JP2008298873A - 反射プリズム、光ピックアップ及び反射プリズムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】反射プリズムの各面の形状を理想平面に近い光学的平面にしつつ、収差の改善を図ることを目的とする。
【解決手段】入射面２と反射面３と出射面４とを有する反射プリズム１において、各面を全て凹の傾向を持つ光学的平面又は凸の傾向を持つ光学的平面となす。このとき、反射面３が凸の傾向の光学的平面のときには、入射面２と出射面４とを凹の傾向を持つ光学的平面とし、反射面３が凹の傾向の光学的平面のときには、入射面２と出射面４とを凸の傾向を持つ光学的平面とする。入射面２と出射面４とは同じ凹又は凸の傾向を持つ光学的平面であり、反射面３は反対の凹又は凸の傾向を持つ光学的平面であるため、反射プリズム１全体で収差の抑制を図ることができる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光路を変えるための反射プリズム、この反射プリズムを適用した光ピックアップ及び前記の反射プリズムを製造する反射プリズムの製造方法に関するものである。

光ピックアップや液晶プロジェクタ等の光学システムは種々の光学部品から構成され、その構成部品の１つとして、光路を変えるための反射プリズムがある。反射プリズムとしては、主にプリズムの一面に反射膜が形成されたものが用いられているが、反射膜に使用される銀やアルミ等の金属反射膜は光吸収を起こすこと等により反射率が低下する問題、酸化や硫化等による耐候性の低下といった問題がある。そこで、反射膜を用いずに、空気とプリズムとの屈折率差を利用してプリズムの内面で反射させるプリズム（以下、内面反射プリズムとする）が用いられるようになってきている。

近年では、光学システムのコンパクト化が必須の命題になってきているため、内面反射プリズムを用いることで、コンパクト化の要請を充足することができる。また、内面反射プリズムは屈折率差を利用しているため、屈折率の高い材料を使用することが好ましい。そうすると、外乱光の除去という点でも有利な効果を奏する点で、内面反射プリズムが用いられるようになってきている。

前記の内面反射プリズムは、光が入射する入射面と、入射面から入射した光が反射する反射面と、反射面で反射した光が出射する出射面と、を有する三角柱状のプリズムとなる。このとき、入射面と反射面と出射面とを、光が透過ないしは反射する間に非点収差やパワー（焦点がずれて、スポット像が劣化するような収差）が生じる。非点収差やパワー（これらの収差を、以下、単に収差とする）は、前記の３つの面の面精度によって発生するものである。プリズムの面精度は平面研磨によって出されるものであり、ある程度は面を平面に近づけることができても、理想的な平面状態（平面度が０の理想平面）とすることはできない。このため、不可避的に収差は発生し、スポット像の劣化といった問題を招来する。特に、反射プリズムの場合、屈折率差を利用して光を反射させるため、プリズムには屈折率が高い材料を用いることが好ましく、そうすると、各面で発生する収差が増幅してしまう。

そこで、非点収差の改善を図っているものが特許文献１に開示されている。特許文献１は、高速で回転駆動されるスピナーミラーに備えられる偏向部材の反射面に、遠心力や加工製造時に生じたひずみを原因とする非点収差を、偏向部材の形状を加熱ないしは冷却して入射面及び出射面を凹面又は凸面に変形させることにより、補正している。このために、偏向部材を取り付ける締結部材の温度を制御している。
特開２００６−２６７７１６号公報

近年の光学システムは高機能化及び大容量化の傾向にあり、システム全体に要求される精度は極めて高くなってきている。例えば、光ピックアップにおいては、非常に短い波長の光を使って、大容量の情報を記録ないしは再生しているため、各光学部品にも極めて高い精度が要求される。特許文献１では、入射面及び出射面の形状を反射面のひずみの量に応じて最適な曲率を持つ凹面又は凸面に変形させて非点収差を補正しているが、締結部材の温度コントロールにより面を変形させて、高精度にコントロールされた曲面を得ることは極めて困難である。

