JP2008256803A - 液晶表示パネル及び液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】良好な反射表示特性を得ることができるとともに、着色層の材料やフォトマスクを変更することなく反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度を調整することが可能なカラーフィルタ基板を備える液晶表示パネル、及び、上記液晶表示パネルを備える液晶表示装置を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ基板、対向基板、及び、上記カラーフィルタ基板と上記対向基板とに挟持された液晶層を備え、かつ反射表示領域を有する液晶表示パネルであって、上記カラーフィルタ基板は、基板上に着色層を備え、かつ上記着色層の厚さよりも浅い深さの領域を有する凹部が反射表示領域内に設けられたものであり、上記凹部が形成された領域と凹部が形成されていない反射表示領域とで液晶層側の面に段差を有する液晶表示パネルである。
【選択図】図5
【解決手段】カラーフィルタ基板、対向基板、及び、上記カラーフィルタ基板と上記対向基板とに挟持された液晶層を備え、かつ反射表示領域を有する液晶表示パネルであって、上記カラーフィルタ基板は、基板上に着色層を備え、かつ上記着色層の厚さよりも浅い深さの領域を有する凹部が反射表示領域内に設けられたものであり、上記凹部が形成された領域と凹部が形成されていない反射表示領域とで液晶層側の面に段差を有する液晶表示パネルである。
【選択図】図5
Description
本発明は、液晶表示パネル及び液晶表示装置に関する。より詳しくは、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置等の反射表示を行う液晶表示装置に用いられる液晶表示パネル及び液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、薄型かつ低消費電力の表示装置であるため、パーソナルコンピュータ等のOA機器、電子手帳や携帯電話機等の携帯情報端末機器、カメラ一体型VTRのモニタ等の製品に広く用いられている。このような液晶表示装置には、画素電極に透明導電性薄膜等からなる透過電極を用いて表示を行う方式の透過型液晶表示装置、画素電極に反射率の高い金属等からなる反射層を用いる方式や、画素電極に透過電極を用い、透過電極の下層に配置された反射層を用いて反射表示を行う方式等による反射型液晶表示装置が知られている。
透過型液晶表示装置は、バックライトで照明して表示を行うため、高輝度及び高コントラスト比の表示を行うことができるが、消費電力が大きくなる。一方、反射型液晶表示装置は、周囲の光を反射して表示を行うため、バックライトを使用する場合と比較して、消費電力を小さくできるが、周囲の明るさによってコントラスト比が低下する。そこで、透過型と反射型との両方の特性を併せ持つ半透過型液晶表示装置も実用化されている。
反射型液晶表示装置及び半透過型液晶表示装置は、反射表示が可能であり、屋外で使用される機会の多い携帯情報端末機器等で多く利用される。これらの液晶表示装置は、屋外で良好な表示特性を得るために、高い輝度で反射表示を行うことが求められている。
半透過型液晶表示装置では、反射表示に使用される反射表示領域と、透過表示に使用される透過表示領域との2種類の表示領域が形成されている。そして、透過表示領域では、バックライトから照射された光が、カラーフィルタ(以下、「着色層」ともいう。)を1回だけ透過して外部に出射される。一方、反射表示領域では、カラーフィルタを透過した周囲の光が反射層で反射し、再びカラーフィルタを透過して外部に出射される。このように、透過表示領域と反射表示領域とでは、表示に係る光がカラーフィルタを透過する回数が異なる。このため、反射表示領域では透過表示領域よりもカラーフィルタによる輝度の低下が大きい。
高輝度で反射表示を行うことが可能な液晶表示装置を実現する手段として、反射表示領域に配置されたカラーフィルタに開口領域を形成し、反射表示領域の反射率を向上させる方法が開示されている(例えば、特許文献1及び2参照。)。特許文献1では、図21に示すように、反射表示領域Rの着色層103に開口領域を形成し、反射表示領域R内の着色層103が配置された領域と開口領域との間にできた段差をオーバーコート層108で平坦化することによって、液晶表示パネルを作製したときの反射表示領域Rの液晶層厚を均一にしている。また、反射表示領域R内に着色層103の下に下地層102を設け、反射表示領域Rの着色層103を透過表示領域Tの着色層103よりも薄く形成している。反射表示領域R内の着色層103を薄くすることにより、反射表示領域Rの反射率を向上させている。以上のように、反射表示領域内に、開口領域を形成することにより、高い輝度で反射表示を行う液晶表示装置を得ることができる。
しかしながら、これらの方法では、反射表示領域の反射率や反射表示光の色度を調整するために、反射表示領域に形成した開口領域の面積を変更する必要があり、その度に、着色層を形成するためのパターニング用フォトマスクを作り直す必要がある。そのため、コスト削減や製造工程の簡略化等の観点から工夫の余地があった。
特開2004−20779号公報
特開2000−111902号公報
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、良好な反射表示特性を得ることができるとともに、着色層の材料やフォトマスクを変更することなく反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度を調整することが可能なカラーフィルタ基板を備える液晶表示パネル、及び、上記液晶表示パネルを備える液晶表示装置を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、反射表示領域の反射率を向上させるとともに、反射表示光の色度等を調整する方法について種々検討したところ、液晶層厚を変化させて、反射表示領域の透過分光特性を調整する方法に着目した。そして、カラーフィルタ基板が、基板上に着色層を備え、かつ上記着色層の厚さよりも浅い深さの領域を有する凹部が反射表示領域内に設けられたものであり、上記凹部が形成された領域と凹部が形成されていない反射表示領域とで液晶層側の面に段差を有することにより、液晶表示パネルの反射表示領域内の液晶層厚を調整できるため、液晶の透過分光特性を調整し、反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度を調整することができることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は、カラーフィルタ基板、対向基板、及び、上記カラーフィルタ基板と上記対向基板とに挟持された液晶層を備え、かつ反射表示領域を有する液晶表示パネルであって、上記カラーフィルタ基板は、基板上に着色層を備え、かつ上記着色層の厚さよりも浅い深さの領域を有する凹部が反射表示領域内に設けられたものであり、上記凹部が形成された領域と凹部が形成されていない反射表示領域とで液晶層側の面に段差を有する液晶表示パネルである。
以下に本発明を詳述する。
以下に本発明を詳述する。
