JP2008294139A - 固体撮像素子およびカメラ - Google Patents

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Abstract

【課題】画素の周辺部における屈折率分布の再現性を改善し、高効率に入射光を集光できる集光素子を備える固体撮像素子等を提供する。
【解決手段】各画素(サイズ□5.6mm)は、集光素子1、カラーフィルタ2、遮光層(Al配線)3、受光素子(Siフォトダイオード)4、Si基板5及び平坦化層6から構成されている。同心矩形構造は、高屈折率材料12であるSiO2(n=1.43)によって構成されており、膜厚1.2μm、0.8μm、0μmの2段構造である。また、本実施例の集光素子1は、SiO2を同心状に掘り込んだ同心矩形構造であり、周りの媒質は空気(n=1.0)である。また、集光素子1を構成する高屈折率材料以外の領域は空気11である。
【選択図】図1

Description

本発明は、デジタルカメラ等に使用される固体撮像素子およびその製造方法に関するものである。
デジタルカメラ、カメラ付携帯電話機等の普及に伴い、固体撮像素子の市場は著しく成長してきた。現在、固体撮像素子として広く使用されているCCDやCMOSイメージセンサでは、複数の受光素子を有する半導体集積回路を2次元状に配列して、被写体からの光信号を電気信号に変換している。
固体撮像素子の感度は、入射光量に対する受光素子の出力電流の大きさによって決まることから、今後、高感度の固体撮像素子を実現するためには、入射した光を確実に受光素子に導入することが感度向上のための重要な要素となっている。そのためには、センサの最上部に形成されているオンチップマイクロレンズの集光効率を向上させる必要がある。現状のオンチップマイクロレンズは、樹脂製の球面レンズであり、CCD、CMOSイメージセンサを始めとするほとんどの固体撮像素子に搭載されている。
近年、マイクロレンズに替わる微細光学素子として、サブ波長領域の周期構造を有する集光素子(Subwavelength Lens:SWLL)が注目を集めている。ここで、「サブ波長領域」とは、対象とする光の波長と同程度かそれよりも小さい領域をいう。Delaware大学の研究グループでは、非球面レンズであるフレネルレンズを、格子状のSWLLで形成した場合に、集光効果があることをシミュレーションによって実証している(例えば、非特許文献1参照)。この手法では、従来のフレネルレンズ(例えば、図10(a)参照)をλ/2n(λ:入射光の波長、n:レンズ材料の屈折率)の領域9の周期(幅:d)で分割し、各領域において線形近似(例えば、図10(b)参照)し、さらに矩形形状への近似(例えば、図10(c)参照)を行うことによって、SWLLを形成している。同様に、サブ波長領域で、上記周期構造の線幅を制御することによって、ブレーズドバイナリー光学回折素子を形成し、回折効率を向上させた報告もある(例えば、特許文献1参照)。
上記のSWLLを固体撮像素子用の集光素子として用いることができれば、光リソグラフィ及び電子線リソグラフィに代表される一般的なプレーナープロセス技術を用いて、マイクロレンズを形成することができ、また、レンズの形状を自由に制御することができる。
我々のグループでは、SWLLをオンチップマイクロレンズとして搭載した固体撮像素子を報告している(例えば、特許文献2参照)。
図13(a)に、SWLLの集光素子1を搭載した固体撮像素子200の基本構造を示す。図13(a)では、集光素子201である、サブミクロンの微細凸凹構造を有するSWLLが、マイクロレンズの代わりにオンチップ実装されている様子が示されている。図13(b)は、集光素子201を2次元状に配列した様子を示す図である。集光素子201は、同心円構造を有しており、高屈折率材料12[例えば、TiO2(n=2.53)やSiO2(n=1.43)等]と低屈折率材料である空気11(n=1.0)で構成され、隣り合う円型光透過膜の周期は0.2μmである。また、集光素子201の膜厚は0.5μmである。
