JP2008296203A - ガスバリア性積層体の製造方法およびガスバリア性積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記工程1〜3を含むガスバリア性積層体の製造方法;工程1:α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)、該α,β−不飽和カルボン酸単量体の10〜90%を中和する量の多価金属イオン(B)およびハロゲン原子およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも一つの特性基が結合した金属原子を含む少なくとも一種の加水分解性金属化合物(C)を含む重合性組成物を基材(1)上に塗布して塗膜を形成する工程;工程2:前記重合性組成物の塗膜を重合して加水分解性金属化合物(C)に由来する無機物およびイオン架橋ポリカルボン酸系重合体を含む重合体層を形成する工程;および工程3:工程2で形成された重合体層を50〜400℃の温度で熱処理して、ガスバリア層を形成する工程。
【選択図】 なし
Description
工程1:α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)、該α,β−不飽和カルボン酸単量体の10〜90%を中和する量の多価金属イオン(B)およびハロゲン原子およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも一つの特性基が結合した金属原子を含む少なくとも一種の加水分解性金属化合物(C)を含む重合性組成物を基材(1)上に塗布して塗膜を形成する工程、
工程2:前記重合性組成物の塗膜を重合して、前記加水分解性金属化合物(C)由来の無機物およびイオン架橋ポリカルボン酸系重合体を含む重合体層を形成する工程、および
工程3:工程2で形成された重合体層を50〜400℃の温度で熱処理して、無機物およびイオン架橋ポリカルボン酸系重合体を含むガスバリア層を形成する工程。
本発明法においては、まず、α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)、該α,β−不飽和カルボン酸単量体の10〜90%を中和する量の多価金属イオン(B)およびハロゲン原子およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも一つの特性基が結合した金属原子を含む少なくとも一種の加水分解性金属化合物(C)を含む重合性組成物を基材(1)上に塗布して塗膜を形成する。
α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸、セネシオ酸、チグリン酸、ソルビン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸およびメサコン酸あるいはこれらの無水物が好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸がより好ましい。ガスバリア性などの特性とコストの面でアクリル酸が特に好ましい。イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸などの(メタ)アクリル酸以外の単量体は、50重量%未満の少量成分としてアクリル酸またはメタクリル酸と併用することが好ましい。α,β−不飽和カルボン酸単量体は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
多価金属イオン(B)は、多価金属化合物(B′)に由来する多価金属イオンである。多価金属化合物としては、一般に、水中でイオン解離して多価金属イオンを生成するものが用いられる。多価金属化合物(B′)は、価数が2以上の金属イオンを与える多価金属原子単体及び多価金属化合物である。
重合性組成物に含まれる第3の成分である加水分解性金属化合物(C)は、ハロゲン原子およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも一つの特性基が結合した金属原子を含むものであり、一般に以下の化学式(I)で示される。
M1(OR1)nR2 m−n−t−sX1 tZ1 s…(I)
[化学式(I)中、M1はSi、Al、Ti、Zr、Cu、Ca、Sr、Ba、Zn、B、Ga、Y、Ge、Pb、P、Sb、V、Te、W、LeまたはNbを表す。M1は、好ましくはSi、Al、TiまたはZrであり、特に好ましくはSiである。また、化学式(I)中、R1はメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基などのアルキル基であり、好ましくは、メチル基またはエチル基である。またR2は、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基などの有機基であり、好ましくはR1と同様なアルキル基である。また、化学式(I)中、X1はハロゲン原子を表す。X1が表すハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられるが、塩素原子が好ましい。