは、図5に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することをさらに特徴とする。本発明による結晶性無水塩酸イルベサルタンは、特徴的なピーク(2θ):8.0、8.35、8.70、9.48、10.05、11.76、15.00、15.48、16.38、16.79、17.47、20.26、21.12、23.54、25.14、26.44、26.78、28.12、及び32.45°を有することをさらに特徴とする。
X線回折で得られる本発明による結晶性無水塩酸イルベサルタンをさらに特徴とするデータを次表3に示す。
Figure 2008517895
Figure 2008517895
本発明は、さらに、無定形塩酸イルベサルタンを提供する。本発明により提供される無定形塩酸イルベサルタンは、図8に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを特徴とすることができる。より詳細には、無定形塩酸イルベサルタンは、約3402、1773、1625、666、及び624cm-1に、特徴的なIR吸収を有する。本発明による無定形塩酸イルベサルタンは、図7に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することをさらに特徴とする。
本発明による塩酸イルベサルタン、好ましくは、塩酸イルベサルタンセスキ水和物は、本発明による方法を参照して前述の如く得られる最終反応混合物から直接単離され得る。より具体的には、該セスキ水和物のような塩酸イルベサルタンは、式(IV)の化合物の脱トリチル化を付け加えて得られる最終反応混合物から直接単離され得る。
本発明による塩酸イルベサルタン半水和物は、該セスキ水和物をより高い温度で乾燥することによって、或いは該セスキ水和物を高温でメタノールなどの溶媒に溶解すること、及び残留物に至るまで濃縮すること、続いて、酢酸エチルなどの非溶媒で沈殿させることによって製造され得る。別法として、該半水和物は、無定形イルベサルタン遊離塩基(当業界で公知である、例えば国際公開第03/050110号)から、該無定形形態を高温でメタノールと水の溶媒混合物に溶解すること、残留物に至るまで濃縮すること、及び続いて酢酸エチルなどの非溶媒での沈殿によって製造され得る。
本発明による無水塩酸イルベサルタンは、該セスキ水和物を、高温でメタノール、又はメタノール−酢酸エチル混合物などの溶媒中で繰り返し撹拌すること、及び続いて酢酸エチルなどの非溶媒で沈殿させることによって製造され得る。別法として、該無水物形態は、セスキ水和物形態又は半水和物形態のイルベサルタンから、高温(80〜85℃)で生成物を乾燥することによって製造され得る。
無定形塩酸イルベサルタンは、セスキ水和物形態、半水和物形態、又は無水物形態のイルベサルタンから、高温(90〜105℃)で生成物を乾燥することによって製造され得る。
本発明により提供されるイルベサルタンは、アンジオテンシンII拮抗薬であり、そのため、種々の心血管病訴、特に、高血圧、心不全、及び静脈不全の治療において、並びに緑内障、糖尿病性網膜症、及び中枢神経系の各種病訴、例えば不安、鬱、記憶欠損、又はアルツハイマー病の治療において有用である。
本発明は、従って、さらに、治療有効投与量の本発明のイルベサルタンを、医薬として許容し得るその担体、希釈剤、又は賦形剤と一緒に含む医薬組成物を提供する。賦形剤は、製剤剤形及び所望される投与方式に従って選択される。
経口、舌下、皮下、筋内、静脈内、局所、気管内、鼻腔内、経皮又は直腸投与のための本発明の医薬組成物において、本発明によるイルベサルタンは、上記の障害又は疾患の予防又は治療のために、従来の医薬用担体と混合した単位投与剤形で、動物及びヒトに投与される。適切な単位投与剤形には、錠剤、ゼラチン、カプセル、粉末、顆粒、及び経口的に摂取される溶液又は懸濁液などの経口投与のための剤形、舌下、バッカル、気管内、又は鼻腔内投与のための剤形、皮下、筋内又は静脈内投与のための剤形、並びに直腸投与用の剤形が含まれる。局所適用の場合、本発明によるイルベサルタンは、クリーム、軟膏又はローション状で使用され得る。
所望の予防又は治療効果を達成するために、本発明によるイルベサルタンの投与量は、1日当たり体重1kg当たり0.01〜50mgの間で変更できる。各単位投与量は、0.1〜1000mg、好ましくは1〜500mgの本発明によるイルベサルタンを、医薬用担体と組み合わせて含むことができる。この単位投与量は、0.5〜5000mg、好ましくは1〜2500mgの1日投与量を投与するように、1日に1〜5回投与できる。
錠剤形態の固体組成物を製造する場合には、本発明によるイルベサルタンを、ゼラチン、デンプン、乳糖、ステアリン酸マグネシウム、タルク、アラビアゴムなどの医薬用ビヒクルと混合する。該錠剤は、蔗糖、セルロース誘導体又はその他の適切な物質でコーティングすることができ、さもなければ、該錠剤を、延長された又は遅延された有効性を有するように、及び所定量の有効成分を連続的に放出するように処理することができる。
ゼラチンカプセル形態の製剤は、本発明によるイルベサルタンを希釈剤と混合すること、及び得られた該混合物を軟質又は硬質ゼラチンカプセル中に注入することによって得ることができる。
シロップ又はエレキシルの形態での、或いはドロップ形態で投与するための製剤は、好ましくはカロリーのない甘味料、防腐剤としてのメチルパラベン及びプロピルパラベン、並びに着香料及び適切な着色料と合わせた、本発明によるイルベサルタンを含むことができる。
