JP2008304773A5 - - Google Patents
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Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007152804A JP5140329B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
US12/135,578 US20080305429A1 (en) | 2007-06-08 | 2008-06-09 | Resist composition and pattern forming method using the resist composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007152804A JP5140329B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012011448A Division JP5572643B2 (ja) | 2012-01-23 | 2012-01-23 | レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008304773A JP2008304773A (ja) | 2008-12-18 |
JP2008304773A5 true JP2008304773A5 (ja) | 2010-04-02 |
JP5140329B2 JP5140329B2 (ja) | 2013-02-06 |
Family
ID=40096189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007152804A Expired - Fee Related JP5140329B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080305429A1 (ja) |
JP (1) | JP5140329B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9046773B2 (en) * | 2008-03-26 | 2015-06-02 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound |
JP5746818B2 (ja) * | 2008-07-09 | 2015-07-08 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5386236B2 (ja) * | 2009-06-01 | 2014-01-15 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
US9696627B2 (en) * | 2009-12-11 | 2017-07-04 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Compositions comprising base-reactive component and processes for photolithography |
JP5740184B2 (ja) * | 2010-03-25 | 2015-06-24 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法及びレジスト組成物 |
KR20140007833A (ko) * | 2011-02-04 | 2014-01-20 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 포토레지스트 조성물 |
WO2013147266A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Jsr株式会社 | 液浸露光用フォトレジスト組成物、重合体及び化合物 |
JP6276968B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2018-02-07 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6261948B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2018-01-17 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6324024B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2018-05-16 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6261949B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2018-01-17 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6276965B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2018-02-07 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6670591B2 (ja) * | 2014-11-11 | 2020-03-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
WO2019188595A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物及びその製造方法、レジスト膜、パターン形成方法、並びに、電子デバイスの製造方法 |
WO2020022088A1 (ja) * | 2018-07-25 | 2020-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4073320B2 (ja) * | 2003-01-21 | 2008-04-09 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
JP4740666B2 (ja) * | 2004-07-07 | 2011-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
EP1621927B1 (en) * | 2004-07-07 | 2018-05-23 | FUJIFILM Corporation | Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same |
JP4861767B2 (ja) * | 2005-07-26 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP4871549B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2012-02-08 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
TWI403843B (zh) * | 2005-09-13 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法 |
TWI430030B (zh) * | 2005-11-08 | 2014-03-11 | Fujifilm Corp | 正型光阻組成物及使用此正型光阻組成物之圖案形成方法 |
JP4881687B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
EP1795960B1 (en) * | 2005-12-09 | 2019-06-05 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition, pattern forming method using the positive resist composition, use of the positive resit composition |
JP5012073B2 (ja) * | 2006-02-15 | 2012-08-29 | 住友化学株式会社 | フォトレジスト組成物 |
TWI440978B (zh) * | 2006-02-15 | 2014-06-11 | Sumitomo Chemical Co | 化學增幅正型阻劑組合物 |
EP2003148B1 (en) * | 2006-03-31 | 2017-07-19 | JSR Corporation | Radiation-sensitive resin composition comprising a fluorine-containing polymer |
-
2007
- 2007-06-08 JP JP2007152804A patent/JP5140329B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-06-09 US US12/135,578 patent/US20080305429A1/en not_active Abandoned
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