JP2008281003A - ドライ真空ポンプ - Google Patents

Abstract

【課題】パージ流体噴射装置が改良されたドライ真空ポンプを提供すること。
【解決手段】本発明は、ポンプ輸送されるガスが、ガス受入口とガス排出口の間でその中を流れる少なくとも１つの段を備えるドライ真空ポンプであって、その段が、２つの伝動シャフトクリアレンス孔（５６、５７）によってその周辺壁（２３）が貫通されるステータ（１９）を有する、ドライ真空ポンプにおいて、周辺壁（２３）が、周辺壁（２３）の厚み内に一部が配置されたパージ導管（４０）を有し、そのパージ導管（４０）の入口（４１）がステータ（１９）の外面に配置され、出口（４３）が、前記２つのクリアレンス孔（５６、５７）から等距離位置で前面（４９）の表面に出て、その出口を始点として、見た目に尖頭アーチ形に配置された２つの案内スロット（５４、５５）が延出することを特徴とするドライ真空ポンプに関する。
【選択図】図５ｂ

Description

この発明は、回転ローブを有するドライ真空ポンプに関し、特に、「ルーツ」または「クロー」型ポンプまたは同様な原理によるポンプなどの多段式タイプに関する。

これらのドライ真空ポンプは、特に、多量の研磨粉が発生する半導体、フラット・スクリーン、または太陽電池基板の製法に使用される。
一般に、これらのポンプは、ポンプ輸送されるガスがガス受入口とガス排出口の間で流れる、直列に配置された１つまたは複数の段を備える。
周知の真空ポンプの中で、２個または３個のローブ（２ローブ、３ローブ）を有する「ルーツ」ポンプとしても知られている回転ローブを有する真空ポンプと、「クロー・ポンプ」としても知られている複式クローを有する真空ポンプとの間が区別される。

一般に、回転ローブを有する「ルーツ」ポンプは、ステータ（ポンプ本体）内部で反対方向に回転する同一形状の２個のロータを備える。回転中、引き込まれたガスは、ロータとステータの間の自由空間に閉じ込められ、次いで、排出口から排出される。作動に際し、ポンプのロータと本体との間に機械的接触が生ぜず、圧縮室内から油を完全に無くすことができる。
複式クローを有する「クロー」ポンプもまた、シリンダ内で反対方向に回転し、ガスを引き込みそれを圧縮する２つのローブ・ロータを有する。ただし、ローブの形が、ドライ圧縮を確実に行うために特殊である。
これらのポンプの作動は、ステータとローブ・ロータとの間に機械的接触は生じないが、極めて狭い間隙によって行われるので、これらのポンプは、研磨的かつ可重合特性を有する紛体を発生する、特に、ＳＡＣＶＤ（減圧化学気相成長）またはＣＶＤ（化学気相成長）法での半導体製法などの汚染性の製法に使用されるとき、温度、パージ速度、またはポンプの上流に配置されるトラップに特別な構成を必要とする。

ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）などある種のプロセス前駆ガスが、オゾンまたは酸素などの酸化剤によって還元され、それらの水素付加シリカおよび／またはシリカ・ゲルを主成分とした紛体の基になる。
場合によっては、ポンプに入った紛体の性質が、その粘着および研削特性と相俟って、ポンプの諸段の運動要素の摩擦による急速な磨耗を生じさせる。
別の場合には、圧縮段の運動部分に多量の紛体が堆積することにより、特に機械的固着による極めて急速なポンプの停止に至る。また一方、ステータの内側のステータ壁とロータとの間、ならびにロータのローブ間に機能的間隙を維持することが、最大作動時間を確保するために重要である。

したがって、半導体の製造プロセスのような製造プロセスを阻害しないために、紛体を発生するそれら製法でのポンプの不具合率の低減が不可欠である。
そのような早期不具合を回避するために、パージ流体を噴射することによってポンプ輸送されるガスを希釈することが知られている。この噴射は、一般に、ポンプの段に沿った数箇所で、関連するポンプ段の排出チャネルに通じる噴射ノズルを介して行われる。
ある種の用法では、各段への噴射流は、ポンプ輸送の規格および性能を保証するために、ガス圧縮段の平均圧力に比例する。