本発明の液晶表示パネルは、カラーフィルタ基板、対向基板、及び、上記カラーフィルタ基板と上記対向基板とに挟持された液晶層を備え、かつ反射表示領域を有する。上記液晶表示パネルは、反射型、半透過型等の反射表示領域を有する液晶表示装置等に用いられるが、反射表示の色度を微調整することが可能なことから、透過表示領域と反射表示領域との両方を有する半透過型液晶表示装置に特に好適である。なお、本発明の反射型の液晶表示装置には、フロントライトからの光を反射して表示を行う反射型液晶表示装置も含まれる。ここで、「反射表示領域」とは、カラーフィルタ基板又は対向基板に反射層が備えられ、周囲からの光を反射することにより表示を行う領域のことである。
上記対向基板は、カラーフィルタ基板に対向する基板であれば、特に限定されないが、薄膜トランジスタ(TFT)等のスイッチング素子を有するアクティブマトリクス基板であることが好ましい。対向基板が、反射層を有するアクティブマトリクス基板である場合には、開口率を向上させる観点から、反射層がスイッチング素子の上層に配置されることが好ましい。反射層の材質としては、アルミニウム、銀等の反射率の高い金属等が挙げられる。
上記カラーフィルタ基板は、基板上に着色層を備え、かつ上記着色層の厚さよりも浅い深さの領域を有する凹部が反射表示領域内に設けられたものである。ここで「凹部」とは、着色層に設けられる窪みであり、着色層を貫通するものではない。凹部の基板側には、着色層があってもよいし、なくてもよい。また、凹部の基板側には、凹部の深さを調整する層が配置されていてもよいし、配置されていなくてもよい。すなわち、凹部の形態としては次の三つの形態が挙げられる。
(1)凹部の基板側に、着色層は存在せず、かつ凹部の深さを調整する層が配置されている形態(例えば、図5参照。)
(2)凹部の基板側に、着色層が存在し、かつ凹部の深さを調整する層が配置されていない形態(例えば、図14参照。)
(3)凹部の基板側に、着色層が存在し、かつ凹部の深さを調整する層が配置されている形態(例えば、図15参照。)
なお、凹部の底面が凹凸形状を有している場合、凹部は、最も浅い部分の深さが着色層の厚さよりも浅ければよい。
(1)凹部の基板側に、着色層は存在せず、かつ凹部の深さを調整する層が配置されている形態(例えば、図5参照。)
(2)凹部の基板側に、着色層が存在し、かつ凹部の深さを調整する層が配置されていない形態(例えば、図14参照。)
(3)凹部の基板側に、着色層が存在し、かつ凹部の深さを調整する層が配置されている形態(例えば、図15参照。)
なお、凹部の底面が凹凸形状を有している場合、凹部は、最も浅い部分の深さが着色層の厚さよりも浅ければよい。
上記凹部の深さは、コントラスト比の低下を防ぐ観点から、1.0μm以下であることが好ましく、0.6μm以下であることがより好ましい。なお、凹部の底面が凹凸形状を有している場合には、最も深い部分の深さが1.0μm以下であることが好ましく、0.6μm以下であることがより好ましい。上記凹部が形成される領域は、反射表示領域の中心でもよいし端でもよく、特に限定されるものではない。上記凹部の平面形状は、特に限定されないが、液晶配向の偏りをなくす観点からは、角のとれた四辺形又は円形であることが好ましい。凹部が設けられる領域は、凹部が形成されていない領域の着色層よりも薄い着色層が配置されている、又は、着色層が形成されていないため、着色層による輝度の低下が小さくなる。そのため、上記カラーフィルタ基板は、液晶表示パネルの反射表示領域の反射率を高めることができる。
上記カラーフィルタ基板は、上記凹部が形成された領域と凹部が形成されていない反射表示領域とで液晶層側の面に段差を有する。段差は、凹部の形状を反映して形成される。段差の大きさは、コントラスト比の低下を防ぐ観点からは、0.6μm以下であることが好ましい。段差が大きくなりすぎると、段差部で生じる光漏れが大きくなり、コントラスト比の低下を引き起こすおそれがある。段差の形状は、凹部の形状を変化させることによって制御することができる。カラーフィルタ基板が有する段差を調整することにより、凹部が形成される領域の液晶層厚を調整することができる。このため、液晶の透過分光特性を調整することができ、反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度を調節することができる。また、凹部が形成される領域に着色層がある場合は、着色層の層厚を調整することによっても、反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度を調整することができる。以上に示すように、本発明の液晶表示パネルは、反射表示領域内において、凹部が形成された領域と凹部が形成されていない領域とで、液晶層の厚みが異なり、凹部を形成するときに使用する露光用マスクの変更、及び、着色層材料の変更等を行うことなく、凹部の深さを調整するだけで、反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度を調整することができ、コスト削減も図ることができる。
また、上記液晶表示パネルは、半透過型液晶表示装置に用いられる場合には、透過表示領域の液晶層厚の1/2が、反射表示領域内の凹部が形成された領域の液晶層厚より小さく、反射表示領域内の凹部が形成されていない領域の液晶層厚より大きいことが好ましい。これによれば、透過表示領域と反射表示領域とで液晶層を透過する光の光路長を揃えることができるため、より効率よく表示を行うことができる。また、半透過型液晶表示装置に用いられる場合、所望の表示特性を得るために着色層の層厚を変化させるが、反射表示領域と透過表示領域との色度を近くすることと反射表示領域の反射率を向上させることとを両立させる観点からは、反射表示領域の着色層の層厚が、透過表示領域の着色層の層厚の、0.25〜0.50倍で形成することが好ましい。また、製造工程削減の観点からは、透過表示領域の着色層及び反射表示領域の着色層は、同一の材料を使用し、同一の工程で形成することが好ましいが、透過表示領域の着色層と反射表示領域の着色層とは異なる材料で形成してもよい。その場合、透過表示領域の着色層と反射表示領域の着色層との層厚を個別に設定することができるため、液晶表示装置の表示品位の調整を容易に行うことができる。
以下に、本発明の好ましい形態について説明する。
以下に、本発明の好ましい形態について説明する。
上記凹部は、着色層に形成された穴部内に透明層が設けられたものである。穴部は、着色層を貫通していてもよいし、貫通していなくてもよい。透明層は、穴部が形成される領域の全面に配置されていてもよいし、部分的に配置されていてもよい。透明層は、光透過率が98%以上の透明材料から構成されていることが好ましく、無色透明でも有色透明でもよいが、反射表示領域の反射率を高める観点からは、無色透明であることが好ましく、無色透明の感光性樹脂から形成されることがより好ましい。透明層を備えることによって、透明層の層厚を変化させるだけで、着色層等の層厚を変化させることなくカラーフィルタ基板に設けられる段差を調整することができ、液晶層厚、着色層の層厚等を独立して制御することができる。そのため、より細かく反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度、また、液晶層厚の変化による透過分光特性を調整することができ、表示品位を向上させることができ。透明層の層厚は特に限定されず、反射表示領域の着色層の層厚よりも薄く形成すればよい。また、透明層に微小の着色を行うことで、色度の調整を行うこともできる。