集光素子201の同心円構造における線幅は、円の中心部が最も大きく、外側のリングになるに従って順に小さくなっていく。周期が入射光の波長と同程度かそれより小さいときには、光が感じる有効屈折率は高屈折率材料と低屈折率材料の体積比によって決定される。本構造の場合は、同心円の中心から外側に向かって、有効屈折率が小さくなるような分布屈折率レンズとなる。このとき、SWLLの分割周期(例えば、図10の領域9)は、対象とする入射光の波長に強く依存するため、可視光領域では0.1〜0.3μm程度となる。
D. W. Prather, Opt. Eng. 38 870-878 (1999) 特開2004−20957号公報 国際公開第05/059607号パンフレット
しかしながら、上記従来の方法では、図11(a)に示すように同心円構造を有するSWLLを用いているため、水平方向((i)の方向)では放物線状の第1ゾーンの屈折率分布になっているのに対して(図11(b)参照)、対角方向((ii)の方向)では高次のフレネルゾーンが出現する(図11(b)参照)。急峻に変化する屈折率分布を再現するためには数十nm程度の構造を形成する必要があるため、現状の半導体プロセスでは作製が非常に困難である。その結果として、有効屈折率分布の再現性は低くなり、SWLLの集光性は低下する。
図12に、上記従来のSWLLの集光プロファイルを示す。図12(a)は、受光素子4付近の様子を示しており、受光素子領域40よりも小さい円形の集光スポットが確認できる。図12(b)は、対角方向(図11(a)の(ii)の方向)の画素の断面の様子を示している。入射光は紙面下から上に進行し、レンズに対して垂直に入射している。効率良く集光している光成分35(集光光)以外に、直進して遮光層3に照射している光成分36(集光ロス)が確認できる。これはSWLLの高次ゾーンにおいて、集光性を有する屈折率変化を実現できていないことに起因している。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、画素の周辺部における屈折率分布の再現性を改善し、高効率に入射光を集光できる集光素子を備える固体撮像素子等を提供することを目的とする。
本発明では、画素の周辺における屈折率分布の再現性を改善し、高効率に入射光を集光できる集光素子を考案した。詳細は後述するが、集光素子形状を矩形にすることによって、画素の周辺における集光性を向上した屈折率分布レンズである。これによって、集光ロスや散乱ロスが抑えられ、レンズの集光効率は向上する。
上記課題を解決するため、本発明に係る集光素子と受光素子とを備えた固体撮像素子であって、前記集光素子は、同心状に形成された光透過膜によって生じる実効屈折率分布を有し、かつ、当該集光素子を上面から見た場合の同心状の形状が、前記受光素子を上面から見た場合の形状とほぼ相似形であることを特徴とする。これにより、集光ロスが抑えられ、レンズの集光効率を向上させることができる。
また、前記集光素子は、フレネル型の集光素子であり、当該集光素子の有効屈折率分布が放物線状の第1ゾーンの屈折率分布を有していることを特徴とする。これにより、フレネル型屈折率分布の高次ゾーンを除去できるため、集光効率の高い集光素子を実現できる。
また、前記集光素子は、入射光の波長と同程度かそれよりも短い線幅で分割された複数の光透過膜のゾーン領域を備える同心状の構造を有しており、前記複数のゾーン領域のうち少なくとも一のゾーン領域は、第1線幅および第1膜厚の前記同心構造の下段光透過膜と、当該下段光透過膜の上位に構成される第2線幅および第2膜厚の前記同心構造の上段光透過膜とを含むことを特徴とする。これにより、設計自由度の高い有効屈折率分布が実現でき、レンズの集光効率は向上させることができる。
また、前記集光素子の上面から見た場合の同心状の形状が矩形であることを特徴とする。これにより、集光ロスが低減し、レンズの集光効率が増加する。
また、前記集光素子の上面から見た場合の同心状の形状が八角形であることを特徴とする。これにより、レンズの微細構造の一辺が短く設定され、構造倒れの少ないレンズが形成できるため、プロセスが容易になる。
また、上記課題を解決するために、本発明に係る固体撮像装置は、固体撮像素子が2次元状に配列された固体撮像装置であって、前記固体撮像素子は、同心状に形成された光透過膜によって生じる実効屈折率分布を有し、かつ、当該集光素子を上面から見た場合の形状が、前記受光素子を上面から見た場合の形状とほぼ相似形であり、当該固体撮像装置の中央付近における前記固体撮像素子における集光素子を上面から見た場合の形状が同心状の矩形であり、当該固体撮像装置の周辺部における前記固体撮像素子における集光素子を上面から見た場合の形状が同心状の円形であることを特徴とする。
