JP2008258087A - 加速度スイッチ - Google Patents
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Abstract
【課題】高精度で製造が容易であり、スイッチのON状態保持時間を容易に調整でき、さらに検出加速度を調整可能な加速度スイッチを提供する。
【解決手段】同一厚みの薄膜にて、梁4,5、及びフレーム2,3を有する可動構造体を形成する。可動構造体は、基板上の1点又は複数点でアンカー1に固定され、フレーム2は、アンカーと梁4で支持される。面外方向に変位するフレーム3の動作を、機械的にフレーム2の回転動作に変位させ、回転変位するフレームが閾値以上の加速度にて固定電極と接触する構造とした。
【選択図】図1
【解決手段】同一厚みの薄膜にて、梁4,5、及びフレーム2,3を有する可動構造体を形成する。可動構造体は、基板上の1点又は複数点でアンカー1に固定され、フレーム2は、アンカーと梁4で支持される。面外方向に変位するフレーム3の動作を、機械的にフレーム2の回転動作に変位させ、回転変位するフレームが閾値以上の加速度にて固定電極と接触する構造とした。
【選択図】図1
Description
本発明は、自動車のエアバッグシステム等に用いられる、加速度により接点が一定時間閉じる加速度スイッチに関する。
従来の加速度スイッチとして、シリコン基板をその厚み方向に可動に形成し、該シリコン基板を厚み方向から上、下基板で挟んだ構造を有するものが知られている(例えば、特許文献1)。シリコン基板の中央部には接点部が形成され、該接点部の両側位置には重錘体が形成されている。上記厚み方向において、接点部は、重錘体よりも厚く形成されている。又、接点部に対向して、上、下の各基板には、接点部と接触可能な電極が設けられている。さらに、重錘体に対向して、上、下の各基板には、重錘体を変位させる自己診断用電極が設けられている。
このような加速度スイッチに対して上記厚み方向に加速度が作用すると、シリコン基板は、重錘体の重量により上側又は下側に移動する。ここで、閾値以上の加速度が作用したときには、接点部が上下どちらかの電極に接触し、接点がON状態となる。尚、重錘体のスクイズダンピング効果によりON状態は、一定時間、保持される。
又、上記自己診断用電極間に電位をかけることで、強制的に重錘体を上記厚み方向に変位させ、接点部をONにする。このようにして、当該加速度スイッチの動作確認を行い自己診断することもできる。
特開平11−237402号公報(図3)
又、上記自己診断用電極間に電位をかけることで、強制的に重錘体を上記厚み方向に変位させ、接点部をONにする。このようにして、当該加速度スイッチの動作確認を行い自己診断することもできる。
上述したような従来の加速度スイッチでは、シリコン基板からなる可動構造体に対向して、上、下基板に固定電極を設置している。よって、製造バラツキにより上、下基板の隙間寸法が異なると、検出される加速度か異なるという問題点があった。
又、シリコン基板の両端部は、上、下基板に固定され、当該加速度スイッチの外周部を形成している。よって、温度変化等による外周部の歪みにより、シリコン基板の強度が変化し、加速度の検出特性が変動するという問題点もあった。
又、シリコン基板の両端部は、上、下基板に固定され、当該加速度スイッチの外周部を形成している。よって、温度変化等による外周部の歪みにより、シリコン基板の強度が変化し、加速度の検出特性が変動するという問題点もあった。
又、従来の加速度スイッチでは、スクイズダンピング効果により接点部のON時間を保持するための重錘体と上、下基板との隙間を、接点部と上、下基板との隙間よりも狭くできない。よって、接点部が先に固定電極と接触し、それ以上にシリコン基板は変位することができないことから、ON状態の保持時間を長く設定できないという問題点があった。さらに、重錘体と上、下基板との隙間を狭くできないため、自己診断時に自己診断用電極に印加する電圧が高くなるという問題点もある。
又、可動構造体を含む基板の加工を表裏面パターニング及び多段階エッチングにより行うため、製造工程が複雑で高コストとなり、さらに製造バラツキを発生しやすいという問題点があった。
又、検出加速度の調整機構がないため、製造時のバラツキによる検出加速度感度の調整ができず、検出精度が低下するという問題点があった。
又、検出加速度を変更できず、一つの機種で広い加速度範囲に対応できないという問題点があった。
又、検出加速度の調整機構がないため、製造時のバラツキによる検出加速度感度の調整ができず、検出精度が低下するという問題点があった。
又、検出加速度を変更できず、一つの機種で広い加速度範囲に対応できないという問題点があった。
本発明は、上述のような問題点を解決するためになされたものであり、高精度で、製造が容易であり、かつスイッチのON状態保持時間を容易に調整できる加速度スイッチを提供することを一つの目的とする。さらに本発明は、上記目的に加えて、検出加速度を調整可能な加速度スイッチを提供することを他の目的とする。
上述の目的を達成するため、本発明は以下のように構成する。
即ち、本発明の第1態様における加速度スイッチは、第1基板と、上記第1基板に立設されたアンカー部に支持されたネジレ梁にて支持されて上記ネジレ梁の軸周りに回転し、枠状で上記アンカー部を中央部に配置した検出フレームと、リンク梁にて上記検出フレームに接続され、当該加速度スイッチの面外方向に作用する加速度にて変位して上記検出フレームを回転させ、上記検出フレームと同一厚にて形成される枠状の面外変位フレームと、上記検出フレーム及び上記面外変位フレームが配置される空間を介して上記第1基板に対向して配置される第2基板と、上記検出フレームに対向して上記第1基板又は上記第2基板に設けられ、上記加速度による面外変位フレームの変位により回転した上記検出フレームが閾値以上の加速度にて接触する検出コンタクト電極と、を備えたことを特徴とする。
即ち、本発明の第1態様における加速度スイッチは、第1基板と、上記第1基板に立設されたアンカー部に支持されたネジレ梁にて支持されて上記ネジレ梁の軸周りに回転し、枠状で上記アンカー部を中央部に配置した検出フレームと、リンク梁にて上記検出フレームに接続され、当該加速度スイッチの面外方向に作用する加速度にて変位して上記検出フレームを回転させ、上記検出フレームと同一厚にて形成される枠状の面外変位フレームと、上記検出フレーム及び上記面外変位フレームが配置される空間を介して上記第1基板に対向して配置される第2基板と、上記検出フレームに対向して上記第1基板又は上記第2基板に設けられ、上記加速度による面外変位フレームの変位により回転した上記検出フレームが閾値以上の加速度にて接触する検出コンタクト電極と、を備えたことを特徴とする。
