JP2008239948A - Material for organic electroluminescent element, composition for organic electroluminescent element, organic electroluminescent display and color display - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element having an emitting layer including a blue-fluorescent compound forming a film by a wet film forming method. <P>SOLUTION: The material for organic electroluminescent element includes 1,7-diaryl-amino-naphthalene that has the structure represented by the chemical formula (1) (wherein Ar<SP>1</SP>to Ar<SP>4</SP>are each independently an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent) and has solubility of more than 0.2 wt.% in toluene. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機電界蛍光発光素子用材料等に関する。   The present invention relates to a material for an organic electroluminescent light emitting device and the like.

近年、薄膜型の電界発光素子として、無機材料に代わり、有機薄膜を用いた有機電界蛍光発光素子の開発が行われている。有機電界蛍光発光素子は、通常、陽極と陰極の間に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層等を有し、この各層に適した材料が開発されている。
各層の形成方法としては、真空蒸着法及び湿式製膜法が挙げられる。真空蒸着法によれば、良質な薄膜が均一に製膜され、積層化が容易、不純物の混入が少ない等の利点がある。
一方、湿式製膜法は、真空プロセスが要らず大面積化が容易であることから、例えば、ジスチリルアリーレン誘導体を含む有機薄膜層を湿式製膜法により製膜した有機エレクトロルミネッサンスが報告されている(特許文献1参照)。
In recent years, organic electroluminescent devices using organic thin films instead of inorganic materials have been developed as thin film type electroluminescent devices. An organic electroluminescent device usually has a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and the like between an anode and a cathode, and materials suitable for these layers have been developed.
Examples of the method for forming each layer include a vacuum deposition method and a wet film forming method. According to the vacuum deposition method, a good quality thin film can be uniformly formed, easy to stack, and has few advantages such as less contamination of impurities.
On the other hand, since the wet film forming method does not require a vacuum process and can easily increase the area, for example, organic electroluminescence has been reported in which an organic thin film layer containing a distyrylarylene derivative is formed by a wet film forming method. (See Patent Document 1).

国際公開第03/037836号パンフレットInternational Publication No. 03/037836 Pamphlet

ところで、有機電界蛍光発光素子には、赤、緑及び青の蛍光化合物が使用される。この中でも、青蛍光化合物は、赤又は緑の蛍光化合物に比べ、高エネルギーの光子を放出させるため印加が高くなり、発光状態の発光素子が高温にさらされやすいという特徴がある。
また、発光層を形成後に行われる封止材加熱硬化処理等の後工程処理により、発光層中の蛍光化合物が相変化を起こし易いという問題がある。このため、通常、ガラス転移温度(Tg)が高い蛍光化合物が用いられる。
しかし、ガラス転移温度(Tg)が高い蛍光化合物は、剛直な分子構造を有するため、加熱による相変化の影響を受けず、素子の長寿命化に優れているものの、反面、有機溶剤への可溶性が低いという問題がある。そのため、湿式製膜法で使用する発光層塗布溶液を得ることが困難である。
By the way, red, green and blue fluorescent compounds are used in the organic electroluminescent device. Among these, the blue fluorescent compound is characterized in that the application is high because the photon of high energy is emitted compared to the red or green fluorescent compound, and the light emitting element in the light emitting state is easily exposed to a high temperature.
Moreover, there exists a problem that the fluorescent compound in a light emitting layer tends to raise | generate a phase change by post process processes, such as a sealing material heat-curing process performed after forming a light emitting layer. For this reason, a fluorescent compound having a high glass transition temperature (Tg) is usually used.
However, a fluorescent compound having a high glass transition temperature (Tg) has a rigid molecular structure and is not affected by a phase change caused by heating and is excellent in extending the life of the device. However, it is soluble in an organic solvent. There is a problem that is low. Therefore, it is difficult to obtain a light emitting layer coating solution used in the wet film forming method.

本発明は、上述した課題を解決するためになされたものである。即ち、本発明の目的は、湿式製膜法で製膜が可能な青蛍光化合物を含む発光層を有する有機電界蛍光発光素子用材料等を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems. That is, an object of the present invention is to provide an organic electroluminescent light emitting device material having a light emitting layer containing a blue fluorescent compound that can be formed by a wet film forming method.

かくして本発明によれば、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体からなることを特徴とする有機電界蛍光発光素子用材料が提供される。
ここで、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体としては、下記化学式(1)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
Thus, according to the present invention, there is provided an organic electroluminescent device material characterized by comprising a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative.
Here, the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative is preferably a compound having a structure represented by the following chemical formula (1).

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(化学式(1)中、Ar〜Arは、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。) (In the chemical formula (1), Ar 1 to Ar 4 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.)

有機電界蛍光発光素子用材料としての1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体は、トルエンに対する溶解度が0.2重量%以上であることが好ましい。
また、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体からなる有機電界蛍光発光素子用材料は、湿式成膜に用いられることが好ましい。
It is preferable that the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative as the material for an organic electroluminescence device has a solubility in toluene of 0.2% by weight or more.
Moreover, it is preferable that the organic electroluminescent light emitting element material comprising a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative is used for wet film formation.

次に、本発明によれば、化学式(1)で表される1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体からなる有機電界蛍光発光素子用材料及び溶剤を含有することを特徴とする有機電界蛍光発光素子用組成物が提供される。   Next, according to the present invention, for an organic electroluminescent device characterized by comprising a material for an organic electroluminescent device comprising a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative represented by the chemical formula (1) and a solvent. A composition is provided.

さらに、本発明によれば、陽極及び陰極と、陽極及び陰極の間に設けられた有機層とを有する有機電界蛍光発光素子であって、有機層は、化学式(1)で表される1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体からなる有機電界蛍光発光素子用材料を含むことを特徴とする有機電界蛍光発光素子が提供される。
ここで、有機層としては発光層であることが好ましい。
また、有機層は、有機電界蛍光発光素子用材料と所定の溶剤とを含む組成物を用いる湿式成膜法により形成されることが好ましい。
Furthermore, according to the present invention, there is provided an organic electroluminescent device having an anode and a cathode, and an organic layer provided between the anode and the cathode, wherein the organic layer is represented by chemical formula (1) 1, An organic electroluminescent light emitting device comprising an organic electroluminescent light emitting device material comprising a 7-diarylaminonaphthalene derivative is provided.
Here, the organic layer is preferably a light emitting layer.
The organic layer is preferably formed by a wet film forming method using a composition containing an organic electroluminescent device material and a predetermined solvent.

次に、本発明によれば、透明支持基板と透明支持基板上に積層された有機電界蛍光発光素子とを有する有機ELディスプレイであって、有機電界蛍光発光素子が、化学式(1)で表される1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体からなる有機電界蛍光発光素子用材料を含む有機層とを有する有機電界蛍光発光素子であることを特徴とする有機ELディスプレイが提供される。   Next, according to the present invention, there is provided an organic EL display having a transparent support substrate and an organic electroluminescent device laminated on the transparent support substrate, wherein the organic electroluminescent device is represented by the chemical formula (1). There is provided an organic EL display comprising an organic electroluminescence device having an organic layer containing an organic electroluminescence device material composed of a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative.

さらに、本発明によれば、一対の電極間に発光性化合物を含む発光層を有する有機電界蛍光発光素子であって、発光性化合物は、ガラス転移温度(Tg)が80℃以上、且つ、トルエンに対する溶解度が0.2重量%以上である1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体から構成されることを特徴とする有機電界蛍光発光素子が提供される。
ここで、有機電界蛍光発光素子における発光層は、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体と所定の有機溶剤を含む塗布溶液を塗布して形成されることが好ましい。
Furthermore, according to the present invention, there is provided an organic electroluminescent light emitting device having a light emitting layer containing a light emitting compound between a pair of electrodes, the light emitting compound having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or higher and toluene. There is provided an organic electroluminescent device characterized in that it is composed of a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative having a solubility in water of 0.2% by weight or more.
Here, the light emitting layer in the organic electroluminescent device is preferably formed by applying a coating solution containing a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative and a predetermined organic solvent.

また、本発明によれば、ガラス転移温度(Tg)が80℃以上、且つ、トルエンに対する溶解度が0.2重量%以上である1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体から構成される発光性化合物を含む発光層を有する有機電界蛍光発光素子を備えることを特徴とするカラーディスプレイ表示装置が提供される。   In addition, the present invention includes a luminescent compound composed of a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or higher and a solubility in toluene of 0.2 wt% or higher. Provided is a color display device comprising an organic electroluminescent device having a light emitting layer.

本発明の有機電界蛍光発光素子は、湿式製膜法により発光層が形成される。   In the organic electroluminescent light emitting device of the present invention, the light emitting layer is formed by a wet film forming method.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、発明の実施の形態)について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。   The best mode for carrying out the present invention (hereinafter, an embodiment of the present invention) will be described in detail below. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary. The drawings used are for explaining the present embodiment and do not represent the actual size.

(有機電界蛍光発光素子)
本実施の形態が適用される有機電界蛍光発光素子は、基板上に少なくとも一対の電極(陽極、陰極)及びこれらの両極間に設けられた発光層等の有機層を有するものであって、有機層に1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体を含むものである。
次に、有機電界蛍光発光素子の各層について説明する。
(Organic electroluminescent device)
The organic electroluminescent light emitting device to which the present embodiment is applied has an organic layer such as a light emitting layer provided between at least a pair of electrodes (anode and cathode) and both electrodes on a substrate. The layer contains a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative.
Next, each layer of the organic electroluminescence device will be described.

図1は、本実施の形態が適用される有機電界蛍光発光素子の構造の一例を示す断面模式図である。図1において、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層(有機発光層)、6は正孔阻止層、7は電子輸送層、8は電子注入層、9は陰極を各々表す。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the structure of an organic electroluminescence device to which the present embodiment is applied. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, 5 is a light emitting layer (organic light emitting layer), 6 is a hole blocking layer, 7 is an electron transport layer, 8 Represents an electron injection layer, and 9 represents a cathode.

[1]基板
基板1は有機電界蛍光発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板が好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機電界蛍光発光素子が劣化することがあるので好ましくない。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。
[1] Substrate The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent device, and a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film, a sheet, or the like is used. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, polysulfone or the like is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent device may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate, which is not preferable. For this reason, a method of securing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also one of preferable methods.

[2]陽極
基板1上には陽極2が設けられる。陽極2は発光層側の層(正孔注入層3又は発光層5等)への正孔注入の役割を果たすものである。
この陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウム及び/又はスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅等のハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。
[2] Anode An anode 2 is provided on the substrate 1. The anode 2 plays a role of hole injection into a layer on the light emitting layer side (hole injection layer 3 or light emitting layer 5 or the like).
This anode 2 is usually a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, or platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or It is composed of a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or polyaniline.

陽極2の形成は通常、スパッタリング法、真空蒸着法等により行われることが多い。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極を形成する場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散させて、基板1上に塗布することにより陽極2を形成することもできる。さらに、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板1上に薄膜を形成する、又は、基板1上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。
陽極2は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすることも可能である。
In general, the anode 2 is often formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. In addition, when forming an anode using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, and conductive polymer fine powder, an appropriate binder resin solution is used. The anode 2 can also be formed by dispersing and coating the substrate 1. Further, in the case of a conductive polymer, a thin film can be directly formed on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or the anode 2 can be formed by applying a conductive polymer on the substrate 1 (Appl. Phys. Lett., 60, 2711, 1992).
The anode 2 usually has a single-layer structure, but it can also have a laminated structure made of a plurality of materials if desired.

陽極2の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが望ましい。この場合、陽極2の厚みは通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下程度である。不透明でよい場合は陽極2の厚みは任意であり、陽極2は基板1と同一でもよい。また、さらには、上記の陽極2の上に異なる導電材料を積層することも可能である。   The thickness of the anode 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 1000 nm or less, preferably about 500 nm or less. When it may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary, and the anode 2 may be the same as the substrate 1. Furthermore, it is also possible to laminate different conductive materials on the anode 2 described above.

陽極2に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的に、陽極表面を紫外線(UV)/オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることは好ましい。   For the purpose of removing impurities adhering to the anode 2 and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the anode surface is subjected to ultraviolet (UV) / ozone treatment or oxygen plasma or argon plasma treatment. That is preferred.