水分散性顆粒又は粉末は、分散剤又は湿潤剤、或いはポリビニルピロリドンなどの懸濁剤、並びに甘味料又は風味修正剤と混合された、本発明によるイルベサルタンを含むことができる。
直腸投与は、直腸温度で融解する結合剤、例えば、ポリエチレングリコールを用いて製造された座剤を使用して達成される。
非経口投与は、薬理学的に適合性のある分散剤及び/又は湿潤剤、例えば、プロピレングリコール又はブチレングリコールを含む、水性懸濁液、等張性生理的食塩水溶液又は無菌且つ注射可能な溶液を用いて達成される。
本発明によるイルベサルタンは、適切なら、1種以上の担体又は添加剤を用いてマイクロカプセルとして製剤することもできる。
また、本発明により、治療で使用するための、実質的に上述のようなイルベサルタンも提供される。
本発明は、さらに、本明細書に記載のアンジオテンシンII拮抗薬を投与することによって予防され、改善され、又は除去される疾患状態を治療するための薬剤の製造に使用するための実質的に上述のようなイルベサルタンを提供する。
本発明は、また、アンジオテンシンII拮抗薬を投与することによって予防され、改善され、又は除去される疾患状態の治療方法であって、そのような治療を必要とする患者に対して、治療有効量の実質的に上述のようなイルベサルタンを投与することを含む方法を提供する。
本発明は、以下の図及び非制限的実施例によりさらに例示することができる。
(実施例1)
32.8gの粉末水酸化ナトリウムを、テトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)の存在下に、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、精製水(200mL×2)で洗浄した。トルエン層を分離した。これに4N HCl(600mL)を添加した。内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、水分含有量及び粉末X線回折によって塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される87.5g(94%)の生成物を得た。
(実施例2)
32.8gの水酸化ナトリウムを、480mLの精製水に溶解し、テトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)の存在下に、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)−ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、トルエン層を分離した。該トルエン層を水(200mL×2)で洗浄した。該トルエン層を再び分離した。これに4N HCl(600mL)を添加した。次いで、内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、水分含有量及び粉末X線回折によって塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される84.5g(91%)の生成物を得た。
(実施例3)
32.8gの粉末水酸化ナトリウムを、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)−ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2〜4時間加熱した。
反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、精製水(200mL×2)で洗浄した。トルエン層を分離し、4N HCl(600mL)を添加した。内容物を約55℃まで約75分間加熱した。反応が完結した後、生成物を約25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される60.5g(65%)の生成物を得た。
(実施例4)
42.6gの粉末水酸化カリウムを、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)−ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した
反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、精製水(200mL×2)で洗浄した。トルエン層を分離した。これに4N HCl(600mL)を添加した。内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を、25〜30℃で濾過して単離し、真空下に80℃で乾燥して、62.5g(69%)の塩酸イルベサルタン半水和物を得た。
(実施例5)
480mLの精製水に溶解した32.8gの水酸化ナトリウムを、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)、2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)、及びテトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、トルエン層を分離した。該トルエン層を水(200mL×2)で洗浄した。該トルエン層を再び分離した。これに4N HCl(600mL)を添加した。次いで、内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約80℃で乾燥して、塩酸イルベサルタン半水和物として特定される85.5g(92%)の生成物を得た。
(実施例5A)