本発明の第1態様における加速度スイッチによれば、以下の効果が得られる。即ち、上記面外方向に作用した加速度により、上記面外変位フレームが面外方向に変位する。該変位により、上記リンク梁を介して検出フレームに力が作用し、検出フレームは、ネジリ梁の軸周りに回転する。つまり、面外変位フレームの変位が検出フレームの回転変位に機械的に変換される。そして、閾値を超える加速度が作用したときに検出フレームが上記検出コンタクト電極に接触する。このように、本発明の第1態様における構成は、従来の加速度スイッチのように上下基板の厚み方向に接点部が移動する構成とは異なることから、上下基板による隙間のバラツキが加速度検出精度に影響することは殆ど無く、正負加速度検出誤差をなくすことができる。又、検出フレームを支持するアンカー部は、第1基板に立設され枠状の検出フレームの中央部に配置され、かつ面外変位フレームは検出フレームに接続されている。よって、アンカー部を含めて検出フレーム及び面外変位フレームは、当該加速度スイッチの外周部とは接続されていない。したがって、外部温度変化が直接に検出フレームに影響することはない。よって、本発明の第1態様における加速度スイッチは、従来に比べて温度変動などによる外周部の歪みの影響を受けず安定した特性を維持することができ、高精度な加速度スイッチを構成することができる。
さらに、上述のように検出フレームは、面外変位フレームにて駆動され、検出フレームと面外変位フレームとは独立して別個に変位する。さらに、検出フレーム及び面外変位フレームは同一厚さにて形成されている。又、検出フレーム及び面外変位フレームが配置される空間の厚さは、第1基板と第2基板との間の距離を変更すればよく、容易に変更可能である。よって、本発明の第1態様における加速度スイッチは、従来に比べて面外変位フレームのスクイズダンピング効果により加速度スイッチのON状態の保持時間を長くすることができ、かつ上記保持時間を容易に調整することができる。
又、検出フレーム及び面外変位フレームは同一厚さにてなることから、多段階エッチング等の複雑な工程は必要としない。よって、本発明の第1態様における加速度スイッチは、従来に比べて製造も容易であり、安価である。
本発明の実施形態である加速度スイッチについて、図を参照しながら以下に説明する。尚、各図において、同一又は同様の構成部分については同じ符号を付している。
実施の形態1.
本実施形態1の加速度スイッチについて、図1及び図2を用いて説明する。図1は、本実施形態1の加速度スイッチ101の平面図、図2は、図1に示すA−A部の断面図である。尚、図1では、検出フレーム2及び面外変位フレーム3を含む部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。又、図1では、上面基板10の図示を省略している。
本実施形態1の加速度スイッチについて、図1及び図2を用いて説明する。図1は、本実施形態1の加速度スイッチ101の平面図、図2は、図1に示すA−A部の断面図である。尚、図1では、検出フレーム2及び面外変位フレーム3を含む部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。又、図1では、上面基板10の図示を省略している。
加速度スイッチ101の基本的構成は、第1基板と、第2基板と、検出フレーム2と、面外変位フレーム3と、検出コンタクト電極6とを備え、本実施形態における加速度スイッチ101は、さらに、アクチュエーション電極7及び感度調整電極14を備えている。
尚、第1基板は、以下に説明する下面基板9の一例に相当し、第2基板は、以下に説明する上面基板10の一例に相当する。下面基板9及び上面基板10は、シリコン、ガラスなどの材料にて形成される。加速度スイッチ101は、後述する製造方法のように、例えば半導体プロセスを利用して作製される。又、各図において、説明の便宜上、互いに直交する第1から第3の軸に相当する、X軸、Y軸、及びZ軸を用いるが、構成部分の配置方向を、説明にて用いる軸方向に限定するものではない。
下面基板9には、アンカー1が立設され、アンカー1には、該アンカー1を中心として例えばY軸方向に延びるネジレ梁4が接続される。ネジレ梁4には、好ましくは正方形状で、中央部に空間を有する枠状の検出フレーム2が接続されている。よって、検出フレーム2は、ネジレ梁4及びアンカー1を介して下面基板9の上方にて下面基板9に支持され、ネジレ梁4を中心としてネジレ梁4の軸周りに回転可能である。検出フレーム2は、ポリシリコン、金属などの導電材料にてなる。
面外変位フレーム3は、好ましくは正方形状で、中央部に空間を有する枠状体であり、本実施形態では、中央の空間部分に検出フレーム2が配置され、リンク梁5により検出フレーム2と接続される。よって、面外変位フレーム3は、下面基板9の上方にて、リンク梁5及び検出フレーム2を介して下面基板9に支持されている。リンク梁5は、ネジレ梁4と同様にY軸方向に延び、ネジレ梁4に対してX軸方向に距離eにて離れている。つまり、リンク梁5は、ネジレ梁4に対して偏心して配置される。
当該加速度スイッチ101に対して面外方向に加速度が作用した場合、上述の構成を有する面外変位フレーム3は、面外方向に変位する。該変位により、リンク梁5にて面外変位フレーム3に接続された検出フレーム2も変位する。このとき、リンク梁5とネジレ梁4との配置位置が偏心していることにより、検出フレーム2は、ネジレ梁4の軸周りに回転する。換言すると、面外変位フレーム3は、ネジレ梁4の軸周りに検出フレーム2を回転させる。尚、上記面外方向とは、下面基板9に平行な面、つまり図1に示すX−Y平面に交差する方向であり、一例として、下面基板9の厚さ方向つまりZ軸方向が相当する。
このような面外変位フレーム3は、ポリシリコン、金属などの導電材料にてなり、検出フレーム2と同じ厚みにて形成される。又、ネジレ梁4、リンク梁5、検出フレーム2、及び面外変位フレーム3にて、可動構造体を形成する。
下面基板9には、検出フレーム2に対向する場所に、検出コンタクト電極6及び感度調整電極14が形成される。
検出コンタクト電極6は、下面基板9上で、ネジレ梁4を中心に揺動する検出フレーム2のX軸方向における端部が接触可能な場所に設けられ、閾値以上の加速度が当該加速度スイッチ101に作用したときに、検出フレーム2が接触し検出フレームとの導通がON状態となる電極である。