[3]正孔注入層
正孔注入層3は陽極2から発光層5へ正孔を輸送する層であるため、正孔注入層3には正孔輸送性化合物を含むことが好ましい。
正孔注入層3は、正孔輸送性化合物を含むことが好ましく、正孔輸送性化合物と電子受容性化合物とを含むことがさらに好ましい。また、正孔注入層3にカチオンラジカル化合物を含むことが好ましく、カチオンラジカル化合物と正孔輸送性化合物とを含むことがさらに好ましい。
さらに、必要に応じて、正孔注入層3には電荷のトラップになりにくいバインダー樹脂や、塗布性改良剤を含んでいてもよい。
[3] Hole Injection Layer Since the hole injection layer 3 is a layer that transports holes from the anode 2 to the light emitting layer 5, the hole injection layer 3 preferably contains a hole transporting compound.
The hole injection layer 3 preferably contains a hole transporting compound, and more preferably contains a hole transporting compound and an electron accepting compound. The hole injection layer 3 preferably contains a cation radical compound, and more preferably contains a cation radical compound and a hole transporting compound.
Furthermore, the hole injection layer 3 may contain a binder resin that does not easily trap charges and a coating property improving agent as necessary.

(正孔輸送性化合物)
正孔輸送性化合物としては、4.5eV〜6.0eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物が好ましい。
正孔輸送性化合物の例としては、芳香族アミン化合物、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。中でも非晶質性、可視光の透過率の点から、芳香族アミン化合物が好ましい。
(Hole transporting compound)
As the hole transporting compound, a compound having an ionization potential of 4.5 eV to 6.0 eV is preferable.
Examples of the hole transporting compound include aromatic amine compounds, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, polythiophene derivatives, and the like. Of these, aromatic amine compounds are preferred from the viewpoints of amorphousness and visible light transmittance.

特に芳香族三級アミン化合物が好ましい。ここで、芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。   An aromatic tertiary amine compound is particularly preferable. Here, the aromatic tertiary amine compound is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine.

芳香族三級アミン化合物の種類は特に制限されないが、表面平滑化効果の点から、重量平均分子量が1000以上、1000000以下の高分子化合物(繰り返し単位が連なる重合型炭化水素化合物)がさらに好ましい。
芳香族三級アミン高分子化合物の好ましい例として、下記一般式(VII)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物が挙げられる。
The kind of the aromatic tertiary amine compound is not particularly limited, but a polymer compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less (polymerized hydrocarbon compound in which repeating units are linked) is more preferable from the viewpoint of the surface smoothing effect.
Preferable examples of the aromatic tertiary amine polymer compound include a polymer compound having a repeating unit represented by the following general formula (VII).

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(一般式(VII)中、Ar21,Ar22は各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ar23〜Ar25は、各々独立して、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい2価の芳香族複素環基を表す。Yは、下記の連結基群の中から選ばれる連結基を表す。また、Ar21〜Ar25のうち、同一のN原子に結合する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい。) (In General Formula (VII), Ar 21 and Ar 22 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 23 to Ar 25 each independently represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a divalent aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Y represents a linking group selected from the following group of linking groups, and among Ar 21 to Ar 25 , two groups bonded to the same N atom are bonded to each other to form a ring. May be.)

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(上記各式中、Ar31〜Ar41は、各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環由来の1価又は2価の基を表す。R51及びR52は、各々独立して、水素原子又は任意の置換基を表す。) (In the above formulas, Ar 31 to Ar 41 are each independently 1 derived from an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent. And R 51 and R 52 each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent.

Ar21〜Ar25及びAr31〜Ar41としては、任意の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環由来の、1価又は2価の基が適用可能である。これらは各々同一であっても、互いに異なっていてもよい。また、任意の置換基を有していてもよい。 As Ar 21 to Ar 25 and Ar 31 to Ar 41 , any monovalent or divalent group derived from any aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring is applicable. These may be the same or different from each other. Moreover, you may have arbitrary substituents.

Ar21〜Ar41の芳香族炭化水素環及び/又は芳香族複素環由来の基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の分子量としては、通常400以下、中でも250以下程度が好ましい。 The group derived from the aromatic hydrocarbon ring and / or aromatic heterocycle of Ar 21 to Ar 41 may further have a substituent. The molecular weight of the substituent is usually 400 or less, preferably about 250 or less.

Ar21、Ar22としては、高分子化合物の溶解性、耐熱性、正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピリジン環由来の1価の基が好ましく、フェニル基、ナフチル基がさらに好ましい。 Ar 21 and Ar 22 are preferably monovalent groups derived from a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, a thiophene ring, or a pyridine ring from the viewpoint of the solubility, heat resistance, and hole injection / transport properties of the polymer compound. More preferred are a phenyl group and a naphthyl group.

また、Ar23〜Ar25としては、耐熱性、酸化還元電位を含めた正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環由来の2価の基が好ましく、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基がさらに好ましい。 Ar 23 to Ar 25 are preferably divalent groups derived from a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a phenanthrene ring from the viewpoint of heat resistance and hole injection / transport properties including redox potential. A group, a biphenylene group, and a naphthylene group are more preferable.

一般式(VII)で表される繰り返し単位を有する芳香族三級アミン高分子化合物の具体例としては、WO2005/089024号公報に記載のものが挙げられる。   Specific examples of the aromatic tertiary amine polymer compound having a repeating unit represented by the general formula (VII) include those described in WO2005 / 089024.

正孔注入層3の材料として用いられる正孔輸送性化合物は、このような化合物のうち何れか1種を単独で含有していてもよく、2種以上を含有していてもよい。2種以上の正孔輸送性化合物を含有する場合、その組み合わせは任意であるが、芳香族三級アミン高分子化合物1種又は2種以上と、その他の正孔輸送性化合物1種又は2種以上とを併用するのが好ましい。
尚、これらの正孔輸送性化合物を発光層5に適宜含有させてもよい。
The hole transporting compound used as the material for the hole injection layer 3 may contain any one of these compounds alone, or may contain two or more. In the case of containing two or more kinds of hole transporting compounds, the combination is arbitrary, but one or more kinds of aromatic tertiary amine polymer compounds and one or two kinds of other hole transporting compounds. It is preferable to use the above together.
These hole transporting compounds may be appropriately contained in the light emitting layer 5.

(電子受容性化合物)
電子受容性化合物とは、酸化力を有し、上述の正孔輸送性化合物から一電子受容する能力を有する化合物が好ましく、具体的には、電子親和力が4eV以上である化合物が好ましく、5eV以上の化合物がさらに好ましい。
(Electron-accepting compound)
The electron-accepting compound is preferably a compound having an oxidizing power and the ability to accept one electron from the above-described hole transporting compound, specifically, a compound having an electron affinity of 4 eV or more is preferable, and 5 eV or more. The compound of is more preferable.

例としては、4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート等の有機基の置換したオニウム塩、塩化鉄(III)(特開平11−251067号公報)、ペルオキソ二硫酸アンモニウム等の高原子価の無機化合物、テトラシアノエチレン等のシアノ化合物、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(特開2003−31365号公報)等の芳香族ホウ素化合物、フラーレン誘導体、ヨウ素等が挙げられる。   Examples include onium salts substituted with organic groups such as 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, iron (III) chloride (Japanese Patent Laid-Open No. 11-251067), ammonium peroxodisulfate, etc. High valent inorganic compounds, cyano compounds such as tetracyanoethylene, aromatic boron compounds such as tris (pentafluorophenyl) borane (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-31365), fullerene derivatives, iodine and the like.

上記の化合物のうち、強い酸化力を有する点で有機基の置換したオニウム塩、高原子価の無機化合物が好ましく、種々の溶剤に可溶で湿式塗布に適用可能である点で有機基の置換したオニウム塩、シアノ化合物、芳香族ホウ素化合物が好ましい。   Of the above compounds, onium salts substituted with organic groups and high valent inorganic compounds are preferred because of their strong oxidizing power, and organic groups are substituted because they are soluble in various solvents and applicable to wet coating. Preferred are onium salts, cyano compounds, and aromatic boron compounds.

電子受容性化合物として好適な有機基の置換したオニウム塩、シアノ化合物、芳香族ホウ素化合物の具体例としては、WO2005/089024号公報に記載のものが挙げられ、その好適例も同様であり、例えば下記構造式で表される化合物(A−2)が挙げられるが、何らそれらに限定されるものではない。   Specific examples of an onium salt substituted with an organic group, a cyano compound, and an aromatic boron compound suitable as an electron-accepting compound include those described in WO 2005/089024, and suitable examples thereof are also the same. Although the compound (A-2) represented by the following structural formula is mentioned, it is not limited to them at all.

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(カチオンラジカル化合物)
カチオンラジカル化合物とは、正孔輸送性化合物から一電子取り除いた化学種であるカチオンラジカルと、対アニオンからなるイオン化合物である。但し、カチオンラジカルが正孔輸送性の高分子化合物由来である場合、カチオンラジカルは高分子化合物の繰り返し単位から一電子取り除いた構造となる。
(Cation radical compound)
The cation radical compound is an ionic compound composed of a cation radical which is a chemical species obtained by removing one electron from a hole transporting compound and a counter anion. However, when the cation radical is derived from a hole transporting polymer compound, the cation radical has a structure in which one electron is removed from the repeating unit of the polymer compound.

カチオンラジカルは、正孔輸送性化合物に前述した化合物から一電子取り除いた化学種であることが好ましく、正孔輸送性化合物としてさらに好ましい化合物から一電子取り除いた化学種であることが非晶質性、可視光の透過率、耐熱性、溶解性等の点からさらに好ましい。   The cation radical is preferably a chemical species obtained by removing one electron from the aforementioned compound in the hole transporting compound, and is preferably a chemical species obtained by removing one electron from a compound more preferable as the hole transporting compound. From the viewpoints of visible light transmittance, heat resistance, solubility, and the like.

カチオンラジカル化合物は、前述の正孔輸送性化合物と電子受容性化合物を混合することにより生成させることができる。即ち、前述の正孔輸送性化合物と電子受容性化合物を混合することにより、正孔輸送性化合物から電子受容性化合物へと電子移動が起こり、正孔輸送性化合物のカチオンラジカルと対アニオンからなるカチオンイオン化合物が生成する。   The cation radical compound can be generated by mixing the hole transporting compound and the electron accepting compound. That is, by mixing the hole transporting compound and the electron accepting compound, electron transfer occurs from the hole transporting compound to the electron accepting compound, and the cation radical and the counter anion of the hole transporting compound are included. A cation ion compound is formed.

PEDOT/PSS(Adv.Mater.,2000年,12巻,481頁)やエメラルジン塩酸塩(J.Phys.Chem.,1990年,94巻,7716頁)等の高分子化合物由来のカチオンラジカル化合物は、酸化重合(脱水素重合)、即ち、モノマーを酸性溶液中で、ペルオキソ二硫酸塩等を用いて化学的に、又は、電気化学的に酸化することによっても生成する。この酸化重合(脱水素重合)の場合、モノマーが酸化されることにより、高分子化されるとともに、酸性溶液由来のアニオンを対アニオンとする、高分子の繰り返し単位から一電子取り除かれたカチオンラジカルが生成する。   Cationic radical compounds derived from polymer compounds such as PEDOT / PSS (Adv. Mater., 2000, 12, 481) and emeraldine hydrochloride (J. Phys. Chem., 1990, 94, 7716) It is also produced by oxidative polymerization (dehydrogenation polymerization), that is, by oxidizing the monomer chemically or electrochemically with peroxodisulfate in an acidic solution. In the case of this oxidative polymerization (dehydrogenation polymerization), the monomer is oxidized to be polymerized, and the cation radical is formed by removing one electron from the repeating unit of the polymer with an anion derived from an acidic solution as a counter anion. Produces.

正孔注入層3は、湿式製膜法又は真空蒸着法により陽極2上に形成される。   The hole injection layer 3 is formed on the anode 2 by a wet film forming method or a vacuum deposition method.

湿式製膜法による層形成の場合は、前述した各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)の1種又は2種以上の所定量を、必要により電荷のトラップにならないバインダー樹脂や塗布性改良剤を添加して、溶剤に溶解させて、塗布溶液を調製し、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ダイコート、フレキソ印刷、スクリーン印刷、インクジェット法等の湿式製膜法により陽極2上に塗布し、乾燥して、正孔注入層3を形成させる。   In the case of layer formation by a wet film-forming method, a predetermined amount of one or more of the aforementioned materials (hole transporting compound, electron accepting compound, cation radical compound) is not trapped as necessary. Add binder resin and coatability improver, dissolve in solvent, prepare coating solution, by wet film forming method such as spin coating, spray coating, dip coating, die coating, flexographic printing, screen printing, inkjet method etc. It is applied on the anode 2 and dried to form the hole injection layer 3.