本発明のワンポット法(実施例5)と従来技術の非ワンポット法(この実施例)の間の差異を例示するため、脱トリチル化の前に単離ステップを付加して実施例5を繰り返した。
240mLの精製水に溶解した16.4gの水酸化ナトリウムを、トルエン(250mL)中の5−(4'−ブロモメチル−ビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(59.5g)、2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(25g)、及びテトラブチルアンモニウムブロミド(2.15g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、トルエン層を分離した。水相をトルエン(105mL)で抽出した。合わせた有機層を蒸発させた。残留物をアセトン(208mL)に溶解し、3N HCl(600mL)を添加した。内容物を、反応が完結するまで室温で撹拌した(TLCで監視しながら)。反応が完結した後、KOH(30.4g)の水(208mL)溶液を徐々に添加し、アセトンを減圧下で蒸発させた。沈殿したトリチルアルコールを濾過し、水(2×105mL)で洗浄した。濾液を、トルエンで洗浄し、3N HClでpH4まで徐々に酸性化した。懸濁液を0〜4℃まで冷却し、さらに30分間撹拌し、濾過した。ケーキを冷イソプロパノール(2×50mL)で洗浄し、減圧下に50〜60℃で乾燥し、イルベサルタン遊離塩基を得た(92.0%)
(実施例6)
42.6gの水酸化カリウムを480mLの精製水に溶解し、それを、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)、2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)、及びテトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、トルエン層を分離した。該トルエン層を水(200mL×2)で洗浄した。該トルエン層を再び分離した、これに4N HCl(600mL)を添加した。次いで、内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で直接濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される87.5g(94%)の生成物を得た。
(実施例7)
約32.8gの粉末水酸化ナトリウムを、18−クラウン−6(4.0g)の存在下、キシレン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)、2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2〜4時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、キシレン層を、精製水(200mL×2)で洗浄し、次いで分離した。これに4N HCl(600mL)を添加した。内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で直接濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される87.5g(94%)の生成物を得た。
(実施例8)
42.6gの粉末水酸化カリウムを、テトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)と一緒のキシレン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を約25℃まで冷却し、キシレン層を水(200mL×2)で洗浄した。
該キシレン層を分離した。これに4N HCl(600mL)を添加した。次いで、内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される87.5g(94%)の生成物を得た。
(実施例9)
32.8gの炭酸カリウムを、アセトニトリル(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。内容物を約70℃まで加熱して縮合生成物を得た。生成物を、該生成物が濾液中に存在する状態で、濾過よって単離した。濾液を残留物に至るまで減圧下で留去した。この混合物に、4N HCl(400ml)及びトルエン(400mL)を添加し、約55℃まで加熱し、1時間維持して、室温で濾過した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される80g(85%)の生成物を得た。
(実施例10)
109.3gの炭酸カリウムを、MIBK(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)、2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)、及びテトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、精製水(200mL×2)で洗浄した。MIBK層を分離した。これに4N HCl(600mL)を添加した。内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される75g(80%)の生成物を得た。
(実施例11)