上記穴部は、着色層を貫通することが好ましい。穴部が着色層を貫通することによって、穴部が形成されている領域に着色層が配置されていないため、より反射表示領域の反射率が高い液晶表示パネルを形成することができる。また、穴部と穴部以外の反射表示領域とで、着色層の厚さが異なる領域を形成する場合には、穴部が形成されている領域に配置された着色層を別工程で形成する方法と、ハーフトーンマスク等を用いて、穴部の着色層の膜厚を薄く形成する方法とがある。前者の方法では、製造工程数が増加する。また、後者の方法では、穴部の深さを安定して制御することが困難な場合がある。そのため、生産性向上の観点や液晶表示パネルの品質向上の観点から、穴部は貫通して形成されることが好ましい。
上記カラーフィルタ基板は、反射表示領域の着色層に覆われた下地層を有することが好ましい。この場合において、反射表示領域の着色層は、下地層よりも液晶層側に位置する。着色層の形成に、スピンコート法等の方法を用いる場合には、下地層を設けることで、下地層を覆って配置された反射表示領域の着色層の層厚を薄くすることができる。このため、下地層が設けられた領域の反射表示領域の反射率はより向上する。また、下地層を形成することによって、液晶層厚を制御し、液晶層による透過分光特性を調整することができる。下地層の層厚は、所望の着色層の層厚や液晶層厚により決定されるが、薄型化及び透過率向上の観点からは薄く形成されることが好ましく、1.0〜5.0μmで形成されることが好ましい。また、下地層は、光透過性の高い、絶縁性の感光性透明樹脂により形成されることが好ましく、感光性樹脂は無色透明であることがより好ましい。半透過型液晶表示装置に用いる場合には、反射表示領域の液晶層厚は、透過表示領域の液晶層厚の略1/2にすることが好ましいため、反射表示領域内に下地層を設けることにより、反射表示領域の液晶層厚を制御することができ、対向基板に、透過表示領域と反射表示領域との液晶層を透過する光の光路長を揃えるための層を形成する必要がなくなる。なお、下地層は、着色層に液晶層側の全面を覆われている必要はなく、着色層を貫通した穴部が設けられている場合等には、着色層に覆われていない領域が存在してもよい。
本発明はまた、上記液晶表示パネルを備える液晶表示装置でもある。上記液晶表示装置は、上記カラーフィルタ基板の液晶層側の面に設けられる段差により、液晶層厚が調整された液晶表示パネルを備える。そのため、高い反射表示輝度を有し、かつ、液晶層の透過分光特性の調節を容易に行うことができる。また、着色材料の変更やフォトマスクの変更等を要することなく容易に、反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度等を調節することができるため、コスト削減や生産性の向上も実現される。
本発明の液晶表示パネル及び液晶表示装置によれば、カラーフィルタ基板に形成された凹部により、液晶層厚を調整して、液晶層の透過分光特性を調整することができる。これにより、反射表示領域の反射率及び反射表示光の色度が調整され、反射表示品位の向上した液晶表示パネル及び液晶表示装置を提供することができる。
以下に実施形態を掲げ、図面を参照して本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
(実施形態1)
本発明の実施の一形態である実施形態1について、図1〜13を用いて以下に説明する。
実施形態1に係る液晶表示装置は、半透過型液晶表示装置であって、反射表示領域と透過表示領域とが設けられている。
本発明の実施の一形態である実施形態1について、図1〜13を用いて以下に説明する。
実施形態1に係る液晶表示装置は、半透過型液晶表示装置であって、反射表示領域と透過表示領域とが設けられている。
まず、カラーフィルタ基板の構成について、図1及び2を用いて説明する。
図1は、実施形態1に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面模式図である。図2は、図1に示すカラーフィルタ基板を線分A−Bで切断したときの構成を示す断面模式図である。
図2に示すように、実施形態1のカラーフィルタ基板100は、硼ケイ酸ガラス等からなる透明基板101上の反射表示領域R内に、無色透明の感光性樹脂等からなる、下地層102が配置される。下地層102の層厚は、所望の着色層の層厚や液晶層厚により決定されるが、1.0〜5.0μmであることが好ましい。下地層102上には、赤、緑又は青の各色に対応する顔料を分散させた有色透明の感光性樹脂からなる着色層103が配置され、着色層103の反射表示領域R内には穴部が設けられる。着色層103の層厚は、所望の表示特性を得るために変化させるが、反射表示領域R内の層厚は0.1〜1.5μm、透過表示領域T内の層厚は1.0〜3.0μmであることが好ましい。また、本実施形態では、着色層103に赤、緑及び赤の三色を使用しているが、着色層の色はシアン、マゼンダ及びイエローの三色でもよいし、四色以上でもよく、特に限定されるものではない。穴部内には、無色透明の感光性樹脂からなる透明層104が配置されることにより、凹部109が形成される。その上から基板全面を覆うように透過電極106が設けられている。透明層104の層厚は、反射表示領域R内の着色層103の層厚よりも薄く設けられ、所望の反射表示領域Rの反射率及び反射表示光の色度を調整するために層厚を変化させるが、コントラスト比の低下を防ぐ観点からは、カラーフィルタ基板100に設けられる段差が、0.6μm以下になるように形成されることが好ましい。
図1は、実施形態1に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面模式図である。図2は、図1に示すカラーフィルタ基板を線分A−Bで切断したときの構成を示す断面模式図である。
図2に示すように、実施形態1のカラーフィルタ基板100は、硼ケイ酸ガラス等からなる透明基板101上の反射表示領域R内に、無色透明の感光性樹脂等からなる、下地層102が配置される。下地層102の層厚は、所望の着色層の層厚や液晶層厚により決定されるが、1.0〜5.0μmであることが好ましい。下地層102上には、赤、緑又は青の各色に対応する顔料を分散させた有色透明の感光性樹脂からなる着色層103が配置され、着色層103の反射表示領域R内には穴部が設けられる。着色層103の層厚は、所望の表示特性を得るために変化させるが、反射表示領域R内の層厚は0.1〜1.5μm、透過表示領域T内の層厚は1.0〜3.0μmであることが好ましい。また、本実施形態では、着色層103に赤、緑及び赤の三色を使用しているが、着色層の色はシアン、マゼンダ及びイエローの三色でもよいし、四色以上でもよく、特に限定されるものではない。穴部内には、無色透明の感光性樹脂からなる透明層104が配置されることにより、凹部109が形成される。その上から基板全面を覆うように透過電極106が設けられている。透明層104の層厚は、反射表示領域R内の着色層103の層厚よりも薄く設けられ、所望の反射表示領域Rの反射率及び反射表示光の色度を調整するために層厚を変化させるが、コントラスト比の低下を防ぐ観点からは、カラーフィルタ基板100に設けられる段差が、0.6μm以下になるように形成されることが好ましい。