ここで、乾燥は、200℃以上で行うことが好ましく、さらに好ましくは210℃以上、特に好ましくは230℃以上、通常350℃以下、好ましくは280℃以下である。乾燥温度が過度に低いと、溶媒に対する不溶化が不十分となる傾向がある。乾燥温度が過度に高いと、正孔注入層材料の一部が分解する傾向がある。乾燥時間は、通常30分以上、好ましくは1時間以上、好ましくは3時間以内、より好ましくは1時間以内である。乾燥時間が過度に短いと、溶媒に対する不溶化が不十分となる傾向がある。   Here, the drying is preferably performed at 200 ° C. or higher, more preferably 210 ° C. or higher, particularly preferably 230 ° C. or higher, usually 350 ° C. or lower, preferably 280 ° C. or lower. When the drying temperature is excessively low, insolubilization to a solvent tends to be insufficient. When the drying temperature is excessively high, part of the hole injection layer material tends to decompose. The drying time is usually 30 minutes or longer, preferably 1 hour or longer, preferably 3 hours or shorter, more preferably 1 hour or shorter. When the drying time is excessively short, insolubilization to the solvent tends to be insufficient.

湿式製膜法による層形成のために用いられる溶剤としては、前述の各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)を溶解することが可能な溶剤であれば、その種類は特に限定されないが、正孔注入層3に用いられる各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)を失活させる恐れのある、失活物質又は失活物質を発生させるものを含まないものが好ましい。好ましくは、エーテル系溶剤又はエステル系溶剤である。   As the solvent used for the layer formation by the wet film forming method, any solvent can be used as long as it can dissolve the above-mentioned materials (hole transporting compound, electron accepting compound, cation radical compound). Is not particularly limited, but generates a deactivated substance or deactivated substance that may deactivate each material (hole transporting compound, electron accepting compound, cation radical compound) used for the hole injection layer 3 What does not contain a thing is preferable. An ether solvent or an ester solvent is preferable.

真空蒸着法による層形成の場合には、前述した各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)の1種又は2種以上を真空容器内に設置されたるつぼに入れ(2種以上材料を用いる場合は各々のるつぼに入れ)、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度まで排気した後、るつぼを加熱して(2種以上材料を用いる場合は各々のるつぼを加熱して)、蒸発量を制御して蒸発させ(2種以上材料を用いる場合はそれぞれ独立に蒸発量を制御して蒸発させ)、るつぼと向き合って置かれた基板の陽極2上に正孔注入層3を形成させる。尚、2種以上の材料を用いる場合は、それらの混合物をるつぼに入れ、加熱し蒸発させて正孔注入層3の形成に用いることもできる。 In the case of forming a layer by vacuum deposition, one or more of the aforementioned materials (hole transporting compound, electron accepting compound, cation radical compound) are put in a crucible installed in a vacuum vessel ( When two or more materials are used, put them in each crucible), and after evacuating the inside of the vacuum vessel to about 10 −4 Pa with an appropriate vacuum pump, heat the crucible (if using two or more materials, each The crucible is heated), the amount of evaporation is controlled and evaporated (when two or more materials are used, the amount of evaporation is controlled independently), and the substrate is placed on the anode 2 facing the crucible. A hole injection layer 3 is formed. When two or more kinds of materials are used, a mixture of them can be put in a crucible, heated and evaporated to be used for forming the hole injection layer 3.

このようにして形成される正孔注入層3の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下の範囲である。尚、正孔注入層3は省略してもよい。   The film thickness of the hole injection layer 3 thus formed is usually in the range of 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less. The hole injection layer 3 may be omitted.

[4]正孔輸送層
正孔注入層3上に正孔輸送層4が設けられる。正孔輸送層4の材料としては、陽極2からの正孔注入効率が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが必要である。そのためには、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、しかも正孔移動度が大きく、更に安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが要求される。また、発光層5に接するために発光層5からの発光を消光したり、発光層5との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させないことが求められる。上記の一般的要求以外に、車載表示用の応用を考えた場合、素子には更に耐熱性が要求される。従って、ガラス転移温度(Tg)として85℃以上の値を有する材料が望ましい。
[4] Hole Transport Layer The hole transport layer 4 is provided on the hole injection layer 3. The material of the hole transport layer 4 needs to be a material that has a high hole injection efficiency from the anode 2 and can efficiently transport the injected holes. For this purpose, the ionization potential is low, the transparency to visible light is high, the hole mobility is high, the stability is high, and impurities that become traps are unlikely to be generated during manufacturing or use. Required. Further, in order to contact the light emitting layer 5, it is required not to quench the light emitted from the light emitting layer 5 or to form an exciplex with the light emitting layer 5 to reduce the efficiency. In addition to the above general requirements, when the application for in-vehicle display is considered, the element is further required to have heat resistance. Accordingly, a material having a glass transition temperature (Tg) of 85 ° C. or higher is desirable.

このような正孔輸送材料としては、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルで代表される2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4’,4’’−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン化合物(J.Lumin.,72−74巻、985頁、1997年)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Chem.Commun.,2175頁、1996年)、2,2’,7,7’−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン等のスピロ化合物(Synth.Metals,91巻、209頁、1997年)、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル等のカルバゾール誘導体等が挙げられる。これらの化合物は、1種を単独で用いてもよいし、必要に応じて複数種混合して用いてもよい。   Examples of such a hole transporting material include two or more condensed fragrances including two or more tertiary amines represented by 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl. Aromatics having a starburst structure such as aromatic diamines substituted with nitrogen atoms in the aromatic ring (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), 4,4 ′, 4 ″ -tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine, etc. Amine compounds (J. Lumin., 72-74, 985, 1997), aromatic amine compounds consisting of tetramers of triphenylamine (Chem. Commun., 2175, 1996), 2, 2 ′ , 7,7'-Tetrakis- (diphenylamino) -9,9'-spirobifluorene, etc. (Synth. Metals, 91, 209, 1997) , 4,4'-N, such as a carbazole derivative such as N'- dicarbazole biphenyl. These compounds may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of multiple types as needed.

上記の化合物以外に、正孔輸送層4の材料として、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルトリフェニルアミン(特開平7−53953号公報)、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン(Polym.Adv.Tech.,7巻、33頁、1996年)等の高分子材料が挙げられる。   In addition to the above compounds, polyarylene ether sulfone (Polym. Adv. Tech.) Containing polyvinyl carbazole, polyvinyl triphenylamine (Japanese Patent Laid-Open No. 7-53953), and tetraphenylbenzidine as a material for the hole transport layer 4. 7, Vol. 33, 1996).

また、正孔輸送層4は、重合性基を有する化合物を、熱及び/又は活性エネルギー線(紫外線、電子線、赤外線、マイクロ波等)の照射等により重合して得られる層であることが好ましい。
ここで「重合性基」とは、熱及び/又は活性エネルギー線の照射により、近傍に位置する他の分子の同一又は異なる基と反応して、新規な化学結合を生成する基をいう。重合性基としては、特に限定されるものではないが、例えば、不飽和二重結合、環状エーテル、ベンゾシクロブタン等を含む基が好ましい。
重合性化合物の例としては、前述した重合性基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーが挙げられるが、中でもモノマーが好ましい。
The hole transport layer 4 is a layer obtained by polymerizing a compound having a polymerizable group by irradiation with heat and / or active energy rays (ultraviolet rays, electron beams, infrared rays, microwaves, etc.). preferable.
Here, the “polymerizable group” refers to a group that reacts with the same or different groups of other molecules located in the vicinity by irradiation with heat and / or active energy rays to form a new chemical bond. Although it does not specifically limit as a polymeric group, For example, group containing an unsaturated double bond, cyclic ether, benzocyclobutane etc. is preferable.
Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and polymers having the above-described polymerizable group. Among them, monomers are preferable.

重合性化合物の具体例としては、例えば、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体、2,4,6−トリフェニルピリジン誘導体、C60誘導体、オリゴチオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体誘導体等が挙げられる。中でも、電気化学的安定性及び電荷輸送性が高いという理由から、トリフェニルアミンの部分構造と重合性基とを有する化合物が特に好ましい。 Specific examples of the polymerizable compound, for example, triarylamine derivatives, carbazole derivatives, fluorene derivatives, 2,4,6-triphenyl pyridine derivatives, C 60 derivatives, oligothiophene derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, condensed polycyclic An aromatic derivative, a metal complex derivative, etc. are mentioned. Among these, a compound having a partial structure of triphenylamine and a polymerizable group is particularly preferable because of high electrochemical stability and charge transportability.

正孔輸送層4は、スプレー法、印刷法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法等の通常の塗布法や、インクジェット法、スクリーン印刷法等各種印刷法等の湿式製膜法や、真空蒸着法等の乾式製膜法で形成することができる。   The hole transport layer 4 may be formed by a normal coating method such as a spray method, a printing method, a spin coating method, a dip coating method, or a die coating method, a wet film forming method such as various printing methods such as an ink jet method or a screen printing method, or a vacuum. It can be formed by a dry film forming method such as a vapor deposition method.

塗布法の場合は、正孔輸送材料の1種又は2種以上に、必要により正孔のトラップにならないバインダー樹脂や塗布性改良剤等の添加剤を添加し、適当な溶剤に溶解して塗布溶液を調製し、スピンコート法等の方法により陽極2上に塗布し、乾燥して正孔輸送層4を形成する。バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー樹脂は添加量が多いと正孔移動度を低下させるので、少ない方が望ましく、通常、正孔輸送層中の含有量で50重量%以下が好ましい。   In the case of the coating method, an additive such as a binder resin or a coating property improving agent that does not trap holes is added to one or more of the hole transport materials, if necessary, and dissolved in a suitable solvent. A solution is prepared, applied onto the anode 2 by a method such as spin coating, and dried to form the hole transport layer 4. Examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. When the amount of the binder resin added is large, the hole mobility is lowered. Therefore, the smaller amount is desirable, and the content in the hole transport layer is usually preferably 50% by weight or less.

真空蒸着法の場合には、正孔輸送材料を真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度にまで排気した後、るつぼを加熱して、正孔輸送材料を蒸発させ、るつぼと向かい合って置かれた、陽極2又は正孔注入層3が形成された基板1上に正孔輸送層4を形成させる。 In the case of the vacuum deposition method, the hole transport material is put in a crucible installed in a vacuum vessel, the inside of the vacuum vessel is evacuated to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump, and then the crucible is heated, The hole transport material is evaporated and the hole transport layer 4 is formed on the substrate 1 on which the anode 2 or the hole injection layer 3 is formed, which is placed facing the crucible.

正孔輸送層4の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。この様に薄い膜を一様に形成するためには、一般に真空蒸着法がよく用いられる。
尚、正孔輸送層4は必ずしも設ける必要はなく、正孔注入層3上に、後述する発光層5を直接形成してもよい。
The thickness of the hole transport layer 4 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less. In order to uniformly form such a thin film, a vacuum deposition method is generally used.
The hole transport layer 4 is not necessarily provided, and a light emitting layer 5 described later may be directly formed on the hole injection layer 3.

[5]発光層(有機発光層)
正孔輸送層4の上には、発光層5(有機発光層)が設けられる。発光層5は、発光性化合物を含み、電界を与えられた電極間において、陽極2から正孔注入層3を通じて注入された正孔と、陰極9から電子注入層8を通じて注入された電子との再結合により励起されて、主たる発光源となる。発光層5は発光性化合物(ドーパント)と1種又は2種以上のホスト材料を含むことが好ましい。
[5] Light emitting layer (organic light emitting layer)
A light emitting layer 5 (organic light emitting layer) is provided on the hole transport layer 4. The light-emitting layer 5 contains a light-emitting compound, and includes holes injected from the anode 2 through the hole injection layer 3 and electrons injected from the cathode 9 through the electron injection layer 8 between the electrodes to which an electric field is applied. Excited by recombination and becomes the main light source. The light emitting layer 5 preferably contains a light emitting compound (dopant) and one or more host materials.

本実施の形態では、発光層5に、発光性化合物として、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体からなる有機電界蛍光発光素子用材料が含まれることが好ましい。
ここで、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体として、下記化学式(1)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
In this Embodiment, it is preferable that the light emitting layer 5 contains the organic electroluminescent light emitting element material which consists of a 1,7- diarylamino naphthalene derivative as a luminescent compound.
Here, the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative is preferably a compound having a structure represented by the following chemical formula (1).

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(化学式(1)中、Ar〜Arは、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。) (In the chemical formula (1), Ar 1 to Ar 4 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.)

化学式(1)において、Ar〜Arで表される置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等に由来する芳香族炭化水素基が挙げられる。これらの中でも、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等が好ましい。 In the chemical formula (1), examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent represented by Ar 1 to Ar 4 include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, and tetracene. An aromatic hydrocarbon group derived from a ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, a triphenylene ring, a fluoranthene ring, or the like can be given. Among these, a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring and the like are preferable.

芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、2−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1以上8以下の直鎖または分岐のアルキル基;ビニル基、アリル基、1−ブテニル基等の炭素数1以上8以下のアルケニル基;エチニル基、プロパルギル基等の炭素数1以上8以下のアルキニル基;ベンジル基等の炭素数1以上8以下のアラルキル基;   Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group may have include, for example, carbon such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, 2-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, and tert-butyl group. A linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms; an alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, 1-butenyl group; 1 to 8 carbon atoms such as ethynyl group and propargyl group An alkynyl group; an aralkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as a benzyl group;

メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基等の置換基に炭素数1以上8以下のアルキル基を1つ以上有するアミノ基;フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等のアリールアミノ基;ピリジルアミノ基、チエニルアミノ基、ジチエニルアミノ基等のヘテロアリールアミノ基;アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基; An amino group having at least one alkyl group having 1 to 8 carbon atoms in a substituent such as a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group or a dibenzylamino group; an aryl such as a phenylamino group, a diphenylamino group or a ditolylamino group; Amino groups; heteroarylamino groups such as pyridylamino groups, thienylamino groups, and dithienylamino groups; acylamino groups such as acetylamino groups and benzoylamino groups;

メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等の炭素数1以上8以下のアルコキシ基;フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基等の芳香族炭化水素基や複素環基を有するアリールオキシ基;ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等の炭素数1以上8以下のアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数2以上13以下のアルコキシカルボニル基;アセトキシ基等の炭素数2以上13以下のアリールオキシカルボニル基; Alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group and butoxy group; aromatic hydrocarbon groups such as phenyloxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, pyridyloxy group and thienyloxy group Or an aryloxy group having a heterocyclic group; an acyl group having 1 to 8 carbon atoms such as formyl group, acetyl group or benzoyl group; an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms such as methoxycarbonyl group or ethoxycarbonyl group; An aryloxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, such as an acetoxy group;

メチルチオ基、エチルチオ基等の炭素数1以上8以下のアルキルチオ基;フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基等の炭素数1以上8以下のアリールチオ基;メシル基、トシル基等のスルホニル基;トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基等のシリル基;ジメシチルボリル基等のボリル基;ジフェニルホスフィノ基等のホスフィノ基等が挙げられる。 An alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms such as a methylthio group and an ethylthio group; an arylthio group having 1 to 8 carbon atoms such as a phenylthio group and a 1-naphthylthio group; a sulfonyl group such as a mesyl group and a tosyl group; Examples thereof include a silyl group such as a phenylsilyl group; a boryl group such as a dimesitylboryl group; a phosphino group such as a diphenylphosphino group.

これらの置換基は、さらに置換基を有してもよい。このような置換基としては、例えば、上記のようなアルキル基、ジアリールアミノ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基等が挙げられる。
ここで、芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等が由来の芳香族炭化水素基が挙げられる。
These substituents may further have a substituent. Examples of such substituents include alkyl groups, diarylamino groups, aromatic hydrocarbon groups, and aromatic heterocyclic groups as described above.
Here, as the aromatic hydrocarbon group, for example, a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring and the like are derived. Group hydrocarbon group.

また、芳香族複素環基としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環等が由来の芳香族複素環基等が挙げられる。   The aromatic heterocyclic group includes furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring. , Pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzisoxazole ring, benzisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, Aromatic heterocyclic groups derived from quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring and the like can be mentioned.

これらの置換基は、さらに置換基を有してもよい。さらに有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ジアリールアミノ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基等が挙げられる。   These substituents may further have a substituent. Furthermore, examples of the substituent that may be included include an alkyl group, a diarylamino group, an aromatic hydrocarbon group, and an aromatic heterocyclic group.

また、化学式(1)において、Ar〜Arで表される置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基は、さらに、脂肪族環と結合することが好ましい。このような脂肪族環としては、例えば、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等が挙げられる。これらの中でも、シクロペンタン環が好ましい。 In the chemical formula (1), the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent represented by Ar 1 to Ar 4 is preferably further bonded to an aliphatic ring. Examples of such an aliphatic ring include a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, and a cyclohexane ring. Among these, a cyclopentane ring is preferable.

本実施の形態では、化学式(1)で表される構造を有する1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体において、ナフタレン環の1位(R)及び7位(R)の炭素原子に置換基として結合するアリールアミノ基としては、アリールアミノ基上のアルキル置換基が脂環構造を有するもの、又は、アリールアミノ基上のアルキル置換基がアリール基と環状構造を有するものが好ましい。1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体が、このような構造のアリールアミノ基を有することにより、トルエン等の有機溶媒への溶解性が向上する。また、有機電界蛍光発光素子用材料として使用すると、良好な青発光色調が得られる。 In this embodiment, in the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative having the structure represented by the chemical formula (1), the carbon atom at the 1-position (R 1 ) and the 7-position (R 7 ) of the naphthalene ring is used as a substituent. The arylamino group to be bonded is preferably one in which the alkyl substituent on the arylamino group has an alicyclic structure, or the alkyl substituent on the arylamino group has an aryl group and a cyclic structure. When the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative has an arylamino group having such a structure, solubility in an organic solvent such as toluene is improved. Moreover, when it is used as a material for an organic electroluminescent light emitting device, a good blue emission color tone can be obtained.

ジアリールアミノナフタレン誘導体の中でも、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体が、有機電界蛍光発光素子用材料として良好な特性を有する理由は明確ではないが、ナフタレン環の1位(R)及び7位(R)の炭素原子にそれぞれアリールアミノ基が結合した非対称構造によるものと考えられる。 Among the diarylaminonaphthalene derivatives, it is not clear why the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative has good characteristics as a material for an organic electroluminescent device, but the 1-position (R 1 ) and 7-position ( This is considered to be due to an asymmetric structure in which an arylamino group is bonded to a carbon atom of R 7 ).

本実施の形態で使用する1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体のガラス転移温度(Tg)は、通常、80℃以上、好ましくは、100℃以上、より好ましくは、115℃以上、さらに好ましくは、130℃以上である。また、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体のトルエンに対する溶解度は、好ましくは、0.2重量%以上、より好ましくは、0.6重量%以上、さらに好ましくは、1.5重量%以上である。
ここで、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体は、発光層5において電場中で青色発光し、ドーパント又はホストとして、単独又は複数混合して用いられる。1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体のガラス転移温度(Tg)は、示差走査熱量計により測定される。また、トルエンに対する溶解度は、25℃におけるものである。
また、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体の分子量は、好ましくは400〜1,000、より好ましくは400〜800の化合物が挙げられる。
The glass transition temperature (Tg) of the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative used in this embodiment is usually 80 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, more preferably 115 ° C. or higher, and still more preferably 130 ° C. ℃ or more. The solubility of the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative in toluene is preferably 0.2% by weight or more, more preferably 0.6% by weight or more, and further preferably 1.5% by weight or more.
Here, the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative emits blue light in an electric field in the light emitting layer 5 and is used alone or in combination as a dopant or a host. The glass transition temperature (Tg) of the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative is measured by a differential scanning calorimeter. The solubility in toluene is at 25 ° C.
Moreover, the molecular weight of the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative is preferably 400 to 1,000, more preferably 400 to 800.

化学式(1)で表される1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体の具体例としては、例えば、下記の化合物が挙げられる。   Specific examples of the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative represented by the chemical formula (1) include the following compounds.

Figure 2008239948
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Figure 2008239948
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さらに、具体例を以下に例示する。
下記化学式(IA)で示される1,7―ジアリールアミノナフタレン誘導体において、置換基R〜置換基Rとして、ナフタレン環の1位(R)及び7位(R)の炭素原子に、置換基としてアリールアミノ基が結合し、その他の炭素原子に水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基を有する化合物1〜化合物12を表1に示す。
Furthermore, a specific example is illustrated below.
In the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative represented by the following chemical formula (IA), as substituents R 1 to R 8 , carbon atoms at the 1-position (R 1 ) and 7-position (R 7 ) of the naphthalene ring are as follows: Table 1 shows compounds 1 to 12 in which an arylamino group is bonded as a substituent and the other carbon atom has a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group.

Figure 2008239948
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Figure 2008239948
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ここで、表1中、−Hは水素原子であり、MEはメチル基であり、ETはエチル基であり、Phはフェニル基を表す。
また、アリールアミノ基であるAM1〜AM8の構造は、以下の通りである。
Here, in Table 1, -H is a hydrogen atom, ME is a methyl group, ET is an ethyl group, and Ph represents a phenyl group.
The structures of AM1 to AM8 that are arylamino groups are as follows.

Figure 2008239948
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Figure 2008239948
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Figure 2008239948
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本実施の形態において、発光性化合物として挙げられた1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体は、さらに必要に応じて、適宜、置換基を導入してもよい。
本実施の形態において、上述した1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体は、それぞれ単独、又は2種以上の1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体を組み合わせて使用してもよい。
In this embodiment, the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative exemplified as the light-emitting compound may further introduce a substituent as necessary.
In the present embodiment, the 1,7-diarylaminonaphthalene derivatives described above may be used alone or in combination of two or more 1,7-diarylaminonaphthalene derivatives.

本実施の形態において、有機電界蛍光発光素子の発光層5は、湿式製膜法により、上述した1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体と所定の有機溶剤を含む塗布溶液(有機電界蛍光発光素子用組成物、以下、「有機電界蛍光発光層塗布溶液」と言う。)を、陽極2上又は陽極2上に形成した正孔注入層3上又は正孔輸送層4上に塗布して形成される。尚、正孔輸送層4を設けない場合は、正孔注入層3上に塗布して形成される。   In the present embodiment, the light emitting layer 5 of the organic electroluminescent light emitting device is formed by applying a coating solution (composition for an organic electroluminescent light emitting device) containing the aforementioned 1,7-diarylaminonaphthalene derivative and a predetermined organic solvent by a wet film forming method. (Hereinafter referred to as “organic electroluminescent layer coating solution”) is applied on the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 formed on the anode 2 or the anode 2. If the hole transport layer 4 is not provided, it is formed by coating on the hole injection layer 3.

発光層5を湿式製膜法により形成する場合は、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体の1種または2種以上の所定量を、必要により電荷のトラップにならないバインダー樹脂や塗布性改良剤等を溶剤に溶解させた有機電界蛍光発光層塗布溶液を調製し、これをスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ダイコート、フレキソ印刷、スクリーン印刷、インクジェット法等の湿式製膜法により陽極2上に塗布し、乾燥して、発光層5を形成する。   When the light-emitting layer 5 is formed by a wet film forming method, a predetermined amount of one or two or more kinds of 1,7-diarylaminonaphthalene derivatives is added as necessary with a binder resin or a coating property improving agent that does not trap charges. An organic electroluminescent light emitting layer coating solution dissolved in a solvent is prepared, and this is applied onto the anode 2 by a wet film forming method such as spin coating, spray coating, dip coating, die coating, flexographic printing, screen printing, and inkjet method. And dried to form the light emitting layer 5.

(その他の成分)
有機電界蛍光発光層塗布溶液は、前述した有機電界蛍光発光素子用材料の他、各層に必要な材料をさらに含有していることが好ましい。このような他の成分として、例えば、電荷輸送材料が挙げられる。
このような電荷輸送材料としては、中心骨格に、好ましくは3以上、更に好ましくは4以上、また、好ましくは7以下、更に好ましくは6以下の芳香環が縮合した化合物が好ましい。その中心骨格としては、例えば、クリセン、ナフタセン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、コロネン、フルオランテン、ベンゾフェナントレン等が挙げられる。
(Other ingredients)
It is preferable that the organic electroluminescent light emitting layer coating solution further contains materials necessary for each layer in addition to the above-described materials for organic electroluminescent light emitting devices. Examples of such other components include charge transport materials.
As such a charge transport material, a compound in which an aromatic ring is condensed on a central skeleton, preferably 3 or more, more preferably 4 or more, and preferably 7 or less, more preferably 6 or less is preferable. Examples of the central skeleton include chrysene, naphthacene, anthracene, phenanthrene, pyrene, coronene, fluoranthene, and benzophenanthrene.