480mLの精製水に溶解した109.3gの炭酸カリウムを、MIBK(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約85℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、MIBK層を分離した。該MIBK層を水(200mL×2)で洗浄した。該MIBK層を再び分離した。これに、4N HCl(600mL)を添加した。次いで、内容物を、約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを真空下に約80℃で乾燥して、塩酸イルベサルタン半水和物として特定される62.5g(69%)の生成物を得た。
(実施例12)
109.3gの炭酸カリウムを、DMF(250mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。内容物を約85℃まで加熱した。無機物を濾別した。濾液を減圧下で残留物に至るまで留去した。この混合物に、HCl水及びトルエンを添加し、約55℃まで加熱し、室温で濾過した。湿りケーキを真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物として特定される80g(86%)の生成物を得た。
(実施例13)
44.28gのナトリウムメトキシドを、DMF(250mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩からなる混合物に添加した。内容物を約85℃まで加熱した。生成物が濾液中に存在する状態で無機物を濾過して生成物を単離した。濾液を減圧下で残留物に至るまで留去した。これに、塩酸とトルエンの混合物を添加し、約55℃まで約1時間加熱し、室温で濾過し、真空下に60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物80gを得た(86%)。
(実施例14)
約52.0gのナトリウムt−ブトキシドを、テトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)の存在下に、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約25℃(20〜30℃)で約4時間撹拌した。反応が完結した後、該反応物を精製水(200mL×2)で洗浄した。トルエン層を分離した。これに、4N HCl(600mL)を添加した。内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを、真空下に約60℃で乾燥して、水分含有量及び粉末X線回折によって塩酸イルベサルタンセスキ水和物と特定される80.5g(86%)の生成物を得た。
(実施例15)
約61.0gのカリウムt−ブトキシドを、テトラブチルアンモニウムブロミド(4.3g)の存在下に、トルエン(500mL)中の5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(119g)と2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(50g)からなる混合物に添加した。該混合物を約25℃(20〜30℃)で約4時間撹拌した。反応が完結した後、該反応物を、約25℃まで冷却し、精製水(200mL×2)で洗浄した。トルエン層を分離した。これに、4N HCl(600mL)を添加した。内容物を約55℃まで約45分間加熱した。反応が完結した後、生成物を25〜30℃で濾過して単離した。湿りケーキを、真空下に約60℃で乾燥して、水分含有量及び粉末X線回折によって塩酸イルベサルタンセスキ水和物と特定される85.5g(91%)の生成物を得た。
(実施例16)
83.0gのナトリウムメトキシド粉末を、トルエン(2.4L)中の2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)−ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(100g)、5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(234g)、及びテトラブチルアンモニウムブロミド(10g)からなる混合物に添加した。内容物を80〜90℃まで2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を、25〜30℃まで冷却し、水(1.0L×3)で洗浄して過剰のアルカリを除去した。次いで、トルエン層に4N HCl(1.2L)を添加し、内容物を約50℃まで約2時間加熱した。反応が完結した後、該反応物を25〜30℃まで冷却し、生成物を、濾過し、水で洗浄し、真空下に約60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物140g(76%)を得た。
(実施例17)
トリチルイルベサルタン(25g)を250mLのトルエンに溶解し、4N HCl(125mL)を添加し、内容物を約55℃まで加熱し、約1時間維持した。反応が完結した後、該反応物を約25℃まで冷却し、濾過した。生成物を真空下に約60℃で乾燥して、15gの塩酸イルベサルタンセスキ水和物を得た(95%)。
(実施例18)
実施例1〜17のいずれかで得られた塩酸イルベサルタン100gを、酢酸エチル(350mL)とメタノール(150mL)の混合物に溶解した。該混合物を200mLになるまで留去した。これに、200mLの酢酸エチルを添加して、純粋の塩酸イルベサルタンを単離した。生成物を真空下に約100℃で乾燥して、HPLCで99.5%を超える純度を有する94gの無定形塩酸イルベサルタンを得た。
(実施例19)