たとえば、流れは、圧縮段内で凝縮し、または化学反応を開始する可能性のある化学種を気体状態に保つように図られる。
また、希釈ガス流が、製法によって生成された固体紛体を確実に気体輸送するように図って設計することもある。
最後に、希釈ガス流が、ローラ・ベアリングなどポンプの回転に不可欠な構成要素を化学的損傷から保護することができるように図って設計される。

しかし、排出チャネルへのこの噴射は、先に述べたような、製法の汚染性が高い場合、不十分になり得る。
他の適用例では、パージ・ガスが、定期的に、諸段に堆積した紛体を機械的に除去するためにポンプの吸入に際し高圧で噴射される。
しかし、ポンプの吸入レベルでの噴射ではガス流が大量になるので、ポンプ輸送に関連するガス処理システムを停止し、または待機状態に置く必要があり、したがって、製造を停止し、または待機状態に置くことになり、それは、生産高の減少を意味し、したがって、業界にとって受け入れ難い制約になる。

さらに、吸入レベルでのパージ・ガスの噴射は、製法の再開時の紛体の堆積を回避するために、ポンプとガス処理システムとの間で、接続管路の清浄度を確保する必要がある。

したがって、この発明の目的は、異物の堆積による機械的固着などの機械的不具合を防止するためにより効果的なパージを可能にするようにパージ流体噴射装置が改良されたドライ真空ポンプを提案することである。

このために、本発明の目的は、
ポンプ輸送されるガスが、ガス受入口とガス排出口との間でその中を流れる少なくとも１つの段であって、反対方向に同期して回転するのに適した２つのロータを、周辺壁によって画定されたその内部空間に有するステータを備え、それにより、ポンプ輸送されるガスが、受入口から排出口へ押し流されるようになっている段と、
段内の少なくとも１つのパージ流体ポンプ入口部と、
パージ流体ポンプ入口部にその入口が接続され、ステータの内部空間にその出口が通じている少なくとも１つのパージ導管と
を備えるドライ・タイプ真空ポンプである。

本発明によれば、ポンプはまた、ステータの前面に配置された、パージ流体を案内する少なくとも１つのスロットを備える。
本発明の特定の一製造方式によれば、真空ポンプは２つの案内スロットを備え、各スロットはローブの輪郭部分に対応する。
案内スロットのレイアウトは、好ましくは、見た目に尖頭アーチ形であるべきである。

本発明の一実施方式によれば、パージ導管からの出口が、ステータの前面のシール溝内に配置されている。
やはり好ましくは、少なくとも１つの案内リブが、シール溝を始点として、ステータの前面に配置されるべきである。
少なくとも１つのパージ流体用の案内スロットを、パージ導管の出口を始点として、ステータの前面に配置することができる。

一変形方式によれば、パージ導管が、ポンプ輸送ガスの排出領域に通じる。
有利には、パージ導管は、ステータの内部空間のガス出口孔を通り抜ける。
パージ導管は、好ましくは、ロータ掃気領域の外側に配置されたパイプの形を取るべきである。

有利には、出口オリフィスをパイプの軸方向出口に配置し、少なくとも１つの出口オリフィスをパイプの側面に配置することができる。
本発明はまた、ルーツ・タイプ・ドライ真空ポンプに取り付けるためのステータにおいて、その一周辺壁が２つの伝動シャフトクリアレンス孔によって貫通され、周辺壁の厚み内に一部が配置されたパージ導管を備えるステータであって、導管の出口が２つのクリアレンス孔から等距離位置で表面に出て、その出口を始点として少なくとも１つの案内スロットが延出するステータを目的とする。
好ましくは、入口はステータの外面に配置され、出口はステータの前面に通じるべきである。