さらに、他の電荷輸送材料としては、例えば、アリールアミノ基が置換された縮合芳香族環化合物及び/又はアリールアミノ基が置換されたスチリル誘導体、後述する式(III)で表わされる縮合芳香族環化合物等が挙げられる。
アリールアミノ基が置換された縮合芳香族環化合物としては、国際公開第2006/070712号パンフレットにおいて式(6)〜式(11)で表わされる化合物が好ましい。尚、式(11)における核炭素数が5〜40のアリール基として、国際公開第2006/070712号パンフレットに記載されている例示の他に、ベンゾフェナンスリルも好ましい。
Furthermore, as other charge transport materials, for example, a condensed aromatic ring compound substituted with an arylamino group and / or a styryl derivative substituted with an arylamino group, a condensed aromatic ring represented by the formula (III) described later Compounds and the like.
As the condensed aromatic ring compound substituted with an arylamino group, compounds represented by the formulas (6) to (11) in International Publication No. 2006/070712 are preferable. In addition, as an aryl group having 5 to 40 nuclear carbon atoms in the formula (11), benzophenanthryl is also preferable in addition to the examples described in International Publication No. 2006/070712.

電荷輸送材料として、下記式(III)で表わされる縮合芳香族環化合物も好ましい。
Ar10−R (III)
ここで、式(III)中、Ar10は、置換もしくは無置換の核炭素数5以上40以下のアリール基である。このアリール基は、好ましくは3以上、更に好ましくは4以上、また、好ましくは7以下、さらに好ましくは6以下の芳香環核が縮合した構造を有する。Ar10の具体例としては、例えば、クリセニル基、ナフタセニル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、コロニル基、フルオランテニル基、ベンゾフェナンスリル基、アセナフトフルオランテニル基、フルオレニル基等が挙げられる。
式(III)中、Rは、水素原子、脂環炭化水素基又は国際公開第2006/070712号パンフレットにおける式(11)のアリール基の置換基として例示された基から選択される。脂環炭化水素基としては、例えば、炭素数5以上炭素数8以下の脂環式炭化水素基が好ましく、具体例としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。また、国際公開第2006/070712号パンフレットにおける式(11)のアリール基の置換基として例示された基の中でも、アルキル基が好ましく、特に、3級炭素原子または4級炭素原子を基内に有するアルキル基が好ましく、中でも炭素数4以上炭素数15以下のアルキル基が好ましい。
As the charge transport material, a condensed aromatic ring compound represented by the following formula (III) is also preferable.
Ar 10 -R (III)
Here, in the formula (III), Ar 10 is a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 40 nuclear carbon atoms. This aryl group preferably has a structure in which aromatic ring nuclei are condensed to 3 or more, more preferably 4 or more, preferably 7 or less, more preferably 6 or less. Specific examples of Ar 10 include, for example, chrysenyl group, naphthacenyl group, anthryl group, phenanthryl group, pyrenyl group, coronyl group, fluoranthenyl group, benzophenanthryl group, acenaphthofluoranthenyl group, fluorenyl group and the like. Can be mentioned.
In the formula (III), R is selected from a hydrogen atom, an alicyclic hydrocarbon group, or a group exemplified as a substituent for the aryl group of the formula (11) in WO 2006/070712. As the alicyclic hydrocarbon group, for example, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms is preferable, and specific examples include a cyclohexyl group and a cyclopentyl group. Further, among the groups exemplified as the substituent of the aryl group of the formula (11) in the pamphlet of International Publication No. 2006/070712, an alkyl group is preferable, and a tertiary carbon atom or a quaternary carbon atom is particularly preferable. An alkyl group is preferable, and an alkyl group having 4 to 15 carbon atoms is particularly preferable.

他の電荷輸送材料は、ホスト材料であっても、ドーパント材料であってもよい。他の電荷輸送材料の発光層中の含有量は、好ましくは、有機電界蛍光発光層塗布溶液との合計量で、0.1重量%〜98重量%、さらに0.3重量%〜97重量%含まれていることが好ましい。   The other charge transport material may be a host material or a dopant material. The content of the other charge transport material in the light emitting layer is preferably 0.1% to 98% by weight, more preferably 0.3% to 97% by weight, in total with the organic electroluminescent light emitting layer coating solution. It is preferably included.

有機電界蛍光発光層塗布溶液には、必要に応じて、上記の化合物等の他に、さらに他の化合物を含有していてもよい。例えば、上記の溶剤とは異なる他の溶剤を含有していてもよい。そのような溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。また、成膜性の向上を目的として、レベリング剤や消泡剤等の各種添加剤を含有してもよい。   In addition to said compound etc., the organic electroluminescent light emitting layer coating solution may further contain other compounds as required. For example, you may contain the other solvent different from said solvent. Examples of such solvents include amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; dimethyl sulfoxide and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio. Moreover, you may contain various additives, such as a leveling agent and an antifoamer, for the purpose of the improvement of film formability.

発光層5を湿式成膜法により形成する場合、成膜は通常10℃以上、好ましくは13℃以上、さらに好ましくは16℃以上、通常50℃以下、好ましくは40℃以下、さらに好ましくは30℃以下で行われる。また、相対湿度は、通常、0.01%以上、好ましくは0.05%以上、好ましくは80%以下、より好ましくは60%以下で行われる。また、酸素濃度は、通常0.01ppm以上、より好ましくは0.05ppm以上、好ましくは50%以下、より好ましくは25%以下である。   When the light emitting layer 5 is formed by a wet film formation method, the film formation is usually 10 ° C. or higher, preferably 13 ° C. or higher, more preferably 16 ° C. or higher, usually 50 ° C. or lower, preferably 40 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. It is done in the following. The relative humidity is usually 0.01% or more, preferably 0.05% or more, preferably 80% or less, more preferably 60% or less. Moreover, oxygen concentration is 0.01 ppm or more normally, More preferably, it is 0.05 ppm or more, Preferably it is 50% or less, More preferably, it is 25% or less.

本実施の形態において、上述した有機電界蛍光発光層塗布溶液に含まれる溶剤としては種々の溶剤が適用可能であり、特に限定されない。   In the present embodiment, various solvents can be used as the solvent contained in the organic electroluminescent light emitting layer coating solution described above, and are not particularly limited.

例えば、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル;シクロヘキサノン、シクロオクタノン等の脂環を有するケトン;メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン;メチルエチルケトン、シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環を有するアルコール;ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル等が挙げられる。   For example, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene and tetralin; halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and trichlorobenzene; 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene and anisole , Phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethylanisole and other aromatic ethers; phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, benzoic acid Aromatic esters such as ethyl, propyl benzoate and n-butyl benzoate; ketones having an alicyclic ring such as cyclohexanone and cyclooctanone; aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone; methyl ethyl ketone and cyclohexano Alcohol having an alicyclic ring such as ruthenium or cyclooctanol; Aliphatic alcohol such as butanol or hexanol; Aliphatic ether such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether or propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); Ethyl acetate And aliphatic esters such as n-butyl acetate, ethyl lactate and n-butyl lactate.

これらの中でも、水の溶解度が低い点、容易には変質しない点で、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素が好ましく、特に、インクジェット法による湿式製膜法において、欠陥がなく膜厚均一性の優れた有機電界蛍光発光素子の発光層を形成しやすいために好ましい。   Among these, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, and tetralin are preferred in terms of low water solubility and not easily denatured. This is preferable because it is easy to form a light emitting layer of an organic electroluminescent device having excellent film thickness uniformity.

有機電界蛍光発光素子には、陰極等の水分により著しく劣化する材料が多く使用されているため、有機電界蛍光発光層塗布溶液中の水分の存在は、乾燥後の膜中に水分が残留し、素子の特性を低下させる可能性が考えられ好ましくない。
有機電界蛍光発光層塗布溶液中の水分量を低減する方法としては、例えば、窒素ガスシール、乾燥剤の使用、溶剤を予め脱水する、水の溶解度が低い溶剤を使用する等が挙げられる。なかでも、水の溶解度が低い溶剤を使用する場合は、湿式製膜工程中に、溶液膜が大気中の水分を吸収して白化する現象を防ぐことができるため好ましい。この様な観点からは、例えば、25℃における水の溶解度が1重量%以下、好ましくは0.1重量%以下である溶剤を、組成物中10重量%以上含有することが好ましい。
Since organic electroluminescent light emitting elements use many materials such as cathodes that deteriorate significantly due to moisture, the presence of moisture in the organic electroluminescent light emitting layer coating solution leaves moisture in the dried film, There is a possibility of deteriorating the characteristics of the element, which is not preferable.
Examples of a method for reducing the amount of water in the organic electroluminescent layer coating solution include nitrogen gas sealing, use of a desiccant, dehydration of the solvent in advance, use of a solvent with low water solubility, and the like. In particular, it is preferable to use a solvent having low water solubility because the solution film can prevent whitening by absorbing moisture in the atmosphere during the wet film-forming process. From such a viewpoint, for example, it is preferable to contain 10% by weight or more of a solvent having a water solubility at 25 ° C. of 1% by weight or less, preferably 0.1% by weight or less.

また、湿式製膜時に溶剤が蒸発することにより製膜安定性が低下することを防止するためには、沸点が100℃以上、好ましくは沸点が150℃以上、より好ましくは沸点が200℃以上の溶剤を用いることが効果的である。
また、より均一な膜を得るためには、製膜直後の液膜から溶剤が適当な速度で蒸発することが必要で、このためには通常沸点80℃以上、好ましくは沸点100℃以上、より好ましくは沸点120℃以上で、通常沸点270℃未満、好ましくは沸点250℃未満、より好ましくは沸点230℃未満の溶剤を用いることが効果的である。溶剤は、単独又は2種類以上の溶剤を混合して用いることもできる。
また、より均一な膜を得るためには、必要に応じて、真空乾燥、加熱乾燥、製膜から乾燥処理までの時間の最適化等を施すこともできる。
Further, in order to prevent the film formation stability from being reduced by evaporation of the solvent during wet film formation, the boiling point is 100 ° C. or higher, preferably the boiling point is 150 ° C. or higher, more preferably the boiling point is 200 ° C. or higher. It is effective to use a solvent.
In order to obtain a more uniform film, it is necessary for the solvent to evaporate from the liquid film immediately after film formation at an appropriate rate. For this purpose, the boiling point is usually 80 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher. It is effective to use a solvent having a boiling point of 120 ° C. or more, usually less than 270 ° C., preferably less than 250 ° C., more preferably less than 230 ° C. A solvent can also be used individually or in mixture of 2 or more types of solvents.
In order to obtain a more uniform film, vacuum drying, heat drying, optimization of time from film formation to drying treatment, and the like can be performed as necessary.

本実施の形態においては、発光層5以外に、正孔注入層3及び後述の電子注入層8等の有機層を有する場合、発光層5と正孔注入層3や電子注入層8の他の有機層とを合わせた総膜厚は通常30nm以上、好ましくは50nm以上であり、さらに好ましくは100nm以上で、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下であり、さらに好ましくは300nm以下である。また、発光層5以外の正孔注入層3や後述の電子注入層8の導電性が高い場合、発光層5に注入される電荷量が増加する為、例えば正孔注入層3の膜厚を厚くして発光層5の膜厚を薄くし、総膜厚をある程度の膜厚を維持したまま駆動電圧を下げることも可能である。   In the present embodiment, in addition to the light emitting layer 5, when an organic layer such as the hole injection layer 3 and an electron injection layer 8 described later is provided, The total film thickness combined with the organic layer is usually 30 nm or more, preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less, and more preferably 300 nm or less. In addition, when the conductivity of the hole injection layer 3 other than the light emitting layer 5 and the electron injection layer 8 described later is high, the amount of charge injected into the light emitting layer 5 increases. It is also possible to reduce the drive voltage while increasing the thickness to reduce the thickness of the light emitting layer 5 while maintaining the total thickness to some extent.

よって、発光層5の膜厚は、通常10nm以上、好ましくは20nm以上で、通常300nm以下、好ましくは200nm以下である。尚、本発明の素子が、陽極2及び陰極9の両極間に、発光層5のみを有する場合の発光層5の膜厚は、通常30nm以上、好ましくは50nm以上、通常500nm以下、好ましくは300nm以下である。   Therefore, the film thickness of the light emitting layer 5 is usually 10 nm or more, preferably 20 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 200 nm or less. When the element of the present invention has only the light emitting layer 5 between the anode 2 and the cathode 9, the thickness of the light emitting layer 5 is usually 30 nm or more, preferably 50 nm or more, usually 500 nm or less, preferably 300 nm. It is as follows.

[6]正孔阻止層
正孔阻止層6は正孔と電子を発光層5内に閉じこめて、発光効率を向上させる機能を有する。即ち、正孔阻止層6は、発光層5から移動してくる正孔が電子輸送層7に到達するのを阻止することで、発光層5内で電子との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層5内に閉じこめる役割と、電子輸送層7から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送する役割がある。
[6] Hole blocking layer The hole blocking layer 6 has a function of confining holes and electrons in the light emitting layer 5 and improving luminous efficiency. That is, the hole blocking layer 6 is generated by increasing the recombination probability with electrons in the light emitting layer 5 by blocking the holes moving from the light emitting layer 5 from reaching the electron transport layer 7. There is a role of confining excitons in the light emitting layer 5 and a role of efficiently transporting electrons injected from the electron transport layer 7 in the direction of the light emitting layer 5.