実施例1〜17のいずれかで得られた塩酸イルベサルタン100gを、360mLの酢酸エチル、40mLのメタノール、及び25mLの精製水からなる混合物中、約45℃で撹拌し、25℃まで冷却し、濾過した。生成物を真空下に約60℃で乾燥して、HPLCで99.5%を超える純度を有する95gの塩酸イルベサルタンセスキ水和物を得た。
(実施例20)
実施例1〜17のいずれかで得られた塩酸イルベサルタン100gを、360mLの酢酸エチルと40mLのメタノールからなる混合物中、約65℃で撹拌し、25℃まで冷却し、濾過した。生成物を、同様の工程を繰り返すことによって再精製し、真空下に約60℃で乾燥して、HPLCで99.5%を超える純度を有する96gの無水塩酸イルベサルタンを得た。
(実施例21)
実施例1〜17のいずれかで得られた塩酸イルベサルタン100gを、メタノール(250mL)に溶解した。混合物を残留物に至るまで留去した。これに200mLの酢酸エチルを添加して、純粋な塩酸イルベサルタンを単離した。生成物を真空下に約80℃で乾燥して、HPLCで99.5%を超える純度を有する94gの塩酸イルベサルタン半水和物を得た。
(実施例22)
100gの塩酸イルベサルタンセスキ水和物を、250mLのトルエンと250mLの水からなる混合物に入れた。該反応物のpHを、アンモニア水を用いて25〜30℃で6.5〜7.0に調整し、約30分間撹拌し、濾過した。生成物を真空下に60℃で乾燥してイルベサルタン遊離塩基の形態Aを得た。
(実施例23)
100gの塩酸イルベサルタン半水和物を、250mLのトルエンと250mLの水からなる混合物に入れた。該反応物のpHを、アンモニア水を用いて25〜30℃で6.5〜7.0に調整し、約30分間撹拌し、濾過した。生成物を真空下に60℃で乾燥して、イルベサルタン遊離塩基の形態Aを得た。
(実施例24)
100gの無水塩酸イルベサルタンを、250mLのトルエンと250mLの水からなる混合物に入れた。該反応物のpHを、アンモニア水を用いて25〜30℃で6.5〜7.0に調整し、約30分間撹拌し、濾過した。生成物を真空下に60℃で乾燥して、イルベサルタン遊離塩基の形態Aを得た。
(実施例25)
100gのイルベサルタン遊離塩基(形態A)を、500mLのトルエンと500mLの4N塩酸からなる混合物に入れ、約100℃で約2時間加熱し、25〜30℃まで冷却し、濾過した。生成物を真空下に60℃で乾燥して、塩酸イルベサルタンセスキ水和物を得た。
(実施例26)−国際公開第2004/007482号の実施例1
5−(4'−ブロモメチルビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾール(24.6g)をトルエン(240mL)に添加した。これに、KOH(10.4g)、2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ(4,4)ノン−1−エン−4−オン塩酸塩(12.0g)及びBu4NHSO4(1.8g)からなる水(40ml)溶液を添加した。次いで、この2相混合物を、激しく撹拌しながら90℃まで約90分間加熱した。反応混合物を室温まで冷却した。トルエン層を分離し、水相をトルエン(50mL)で抽出した。合わせた有機相を蒸発させた。残留物をアセトン(100mL)及び3N HCl(52mL)に溶解し、室温で撹拌した(TLCで監視)。KOH(14.6g)の水(100mL)溶液を徐々に添加し、減圧下でアセトンを蒸発させた。沈殿したトリチルアルコールを、濾過し、水(2×50mL)で洗浄した。濾液を、トルエンで洗浄し、3N HClでpH4.0まで徐々に酸性化した。懸濁液を、0〜4℃まで冷却し、さらに30分間撹拌し、濾過した。ケーキを、冷イソプロパノール(2×25mL)で洗浄し、減圧下に50〜60℃で乾燥して、イルベサルタン遊離塩基を得た(84%)。
HPLC分析
実施例5、5A、及び26の生成物を、HPLCを使用して分析した。HPLC分析のパラメーターは以下の通りとした。
注入容積:20μL
チャネル:UV_VIS_
1回の分析時間:45分
波長:237nm
3種の生成物サンプルについての結果は以下の通りである。
Figure 2008517895
Figure 2008517895
Figure 2008517895
要約すれば、同一のHPLC条件を使用して、本発明の方法により、95.25%の純度を有する塩酸イルベサルタンが生じ、国際公開第2004/007482号の方法により、87.18%の純度を有するイルベサルタンが生じ、単離ステップを付加した本発明に類似の方法(即ち、非ワンポット法)では、84.10%の純度を有するイルベサルタンが生じる。従って、本発明の方法は、高い収率及び純度を有する、塩酸イルベサルタン、及びイルベサルタン遊離塩基の簡単で且つ高度に実際的な製造方法である。
本発明は付属の特許請求の範囲内で修正され得ることを認識されたい。
図については、以下の通りである。
本発明による塩酸イルベサルタンセスキ水和物の、Rigaku Miniflexを2°〜40°で使用することによって得られたXRPDである。 塩酸イルベサルタンセスキ水和物の、Parkin Elmer Paragon 500 Modelを使用することによって得られたIRパターンである。 塩酸イルベサルタン半水和物の、Rigaku Miniflexを2°〜40°で使用することによって得られたXRPDである。 塩酸イルベサルタン半水和物の、Parkin Elmer Paragon 500 Modelを使用することによって得られたIRパターンである。 本発明による無水塩酸イルベサルタンの、Rigaku Miniflexを2°〜40°で使用することによって得られたXRPDである。 無水塩酸イルベサルタンの、Parkin Elmer Paragon 500 Modelを使用することによって得られたIRパターンである。 本発明による無定形塩酸イルベサルタンの、Rigaku Miniflexを2°〜40°で使用することによって得られたXRPDである。 無定形塩酸イルベサルタンの、Parkin Elmer Paragon 500 Modelを使用することによって得られたIRパターンである。

