JP2008281929A - Substrate adapter for exposure device, and exposure device - Google Patents
Substrate adapter for exposure device, and exposure device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008281929A JP2008281929A JP2007128077A JP2007128077A JP2008281929A JP 2008281929 A JP2008281929 A JP 2008281929A JP 2007128077 A JP2007128077 A JP 2007128077A JP 2007128077 A JP2007128077 A JP 2007128077A JP 2008281929 A JP2008281929 A JP 2008281929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- adapter
- substrate
- exposure
- holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 21
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 58
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本発明は、露光装置用基板アダプタ及び露光装置に関し、特に、フラットパネルディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイのカラーフィルタ基板やTFT基板製造時に、マスクの保持及び搬送に使用される露光装置用基板アダプタ、及び該アダプタを用いた露光装置に関する。 The present invention relates to a substrate adapter for an exposure apparatus and an exposure apparatus, and more particularly, to a flat panel display, for example, a liquid crystal display color filter substrate and a TFT substrate used for holding and transporting a mask when manufacturing a color filter substrate and a TFT substrate, and The present invention relates to an exposure apparatus using the adapter.
従来、液晶ディスプレイ用の露光装置では、マスクは露光時にはマスク保持部に直接吸着保持され、また、搬送時には直接ローダによって吸着保持して搬送されている。また、マスク保持部によるマスクの真空吸着が電源トラブル等により万一解除された場合に、マスクが落下して破損するのを防止するため、マスクの周縁部に面取り部を設け、この面取り部をテーパ状の押さえ板で保持することが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
ところで、近年、液晶ディスプレイの大型化に伴い、マスクも大型化され、重量も増加している。このため、上記したように、マスクをローダで直接吸着保持して搬送する場合、露光パターンが描画されていない部分での吸着保持となり、その保持状態が不安定となり、マスクがローダから落下したり、ズレにより損傷が発生する可能性がある。 By the way, in recent years, with an increase in size of a liquid crystal display, a mask is also increased in size and weight is increased. For this reason, as described above, when the mask is directly sucked and held by the loader, it is sucked and held at the portion where the exposure pattern is not drawn, the holding state becomes unstable, and the mask falls from the loader. Damage may occur due to misalignment.
また、特許文献1に記載の露光装置では、押さえ板によりマスク落下時のマスク破損を防止しているが、押さえ板によるマスクの変形を防止するため、押し付け力を低く設定しており、マスクとの当接部分も限られている。このため、マスクの大型化に伴って、より安全なマスクの保持が求められている。 Further, in the exposure apparatus described in Patent Document 1, the mask is prevented from being damaged when the mask is dropped by the pressing plate, but the pressing force is set low to prevent the mask from being deformed by the pressing plate. The abutting part is also limited. For this reason, with the increase in size of the mask, safer holding of the mask is required.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、ガラス基板の搬送時、及び露光時におけるガラス基板の保持において、ガラス基板を安全に保持することが可能な露光装置用基板アダプタ及び露光装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to provide a substrate adapter for an exposure apparatus that can safely hold a glass substrate during conveyance of the glass substrate and during holding of the glass substrate. And providing an exposure apparatus.