検出コンタクト電極6は、下面基板9上で、ネジレ梁4を中心に揺動する検出フレーム2のX軸方向における端部が接触可能な場所に設けられ、閾値以上の加速度が当該加速度スイッチ101に作用したときに、検出フレーム2が接触し検出フレームとの導通がON状態となる電極である。
感度調整電極14は、X軸方向において、検出コンタクト電極6よりも内側に配置され、検出フレーム2との間で電圧を印加することで、検出フレーム2に対して静電力を作用させることで、検出フレーム2が検出コンタクト電極6に接触する加速度を調整する電極である。
又、下面基板9には、面外変位フレーム3に対向する場所に、アクチュエーション電極7が形成される。アクチュエーション電極7は、検出フレーム2と検出コンタクト電極6とを強制的に接触させるために、面外変位フレーム3との間で電圧が印加され、面外変位フレーム3を強制的に変位させる電極である。
上述した検出フレーム2及び面外変位フレーム3を有する可動構造体、並びに、検出コンタクト電極6、アクチュエーション電極7、及び感度調整電極14を取り囲むようにして、下面基板9には枠8が形成される。又、検出コンタクト電極6、アクチュエーション電極7、感度調整電極14、及びアンカー1は、下面基板9に形成した絶縁膜13上の配線11により、枠8より外側で、各電極に対応して下面基板9に形成した電極パッド12に接続される。尚、配線11と枠8とは絶縁膜により電気的に分離される。
枠8には、下面基板9に対向して上面基板10が取り付けられる。これにより、検出フレーム2及び面外変位フレーム3にてなる可動構造体、並びに、検出コンタクト電極6、アクチュエーション電極7、及び感度調整電極14を有するセンサ構造体は、密閉封止される。封止内部20には、例えば窒素、不活性ガスが封入され、所定の圧力に保持される。尚、検出フレーム2及び面外変位フレーム3と、下面基板9上の検出コンタクト電極6、アクチュエーション電極7、及び感度調整電極14との距離、並びに、検出フレーム2及び面外変位フレーム3と、上面基板10の内面との距離は、製造バラツキ範囲で同一とする。
尚、本実施形態では、下面基板9に、検出コンタクト電極6、アクチュエーション電極7、及び感度調整電極14を形成しているが、これらは、上面基板10に形成しても良い。
以上のように構成される加速度スイッチ101における動作、つまり加速度の検出方法ついて説明する。
まず概略を説明する。面外変位フレーム3は、図1に示すように、リンク梁5により検出フレーム2に接続されている。面外変位フレーム3の変位により、検出フレーム2は、図1のネジレ梁4を中心として回転変位する。即ち、面外変位フレーム3の上下変位が検出フレーム2の回転変位に機械的に変換される。閾値以上の加速度により、検出フレーム2は、検出コンタクト電極6と接触する。よって、検出フレーム2と検出コンタクト電極6が導通したことが外部の回路装置により判別することができる。
まず概略を説明する。面外変位フレーム3は、図1に示すように、リンク梁5により検出フレーム2に接続されている。面外変位フレーム3の変位により、検出フレーム2は、図1のネジレ梁4を中心として回転変位する。即ち、面外変位フレーム3の上下変位が検出フレーム2の回転変位に機械的に変換される。閾値以上の加速度により、検出フレーム2は、検出コンタクト電極6と接触する。よって、検出フレーム2と検出コンタクト電極6が導通したことが外部の回路装置により判別することができる。
より詳しく説明する。
当該加速度スイッチ101に加速度が作用し、図3Aに示すように、面外変位フレーム3がZ軸方向の負側(図の下方向)に沿って矢印31a方向に移動すると仮定する。加速度検出に関する閾値以上の加速度が作用することで、検出フレーム2は、ネジレ梁4を中心として矢印32a方向へ回転し、検出コンタクト電極6と接触する。該接触により、検出フレーム2はそれ以上回転しない。
当該加速度スイッチ101に加速度が作用し、図3Aに示すように、面外変位フレーム3がZ軸方向の負側(図の下方向)に沿って矢印31a方向に移動すると仮定する。加速度検出に関する閾値以上の加速度が作用することで、検出フレーム2は、ネジレ梁4を中心として矢印32a方向へ回転し、検出コンタクト電極6と接触する。該接触により、検出フレーム2はそれ以上回転しない。
さらに加速度が作用することで、図3Bに示すように、検出フレーム2が検出コンタクト電極6に接触した後も、面外変位フレーム3は、矢印31a方向に移動して、アクチュエーション電極7と接触する。その際、面外変位フレーム3の変位は、スクイズダンピング効果により多少の作動遅れ(位相ズレ)を生じてアクチュエーション電極7と接触する。
加速度が減少すると、図3Cに示すように、面外変位フレーム3は、Z軸方向の正側(図の上方向)へ矢印31b方向に移動して、アクチュエーション電極7より離れる。しかしながら、面外変位フレーム3がアクチュエーション電極7から一定距離分、離れるまで、検出フレーム2は、検出コンタクト電極6との接触が維持される。
図3Dに示すように、面外変位フレーム3がアクチュエーション電極7より一定距離を超えて離れると、面外変位フレーム3に引っ張られ検出フレーム2は、矢印32b方向に回転し、検出コンタクト電極6から離れる。即ち、面外変位フレーム3のスクイズダンピング効果により、当該加速度スイッチ101のON保持時間を長くすることができる。
スクイズダンピング効果は、封止内部20の封止圧力、面外変位フレーム3の面積、及び面外変位フレーム3とアクチュエーション電極7との間の隙間間隔により調整することができる。よって、上記ON保持時間は、調整可能である。特に、スクイズフィルム効果は、上記隙間間隔の3乗に反比例することが知られている。本実施形態では、面外変位フレーム3とアクチュエーション電極7との間の隙間間隔および枠8の高さを調整することで、容易に上記隙間間隔を変更することができ、ON保持時間を容易に調整することができる。
スクイズダンピング効果は、封止内部20の封止圧力、面外変位フレーム3の面積、及び面外変位フレーム3とアクチュエーション電極7との間の隙間間隔により調整することができる。よって、上記ON保持時間は、調整可能である。特に、スクイズフィルム効果は、上記隙間間隔の3乗に反比例することが知られている。本実施形態では、面外変位フレーム3とアクチュエーション電極7との間の隙間間隔および枠8の高さを調整することで、容易に上記隙間間隔を変更することができ、ON保持時間を容易に調整することができる。