また、図1に示すように、赤、緑及び青の各色に対応する着色層103の境界を形成するように、遮光層105が形成される。このとき、反射表示領域Rの下地層102上の、着色層103が存在しない穴部には、透明層104が形成される。下地層102、着色層103及び透明層104が配置された透明基板101上の全面には、透過電極106が形成され、その上には、液晶を配向させる配向膜(図示せず)が形成される。配向膜の上には、カラーフィルタ基板100と対向基板200とのギャップを支持するスペーサ層107が形成される。スペーサ層107は、安定に液晶層厚を制御するため、感光性樹脂等から形成されることが好ましい。なお、本実施形態では、感光性樹脂をパターニングしてスペーサとして用いたが、本発明はそれに限定されるものではなく、ビーズタイプのスペーサ等を使用してもよい。また、図1では、スペーサ層107は、着色層103との境界を形成する遮光層105上の反射表示領域Rに、設けられているが、本発明はそれに限定されるものではない。更に、本実施形態では、図1に示すように、透明層104が配置される領域は、カラーフィルタ基板100の反射表示領域Rの中心に設けられているが、本発明はこれに限定されるものでもない。例えば、図3−1及び図3−2は、カラーフィルタ基板100の平面模式図であるが、図3−1に示すように、透明層104bが設けられる領域が、反射表示領域R内の各着色層103の端部の片側に配置されていてもよいし、図3−2に示すように、透明層104cが設けられる領域が、反射表示領域R内の着色層103の端部の両側に配置されていてもよい。
次に、対向基板の構成について、図4を用いて説明する。
図4は、実施形態1に係る対向基板の構成を示す断面模式図である。
実施形態1に係る対向基板は、半透過型液晶表示装置に用いられる対向基板であって、反射表示領域と透過表示領域とが設けられ、反射表示領域には、周囲からの光を反射するための反射層が配置される。
図4は、実施形態1に係る対向基板の構成を示す断面模式図である。
実施形態1に係る対向基板は、半透過型液晶表示装置に用いられる対向基板であって、反射表示領域と透過表示領域とが設けられ、反射表示領域には、周囲からの光を反射するための反射層が配置される。
図4に示すように、実施形態1の対向基板200には、硼ケイ酸ガラス等からなる透明基板201上全体に、ベースコート膜202が形成されている。スイッチング素子となるTFTは以下の工程で形成されている。ベースコート膜202上に、ソース領域203Sとゲート領域203Gとドレイン領域203Dとを含む半導体層203が形成され、半導体層203が形成された透明基板201上に、ゲート絶縁膜204が形成され、その上には、ゲート電極205が形成されている。更に、ゲート電極205上には、第一絶縁膜206が基板全面に形成され、ゲート絶縁膜204及び第一絶縁膜206を貫通するコンタクトホールが形成され、ソース領域203Sとドレイン領域203Dとに接続されるように、ソース電極207S及びドレイン電極207Dが形成されている。以上の構成で本実施形態のTFTは構成されている。なお、本実施形態では、ソース電極207S及びドレイン電極207Dは、アルミニウム等の反射性を有する導電材料により形成されている。
第一絶縁膜206上には、ドレイン電極207Dの真上にコンタクトホールが設けられた第二絶縁膜208が形成されており、第二絶縁膜208上には各画素を区画するように画素電極211が形成される。画素電極211は、第二絶縁膜208に形成されたコンタクトホールを介して、ドレイン電極207Dと導通される。画素電極211上の反射表示領域Rには、TFT素子の上部を覆うように反射電極212が形成される。反射電極212は、反射性の高いアルミニウム、銀等の金属により形成されることが好ましく、反射電極の厚さは、100〜300nmで形成されることが好ましい。また、画素電極211上には液晶層301を配向させる配向膜(図示せず)が設けられることによって、対向基板200は完成する。なお以下では、対向基板200から画素電極211、反射電極212及び配向膜を除く、透明基板201上に第二絶縁膜208まで形成した基板をTFT基板210ともいうこととする。
反射電極212が、TFTに重畳する領域に形成されることによって、より開口率を向上させることができる。なお、反射電極212の下層に配置された第二絶縁膜208には、微細な凹凸部が形成されていることが好ましい。これにより、反射電極212に入射した光を所定の角度範囲に散乱反射させることができるため、周囲光を効率的に利用することができる。なお、本発明の液晶表示装置は、透過電極の下層に反射層を配置する構成の半透過型や反射型の液晶表示装置にも適用できるため、その場合、反射層は導電性を有していなくてもよい。
次に、実施形態1に係る液晶表示パネルの構成について説明する。図5に示すように、実施形態1に係る液晶表示パネルは、カラーフィルタ基板100と対向基板200とに挟持された液晶層301から構成される。表示領域内には、反射表示領域Rと透過表示領域Tとが設けられている。
透明基板101上に形成される下地層102には、カラーフィルタ基板100と対向基板200とを貼り合わせた際に反射表示領域Rの液晶層厚(dA及びdB)を制御する役割がある。また、下地層102によりカラーフィルタ基板100の反射表示領域Rが凸構造になるため、着色層103を形成する際に、透過表示領域Tの着色層103の層厚よりも反射表示領域Rの着色層103の層厚を薄くする効果があり、下地層102が厚いほど反射表示領域Rの着色層103を薄くすることができる。透明層104は、着色層103の穴部に配置される。透明層104の層厚を変化させることで反射表示領域Rの着色層103が除去された領域の液晶層厚dAを調節することができる。反射表示領域R内に凹部109が形成された領域の液晶層厚をdA、反射表示領域R内の着色層103の存在する領域の液晶層厚をdB、透過表示領域Tの液晶層厚をdCとすると、各液晶層厚の間にdB≦dC/2≦dAの関係が成り立つことが好ましい。
スペーサ層は、図6に示すスペーサ層107aのように着色層103と重畳する位置に配置してもよいし、図7に示すスペーサ層107bのように、着色層103の凹部109と重畳する位置に配置してもよく、特に限定されない。また、液晶層厚が制御できる限り、各画素毎に形成する必要もない。スペーサ層の高さを調節することにより、液晶表示装置全体のカラーフィルタ基板100と対向基板200との間隔を調節することができることから、反射表示領域Rの液晶層厚である、dA及びdBを調節することができる。
次に、本発明の実施形態1に係るカラーフィルタ基板の製造方法について以下に説明する。
(1)遮光層を形成する工程
まず、透明基板101上に、黒色顔料を含有する感光性樹脂等の遮光層材料を塗布し、フォトリソグラフィ法等によってパターニングすることにより遮光層105を形成する。
(1)遮光層を形成する工程
まず、透明基板101上に、黒色顔料を含有する感光性樹脂等の遮光層材料を塗布し、フォトリソグラフィ法等によってパターニングすることにより遮光層105を形成する。
(2)下地層を形成する工程
次に、下地層102を形成する。図8−1及び図8−2は、下地層102を形成する工程を示す断面模式図である。なお、図中の矢印は、露光するための紫外(UV)光を示している。