本発明の上記目的は、以下の構成によって達成される。
(1) ガラス基板の周縁部を囲う開口を形成するフレーム部と、
該開口の周縁に設けられ、前記ガラス基板の周縁部と当接して前記ガラス基板を保持する保持部と、
を有することを特徴とする露光装置用基板アダプタ。
(2) 前記保持部は、前記ガラス基板の周縁部に形成された面取り部と略等しい傾斜角を有するテーパ面を有し、前記フレーム部の板厚方向における前記テーパ面の幅は、該板厚方向における前記面取り部の幅より小さいことを特徴とする(1)に記載の露光装置用基板アダプタ。
(3) 前記フレーム部の外周部には、露光装置のマスク保持部に設けられたクランプ機構と係合可能な係合部が形成されることを特徴とする(1)又は(2)に記載の露光装置用基板アダプタ。
(4) 被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、露光パターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、を備え、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する露光装置であって、
前記マスク保持部は、(1)〜(3)のいずれかに記載の前記アダプタを用いて前記マスクを保持することを特徴とする露光装置。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(1) a frame portion that forms an opening surrounding the peripheral edge of the glass substrate;
A holding portion that is provided at the periphery of the opening and holds the glass substrate in contact with the periphery of the glass substrate;
A substrate adapter for an exposure apparatus, comprising:
(2) The holding portion has a tapered surface having an inclination angle substantially equal to a chamfered portion formed on a peripheral portion of the glass substrate, and the width of the tapered surface in the plate thickness direction of the frame portion is the plate. The substrate adapter for an exposure apparatus according to (1), wherein the substrate adapter is smaller than a width of the chamfered portion in the thickness direction.
(3) The outer peripheral portion of the frame portion is formed with an engaging portion that can be engaged with a clamp mechanism provided in a mask holding portion of an exposure apparatus. (1) or (2) Substrate adapter for exposure equipment.
(4) a workpiece holding unit that holds a workpiece as an exposed material, a mask holding unit that holds a mask having an exposure pattern, and an irradiation unit that irradiates the substrate with light for pattern exposure through the mask; An exposure apparatus for exposing and transferring the exposure pattern of the mask to the substrate by the irradiation means,
The said mask holding part hold | maintains the said mask using the said adapter in any one of (1)-(3), The exposure apparatus characterized by the above-mentioned.
本発明の露光装置用基板アダプタ及び露光装置によれば、該アダプタは、ガラス基板の周縁部を囲う開口を形成するフレーム部と、開口の周縁に設けられ、ガラス基板の周縁部と当接してガラス基板を保持する保持部と、を備えるので、ガラス基板の搬送時、及び露光時におけるガラス基板の保持において、ガラス基板を安全に保持することができる。 According to the exposure apparatus substrate adapter and the exposure apparatus of the present invention, the adapter is provided on the periphery of the opening and surrounding the periphery of the glass substrate, and is in contact with the periphery of the glass substrate. And a holding unit that holds the glass substrate, the glass substrate can be safely held in holding the glass substrate during conveyance of the glass substrate and during exposure.
以下、本発明に係る露光装置用基板アダプタ及び露光装置について、図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, a substrate adapter for an exposure apparatus and an exposure apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1は、大型の基板上にマスクの露光パターンを分割して近接露光するステップ式近接露光装置PEを示すものであり、露光パターンを有するマスクMをx、y、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ10と、被露光材としてのワークWをx、y、z方向に移動可能に保持するワークステージ20と、パターン露光用の光をマスクMを介してワークWに照射する照射手段である照明光学系40と、から主に構成されている。
(First embodiment)
FIG. 1 shows a stepwise proximity exposure apparatus PE that divides a mask exposure pattern on a large substrate and performs proximity exposure, and holds a mask M having an exposure pattern movably in the x, y, and θ directions. A
なお、ガラス基板からなるワークWは、マスクMに対向配置されており、このマスクMに描かれた露光パターンを露光転写すべく表面(マスクMの対向面側)に感光剤が塗布されている。 The workpiece W made of a glass substrate is disposed so as to be opposed to the mask M, and a photosensitive agent is applied to the surface (opposite surface side of the mask M) to expose and transfer the exposure pattern drawn on the mask M. .
