JP2008510073A - マグネトロン組立体 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図1
Description
本発明の上記及びこの他の目的は、図面、好適な実施形態の説明、及び特許請求の範囲を参照することにより明白になるであろう。
駆動軸36は、組み合わせ式ベアリング/シール部材48と、ベアリング部材49、50、51によってハウジング35内に回転可能に取り付けられている。好適な実施形態では、組み合わせ式ベアリング/シール部材48は、強磁性流体シールであり、ベアリング部材49と50は、テーパローラーベアリングであり、ベアリング51はダブルボールベアリングである。これらのベアリング48、49、50、51の詳細は、後で詳しく説明する。
Claims (21)
- マグネトロン組立体において、
ハウジングと、
前記ハウジング内で回転させるために取り付けられている回転可能な駆動軸と、
前記駆動軸と接続されているターゲットと、
前記ハウジングと前記駆動軸の間のベアリングであって、少なくとも一部は導電性材料で作られている、ベアリングと、
電流が前記ベアリングを通って流れることを実質的に防止する手段と、を備えているマグネトロン組立体。 - 前記防止する手段は、非導電材料で作られた、前記内側レース、前記外側レース、及び前記ベアリング部材の内の少なくとも1つを含んでいる、請求項1に記載のマグネトロン組立体。
- 前記ベアリングは、内側レースと、外側レースと、前記内側レースと前記外側レースの間のベアリング部材と、を含んでおり、前記手段は、前記外側レースの外面又は前記内側レースの内面の内の少なくとも一方に、非導電性被覆が施されている、請求項1に記載のマグネトロン組立体。
- 前記防止する手段は、前記ベアリングと前記ハウジングの間に配置された非導電性材料のスリーブ、又は前記ベアリングと前記駆動軸の間に配置された非導電性材料のスリーブ、の内の少なくとも一方を含んでいる、請求項1に記載のマグネトロン組立体。
- 前記防止する手段は、前記駆動シャフトの外面の前記ベアリングの領域に施された非導電性材料の被覆、又は前記ハウジングの内面の前記ベアリングの領域に施された非導電性材料の被覆、の内の少なくとも一方を含んでいる、請求項1に記載のマグネトロン組立体。
- 前記ベアリングは、組み合わせ式ベアリング/シール部材であって、
前記ハウジングに対して固定されている外側ベアリングハウジングと、
共に回転するように、前記駆動軸に接続されている内側ベアリングと、
前記外側ベアリングハウジングと前記内側ベアリングハウジングの間のベアリング部材と、
前記外側ベアリングハウジングと前記内側ベアリングハウジングの間の強磁性流体シールと、を備えている、組み合わせ式ベアリング/シール部材である、請求項1に記載のマグネトロン組立体。 - 前記防止する手段は、前記外側ベアリングハウジング又は前記内側ベアリングハウジングの内の少なくとも一方が、非導電性材料で作られている、請求項6に記載のマグネトロン組立体。
- 前記ベアリングは、内側レースと、外側レースと、前記内側レースと前記外側レースの間の第2ベアリング部材と、を含んでおり、前記手段は、非導電性材料で作られた、前記内側レース、前記外側レース、及び前記第2ベアリング部材の内の少なくとも1つを含んでいる、請求項6に記載のマグネトロン組立体。
- 前記ハウジングの内面部分と前記ベアリングハウジングの外面部分との間に配置され且つ前記両部分により画定されている冷却流体流路を含んでいる、請求項6に記載のマグネトロン組立体。
- 前記ハウジングは、前記冷却流体流路と連通している冷却流体の流入口と流出口を含んでいる、請求項9に記載のマグネトロン組立体。
- 前記駆動軸は、軸方向に伸張しており、前記手段は、前記ベアリングに密接に関係付けられ且つ前記ハウジングと前記駆動軸の間を伸張している導電性材料を含んでいる、請求項1に記載のマグネトロン組立体。
- 前記導電性部材は導電性ブラシである、請求項9に記載のマグネトロン組立体。
- 前記ベアリングは、組み合わせ式ベアリング/シール部材であって、
前記ハウジングに対して固定されている外側ベアリングハウジングと、
前記駆動軸に、共に回転するように接続されている内側ベアリングと、
前記外側ベアリングハウジングと前記内側ベアリングハウジングの間のベアリング部材と、
前記外側ベアリングハウジングと前記内側ベアリングハウジングの間のリップシールと、を備えている、組み合わせ式ベアリング/シール部材である、請求項1に記載のマグネトロン組立体。 - マグネトロン組立体において、
ハウジングと、
前記ハウジング内で回転させるために取り付けられている回転可能な駆動軸と、
前記駆動軸と接続されているターゲットと、
前記ハウジングと前記駆動シャフトの間のベアリングであって、内側レースと、外側レースと、前記内側レースと前記外側レースの間のベアリング部材と、を含んでおり、且つ導電グリースで包み込まれている、ベアリングと、を備えているマグネトロン組立体。 - ハウジングと、前記ハウジング内に取り付けられた回転可能な駆動軸と、前記駆動軸と接続されているカソードと、前記ハウジングと前記駆動軸の間に配置されている組み合わせ式ベアリング/シールと、を備えている型式のマグネトロン組立体用の組み合わせ式ベアリング/シールにおいて、
マグネトロン組立体ハウジングと接続可能な外側ベアリングハウジングと、
マグネトロン組立体駆動軸に、共に回転させるために接続可能な内側ベアリングと、
前記外側ベアリングハウジングと前記内側ベアリングハウジングの間の強磁性流体シールと、
前記外側ベアリングハウジングと前記内側ベアリングハウジングの間に配置されているベアリング部材と、
何れの電流も前記ベアリング部材を通って流れることを実質的に防止するための手段と、を備えている、組み合わせ式ベアリング/シール。 - 前記手段は、非導電性材料で作られた、前記外側ベアリングハウジング又は前記内側ベアリングハウジングの少なくとも一方を含んでいる、請求項15に記載の組み合わせ式ベアリング/シール。
- 前記ベアリング部材は、外側レースと、内側レースと、前記外側レースと前記内側レースの間に配置された第2ベアリング部材とを含んでおり、前記内側レースと前記外側レースと前記第2ベアリング部材の内の少なくとも1つは、非導電性材料で作られている、請求項15に記載の組み合わせ式ベアリング/シール。
- 冷却流体流路を、前記外側ベアリングハウジングの外面部分に含んでいる、請求項15に記載の組み合わせ式ベアリング/シール。
- マグネトロン組立体において、
ハウジングと、
前記ハウジング内で回転させるための駆動軸と、
前記駆動軸と接続されているターゲットと、
前記ハウジングと前記駆動軸の間のベアリングであって、内側レースと、外側レースと、前記内側レースと前記外側レースの間に配置されているベアリング部材と、を含んでおり、前記内側レースと前記外側レースと前記ベアリング部材の内の少なくとも1つは、非導電性材料で作られており、前記内側レースと前記外側レースと前記ベアリング部材の内の少なくとも1つは、導電性材料で作られている、ベアリングと、を備えているマグネトロン組立体。 - 前記内側レースと前記外側レースは、それぞれ導電性材料で作られており、前記ベアリング部材は非導電性材料で作られている、請求項19に記載のマグネトロン組立体。