遮光層105を形成した透明基板101上に、図8−1に示すように、絶縁性を有する無色の感光性透明樹脂膜121をスピンコート法等を用いて塗布する。続いて、フォトリソグラフィ法によって、感光性透明樹脂膜121を反射表示領域Rに残すように露光用マスク131を用いてパターニングし、下地層102を形成する。なお、この下地層102を設けることにより、着色層103の層厚、及び、液晶表示パネルを形成したときの反射表示領域Rの液晶層厚を制御することができるため、所望の特性を得られるように下地層102の層厚を調節する必要がある。
次に、下地層102を形成する。図8−1及び図8−2は、下地層102を形成する工程を示す断面模式図である。なお、図中の矢印は、露光するための紫外(UV)光を示している。
遮光層105を形成した透明基板101上に、図8−1に示すように、絶縁性を有する無色の感光性透明樹脂膜121をスピンコート法等を用いて塗布する。続いて、フォトリソグラフィ法によって、感光性透明樹脂膜121を反射表示領域Rに残すように露光用マスク131を用いてパターニングし、下地層102を形成する。なお、この下地層102を設けることにより、着色層103の層厚、及び、液晶表示パネルを形成したときの反射表示領域Rの液晶層厚を制御することができるため、所望の特性を得られるように下地層102の層厚を調節する必要がある。
(3)着色層を形成する工程
続いて、着色層103を形成する。図9−1及び図9−2は、着色層103を形成する工程を示す断面模式図である。なお、図中の矢印は、露光するためのUV光を示している。
遮光層105及び下地層102を形成した透明基板101上に、図9−1に示すように、感光性樹脂組成物に顔料を分散させた、赤、緑及び青に対応するネガ型で透明の感光性着色樹脂膜122を、一色ずつスピンコート法等の塗布方法により成膜する。このとき、透明基板101上には下地層102が形成されているため、透明基板101上の反射表示領域Rが凸構造になっている。そのため、着色層103を形成する際に、透過表示領域Tの着色層103の層厚よりも、反射表示領域Rの着色層103の層厚は薄く形成される。続いて、フォトリソグラフィ法等によって、感光性着色樹脂膜122を所定形状にパターニングすることにより、図9−2に示す着色層103が形成される。このとき、反射表示領域R内の着色層103に所望の形状の穴部が形成される露光用マスク132を使用する必要がある。露光用マスク132としては、図12に示すように、着色層103の穴部を形成する領域に対して露光用の光を通さない領域132a、また、穴部を形成する領域を除く着色層形成領域に露光用の光を通す領域132b、露光を行う着色層形成領域以外に光を通さないようにするための領域132cが設けられたマスクを使用することができる。
続いて、着色層103を形成する。図9−1及び図9−2は、着色層103を形成する工程を示す断面模式図である。なお、図中の矢印は、露光するためのUV光を示している。
遮光層105及び下地層102を形成した透明基板101上に、図9−1に示すように、感光性樹脂組成物に顔料を分散させた、赤、緑及び青に対応するネガ型で透明の感光性着色樹脂膜122を、一色ずつスピンコート法等の塗布方法により成膜する。このとき、透明基板101上には下地層102が形成されているため、透明基板101上の反射表示領域Rが凸構造になっている。そのため、着色層103を形成する際に、透過表示領域Tの着色層103の層厚よりも、反射表示領域Rの着色層103の層厚は薄く形成される。続いて、フォトリソグラフィ法等によって、感光性着色樹脂膜122を所定形状にパターニングすることにより、図9−2に示す着色層103が形成される。このとき、反射表示領域R内の着色層103に所望の形状の穴部が形成される露光用マスク132を使用する必要がある。露光用マスク132としては、図12に示すように、着色層103の穴部を形成する領域に対して露光用の光を通さない領域132a、また、穴部を形成する領域を除く着色層形成領域に露光用の光を通す領域132b、露光を行う着色層形成領域以外に光を通さないようにするための領域132cが設けられたマスクを使用することができる。
感光性着色樹脂膜122の膜厚は、感光性樹脂組成物の粘度と塗布量、下地層102の層厚、及び、画素サイズ等により決定されるが、所望の表示特性を得ることができるように下地層102の層厚等で調整する。本実施形態のように、二色以上の着色層103を形成する場合は、各色毎に感光性着色樹脂膜122の塗布工程とフォトリソグラフィ工程とを行う。なお、本実施形態では、製造工程を削減するために、透過表示領域Tの着色層103と反射表示領域Rの着色層103とを同時に形成しているが、透過表示領域Tの着色層103と反射表示領域Rの着色層103とを異なる材料で形成しても構わない。その場合、製造工程は増加するが、着色層103の層厚を透過表示領域Tと反射表示領域Rとで個別に設定することができるため、より反射表示領域Rの反射率の向上や反射表示光の色度の調整を行うことができる。
(4)透明層を形成する工程
次に、透明層104を形成する。図10−1、図10−2、図11−1及び図11−2は、透明層104の形成工程を示している。なお、図中の矢印は、露光するためのUV光を示している。
遮光層105、下地層102及び着色層103を形成した透明基板101上に、絶縁性を有するネガ型で無色の感光性透明樹脂膜123を、スピンコート等の方法により塗布して成膜する。その後、図10−1に示すように、露光用マスク133を使用し、フォトリソグラフィ法等を用いて、感光性透明樹脂膜123を所定形状に、パターニングする。その結果、図10−2に示す透明層104が形成される。このとき、穴部内のみに透明層104が形成されるように、露光用マスク133としては、図13に示すような、透明層104を形成する領域に対して露光用の光を通す領域133a、露光用の光を通さない領域133bが設けられたマスクを使用することができる。また、図11−1に示すように、着色層103等を形成していない透明基板101の裏面から露光することで、図11−2に示すように、露光マスクを使用することなく、穴部のみに選択的に透明層104を形成することもできる。
次に、透明層104を形成する。図10−1、図10−2、図11−1及び図11−2は、透明層104の形成工程を示している。なお、図中の矢印は、露光するためのUV光を示している。
遮光層105、下地層102及び着色層103を形成した透明基板101上に、絶縁性を有するネガ型で無色の感光性透明樹脂膜123を、スピンコート等の方法により塗布して成膜する。その後、図10−1に示すように、露光用マスク133を使用し、フォトリソグラフィ法等を用いて、感光性透明樹脂膜123を所定形状に、パターニングする。その結果、図10−2に示す透明層104が形成される。このとき、穴部内のみに透明層104が形成されるように、露光用マスク133としては、図13に示すような、透明層104を形成する領域に対して露光用の光を通す領域133a、露光用の光を通さない領域133bが設けられたマスクを使用することができる。また、図11−1に示すように、着色層103等を形成していない透明基板101の裏面から露光することで、図11−2に示すように、露光マスクを使用することなく、穴部のみに選択的に透明層104を形成することもできる。
(5)透過電極を形成する工程
透過電極106は、スパッタリング法等を用いることによって、ITO等の透明導電膜を成膜して形成する。