例えばエアバッグ作動用の加速度スイッチでは、エアバッグの展開判定のため、一定時間、ON状態を維持する必要がある。一方、ON状態の保持時間は、加速度スイッチが用いられるシステムにより異なる。したがって、上述のようにON保持時間を容易に調整することができる本加速度スイッチ101は、上述のようなシステムに非常に有効となる。
次に、当該加速度スイッチ101に対して加速度を作用させることなく、当該加速度スイッチ101が正常動作することを確認する自己診断について、図4を用いて説明する。
自己診断装置40にて電極パッド12を介して面外変位フレーム3及びアクチュエーション電極7間に電位を加える。これにより面外変位フレーム3は、矢印31a方向に移動し、電位が所定値を超えると、つまり面外変位フレーム3の変位量が規定値を超えると、矢印32a方向へ回転した検出フレーム2は、検出コンタクト電極6と接触する。自己診断装置40は、接触にて得られた電圧値と、正常動作において予め測定しておいた参照電圧とを比較することにより、当該加速度スイッチ101の動作が正常であるか否かを確認することができる。このようにアクチュエーション電極7を設けることで、信頼性の高い加速度スイッチを提供することができる。尚、面外変位フレーム3と、アクチュエーション電極7との隙間を狭くすれば、より低い電圧にて自己診断機能を実行することができる。
自己診断装置40にて電極パッド12を介して面外変位フレーム3及びアクチュエーション電極7間に電位を加える。これにより面外変位フレーム3は、矢印31a方向に移動し、電位が所定値を超えると、つまり面外変位フレーム3の変位量が規定値を超えると、矢印32a方向へ回転した検出フレーム2は、検出コンタクト電極6と接触する。自己診断装置40は、接触にて得られた電圧値と、正常動作において予め測定しておいた参照電圧とを比較することにより、当該加速度スイッチ101の動作が正常であるか否かを確認することができる。このようにアクチュエーション電極7を設けることで、信頼性の高い加速度スイッチを提供することができる。尚、面外変位フレーム3と、アクチュエーション電極7との隙間を狭くすれば、より低い電圧にて自己診断機能を実行することができる。
尚、図4ではアクチュエーション電極7は、下面基板9にのみ配置しているが、上面基板10にも配置しても構わない。上、下面基板9、10のそれぞれにアクチュエーション電極7を配置することで、当該加速度スイッチ101のZ軸方向の正側、負側の両方に作用する加速度について、自己診断が可能となる。
又、アクチュエーション電極7は、自己診断機能だけでなく、チャタリング防止用途としても機能させることができる。即ち、自己診断装置40は、検出フレーム2と検出コンタクト電極6とが接触した後に、アクチュエーション電極7と面外変位フレーム3との間に電位を一定時間、印加する。これにより、面外変位フレーム3がアクチュエーション電極7側に付勢され、これにて検出フレーム2も検出コンタクト電極6側に付勢される。よって、検出フレーム2と検出コンタクト電極6との接触がON,OFFを繰り返すチャタリングを防止することができる。したがって、信頼性の高い加速度スイッチを提供することができる。
次に、当該加速度スイッチ101における加速度の検出感度の調整機構について、図5を用いて説明する。
検出感度調整装置41にて、電極パッド12を介して検出フレーム2と感度調整電極14との間に電位を加える。これにより、検出フレーム2は、静電引力により感度調整電極14側に引っ張られる。よって、検出フレーム2には、ネジレ梁4による回転運動に対する抵抗力が発生し、検出感度が調整可能となる。したがって、感度調整電極14を設けることで、測定範囲の広い加速度スイッチを提供することができる。
検出感度調整装置41にて、電極パッド12を介して検出フレーム2と感度調整電極14との間に電位を加える。これにより、検出フレーム2は、静電引力により感度調整電極14側に引っ張られる。よって、検出フレーム2には、ネジレ梁4による回転運動に対する抵抗力が発生し、検出感度が調整可能となる。したがって、感度調整電極14を設けることで、測定範囲の広い加速度スイッチを提供することができる。
次に、当該加速度スイッチ101の製造方法の一例について、図6Aから図6Cを参照して説明する。
図6Aにおいて、シリコンなどの下面基板9上にシリコン酸化膜などの絶縁膜13を形成する。次に、絶縁膜13上に検出コンタクト電極6、アクチュエーション電極7、感度調整電極14、配線11などの電極を形成する。電極材料は、不純物ドープしたポリシリコンや、金などの導電材料である。
図6Aにおいて、シリコンなどの下面基板9上にシリコン酸化膜などの絶縁膜13を形成する。次に、絶縁膜13上に検出コンタクト電極6、アクチュエーション電極7、感度調整電極14、配線11などの電極を形成する。電極材料は、不純物ドープしたポリシリコンや、金などの導電材料である。
図6Bにおいて、犠牲層15を成膜し、パターニング後、検出フレーム2、面外変位フレーム3などの可動構造体、及び枠8を形成する。枠8は、可動構造体よりも厚く形成して、可動構造体と上面基板10との間に隙間を形成するが、該方法に限定されず、可動構造体と同一厚みにて形成し、隙間用の凹部を有する上面基板を用いてもよい。可動構造体の材料は、不純物ドープしたポリシリコンや金などの導電材料である。犠牲層15は、リンガラス、レジストなど可動構造体から選択除去可能な材料である。
図6Cにおいて、犠牲層15を選択除去後、上面基板10を枠8に接合する。
本加速度スイッチ101では、検出フレーム2及び面外変位フレーム3と、上、下基板間との各隙間が同一であり、可動構造体が同一厚みのため、多段階エッチなど複雑な工程を必要としない。また基板片面の工程で製造できるため、基板両面マスク合わせ露光、両面エッチングなど特殊な製造装置を必要としない。したがって、加速度スイッチ101は、従来の加速度スイッチの製造に比して、容易に製造することができる。よって、安価な加速度スイッチを提供することができる。
本加速度スイッチ101では、検出フレーム2及び面外変位フレーム3と、上、下基板間との各隙間が同一であり、可動構造体が同一厚みのため、多段階エッチなど複雑な工程を必要としない。また基板片面の工程で製造できるため、基板両面マスク合わせ露光、両面エッチングなど特殊な製造装置を必要としない。したがって、加速度スイッチ101は、従来の加速度スイッチの製造に比して、容易に製造することができる。よって、安価な加速度スイッチを提供することができる。
実施の形態2.