また、化学式(I)中、Z1は、官能基で置換された有機基を表す。ここで、官能基としては、エポキシ基、(メタ)アクリロキシ基、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、メルカプト基、イソシアネート基、ウレイド基、オキサゾリン基またはカルボジイミド基などが挙げられるが、エポキシ基、(メタ)アクリロキシ基、アミノ基、イソシアネート基、ウレイド基またはハロゲン原子が好ましく、エポキシ基、(メタ)アクリロキシ基、アミノ基およびイソシアネート基から選ばれる少なくとも1種であることが特に好ましい。また、官能基が、カルボキシル基と反応性を有することも好ましい。このような官能基で置換される有機基としては、R2と同様のものを例示することができる。また、化学式(I)中、mは金属元素M1の原子価と等しい。化学式(I)中、nは0〜m、tは0〜m、sは0もしくは1の整数を表す。但し、1≦n+t、n+t+s≦mである。
本発明の重合性組成物には、必要に応じて、重合開始剤を含有させることができる。重合開始剤としては、光重合開始剤と熱重合開始剤とが代表的なものである。光重合開始剤と熱重合開始剤とを組み合わせて使用してもよい。熱重合開始剤には、電離放射線の照射により活性化するアゾ化合物や過酸化物も含まれる。
上記工程1で基材(1)上に形成された重合性組成物の塗膜を重合して、化合物(C)に由来する無機物を含有し、且つ多価金属イオン(B)で架橋されたポリカルボン酸系重合体(α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)の重合物)を含む重合体層を形成する。
本発明の製造方法においては、上記工程2(重合工程)で形成された重合体層を、次いで50〜400℃で熱処理する。この熱処理は、硬化塗膜(重合体層)中の水分を除去して、酸素ガスバリア性を向上するとともに、加水分解性金属化合物(C)の加水分解重縮合反応を促進し、且つ加水分解縮合物中の残留有機成分を除去して、形成されるガスバリア層のガスバリア性を改善するために好ましい無機物に変化させるために行われる。熱処理温度は、好ましくは70〜350℃、より好ましくは90〜300℃である。この熱処理は、重合(工程2)が主として電離放射線の照射により進行した場合により効果的であり、一般に1秒〜72時間、好ましくは5秒〜2時間、行われるが、重合(工程2)が熱重合の場合には適宜短縮可能である。熱処理は基材(1)および/または基材(2)を剥離した後に行うこともできる。本発明の方法により形成されるガスバリア僧の厚みは、がスバリア性の観点から、通常0.001μm〜1mm、好ましくは0.01〜100μm、より好ましくは0.04〜10μmの範囲となるように調節することが好ましい。
本発明の方法により得られたガスバリア性積層体およびこれから基材を剥離して得られたガスバリア性フィルムは、ガスバリア性包装材料や加熱殺菌用包装材料あるいは真空断熱材用フィルムとして利用することができる。本発明のガスバリア性フィルムは、酸素によって変質を受け易い食品、飲料、薬品、医薬品、電子部品、精密金属部品などの包装材料として特に好適である。
以下に、実施例及び比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。
本明細書に記載する酸素透過度は、次の測定法による測定値に基づく。
以下の実施例及び比較例において、基材として使用しているプラスチックフィルムは以下の通りである。
(2)PET#50:ポリエチレンテレフタレートフィルム、東レ(株)製「ルミラーS10」、厚さ50μm;
(3)ONy#15:二軸延伸6ナイロンフィルム、ユニチカ(株)製「エムブレムONBC」、厚さ15μm、片面コロナ処理品
(4)OPP#20:二軸延伸ポリプロピレンフィルム、東レ(株)製「トレファンBO」、厚さ20μm、片面コロナ処理品
(5)PI#25:ポリイミドフィルム、東レ・デュポン(株)製「カプトン100EN」、厚さ25μm、片面コロナ処理品
(6)アート紙:坪量100g/m2(厚さ120μm)(アート紙とは、カオリン等の無機物や樹脂、それらの混合物により表面が平滑化された紙材である。)
(7)エチレンプロピレン(EPT)ゴムシート、クレハエラストマー(株)製「EPT508Z」、厚さ1mm
(8)Al蒸着PET(#12):アルミ蒸着二軸延伸PET、厚さ12μm、東セロ(株)製、「TL−PET H#12」
(塗工液S−1)