Claims (88)

  1. 式(I)の塩酸イルベサルタンのワンポット製造方法であって:
    Figure 2008517895
    塩の形態でもよい式(II)の中間化合物2−n−ブチル−1,3−ジアザスピロ[4,4]ノン−1−エン−4−オン、及び式(III)の5−(4'−ブロモメチル−ビフェニル−2−イル)−1−トリチル−1H−テトラゾールを反応させることを含む、前記方法;
    Figure 2008517895
    (式中、Halは、ブロモ、クロロ、フルオロ、又はヨードを表す。)。
  2. 式(II)及び(III)の中間化合物の反応が、塩の形態でもよい式(IV)の中間化合物2−n−ブチル−3−[2'−(トリフェニルメチルテトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル]−1,3−ジアザスピロ[4,4]ノン−1−エン−4−オン(トリチルイルベサルタン)を形成し、続いて脱トリチル化されて式(I)の塩酸イルベサルタンを生成する、請求項1記載の方法:
    Figure 2008517895
  3. 脱トリチル化の前に、前記トリチルイルベサルタン(IV)を単離しない、請求項2記載の方法。
  4. 下記反応スキームで表される、式(I)のイルベサルタンのワンポット製造方法:
    Figure 2008517895
    (式中、Halは、ブロモ、クロロ、フルオロ、又はヨードを表し、中間体(II)及び(IV)のそれぞれは塩の形態で存在していてもよい。)。
  5. 塩酸イルベサルタン(I)へ変換する前に、トリチルイルベサルタン(IV)を単離しない、請求項4記載の方法。
  6. Halが、ブロモを表す、請求項1から5のいずれか1項記載の方法。
  7. 式(II)の中間化合物が、塩の形態で使用される、請求項1から6のいずれか1項記載の方法。
  8. 式(II)の前記中間化合物が、塩酸塩として使用される、請求項7記載の方法。
  9. 式(II)及び(III)の中間化合物の縮合が、約20℃〜約95℃の温度で実施される、請求項1から8のいずれか1項記載の方法。
  10. 式(II)及び(III)の中間化合物の縮合が、約85℃の温度で実施される、請求項9記載の方法。
  11. 式(I)の塩酸イルベサルタンの製造方法であって:
    Figure 2008517895
    塩の形態でもよい式(IV)の中間化合物2−n−ブチル−3−[2'−(トリフェニルメチルテトラゾール−5−イル)−ビフェニル−4−イル−メチル]−1,3−ジアザスピロ[4,4]ノン−1−エン−4−オン(トリチルイルベサルタン)を形成し、続いて、これを脱トリチル化して式(I)の塩酸イルベサルタンを得ることを含み、脱トリチル化の前に、該トリチルイルベサルタン(IV)を単離しない、前記方法;
    Figure 2008517895
  12. 次の形態、即ち、セスキ水和物、半水和物、無水物、又は無定形の中の1つである塩酸イルベサルタンを得る、請求項1から11のいずれか1項記載の方法。
  13. 相間移動触媒の存在下で実施される、請求項1から12のいずれか1項記載の方法。
  14. 前記相間移動触媒が、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物、及びクラウンエーテルからなる群から選択される、請求項13記載の方法。
  15. 反応系の溶媒として芳香族又は脂肪族炭化水素を含む、請求項1から14のいずれか1項記載の方法。
  16. 前記溶媒が芳香族炭化水素である、請求項15記載の方法。
  17. 前記溶媒が、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、及びm−キシレンからなる群から選択される、請求項16記載の方法。
  18. 前記溶媒がトルエンである、請求項17記載の方法。
  19. 前記溶媒が脂肪族炭化水素である、請求項15記載の方法。
  20. 前記溶媒が、アセトン又はMIBKである、請求項19記載の方法。
  21. 前記反応系が第一及び第二溶媒相を含む、請求項1から20のいずれか1項記載の方法。
  22. 前記第一溶媒相が、請求項15から20のいずれか1項記載の炭化水素溶媒を含み、且つそれと前記第二溶媒相の前記溶媒とが、実質的に非混和性である、請求項21記載の方法。
  23. 前記第二溶媒相の前記溶媒が水を含む、請求項22記載の方法。
  24. 反応系に無機塩基が存在する、請求項1から23のいずれか1項記載の方法。
  25. 前記無機塩基が、アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、及びアルコキシドからなる群から選択される、請求項24記載の方法。
  26. 前記無機塩基が、KOH、NaOH、LiOH、K2CO3、Na2CO3、Cs2CO3、ナトリウムメトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、及びカリウムt−ブトキシドからなる群から選択される、請求項25記載の方法。