また、特許文献１では、入射面及び出射面の形状を変形させるための締結部材が必要となり、機構の複雑化といった問題を招来する。近年の光学システムはコンパクト化の傾向にあるため、各光学部品の形状の小型化及び部品点数の削減は必須の命題となっている。従って、収差を補正するための部品（特許文献１では締結部材）を使用すると、コンパクト化の要請を満たすことができなくなる。

そこで、本発明は、各面の形状を理想平面に近い光学的平面にしつつ、収差の改善を図ることを目的とする。

以上の課題を解決するため、本発明の請求項１の反射プリズムは、透明部材に形成された入射面と反射面と出射面との３つの面を全て光学的平面となし、前記３つの面のうち１つの面が凹の傾向を持つ光学的平面のときには、残り２つの面は凸の傾向を持つ光学的平面であり、前記３つの面のうち１つの面が凸の傾向を持つ光学的平面のときには、残り２つの面は凹の傾向を持つ光学的平面である、ことを特徴とする。

請求項１の反射プリズム（プリズムの内面で反射させる内面反射プリズム）では、３つの面のうち１つの面の光学的平面の凹凸の傾向と、残り２つの面の光学的平面の凹凸の傾向とを反対にしていることにより、収差の改善を図ることができる。ここで、光学的平面とは、微小に凹又は凸の傾向を持つ平面である。光学的平面を形成するときには、一般に平面研磨をして平面仕上げをすることになるが、理想平面を得ることはできず、凹又は凸の何れかの傾向を持つ光学的平面が不可避的に生じる。請求項１では、この凹又は凸を前記１つの面と前記残りの２つの面とで積極的に反対方向にすることにより収差の改善を図っている。なお、ここでいう収差とは、非点収差やパワー（焦点がずれて、スポット像が劣化するような収差）等をいうが、球面収差は含まないものとする。

従って、各面は光学的平面としており、あくまでも平面に形成している。曲面の曲率によって収差の改善を図る場合、曲率を極めて高精度にコントロールしなければならないが、各面はあくまでも光学的平面であるため、収差のコントロールが容易になる。また、補正を行うための専用の部品を用いるのではなく、光学的平面の凹凸の傾向のコントロールで収差の改善を図っている。従って、部品点数が増加することなく、光学システム全体のコンパクト化を達成することができる。

光学的平面を形成するためには、ポリッシュ研磨やラッピング研磨等の平面研磨を適用することができる。例えば、ラップを用いて透明部材の面を研磨することにより、光学的平面を形成することができる。そして、光学的平面の凹凸の傾向を積極的にコントロールするために、ラップにも凹凸を持たせる。光学的平面が凹の傾向を持つ場合には、ラップには凸のものを用い、光学的平面が凸の傾向を持つ場合には、ラップには凹のものを用いる。これにより、光学的平面の凹又は凸の傾向を積極的にコントロールすることができる。

本発明の請求項２の反射プリズムは、請求項１記載の反射プリズムにおいて、前記反射面が凸の傾向の光学的平面のときには、前記入射面と前記出射面とを凹の傾向を持つ光学的平面とし、前記反射面が凹の傾向の光学的平面のときには、前記入射面と前記出射面とを凸の傾向を持つ光学的平面とした、ことを特徴とする。

内面反射プリズムの場合、入射面から入射した光はプリズム内部を進行し、反射面で内面反射をして、出射面から出射する。このとき、プリズムの内面で光が反射するため、収差に与える影響が最も大きくなるのは反射面となる。そこで、反射面が凸の傾向の光学的平面のときには、入射面と出射面とを凹の傾向を持つ光学的平面とし、反射面が凹の傾向を持つ光学的平面のときには、入射面と出射面とを凸の傾向を持つ光学的平面とすることで、最も影響の大きい反射面で生じる収差を効率的に抑制することができる。このとき、反射面が収差に与える影響は非常に大きいため、反射面の平面度はできる限り０に近づけることが好ましい。