ビニルトリメトキシシラン(VTMS、アルドリッチ社製)2.2重量部及びテトラメトキシシラン(TMOS、信越シリコーン社製)8.7重量部を混合したものに、水の供給源および加水分解触媒としての0.1N塩酸(和光純薬製)を2.4重量部添加し、窒素雰囲気下、室温で10分間撹拌した加水分解及び重縮合反応をおこなった。得られたゾルに対して、酸化亜鉛(和光純薬工業社製)17.4重量部および蒸留水26.0重量部とアクリル酸(和光純薬工業社製)43.4重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−1を得た。得られた塗工液S−1の外観は無色透明であった。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS、信越シリコーン社製)2.2重量部及びテトラエトキシシラン(TEOS、アルドリッチ社製)19.7重量部を混合したものに、0.1N塩酸を3.7重量部添加し室温で15分間撹拌し、加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、炭酸カルシウム(和光純薬製)17.5重量部及び蒸留水21.9重量部、アクリル酸35.0重量部とを、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−2を得た。得られた塗工液S−2の外観は無色透明であった。
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(MPTMS、アルドリッチ社製)4.9重量部及びテトラメトキシシラン3.3重量部を混合したものに、0.1N塩酸を1.3重量部添加し窒素雰囲気下10℃で1時間撹拌し加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、炭酸亜鉛(和光純薬工業社製)16.8重量部及び蒸留水16.8重量部、アクリル酸48.8重量部、ベンゾフェノン(和光純薬工業社製)0.6重量部、グリセリン(和光純薬工業社製)8.1重量部とを、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−3を得た。得られた塗工液S−3の外観は無色透明であった。
アミノプロピルトリメトキシシラン(APTMS、アルドリッチ社製)36.4重量部及びテトラメトキシシラン4.0重量部を混合したものに、0.1N塩酸6.5重量部を0℃で30分間撹拌し加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、酸化亜鉛2.4重量部及び蒸留水10.1重量部、アクリル酸40.5重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−4を得た。得られた塗工液S−4の外観は無色透明であった。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.02重量部とテトラメトキシシラン3.1重量部を混合したものに、0.1N塩酸0.7重量部を室温で30分間撹拌し、加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、酸化マグネシウム(和光純薬工業社製)11.3重量部及び蒸留水38.8重量部、アクリル酸46.8重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−5を得た。得られた塗工液S−5の外観は無色透明であった。
アミノプロピルトリメトキシシラン35重量部及びテトラエトキシシラン15重量部を混合したものに、0.1N塩酸7.9重量部を加え、0℃で10分間撹拌し、加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、酸化亜鉛5重量部及び蒸留水8重量部、アクリル酸17重量部及び予め調整したポリビニルアルコール((株)クラレ製ポバール(商標登録110))5wt%水溶液48重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−6を得た。得られた塗工液S−6の外観は無色透明であった。
アミノプロピルトリメトキシシラン5.8重量部及びテトラメトキシシラン5.8重量部を混合したものに、0.1N塩酸2.3重量部を加え、0℃で30分間撹拌し、加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して酸化亜鉛17.3重量部及び蒸留水25.9重量部、アクリル酸43.1重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−7を得た。得られた塗工液S−7の外観は無色透明であった。
ビニルトリメトキシシラン1.0重量部及びテトラエトキシシラン8.7重量部を混合したものに0.1N塩酸1.8重量部を加え、窒素雰囲気下、室温で30分間撹拌し、加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、酸化亜鉛13.8重量部及び蒸留水25.8重量部、メタクリル酸(和光純薬工業社製)49.0重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−8を得た。得られた塗工液S−8の外観は無色透明であった。