- 前記ベアリング部材はセラミックで作られている、請求項20に記載のマグネトロン組立体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/919,791 US20060049043A1 (en) | 2004-08-17 | 2004-08-17 | Magnetron assembly |
PCT/US2005/027188 WO2006023257A1 (en) | 2004-08-17 | 2005-08-02 | Magnetron assembly |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008510073A true JP2008510073A (ja) | 2008-04-03 |
JP2008510073A5 JP2008510073A5 (ja) | 2008-06-26 |
Family
ID=35107018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007527844A Pending JP2008510073A (ja) | 2004-08-17 | 2005-08-02 | マグネトロン組立体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20060049043A1 (ja) |
EP (1) | EP1787312A1 (ja) |
JP (1) | JP2008510073A (ja) |
WO (1) | WO2006023257A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013088597A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダ装置および真空処理装置 |
WO2013088598A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダ装置および真空処理装置 |
JP2016108633A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | 株式会社アルバック | ロータリーカソード、および、スパッタ装置 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9349576B2 (en) * | 2006-03-17 | 2016-05-24 | Angstrom Sciences, Inc. | Magnetron for cylindrical targets |
EP1840926B1 (de) | 2006-03-29 | 2011-10-19 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Isolierende Vakuumdrehdurchführung für Rotationsmagnetrons |
DE102008058528B4 (de) * | 2008-11-21 | 2011-03-03 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
CN102369652B (zh) * | 2009-04-28 | 2014-10-08 | 松下电器产业株式会社 | 电动机和具有该电动机的电设备 |
CZ304905B6 (cs) | 2009-11-23 | 2015-01-14 | Shm, S.R.O. | Způsob vytváření PVD vrstev s pomocí rotační cylindrické katody a zařízení k provádění tohoto způsobu |
US8951394B2 (en) | 2010-01-29 | 2015-02-10 | Angstrom Sciences, Inc. | Cylindrical magnetron having a shunt |
GB2478990A (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-28 | E2V Tech | Magnetron with high gfrequency cathode heater power supply |
GB201200574D0 (en) * | 2012-01-13 | 2012-02-29 | Gencoa Ltd | In-vacuum rotational device |
DE102014101582B4 (de) * | 2014-02-07 | 2017-10-26 | Von Ardenne Gmbh | Lagervorrichtung |
DE102014115282B4 (de) * | 2014-10-20 | 2019-10-02 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Sockelanordnung |
DE102014115275B4 (de) * | 2014-10-20 | 2019-10-02 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Endblockanordnung und Prozessieranordnung |
CN109295429A (zh) * | 2018-11-26 | 2019-02-01 | 上海子创镀膜技术有限公司 | 一种新型旋转磁控圆型柱弧靶装置 |
CN115287618A (zh) * | 2022-08-26 | 2022-11-04 | 中科纳微真空科技(合肥)有限公司 | 一种锥面传输功率的旋转阴极端头 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01305523A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-08 | Nec Yamagata Ltd | リアクティブ・イオン・エッチング装置 |
WO2002038826A1 (en) * | 2000-11-09 | 2002-05-16 | Viratec Thin Films, Inc. | Alternating current rotatable sputter cathode |
JP2002220667A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング装置のスパッタ源 |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4166018A (en) * | 1974-01-31 | 1979-08-28 | Airco, Inc. | Sputtering process and apparatus |
GB1601427A (en) * | 1977-06-20 | 1981-10-28 | Siemens Ag | Deposition of a layer of electrically-conductive material on a graphite body |
US4422916A (en) * | 1981-02-12 | 1983-12-27 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4443318A (en) * | 1983-08-17 | 1984-04-17 | Shatterproof Glass Corporation | Cathodic sputtering apparatus |