  27. 前記塩基が、NaOH、ナトリウムt−ブトキシド、又はカリウムt−ブトキシドである、請求項26記載の方法。
  28. 前記塩基が粉末形態で使用される、請求項24から27のいずれか1項記載の方法。
  29. 前記塩基を、請求項21から23のいずれか1項記載の反応系の第二溶媒相の溶媒と組み合わせる、請求項24から27のいずれか1項記載の方法。
  30. 前記塩基を、請求項23記載の反応系の第二溶媒相の溶媒としての水と組み合わせる、請求項29記載の方法。
  31. 脱トリチル化が、鉱酸を使用することによって達成される、請求項2から30のいずれか1項記載の方法。
  32. 請求項1から31のいずれか1項記載の方法に付け加えて、得られた反応混合物から塩酸イルベサルタンを直接的に単離することを含む、請求項1から31のいずれか1項記載の方法。
  33. 請求項1から32のいずれか1項記載の方法により製造された塩酸イルベサルタンを、高温で溶媒に溶解することによってさらに精製し、且つ非溶媒で沈殿させる、請求項1から32のいずれか1項記載の方法。
  34. 前記溶媒がメタノールである、請求項33記載の方法。
  35. 前記非溶媒が酢酸エチルである、請求項33又は34記載の方法。
  36. 請求項1から32のいずれか1項記載の方法により製造された塩酸イルベサルタンを、高温で溶媒に懸濁させ、かつ該懸濁液を室温で濾過することによってさらに精製する、請求項1から32のいずれか1項記載の方法。
  37. 前記溶媒が酢酸エチル又は酢酸イソプロピルである、請求項36記載の方法。
  38. 請求項1から37のいずれか1項記載の方法により製造された塩酸イルベサルタンを、イルベサルタン遊離塩基に変換することをさらに含む、請求項1から37のいずれか1項記載の方法。
  39. 塩基を添加することを含む、請求項38記載の方法。
  40. 前記塩基がアンモニア水を含む、請求項39記載の方法。
  41. 請求項1から31のいずれか1項記載の方法に付け加えて、得られた反応混合物から請求項32に従って直接的に単離された、塩酸イルベサルタン。
  42. 塩酸イルベサルタンセスキ水和物である、請求項41記載の塩酸イルベサルタン。
  43. 請求項38から40のいずれか1項記載の方法によって製造された、形態A又は形態Bのイルベサルタン遊離塩基。
  44. 水和形態の結晶性塩酸イルベサルタン。
  45. 結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物。
  46. 図2に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを有する、結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物。
  47. 約3638、3273、2451、1761、1639、1514、1477、1323、及び1302cm-1に、特徴的なIR吸収を有する、結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物。
  48. 約5.7%〜7.5%の水分含有量を有することをさらに特徴とする、請求項45から47のいずれか1項記載の結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物。
  49. 図1に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することを特徴とする、結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物。
  50. 特徴的なピーク(2θ):7.49、8.24、11.01、14.92、15.32、16.28、17.38、22.52、22.98、23.42、24.68、26.57、27.00、及び28.47°を有することを特徴とする、結晶性塩酸イルベサルタンセスキ水和物。
  51. 結晶性塩酸イルベサルタン半水和物。
  52. 図4に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを有する、結晶性塩酸イルベサルタン半水和物。
  53. 約1772、1627、1519、1476、1226、1070、998、959、940、708、及び645cm-1に、特徴的なIR吸収を有する、結晶性塩酸イルベサルタン半水和物。
  54. 約1.7%〜2.8%の水分含有量を有することをさらに特徴とする、請求項51から53のいずれか1項記載の結晶性塩酸イルベサルタン半水和物。
  55. 約186℃の融点を有する、請求項51から54のいずれか1項記載の結晶性塩酸イルベサルタン半水和物。
  56. 図3に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することを特徴とする、結晶性塩酸イルベサルタン半水和物。
  57. 特徴的なピーク(2θ):8.2、10.33、11.02、12.42、12.87、15.32、15.76、16.25、17.46、22.42、22.98、23.3、24.81、25.75、26.53、及び27.06°を有することを特徴とする、結晶性塩酸イルベサルタン半水和物。
  58. 結晶性無水塩酸イルベサルタン。
  59. 図6に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを有する、結晶性無水塩酸イルベサルタン。
