JP2008516245A - 反射物体の高さプロファイル測定方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
Description
以下の実施態様の説明において、添付の図面は、本発明が実践される例を示すために参照される。開示された発明の範囲から離れることなく、他の実施態様を形成することもできることを理解されたい。
さらに、本発明の上記の応用の全ては、検査下においてコーティング物体の品質を評価するために使用することもできる。
Claims (51)
- 参照面に対して物体の高さプロファイルを求める干渉方法であって、
投影軸に沿って前記物体上に投影された強度パターンに対応する前記物体の画像を、前記強度パターンの一部が前記物体により鏡面反射される方向に対応する鏡面反射軸に沿って取得するステップと、
前記画像を用いて物体の位相を算出するステップと、
前記物体の位相と前記参照面に関する参照位相を用いて、前記高さプロファイルを求めるステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記強度パターンは、正弦波パターンを含む請求項1に記載の方法。
- 前記強度パターンは、可視光に強度を持つ請求項1に記載の方法。
- 前記物体の位相を算出するステップは、
スペクトルを提供するために前記画像の高速フーリエ変換(FFT)を実行するステップと、
実数成分と虚数成分を提供するために前記スペクトルの選択された部分の逆FFTを実行するステップと、
前記実数成分と虚数成分を用いて前記物体の位相を求めるステップと、
を含む請求項1に記載の方法。 - 前記鏡面反射軸に沿って、前記物体に投影された第2の強度パターンに対応する、前記物体の第2の画像を少なくとも一つ取得するステップをさらに含み、
前記物体の位相はさらに前記第2の画像を用いて算出される、請求項1に記載の方法。 - 前記強度パターンは、互いに対して位相シフトされた複数の強度パターンを有する請求項5に記載の方法。
- 前記強度パターンは、異なるスペクトル帯域幅を持つ複数の強度パターンを有する請求項5に記載の方法。
- 前記高さプロファイルは前記物体のレリーフマップを有し、前記物体の位相は前記レリーフマップを求めるための物体位相マップを有する、請求項1〜7の何れか一項に記載の方法。
- 前記レリーフの外形形状を評価するステップをさらに含む、請求項8に記載の方法。
- 前記レリーフの前記外形の体積を評価するステップをさらに含む、請求項9に記載の方法。
- 前記物体は、反射物体である請求項1〜10の何れか一項に記載の方法。
- 参照面に対して物体の高さプロファイルを求める干渉方法であって、
最適な結像構成を提供するために、投影軸及び検出軸に対する前記物体の向きと、前記物体に対する前記検出軸の向きの少なくとも一つを最適化するステップであって、前記物体の表面が実質的に反射する場合、前記最適な結像構成は、投影された強度パターンの少なくとも一部分の前記表面による鏡面反射を前記検出軸に沿って提供する構成に対応し、前記物体の表面が実質的に拡散する場合、前記最適な結像構成は、前記投影された強度パターンの一部分も前記表面による鏡面反射を前記検出軸に沿っては提供されない構成に対応し、
前記最適な結像構成において、前記投影軸に沿って前記物体上に投影された強度パターンに対応する前記物体の画像を、前記検出軸に沿って取得するステップと、
前記画像を用いて物体の位相を算出するステップと、
前記物体の位相と前記参照面に関する参照位相を用いて、前記高さプロファイルを求めるステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記強度パターンは、正弦波パターンを含む請求項12に記載の方法。
- 前記強度パターンは、可視光に強度を持つ請求項12に記載の方法。
- 前記最適化するステップは、前記最適な構成が見つかるまで前記物体と前記検出軸の少なくとも一つの向きを走査する、請求項12に記載の方法。
- 前記最適化するステップは、前記投影された強度パターンの少なくとも一部分の前記表面による前記鏡面反射を前記検出軸に沿って提供する第1の結像構成と、前記投影された強度パターンの一部分の前記表面による前記鏡面反射も前記検出軸に沿っては提供しない第2の結像構成との間で選択するステップを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記最適化するステップは、前記物体の光学的性質についての事前知識を用いることによって、前記投影軸に対する前記検出軸の向き及び両軸に対する前記物体の向きを前記最適な結像構成に設定する、請求項12に記載の方法。
- 前記最適化を自動的に実行するステップをさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 前記物体の位相を算出するステップは、
スペクトルを提供するために前記画像の高速フーリエ変換(FFT)を実行するステップと、
実数成分と虚数成分を提供するために前記スペクトルの選択された部分の逆FFTを実行するステップと、
前記実数成分と虚数成分を用いて前記物体の位相を求めるステップと、
を含む請求項12に記載の方法。 - 前記最適な結像構成において、前記検出軸に沿って、前記物体に投影された第2の強度パターンに対応する、前記物体の第2の画像を少なくとも一つ取得するステップをさらに含み、
前記物体の位相はさらに前記第2の画像を用いて算出される、請求項12に記載の方法。 - 前記強度パターンは、互いに対して位相シフトされた複数の強度パターンを有する請求項20に記載の方法。
- 前記強度パターンは、異なるスペクトル帯域幅を持つ複数の強度パターンを有する請求項20に記載の方法。