正孔阻止層6は、陽極2から移動してくる正孔を陰極9に到達するのを阻止する役割と、陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物により、発光層5の上に、発光層5の陰極9側の界面に接するように積層形成される。   The hole blocking layer 6 can prevent holes moving from the anode 2 from reaching the cathode 9 and can efficiently transport electrons injected from the cathode 9 toward the light emitting layer 5. The compound is laminated on the light emitting layer 5 so as to be in contact with the interface of the light emitting layer 5 on the cathode 9 side.

正孔阻止層6を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。   The physical properties required for the material constituting the hole blocking layer 6 include high electron mobility, low hole mobility, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and excited triplet level (T1). Is high.

このような条件を満たす正孔阻止層6の材料としては、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報)が挙げられる。   Examples of the material of the hole blocking layer 6 that satisfies such conditions include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum, and the like. Mixed ligand complexes, metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolinato) aluminum binuclear metal complexes, styryls such as distyrylbiphenyl derivatives Compounds (JP-A-11-242996), triazole derivatives such as 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole (JP-A-7- 41759) and phenanthroline derivatives such as bathocuproine (Japanese Patent Laid-Open No. 10-79297).

さらに、国際公開05/022962号パンフレットに記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も正孔阻止材料として好ましい。   Furthermore, a compound having at least one pyridine ring substituted at the 2,4,6-positions described in WO05 / 022962 is also preferable as the hole blocking material.

正孔阻止層6の膜厚は、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上で、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。正孔阻止層6は正孔注入層3と同様の方法で形成することができるが、通常は真空蒸着法が用いられる。   The film thickness of the hole blocking layer 6 is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less. The hole blocking layer 6 can be formed by the same method as the hole injection layer 3, but usually a vacuum deposition method is used.

[7]電子輸送層
電子輸送層7は素子の発光効率をさらに向上させることを目的として、発光層5と電子注入層8との間に設けられる。
電子輸送層7は、電界を与えられた電極間において陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物より形成される。電子輸送層7に用いられる電子輸送性化合物としては、陰極9又は電子注入層8からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物であることが必要である。
[7] Electron Transport Layer The electron transport layer 7 is provided between the light emitting layer 5 and the electron injection layer 8 for the purpose of further improving the light emission efficiency of the device.
The electron transport layer 7 is formed of a compound that can efficiently transport electrons injected from the cathode 9 between electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer 5. As the electron transporting compound used for the electron transport layer 7, the electron injection efficiency from the cathode 9 or the electron injection layer 8 is high, and the injected electrons can be efficiently transported with high electron mobility. It must be a compound.

このような条件を満たす材料としては、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−又は5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5,645,948号)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛等が挙げられる。   Materials satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole derivatives, di- Styryl biphenyl derivative, silole derivative, 3- or 5-hydroxyflavone metal complex, benzoxazole metal complex, benzothiazole metal complex, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compound No. 207169), phenanthroline derivatives (Japanese Patent Laid-Open No. 5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N′-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide, n-type sulfide Examples include zinc and n-type zinc selenide.

電子輸送層7の膜厚は、通常下限は1nm、好ましくは5nm程度であり、上限は通常300nm、好ましくは100nm程度である。電子輸送層7は、正孔注入層3と同様にして湿式製膜法、或いは真空蒸着法により発光層5上に積層することにより形成される。通常は、真空蒸着法が用いられる。   The lower limit of the thickness of the electron transport layer 7 is usually 1 nm, preferably about 5 nm, and the upper limit is usually about 300 nm, preferably about 100 nm. The electron transport layer 7 is formed by laminating on the light emitting layer 5 by a wet film forming method or a vacuum deposition method in the same manner as the hole injection layer 3. Usually, a vacuum deposition method is used.

[8]電子注入層
電子注入層8は陰極9から注入された電子を効率よく発光層5へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行うには、電子注入層8を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましく、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウム等のアルカリ土類金属が用いられる。電子注入層8の膜厚は0.1nm〜5nmが好ましい。
[8] Electron Injection Layer The electron injection layer 8 serves to efficiently inject electrons injected from the cathode 9 into the light emitting layer 5. In order to perform electron injection efficiently, the material for forming the electron injection layer 8 is preferably a metal having a low work function, and an alkali metal such as sodium or cesium, or an alkaline earth metal such as barium or calcium is used. The thickness of the electron injection layer 8 is preferably 0.1 nm to 5 nm.

また、陰極9と発光層5又は後述の電子輸送層7との界面にLiF、MgF、LiO、CsCO等の極薄絶縁膜(0.1〜5nm)を挿入することも、素子の効率を向上させる有効な方法である(Appl.Phys.Lett.,70巻,152頁,1997年;特開平10−74586号公報;IEEETrans.Electron.Devices,44巻,1245頁,1997年;SID 04 Digest,154頁)。 Also, an ultrathin insulating film (0.1 to 5 nm) such as LiF, MgF 2 , Li 2 O, Cs 2 CO 3 may be inserted at the interface between the cathode 9 and the light emitting layer 5 or the electron transport layer 7 described later. This is an effective method for improving the efficiency of the device (Appl. Phys. Lett., 70, 152, 1997; Japanese Patent Laid-Open No. 10-74586; IEEE Trans. Electron. Devices, 44, 1245, 1997). Year; SID 04 Digest, page 154).

さらに、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体に代表される有機電子輸送材料に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特開2002−100478号公報、特開2002−100482号公報等に記載)ことにより、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。この場合の膜厚は通常5nm以上、好ましくは10nm以上で、通常200nm以下、好ましくは100nm以下である。   Furthermore, an organic electron transport material represented by a metal complex such as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium, rubidium ( As described in JP-A-10-270171, JP-A-2002-1000047, JP-A-2002-1000048, and the like, it is possible to improve electron injection / transport properties and achieve excellent film quality. preferable. The film thickness in this case is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

電子注入層8は、発光層5と同様にして湿式製膜法、或いは真空蒸着法により発光層5上に積層することにより形成される。真空蒸着法の場合には、真空容器内に設置されたるつぼ又は金属ボートに蒸着源を入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度にまで排気した後、るつぼ又は金属ボートを加熱して蒸発させ、るつぼ又は金属ボートと向き合って置かれた基板上に電子注入層8を形成する。 The electron injection layer 8 is formed by laminating on the light emitting layer 5 by the wet film forming method or the vacuum deposition method in the same manner as the light emitting layer 5. In the case of the vacuum vapor deposition method, the vapor deposition source is put in a crucible or metal boat installed in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is evacuated to about 10 −4 Pa with an appropriate vacuum pump, and then the crucible or metal boat is By heating and evaporating, the electron injection layer 8 is formed on the substrate placed facing the crucible or the metal boat.

アルカリ金属の蒸着は、クロム酸アルカリ金属と還元剤をニクロムに充填したアルカリ金属ディスペンサーを用いて行う。このディスペンサーを真空容器内で加熱することにより、クロム酸アルカリ金属が還元されてアルカリ金属が蒸発される。有機電子輸送材料とアルカリ金属とを共蒸着する場合は、有機電子輸送材料を真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度にまで排気した後、各々のるつぼ及びディスペンサーを同時に加熱して蒸発させ、るつぼ及びディスペンサーと向き合って置かれた基板上に電子注入層8を形成する。このとき、電子注入層8の膜厚方向において均一に共蒸着されるが、膜厚方向において濃度分布があっても構わない。尚、電子注入層8は、これを省略してもよい。 The alkali metal is deposited using an alkali metal dispenser in which nichrome is filled with an alkali metal chromate and a reducing agent. By heating the dispenser in a vacuum container, the alkali metal chromate is reduced and the alkali metal is evaporated. In the case of co-evaporating the organic electron transport material and the alkali metal, the organic electron transport material is put in a crucible installed in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is evacuated to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump. Each crucible and dispenser are simultaneously heated and evaporated to form an electron injection layer 8 on the substrate placed facing the crucible and dispenser. At this time, co-evaporation is uniformly performed in the film thickness direction of the electron injection layer 8, but there may be a concentration distribution in the film thickness direction. The electron injection layer 8 may be omitted.

[9]陰極
陰極9は、発光層5側の層(電子注入層8又は発光層5等)に電子を注入する役割を果たす。陰極9として用いられる材料は、前記陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率よく電子注入を行うには、仕事関数の低い金属が好ましく、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属又はそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。
[9] Cathode The cathode 9 plays a role of injecting electrons into a layer (such as the electron injection layer 8 or the light emitting layer 5) on the light emitting layer 5 side. The material used for the cathode 9 can be the material used for the anode 2, but a metal having a low work function is preferable for efficient electron injection, and tin, magnesium, indium, calcium, A suitable metal such as aluminum or silver or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

陰極9の膜厚は通常、陽極2と同様である。低仕事関数金属から成る陰極を保護する目的で、この上にさらに、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層することは素子の安定性を増す。この目的のために、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。   The film thickness of the cathode 9 is usually the same as that of the anode 2. For the purpose of protecting the cathode made of a low work function metal, further laminating a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere on the cathode increases the stability of the device. For this purpose, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold, platinum are used.

[10]その他の構成層
以上、図1に示す層構成の素子を中心に説明してきたが、本実施の形態においては、有機電界蛍光発光素子における陽極2及び陰極9と発光層5との間には、その性能を損なわない限り任意の層を有していてもよく、また発光層5以外の任意の層を省略してもよい。例えば、電子輸送層7及び正孔阻止層6は必要に応じて、適宜設ければよく、1)電子輸送層7のみ、2)正孔阻止層6のみ、3)正孔阻止層6/電子輸送層7の積層、4)用いない等の用法がある。
[10] Other Constituent Layers Although the above description has focused on the element having the layer structure shown in FIG. 1, in the present embodiment, between the anode 2 and the cathode 9 and the light emitting layer 5 in the organic electroluminescent device. May have any layer as long as its performance is not impaired, and any layer other than the light emitting layer 5 may be omitted. For example, the electron transport layer 7 and the hole blocking layer 6 may be appropriately provided as necessary. 1) Only the electron transport layer 7 2) Only the hole blocking layer 6 3) Hole blocking layer 6 / electron There are usages such as stacking of the transport layer 7, 4) not using, and the like.

正孔阻止層6と同様の目的で、正孔注入層3と発光層5の間に電子阻止層(図示せず。)を設けることも効果的である。電子阻止層は、発光層5から移動してくる電子が正孔注入層3に到達するのを阻止することで、発光層5内で正孔との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層5内に閉じこめる役割と、正孔注入層3から注入された正孔を効率よく発光層5の方向に輸送する役割がある。   For the same purpose as the hole blocking layer 6, it is also effective to provide an electron blocking layer (not shown) between the hole injection layer 3 and the light emitting layer 5. The electron blocking layer prevents electrons moving from the light emitting layer 5 from reaching the hole injection layer 3, thereby increasing the recombination probability with holes in the light emitting layer 5, and generating generated excitons. There is a role of confining in the light emitting layer 5 and a role of efficiently transporting holes injected from the hole injection layer 3 in the direction of the light emitting layer 5.

電子阻止層に求められる特性としては、正孔輸送性が高く、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。また、本実施の形態では、発光層5が湿式製膜法で形成されることが好ましく、その場合、電子阻止層も湿式製膜法で形成することが、素子製造が容易となるため、好ましい。
このため、電子阻止層も湿式製膜適合性を有することが好ましく、このような電子阻止層に用いられる材料としては、例えば、F8−TFBに代表されるジオクチルフルオレンとトリフェニルアミンの共重合体(WO2004/084260号公報記載)等が挙げられる。
The characteristics required for the electron blocking layer include high hole transportability, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and a high excited triplet level (T1). In the present embodiment, it is preferable that the light emitting layer 5 is formed by a wet film forming method, and in that case, it is preferable that the electron blocking layer is also formed by a wet film forming method because the device manufacturing becomes easy. .
For this reason, it is preferable that the electron blocking layer also has wet film formation compatibility. As a material used for such an electron blocking layer, for example, a copolymer of dioctylfluorene and triphenylamine typified by F8-TFB is used. (Described in WO 2004/084260).