透過電極106は、スパッタリング法等を用いることによって、ITO等の透明導電膜を成膜して形成する。
(6)スペーサ層を形成する工程
スペーサ層107は、透過電極106まで形成した透明基板101上に、感光性樹脂等を成膜してパターニングすることによって形成する。本実施形態では、スペーサ層107を遮光層105上に形成しているが、特に限定されるものではない。例えば、着色層103に形成した凹部と重畳する位置に配置してもよい。
スペーサ層107は、透過電極106まで形成した透明基板101上に、感光性樹脂等を成膜してパターニングすることによって形成する。本実施形態では、スペーサ層107を遮光層105上に形成しているが、特に限定されるものではない。例えば、着色層103に形成した凹部と重畳する位置に配置してもよい。
(7)配向膜を形成する工程
配向膜は、スペーサ層107を形成した透明基板101上に、ポリイミド膜等を形成してラビング処理を行うことにより形成する。
以上の工程により、カラーフィルタ基板100は完成する。
配向膜は、スペーサ層107を形成した透明基板101上に、ポリイミド膜等を形成してラビング処理を行うことにより形成する。
以上の工程により、カラーフィルタ基板100は完成する。
対向基板200を製造する工程、及び、カラーフィルタ基板100と対向基板200とを貼り合わせ、液晶表示パネルを製造する工程については、公知の方法を用いることができるため省略する。また、作製した液晶表示パネルに、偏光板、位相差板、ドライバ等を実装することにより、実施形態1に係る液晶表示装置が完成する。
(実施形態2)
図14は、本発明に係る実施形態2の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。図14に示すように、実施形態2に係る液晶表示パネルは、凹部109の透明基板101側に着色層103が存在し、透明層が配置されていないこと以外は、実施形態1と同様の構成である。実施形態2に係るカラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103が設けられ、また、着色層103に形成された穴部の透明基板101側には凹部109が形成された領域以外に配置された着色層103よりも薄い層厚の着色層103が設けられている。
図14は、本発明に係る実施形態2の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。図14に示すように、実施形態2に係る液晶表示パネルは、凹部109の透明基板101側に着色層103が存在し、透明層が配置されていないこと以外は、実施形態1と同様の構成である。実施形態2に係るカラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103が設けられ、また、着色層103に形成された穴部の透明基板101側には凹部109が形成された領域以外に配置された着色層103よりも薄い層厚の着色層103が設けられている。
(実施形態3)
図15は、本発明に係る実施形態3の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。図15に示すように、凹部109の透明基板101側に透明層104が配置されていること以外は、実施形態2と同様の構成である。実施形態3に係るカラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103が設けられ、また、着色層103に形成された穴部内に透明層104が配置されることにより、反射表示領域R内に凹部109が形成されている。
図15は、本発明に係る実施形態3の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。図15に示すように、凹部109の透明基板101側に透明層104が配置されていること以外は、実施形態2と同様の構成である。実施形態3に係るカラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103が設けられ、また、着色層103に形成された穴部内に透明層104が配置されることにより、反射表示領域R内に凹部109が形成されている。
(実施形態4)
図16は、本発明に係る実施形態4の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。図16に示すように、実施形態4に係るカラーフィルタ基板100は、着色層103の透明基板101側に下地層が形成されていないため、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの液晶層厚が凹部109を形成する領域以外では、略同じであること、及び、着色層103の層厚が反射表示領域Rと透過表示領域Tとで略同じであること以外は実施形態1と同様である。実施形態3に係るカラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103が設けられ、反射表示領域R内に穴部が設けられ、穴部内に透明層104が配置されることにより凹部109が形成されている。
図16は、本発明に係る実施形態4の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。図16に示すように、実施形態4に係るカラーフィルタ基板100は、着色層103の透明基板101側に下地層が形成されていないため、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの液晶層厚が凹部109を形成する領域以外では、略同じであること、及び、着色層103の層厚が反射表示領域Rと透過表示領域Tとで略同じであること以外は実施形態1と同様である。実施形態3に係るカラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103が設けられ、反射表示領域R内に穴部が設けられ、穴部内に透明層104が配置されることにより凹部109が形成されている。
(実施形態5)
図17は、本発明に係る実施形態5の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。実施形態5に係る液晶表示パネルは、透過表示を行わない反射型の液晶表示パネルである。図17に示すように、実施形態5に係るカラーフィルタ基板100は、透過表示領域Tがないこと以外は、実施形態4と同様である。対向基板200においては、実施形態1において、画素領域に形成される透過電極が形成されておらず、反射電極212が画素領域に形成されている。カラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103を有し、反射表示領域R内に穴部が設けられ、穴部内に透明層104が配置されることにより凹部109が形成されている。反射表示領域R内の凹部109以外の液晶層厚は略同じである。本発明は、半透過型の液晶表示装置だけではなく、本実施形態のように反射型液晶表示装置にも適用され、穴部に設けた透明層104により液晶層厚を制御することによって、液晶の透過分光特性を制御し、液晶表示パネル及び液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。