説明の便宜上、照明光学系40から説明すると、照明光学系40は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ41と、この高圧水銀ランプ41から照射された光を集光する凹面鏡42と、この凹面鏡42の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ43と、光路の向きを変えるための平面ミラー45,46及び球面ミラー47と、この平面ミラー45とオプチカルインテグレータ43との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター44と、を備える。
For convenience of explanation, the illumination
そして、露光時にその露光制御用シャッター44が開制御されると、ランプ41から照射された光が、図1に示す光路Lを経てマスクステージ10に保持されるマスクM、ひいてはワークステージ20に保持されるワークWの表面にパターン露光用の光として照射され、マスクMの露光パターンがワークW上に露光転写される。
When the
マスクステージ10は、中央部に矩形形状の開口11aが形成されるマスクベース11と、マスクステージベース11の開口11aにx軸,y軸,θ方向に移動可能に装着され、マスクMを保持するマスク保持部であるマスク保持枠12と、マスクステージベース11の上面に設けられ、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させるマスク移動機構であるマスク位置調整機構13とを備える。
The
マスクステージベース11は、ワークステージ側の装置ベース50上に立設される複数の支柱51に支持されており、マスクステージベース11と支柱51との間に設けられたz軸粗動機構52(図2参照)によりマスクステージベース11は装置ベース50に対して昇降可能である。
The
図2及び図3に示すように、マスク保持枠12の下方には、マスク吸着部70が一体に取り付けられており、このマスク吸着部70には、マスクMのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸引ノズル71が下面に開設されており、図示しない真空吸着機構によってマスクMを着脱自在に保持する。同時に、マスクMは、後述するマスクアダプタ(露光装置用基板アダプタ)80に収容され、このマスクアダプタ80をクランプ機構72で固定することでも、マスク吸着部70に保持される。
As shown in FIGS. 2 and 3, a
マスク位置調整機構13は、マスク保持枠12を駆動する各種シリンダ13x、13x、13y等のアクチュエータと、マスクステージベース11とマスク保持枠12との間に設けられた図示しないガイド機構等により、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させる。
The mask
また、マスクステージ10は、マスクMとワークWとの対向面間のギャップを測定する複数のギャップセンサ17(本実施形態では、8個)と、マスクMとワークWとの平面ずれ量を検出する複数のアライメントカメラ18(本実施形態では、4個)と、マスクMを必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ19と、をさらに備える。なお、ギャップセンサ17とアライメントカメラ18は、マスク保持枠12の辺部に沿って駆動可能に配置されてもよい。また、図では、マスキングアパーチャ19は、開口部11aのx方向の両端部のみ示されているが、y方向の両端部にも設けられている。
Further, the
ワークステージ20は、ワークWを保持するワーク保持部21と、ワーク保持部21を装置ベース50に対してx、y、z方向に移動するワーク移動機構22と、を備える。
The
ワーク保持部21は、上面にワークWを吸引するための図示しない複数の吸引ノズルが開設されており、図示しない真空吸着機構によってワークWを着脱自在に保持する。
The
ワーク移動機構22は、ワーク保持部21の下方に、y軸テーブル23、y軸送り機構24、x軸テーブル25、x軸送り機構26、及びz−チルト調整機構27を備える。
The
y軸送り機構24は、図2に示すように、リニアガイド28と送り駆動機構29とを備えて構成され、y軸テーブル23の裏面に取り付けられたスライダ30が、転動体(図示せず)を介して装置ベース50上に延びる2本の案内レール31に跨架されると共に、モータ32とボールねじ装置33とによってy軸テーブル23を案内レール31に沿って駆動する。
As shown in FIG. 2, the y-
なお、x軸送り機構26もy軸送り機構24と同様の構成を有し、x軸テーブル25をy軸テーブル23に対してx方向に駆動する。また、z−チルト調整機構27は、くさび状の移動体34,35と送り駆動機構36とを組み合わせてなる可動くさび機構をx方向の一端側に1台、他端側に2台配置することで構成される。なお、送り駆動機構29,36は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、z-チルト調整機構27の設置数は任意である。
The