これにより、固体撮像装置の周辺部に位置する固体撮像素子に入射する光を効率良く受光素子に集光することができるため、センサとしての感度を向上させることができる。
さらに、本発明は、上記固体撮像素子が2次元状に配列された固体撮像装置を有するカメラとして実現することもできる。
本発明の固体撮像素子は、上記レンズ構造を有し、解像度ならびに感度の向上や製造工程の容易化を実現できる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。なお、本発明について、以下の実施の形態および添付の図面を用いて説明を行うが、これは例示を目的としており、本発明はこれらに限定されることを意図しない。
(実施の形態1)
図1は、本実施の形態に係る固体撮像素子の上面図(具体的には集光素子1の上面図)である。図1に示すように、集光素子1は、高屈折率材料12[例えば、SiO2(n=1.43)やTiO2(n=2.53)等]を同心状の矩形形状で掘り込んだ構造(以下、「同心矩形構造」ともいう。)であり、周りの媒質は空気11(n=1.0)である。本実施の形態の場合、集光素子1の中心部にSiO2が密に集まり、集光素子1の外側になるに従って疎へと変わっていく。このとき、高屈折率材料12と空気11が共存する微小領域(ゾーン領域)が、入射光の波長と同程度かそれよりも小さければ、光が感じる有効屈折率は、その微小領域内の2種類の材料の体積比によって決まる。つまり、ゾーン領域内の高屈折率材料12の体積を増やせば有効屈折率は高くなり、高屈折率材料12の体積を減らせば有効屈折率は低くなる。図1に示す集光素子1は、その光学中心が固体撮像素子の中心に一致させた分布屈折率レンズである。
図2は、本実施の形態に係る固体撮像素子100の基本構造を示す図である。図2に示す固体撮像素子(「画素」又は「単位画素」ともいう。)100の□サイズは5.6μmであり、集光素子1、カラーフィルタ2、遮光層(Al配線)3、受光素子(Siフォトダイオード)4、Si基板5及び平坦化層6を備えている。集光素子1は、固体撮像素子100の最上部に形成されており、同心状に形成された光透過膜(例えば、SiO2)によって生じる実効屈折率分布を有すると共に、上記図1に示すように、集光素子1を上面から見た場合の同心状の形状は、受光素子4を上面から見た場合の形状とほぼ相似形である。なお、本実施の形態に係る受光素子4を上面から見た場合の形状は、矩形とする。なお、図2に示すように、半導体集積回路8は、上記の遮光層3〜平坦化層6によって構成されている。
図3は、本実施の形態に係る集光素子1の断面図を示す図である。この集光素子1の同心矩形構造は、膜厚1.2μm、0.8μmの2段構造である。
図4(a)〜(f)は、2段同心構造の集光素子を形成する場合の6つの基本構造を示す図である。図4(a)が最も密な構造、つまりは有効屈折率が高い構造であり、図4(b)から図4(f)の構造になるに従って、屈折率は低くなる。このとき、上段(光入射側)の膜厚14(t1)と下段(基板側)の膜厚15(t2)は、それぞれ0.4μm、0.8μmであり、膜厚比(上段/下段)は0.5である。
図5は、本実施の形態に係る集光素子1の有効屈折率分布を説明するための図である。水平方向((i)の方向)ならびに対角方向((ii)の方向)共に第1ゾーン(放物線状の屈折率分布)のみで形成されており、高次ゾーンは存在しない。これは、集光素子1の形状を受光素子4の形状とほぼ相似形(今回の場合は矩形)とすることによって、面内で非当方性を有する屈折率分布が形成されていることに起因している。
図6(a)、(b)は、集光素子1についての集光プロファイルを示す図である。図6(a)は、受光素子4付近の様子を示しており、受光素子領域40内に十字型の集光スポットが確認できる。図6(a)より、集光スポットは受光素子4全体に広がっており、均等な光強度で入射していることがわかる。図6(b)は、対角方向((ii)の方向)の集光素子1における集光プロファイルの様子を示している。集光素子1に対して垂直に入射した光が、遮光層3に遮られること無く、効率良く集光している様子が確認できる。これは画素の周辺(対角部)において、高集光性を有する屈折率分布を実現できていることを示している。