  60. 約3400、2958、1628、1515、1475、及び846cm-1に、特徴的なIR吸収を有する、結晶性無水塩酸イルベサルタン。
  61. 約0.1%〜0.9%の水分含有量を有することをさらに特徴とする、請求項58から60のいずれか1項記載の結晶性無水塩酸イルベサルタン。
  62. 約186℃の融点を有する、請求項58から61のいずれか1項記載の結晶性無水塩酸イルベサルタン。
  63. 図5に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することを特徴とする、結晶性無水塩酸イルベサルタン。
  64. 特徴的なピーク(2θ):8.0、8.35、8.70、9.48、10.05、11.76、15.00、15.48、16.38、16.79、17.47、20.26、21.12、23.54、25.14、26.44、26.78、28.12、及び32.45°を有することを特徴とする、結晶性無水塩酸イルベサルタン。
  65. 無定形塩酸イルベサルタン。
  66. 図8に示すIRパターン、又は実質的に同一のIRパターンを特徴とする、無定形塩酸イルベサルタン。
  67. 約3402、1773、1625、666、及び624cm-1に、特徴的なIR吸収を有する、無定形塩酸イルベサルタン。
  68. 図7に示す粉末X線図、又は実質的に同一の粉末X線図を有することを特徴とする、無定形塩酸イルベサルタン。
  69. 請求項1から37のいずれか1項記載の方法によって製造された、塩酸イルベサルタンセスキ水和物、半水和物、又は無水物。
  70. 請求項45から50のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタンセスキ水和物から製造された、請求項51から57のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタン半水和物。
  71. 請求項65から68のいずれか1項記載の無定形イルベサルタンから製造された、請求項51から57のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタン半水和物。
  72. 請求項45から50のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタンセスキ水和物を乾燥することを含む、請求項51から57のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタン半水和物の製造方法。
  73. 請求項45から50のいずれか1項記載のイルベサルタンセスキ水和物を溶媒に溶解すること、残留物に至るまで濃縮すること、及び続いて非溶媒で沈殿させることを含む、請求項51から57のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタン半水和物の製造方法。
  74. 前記溶媒がメタノールである、請求項73記載の方法。
  75. 前記非溶媒が酢酸エチルである、請求項73記載の方法。
  76. 請求項65から68のいずれか1項記載の無定形イルベサルタンを溶媒混合物に溶解すること、残留物に至るまで濃縮すること、及び続いて非溶媒で沈殿させることを含む、請求項51から57のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタン半水和物の製造方法。
  77. 前記溶媒混合物がメタノール及び水である、請求項76記載の方法。
  78. 前記非溶媒が酢酸エチルである、請求項76記載の方法。
  79. 請求項72から78のいずれか1項記載の方法で製造された、請求項51から57のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタン半水和物。
  80. 請求項45から50のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタンセスキ水和物から製造された、請求項58から64のいずれか1項記載の無水塩酸イルベサルタン。
  81. 請求項45から50のいずれか1項記載の塩酸イルベサルタンセスキ水和物を溶媒中で撹拌すること、及び続いて非溶媒で沈殿させることを含む、請求項58から64のいずれか1項記載の無水塩酸イルベサルタンの製造方法。
  82. 前記溶媒がメタノールである、請求項81記載の方法。
  83. 前記非溶媒が酢酸エチルである、請求項81記載の方法。
  84. 請求項81から83のいずれか1項記載の方法によって製造された、請求項58から64のいずれか1項記載の無水塩酸イルベサルタン。
  85. 治療有効投与量の、請求項41から71、79、80、又は84のいずれか1項記載のイルベサルタンを、医薬として許容し得るその担体、希釈剤、又は賦形剤と一緒に含有した、医薬組成物。
  86. 治療で使用するための、請求項41から71、79、80、又は84のいずれか1項記載のイルベサルタン。
  87. アンジオテンシンII拮抗薬の投与によって予防され、改善され、又は除去される疾患状態の治療用薬剤の製造に使用するための、請求項41から71、79、80、又は84のいずれか1項記載のイルベサルタン。
  88. アンジオテンシンII拮抗薬の投与によって予防され、改善され、又は除去される疾患状態の治療方法であって、前記治療を必要とする患者に対して、治療有効量の請求項41から71、79、80、又は84のいずれか1項記載のイルベサルタンを投与することを含む、前記方法。
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