本発明の請求項３の反射プリズムは、請求項１又は２記載の反射プリズムにおいて、 前記反射面のニュートン本数をＮ１、前記入射面のニュートン本数をＮ２、前記出射面のニュートン本数をＮ３、前記透明部材の屈折率をｎ、前記反射プリズムに入射する光の波長をλ、前記反射プリズムに入射する光の光路断面の直径をφ、面が凸の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３を正の値、面が凹の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３を負の値としたときに、｜（ｎ−１）×（Ｎ２＋Ｎ３）＋２．１２×ｎ×Ｎ１｜≦（３×λ）／φ^２を満たす、ことを特徴とする。

入射面と反射面と出射面とは、微小に凹又は凸の傾向を持つ光学的平面であるため、各面のニュートン本数は０本ではない。しかし、各面のニュートン本数が多すぎると、収差が許容範囲を超えてしまう。そこで、前記の式を満たすように、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３を選択すれば、収差の許容範囲を満たすことができる。

本発明の請求項４の光ピックアップは、請求項１乃至３何れか１項記載の反射プリズムを有している。光ピックアップの他にも、液晶プロジェクタ等の投射型表示装置やデジタルカメラ等の撮像装置等にも前述した反射プリズムを適用することができる。

本発明の請求項５の反射プリズムの製造方法は、入射面と反射面と出射面とを有する反射プリズムを製造する反射プリズムの製造方法であって、透明部材を研磨して、凹又は凸の傾向を持つ光学的平面となる前記反射面を形成した後に、前記反射面が凹の傾向を持つ光学的平面のときには、凸の傾向を持つ光学的平面となるような入射面と出射面とを形成し、前記反射面が凸の傾向を持つ光学的平面のときには、凹の傾向を持つ光学的平面となるような入射面と出射面とを形成する、ことを特徴とする。

前述したように入射面と反射面と出射面とのうち最も収差の影響が大きくなるのが反射面である。そこで、まず凹又は凸の傾向を持つ光学的平面の反射面を形成して、その後、反射面の研磨に対応して、凸又は凹の傾向を持つ光学的平面の入射面及び出射面を形成することにより、収差の抑制を効率的に行うことができる。そして、入射面と出射面とでは凹又は凸の傾向は同じであるが、反射面の凹又は凸の傾向は反対である。

本発明の請求項６の反射プリズムの製造方法は、請求項５記載の反射プリズムの製造方法において、前記反射面のニュートン本数をＮ１、前記入射面のニュートン本数をＮ２、前記出射面のニュートン本数をＮ３、前記透明部材の屈折率をｎ、前記反射プリズムに入射する光の波長をλ、前記反射プリズムに入射する光の光路断面の直径をφ、面が凸の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３は正の値、面が凹の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３は負の値としたときに、｜（ｎ−１）×（Ｎ２＋Ｎ３）＋２．１２×ｎ×Ｎ１｜≦（３×λ）／φ^２を満たすように、前記入射面と前記出射面との研磨を行う、ことを特徴とする。

反射面の研磨を行ったときに反射面のニュートン本数Ｎ１が得られるが、このときのＮ１に応じて、前記の式を満たすようなＮ２とＮ３とが得られるように、入射面と出射面との研磨を行う。これにより、収差の許容範囲を満たす反射プリズムを製造することができる。このとき、収差に最も影響与える面は反射面であるため、Ｎ１の値をできる限り０に近づけるように反射面の研磨を行うことが好ましい。