- 前記高さプロファイルは前記物体のレリーフマップを有し、前記物体の位相は前記レリーフマップを求めるための物体位相マップを有する、請求項12〜22の何れか一項に記載の方法。
- 前記レリーフの外形形状を評価するステップをさらに含む、請求項23に記載の方法。
- 前記レリーフの前記外形の体積を評価するステップをさらに含む、請求項24に記載の方法。
- 参照面に対して物体の高さプロファイルを求める干渉方法であって、
投影軸に沿って前記物体上に投影された強度パターンに対応する前記物体の鏡面画像を、前記強度パターンの一部が前記物体により鏡面反射される方向に対応する鏡面反射軸に沿って取得するステップと、
前記投影軸に沿って前記物体上に投影された前記強度パターンに対応する前記物体の非鏡面画像を、前記鏡面反射軸と異なる方向を向いた検出軸に沿って取得するステップと、
前記鏡面画像の一部分と前記非鏡面画像の一部分の少なくとも一つを用いて物体の位相を算出するステップと、
前記物体の位相と前記参照面に関する参照位相を用いて、前記高さプロファイルを求めるステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記強度パターンは、正弦波パターンを含む請求項26に記載の方法。
- 前記強度パターンは、可視光に強度を持つ請求項26に記載の方法。
- 前記物体の位相を算出するステップは、前記物体の位相が定められた全体画像において前記鏡面画像と前記非鏡面画像を結合するステップを含む、請求項26に記載の方法。
- 前記物体の位相を算出するステップは、前記鏡面画像を用いて第1の位相を定め、前記非鏡面画像を用いて第2の位相を定め、前記第1の位相と前記第2の位相を結合して物体の位相を提供するステップを含む、請求項26に記載の方法。
- 前記物体の位相を算出するステップは、
スペクトルを提供するために、前記鏡面画像の一部分及び前記非鏡面画像の一部分、又は前記一部分の組み合わせの少なくとも一つの高速フーリエ変換(FFT)を実行するステップと、
実数成分と虚数成分を提供するために前記スペクトルの選択された部分の逆FFTを実行するステップと、
前記実数成分と虚数成分を用いて前記物体の位相を求めるステップと、
を含む請求項26に記載の方法。 - 前記鏡面反射軸に沿って、前記物体に投影された第2の強度パターンに対応する、前記物体の第2の鏡面画像を少なくとも一つ取得するステップと、
前記鏡面反射とは異なる方向を向いた前記検出軸に沿って、前記物体に投影された前記第2の強度パターンに対応する、前記物体の第2の非鏡面画像を少なくとも一つ取得するステップとをさらに含み、
前記物体の位相はさらに前記第2の鏡面画像の一部分と前記第2の非鏡面画像の一部分の少なくとも一つを用いて算出される、請求項26に記載の方法。 - 前記強度パターンは、互いに対して位相シフトされた複数の強度パターンを有する請求項32に記載の方法。
- 前記強度パターンは、異なるスペクトル帯域幅を持つ複数の強度パターンを有する請求項32に記載の方法。
- 前記高さプロファイルは前記物体のレリーフマップを有し、前記物体の位相は前記レリーフマップを求めるための物体位相マップを有する、請求項26〜34の何れか一項に記載の方法。
- 前記レリーフの外形形状を評価するステップをさらに含む、請求項35に記載の方法。
- 前記レリーフの前記外形の体積を評価するステップをさらに含む、請求項36に記載の方法。
- 前記鏡面画像と前記非鏡面画像のそれぞれにおいて、対応する前記物体の座標を取得するステップと、
前記高さプロファイルを求めるステップにおいて使用されるアルゴリズムを選択するために、前記対応座標を使用するステップと
をさらに含む請求項26に記載の方法。 - 前記高さプロファイルを求めるステップは、
前記鏡面画像と前記非鏡面画像の各タイプについての物体の位相を個別に使用して、鏡面高さプロファイルと非鏡面高さプロファイルを取得するステップと、
前記鏡面高さプロファイルと前記非鏡面高さプロファイルを結合して前記高さプロファイルを求めるステップと、
を含む請求項26に記載の方法。 - 物体の高さプロファイルを求める干渉システムであって、
投影軸に沿って前記物体に強度パターンを投影するパターン投影部と、
前記強度パターンの一部分が前記物体によって鏡面反射される方向に対応する検出軸に沿って、前記物体の少なくとも一つの画像を取得する検出部と、
前記少なくとも一つの画像を用いて前記物体の位相を定め、前記物体の位相及び参照位相を用いて前記物体の高さプロファイルを求めるプロセッサと、
を有することを特徴とするシステム。 - 前記パターン投影部は、照明部と、パターンと、前記強度パターンを提供するための光学素子を有する、請求項40に記載のシステム。
- 前記検出部は、検出デバイスと、前記物体を特徴付ける前記画像を取得する光学デバイスとを有する、請求項40に記載のシステム。
- 前記検出部は、CCDカメラを有する請求項42に記載のシステム。
- 前記投影軸及び前記検出軸に対して前記物体の向きを最適化する物体方向決定手段をさらに有する、請求項40〜42の何れか一項に記載のシステム。
- 前記投影軸に対して前記検出軸の向きを最適化する検出軸方向決定手段をさらに有する、請求項40〜42の何れか一項に記載のシステム。
- 少なくとも一つの前記物体の画像を、前記検出軸とは異なる軸に沿って取得する第2の検出部をさらに有する、請求項40〜42の何れか一項に記載のシステム。
- 前記プロセッサは、前記物体の位相を定めるための高速フーリエ変換ソフトウェアを有する、請求項40〜42の何れか一項に記載のシステム。
- 前記パターン投影部は、投影されるパターンのそれぞれが所定のバンド幅で特徴付けられる、少なくとも二つの位相シフトされた強度パターンを前記物体上に同時に投影する投影部を有し、