尚、図1とは逆の構造、即ち、基板1上に陰極9、電子注入層8、発光層5、正孔注入層3、陽極2の順に積層することも可能であり、既述したように少なくとも一方が透明性の高い2枚の基板の間に有機電界蛍光発光素子を設けることも可能である。
さらに、図1に示す層構成を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その際には段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合はその2層)の代わりに、例えばV等を電荷発生層(CGL)として用いると段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からもより好ましい。
Note that the structure opposite to that shown in FIG. 1, that is, the cathode 9, the electron injection layer 8, the light emitting layer 5, the hole injection layer 3, and the anode 2 can be laminated on the substrate 1 in this order. It is also possible to provide an organic electroluminescent device between two substrates, at least one of which is highly transparent.
Furthermore, a structure in which a plurality of layers shown in FIG. 1 are stacked (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) may be employed. In that case, instead of the interfacial layer (between the light emitting units) (when the anode is ITO and the cathode is Al, the two layers), for example, V 2 O 5 is used as the charge generation layer (CGL). This is more preferable from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage.

本実施の形態が適用される有機電界蛍光発光素子は、単一の素子、アレイ状に配置された構造からなる素子、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構造のいずれにおいても適用することができる。
本実施の形態が適用される有機電界蛍光発光素子は、カラーディスプレイモジュール基板、カラーディスプレイ表示装置、カラーディスプレイテレビ等の大面積を有するカラーディスプレイ用途に適用することができる。
さらに、本実施の形態が適用される有機電界蛍光発光素子は、有機ELディスプレイにおける有機電界蛍光発光素子として使用できる。この場合、有機ELディスプレイは、透明支持基板と当該透明支持基板上に積層された有機電界蛍光発光素子とから構成される。
The organic electroluminescent light emitting device to which this embodiment is applied is applicable to any of a single device, an element having a structure arranged in an array, and a structure in which an anode and a cathode are arranged in an XY matrix. can do.
The organic electroluminescent light emitting device to which this embodiment is applied can be applied to color display applications having a large area, such as a color display module substrate, a color display display device, and a color display television.
Furthermore, the organic electroluminescent element to which this embodiment is applied can be used as an organic electroluminescent element in an organic EL display. In this case, the organic EL display is composed of a transparent support substrate and an organic electroluminescent element laminated on the transparent support substrate.

(有機ELディスプレイ)
次に、有機ELディスプレイについて説明する。
本実施の形態が適用される有機ELディスプレイは、少なくとも透明支持基板と透明支持基板上に積層された有機電界発光素子とを有し、有機電界発光素子として、上述した有機電界発光素子用材料又は有機電界発光素子用組成物を用いて形成された有機層を備える有機電界発光素子を使用することにより、例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社,平成16年8月20日発行,時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような有機ELディスプレイを形成することができる。
(Organic EL display)
Next, an organic EL display will be described.
The organic EL display to which the present embodiment is applied has at least a transparent support substrate and an organic electroluminescent element laminated on the transparent support substrate. As the organic electroluminescent element, the organic electroluminescent element material described above or By using an organic electroluminescent device comprising an organic layer formed using a composition for organic electroluminescent devices, for example, “Organic EL Display” (Ohm Co., Ltd., issued on August 20, 2004, Shizushi Tokito An organic EL display as described in Chiyaya Adachi and Hideyuki Murata) can be formed.

以下、実施例に基づき本発明をさらに詳細に説明する。本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。尚、特に断りがない限り、以下の記載において部とは重量部のことを指す。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The present invention is not limited to the following examples without departing from the gist thereof. In addition, unless otherwise indicated, in the following description, a part refers to a weight part.

(1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体のトルエンに対する溶解度の測定)
内容量2mL〜10mLのガラス製サンプル瓶に、1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体(通常、3mg〜10mgの範囲)とトルエンを投入し、ガラス製サンプル瓶の蓋を閉じ、撹拌、超音波照射または加熱処理し、溶質の溶解を極力促進させる。次に、ガラス製サンプル瓶を、25℃下、10時間以上静置した後、溶解度を測定した。
(Measurement of solubility of 1,7-diarylaminonaphthalene derivative in toluene)
1,7-diarylaminonaphthalene derivative (usually in the range of 3 mg to 10 mg) and toluene are put into a glass sample bottle having an internal volume of 2 mL to 10 mL, the lid of the glass sample bottle is closed, stirring, ultrasonic irradiation or Heat treatment to promote solute dissolution as much as possible. Next, the glass sample bottle was allowed to stand at 25 ° C. for 10 hours or more, and then the solubility was measured.

(1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体のガラス転移温度(Tg)の測定)
1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体のガラス転移温度(Tg)は、示差走査熱量計(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社社製:DSC6220)により測定した。
(Measurement of glass transition temperature (Tg) of 1,7-diarylaminonaphthalene derivative)
The glass transition temperature (Tg) of the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative was measured with a differential scanning calorimeter (manufactured by SII Nanotechnology Inc .: DSC6220).

(1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体の合成)
以下に示す化合物Am1、化合物Am2、化合物BR1、化合物BR2及び化合物BR3を用いて、2種類の1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体(DDD−1、DDD−2)を合成した。
(Synthesis of 1,7-diarylaminonaphthalene derivative)
Two kinds of 1,7-diarylaminonaphthalene derivatives (DDD-1 and DDD-2) were synthesized using the following compound Am1, compound Am2, compound BR1, compound BR2, and compound BR3.

Figure 2008239948
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Figure 2008239948
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[化合物DDD−1の合成]
1,7−ジブロモナフタレン化合物BR3(2.85g、10mmol、分子量285.96)と、トルエン100mlと、化合物Am1(2.62g.22mmol、分子量133.19)と、トリスーターシャリーブチルフォスフィン(0.2g)及びターシャリーブチルナトリウム(2.1g)とを含有する溶液を、窒素バブリングしながら、30分間撹拌したのち、窒素トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパジウム(0)(0.18g)を添加した。次いで、この反応溶液を80℃に昇温し、3時間保持した。
続いて、反応溶液の温度を室温に戻し、脱塩水100mlを入れ、分液し、有機層をエバポレートした後、展開溶液(ヘキサン/酢酸エチル=90/10)を用い、カラム(和光純薬株式会社製シリカ;ワコーゲルC−200)にて精製し、純度99%の黄色固体化合物Am2を2.05g得た。
[Synthesis of Compound DDD-1]
1,7-dibromonaphthalene compound BR3 (2.85 g, 10 mmol, molecular weight 285.96), toluene 100 ml, compound Am1 (2.62 g.22 mmol, molecular weight 133.19), trisuterary butylphosphine (0 0.2 g) and tertiary butyl sodium (2.1 g) were stirred for 30 minutes while bubbling nitrogen, and then nitrogen tris (dibenzylideneacetone) dipadium (0) (0.18 g) was added. . The reaction solution was then heated to 80 ° C. and held for 3 hours.
Subsequently, the temperature of the reaction solution was returned to room temperature, 100 ml of demineralized water was added, liquid separation was performed, and the organic layer was evaporated. Then, using a developing solution (hexane / ethyl acetate = 90/10), a column (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used. Purification by company silica; Wakogel C-200) gave 2.05 g of 99% pure yellow solid compound Am2.

次に、化合物Am2(3.5g、10mmol)、トルエン100ml、化合物Am1(2.62g、2.2mmol)、トリスーターシャリーブチルフォスフィン(0.2g)、4−ブロモビフェニル(化合物BR2)(5.12g、22mmol)、ターシャリーブチルナトリウム(2.1g)を含有する溶液を、窒素バブリングしながら、30分間撹拌した後、これにトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパジウム(0)(0.18g)添加した。次いで、この反応溶液を80℃に昇温し、3時間保持した。   Next, Compound Am2 (3.5 g, 10 mmol), Toluene 100 ml, Compound Am1 (2.62 g, 2.2 mmol), Tri-tertiary butylphosphine (0.2 g), 4-bromobiphenyl (Compound BR2) (5 .12 g, 22 mmol) and a solution containing tertiary butyl sodium (2.1 g) were stirred for 30 minutes while bubbling nitrogen, and then tris (dibenzylideneacetone) dipadium (0) (0.18 g) was added thereto. did. The reaction solution was then heated to 80 ° C. and held for 3 hours.

続いて、反応溶液の温度を室温に戻し、脱塩水100mlを入れ、分液し、有機層をエバポレートした後、展開溶液(ヘキサン/酢酸エチル=90/10)を用い、カラム(和光純薬株式会社製シリカ;ワコーゲルC−200)にて精製し、純度99%である1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体の黄色固体(化合物DDD−1)を1.9g得た。尚、化合物DDD−1のH−NMR測定の結果は以下の通りである。また、化学式を以下に示す。
(NMR測定の結果)
2.01(m,4H),2.76(m,8H),6.75−8(m,30H).
Subsequently, the temperature of the reaction solution was returned to room temperature, 100 ml of demineralized water was added, liquid separation was performed, and the organic layer was evaporated. Then, using a developing solution (hexane / ethyl acetate = 90/10), a column (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used. 1.9 g of a yellow solid (compound DDD-1) of a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative having a purity of 99% was obtained by purification using silica manufactured by company (Wakogel C-200). The results of 1 H-NMR measurement of compound DDD-1 are as follows. The chemical formula is shown below.
(Result of NMR measurement)
2.01 (m, 4H), 2.76 (m, 8H), 6.75-8 (m, 30H).

Figure 2008239948
Figure 2008239948

[化合物DDD−2の合成]
前述した化合物DDD−1の合成において、4−ブロモビフェニル(化合物BR2)を使用する代わりに2−ブロモナフタレン(BR1)(455.1g、2.2mmol)を使用し、その他の条件は化合物DDD−1の合成と同様の条件で合成操作を行い、純度99%の1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体の黄色固体(化合物DDD−2)を2.1g得た。尚、化合物DDD−1のH−NMR測定の結果は以下の通りである。また、化学式を以下に示す。
(NMR測定の結果)
2.01(m,4H),2.76(m,8H),6.75−8(m,26H).
[Synthesis of Compound DDD-2]
In the synthesis of the compound DDD-1, the 2-bromonaphthalene (BR1) (455.1 g, 2.2 mmol) was used instead of 4-bromobiphenyl (compound BR2), and the other conditions were the compound DDD- The synthetic operation was carried out under the same conditions as in the synthesis of 1 to obtain 2.1 g of a yellow solid (compound DDD-2) of a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative having a purity of 99%. The results of 1 H-NMR measurement of compound DDD-1 are as follows. The chemical formula is shown below.
(Result of NMR measurement)
2.01 (m, 4H), 2.76 (m, 8H), 6.75-8 (m, 26H).

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(化合物CCC−1)
また、比較実験を行うために、以下に示すように、ナフタレン環の2位及び6位の炭素原子に、置換基としてアリールアミノ基が結合した化合物CCC−1を合成した。
(Compound CCC-1)
Moreover, in order to perform a comparative experiment, as shown below, a compound CCC-1 in which an arylamino group was bonded as a substituent to the 2-position and 6-position carbon atoms of the naphthalene ring was synthesized.

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(実施例1)
前述した化合物DDD−1を用い、以下の操作に従い、大きさ2mm×2mmの発光面積部分を有する有機電界蛍光発光素子を作製した。
尚、化合物DDD−1のトルエンに対する溶解度に対する溶解度は5重量%である。また、化合物DDD−1のガラス転移温度(Tg)は、99℃である。
Example 1
Using the above-described compound DDD-1, an organic electroluminescent device having a light emitting area portion of 2 mm × 2 mm in size was produced according to the following operation.
In addition, the solubility with respect to the solubility with respect to toluene of the compound DDD-1 is 5 weight%. Moreover, the glass transition temperature (Tg) of compound DDD-1 is 99 degreeC.

(陽極の形成)
ガラス製の基板の上にインジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を150nmの厚みで成膜した(スパッタ成膜品、シート抵抗15Ω)。この透明導電膜に、通常のフォトリソグラフィー技術により、2mm幅のストライプにパターニングし、陽極を形成した。
パターニングしたITO基板を、アセトンによる超音波洗浄、純水による水洗、イソプロピルアルコールによる超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、紫外線オゾン洗浄を行った。
(Formation of anode)
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film was formed to a thickness of 150 nm on a glass substrate (sputtered film product, sheet resistance 15Ω). This transparent conductive film was patterned into a stripe having a width of 2 mm by an ordinary photolithography technique to form an anode.
The patterned ITO substrate was cleaned in the order of ultrasonic cleaning with acetone, water with pure water, and ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, and then dried with nitrogen blow to perform ultraviolet ozone cleaning.