本発明の請求項７の反射プリズムの製造方法は、入射面と反射面と出射面とを有する三角柱状の反射プリズムを製造する反射プリズムの製造方法であって、平板状の透明部材の一面を凹又は凸の傾向を持つ光学的平面となるように平面研磨する第１の研磨工程と、前記第１の研磨工程を経た透明部材を短冊状に切断して短冊部材を生成する切断工程と、前記切断工程で切断された短冊部材の研磨を行うときに、この研磨を行った後の面と前記第１の研磨工程で研磨された面とのなす角度が４５度となるように平面研磨する第２の研磨工程と、前記第２の研磨工程で研磨された短冊部材の研磨を行うときに、この研磨を行った後の面と前記第１の研磨工程で研磨された面とのなす角度が４５度となるように平面研磨する第３の研磨工程と、を有し、前記第２の研磨工程と前記第３の研磨工程との凹凸の傾向を同じにし、前記第１の研磨工程の凹凸の傾向と前記第２及び第３の研磨工程の凹凸の傾向とを反対にした、ことを特徴とする。

より具体的な反射プリズムの製造方法としては、例えば請求項７のような製造方法を適用することができる。

入射面と反射面と出射面とが持つ光学的平面の凹凸の傾向は、請求項２のように、入射面と出射面とを同じにし、反射面と入射面及び出射面とで反対になるようにすることが好ましいが、入射面と反射面とを同じにして出射面を反対になるようにしてもよいし、反射面と出射面とを同じにして入射面を反対になるようにしてもよい。

反射プリズムの素材としては、主にガラス素材を適用することができるが、プラスチック素材を適用することもできる。また、反射プリズムの形状は、主に断面が直角二等辺三角形の三角柱状のプリズムを想定しているが、入射面と反射面と出射面とが前述した条件を満たしていれば、他の形状の三角形でもよいし、断面が四角形や多角形等の多面体であってもよい。

本発明は、入射面と反射面と出射面とを、微小に凹又は凸の傾向を持つ光学的平面とし、反射面の凹凸の傾向と入射面及び出射面の凹凸の傾向とを異ならせることにより、収差の改善を図ることができる。

図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図１は、反射プリズム１を示している。図示はしていないが、例えば光ピックアップの場合には、反射プリズム１の後段（反射プリズム１から出射した光の光路上）に対物レンズが配置されている。反射プリズム１で収差が発生すると、対物レンズのピントがずれたり、ぼけが生じたりする。以下、反射プリズム１で発生した収差の抑制について説明していく。

図１の反射プリズム１は、断面が直角二等辺三角形の三角柱状のプリズムであり、入射面２と反射面３と出射面４とを有している。反射面３では、この面に入射するときの光の入射角と屈折率差（反射プリズム１の屈折率と空気の屈折率との屈折率差）とにより光を反射させている。図１において、反射面３は凹の傾向を持つ光学的平面（図中では−としている）、入射面２及び出射面４は凸の傾向を持つ光学的平面（図中では＋としている）としている。

入射面２から入射した光は反射面３で反射して、出射面４から出射していく。このとき、入射面２と出射面４とは凸の傾向を持つ光学的平面となっており、反射面３は凹の傾向を持つ光学的平面となっているため、入射面２及び出射面４と反射面３とは傾向が反対になっている。このため、反射面３で生じた収差が入射面２と出射面４とにより抑制されることになる。

そして、反射面３、入射面２、出射面４のニュートン本数を夫々、Ｎ１（本）、Ｎ２（本）、Ｎ３（本）とし、反射プリズム１の屈折率をｎ、光の波長をλ（ｎｍ）、光の光路断面の直径をφ（ｍｍ）としたときに、「｜（ｎ−１）×（Ｎ２＋Ｎ３）＋２．１２×ｎ×Ｎ１｜≦（３×λ）／φ^２」の条件式を満たすようにする。なお、ニュートン本数Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３については、面の１辺を７０ｍｍとし、この７０ｍｍの間に６３３ｎｍの高低差があるときに、ニュートン本数を２本とする。また、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３は、面が凸の傾向を持つときに正の値とし、面が凹の傾向を持つときに負の値とする。