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン13.6重量部及びテトラメトキシシラン1.5重量部を混合したものに、0.1N塩酸1.9重量部を加えて窒素雰囲気下、室温で30分間撹拌し、加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、炭酸カルシウム12.1重量部及び蒸留水22.6重量部、マレイン酸(和光純薬工業社製)40.8重量部、ポリアクリルアミド(分子量10000)50wt%水溶液(アルドリッチ社製)15.1重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−8を得た。得られた塗工液S−8の外観は無色透明であった。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン15.6重量部及びテトラメトキシシラン62.3重量部を混合したものに0.1N塩酸17.1重量部を加え、室温で15分間撹拌し、加水分解及び重縮合反応を行った。得られたゾルに対して、東亜合成(株)製ポリアクリル酸(PAA)アロンA−10H(登録商標)(数平均分子量20000、25重量%水溶液)16.8重量部及び酸化亜鉛0.8重量部を、この順序で撹拌下に順に加えて得た混合液を加えて混合し、表1中に示すような組成の塗工液S−51を得た。得られた塗工液の外観は無色透明であった。
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン70.5重量部及びテトラメトキシシラン17.6重量部を混合したものに0.1N塩酸11.9重量部を加えて、室温で30分間撹拌し加水分解及び重縮合反応を行い、表1中に示すような組成の塗工液S−52を得た。得られた塗工液の外観は無色透明であった。
前記で調製した塗工液(S−1)を、調製後速やかに卓上コーター(RK Print−Coat Instruments社製「K303PR00FER」)を用いて、ポリエチレンテレフタレート(PET#50)上に成膜後の厚みが1μmとなるようにコーティングした。塗工後、速やかにナイロンフィルム(ONy#15)を塗膜表面に被せて、「基材(PET#50)/塗工液S−1塗膜/基材(ONy#15)」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで溶液ONy基材の上から、トレー搬送コンベア方式のEB照射装置(「CB250/15/180L」、岩崎電気製EB装置)を用いて、加速電圧100kV、搬送速度10m/min、照射線量50kGyの条件で電子線(EB)を照射し、重合処理を行った。
前記で調製した塗工液(S−2)を、調製後速やかに卓上コーターを用いて、ポリイミドフィルム基材上に、製膜後の厚みが1μmとなるようにコーティングし、「基材PI#25/塗工液S−2塗膜」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、先述のEB照射装置を用いて、加速電圧100kV、搬送速度10m/min、照射線量100kGyの条件で電子線(EB)を照射し重合処理を行った。さらにギアオーブンで100℃1時間乾燥後、300℃2分間熱処理を行い、得られた無機物含有イオン架橋ポリカルボン酸系重合体の層を有する積層体の30℃80%RHにおける酸素透過度を測定した。
前記で調製した塗工液(S−3)を、調製後速やかに卓上コーターを用いて、PET(50#)基材上に、製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにアルミ蒸着PETフィルム(#12)を蒸着面と塗膜面が接触するように被せ、「基材PET#50/塗工液S−3塗膜/Al蒸着PET」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで得られた多層構造体をギアオーブンで70℃12時間熱重合処理を行い、更に210℃1時間熱処理した。得られた無機物含有イオン架橋ポリカルボン酸系重合体の層を有する積層体の30℃80%RHにおける酸素透過度を測定した。
前記で調製した塗工液(S−4)を調製後、速やかに卓上コーターを用いて、PET(12#)基材上に製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにナイロンフィルム(ONy#15)を塗膜表面に被せ、「基材PET#12/塗工液S−4/基材ONy#15」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、基材ONyの上から先述のEB照射装置を用いて、加速電圧100kV、搬送速度10m/min、照射線量100kGyの条件で電子線(EB)を照射し重合処理を行った。さらにギアオーブンで100℃1時間乾燥後、200℃30分間熱処理を行い、得られた無機物含有イオン架橋ポリカルボン酸系重合体の層を有する積層体の30℃80%RHにおける酸素透過度を測定した。
