JP2008307458A - 硫化水素処理装置及び硫化水素処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】十分に省スペース化を実現できる硫化水素処理装置及び硫化水素処理方法。
【解決手段】本発明の硫化水素処理装置１０Ａは、被処理ガスに含まれる硫化水素を除去するためのものであって、被処理ガスと、硫化水素の分解能を有するキレート剤を含有する吸収液とを接触させると共に、吸収液を酸化処理する酸素含有ガスと、吸収液とを接触させる気液接触手段１Ａと、上記酸素含有ガスを気液接触手段１Ａに供給する酸素含有ガス供給ラインＬ５と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、被処理ガスに含まれる硫化水素を除去するための硫化水素処理装置及び硫化水素処理方法に関する。

生ごみなどの有機性廃棄物が発酵することにより、バイオガスと呼ばれる可燃性ガスが発生する。このバイオガスは、主成分として、メタン、二酸化炭素などを含む他、一般に少量の硫化水素を含んでいる。バイオガスに含まれる硫化水素は、酸性雨などの環境問題や燃焼装置の腐食問題の原因となるため、バイオガスを燃料ガスとして使用する場合等には、硫化水素を事前に除去する必要がある。

硫化水素を含有するガスから硫化水素を除去する方法についてこれまで種々検討がなされている。例えば、特許文献１には、第２鉄キレートを含有する吸収液と硫化水素含有ガスとを気液接触させて硫化水素を除去する湿式酸化法が記載されている。
特開昭５９−１１２８２４号公報

ところで、上記のような湿式酸化法にあっては、吸収液による硫化水素の吸収反応と、吸収液の再生反応とが生じる。それぞれの反応は、下記式のように表される。下記式中、Ｘはキレートを示す。
吸収液による硫化水素の吸収反応：
2［FeX₂］^＋ ＋ 3H₂S → Fe₂S₃ ＋ 4X⁻ ＋ 6H^＋ …（１）
吸収液の再生反応：
Fe₂S₃ ＋ 4X⁻ ＋ 6H^＋ ＋ 3／2O₂ → 2［FeX₂］^＋ ＋ 3S ＋ 3H₂O …（２）

従来の湿式酸化法に使用する処理装置は、上記式（１）の吸収反応を生じさせる吸収塔と、上記（２）式の再生反応を生じさせる再生槽とを別々に備えるものであり、当該処理装置の省スペース化の点において改善の余地があった。

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、十分に省スペース化を実現できる硫化水素処理装置及び硫化水素処理方法を提供することを目的とする。

本発明の硫化水素処理装置は、被処理ガスに含まれる硫化水素を除去するためのものであって、被処理ガスと、硫化水素の分解能を有するキレート剤を含有する吸収液とを接触させると共に、吸収液を酸化処理する酸素含有ガスと、吸収液とを接触させる気液接触手段と、上記酸素含有ガスを気液接触手段に供給する酸素含有ガス供給ラインと、を備える。

本発明の硫化水素処理装置にあっては、気液接触手段において、被処理ガスと吸収液とを気液接触させることにより上記式（１）の吸収反応を生じさせると共に、酸素含有ガスと吸収液とを気液接触させることにより上記式（２）の再生反応を生じさせることができる。本発明の硫化水素処理装置によれば、これらの反応を生じさせるための反応塔や反応槽を別々に設ける必要がないため、処理装置全体の十分な省スペース化を実現できる。

本発明の硫化水素処理装置においては、吸収液の酸化処理を行う酸素含有ガスの酸素濃度は、空気の酸素濃度よりも高いことが好ましい。従来、吸収液を再生させるための酸化剤として、空気が用いられることが一般的であるところ、酸素濃度が空気のそれよりも高い酸素含有ガスを使用することで、吸収液の再生反応速度が高まり、気液接触手段として一層小型のものを使用しても当該再生反応を十分に進行させることができる。吸収液の再生反応速度は、吸収液への酸素の溶解速度に支配され、この溶解速度は、酸素含有ガスの酸素分圧に関係する。したがって、酸素含有ガスとして酸素濃度が高いものを使用するに従い、酸素の溶解速度が高まり、吸収液の再生反応速度も高くなる。

更に、本発明の硫化水素処理装置は、気液接触手段における処理を経た酸素含有処理ガスから酸素を分離する酸素分離手段を更に備え、酸素含有ガス供給ラインは、酸素分離手段と、気液接触手段とを連結し、酸素分離手段で分離された酸素を含有する分離ガスを、酸素含有ガスの少なくとも一部として気液接触手段に供給するものであることが好ましい。かかる構成を採用することにより、酸素含有処理ガス中に含まれる酸素を有効利用することができる。