前記式の不等号を挟んだ左辺は各面の面精度により発生するパワーの値、右辺はパワーの許容値を示している。従って、左辺の値を０に近づけるようＮ１、Ｎ２、Ｎ３であれば、収差の値を最大限抑制することができる。例えば、Ｎ１＝−１０のときには、Ｎ２＋Ｎ３＝４６程度とすることにより、左辺の値をほぼ０に近づけることができる。ただし、左辺の値が０にならなくても、右辺の許容値の範囲内となるようなＮ１、Ｎ２、Ｎ３であればよい。

前述したように、反射面３が最も収差に影響を与える。よって、最初に反射面３を形成して、それに合わせて入射面２と出射面４とを形成する。従って、反射面３を形成することにより、最初にＮ１が得られ、このＮ１の値に合わせて、Ｎ２及びＮ３が前記の式を満たすように入射面２と出射面４とを形成する。例えば、前述したように、平面研磨後の反射面３のニュートン本数Ｎ１がＮ１＝−１０のときには、Ｎ２＝２３となるように入射面２を平面研磨し、且つＮ３＝２３となるように出射面４を平面研磨することにより、収差の抑制を最大限図ることができる。

本発明では、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３のうち１つと残り２つとを、夫々正負を逆にし、特に、正負を、Ｎ２とＮ３とを同じにして、Ｎ１を逆にしている。これにより、左辺の値は小さくなり、収差の改善を図ることができる。

図２には、各面が全て凸の傾向を持つ光学的平面の場合と、反射面が凸の傾向を持つ光学的平面であり、入射面及び出射面が凹の傾向を持つ光学的平面の場合の各値について示している。図中Ａの段及びＣの段は、各面が全て凸の傾向を持つ光学的平面の場合であり、図中Ｂの段及びＤの段は、反射面が凸の傾向を持つ光学的平面であり、入射面及び出射面が凹の傾向を持つ光学的平面の場合について示している。各段において、波長λが４０５ｎｍ、光の光路断面の直径φが５ｍｍのときには、前記式の右辺の値は４８．６となる。図中Ａの段は、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３が全て１０であり、反射プリズム１の屈折率ｎを１．８４６とすると、左辺の値は５６．１となり、許容範囲を超えている。一方、図中Ｂの段は、Ｎ１＝１０、Ｎ２＝−１０、Ｎ３＝−１０であり、反射プリズム１の屈折率ｎを同じく１．８４６とすると、左辺の値は２２．２となる。よって、収差の値は許容範囲以下となっている。

そして、図中Ｃの段は、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３が全て８であり、反射プリズム１の屈折率ｎを同じく１．８４６とすると、左辺の値は４４．８となっている。一方、図中Ｄの段は、Ｎ１＝８、Ｎ２＝−８、Ｎ３＝−８であり、反射プリズム１の屈折率ｎを同じく１．８４６とすると、左辺の値は１７．８となっている。従って、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３が全て正の値であっても、理想平面に近づけることができれば許容範囲以下とすることはできるが、図中Ｄの段に示すように、Ｎ１とＮ２及びＮ３とを正負逆にすることにより、収差の値を容易に抑制することができる。

次に、反射プリズム１の具体的な製造方法について、図３のフローチャートに基づいて説明する。最初に、図４（ａ）に示すように、平板状の透明部材１０の一面１０Ｓに対して表面研磨を施す（ステップＳ１：第１の研磨工程）。表面研磨は、ラップ等の治具を用いて行われるが、この治具は研磨を施す面が凹面又は凸面になっており、面１０Ｓを平面研磨したとしても、理想平面を得ることができず、面１０Ｓは凹又は凸の何れかの傾向を持つ平面となる。図４（ａ）では、凹研磨治具２１を用いて研磨を行っている場合について示している。このため、この凹研磨治具２１で表面研磨した後の透明部材１０の研磨面１０Ｓは、微小に凸の傾向を持つ光学的平面となる。そして、同図（ａ）の破線で示す切断面に沿って、研磨後の透明部材１０を短冊状に切断して、図４（ｂ）のような短冊状の短冊部材１１を複数個得る（ステップＳ２：切断工程）。図４では、短冊部材１１の断面が長方形となるように、切断が行われる。このとき、切断後の短冊部材１１のうち、第１の研磨工程で研磨された面を構成する面（第１の研磨面１１Ｓとする）も、微小に凸の傾向を持つ光学的平面となる。

