JP2008303412A - めっきによる検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法 - Google Patents
めっきによる検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008303412A JP2008303412A JP2007149834A JP2007149834A JP2008303412A JP 2008303412 A JP2008303412 A JP 2008303412A JP 2007149834 A JP2007149834 A JP 2007149834A JP 2007149834 A JP2007149834 A JP 2007149834A JP 2008303412 A JP2008303412 A JP 2008303412A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic device
- plating
- analysis
- medical examination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
【解決手段】ガラス、セラミックあるいは樹脂基板の上に磁性膜を形成する製造工程を電気めっき、無電解めっき等の湿式プロセスのみとした。
【選択図】図2
Description
本発明による検査・解析医療用磁気デバイス製造法によって作製される磁気スポットアレイチップは、少なくとも1つの基板とその上に形成される磁気スポットによって構成される。基板は、ガラス、セラミック、シリコン、樹脂材料などよって構成される。基板は、透明であればさらによい。図2は、磁気スポットアレイチップ例の外観図である。
(1)はガラス基板を示す。めっき素地にはソーダライムガラスを基板(スライドガラス)として使用し、基板を純水中で、常温で5分間の超音波洗浄を行った後、1mol/LのNaOH溶液に30秒間浸漬し、水洗した。その後、1mol/LのH2SO4溶液に30秒間浸漬した後、純水中で、超音波洗浄を行った。
・硫酸アンモニウム 0.50
・コハク酸二ナトリウム 0.75
・(+)酒石酸ナトリウム二水和物 0.20
・DL-リンゴ酸二ナトリウム・n水和物 0.90
・硫酸コバルト(II)水和物 0.06
・硫酸ニッケル(II)六水和物 0.15
・過レニウム酸アンモニウム 0.003
・次亜リン酸ナトリウム 0.20
(mol/dm3)
・浴温:80℃
・pH:9.2
(6)の工程までは、第1実施例と同様であり、(7)の工程に下地の無電解Ni-Pめっきのエッチング工程を加えている。使用するエッチング液は、例えば硝酸セリウムアンモニウムなどである。
表面処理は、例えば図3の場合、(5)、(6)の工程後で行うことができる。(5)の工程の後に行うと、磁性めっき表面だけに選択的に処理することができ、また(6)の工程の後に行うと、磁気デバイス全体を処理することが可能である。
プラズマ処理や真空蒸着、スピンコート法などによってフルオロカーボン等を成膜すれば、疎水表面を得ることも可能である。
なお、以上の表面処理における材料、手段は、種々のものが考えられ、本実施例の処理に限定されるものではない。
2−b 磁性膜
2−c シード層、
2−d 基板。
Claims (10)
- めっきによる検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項1で、ガラス、セラミックあるいは樹脂基板の上に磁性膜を形成することを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項2で、磁性膜をエッチング処理することなく、微細パターンを形成することを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項3で、磁性膜上の被検査体を、その上下いずれの方向からも観察可能であることを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項4での磁性膜を、電気めっきで形成することを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項4での磁性膜を、無電解めっきで形成することを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項5で、ガラスの上に最初に無電解めっきを形成し、磁性膜を形成することを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項7で、無電解めっきが無電解Ni系であることを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 請求項7で無電解めっきが無電解銅であることを特徴とする検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
- 表面に機能性表面改質層を有することを特徴とする請求項1〜9に記載される検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007149834A JP2008303412A (ja) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | めっきによる検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007149834A JP2008303412A (ja) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | めっきによる検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008303412A true JP2008303412A (ja) | 2008-12-18 |
Family
ID=40232395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007149834A Pending JP2008303412A (ja) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | めっきによる検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008303412A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014118627A (ja) * | 2012-12-19 | 2014-06-30 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 非磁性体からなる中間層上に形成された薄膜 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003521674A (ja) * | 1999-03-15 | 2003-07-15 | アートルーン コーポレーション | 個別的にアドレスできる微小電磁ユニット配列チップ |
JP2006122017A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Toyama Prefecture | 磁気スポットアレイチップを用いる細胞の回収方法 |