本発明の硫化水素処理方法は、被処理ガスに含まれる硫化水素を除去するためのものであって、被処理ガスと、硫化水素の分解能を有するキレート剤を含有する吸収液とを接触させると共に、吸収液を酸化処理する酸素含有ガスと、吸収液とを接触させる気液接触工程と、上記酸素含有ガスを気液接触工程に供する酸素含有ガス供給工程と、を備える。

本発明の硫化水素処理方法にあっては、気液接触工程において、被処理ガスと吸収液とを気液接触させることにより上記式（１）の吸収反応を生じさせると共に、酸素含有ガスと吸収液とを気液接触させることにより上記式（２）の再生反応を生じさせることができる。本発明の硫化水素処理方法によれば、これらの反応を生じさせるための反応塔や反応槽を別々に設ける必要がないため、処理装置全体の十分な省スペース化を実現できる。

本発明によれば、十分に省スペース化を実現できる硫化水素処理装置及び硫化水素処理方法が提供される。

以下、図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、各図において、同一の要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。

（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る硫化水素処理装置を示す概略構成図である。同図に示す硫化水素処理装置１０Ａは、例えば、有機性廃棄物処理施設のバイオガスに含まれる硫化水素の除去処理に採用されるものである。なお、ここでいうバイオガスとは、有機性廃棄物のメタン発酵により生じるガスを意味する。バイオガスは、一般に、硫化水素を数百〜数千体積ｐｐｍ含有し、主成分はメタン（５０〜６５体積％）及び炭酸ガス（３５〜５０体積％）である。

硫化水素処理装置１０Ａは、気液接触槽（気液接触手段）１Ａと、酸素分離器２とを備えると共に、酸素分離器２と気液接触槽１Ａと連結する酸素循環ライン（酸素含有ガス供給ライン）Ｌ５など気体や液体を移送する複数のラインを備える。

気液接触槽１Ａは、ラインＬ１を通じて導入される被処理ガスに含まれる硫化水素を除去するための槽であり、硫化水素の分解能を有するキレート剤を含有する吸収液が収容されている。この気液接触槽１Ａには、被処理ガスを導入するラインＬ１、槽内の吸収液のｐＨ等を調整するためのｐＨ調整剤等を導入するラインＬ２及び酸素ガスを導入する酸素循環ラインＬ５が接続されていると共に、気液接触処理を経た酸素含有処理ガスを排出するラインＬ３及び気液接触処理により生じた硫黄を含有する硫黄スラッジＳを底部から排出するラインＬ４が接続されている。

気液接触槽１Ａは、ラインＬ１を通じて導入される被処理ガスを散気するための散気板１ａと、酸素循環ラインＬ５を通じて導入される酸素ガスを散気するための散気板１ｂとを槽内に備えている。散気板１ａは、気液接触槽１Ａ内の高さ方向の略中央の位置に配置されており、散気板１ｂは、散気板１ａよりも上方に配置されている。かかる構成により、被処理ガスと吸収液とがまず接触し、吸収反応後の吸収液と散気板１ｂからの酸素ガスとが効率的に接触するようになっている。

また、気液接触槽１Ａの下方部分には、吸収液の再生反応によって生成した硫黄単体を沈降させる硫黄沈降部１ｃが設けられている。硫黄沈降部１ｃの底部に沈殿した硫黄スラッジＳは、ラインＬ４を通じて系外に排出される。

酸素分離器２は、ラインＬ３を通じて導入される酸素含有処理ガスに含まれる酸素を分離するための装置である。酸素分離器２は、酸素のみを透過する酸素分離膜２ａを有しており、分離された酸素ガスは酸素循環ラインＬ５を通じて気液接触槽１Ａへと返送される。なお、気液接触槽１Ａ内においては、吸収液の再生反応によって酸素が消費され、酸素分離器２で分離される酸素量は徐々に減少するので、気液接触槽１Ａ内における処理に必要な酸素が不足するような場合は、酸素循環ラインＬ５に接続されたラインＬ６を通じて酸素ガスを補給できるようになっている。一方、酸素が分離された精製ガスは、ラインＬ７を通じて排出される。

次に、本実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ａによって被処理ガスから硫化水素を除去する方法について説明する。