次に、図５（ａ）に示すように、固定平面２２に固定された複数の固定治具２３に各短冊部材１１を接着剤等で貼り付けて固定する。固定治具２３は、固定平面２２の反対側に傾斜面２３Ｓを有しており、傾斜面２３Ｓの傾斜角は４５度となっている。同図（ａ）の状態で、凸研磨治具２４（微小に凹の傾向を持つ光学的平面を得るために凸面を有するラップ等の研磨治具）を用いて短冊部材１１の平面研磨を行う（ステップＳ３：第２の研磨工程）。第２の研磨工程における研磨では、図中の一点鎖線の位置まで研磨を行う（この研磨を行った第２の研磨面１１Ａと前記の第１の研磨面１１Ｓとが４５度の角度を形成するように研磨を行う）。具体的には、傾斜面２３Ｓに短冊部材１１の第１の研磨面１１Ｓを貼り付けて、上部から凸研磨治具２４で研磨を行っていき、第２の研磨面１１Ａと第１の研磨面１１Ｓとが４５度の角度を形成するように研磨を行っていく。このとき、第２の研磨工程で研磨した第２の研磨面１１Ａは、光学的平面となっているが、凸研磨治具２４を用いているため、微小に凹の傾向を持つ。

次に、固定平面２２に固定されていた固定治具２３を、図５（ｂ）に示すように、９０度転がした状態で、同じく凸研磨治具２４を用いて、透明部材１０の平面研磨を行っていく（ステップＳ４：第３の研磨工程）。このときの研磨は、図中の一点鎖線の位置まで研磨を行う（この研磨を行った第３の研磨面１１Ｂと前記の第２の研磨面１１Ａとのなす角度が９０度、第１の研磨面１１Ｓと第３の研磨面１１Ｂとのなす角度が４５度となるように研磨を行う）。この研磨により、短冊部材１１は断面が直角二等辺三角形の三角柱の部材となる。第３の研磨工程で研磨した第３の研磨面１１Ｂは、光学的平面となっているが、凸研磨治具２４を用いているため、微小に凹の傾向を持つ。

そして、最終的に、固定治具２３から各透明部材１０を取り外す。そうすると、図６に示すような、凸の傾向を持つ光学的平面（第１の研磨面１１Ｓ）と凹の傾向を持つ光学的平面（第２の研磨面１１Ａ及び第３の研磨面１１Ｂ）を得ることができる。よって、第１の研磨面１１Ｓを反射面３、第２の研磨面１１Ａ及び第３の研磨面１１Ｂを入射面２又は出射面４とすることにより、前述した反射プリズム１を得ることができる。また、図６の研磨後の短冊部材１１は細長の形状をしているため、必要に応じて、第３の研磨工程後の短冊部材１１を切断して、複数のコンパクトな反射プリズムを得てもよい。

なお、前述してきた製造方法は、断面が直角二等辺三角形の反射プリズムを説明してきたが、角度や形状が異なる場合には、それに合わせた製造方法を採用することができる。

反射プリズムを説明する図である。 ニュートン本数と収差と許容値との関係を説明する表である。 反射プリズムの製造方法の流れを説明するフローチャートである。 反射プリズムの製造方法の処理の前段を説明する図である。 反射プリズムの製造方法の処理の後段を説明する図である。 研磨後の反射プリズムを説明する図である。

符号の説明

１ 反射プリズム ２ 入射面
３ 反射面 ４ 出射面
１０ 透明部材 ２１ 凹研磨治具
２４ 凸研磨治具

Claims (7)