図17は、本発明に係る実施形態5の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。実施形態5に係る液晶表示パネルは、透過表示を行わない反射型の液晶表示パネルである。図17に示すように、実施形態5に係るカラーフィルタ基板100は、透過表示領域Tがないこと以外は、実施形態4と同様である。対向基板200においては、実施形態1において、画素領域に形成される透過電極が形成されておらず、反射電極212が画素領域に形成されている。カラーフィルタ基板100は、透明基板101上に、着色層103を有し、反射表示領域R内に穴部が設けられ、穴部内に透明層104が配置されることにより凹部109が形成されている。反射表示領域R内の凹部109以外の液晶層厚は略同じである。本発明は、半透過型の液晶表示装置だけではなく、本実施形態のように反射型液晶表示装置にも適用され、穴部に設けた透明層104により液晶層厚を制御することによって、液晶の透過分光特性を制御し、液晶表示パネル及び液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。
(比較例1)
図18は、本比較例に係る液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
比較例1に係る液晶表示パネルは、半透過型の液晶表示パネルであり、透過表示領域と反射表示領域とを有している。本比較例に係る液晶表示パネル及び液晶表示装置の構成は、反射表示領域R内の着色層103の穴部内に透明層が配置されていないこと以外は、実施形態1と同様である。
図18は、本比較例に係る液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
比較例1に係る液晶表示パネルは、半透過型の液晶表示パネルであり、透過表示領域と反射表示領域とを有している。本比較例に係る液晶表示パネル及び液晶表示装置の構成は、反射表示領域R内の着色層103の穴部内に透明層が配置されていないこと以外は、実施形態1と同様である。
(比較例2)
図19は、本比較例に係る液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
比較例2に係る液晶表示パネルは、半透過型の液晶表示パネルであり、透過表示領域と反射表示領域とを有している。本比較例に係るカラーフィルタ基板100は、着色層103の穴部に配置された透明層104が、穴部が形成された領域以外の着色層103と同じ高さで形成されているため、着色層103の膜厚よりも浅い深さの凹部は形成されておらず、カラーフィルタ基板100の反射表示領域Rの液晶層側に段差が形成されていないこと以外は、実施形態1と同様である。
図19は、本比較例に係る液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
比較例2に係る液晶表示パネルは、半透過型の液晶表示パネルであり、透過表示領域と反射表示領域とを有している。本比較例に係るカラーフィルタ基板100は、着色層103の穴部に配置された透明層104が、穴部が形成された領域以外の着色層103と同じ高さで形成されているため、着色層103の膜厚よりも浅い深さの凹部は形成されておらず、カラーフィルタ基板100の反射表示領域Rの液晶層側に段差が形成されていないこと以外は、実施形態1と同様である。
(実施形態及び比較例に係る液晶表示装置の評価試験)
次に、上記実施形態1〜3、比較例1及び比較例2の液晶表示装置について、本発明において得られる効果を図6及び7を用いて説明する。
図6及び7は、液晶表示装置の液晶層厚について説明するための断面模式図である。図6においては、スペーサ層107aが反射表示領域R内の着色層103と重畳する位置に配置されている。図7においては、スペーサ層107bが反射表示領域R内の着色層103に設けられた凹部109と重畳する位置に配置されている。図6及び7中の両矢印はそれぞれ、反射表示領域R内の穴部が設けられた領域の液晶層厚dA、反射表示領域R内の着色層103が設けられた領域の液晶層厚dB、及び、透過表示領域T内の液晶層厚dCと、下地層102の層厚d1、透過表示領域T内の着色層103の層厚d2、反射表示領域R内の着色層103の層厚d3、透明層104の層厚d4、並びに、スペーサ層107a及び107bの層厚d5とを表している。図6に示すように、スペーサ層107aが着色層103に重畳する領域に配置されている場合は、dA、dB及びdCはそれぞれ、下記式(1)、(2)及び(3)で表すことができる。また、図7に示すように、スペーサ層107bが、穴部が形成された領域に配置されている場合は、下記式(4)、(5)及び(6)で表すことができる。ここでは、透過電極及び配向膜の厚さは、液晶層厚の差異に影響を与えないため省略している。また、対向基板200の液晶層側の表面は平坦であるものとしている。
1.スペーサ層が着色層上に配置されている場合(図6)
dA=d5+d3−d4 (1)
dB=d5 (2)
dC=d5+d3+d1−d2 (3)
2.スペーサ層が凹部が形成された領域に配置されている場合(図7)
dA=d5 (4)
dB=d5−d3+d4 (5)
dC=d5+d4+d1−d2 (6)
次に、上記実施形態1〜3、比較例1及び比較例2の液晶表示装置について、本発明において得られる効果を図6及び7を用いて説明する。
図6及び7は、液晶表示装置の液晶層厚について説明するための断面模式図である。図6においては、スペーサ層107aが反射表示領域R内の着色層103と重畳する位置に配置されている。図7においては、スペーサ層107bが反射表示領域R内の着色層103に設けられた凹部109と重畳する位置に配置されている。図6及び7中の両矢印はそれぞれ、反射表示領域R内の穴部が設けられた領域の液晶層厚dA、反射表示領域R内の着色層103が設けられた領域の液晶層厚dB、及び、透過表示領域T内の液晶層厚dCと、下地層102の層厚d1、透過表示領域T内の着色層103の層厚d2、反射表示領域R内の着色層103の層厚d3、透明層104の層厚d4、並びに、スペーサ層107a及び107bの層厚d5とを表している。図6に示すように、スペーサ層107aが着色層103に重畳する領域に配置されている場合は、dA、dB及びdCはそれぞれ、下記式(1)、(2)及び(3)で表すことができる。また、図7に示すように、スペーサ層107bが、穴部が形成された領域に配置されている場合は、下記式(4)、(5)及び(6)で表すことができる。ここでは、透過電極及び配向膜の厚さは、液晶層厚の差異に影響を与えないため省略している。また、対向基板200の液晶層側の表面は平坦であるものとしている。
1.スペーサ層が着色層上に配置されている場合(図6)
dA=d5+d3−d4 (1)
dB=d5 (2)
dC=d5+d3+d1−d2 (3)
2.スペーサ層が凹部が形成された領域に配置されている場合(図7)
dA=d5 (4)
dB=d5−d3+d4 (5)
dC=d5+d4+d1−d2 (6)
反射表示領域R内の着色層103の層厚d3、透明層104の層厚d4及びスペーサ層107の層厚d5を変化させることで、反射表示領域R内の液晶層厚dA、dB及びdCをそれぞれ調節することが可能である。また、図2等で示すように、スペーサ層が遮光層105上に設けられているような場合も同様に、dA及びdBをそれぞれ調節することが可能である。