２つの案内スロットのレイアウトは、好ましくは、見た目に尖頭アーチ形であるべきである。
やはり好ましくは、出口は、ステータの前面のシール溝内に配置されるべきである。
少なくとも１つの案内リブが、好ましくは、溝にある出口から始まるべきである。

本発明はまた、パージ流体をステータの内部空間内に噴射する、真空ポンプのパージ方法を目的とする。
好ましくは、パージ流体は、希釈剤または溶剤などの浄化剤を含むべきである。
やはり好ましくは、浄化剤は、イソプロピル・アルコールまたは酸素添加ガスを含むべきである。

有利には、流体噴射はパルス状に行われるべきである。
他の利点および特徴は、本発明の説明を読み、添付図面を参照することにより明らかになるであろう。
添付図面では、同一の要素は同一の参照番号を有する。

本発明によるポンプの第１の製造方式が、図１および２によって示されている。図３ａ〜３ｄは、この第１の製造方式の変形方式を示す概略図である。
図１は、モータ３、連続する５つのポンプ段５（連続する段は参照符号５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、および５ｅを有する）、およびこれら段５ａ〜５ｅへのパージ流体ポンプ入口部７を備える組立状態の多段ドライ真空ポンプ１を示す。
モータ３は、歯車システムを介して第２の伝動シャフト２４に繋がる第１の伝動シャフト２５を駆動する（図２参照）。シャフト２４、２５は、ポンプ段５ａ〜５ｅ内部に配置されたロータ２１、２２を担持する。

モータ３は、大気温度の水などの冷却液の回路９によって冷却される。
５つの段５ａ〜５ｅは、各段の出口が後続の段の入口に接続されるように直列に配置されている。
そして、ポンプ輸送されるガスは、ポンプ１の上面（図では見えない）に配置された低圧段５ａのガス受入口１１を通って引き込まれ、３つの中間段５ｂ、５ｃ、および５ｄを順次に通り抜けた後、高圧段５ｅの排出口１３に向かうことができる。

最終段５ｅの出口１３は、たとえば大気圧ガス処理システムなどの全体のガス排出部に向けて接続されている。
パージ流体ポンプ入口部７は、窒素のような中性ガスなどのパージ流体の供給部（図では見えない）からバルブ・システム１７を介して５つの段５ａ〜５ｅのそれぞれへパージ流体を分配するために、マニホルドとしても知られている５つの分枝１５ａ〜１５ｅを有する分配機構１５を備える。
流体圧力が、分配機構１５上のバイパス圧力センサ１８によって測定される。

パージ流体の供給流量は、接続部３９内に配置され、チェック・バルブも備える、各段５ａ〜５ｅごとの較正済み噴霧ノズルによって規制される。
接続部３９は、各段５ａ〜５ｅで、ポンプ１の内側面上、分配機構１５の各分枝１５ａ〜１５ｅの端部に配置されている。
有利には、真空ポンプ１の中間段５ｂ〜５ｄに噴射されるパージ流体は、ガスのみではなく、液体またはガス／液体混合物でもよい。

この目的のために、パージ液体供給タンク（図示せず）もまた、併行して分配機構１５の分枝に接続されて、パージ・ガスおよび／またはパージ液体で、別々または同時のどちらにでも、諸段５を駆動する。
好ましくは、バルブ・システム１７を演算処理装置によって自動的に制御することを可能にするべきである。したがって、３つの中間段５ｂ、５ｃ、および５ｄそれぞれを別々にパージ流体で駆動するために、分配機構１５の分枝１５ｂ、１５ｃ、および１５ｄにそれぞれ配置された３つのソレノイド・バルブ１７ａ、１７ｂ、および１７ｃを備えるバルブ・システムが設計される。
バルブ・システム１７はまた、高圧段５ｅおよび低圧段５ａにパージ流体を供給する別々のバルブ（図では見えない）を備え、それにより、真空ポンプ１の高圧および低圧ローラ・ベアリングへのパージ流体の連続的な供給を確実に行う。