前記検出部は、前記物体上の各投影パターンの画像を同時に撮影するための、所定のバンド幅に感度を持つ画像取得装置を有する、請求項40〜42の何れか一項に記載のシステム。 - 前記物体に対して、前記強度パターンを選択された位置に配置する移動手段をさらに有する、請求項40〜42の何れか一項に記載のシステム。
- 前記プロセッサは、少なくとも前記投影部、前記検出部及び前記移動手段の一つを制御するコントローラをさらに有する、請求項49に記載のシステム。
- 前記コントローラは、前記強度パターンの第1の投影において第1の画像を取得し、且つ前記第1の投影に対して位相シフトされた、前記強度パターンの第2の投影において第2の画像を取得するように前記移動手段を制御する、請求項50に記載のシステム。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007114071A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Omron Corp | 三次元形状計測装置、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体、及び三次元形状計測方法 |
JP2017194273A (ja) * | 2016-04-18 | 2017-10-26 | 富士通株式会社 | 表面検査方法、表面検査装置および表面検査プログラム |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101466998B (zh) * | 2005-11-09 | 2015-09-16 | 几何信息学股份有限公司 | 三维绝对坐标表面成像的方法和装置 |
WO2007106657A2 (en) * | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Amo Manufacturing Usa, Llc | Spatial frequency wavefront sensor system and method |
US7675020B2 (en) * | 2006-08-28 | 2010-03-09 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Input apparatus and methods having diffuse and specular tracking modes |
KR101010189B1 (ko) * | 2008-06-30 | 2011-01-21 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 두께 또는 표면형상 측정방법 |
US20100259746A1 (en) * | 2009-04-10 | 2010-10-14 | Omron Corporation | Profilometer |
DE102010029091B4 (de) * | 2009-05-21 | 2015-08-20 | Koh Young Technology Inc. | Formmessgerät und -verfahren |
US8855403B2 (en) * | 2010-04-16 | 2014-10-07 | Koh Young Technology Inc. | Method of discriminating between an object region and a ground region and method of measuring three dimensional shape by using the same |
EP2686638A1 (en) * | 2011-03-17 | 2014-01-22 | Cadscan Limited | Scanner |
WO2015175702A1 (en) | 2014-05-14 | 2015-11-19 | Kla-Tencor Corporation | Image acquisition system, image acquisition method, and inspection system |
US10594920B2 (en) * | 2016-06-15 | 2020-03-17 | Stmicroelectronics, Inc. | Glass detection with time of flight sensor |
WO2019147829A2 (en) * | 2018-01-24 | 2019-08-01 | Cyberoptics Corporation | Structured light projection for specular surfaces |
JP7090446B2 (ja) * | 2018-03-22 | 2022-06-24 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05306916A (ja) * | 1991-03-27 | 1993-11-19 | Rikagaku Kenkyusho | 縞位相分布解析方法および縞位相分布解析装置 |
JPH07208950A (ja) * | 1994-01-20 | 1995-08-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 表面形状3次元計測方法 |
JPH11257930A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-24 | Nidek Co Ltd | 三次元形状測定装置 |