US4445997A (en) * | 1983-08-17 | 1984-05-01 | Shatterproof Glass Corporation | Rotatable sputtering apparatus |
US4466877A (en) * | 1983-10-11 | 1984-08-21 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4751193A (en) * | 1986-10-09 | 1988-06-14 | Q-Dot, Inc. | Method of making SOI recrystallized layers by short spatially uniform light pulses |
US4914296A (en) * | 1988-04-21 | 1990-04-03 | The Boeing Company | Infrared converter |
US5018180A (en) * | 1988-05-03 | 1991-05-21 | Jupiter Toy Company | Energy conversion using high charge density |
US5258206A (en) * | 1989-01-13 | 1993-11-02 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Method and apparatus for producing diamond thin films |
US5073690A (en) * | 1989-02-23 | 1991-12-17 | Fort Wayne Wire Die, Inc. | Long lasting electrical discharge machine wire guide |
US5096562A (en) * | 1989-11-08 | 1992-03-17 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
US5047131A (en) * | 1989-11-08 | 1991-09-10 | The Boc Group, Inc. | Method for coating substrates with silicon based compounds |
US5477864A (en) * | 1989-12-21 | 1995-12-26 | Smith & Nephew Richards, Inc. | Cardiovascular guidewire of enhanced biocompatibility |
WO1992002659A1 (en) * | 1990-08-10 | 1992-02-20 | Viratec Thin Films, Inc. | Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems |
US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
US5100527A (en) * | 1990-10-18 | 1992-03-31 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating magnetron incorporating a removable cathode |
US5070936A (en) * | 1991-02-15 | 1991-12-10 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | High intensity heat exchanger system |
US5188717A (en) * | 1991-09-12 | 1993-02-23 | Novellus Systems, Inc. | Sweeping method and magnet track apparatus for magnetron sputtering |
EP0534354A1 (en) * | 1991-09-25 | 1993-03-31 | Sumitomo Electric Industries, Limited | Surface acoustic wave device and manufacturing method thereof |
EP0562782A3 (en) * | 1992-03-24 | 1994-05-25 | Smith & Nephew Richards Inc | Dual composition coupler for modular medical implants |
US6348752B1 (en) * | 1992-04-06 | 2002-02-19 | General Electric Company | Integral motor and control |
US5273788A (en) * | 1992-07-20 | 1993-12-28 | The University Of Utah | Preparation of diamond and diamond-like thin films |
US5431963A (en) * | 1993-02-01 | 1995-07-11 | General Electric Company | Method for adhering diamondlike carbon to a substrate |
US5512164A (en) * | 1993-06-03 | 1996-04-30 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method for sputtering with low frequency alternating current |
EP0642866A1 (fr) * | 1993-09-10 | 1995-03-15 | Charmilles Technologies S.A. | Dispositf pour alimenter en courant électrique en élément rotatif et son application en électroérosion |
US5644455A (en) * | 1993-12-30 | 1997-07-01 | Seagate Technology, Inc. | Amorphous diamond-like carbon gaps in magnetoresistive heads |
US5567289A (en) * | 1993-12-30 | 1996-10-22 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating floating magnetron dark-space shield and cone end |
US5445721A (en) * | 1994-08-25 | 1995-08-29 | The Boc Group, Inc. | Rotatable magnetron including a replacement target structure |