なお、本実施の形態では、分りやすく説明するために、図4のような基本構造の組合せに基づいて集光素子を構成する実施例を示したが、その他の基本構造を用いて構成しても、もちろんよい。例えば、図4(c)と図4(b)とを組み合わせれば凸形状になり、図4(b)と図4(d)とを組合せれば凹構造が形成される。このとき、入射光の半波長程度の領域で、これらを基本構造とすれば、同様の集光特性を得ることができる。
図7(a)〜(i)は、集光素子の作製工程を示す図である。集光素子1は2段構造とし、その形成は3回のフォトリソグラフィとエッチングによって行った。
まず、通常の半導体プロセスを用いて、Si基板上に受光素子4、および遮光層3、カラーフィルタ2からなる半導体集積回路8(上記図7に詳細は描いていない。)を形成する。1画素のサイズは、5.6μm角であり、受光素子4は3.5μm角である。その後に、CVD装置を用いて、高屈折率材料12を形成し、その上にレジスト31を塗布する(図7(a))。その後、光露光32によって、パターンニングを行う(図7(b))。SiO2膜とレジスト31の厚みはそれぞれ、1.2μm と0.5μmである。
現像した後、エッチング33を行い、画素の表面に微細構造を形成する(図7(c))。レジストを除去した後、BARC(Bottom Anti-Reflective Coating)材料34を埋め込み、平坦化する(図7(d))。レジスト31を塗布した後、再び光露光32によってパターンニングを行う(図7(e))。エッチングの後(図7(f))、レジスト31とBARC材料を取り除く。その後、同様の工程を用いて(図7(f)、(g))、画素間に空気領域を形成する。(図7(i))。この空気層領域を形成することによって、画素境界の屈折率分布を分離することができ、集光効率は向上する。
また、本実施の形態では、2段構造の集光素子の形成を試みたが、図7に示したように、フォトリソグラフィとエッチングを組み合わせた工程を用いることにより、さらなる段数のレンズを構成することが可能である。段数が多ければ多いほど、屈折率分布の諧調数が増加することから、集光効率は向上する。
以後の実施例においても、集光素子の形成は上述の工程を用いている。
(実施の形態2)
図8は、実施の形態2に係る、VGA仕様(31万画素)の固体撮像素子における集光素子101の上面図を示した図である。集光素子101の形状は、上記実施の形態1で示した集光素子1の形状である矩形の角を落としたような八角形構造となっている。こうすることにより、一辺の距離を短くすることができ、振動や衝撃等に強い、破損しにくい構造となる。また、フォトリソグラフィ工程中のレジスト倒れを防ぐことができるため、プロセスがより容易となる。
(実施の形態3)
図9は、実施の形態3に係る、VGA仕様(31万画素)の固体撮像素子を搭載した車載カメラ用光学モジュールと単位画素の断面を示す図である。画素サイズは□5.6μmである。固体撮像素子の中心付近では同心矩形構造の集光素子1を用い、周辺部では同心円状の集光素子201を配置している。中心付近では入射光が垂直、又は低角度で入射してくるため、遮光層3の開口率(開口面積)は高い。そこで、集光スポットを大きく取れる同心矩形構造の集光素子1を配置し、集光ロスを低減させている。それに対して、周辺部では、斜め光入射によって、開口率が低下するため、集光スポットが小さい円形状の集光素子201を配置する。これによって、周辺感度落ちの無い良質な画像を得ることができる。
上記の実施例では、サブ波長微細構造によって形成された屈折率分布レンズを示したが、回折素子においても同様の効果を得ることができる。
なお、上記実施の形態1〜3においては、この集光素子の上面から見た場合の形状又はその外輪の形状が、受光素子の上面から見た形状とほぼ相似形の矩形としたが、もちろん、これらの形状は矩形に限らず、六角形、その他の多角形でもよい。
本発明の固体撮像素子は、デジタルビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ付携帯電話機、監視用カメラ、車載用カメラ、放送用カメラをはじめとするイメージセンサ関連製品の性能向上及び低価格化が実現可能であり、産業上有用である。