前記で調製した塗工液(S−5)を調製後、速やかに卓上コーターを用いてアート紙(#120)基材上に製膜後の厚みが1μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにナイロンフィルム(ONy#15)を塗膜表面に被せ、「基材アート紙/塗工液S−5/基材ONy#15」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、基材ONyの上からUV照射装置(「COMPACT UV CONVEYORCSOT−40」、GS YUASA(株)製)を用いて、ランプ出力120W/cm、搬送速度2m/min、ランプ高さ24cmの条件で紫外線(UV)を照射し、重合処理を行った。更にギアオーブンで100℃24時間熱処理を行い、得られた無機物含有イオン架橋ポリカルボン酸系重合体の層を有する積層体の30℃80%RHにおける酸素透過度を測定した。
前記で調製した塗工液S−6を、調製後速やかに卓上コーターを用いてエチレンプロピレンゴムシート(EPTゴムシート、厚さ1mm)基材上に製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにナイロンフィルム(ONy#15)を塗膜表面に被せ、「基材EPTゴムシート/塗工液S−6/基材ONy#15」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、基材ONyの上から先述のEB照射装置を用いて、加速電圧100kV、搬送速度10m/min、照射線量50kGyの条件で電子線(EB)を照射し重合処理を行った。
前記で調製した塗工液S−7を、調製後速やかに卓上コーターを用いてナイロンフィルム(ONy#15)基材上に製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにPETフィルム(PET#12)を塗膜表面に被せ、「基材ONy#15/塗工液S−7/基材PET#12」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、基材PETの上から先述のEB照射装置を用いて、加速電圧100kV、搬送速度10m/min、照射線量100kGyの条件で電子線(EB)を照射し重合処理を行った。
前記で調製した塗工液(S−8)を調製後、速やかに卓上コーターを用いてPET(#12)基材上に製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにナイロンフィルム(ONy#15)を塗膜表面に被せ、「基材PET#12/塗工液S−8/基材ONy#15」の層構成を持つ多層構造体を得た。
前記で調製した塗工液(S−9)を調製後、速やかに卓上コーターを用いてPET(#12)基材上に製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかに二軸延伸ポリプロピレンフィルム(OPP#20)を塗膜表面に被せ、「基材PET#12/塗工液S−8/基材OPP#20」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、基材OPPの上から先述のEB照射装置を用いて、加速電圧150kV、搬送速度10m/min、照射線量100kGyの条件で電子線(EB)を照射し重合処理を行った。更にギアオーブンで100℃24分間熱処理を行い、得られた無機物含有イオン架橋ポリカルボン酸系重合体の層を有する積層体の30℃80%RHにおける酸素透過度を測定した。
前記で調製した塗工液(S−1)を、調製後速やかに卓上コーターを用いてPET(#12)基材上に製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにナイロンフィルム(ONy#15)を塗膜表面に被せ、「基材PET#12/塗工液S−1/基材ONy#15」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、ギアオーブンで100℃30分間乾燥後、200℃30分間熱処理を行い、得られた積層体の30℃80%RHにおける酸素透過度を測定した。
前記塗工液S−1に代えて塗工液S−51を使用したこと以外は比較例51と同様に積層体を作製し、30℃80%RHにおける酸素透過度を測定した。
前記で調製した塗工液(S−52)を、調製後速やかに卓上コーターを用いてPET(#12)基材上に製膜後の厚みが2μmとなるようにコーティングした。塗工後速やかにナイロンフィルム(ONy#15)を塗膜表面に被せ、「基材PET#12/塗工液S−52/基材ONy#15」の層構成を持つ多層構造体を得た。次いで、基材ONyの上から先述のEB照射装置を用いて、加速電圧100kV、搬送速度10m/min、照射線量100kGyの条件で電子線(EB)を照射した。
Claims (17)
- 下記工程1〜3を含むガスバリア性積層体の製造方法;
工程1:α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)、該α,β−不飽和カルボン酸単量体の10〜90%を中和する量の多価金属イオン(B)およびハロゲン原子およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも一つの特性基が結合した金属原子を含む少なくとも一種の加水分解性金属化合物(C)を含む重合性組成物を、基材(1)上に塗布して塗膜を形成する工程、
工程2:前記重合性組成物の塗膜を重合して、前記加水分解性金属化合物(C)由来の無機物およびイオン架橋ポリカルボン酸系重合体を含む重合体層を形成する工程、および
