JP2008251557A - イオンビーム加工装置 - Google Patents
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Abstract
イオンビーム加工装置において、ビーム走査範囲内にある単数あるいは複数の特定箇所を所望の高さに移動調整する際、高さ情報をオペレータに伝え、高さ調整の作業効率を上げることが課題である。
【解決手段】
ビーム走査範囲内にある単数あるいは複数の特定箇所にイオンビーム照射手段のレンズ強度を調整して焦点を合せるレンズ電源と、それらレンズ強度から前記特定箇所の焦点高さを計算し、前記特定箇所の焦点高さ,前記特定箇所の相対高さ,前記焦点高さあるいは前記相対高さが許容値を含めた設定値内にあるか否かの判断結果の情報の内、少なくとも一つ以上の情報を表示する表示手段を備える。
【選択図】図1
Description
の距離)を計算し表示手段12に表示する。図3はその表示の一実施例である。表示ウインドウ15の例を(a)〜(f)に示す。この図を参照して操作手順と表示の一実施例を説明する。
Claims (4)
- 試料表面をイオンビームで走査するイオンビーム照射手段と、ビーム照射により被照射部から放出される二次粒子を検出する二次粒子検出手段と、前記二次粒子検出手段の出力を用いて前記被照射部のビーム走査像を表示する表示手段と、前記イオンビーム照射手段、前記二次粒子検出手段、前記表示手段を制御する計算機を含む制御手段とからなるイオンビーム加工装置において、ビーム走査範囲内にある単数あるいは複数の特定箇所にイオンビーム照射手段のレンズ強度を調整して焦点を合せるレンズ電源と、それらレンズ強度から前記特定箇所の焦点位置(高さ)を計算し、前記特定箇所の焦点位置(高さ)、前記特定箇所の相対位置(高さ)、前記焦点位置あるいは前記相対位置が許容値を含めた設定値内にあるか否かの判断結果の情報のうち少なくとも一つ以上の情報を表示する表示手段を備えることを特徴とするイオンビーム加工装置。
- 前記請求項1のイオンビーム加工装置において、前記ビーム照射により前記試料表面から前記試料の小片を分離したその分離試料と、前記ビーム照射により被接続体を前記試料に接続する前記被接続体との少なくとも一方を支持して移動する移動手段を含んでいることを特徴とするイオンビーム加工装置。
- 集束イオンビームを試料表面に照射して前記試料から小片の分離あるいは被接続体の前記試料への接続、および前記分離試料あるいは前記被接続体の移動を前記集束イオンビームの走査イオン像の表示手段でモニターを行う集束イオンビーム加工方法において、前記集束ビームの集束点位置が前記イオンビーム照射手段のビーム集束レンズのレンズ強度の関数であることを利用して、前記試料表面と前記分離試料あるいは前記被接続体に前記ビーム集束点を順次合わせ、両者のビーム集束点の位置、あるいは相対位置の情報を前記表示手段に表示し、この位置あるいは相対位置を前記表示手段でモニターしながら前記分離試料あるいは前記被接続体の移動を行うことを特徴とする集束イオンビーム加工方法。
- 請求項3記載の集束イオンビーム加工方法において、移動させている前記分離試料あるいは前記被接続体に前記レンズ強度を調整して前記集束イオンビームの前記ビーム集束点を追随させ、前記分離試料あるいは前記被接続体の位置、あるいは相対位置が許容値を含めて前もって設定した設定値を越えた時に、その越えたことを知らせる情報およびその越えているか否かの状態情報をも前記表示手段で表示することを特徴とした集束イオンビーム加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008188040A JP5067296B2 (ja) | 2008-07-22 | 2008-07-22 | イオンビーム加工装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008188040A JP5067296B2 (ja) | 2008-07-22 | 2008-07-22 | イオンビーム加工装置 |
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JP25840199A Division JP4186335B2 (ja) | 1999-09-13 | 1999-09-13 | イオンビーム加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008251557A true JP2008251557A (ja) | 2008-10-16 |
JP5067296B2 JP5067296B2 (ja) | 2012-11-07 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008188040A Expired - Lifetime JP5067296B2 (ja) | 2008-07-22 | 2008-07-22 | イオンビーム加工装置 |
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Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5067296B2 (ja) | 2012-11-07 |
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