本発明の実施の形態2における加速度スイッチについて、図7及び図8を用いて説明する。図8は、図7に示す実施形態2の加速度スイッチ102のA−A部における断面図である。尚、枠8及び上面基板10は、図示を省略している。又、図7では、検出フレーム52及び面外変位フレーム53部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。
本発明の実施の形態2における加速度スイッチについて、図7及び図8を用いて説明する。図8は、図7に示す実施形態2の加速度スイッチ102のA−A部における断面図である。尚、枠8及び上面基板10は、図示を省略している。又、図7では、検出フレーム52及び面外変位フレーム53部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。
上述の実施形態1の加速度スイッチ101では、面外変位フレーム3の内側に検出フレーム2を配置しているが、本実施形態2の加速度スイッチ102では、検出フレーム52の内側に面外変位フレーム53を配置している点が相違する。ここで検出フレーム52は、実施形態1の検出フレーム2に相当する部分であり、面外変位フレーム53は、実施形態1の面外変位フレーム3に相当する部分である。その他の構成については、変わる部分はない。よって、同様の機能を果たす構成部分については、同じ符号を付し、ここでの説明は省略する。
面外変位フレーム53は、例えば正方形状でその中央部に空間を有し、当該加速度スイッチ102に作用する加速度により上記面外方向に変位する部材である。面外変位フレーム53は、下面基板9に立設したアンカー54を上記空間の中央に配置し、アンカー54を中心にX軸方向及びY軸方向に沿って延びる支持梁16X、16Yにて、下面基板9の上方にて下面基板9に支持される。又、実施形態1の場合と同様に、Y軸方向に延びる支持梁16Yに対してX軸方向にずらした位置に、面外変位フレーム53の側面からY軸方向に延びるリンク梁5が形成されている。該リンク梁5は、検出フレーム52に接続される。
検出フレーム52は、例えば正方形状でその中央部に空間を有し、該空間に面外変位フレーム53を配置している。又、アンカー54とY軸方向に同軸上で、面外変位フレーム53を挟んだ下面基板9の2箇所には、アンカー51a、51bが立設される。アンカー51a、51bには、一端がアンカー51a、51bに接続され、Y軸方向に延び、他端を検出フレーム52に接続したネジリ梁4a,4bが設けられる。よって、検出フレーム52は、ネジリ梁4a,4b、及びアンカー51a、51bにて、下面基板9の上方にて下面基板9に支持される。
上述した、面外変位フレーム53及び検出フレーム52の構成において、加速度の作用による面外変位フレーム53の変位により、検出フレーム52は、ネジリ梁4a,4bを中心にネジリ梁4a,4bの軸周り方向に回転可能である。
尚、実施形態1の場合と同様に、面外変位フレーム53に対向する下面基板9の部分には、アクチュエーション電極7が配置され、検出フレーム52に対向する下面基板9の部分には、検出コンタクト電極6及び感度調整電極14が配置される。
以上のように構成される実施形態2の加速度スイッチ102においても、図8に示すように、加速度の作用により面外変位フレーム53が矢印31a方向に変位し、それに伴い、検出フレーム52がネジリ梁4a,4bを中心にネジリ梁4a,4bの軸周りに矢印32aの方向に回転する。そして、検出フレーム52が検出コンタクト電極6に接触することで、加速度が検出される。
実施形態2の加速度スイッチ102では、面外変位フレーム53の周囲に検出フレーム52を配置したことで、面外変位フレーム53の変位に対する検出フレーム52の回転変位効率を高めることができ、加速度スイッチの構成を小型化することができる。
実施の形態3.
図9を参照して、本発明の実施の形態3における加速度スイッチ103について説明する。実施の形態3における加速度スイッチ103は、実施形態1の加速度スイッチ101の構成と基本的に同じ構成を有する。よって、実施形態1と相違する構成部分についてのみ、以下に説明する。
図9を参照して、本発明の実施の形態3における加速度スイッチ103について説明する。実施の形態3における加速度スイッチ103は、実施形態1の加速度スイッチ101の構成と基本的に同じ構成を有する。よって、実施形態1と相違する構成部分についてのみ、以下に説明する。
検出コンタクト電極6は、下面基板9ではなく、上面基板10の検出フレーム2が対向する箇所に形成される。又、検出コンタクト電極6の材料は、金などの低抵抗金属とする。尚、図9では、検出コンタクト電極6の厚みを誇張気味に図示している。又、検出コンタクト電極6と接触する検出フレーム2上にもコンタクト金属膜17を形成する。コンタクト金属膜17も検出コンタクト電極6と同じく金などの低抵抗金属とする。尚、コンタクト金属膜17は、低抵抗電極の一例に相当する。
このような加速度スイッチ103によれば、加速度を検出するときのスイッチ接触抵抗を低抵抗とすることができ、加速度スイッチの動作信頼性を高めることができる。又、検出コンタクト電極6及びコンタクト金属膜17の膜厚は、容易に変更できる。よって、膜厚を増減させることにより、検出する加速度の閾値、及び、検出フレーム2が検出コンタクト電極6に接触している接触保持時間を容易に調整することができる。
尚、図9に示す加速度スイッチ103では、アクチュエーション電極7及び感度調整電極14は、下面基板9に形成しているが、検出コンタクト電極6と同様に、上面基板10に形成してもよい。尚、アクチュエーション電極7をチャタリング防止機能として用いる場合には、上面基板10上に形成する。
尚、図9に示す加速度スイッチ103では、アクチュエーション電極7及び感度調整電極14は、下面基板9に形成しているが、検出コンタクト電極6と同様に、上面基板10に形成してもよい。尚、アクチュエーション電極7をチャタリング防止機能として用いる場合には、上面基板10上に形成する。
又、本実施形態の構成では、上面基板10と検出フレーム2及び面外変位フレーム3との距離を、下面基板9と検出フレーム2及び面外変位フレーム3との距離に同程度とすることができる。そのため下面基板9と可動構造体との間のスクイズダンピング効果に加え、上面基板10と可動構造体との間のスクイズダンピング効果が加わり、ON保持時間を長く保てる利点を有する。
実施の形態4.