図２は、ポンプ段５の内側をより詳細に示す。
段５は、ステータ１９の本体１８を備え、その本体１８の内部空間２０は、背２６および内面３１を備える周辺壁２３によって画定される。
互いに機械的に結合された２つのルーツ・タイプのロータ２１および２２が、ステータ１９の内部空間２０内に収容されている。

ロータ２１、２２は、その目的のために２つの孔を開けられた、周辺壁２３の背２６を貫通する伝動シャフト２４、２５によって駆動される。
勿論、本発明はまた、２つ以上のローブ（１つまたは複数の部品として、直接伝動シャフトと共に機械加工され、またはシャフトに付け足されて）を有する１つまたは複数のルーツ・タイプのポンプ段、またはクロー・タイプもしくはこれら異なるタイプの段の組合せを備える全てのタイプのドライ真空ポンプに適用される。
図２に示される製造方式では、各ロータ２１、２２は、反対方向（矢印参照）に同期して回転するように配置され、図２のステータ１９の後面の上部に配置されたガス受入口３２とステータ１９の下部の排出口３４との間で、ポンプ輸送されるガスを駆動する２つのローブ２７、２８および２９、３０を有する。ロータ２１、２２の回転によって覆われる領域は、掃気領域として知られる領域を画成する。

ステータ１９の本体１８に配置された２つの排出チャネル３６および３７が、内部空間２０を取り囲んでいる。
これら排出チャネル３６、３７は、排出口３４に接続するステータ１９の下部から始まり、ポンプ輸送されるガスを後段の吸入部へ向かって導くことができるように、第２のガス受入口に接続するステータ１９の上部まで弧を描く。
ポンプ入口部７は、接続部３９を介してパージ流体を段５に供給する。

真空ポンプ１は、少なくとも１つのパージ導管４０を備え、その入口４１はパージ流体ポンプ入口部７に接続され、その出口４３はステータ１９の内部空間２０に通じている。
このレイアウトでは、パージ導管４０の出口４３は、ポンプ１のロータ２１、２２に可能な限り接近し、ロータの作動を乱さないようにロータ２１、２２の掃気領域を避けて配置される。
このレイアウトは、異物の点から見て最も重要な領域で段５にパージ流体を噴射する利点を提供する。

したがって、図２の概略図で、ロータ２１、２２の側面上に×印で示す特に重要な４つのデッド・エリアが弁別される。
実際に、ガスが受入口３２から排出口３４まで運ばれるポンプ・サイクル全体の中で、ロータの４つの相対位置について、ロータ２１、２２間の間隙の減少によって形成されるデッド・エリアが観察され、そこには段の高圧部から低圧部への内部ガス漏洩によって運ばれた紛体が集まる。
パージ流体の局所的噴射は、これら領域での噴射を目的として使用され、その噴射は、異物の希釈と、ロータ２１、２２上に残される可能性のある固体および気体状の副産物の機械的作用を介する拡散との両方を確実に行う。

さらに、２つのロータ２１、２２の表面全域を掃去するパージ流体を均等に分配するために、パージ導管４０の出口４３をロータ２１、２２の２つの回転軸からほぼ等距離に配置するように設計する。
さらに、高圧領域が最も異物の影響を受けるので、パージ導管４０を伝動シャフト２４、２５の下側、ステータ１９の下部に位置するポンプ輸送ガスの排出領域に導くように設計される。
有利には、パージ導管４０は、ステータ１９の内部空間２０のガス出口孔３４を通り抜ける。