次に、反射表示領域R内の液晶層厚dAを調節して得られる反射特性の例を下記表1に示す。表1は、実施形態1の中で凹部の深さが異なる実施例1及び実施例2と、比較例1と、比較例2とについての評価試験結果である。表1中では、dAは1.7〜2.3μmで変化させており、dBは1.7μmである。表1中のY、x、y及びNTSC比の値については、液晶表示器用シミュレータ(商品名:LCD Master、シンテック社製)により算出した。液晶の流動に関してはLeslie−Ericksen理論に基づいて計算し、光学計算はMaxwellの方程式に基づいて計算している。なお、表1中のY値は液晶表示装置を介さずに測定したときの反射電極による反射率を100%としたときの、液晶表示装置を介して測定した反射表示領域の反射率を示している。x及びyは、XYZ表色系色度図上の色度座標(x,y)として示したときの反射表示光のx値及びy値である。また、表1に示されている反射特性の結果は、一画素の反射表示領域に対する穴部が形成された領域の割合が、R(赤)、G(緑)及びB(青)のそれぞれで、0.2、0.3及び0.15のときの結果である。各着色層の色特性は下記表2に示すとおりであり、このときの、各着色層の層厚は0.6μmである。また、表1中のWは、白の表示を示している。
表1に示すように、液晶層厚dA及びdBを調節することで反射表示領域の反射率(表1中では、WにおけるY値として表記)及び色再現域(NTSC比で表記)等の反射表示特性を調節することが可能である。また、実施例1、実施例2、比較例1及び比較例2について、表1中のWのY値(反射率)と、NTSC比との関係を表したグラフを図20に示す。図20に示すように、実施例1及び2は異なる反射率及びNTSC比の値を有し、透明層の層厚を変化させるだけで、反射率及びNTSC比を調整することができることがわかる。また、実施例1の場合は、実施例2、比較例1及び2の場合よりも、高い反射率を得ることができ、実施例2の場合は、実施例1、比較例1及び2の場合よりも、高いNTSC比を得ることができている。
これらの効果は、反射表示領域において、液晶層厚dAの領域と液晶層厚dBの領域との液晶層が異なる分光透過率を有しており、液晶層厚dAの層厚が変化することで液晶層厚dAの領域の液晶分光透過率が変化したことに起因している。また、本発明の液晶表示パネルによれば、透明層を配置しない比較例1のような場合と比較して、反射率、色度等を調整するために、凹部の面積を変化させるための露光マスクの変更や着色層の材料の変更を伴わないため、簡易にコストの削減が図れる。
100:カラーフィルタ基板
101:透明基板
102:下地層
103:着色層
104、104b、104c:透明層
105:遮光層
106:透過電極
107、107a、107b:スペーサ層
108:オーバーコート層
109:凹部
121、123:感光性透明樹脂膜
122:感光性着色樹脂膜
131、132、133:露光用マスク
132a、132b、133b:露光用の光を通さない領域
132c、133a:露光用の光を通す領域
200:対向基板
201:透明基板
202:ベースコート膜
203:半導体層
203D:半導体層ドレイン領域
203G:半導体層ゲート領域
203S:半導体層ソース領域
204:ゲート絶縁膜
205:ゲート電極
206:第一絶縁膜
207D:ドレイン電極
207S:ソース電極
208:第二絶縁膜
210:TFT基板
211:画素電極
212:反射電極
301:液晶層
R:反射表示領域
T:透過表示領域
101:透明基板
102:下地層
103:着色層
104、104b、104c:透明層
105:遮光層
106:透過電極
107、107a、107b:スペーサ層
108:オーバーコート層
109:凹部
121、123:感光性透明樹脂膜
122:感光性着色樹脂膜
131、132、133:露光用マスク
132a、132b、133b:露光用の光を通さない領域
132c、133a:露光用の光を通す領域
200:対向基板
201:透明基板
202:ベースコート膜
203:半導体層
203D:半導体層ドレイン領域
203G:半導体層ゲート領域
203S:半導体層ソース領域
204:ゲート絶縁膜
205:ゲート電極
206:第一絶縁膜
207D:ドレイン電極
207S:ソース電極
208:第二絶縁膜
210:TFT基板
211:画素電極
212:反射電極
301:液晶層
R:反射表示領域
T:透過表示領域
Claims (5)
- カラーフィルタ基板、対向基板、及び、該カラーフィルタ基板と該対向基板とに挟持された液晶層を備え、かつ反射表示領域を有する液晶表示パネルであって、
該カラーフィルタ基板は、基板上に着色層を備え、かつ該着色層の厚さよりも浅い深さの領域を有する凹部が反射表示領域内に設けられたものであり、該凹部が形成された領域と凹部が形成されていない反射表示領域とで液晶層側の面に段差を有することを特徴とする液晶表示パネル。 - 前記凹部は、着色層に形成された穴部内に透明層が設けられたものであることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
- 前記穴部は、着色層を貫通することを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
- 前記カラーフィルタ基板は、反射表示領域の着色層に覆われた下地層を有することを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
- 請求項1記載の液晶表示パネルを備えることを特徴とする液晶表示装置。
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JP2011100025A (ja) * | 2009-11-06 | 2011-05-19 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
CN112002288A (zh) * | 2020-08-28 | 2020-11-27 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种色度调节方法、色度调节装置及显示面板 |
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JP2011100025A (ja) * | 2009-11-06 | 2011-05-19 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
CN112002288A (zh) * | 2020-08-28 | 2020-11-27 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种色度调节方法、色度调节装置及显示面板 |
US11640804B2 (en) | 2020-08-28 | 2023-05-02 | Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Techoology Co., Ltd. | Chromaticity adjustment method, chromaticity adjustment device, and display panel |
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