JP2007017432A (ja) * | 2005-06-08 | 2007-01-25 | Canon Inc | プラズモン共鳴を利用して検体中の標的物質を検知するための検知装置に用いられる検知素子及びその製造方法 |
-
2007
- 2007-06-06 JP JP2007149834A patent/JP2008303412A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003521674A (ja) * | 1999-03-15 | 2003-07-15 | アートルーン コーポレーション | 個別的にアドレスできる微小電磁ユニット配列チップ |
JP2006122017A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Toyama Prefecture | 磁気スポットアレイチップを用いる細胞の回収方法 |
JP2007017432A (ja) * | 2005-06-08 | 2007-01-25 | Canon Inc | プラズモン共鳴を利用して検体中の標的物質を検知するための検知装置に用いられる検知素子及びその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014118627A (ja) * | 2012-12-19 | 2014-06-30 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 非磁性体からなる中間層上に形成された薄膜 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103958397B (zh) | 用于制造和对准纳米线的方法和这种方法的应用 | |
JP6854532B2 (ja) | 電子的、標識フリーのdnaおよびゲノムシークエンシング | |
Hidber et al. | Microcontact printing of palladium colloids: Micron-scale patterning by electroless deposition of copper | |
JP5645836B2 (ja) | 磁気パターニング法及びシステム | |
US8426082B2 (en) | Programmable self-aligning liquid magnetic nanoparticle masks and methods for their use | |
CN102597875B (zh) | 用于生产微颗粒的方法 | |
CN101108721A (zh) | 一种磁性微结构的制作方法 | |
JP2004291234A (ja) | 成形品の製造方法 | |
Ren et al. | Micropatterning of single cell arrays using the PEG-Silane and Biotin–(Strept) Avidin System with photolithography and chemical vapor deposition | |
CN113499811B (zh) | 基于表面生长ZnO纳米线玻璃微球的微流控芯片及应用 | |
JP2008303412A (ja) | めっきによる検査・解析医療用磁気デバイスの製造方法 | |
JP4497903B2 (ja) | タンパク質チップおよびそれを用いたバイオセンサー | |
JP3158181B2 (ja) | バイオセンサー及び生体材料の固定化方法 | |
WO2008078970A1 (en) | In situ preparation of substrates with di spersed gold nanoparticles | |
WO2005093416A1 (ja) | ビーズ配置用基板およびそれを用いたビーズ配置方法 | |
Choi et al. | Use of a GMR-SV Device Below a Single Coil and Channel to Detect the Deformation Properties of Red Blood Cell Membranes | |
JP2005114576A (ja) | 両親媒性分子固定化ビーズ、その製造方法、及びキャピラリビーズアレイのビーズ配列方法 | |
KR101018414B1 (ko) | 자기조립 블록 공중합체 박막상에 단백질 흡착이 향상된단백질 나노어레이의 제조방법 및 이에 따라 제조된 단백질나노어레이 | |
KR101092859B1 (ko) | 공간 분리형 나노 어레이 바이오칩 및 이의 제조방법 | |
KR101714862B1 (ko) | 금속 나노 홀 어레이에 의한 표면 플라즈몬 현상을 이용한 금속 막 구조 투명 자석 및 금속 막 구조 투명 자석 제작 방법 | |
CN109536434B (zh) | 基于免疫磁珠标记的细胞筛选方法及系统 | |
Wang et al. | Fabrication of monolithic multilevel high-aspect-ratio ferromagnetic devices | |
Li | Spin valve sensor for biomolecular identification: design, fabrication, and characterization | |
JP2013044604A (ja) | 金属酸化物の絶縁膜を用いたバイオチップ | |
Adam et al. | Mask design for the reproducible fabrication and reliable pattern transfer for polysilicon Nanowire |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100602 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100611 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100901 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101111 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20110317 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110318 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110428 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120321 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120424 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121113 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130115 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130514 |