JP2001311613A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-11-09 | Satoru Toyooka | スペックル干渉の画像解析における位相アンラッピング方法 |
JP2002090126A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-03-27 | Wakayama Univ | カラー矩形波格子投影によるリアルタイム形状変形計測方法 |
JP2003121124A (ja) * | 2001-10-12 | 2003-04-23 | Wakayama Univ | 単色矩形波格子を用いる形状計測方法及び形状計測装置 |
JP2004191240A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Olympus Corp | 3次元形状測定装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19602445A1 (de) * | 1996-01-24 | 1997-07-31 | Nanopro Luftlager Produktions | Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen von zwei einander gegenüberliegenden Oberflächen eines Körpers |
DE19643018B4 (de) * | 1996-10-18 | 2010-06-17 | Isra Surface Vision Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Messen des Verlaufs reflektierender Oberflächen |
US7057741B1 (en) * | 1999-06-18 | 2006-06-06 | Kla-Tencor Corporation | Reduced coherence symmetric grazing incidence differential interferometer |
US6359692B1 (en) * | 1999-07-09 | 2002-03-19 | Zygo Corporation | Method and system for profiling objects having multiple reflective surfaces using wavelength-tuning phase-shifting interferometry |
JP2001343208A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Fuji Photo Optical Co Ltd | フーリエ変換を用いた縞解析方法および装置 |
WO2004046645A2 (en) * | 2002-11-21 | 2004-06-03 | Solvision | Fast 3d height measurement method and system |
-
2004
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05306916A (ja) * | 1991-03-27 | 1993-11-19 | Rikagaku Kenkyusho | 縞位相分布解析方法および縞位相分布解析装置 |
JPH07208950A (ja) * | 1994-01-20 | 1995-08-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 表面形状3次元計測方法 |
JPH11257930A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-24 | Nidek Co Ltd | 三次元形状測定装置 |
JP2001311613A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-11-09 | Satoru Toyooka | スペックル干渉の画像解析における位相アンラッピング方法 |
JP2002090126A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-03-27 | Wakayama Univ | カラー矩形波格子投影によるリアルタイム形状変形計測方法 |
JP2003121124A (ja) * | 2001-10-12 | 2003-04-23 | Wakayama Univ | 単色矩形波格子を用いる形状計測方法及び形状計測装置 |
JP2004191240A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Olympus Corp | 3次元形状測定装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007114071A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Omron Corp | 三次元形状計測装置、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体、及び三次元形状計測方法 |
JP2017194273A (ja) * | 2016-04-18 | 2017-10-26 | 富士通株式会社 | 表面検査方法、表面検査装置および表面検査プログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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