したがって、図２に示すように、たとえば流体ポンプ入口部７より小さな直径のパイプで製作され、ロータ２１、２２の掃気領域の外側に配置されるパージ導管４０が設計される。また、パージ導管４０の出口４３は、パージ流体をロータ２１、２２の方向に向けるように設計される。
図３ａ〜３ｄは、通常極度に汚染されるデッド・エリアへ可能な限りパージ流体を導くための、本発明の第１の製造方式のパージ導管４０の出口４３の変形製造方式を示す。
たとえば、図３ａは、パイプ４０の軸方向出口４３内に配置された出口オリフィス４４を示す。図３ｂでは、選択された出口オリフィス４４の直径がより大きく、噴射速度が低くなる。したがって、出口オリフィスの直径は、所望の流体噴射速度が得られるように適合させることができる。

パイプ４０の側面に配置された少なくとも１つの追加の出口オリフィス４８もまた設計される。
より具体的には、図３ｃおよび３ｄはそのような製造例を示す。
図３ｃでは、２つの出口オリフィス４８が、ステータ１９の内部空間２０の上部へ流体噴射を導くのに使用する２つの傾斜突出部の端部に設計されている。

図３ｄによれば、パージ流体噴射が、水平方向、およびロータ２１、２２を収容する内部空間２０の上部へ導かれるように、導管４０の側壁に２つのオリフィスが設計され、導管４０に軸方向に１つのオリフィスが配置されている。
好ましくは、真空ポンプ１の大きさを抑えるために、パージ導管４０の少なくとも一部が、周辺壁２３の厚み中、直接ステータ１９の本体１８中に配置される。
本発明はまた、パージ流体をステータ１９の内部空間２０内に噴射する、ドライ真空ポンプ１のパージ方法を設計する。

有利には、パージ流体噴流の力を増幅するように、中間ポンプ段５ｂ、５ｃ、および５ｄでは噴射がパルス状に行われる。
好ましくは、真空ポンプ１のベアリングへの連続的なパージ流体供給を確実に行うことを目的として、パージ流体の噴射は、高圧段５ｅおよび低圧段５ａではパルス状にはしない。
パージ流体の噴射パルスの振幅および頻度は、流体がその中に噴射される段５ｂ〜５ｄに基づいて定めることができる。

流体噴射パルスの振幅および頻度は、好ましくは、ポンプ輸送されるガスの性質の情報に相関させるべきである。たとえば、ポンプ輸送されるガスが中性ガスであるとき、またはポンプ１が待機段階にあるときには、噴射は減らされる。
この情報は、エンジン出力信号などの真空ポンプ１の出力信号から、または、半導体製造チャンバから来る、保守、待機段階もしくは移送信号などの、ポンプ１に接続された真空ラインを有するプロセス・チャンバからの信号から与えられ得る。
この情報は、有利には、ポンプ吸引されるチャンバ内で実施されている製法に応じて、またはパージ流体が噴射されるポンプ段に基づいて個別化されたパージ・サイクルを設計することによってパージ方法を最適化するために、バルブ・システム１７を制御する演算処理装置に送られる。

このようにして、パージ流体の消費量が効果的に抑制され、リリーフ・バルブや流量制御部などのバルブ・システム１７の構成要素の磨耗が抑制される。
それによって、このパージ方法は、ポンプの動力およびパージ流体の消費量の低減を可能にし、ステータ１９の内部空間２０内の噴射箇所を限定することによってロータ２１、２２の効果的な浄化を確実に行う。
また、中間段５ｂ、５ｃ、および５ｄ内への噴射用として、希釈剤、または、たとえばイソプロピル・アルコールもしくは酸素添加ガスを含む溶剤などの浄化剤を含むパージ流体を設計することもできる。

次に、真空ポンプ１の第２の製造方式を、図４ａ、４ｂ、５ａ、５ｂ、および６ａ〜６ｅに示して、説明する。
図４ａでは、４つのポンプ段５ｂ〜５ｅの周辺壁２３の背２６を貫通する被駆動伝動シャフト２４を見ることができる。
各段で、シャフト２４は、ロータ２１の２つのローブ２７、２８を有する。図では、第１のロータに機械的に結合されている第２のロータ２２のローブ２９の一部も見ることができる。