まず、吸収液が収容された気液接触槽１Ａ内において、散気板１ａからの被処理ガスと吸収液とを接触させると共に、散気板１ｂからの酸素ガスと吸収液とを接触させる（気液接触工程）。

気液接触槽工程で使用する吸収液としては、第２鉄キレート水溶液が好ましい。この第２鉄キレート水溶液は、以下のようにして調製することができる。即ち、まず、第１鉄塩にヒドロキシ酢酸とクエン酸及び／又はギ酸とを混合したキレート剤が添加されてなる第１鉄キレート水溶液を調製する。この第１鉄キレート水溶液に安定剤としてのアスコルビン酸を添加した後、ｐＨを７〜８に調整し、これを酸素ガスで酸化することによって第２鉄キレート水溶液を得る。気液接触槽１Ａ内においては、第２鉄キレート水溶液のｐＨは、５．５〜８となるように調整される。なお、第２鉄キレート水溶液は、褐色透明な液体である。

第２鉄キレート水溶液の第２鉄濃度は、硫化水素の吸収反応を効率的に進行させる観点から、０．００１〜０．２モル／Ｌであることが好ましく、０．０５〜０．１モル／Ｌであることがより好ましい。第２鉄キレート水溶液に含まれる第２鉄のモル数Ｍ_Ａとキレート剤のモル数Ｍ_Ｂとの比（Ｍ_Ａ／Ｍ_Ｂ）は、０．４〜２であることが好ましい。ここで、キレート剤のモル数Ｍ_Ｂは、ヒドロキシ酢酸、クエン酸及びギ酸の合計モル数を意味する。

また、第２キレート水溶液に含まれるヒドロキシ酢酸のモル数Ｍ_Ｃと、クエン酸及び／又はギ酸のモル数Ｍ_Ｄとの比（Ｍ_Ｃ／Ｍ_Ｄ）は、０．２５〜４であることが好ましい。また、第２キレート水溶液に含まれる安定化剤のアスコルビン酸のモル数Ｍ_Ｅと第２鉄のモル数Ｍ_Ａとの比（Ｍ_Ｅ／Ｍ_Ａ）は、２〜５であることが好ましい。

第２鉄キレート水溶液にアスコルビン酸を安定化剤として添加することにより、これを吸収液として使用した場合、オキシ水酸化鉄（ＦｅＯＯＨ）の析出を防止できる。このことにより、高純度の硫黄単体を生成させることができると共に、吸収液に含まれるＦｅ（鉄）の消費量を削減できる。

気液接触槽１Ａにおいて、被処理ガスと吸収液とを接触させることにより下記式（１）の吸収反応を生じさせると共に、酸素ガスと吸収液とを接触させることにより下記式（２）の再生反応を生じさせることができる。下記式中、Ｘはキレートを示す。
吸収液による硫化水素の吸収反応：
2［FeX₂］^＋ ＋ 3H₂S → Fe₂S₃ ＋ 4X⁻ ＋ 6H^＋ …（１）
吸収液の再生反応：
Fe₂S₃ ＋ 4X⁻ ＋ 6H^＋ ＋ 3／2O₂ → 2［FeX₂］^＋ ＋ 3S ＋ 3H₂O …（２）

気液接触槽１ＡからラインＬ３を介して酸素含有処理ガスを酸素分離器２に導入し、酸素含有処理ガスから酸素を分離することにより、分離酸素ガスを得ると共に、酸素含有処理ガスから酸素が分離除去された精製ガスを得る（酸素分離工程）。分離酸素ガスの酸素濃度は、２０体積％以上であることが好ましく、９０体積％であることがより好ましい。分離酸素ガスの酸素濃度が２０体積％未満であると、２０体積％以上である場合と比較し、気液接触槽１Ａにおける吸収液の再生反応速度が不十分となりやすい。

酸素分離器２によって分離した分離酸素ガスを酸素循環ラインＬ５を通じて気液接触槽１Ａに供給する（酸素含有ガス供給工程）。このとき、酸素循環ラインＬ５に接続されたラインＬ６から必要に応じて酸素ガスを補給してもよい。補給用の酸素ガスとしては、従来公知の酸素製造法（例えば、ＰＳＡ法、深冷法、分離膜法）によって得られたものを使用できる。