(正孔注入層の形成)
続いて、陽極の上に正孔注入層を形成した。正孔注入層の材料として、下記に示す構造式の芳香族アミノ基を有する非共役系高分子化合物(PB−1:重量平均分子量29,400、数平均分子量12,600)を用い、光反応開始剤(A−1)と共に陽極の上にスピンコートした。スピンコートの条件を表2に示す。また、非共役系高分子化合物(PB−1)と光反応開始剤(A−1)の使用比率は、(PB−1):(A−1)=10:4(重量比)とした。スピンコートを行なった後、260℃で180分の乾燥を行ない、膜厚30nmの均一な正孔注入層の薄膜を形成した。
(Formation of hole injection layer)
Subsequently, a hole injection layer was formed on the anode. As a material for the hole injection layer, a non-conjugated polymer compound (PB-1: weight average molecular weight 29,400, number average molecular weight 12,600) having an aromatic amino group having the structural formula shown below is used, and photoreaction is performed. It spin-coated on the anode with the initiator (A-1). Table 2 shows the spin coating conditions. Moreover, the use ratio of the non-conjugated polymer compound (PB-1) and the photoreaction initiator (A-1) was (PB-1) :( A-1) = 10: 4 (weight ratio). After spin coating, drying was performed at 260 ° C. for 180 minutes to form a uniform hole injection layer thin film having a thickness of 30 nm.

Figure 2008239948
Figure 2008239948

Figure 2008239948
Figure 2008239948

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(正孔輸送層)
形成した正孔注入層の上に正孔輸送層を形成した。正孔輸送層の材料として、以下に示す化合物(HT−1)を用いて、スピンコートにより、正孔輸送層を形成した。スピンコートの条件を表3に示す。スピンコートを行なった後、230℃で60分の乾燥を行ない、膜厚20nmの均一な正孔輸送層の薄膜を形成した。
(Hole transport layer)
A hole transport layer was formed on the formed hole injection layer. A hole transport layer was formed by spin coating using the following compound (HT-1) as a material for the hole transport layer. Table 3 shows the spin coating conditions. After spin coating, drying was performed at 230 ° C. for 60 minutes to form a uniform hole transport layer thin film having a thickness of 20 nm.

Figure 2008239948
Figure 2008239948

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(発光層)
次に、形成した正孔輸送層の上に発光層を形成した。発光層の材料として、化合物DDD−1と、以下に示す蛍光発光性のドーパント(D−1)を下記条件でトルエンに溶解した組成物を用いて、スピンコートにより発光層を形成した。スピンコートの条件を表4に示す。また、化合物DDD−1とドーパント(D−1)との使用比率は、(化合物DDD−1):(D−1)=10:1(重量比)とした。スピンコートを行なった後、100℃で60分の乾燥を行ない、膜厚50nmの均一な発光層の薄膜を形成した。
(Light emitting layer)
Next, a light emitting layer was formed on the formed hole transport layer. As a material of the light emitting layer, a light emitting layer was formed by spin coating using a composition in which compound DDD-1 and a fluorescent light emitting dopant (D-1) shown below were dissolved in toluene under the following conditions. Table 4 shows the spin coating conditions. The ratio of compound DDD-1 to dopant (D-1) was (compound DDD-1) :( D-1) = 10: 1 (weight ratio). After spin coating, drying was performed at 100 ° C. for 60 minutes to form a uniform light emitting layer thin film having a thickness of 50 nm.

Figure 2008239948
Figure 2008239948

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(正孔阻止層・電子輸送層)
続いて、形成した発光層の上に正孔阻止層を形成し、さらに、正孔阻止層の上に電子輸送層を形成した。正孔阻止層の材料として、下記に示すHB−1を用いて、真空蒸着法により膜厚10nmの正孔阻止層を形成した。次に、電子輸送層の材料として、下記に示すET−1を用いて、真空蒸着法により膜厚30nmの電子輸送層を形成した。
(Hole blocking layer / electron transport layer)
Subsequently, a hole blocking layer was formed on the formed light emitting layer, and an electron transport layer was further formed on the hole blocking layer. A hole blocking layer having a thickness of 10 nm was formed by vacuum deposition using HB-1 shown below as a material for the hole blocking layer. Next, an electron transport layer having a film thickness of 30 nm was formed by vacuum deposition using ET-1 shown below as a material for the electron transport layer.

Figure 2008239948
Figure 2008239948

(電子注入層・陰極)
次に、電荷輸送層の上に電子注入層を形成し、さらに、電子注入層の上に陰極を形成した。電子注入層は、フッ化リチウム(LIF)を用い、有機層と同様に真空蒸着法によって膜厚0.5nmの電子注入層を形成した。また、陰極の材料としてアルミニウムを用い、膜厚80nmの陰極を、それぞれ陽極であるITOストライプと直交する形状の2mm幅のストライプ状に積層した。
(Electron injection layer / cathode)
Next, an electron injection layer was formed on the charge transport layer, and a cathode was further formed on the electron injection layer. As the electron injection layer, lithium fluoride (LIF) was used, and an electron injection layer having a film thickness of 0.5 nm was formed by a vacuum evaporation method in the same manner as the organic layer. Also, aluminum was used as the cathode material, and cathodes with a film thickness of 80 nm were stacked in a 2 mm-wide stripe shape that was orthogonal to the ITO stripe that was the anode.

化合物DDD−1を用い、以上の操作によって作製した大きさ2mm×2mmの発光面積部分を有する有機電界蛍光発光素子に、7Vの電圧を印加した際の、発光素子としての発光の有無と発光色を評価した。
その結果、化合物DDD−1を用いて作製した有機電界蛍光発光素子から、青色発光が得られた。さらに、化合物DDD−1を含む塗布液を用い、ガラス基板上に形成した化合物DDD−1の膜(膜厚50nm)からも青色発光が得られた。
Presence or absence of light emission as a light emitting element and emission color when a voltage of 7 V is applied to an organic electroluminescent light emitting element having a light emitting area portion of size 2 mm × 2 mm produced by using the compound DDD-1 Evaluated.
As a result, blue light emission was obtained from the organic electroluminescent device produced using Compound DDD-1. Furthermore, blue light emission was obtained also from the film | membrane (film thickness of 50 nm) of the compound DDD-1 formed on the glass substrate using the coating liquid containing the compound DDD-1.

(実施例2)
前述した化合物DDD−2を含む塗布液を用い、ガラス基板上に化合物DDD−2の膜(膜厚50nm)を形成した。次に、この化合物DDD−2の膜に所定の電圧を印加することにより、青色発光が得られた。
これにより、化合物DDD−2を用いることにより、前述した化合物DDD−1と同様に、有機電界蛍光発光素子が得られると考えられる。
尚、化合物DDD−2のトルエンに対する溶解度に対する溶解度は5重量%である。また、化合物DDD−2のガラス転移温度(Tg)は、84℃である。
(Example 2)
A film (film thickness 50 nm) of compound DDD-2 was formed on a glass substrate using the coating solution containing compound DDD-2 described above. Next, by applying a predetermined voltage to the film of the compound DDD-2, blue light emission was obtained.
Thereby, it is considered that an organic electroluminescent device can be obtained by using the compound DDD-2, similarly to the compound DDD-1 described above.
In addition, the solubility with respect to the solubility with respect to toluene of compound DDD-2 is 5 weight%. Moreover, the glass transition temperature (Tg) of compound DDD-2 is 84 degreeC.

(参考例1)
実施例と同様な操作により、前述した化合物CCC−1を用い、大きさ2mm×2mmの発光面積部分を有する有機電界蛍光発光素子を作製した。その結果、この有機電界蛍光発光素子からは、青緑色発光が得られたが、青色発光は得られなかった。
尚、化合物CCC−1のトルエンに対する溶解度は2重量%であった。また、化合物CCC−1のガラス転移温度(Tg)は、110℃である。
(Reference Example 1)
By the same operation as in the example, an organic electroluminescent device having a light emitting area portion of 2 mm × 2 mm in size was produced using the compound CCC-1 described above. As a result, blue-green light emission was obtained from this organic electroluminescence device, but blue light emission was not obtained.
The solubility of compound CCC-1 in toluene was 2% by weight. Moreover, the glass transition temperature (Tg) of compound CCC-1 is 110 degreeC.

有機電界蛍光発光素子に好適な構造例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structural example suitable for an organic electroluminescent light emitting element.

符号の説明Explanation of symbols

1…基板、2…陽極、3…正孔注入層、4…正孔輸送層、5…発光層、6…正孔阻止層、7…電子輸送層、8…電子注入層、9…陰極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Anode, 3 ... Hole injection layer, 4 ... Hole transport layer, 5 ... Light emitting layer, 6 ... Hole blocking layer, 7 ... Electron transport layer, 8 ... Electron injection layer, 9 ... Cathode

Claims (12)

1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体からなることを特徴とする有機電界蛍光発光素子用材料。   An organic electroluminescent light-emitting element material comprising a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative. 前記1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体が、下記化学式(1)で表される構造を有する化合物であることを特徴とする請求項1に記載の有機電界蛍光発光素子用材料。
Figure 2008239948
(化学式(1)中、Ar〜Arは、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。)
The organic electroluminescent light-emitting element material according to claim 1, wherein the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative is a compound having a structure represented by the following chemical formula (1).
Figure 2008239948
(In the chemical formula (1), Ar 1 to Ar 4 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.)
前記1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体のトルエンに対する溶解度が0.2重量%以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の有機電界蛍光発光素子用材料。   The organic electroluminescent element material according to claim 1 or 2, wherein the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative has a solubility in toluene of 0.2% by weight or more. 湿式成膜に用いられることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の有機電界蛍光発光素子用材料。   The material for an organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 3, which is used for wet film formation. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の有機電界蛍光発光素子用材料及び溶剤を含有することを特徴とする有機電界蛍光発光素子用組成物。   The composition for organic electroluminescent light emitting elements of any one of Claims 1 thru | or 4 and the solvent are contained, The composition for organic electroluminescent light emitting elements characterized by the above-mentioned. 陽極及び陰極と、当該陽極及び当該陰極の間に設けられた有機層とを有する有機電界蛍光発光素子であって、
前記有機層は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の有機電界蛍光発光素子用材料を含む
ことを特徴とする有機電界蛍光発光素子。
An organic electroluminescent device having an anode and a cathode, and an organic layer provided between the anode and the cathode,
The said organic layer contains the organic electroluminescent light emitting element material of any one of Claims 1 thru | or 4. The organic electroluminescent light emitting element characterized by the above-mentioned.
前記有機層が発光層であることを特徴とする請求項6に記載の有機電界蛍光発光素子。   The organic electroluminescent device according to claim 6, wherein the organic layer is a light emitting layer. 前記有機層は、前記有機電界蛍光発光素子用材料と所定の溶剤とを含む組成物を用いる湿式成膜法により形成されることを特徴とする請求項6又は7に記載の有機電界蛍光発光素子。   The organic electroluminescent device according to claim 6 or 7, wherein the organic layer is formed by a wet film forming method using a composition containing the material for an organic electroluminescent device and a predetermined solvent. . 透明支持基板と当該透明支持基板上に積層された有機電界蛍光発光素子とを有する有機ELディスプレイであって、
前記有機電界蛍光発光素子が、請求項6乃至8のいずれか1項に記載された有機電界蛍光発光素子であることを特徴とする有機ELディスプレイ。
An organic EL display having a transparent support substrate and an organic electroluminescent device laminated on the transparent support substrate,
The organic electroluminescent light emitting device according to any one of claims 6 to 8, wherein the organic electroluminescent light emitting device is the organic electroluminescent light emitting device.
一対の電極間に発光性化合物を含む発光層を有する有機電界蛍光発光素子であって、
前記発光性化合物は、
ガラス転移温度(Tg)が80℃以上、且つ、トルエンに対する溶解度が0.2重量%以上である1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体から構成されることを特徴とする有機電界蛍光発光素子。
An organic electroluminescent light emitting device having a light emitting layer containing a light emitting compound between a pair of electrodes,
The luminescent compound is:
An organic electroluminescence device comprising a 1,7-diarylaminonaphthalene derivative having a glass transition temperature (Tg) of 80 ° C. or higher and a solubility in toluene of 0.2% by weight or higher.
前記発光層は、
前記1,7−ジアリールアミノナフタレン誘導体と所定の有機溶剤を含む塗布溶液を塗布して形成されることを特徴とする請求項10に記載の有機電界蛍光発光素子。
The light emitting layer is
The organic electroluminescent light emitting device according to claim 10, wherein the organic electroluminescent light emitting device is formed by applying a coating solution containing the 1,7-diarylaminonaphthalene derivative and a predetermined organic solvent.
請求項10又は11に記載の有機電界蛍光発光素子を備えることを特徴とするカラーディスプレイ表示装置。   A color display device comprising the organic electroluminescent device according to claim 10.
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