図４ｂは、４つのステータ１９ｂ〜１９ｅ、およびシャフト２４および２５上に取り付けられた、各ステータに対するローブを有する２つのロータ２１および２２を有する、この第２の製造方式による真空ポンプ１の一部の分解組立図である。
この図では、ガス受入口３２を有する、ステータ１９の前面４９を見ることができる。
ステータの各前面４９には、２つの環状シール溝５０、５２が設計されており、その結果、全てのステータ１９ｂ〜１９ｅを軸方向に組み立てる際に、シール・ジョイントを挿入し圧縮することができる。

溝５０に挿入されるシールは、真空ポンプ１の外側の環境から各段５ｂ〜５ｅを隔離するためのものである。
溝５２のシールは、ステータ１９ｂ〜１９ｅの内部空間から排出チャネルを隔離するためのものである。
図４ａでは、パージ導管４０は、パージ流体ポンプ入口部７に接続された入口４１、およびステータ１９の内部空間２０に通じる出口４３を有する。

図４ａはまた、３つの中間段５ｂ〜５ｄ上、ステータ１９ｂ〜１９ｄの下部に、分配機構１５を介してパージ流体供給部を接続するための３つの接続部３９を示す。
有利には、この特定の製造方式では、パージ導管４０は、部分的にステータ１９ｂ〜１９ｅの周辺壁２３中、言い換えるとステータ１９の本体１８中に配置されている。
したがって、図４ａに示されるように、パージ導管４０は、パージ流体ポンプ入口部７から、第１のステータ１９ｂの壁２３の内面３１の下側の厚み中に配置された部分を有する。

パージ導管４０の第２の部分は、隣接する第２のステータ１９ｃの壁２３の背２６の厚み中に配置され、ステータ１９ｂ、１９ｃがポンプ１に組み込まれると、第１のステータ１９ｂの内部空間２０に通じる。
このようにポンプの本体中に配置されることにより、導管４０のパージ流体は、段５の内部に噴射される前にポンプ本体の温度に設定され得る。
実際に、ポンプ本体の温度は、流体がポンプ入口部７から出て来るときの流体の温度（２０〜１２０℃）より１０分の数度高くなり得る。

この目的のために、ステータ１９の厚さに対して直径の小さい導管を配置し、それにより、流体が、パージ導管４０の壁の温度まで迅速に加熱され得るように設計される。
さらに、パージ導管が、２つのロータ・シャフトのクリアレンス孔５６と５７（図５ａおよび５ｂ）の間の領域に通じるように設計される。
好ましくは、パージ導管の出口４３は、ステータ１９の前面４９に通じるべきである。

したがって、導管４０の出口６０（図４ａおよび４ｂ参照）は、ステータ１９の前面４９のシール溝５２中に、溝５２中のシールの下側半分の代わりにその場所に配置されるように設計され、それによりさらに段５の保護が強化される。
少なくとも１つ、好ましくは２つの、ロータ２１および２２の方向に向けられた案内リブ６１および６２が、シール溝５２を始点とし、ステータ１９の前面４９に配置され、それにより、同じパージ流体ポンプ入口部７を使用して、パージ流体の一部をステータ１９の内部空間２０内で導く。
少なくとも１つのパージ流体案内スロットが、パージ導管４０の出口４３を始点として、ステータ１９ｃ、１９ｄ、１９ｅの前面４９に配置される。

したがって、図５ａおよび５ｂに示されるように、２つの案内スロット５４および５５が、パージ導管４０の出口オリフィス４３を有するステータ１９の前面４９上に見た目に尖頭アーチ形で配置される。
各スロット５４および５５は、この図に２ローブのルーツ・タイプ・ローブによって示されているような、ロータの輪郭部分の形状を有する。
有利には、案内スロット５４、５５の端部は、たとえばボール形先端を有するカッタを用いて機械加工をすることによって得られる丸みを帯びた輪郭を有して、ローブの側面に最適な角度で当たる流体の噴流を生成することができるようにする。