これにより、ワーク移動機構22は、ワーク保持部21をx方向及びy方向に送り駆動するとともに、マスクMとワークWとの間のギャップを微調整するように、ワーク保持部21をz軸方向に微動且つチルト調整する。
Thereby, the
ワーク保持部21のx方向側部とy方向側部にはそれぞれバーミラー61,62が取り付けられ、また、装置ベース50のy方向端部とx方向端部には、計3台のレーザー干渉計63,64,65が設けられている。これにより、レーザー干渉計63,64,65からレーザー光をバーミラー61,62に照射し、バーミラー62により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー61,62により反射されたレーザー光との干渉を測定し、ワークステージの位置を検出する。
このように構成された露光装置では、アライメントカメラ18及びレーザー干渉計63,64,65の検出信号に基づき、マスク位置調整機構13を駆動制御してワーク保持部21に対するマスクMのアライメント調整を行うとともに、ギャップセンサ17の検出信号に基づきながら、z−チルト調整機構27を駆動制御してマスクMとワークW間のギャップを調整する。そして、これら調整後に、照射光学系40の光源から光が照射されている状態で、露光制御用シャッター34を所定の露光時間の開くことで、マスクMの露光パターンが照射光学系40によってワークWに露光転写される。その後、ワーク保持部21をワーク移動機構22によってx方向及びy方向にステップ移動し、上記と同様の動作を繰り返すことで、ステップ露光が行われる。
In the exposure apparatus configured as described above, the mask
ここで、図4に示すように、マスクアダプタ80は、金属製からなり、マスクMの周縁部を囲う開口81aを形成するフレーム部81と、開口81aの周縁に設けられ、マスクMの周縁部と当接してマスクMを保持する保持部82と、フレーム部81の外周部に設けられ、マスク吸着部70に設けられたクランプ機構72と係合可能な係合部である段差部83を有する。
Here, as shown in FIG. 4, the
図3及び図4に示すように、保持部82は、フレーム部81の板厚方向の一端側(下端側)で、開口81aの周縁に内向きに突出する。また、保持部82は、マスクの周縁部に形成された面取り部Maと略等しい傾斜角を有するテーパ面82aを有し、フレーム部81の板厚方向におけるテーパ面82aの幅H2は、板厚方向における面取り部Maの幅H1より小さい
As shown in FIGS. 3 and 4, the holding
また、クランプ機構72は、クランプ部材73と、駆動機構74とからなり、マスクホルダ80の対向する2辺に複数(本実施形態では、各2つ)設けられている。クランプ部材73は、マスクアダプタ80の周縁部に設けられた係合部である段差部83と係合する受け部である段差部75を先端に有し、駆動機構74の回転軸76がその中心に挿通固定されている。また、クランプ部材73は、マスクMの最下面より下方に位置しないようにマスク吸着部70の下面に配置され、先端の段差部75がマスクアダプタ80の段差部83に接離し得るように回転駆動される。駆動機構74は、駆動モータ77からなり、その回転軸76はマスク吸着部70内、クランプ部材73の中心を挿通してクランプ部材73に固定される。そして、駆動モータ76の回転動作に伴って、これと一体にクランプ部材73が回転し、クランプ部材73の段差部75とマスクアダプタ80の段差部83とを係脱させる。
The
このため、マスクMをマスク保持部のマスク吸着部70に装着する場合には、まず、図5(a)に示すように、マスクMが、そのテーパ面Maをマスクホルダ80の保持部82に当接させた状態でマスクMに保持されて、マスク吸着部70の下方に搬送される。そして、図5(b)に示すように、マスクMが保持されたマスクホルダ80をマスク吸着部70の下面と接触或いは近接する位置まで移動させ(図5(b)参照。)、その後、クランプ機構72の駆動機構74を駆動してクランプ部材73を回転させ、クランプ部材73の段差部75をマスクアダプタ80の段差部83と係合させる(図5(c)参照。)。その後、真空吸着機構を駆動して吸着ノズル71によってマスクMを吸着することで、図3(b)に示すように、マスクMがマスク保持部に保持されることになる。
Therefore, when the mask M is mounted on the
一方、真空吸着機構の不具合によりマスクMの吸着が外れた場合であっても、図6に示すように、マスクアダプタ80のテーパ面82aによってマスクMが支えられ、装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。
On the other hand, even if the suction of the mask M is removed due to a malfunction of the vacuum suction mechanism, the mask M is supported by the tapered