1. 透明部材に形成された入射面と反射面と出射面との３つの面を全て光学的平面となし、
   前記３つの面のうち１つの面が凹の傾向を持つ光学的平面のときには、残り２つの面は凸の傾向を持つ光学的平面であり、前記３つの面のうち１つの面が凸の傾向を持つ光学的平面のときには、残り２つの面は凹の傾向を持つ光学的平面である、ことを特徴とする反射プリズム。
2. 前記反射面が凸の傾向の光学的平面のときには、前記入射面と前記出射面とを凹の傾向を持つ光学的平面とし、前記反射面が凹の傾向の光学的平面のときには、前記入射面と前記出射面とを凸の傾向を持つ光学的平面とした、ことを特徴とする請求項１記載の反射プリズム。
3. 前記反射面のニュートン本数をＮ１、前記入射面のニュートン本数をＮ２、前記出射面のニュートン本数をＮ３、前記透明部材の屈折率をｎ、前記反射プリズムに入射する光の波長をλ、前記反射プリズムに入射する光の光路断面の直径をφ、面が凸の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３を正の値、面が凹の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３を負の値としたときに、
   ｜（ｎ−１）×（Ｎ２＋Ｎ３）＋２．１２×ｎ×Ｎ１｜≦（３×λ）／φ^２
   を満たす、ことを特徴とする請求項１又は２記載の反射プリズム。
4. 請求項１乃至３何れか１項記載の反射プリズムを有する光ピックアップ。
5. 入射面と反射面と出射面とを有する反射プリズムを製造する反射プリズムの製造方法であって、
   透明部材を研磨して、凹又は凸の傾向を持つ光学的平面となる前記反射面を形成した後に、
   前記反射面が凹の傾向を持つ光学的平面のときには、凸の傾向を持つ光学的平面となるような入射面と出射面とを形成し、前記反射面が凸の傾向を持つ光学的平面のときには、凹の傾向を持つ光学的平面となるような入射面と出射面とを形成する、ことを特徴とする反射プリズムの製造方法。
6. 前記反射面のニュートン本数をＮ１、前記入射面のニュートン本数をＮ２、前記出射面のニュートン本数をＮ３、前記透明部材の屈折率をｎ、前記反射プリズムに入射する光の波長をλ、前記反射プリズムに入射する光の光路断面の直径をφ、面が凸の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３は正の値、面が凹の傾向を持つときに前記Ｎ１、Ｎ２及びＮ３は負の値としたときに、
   ｜（ｎ−１）×（Ｎ２＋Ｎ３）＋２．１２×ｎ×Ｎ１｜≦（３×λ）／φ^２
   を満たすように、前記入射面と前記出射面との研磨を行う、ことを特徴とする請求項５記載の反射プリズムの製造方法。
7. 入射面と反射面と出射面とを有する三角柱状の反射プリズムを製造する反射プリズムの製造方法であって、
   平板状の透明部材の一面を凹又は凸の傾向を持つ光学的平面となるように平面研磨する第１の研磨工程と、
   前記第１の研磨工程を経た透明部材を短冊状に切断して短冊部材を生成する切断工程と、
   前記切断工程で切断された短冊部材の研磨を行うときに、この研磨を行った後の面と前記第１の研磨工程で研磨された面とのなす角度が４５度となるように平面研磨する第２の研磨工程と、
   前記第２の研磨工程で研磨された短冊部材の研磨を行うときに、この研磨を行った後の面と前記第１の研磨工程で研磨された面とのなす角度が４５度となるように平面研磨する第３の研磨工程と、を有し、
   前記第２の研磨工程と前記第３の研磨工程との凹凸の傾向を同じにし、前記第１の研磨工程の凹凸の傾向と前記第２及び第３の研磨工程の凹凸の傾向とを反対にした、ことを特徴とする反射プリズムの製造方法。

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