実施の形態1における集光素子の上面図である。 実施の形態1における固体撮像素子の断面構造を示す図である。 実施の形態1における集光素子の断面構造を示す図である。 実施の形態1における分布屈折率レンズを構成する基本構造を示す図である。 (a)〜(c)は、実施の形態1における集光素子の屈折率分布を示す図である。 (a)、(b)は、実施の形態1の集光素子における光伝播の様子を示す図である。 実施の形態1における分布屈折率レンズの作製工程を示す図である。 実施の形態2における集光素子の上面図である。 実施の形態3における画素の配列の様子とその断面構造を示す図である。 (a)〜(c)は、従来のサブ波長レンズの断面構造を示す図である。 従来のサブ波長レンズの上面構造と屈折率分布を示す図である。 従来のサブ波長レンズの光伝播の様子を示す図である。 従来の一般的な固体撮像素子の構造例を示す図である。
符号の説明
1 集光素子(同心矩形構造)
2 カラーフィルタ
3 遮光層(Al配線)
4 受光素子(Siフォトダイオード)
5 Si基板
6 平坦化層
7 入射光
8 半導体集積回路(上記遮光層3〜平坦化層6によって構成)
9 領域
11 空気
12 高屈折率材料
14 上段膜厚(0.4μm)
15 下段膜厚(0.8μm)
27 対物レンズ
28 固体撮像装置
31 レジスト
32 光露光
33 エッチング
34 BARC材料
35 光成分(集光光)
36 光成分(集光ロス)
40 受光素子領域
100 固体撮像素子
101 集光素子
200 固体撮像素子
201 集光素子

Claims (7)

  1. 集光素子と受光素子とを備えた固体撮像素子であって、
    前記集光素子は、
    同心状に形成された光透過膜によって生じる実効屈折率分布を有し、かつ、当該集光素子を上面から見た場合の同心状の形状が、前記受光素子を上面から見た場合の形状とほぼ相似形である
    ことを特徴とする固体撮像素子。
  2. 前記集光素子は、フレネル型の集光素子であり、当該集光素子の有効屈折率分布が放物線状の第1ゾーンの屈折率分布を有している
    ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
  3. 前記集光素子は、
    入射光の波長と同程度かそれよりも短い線幅で分割された複数の光透過膜のゾーン領域を備える同心状の構造を有しており、前記複数のゾーン領域のうち少なくとも一のゾーン領域は、第1線幅および第1膜厚の前記同心構造の下段光透過膜と、当該下段光透過膜の上位に構成される第2線幅および第2膜厚の前記同心構造の上段光透過膜とを含む
    ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
  4. 前記集光素子の上面から見た場合の同心状の形状が矩形である
    ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
  5. 前記集光素子の上面から見た場合の同心状の形状が八角形である
    ことを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
  6. 固体撮像素子が2次元状に配列された固体撮像装置であって、
    前記固体撮像素子は、
    同心状に形成された光透過膜によって生じる実効屈折率分布を有し、かつ、当該集光素子を上面から見た場合の形状が、前記受光素子を上面から見た場合の形状とほぼ相似形であり、
    当該固体撮像装置の中央付近における前記固体撮像素子における集光素子を上面から見た場合の形状が同心状の矩形であり、当該固体撮像装置の周辺部における前記固体撮像素子における集光素子を上面から見た場合の形状が同心状の円形である
    ことを特徴とする固体撮像装置。
  7. 固体撮像素子が2次元状に配列された固体撮像装置を有するカメラであって、
    前記固体撮像素子は、
    同心状に形成された光透過膜によって生じる実効屈折率分布を有し、かつ、当該集光素子を上面から見た場合の形状が、前記受光素子を上面から見た場合の形状とほぼ相似形である
    ことを特徴とするカメラ。
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