図10を参照して、本発明の実施の形態4における加速度スイッチ104について説明する。実施の形態4における加速度スイッチ104は、実施形態1の加速度スイッチ101の構成と基本的に同じ構成を有する。よって、実施形態1と相違する構成部分についてのみ、以下に説明する。
図10を参照して、本発明の実施の形態4における加速度スイッチ104について説明する。実施の形態4における加速度スイッチ104は、実施形態1の加速度スイッチ101の構成と基本的に同じ構成を有する。よって、実施形態1と相違する構成部分についてのみ、以下に説明する。
実施形態4では、検出コンタクト電極6に相当する検出コンタクト電極61を設け、かつ上述の実施形態3の場合と同様に、上面基板10に形成する。このような検出コンタクト電極61は、検出フレーム2との接触により弾性変形可能な弾性構造を有し、検出フレーム2との接触面積がより増すような構造を有する。一例として、検出コンタクト電極61は、図示するような中空の枠体にて形成されたバネ構造であり、その他、上述の、検出フレーム2との接触面積を増加させるという目的のために当業者が容易想到である構造を採ることができる。又、検出フレーム2にも、上述の実施形態3の場合と同様に、コンタクト金属膜17を形成するのが好ましい。
このように構成される実施の形態4の加速度スイッチ104によれば、以下のような効果が得られる。即ち、検出フレーム2は、ネジレ梁4を中心に揺動するが、製造時の誤差などで、検出フレーム2の左右端の一方のみにて検出コンタクト電極6と接触するような片当たりの現象が発生するときがある。このような場合においても、加速度スイッチ104によれば、検出コンタクト電極61が弾性変形することから、確実に、検出フレーム2と検出コンタクト電極61とを接触させることができる。さらに、接触面積が増加させることができ、接触抵抗を低抵抗とすることができる。これらのことから、加速度スイッチの動作信頼性を高めることができる。
尚、図10では、上面基板10上に検出コンタクト電極61を形成しているが、下面基板9に検出コンタクト電極61を形成しても構わない。
尚、図10では、上面基板10上に検出コンタクト電極61を形成しているが、下面基板9に検出コンタクト電極61を形成しても構わない。
実施の形態5
図11を参照して、本発明の実施の形態5における加速度スイッチ105について説明する。図11は加速度スイッチ105の平面図である。又、図11では、検出フレーム72及び面外変位フレーム73を含む部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。尚、加速度スイッチ105の基本的な構成は、上述の実施形態1における加速度スイッチ101の構成に同じであり、同一又は同様の機能を有する構成部分については、同じ符号を付し、ここでの説明は省略する。よって、以下では相違する構成部分についてのみ説明を行う。
図11を参照して、本発明の実施の形態5における加速度スイッチ105について説明する。図11は加速度スイッチ105の平面図である。又、図11では、検出フレーム72及び面外変位フレーム73を含む部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。尚、加速度スイッチ105の基本的な構成は、上述の実施形態1における加速度スイッチ101の構成に同じであり、同一又は同様の機能を有する構成部分については、同じ符号を付し、ここでの説明は省略する。よって、以下では相違する構成部分についてのみ説明を行う。
実施形態1の加速度スイッチ101では、検出フレーム2を一つしか設けていない。よって、加速度の検出レベルつまり検出の閾値を変化、又は調整する手段の一つとして、上述のように感度調整電極14を設けている。これに対し、本実施形態5の加速度スイッチ105では、複数の検出フレームを設け、検出フレーム毎に異なる加速度検出レベルを有するように構成した。これに伴い、本実施形態5の加速度スイッチ105では、感度調整電極14は省略することもできるが、ここでは、より細かな加速度検出レベルが設定可能なように、感度調整電極14は、それぞれの検出フレームに対向して設けている。尚、図11では、アクチュエーション電極7、感度調整電極14、及び枠8の図示を省略している。
又、本実施形態では、図示するように、4つの検出フレームを設けるが、検出フレームの数は、複数であり、4つに限定するものではない。又、本実施形態では、図示するように、4つの検出フレームを格子状に配列しているが、配置方法も図示のものに限定するものではない。要するに、加速度を検出する閾値をそれぞれ異ならせ、それぞれの加速度をより精度良く検出可能なように、検出フレームの数、配置を設定すればよい。
本実施形態5の加速度スイッチ105の構成を具体的に説明する。
面外変位フレーム3に相当し面外変位フレーム3と同様に機能する面外変位フレーム73は、例えば正方形状にてなり、その中央部にて、Y軸方向において一対の空間73a,73bを有する。空間73aには、X軸方向に沿って、同一構成を有する検出フレーム72−1、72−2が配置され、空間73bには、X軸方向にそって、同一構成を有する検出フレーム72−3、72−4が配置される。又、検出フレーム72−1、72−3は、Y軸方向に同軸上に位置し、検出フレーム72−2、72−4は、Y軸方向に同軸上に位置する。尚、検出フレーム72−1〜72−4は、上述の検出フレーム2に相当するもので、アンカー1及びネジレ梁4の構成も含めて検出フレーム2と同一の構造及び機能を有する。
面外変位フレーム3に相当し面外変位フレーム3と同様に機能する面外変位フレーム73は、例えば正方形状にてなり、その中央部にて、Y軸方向において一対の空間73a,73bを有する。空間73aには、X軸方向に沿って、同一構成を有する検出フレーム72−1、72−2が配置され、空間73bには、X軸方向にそって、同一構成を有する検出フレーム72−3、72−4が配置される。又、検出フレーム72−1、72−3は、Y軸方向に同軸上に位置し、検出フレーム72−2、72−4は、Y軸方向に同軸上に位置する。尚、検出フレーム72−1〜72−4は、上述の検出フレーム2に相当するもので、アンカー1及びネジレ梁4の構成も含めて検出フレーム2と同一の構造及び機能を有する。