この特定の製造方式は、第１にロータとステータの壁との間のデッド・エリアを、第２にロータ間のデッド・エリアを精密かつ効果的に浄化するのに使用される。
実際に、作動時には、図６ａ、６ｂ、６ｃ、および６ｅに見られるように、ロータ・ローブの配置により、ロータの各位置では、パージ流体の噴射に対する対応位置が異なることになる。
これらの図は、線図中に×印によってその回転軸を示した２つのロータ間に囲まれた、ポンプ１の段５の内部空間２０内のポンプ輸送体積部分の輪郭を示す。この体積は、ステータ１９の内面３１と共に、ロータ２１、２２の２つの外縁５７および５８によって画定されている。
図上、ハッチングは、閉じ込められたガス体積に繋がっていない、スロット５４および５５のロータ２１、２２によって隠された部分を表す。

図６ａでは、スロット５４の第１の端部はステータ１９の内部空間２０に接続されているが、スロット５４の第２の端部およびオリフィス４３ならびに第２のスロット５５は第１のロータ２１によって塞がれている。
したがって、パージ流体の噴流は、オリフィス４３から、遮蔽されているスロット５４を通ってスロット５４の端部まで導かれ、それにより、好ましくは、ロータ２１、２２間の小間隙領域６０に集中される。
さらにまた、パージ流体の漏洩流がロータ２１の下側に広がって、ステータ１９の背２６と対向するロータ２１の壁との間を浄化することもできる。

次いで、ロータ２１、２２が、図６ａ、６ｂ、および６ｃ上の矢印によって示された方向に回転すると、スロット５４の輪郭が第１のロータ２１の輪郭５７の一部に対応し、その結果、噴射が、ロータ２１の側面に沿って導かれる。
したがって、それら輪郭に基づいた、スロット５４、５５の輪郭の好適な形状は、パージ流体の噴流に、回転中のロータの側面輪郭を確実に最適に追従させるのに使用される。
最後に、第１のスロット５４は第２のロータ２２によって完全に覆われ、第２のスロット５５は一部が覆われていない（図６ｅ）。

この時点では、噴射は、好ましくは、オリフィス４３のレベルに位置するべきである。パージ導管の出口オリフィス４３は、ロータ２１、２２の掃気領域に配置されている。
そのようなレイアウトでは、真空ポンプが作動しているとき、スロット５４、５５およびオリフィス４３が、代わる代わるロータによって部分的に隠されて、ポンプ輸送中、ロータがステータ１９の内部空間２０中を移動することによってパージ流体の噴射位置を移動させることが可能になることが理解される。
そのとき、ロータ２１、２２はパージ流体噴射バルブのように働き、噴射が自動的に、ロータの回転数（約１００回転／秒以上）に応じて、ステータ１９の圧縮領域に導きいれられているかのように全てのことが起こり、それによって、追加の機械的部分が付け足されなくても、パージ流体の噴射を自動的にパルス状に行うことが可能になる。

図７は、３個のローブを有するルーツ・タイプ・ロータに関する第２の製造方式による真空ポンプ段の変形方式を示す。
ローブの形状が異なること以外に、この変形方式には、スロットの形状にも差異がある。それに関し、各スロット５４および５５は、ロータの３ローブ輪郭の一部の形状を有する。
その入口４１がパージ流体のポンプ入口部７に接続され、その出口４３がステータ１９の内部空間２０まで、ロータ２１、２２の掃気領域内に通じている少なくとも１つのパージ導管４０を有する、本発明のこの製造方式による真空ポンプ１では、パージ流体を可能な限りロータ２１、２２の近くまで導くことができ、その結果、流体が排出チャネル内に噴射されてポンプ輸送ガスと混合される従来技術の配置とは異なり、パージ流体がロータの移動によって操作されることが理解される。