以上説明したように、本実施形態のマスクアダプタ80によれば、マスクMの周縁部を囲う開口81aを形成するフレーム部81と、開口81aの周縁に設けられ、マスクの周縁部と当接してマスクMを保持する保持部82と、を有するので、露光時におけるマスクMの保持において、マスクMは、マスクアダプタ80によってその周縁部全域で保持されるため、マスクMを安全に保持することができる。勿論、マスクMの搬送時におけるマスクMの保持においても、マスクMは、マスクアダプタ80によってその周縁部全域で保持されながら、安全に搬送される。
As described above, according to the
また、保持部82は、マスクMの周縁部に形成された面取り部Maと略等しい傾斜角を有するテーパ面82aを有するので、マスクMの搬送時、及び露光時におけるマスクMの保持において、真空吸着機構の不具合によりマスクMの吸着が外れた場合であっても、テーパ面82aによってマスクMが支えられ、装置下構造物への落下を防ぎ、破損事故を防止することができる。さらに、フレーム部81の板厚方向におけるテーパ面82aの幅H2は、板厚方向における面取り部Maの幅H1より小さいので、マスク吸着露光時におけるマスクMの保持において、マスクアダプタ80とワークWとの接触が防止される。特に、マスクMとワークWとのギャップを制御することで、マスクアダプタ80とワークWとの接触は確実に防止することができる。
Further, since the holding
また、フレーム部81の外周部には、露光装置PEのマスク保持部を構成するマスク吸着部70に設けられたクランプ機構72と係合可能な段差部83が形成されるので、マスクアダプタ80は、露光装置PEのマスク保持部に固定され、マスクMをマスクアダプタ80に取り付けた状態のまま露光作業を可能とすることができる。
Further, a stepped
また、本実施形態の露光装置PEは、被露光材としてのワークWを保持するワーク保持部21と、露光パターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光をマスクMを介してワークWに照射する照明光学系40と、を備え、マスク保持部は、上記マスクアダプタ80を用いてマスクMを保持するので、マスクMを安全に保持することができる装置を構成することができる。
In addition, the exposure apparatus PE of the present embodiment includes a
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態における露光装置用基板アダプタ及び露光装置について、図7及び図8を参照して詳細に説明する。なお、第1実施形態と同等部分については同一符号を付して説明を省略或は簡略化する。
(Second Embodiment)
Next, a substrate adapter for exposure apparatus and an exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the part equivalent to 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted or simplified.
本実施形態は、マスク保持枠12のマスク吸着部に取り付けられるクランプ機構の構成において、第1実施形態のものと異なる。図7に示すように、クランプ機構90は、クランプ部材91と、駆動機構92とからなる。クランプ部材91は、マスクアダプタ80の周縁部に設けられた係合部である段差部83と係合する受け部である段差部93を先端に有し、マスクMの最下面より下方に位置しないように配置される。クランプ部材91は、マスク吸着部70の下面に設けられた凹部70a内に位置してガイド部材94によりガイドされて、先端の段差部93がマスクアダプタ80の段差部83に接離し得るように所定範囲移動可能に装着されている。駆動機構92は、エアシリンダ機構からなり、マスク吸着部70の下面に設けられた凹部70a内に位置してシリンダ95の下面がマスクMの最下面より下方に位置しないように配置されている。駆動機構92のピストンロッド96の先端部にクランプ部材91の後端部が固定されている。そして、ピストンロッド96の進退動作にと伴って、これと一体にクランプ部材91が移動し、クランプ部材91の段差部93とマスクアダプタ80の段差部83とを係脱させる。
The present embodiment is different from that of the first embodiment in the configuration of the clamp mechanism attached to the mask suction portion of the
なお、その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
また、駆動機構92は、エアシリンダ機構に限られるものではなく、油圧シリンダ機構、電動シリンダ機構等、クランプ部材91がマスクアダプタ80の外周縁部の段差部83に接離し得るように駆動するものであれば、どのような構成でも適用可能である。
Other configurations and operations are the same as those in the first embodiment.