一方、ラインＬ７を通じて排出される精製ガスは、燃料ガスなど種々の用途に利用される。なお、精製ガスに対してはその用途に応じて更なる処理を施してもよい。

本実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ａによれば、硫化水素の吸収反応及び吸収液の再生反応を気液接触槽１Ａ内で生じさせることができ、吸収塔や再生槽を別々に設ける必要がない。また、硫黄沈降部１ｃにおいて硫黄スラッジＳの分離除去も行うことができるため、硫黄分離槽を別途設ける必要がない。このように本実施形態の硫化水素処理装置によれば、処理装置全体の十分な省スペース化を実現できる。

また、本実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ａでは、吸収液を再生させるための酸化剤として、一般に使用される空気の代わりに酸素分圧が空気の約５倍の酸素ガスを使用することで、吸収液の再生反応速度が高まるため、気液接触槽１Ａの内容積を過度に大きなものとしなくても当該再生反応を十分に進行させることができる。

また、本実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ａによれば、酸素分離器２で酸素含有処理ガスから酸素ガスを分離し、これを酸素循環ラインＬ５を通じて気液接触槽１Ａに供給することができるため、吸収液の再生反応によって消費された酸素ガスの補給用に製造又は購入する酸素量を削減できる。

更に、吸収液の再生に酸素ガスを使用することで、再生反応によって生成する硫黄スラッジＳが沈降しやすくなるという効果が奏される。これは、酸素ガスによって硫黄単体がフロックを作りやすくなるためと考えられる。かかる効果によって、気液接触槽１Ａ内に設ける硫黄沈降部１ｃの内容積が小さいものであっても、十分に硫黄スラッジＳを分離除去することができる。

（第２実施形態）
図２は、本発明の第２実施形態に係る硫化水素処理装置を示す概略構成図である。同図に示す硫化水素処理装置１０Ｂは、第２実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ａの気液接触槽１Ａの代わりに、気液接触手段として向流型の気液接触塔１Ｂ、吸収液の再生反応によって生じる硫黄単体を分離するための硫黄分離槽３及び吸収液を循環させるためのラインＬ８，Ｌ９及びポンプＰを備える点において硫化水素処理装置１０Ａと相違する。

硫化水素処理装置１０Ｂが備える気液接触塔１Ｂ内には、上方からの液体と下方からの気体とを効率よく接触させるための多孔板等が配置された気液接触部１ｄが設けられている。気液接触塔１Ｂにあっては、その頭頂部に接続されたラインＬ９を通じて吸収液が導入される。吸収液は、気液接触部１ｄを被処理ガス及び酸素ガスと接触しながら流下し、気液接触塔１Ｂの底部に接続されたラインＬ８を通じて排出される。一方、被処理ガスは、ラインＬ１を通じて気液接触塔１Ｂ内に導入され、酸素分離器２からの分離酸素ガスは、酸素循環ラインＬ５を通じて気液接触塔１Ｂ内に導入される。これらの気体は、気液接触部１ｄ内を吸収液と接触しながら上方に移動し、気液接触塔１Ｂの上部に接続されたラインＬ３から酸素含有処理ガスとして排出される。

なお、気液接触塔１Ｂ内に被処理ガスを導入するラインＬ１は、気液接触塔１Ｂの高さ方向の略中央の位置に接続されているのに対し、分離酸素ガスを導入する酸素循環ラインＬ５は、ラインＬ１の接続位置よりも低い位置、即ち、図２に示すように気液接触塔１Ｂの下部に接続されている。かかる構成により、導入された被処理ガスと再生処理が施された吸収液とがまず接触し、次に、吸収反応後の吸収液と酸素循環ラインＬ５からの酸素ガスとが気液接触部１ｄ内において効率的に接触するようになっている。

硫黄分離槽３は、ラインＬ８を介して導入される吸収液に含まれる硫黄を分離除去するための槽である。当該槽内で硫黄スラッジＳが沈降し、硫黄スラッジＳが除去された吸収液は、ラインＬ９によって気液接触塔１Ｂに返送される。なお、ラインＬ９の途中には、吸収液を循環させるためのポンプＰが配設されている。

本実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ｂにおいては、硫化水素の吸収反応及び吸収液の再生反応を気液接触塔１Ｂ内で生じさせることができ、吸収塔や再生槽を別々に設ける必要がない。このように本実施形態の硫化水素処理装置によれば、処理装置全体の十分な省スペース化を実現できる。

また、本実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ｂでは、吸収液を再生させるための酸化剤として、一般に使用される空気の代わりに酸素分圧が空気の約５倍の酸素ガスを使用することで、吸収液の再生反応速度が高まるため、気液接触塔１Ｂの内容積を過度に大きなものとしなくても当該再生反応を十分に進行させることができる。