又、検出フレーム72−1〜72−4では、X軸方向におけるネジレ梁4とリンク梁5との距離eがそれぞれ異なっている。即ち、検出フレーム72−1では距離e1に、検出フレーム72−2では距離e2に、検出フレーム72−3では距離e3に、検出フレーム72−4では距離e4に、それぞれ設定されている。ここで、距離e1が最も長く、順次、短くなり、距離e4が最も短い。このように距離eを変化させることで、一つの面外変位フレーム73が面外方向に変位したとき、それぞれの検出フレーム72−1〜72−4における回転変位量が異なる。よって、一つの面外変位フレーム73により駆動される各検出フレーム72−1〜72−4において、検出コンタクト電極6と接触する加速度の閾値がそれぞれ異なることになる。よって、本実施形態の加速度スイッチ105では、一つの加速度スイッチにて、複数の異なる加速度強さを検出することができる。
又、上述のように、距離eを異ならせることで複数の異なる加速度強さを検出するように構成したが、ネジレ梁5の剛性を異ならせることで複数の異なる加速度強さを検出するように構成してもよい。即ち、距離e及び上記剛性の少なくとも一つを調整することで、複数の異なる加速度強さを検出するように構成することができる。
実施の形態6
図12、及び図13A〜図13Dを参照して、本発明の実施の形態6における加速度スイッチ106について説明する。図12は加速度スイッチ106の平面図であり、図13は図12のA−A部における断面図である。又、図12及び図13において、枠8、上面基板10、アクチュエーション電極7、及び感度調整電極14の図示は、省略している。又、図12では、検出フレーム2A〜2C、及び面外変位フレーム83を含む部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。尚、加速度スイッチ106の基本的な構成は、上述の実施形態1における加速度スイッチ101の構成に同じであり、同一又は同様の機能を有する構成部分については、同じ符号を付し、ここでの説明は省略する。よって、以下では相違する構成部分についてのみ説明を行う。
図12、及び図13A〜図13Dを参照して、本発明の実施の形態6における加速度スイッチ106について説明する。図12は加速度スイッチ106の平面図であり、図13は図12のA−A部における断面図である。又、図12及び図13において、枠8、上面基板10、アクチュエーション電極7、及び感度調整電極14の図示は、省略している。又、図12では、検出フレーム2A〜2C、及び面外変位フレーム83を含む部分には、ハッチングを施しているが、これは図示の明瞭化のためであり、断面を示すものではない。尚、加速度スイッチ106の基本的な構成は、上述の実施形態1における加速度スイッチ101の構成に同じであり、同一又は同様の機能を有する構成部分については、同じ符号を付し、ここでの説明は省略する。よって、以下では相違する構成部分についてのみ説明を行う。
本実施形態の加速度スイッチ106では、検出フレーム82Aは、Y軸方向に延びるネジレ梁5に直交する直交方向に相当するX軸方向に沿って、当該検出フレーム82Aの両側に連結部材18を介して連結される複数の副検出フレーム82B、82Cを有する。ここで、検出フレーム82Aは、上述した検出フレーム2に相当する部材であり、検出フレーム2と同様の構成及び機能を有する。本実施形態では、副検出フレーム82B、82Cは、同じ形状にてなるが、異ならせても良い。又、本実施形態では、検出フレーム82AのX軸方向における両端にて、それぞれ2つずつ、副検出フレーム82B、82Cを連結しているが、副検出フレームの数は、2つに限定するものではない。又、検出する加速度に対応して、検出フレーム82AのX軸方向における両端にて、連結する副検出フレームの数を異ならせても良い。
上述の、検出フレーム82A、及び副検出フレーム82B、82Cは、リンク梁5を介して面外変位フレーム83に接続される。
上述の、検出フレーム82A、及び副検出フレーム82B、82Cは、リンク梁5を介して面外変位フレーム83に接続される。
連結部材18は、検出フレーム82Aのネジレ梁5の軸周り方向への回転に伴い、副検出フレーム82B、82Cも検出フレーム82Aとともに同方向に回転させ、かつ検出フレーム82Aに対して副検出フレーム82B、82Cをそれぞれ独立して変位可能とする部材である。又、連結部材18は、検出フレーム82Aと副検出フレーム82Bとの間、副検出フレーム82Bと副検出フレーム82Cとの間を、連結方向であるX軸方向に伸縮可能に連結する。連結部材18の一例として、図12に示すような、折り曲げバネの形状である。勿論、その形状は、図示するものに限定されない。又、本実施形態では、図示するように、検出フレーム82A、副検出フレーム82B、82Cにおいて、Y軸方向の両端部分に連結部材18を設けているが、上述の機能を果たす限り、少なくとも一つの連結部材18にて連結を行っても良い。
検出フレーム82A、副検出フレーム82B、82CのX軸方向におけるそれぞれの端部に対向して、下面基板9には、検出コンタクト電極6A、及び副検出コンタクト電極6B、6Cが形成される。
以上のように構成された本実施形態の加速度スイッチ106における動作について、図13を用いて説明する。
図13Aは、当該加速度スイッチ106に加速度が作用していない状態を示している。検出フレーム82A、及び副検出フレーム82B、82C、並びに面外変位フレーム83は、下面基板9に平行又はほぼ平行に、下面基板9の上方に位置する。
図13Aは、当該加速度スイッチ106に加速度が作用していない状態を示している。検出フレーム82A、及び副検出フレーム82B、82C、並びに面外変位フレーム83は、下面基板9に平行又はほぼ平行に、下面基板9の上方に位置する。
図13Bにおいて、当該加速度スイッチ106に加速度が面外方向に加わると、面外変位フレーム83が面外方向、例えば矢印31a方向に変位する。これにより、第1閾値以上の加速度が作用したとき、最も外側に配置された副検出フレーム82Cが副検出コンタクト電極6Cと接触する。
加速度がさらに増し、第2閾値以上の加速度が作用したときには、図13Cに示すように、副検出フレーム82Cと副検出フレーム82Bとを連結している連結部材18が折れ曲がり、副検出フレーム82Cよりも内側に配置されている副検出フレーム82Bが副検出コンタクト電極6Bと接触する。
加速度がさらに増し、第3閾値以上の加速度が作用したときには、図13Dに示すように、副検出フレーム82Bと検出フレーム82Aとを連結している連結部材18が折れ曲がり、副検出フレーム8Bよりも内側に配置されている検出フレーム82Aが検出コンタクト電極6Aと接触する。
このように、本実施形態の加速度スイッチ106では、一つの加速度スイッチにて、複数の異なる加速度を検出することが可能となる。
尚、上述した各実施形態における構成を任意に組み合わせた構成を有する加速度スイッチを構成することもできる。