Further, the
また、本実施形態の変形例として、図8に示されるように、マスクアダプタ80の周縁部に設けられる係合部として凹部83aが形成される場合には、クランプ部材91の先端に設けられた受け部である段差部93aをこの凹部83aと係脱可能な形状に形成する。
As a modification of the present embodiment, as shown in FIG. 8, when the
なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。 In addition, this invention is not limited to this embodiment, In the range which does not deviate from the summary of this invention, it can change suitably.
本発明の露光装置は、ステップ式近接露光装置に限定されるものでなく、ワーク保持部、マスク保持部、及び照射手段を備え、マスクの露光パターンを照射手段によって基板に露光転写する、任意の装置に適用可能である。 The exposure apparatus of the present invention is not limited to a stepped proximity exposure apparatus, and includes a work holding unit, a mask holding unit, and an irradiating unit, and an arbitrary exposure pattern for exposing and transferring a mask exposure pattern to a substrate by the irradiating unit. Applicable to the device.
クランプ機構72は、本実施形態では、マスクホルダ80の対向する2辺に設けられているが、各辺に設けられてもよく、保持力に応じて必要な数設けられればよい。
また、クランプ部材の受け部の形状は、マスクアダプタ80の係合部の形状に応じて、任意に設定可能であり、例えば、係合部がテーパ形状である場合には、受け部も傾斜部としてもよい。
In the present embodiment, the
The shape of the receiving portion of the clamp member can be arbitrarily set according to the shape of the engaging portion of the
PE 分割逐次近接露光装置(露光装置)
W ガラス基板(被露光材)
M マスク
Ma テーパ面
10 マスクステージ
11 マスクステージベース
12 マスク保持枠(マスク保持部)
13 マスク位置調整機構(マスク移動機構)
17 ギャップセンサ
18 アライメントカメラ(検出手段)
20 ワークステージ
21 ワーク保持部
22 ワーク移動機構
24 y軸送り機構
26 x軸送り機構
27 z−チルト調整機構
30 照明光学系
50 装置ベース
52 z軸移動機構
70 マスク吸着部
72 クランプ機構
80 マスクアダプタ
81 フレーム部
81a 開口
82 保持部
82a テーパ面
83 段差部(係合部)
PE division sequential proximity exposure system (exposure system)
W Glass substrate (material to be exposed)
M Mask Ma Tapered
13 Mask position adjustment mechanism (mask movement mechanism)
17
DESCRIPTION OF
Claims (4)
該開口の周縁に設けられ、前記ガラス基板の周縁部と当接して前記ガラス基板を保持する保持部と、
を有することを特徴とする露光装置用基板アダプタ。 A frame part that forms an opening surrounding a peripheral part of the glass substrate;
A holding portion that is provided at the periphery of the opening and holds the glass substrate in contact with the periphery of the glass substrate;
A substrate adapter for an exposure apparatus, comprising:
前記マスク保持部は、請求項1〜3のいずれかに記載の前記アダプタを用いて前記マスクを保持することを特徴とする露光装置。
A workpiece holding unit that holds a workpiece as a material to be exposed; a mask holding unit that holds a mask having an exposure pattern; and an irradiation unit that irradiates the substrate with light for pattern exposure through the mask, An exposure apparatus that exposes and transfers an exposure pattern of the mask to the substrate by the irradiation means,
The exposure apparatus according to claim 1, wherein the mask holding unit holds the mask using the adapter according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007128077A JP5089238B2 (en) | 2007-05-14 | 2007-05-14 | Substrate adapter for exposure apparatus and exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007128077A JP5089238B2 (en) | 2007-05-14 | 2007-05-14 | Substrate adapter for exposure apparatus and exposure apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008281929A true JP2008281929A (en) | 2008-11-20 |
JP5089238B2 JP5089238B2 (en) | 2012-12-05 |
Family
ID=40142767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007128077A Expired - Fee Related JP5089238B2 (en) | 2007-05-14 | 2007-05-14 | Substrate adapter for exposure apparatus and exposure apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5089238B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102236263A (en) * | 2010-05-04 | 2011-11-09 | 瀚联贸易(深圳)有限公司 | Film frame of exposure machine |
CN102540741A (en) * | 2010-12-23 | 2012-07-04 | 瀚联贸易(深圳)有限公司 | Method for manufacturing negative film frame of exposure machine |
WO2019038937A1 (en) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | カンタツ株式会社 | Device for producing patterns and device for producing three-dimensionally shaped articles |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10149979A (en) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Canon Inc | Stage device and aligner using it |