工程3:工程2で形成された重合体層を50〜400℃の温度で熱処理して、無機物およびイオン架橋ポリカルボン酸系重合体を含むガスバリア層を形成する工程。 - α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)が、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、セネシオ酸、チグリン酸、ソルビン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、及びこれらの酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種の不飽和カルボン酸化合物である請求項1に記載の製造方法。
- 多価金属イオン(B)が、2価金属イオン及び3価金属イオンからなる群より選ばれる少なくとも1種の多価金属イオンである請求項1または2に記載の製造方法。
- 加水分解性金属化合物(C)が以下の化学式(I)で示される少なくとも1種の化合物を含有する請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
[化1]
M1(OR1)nR2 m−n−t−sX1 tZ1 s…(I)
[化学式(I)中、M1はSi、Al、Ti、Zr、Cu、Ca、Sr、Ba、Zn、B、Ga、Y、Ge、Pb、P、Sb、V、Te、W、LeまたはNbを表す。R1はアルキル基、R2はアルキル基、アラルキル基、アリール基またはアルケニル基から選ばれた有機基、Z1は官能基を有する有機基を表す。X1はハロゲン原子を表す。mはM1の原子価と等しい。nは0〜m、tは0〜m、sは0もしくは1の整数を表す。
但し、1≦n+t、n+t+s≦mである。] - 化合物(C)が、前記式(I)において、nおよびtがそれぞれ0〜(m−1)(但し、1≦n+t≦m−1)である少なくとも一種の化合物(C1)と、n+t=mである少なくとも一種の化合物(C2)とを含む請求項4に記載の製造方法。
- 前記化合物(C)について、前記式(I)中のZ1が、エポキシ基、(メタ)アクリロキシ基、アミノ基、水酸基、及びイソシアネート基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機基である請求項4または5に記載の製造方法。
- 前記金属元素M1がケイ素原子である請求項4〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記工程1における重合性単量体組成物において、全固形分中に含まれる化合物(C)の重量分率『化合物(C)/[α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)+多価金属イオン(B)+化合物(C)]×100』が1〜80%である請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記重合性組成物がさらに分子内に水酸基、アミノ基、カルボニル基、アミド基、カルボキシル基から選ばれる水素結合性官能基を少なくとも1つ以上含有する物質を含有する請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記重合性組成物が、光重合開始剤又は熱重合開始剤もしくはこれら両者を更に含有する請求項1〜9のいずれかに記載の製造方法。
- 前記工程1は、化合物(C)、前記化合物(C)の部分加水分解物、前記化合物(C)の完全加水分解物、前記化合物(C)の部分加水分解縮合物、前記化合物(C)の完全加水分解物の一部が縮合したものから選ばれる少なくとも1つの金属元素含有化合物および前記α,β−不飽和カルボン酸単量体(A)および多価金属イオン(B)を含む溶液(S)を調製した後に、基材(1)上に塗布する工程である請求項1〜10のいずれかに記載の製造方法。
- 前記工程2における重合性組成物の重合処理が、塗膜に対する電離放射線の照射または加熱もしくはこれら両方による処理である請求項1〜11のいずれかに記載の製造方法。
- 工程1において、基材(1)上に塗膜を形成した後、前記塗膜の表面を別のもしくは同様の基材(2)で被覆する工程を配置し、次いで工程2において、基材(1)と基材(2)の間の塗膜に、電離放射線の照射または加熱もしくはこれら両方による処理を行う請求項12に記載の製造方法。
- 前記工程2における電離放射線が、紫外線、電子線、ガンマ線、またはα線である請求項12または13に記載の製造方法。
- 前記工程2における加熱による重合処理が、温度50〜250℃で1〜120分間加熱する加熱処理である請求項12または13に記載の製造方法。
- 請求項1〜15のいずれかの製造方法により得られた均質なガスバリア層を有するガスバリア性積層体。
- 30℃、80%RHにおける酸素透過度が10cc/m2・day・atm以下である請求項16に記載のガスバリア性積層体。
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