本発明によるドライ真空ポンプの下方からの透視図である。 本発明の第１の製造方式によるドライ真空ポンプの段の前方からの透視図である。 図２のポンプのパージ導管の変形製造方式の概略図である。 図２のポンプのパージ導管の変形製造方式の概略図である。 図２のポンプのパージ導管の変形製造方式の概略図である。 図２のポンプのパージ導管の変形製造方式の概略図である。 本発明の第２の製造方式によるドライ真空ポンプの一部の長手方向断面図である。 図４ａのポンプの一部の分解組立透視図である。 図４ａおよび４ｂの真空ポンプのステータの透視図である。 図５ａのステータの後視図である。 様々な作動段階における、図４ａのポンプの段の内部空間内でポンプ輸送される体積部分の略図である。 様々な作動段階における、図４ａのポンプの段の内部空間内でポンプ輸送される体積部分の略図である。 様々な作動段階における、図４ａのポンプの段の内部空間内でポンプ輸送される体積部分の略図である。 様々な作動段階における、図４ａのポンプの段の内部空間内でポンプ輸送される体積部分の略図である。 様々な作動段階における、図４ａのポンプの段の内部空間内でポンプ輸送される体積部分の略図である。 第２の製造方式の変形方式によるステータの概略図である。

Claims (10)

1. ポンプ輸送されるガスが、ガス受入口（１１）とガス排出口（１３）との間でその中を流れる少なくとも１つの段（５）であって、反対方向に同期して回転するのに適した２つのロータ（２１、２２）を、周辺壁（２３）によって画定されたその内部空間（２０）に有するステータ（１９）を備え、それにより、ポンプ輸送されるガスが、前記受入口（１１）から前記排出口（１３）へ押し流されるようになっている段（５）と、
   前記段（５）内の少なくとも１つの、パージ流体のポンプ入口部（７）と、
   前記パージ流体の前記ポンプ入口部（７）にその入口（４１）が接続され、前記ステータ（１９）の前記内部空間（２０）にその出口（４３）が通じている少なくとも１つのパージ導管（４０）と
   を備えるドライ・タイプ真空ポンプであって、
   前記ステータ（１９）の前面（４９）に配置される、前記パージ流体用の少なくとも１つの案内スロット（５４、５５）をさらに備えることを特徴とする、真空ポンプ。
2. 前記ステータが２つの案内スロットを備え、各スロット（５４、５５）がローブの輪郭部分に対応する、請求項１に記載の真空ポンプ。
3. 前記案内スロットが見た目に尖頭アーチ形である、請求項１および２のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
4. 前記パージ導管の出口（６０）が、前記ステータの前面（４９）のシール溝（５２）内に配置されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
5. 少なくとも１つの案内リブ（６１、６２）が、前記ステータの前面（４９）に配置され、前記シール溝（５２）を始点とする、請求項４に記載の真空ポンプ。
6. 前記パージ導管（４０）が、ポンプ輸送ガスの排出領域に通じる、請求項１または２のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
7. 前記パージ導管が、前記ステータの前記内部空間（２０）のガス出口孔を通り抜ける、請求項６に記載の真空ポンプ。
8. 前記パージ導管が、ロータ掃気領域の外側に配置されたパイプの形に製造される、請求項６および７のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
9. 出口オリフィス（４４）が前記パイプの軸方向出口（４３）に配置され、少なくとも１つの出口オリフィス（４８）が前記パイプの側面に配置されている、請求項８に記載の真空ポンプ。
10. ルーツ・タイプ・ドライ真空ポンプに取り付けるためのステータであって、前記ステータの周辺壁（２３）が２つの伝動シャフトクリアレンス孔（５６および５７）によって貫通され、前記周辺壁（２３）の厚み内に一部が配置されたパージ導管（４０）を備えるステータにおいて、出口（４３）が前記２つのクリアレンス孔（５６および５７）から等距離位置で表面に出て、前記出口（４３）を始点として少なくとも１つの案内スロット（５４、５５）が延出することを特徴とするステータ。

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