また、本実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ｂによれば、酸素分離器２で酸素含有処理ガスから酸素ガスを分離し、これを酸素循環ラインＬ５を通じて気液接触塔１Ｂに供給することができるため、吸収液の再生反応によって消費された分の酸素ガスのみを供給すればよいので、製造又は購入する酸素量を削減できる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態においては、気液接触手段として、気液接触槽１Ａ及び気液接触塔１Ｂを例示したが、気液接触処理を行うことができる装置であれば、これらの装置に限定されない。

また、吸収液から硫黄を分離除去する手段として、気液接触槽１Ａ内に設けられた硫黄沈降部１ｃ及び硫黄分離槽３を例示したが、液体中に含まれる固形分を分離除去できるものであれば、これらの装置に限定されず、例えば、膜分離槽（膜分離装置）等の固液分離装置を用いてもよい。また、酸素含有処理ガスから酸素を分離する手段として、酸素分離膜２ａを具備する酸素分離器２を例示したが、ガス中に含まれる酸素を分離できるものであれば、特に限定されず、例えば、ＰＳＡ法や深冷法を採用した酸素分離装置を用いてもよい。

（硫化水素処理装置の他の形態）
図３は、硫化水素処理装置の他の一例を示す概略構成図である。同図に示す硫化水素処理装置５０は、吸収液による硫化水素の吸収反応を生じさせる吸収塔５１、吸収液の再生反応を生じさせる再生槽５２及び硫黄単体の分離処理を行う硫黄分離槽５３がそれぞれ別々に設けられ、吸収塔５１に酸素ガスを導入しない代わりに再生槽５２における吸収液の再生処理（酸化処理）に酸素ガスを使用する点において上記第１及び第２実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ａ，１０Ｂと相違する。

また、硫化水素処理装置５０の吸収塔５１内に酸素ガスが導入されないことから、精製ガスを得るための酸素分離器２を必要としない点においても上記第１及び第２実施形態に係る硫化水素処理装置１０Ａ，１０Ｂと相違する。

図３に示す硫化水素処理装置５０にあっては、硫化水素を含有する被処理ガスは、ラインＬ５１を通じて吸収塔５１に導入され、ラインＬ５９によって供給される吸収液と気液接触する。吸収塔５１内においては、上記（１）式の吸収反応によって、極めて微細なＦｅ_２Ｓ_３粒子が析出し、被処理ガスから硫化水素が除去される。このとき、褐色透明の吸収液は黒色のＦｅ_２Ｓ_３懸濁液に変化する。硫化水素が除去された精製ガスはラインＬ５４より排出される。なお、気液接触処理を行うことができる装置であれば、気液接触塔に限定されず、例えば、液体を収容する槽と、槽内に設置される散気板とを備える気液接触槽を用いてもよい。

再生槽５２は、ラインＬ５７を通じて導入されるＦｅ_２Ｓ_３懸濁液に対して酸素ガスを散気することによって、主として上記（２）式の再生反応によって第２鉄キレートを再生させると共に、硫黄を生成させる。再生槽５２は、槽内に収容するＦｅ_２Ｓ_３懸濁液に酸素ガスを散気するための散気板５２ａと、再生槽５２の頭頂部から排出される酸素ガスを再び散気板５２ａに供給するための酸素循環ラインＬ５５及びその途中に設けられたブロワＢ１とを備える。

ここで、吸収塔５１内で吸収液中に溶解した硫化水素は、吸収塔５１内において直ちに第２鉄キレートと反応し、Ｆｅ_２Ｓ_３を生成する。したがって、酸素循環ラインＬ５５によって循環するガス（酸素ガス）中には、硫化水素はほとんど含まれていない。なお、酸素循環ラインＬ５５には、ラインＬ６が接続されており、このラインＬ６を通じて再生槽５２内で消費された分の酸素ガスを補給できるようになっている。

再生槽５２における処理を経た吸収液は、その液中に硫黄が浮遊している。この吸収液は、ラインＬ５８を通じて硫黄分離槽５３に導入される。硫黄分離槽５３は、槽内において硫黄を沈降させて分離するための槽である。硫黄分離槽５３の底部に沈殿した硫黄スラッジＳは、ラインＬ４を通じて系外に排出される。なお、吸収液に含まれる硫黄を分離できる装置であれば、このような分離槽に限定されず、例えば、膜分離槽（膜分離装置）等の固液分離装置を用いてもよい。