JPH10509773A (ja) * | 1995-04-25 | 1998-09-22 | ザ ビーオーシー グループ インコーポレイテッド | 基板上に誘電体層を形成するためのスパッタリング装置及び方法 |
US5661353A (en) * | 1995-05-25 | 1997-08-26 | Allen-Bradley Company, Inc. | Electrostatic shield for AC motor |
US5677003A (en) * | 1995-10-30 | 1997-10-14 | Sam Shin Precision, Co., Ltd. | Method for coating diamond-like carbon on head drums of a video cassette recorder |
JP2002529600A (ja) * | 1998-11-06 | 2002-09-10 | シヴァク | 高レート・コーティング用のスパッタリング装置および方法 |
US6328856B1 (en) * | 1999-08-04 | 2001-12-11 | Seagate Technology Llc | Method and apparatus for multilayer film deposition utilizing rotating multiple magnetron cathode device |
US20020189939A1 (en) * | 2001-06-14 | 2002-12-19 | German John R. | Alternating current rotatable sputter cathode |
US6994474B2 (en) * | 2001-05-29 | 2006-02-07 | Nsk Ltd. | Rolling sliding member and rolling apparatus |
US6736948B2 (en) * | 2002-01-18 | 2004-05-18 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Cylindrical AC/DC magnetron with compliant drive system and improved electrical and thermal isolation |
DE10213049A1 (de) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Dieter Wurczinger | Drehbare Rohrkatode |
US20050224343A1 (en) * | 2004-04-08 | 2005-10-13 | Richard Newcomb | Power coupling for high-power sputtering |
-
2004
- 2004-08-17 US US10/919,791 patent/US20060049043A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-08-02 WO PCT/US2005/027188 patent/WO2006023257A1/en active Application Filing
- 2005-08-02 EP EP05778128A patent/EP1787312A1/en not_active Withdrawn
- 2005-08-02 JP JP2007527844A patent/JP2008510073A/ja active Pending
-
2009
- 2009-07-29 US US12/511,746 patent/US20110005926A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01305523A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-08 | Nec Yamagata Ltd | リアクティブ・イオン・エッチング装置 |
WO2002038826A1 (en) * | 2000-11-09 | 2002-05-16 | Viratec Thin Films, Inc. | Alternating current rotatable sputter cathode |
JP2002220667A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング装置のスパッタ源 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013088597A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダ装置および真空処理装置 |
WO2013088598A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダ装置および真空処理装置 |
JPWO2013088598A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2015-04-27 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダ装置および真空処理装置 |
JPWO2013088597A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2015-04-27 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダ装置および真空処理装置 |
JP2016108633A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | 株式会社アルバック | ロータリーカソード、および、スパッタ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1787312A1 (en) | 2007-05-23 |
US20060049043A1 (en) | 2006-03-09 |
US20110005926A1 (en) | 2011-01-13 |
WO2006023257A1 (en) | 2006-03-02 |
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Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008510073A (ja) | マグネトロン組立体 | |
CN100577856C (zh) | 用于高功率溅镀的电源联接器 | |
JP2008510073A5 (ja) | ||
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A521 | Request for written amendment filed |
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A621 | Written request for application examination |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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