1 アンカー、2 検出フレーム、3 面外変位フレーム、4 ネジレ梁、
5 リンク梁、6 検出コンタクト電極、6B、6C 副検出コンタクト電極、
7 アクチュエーション電極、8 枠、9 下面基板、10 上面基板、
11 配線、12 電極パッド、13 絶縁膜、
14 感度調整電極、16X、16Y 支持梁、17 コンタクト金属膜、
18 連結部材、82B、82C 副検出フレーム、
101〜106 加速度スイッチ。
5 リンク梁、6 検出コンタクト電極、6B、6C 副検出コンタクト電極、
7 アクチュエーション電極、8 枠、9 下面基板、10 上面基板、
11 配線、12 電極パッド、13 絶縁膜、
14 感度調整電極、16X、16Y 支持梁、17 コンタクト金属膜、
18 連結部材、82B、82C 副検出フレーム、
101〜106 加速度スイッチ。
Claims (9)
- 第1基板と、
上記第1基板に立設されたアンカー部に支持されたネジレ梁にて支持されて上記ネジレ梁の軸周りに回転し、枠状で上記アンカー部を中央部に配置した検出フレームと、
リンク梁にて上記検出フレームに接続され、当該加速度スイッチの面外方向に作用する加速度にて変位して上記検出フレームを回転させ、上記検出フレームと同一厚にて形成される枠状の面外変位フレームと、
上記検出フレーム及び上記面外変位フレームが配置される空間を介して上記第1基板に対向して配置される第2基板と、
上記検出フレームに対向して上記第1基板又は上記第2基板に設けられ、上記加速度による面外変位フレームの変位により回転した上記検出フレームが閾値以上の加速度にて接触する検出コンタクト電極と、
を備えたことを特徴とする加速度スイッチ。 - 上記検出フレームを内側に、上記面外変位フレームを上記検出フレームの外側に配置した、請求項1記載の加速度スイッチ。
- 上記面外変位フレームを内側に、上記検出フレームを上記面外変位フレームの外側に配置した、請求項1記載の加速度スイッチ。
- 上記検出フレームは複数個設けられ、それぞれの検出フレームに対応して上記検出コンタクト電極は複数個設けられ、上記リンク梁の位置及び上記ネジレ梁の剛性の少なくとも一方が調整されてそれぞれの検出フレームは互いに異なる加速度にて対応の検出コンタクト電極に接触する、請求項1又は2記載の加速度スイッチ。
- 上記検出フレームは、上記ネジレ梁の延在方向に直交する直交方向に沿って当該検出フレームの両側に連結部材を介して連結される複数の副検出フレームを有し、
上記副検出フレームに対向し、かつ上記検出コンタクト電極が形成されている上記第1基板又は上記第2基板に設けられ、上記検出フレームが上記検出コンタクト電極に接触する上記閾値未満の加速度にて上記副検出フレームが接触する副検出コンタクト電極をさらに備える、請求項1から4のいずれか1項に記載の加速度スイッチ。 - 上記検出フレームは、上記検出コンタクト電極と接触する部分に金電極を備え、上記検出コンタクト電極は、金にて形成される、請求項1から5のいずれか1項に記載の加速度スイッチ。
- 上記検出コンタクト電極は、上記検出フレームとの接触により変形する弾性構造を有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の加速度スイッチ。
- 上記面外変位フレームに対向して上記第1基板又は上記第2基板に設けられ、上記検出フレームと上記検出コンタクト電極とを強制的に接触させるために上記面外変位フレームとの間で電圧が印加され、上記面外変位フレームを強制的に変位させるアクチュエーション電極をさらに備えた、請求項1から7のいずれか1項に記載の加速度スイッチ。
- 上記検出フレームに対向して上記第1基板又は上記第2基板に設けられ、上記検出フレームとの間で電圧が印加され、上記検出フレームに対して静電力を作用させて上記検出フレームが上記検出コンタクト電極に接触する加速度を調整する感度調整電極をさらに備えた、請求項1から8のいずれか1項に記載の加速度スイッチ。
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Cited By (2)
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WO2010056435A2 (en) * | 2008-10-30 | 2010-05-20 | Freescale Semiconductor Inc. | Transducer with decoupled sensing in mutually orthogonal directions |
JP2012002560A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Denso Corp | 力学量センサ |
-
2007
- 2007-04-09 JP JP2007101386A patent/JP2008258087A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010056435A2 (en) * | 2008-10-30 | 2010-05-20 | Freescale Semiconductor Inc. | Transducer with decoupled sensing in mutually orthogonal directions |
WO2010056435A3 (en) * | 2008-10-30 | 2010-07-08 | Freescale Semiconductor Inc. | Transducer with decoupled sensing in mutually orthogonal directions |
US8020443B2 (en) | 2008-10-30 | 2011-09-20 | Freescale Semiconductor, Inc. | Transducer with decoupled sensing in mutually orthogonal directions |
TWI494263B (zh) * | 2008-10-30 | 2015-08-01 | Freescale Semiconductor Inc | 具有互相正交方向中解偶感測之傳感器 |
JP2012002560A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Denso Corp | 力学量センサ |
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