硫黄分離槽５３においては、槽内の吸収液のｐＨが５．５〜８となるように、ラインＬ２からｐＨ調整剤を添加する。ｐＨが調整された吸収液をラインＬ５９を通じて吸収塔５１に導入する。

なお、ラインＬ５７から排出される吸収反応後の吸収液の全量を再生槽５２に必ずしも導入しなくてもよく、図３に示すように、一部の吸収液についてはバイパスラインＬ５７ａを通じて再生槽５２及び硫黄分離槽５３における処理を経ることなくポンプＰ２側に移送してもよい。

硫化水素処理装置５０によれば、吸収液を再生させるための酸化剤として一般に使用される空気の代わりに酸素分圧が空気の約５倍の酸素ガスを使用することで、吸収液の再生反応速度が高まり、空気を使用する場合と比較し、内容積の小さい再生槽５２を使用しても当該再生反応を十分に進行させることができる。したがって、吸収液の再生に酸素ガスを曝気することにより、空気を曝気した場合に使用する再生槽と比較し、内容積が約半分の再生槽５２を使用することができる。このように硫化水素処理装置５０によれば、再生槽５２の省スペース化を実現できる。

更に、吸収液の再生に酸素ガスを使用することで、再生反応によって生成する硫黄スラッジＳが沈降しやすくなるという効果が奏される。これは、酸素ガスによって硫黄単体がフロックを作りやすくなるためと考えられる。かかる効果によって、硫黄分離槽５３の内容積が小さいものであっても、十分に硫黄を沈殿除去させることができる。したがって、吸収液の再生に酸素ガスを曝気することにより、空気を曝気した場合に使用する硫黄分離槽と比較し、内容積が約半分の硫黄分離槽５３を使用することができる。このように硫化水素処理装置５０によれば、硫黄分離槽５３の省スペース化を実現できる。

なお、硫化水素処理装置５０は、吸収塔５１、再生槽５２及び硫黄分離槽５３が別々に設けられたものであるが、装置全体の省スペースの観点から、再生槽５２と硫黄分離槽５３と一体的に設けてもよい。この場合、一つの槽内において吸収液の再生処理を行う再生処理部を上方に、硫黄単体を沈降させる硫黄沈降部を下方に設ければよい。

本発明の第１実施形態に係る硫化水素処理装置を示す概略構成図である。 本発明の第２実施形態に係る硫化水素処理装置を示す概略構成図である。 硫化水素処理装置の他の一例を示す概略構成図である。

符号の説明

１Ａ…気液接触槽（気液接触手段）、１Ｂ…気液接触塔（気液接触手段）、２…酸素分離器（酸素分離手段）、１０Ａ，１０Ｂ…硫化水素処理装置、Ｌ５…酸素循環ライン（酸素含有ガス供給ライン）。

Claims (4)

1. 被処理ガスに含まれる硫化水素を除去するための硫化水素処理装置において、
   前記被処理ガスと、硫化水素の分解能を有するキレート剤を含有する吸収液とを接触させると共に、前記吸収液を酸化処理する酸素含有ガスと、前記吸収液とを接触させる気液接触手段と、
   前記酸素含有ガスを前記気液接触手段に供給する酸素含有ガス供給ラインと、
   を備えることを特徴とする硫化水素処理装置。
2. 前記酸素含有ガスの酸素濃度は、空気の酸素濃度よりも高いことを特徴とする、請求項１に記載の硫化水素処理装置。
3. 前記気液接触手段における処理を経た酸素含有処理ガスから酸素を分離する酸素分離手段を更に備え、
   前記酸素含有ガス供給ラインは、前記酸素分離手段と、前記気液接触手段とを連結し、前記酸素分離手段で分離された酸素を含有する分離ガスを、前記酸素含有ガスの少なくとも一部として前記気液接触手段に供給するものであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の硫化水素処理装置。
4. 被処理ガスに含まれる硫化水素を除去するための硫化水素処理方法において、
   前記被処理ガスと、硫化水素の分解能を有するキレート剤を含有する吸収液とを接触させると共に、前記吸収液を酸化処理する酸素含有ガスと、前記吸収液とを接触させる気液接触工程と、
   前記酸素含有ガスを前記気液接触工程に供する酸素含有ガス供給工程と、
   を備えることを特徴とする硫化水素処理方法。

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