JP2001117238A (en) * | 1999-10-14 | 2001-04-27 | Nsk Ltd | Mask holding backup mechanism for exposure system |
JP2004061577A (en) * | 2002-07-25 | 2004-02-26 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Method for fixing mask plate and device for supporting mask plate for exposing device |
JP2004078108A (en) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Mask plate fixing fixture for exposure device |
JP2006086289A (en) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Nsk Ltd | Proximity exposure device |
-
2007
- 2007-05-14 JP JP2007128077A patent/JP5089238B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10149979A (en) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Canon Inc | Stage device and aligner using it |
JP2001117238A (en) * | 1999-10-14 | 2001-04-27 | Nsk Ltd | Mask holding backup mechanism for exposure system |
JP2004061577A (en) * | 2002-07-25 | 2004-02-26 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Method for fixing mask plate and device for supporting mask plate for exposing device |
JP2004078108A (en) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Mask plate fixing fixture for exposure device |
JP2006086289A (en) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Nsk Ltd | Proximity exposure device |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102236263A (en) * | 2010-05-04 | 2011-11-09 | 瀚联贸易(深圳)有限公司 | Film frame of exposure machine |
CN102540741A (en) * | 2010-12-23 | 2012-07-04 | 瀚联贸易(深圳)有限公司 | Method for manufacturing negative film frame of exposure machine |
WO2019038937A1 (en) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | カンタツ株式会社 | Device for producing patterns and device for producing three-dimensionally shaped articles |
JP2019040051A (en) * | 2017-08-25 | 2019-03-14 | カンタツ株式会社 | Pattern production device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5089238B2 (en) | 2012-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100839398B1 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP4932352B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP2008015314A (en) | Exposure device | |
JP4942625B2 (en) | Proximity exposure apparatus and proximity exposure method | |
JPWO2019155886A1 (en) | Proximity exposure equipment, proximity exposure method, and light irradiation equipment for proximity exposure equipment | |
JP4942401B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
TWI360727B (en) | ||
JP5089238B2 (en) | Substrate adapter for exposure apparatus and exposure apparatus | |
JP2007184328A (en) | Exposure apparatus | |
JP2008026475A (en) | Exposure apparatus | |
JP2007148310A (en) | Mask and method for processing the same | |
JP5089257B2 (en) | Proximity scan exposure system | |
JP2008209632A (en) | Mask attaching method and exposure apparatus unit | |
JP5077655B2 (en) | Proximity scan exposure apparatus and air pad | |
JP5099318B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP2008224754A (en) | Division sequential proximity exposure method and division sequential proximity exposure device | |
JP2006100590A (en) | Proximity aligner | |
JP5089258B2 (en) | Proximity scan exposure apparatus and exposure method therefor | |
JP2008020844A (en) | Proximity exposure apparatus | |
JP4487688B2 (en) | Step-type proximity exposure system | |
JP2006093604A (en) | Proximity exposure apparatus | |
JP2009122378A (en) | Scanning exposure apparatus | |
JP2007171667A (en) | Exposure apparatus | |
JP2008209631A (en) | Exposure apparatus, and mask attaching method therefor | |
JP5105167B2 (en) | Proximity exposure apparatus and mask adapter for proximity exposure apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100222 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110815 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120316 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120814 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120911 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5089238 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |