JP2010209211A - Organic electroluminescent element material, composition for organic electroluminescent element, organic electroluminescent element, organic el display, and organic el lighting - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element material capable of manufacturing an organic electroluminescent element having a low drive voltage and having sufficient life by forming a light emission layer of the organic electroluminescent element by a wet film forming method. <P>SOLUTION: The organic electroluminescent element material comprises a fluorescent light emission compound having an anthracene skeleton and/or a pyrene skeleton in the molecule. The organic electroluminescent element material is characterized in that an R value (%) in a laser desorption ionization mass spectrometry calculated by following formula (a): R value%=I<SB>decomp</SB>/I<SB>D</SB>×100 is 9 or less. In the formula (a), I<SB>decomp</SB>represents cleaved fragment ionic strength, and I<SB>D</SB>represents total ionic strength. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機電界発光素子の発光層を形成するために好適に用いられる有機電界発光素子材料および有機電界発光素子用組成物と、この有機電界発光素子材料を用いて形成された発光層を有する有機電界発光素子と、この有機電界発光素子を用いた有機ELディスプレイおよび有機EL照明に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescent element material and an organic electroluminescent element composition suitably used for forming a light emitting layer of an organic electroluminescent element, and a light emitting layer formed using the organic electroluminescent element material. The present invention relates to an organic electroluminescent device having an organic EL display, an organic EL display using the organic electroluminescent device, and organic EL illumination.

近年、薄膜型の電界発光素子としては、無機材料を使用したものに代わり、有機薄膜を用いた有機電界発光素子の開発が行われるようになっている。有機電界発光素子は、通常、陽極と陰極との間に、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層などを設けて形成され、従来より、各層に適した材料が開発されつつある。また、有機電界発光素子の発光色も赤、緑、青と、それぞれに開発が進んでいる。   In recent years, as a thin film type electroluminescent element, an organic electroluminescent element using an organic thin film has been developed instead of using an inorganic material. Organic electroluminescent devices are usually formed by providing a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer, etc. between the anode and the cathode. Conventionally, materials suitable for each layer have been developed. It is being done. In addition, the light emission colors of organic electroluminescent elements are being developed in red, green and blue, respectively.

しかしながら、青色有機電界発光素子については、効率、寿命、耐熱性の観点で満足できるものが実現されておらず、フルカラーディスプレイ用途への適用には制約があるという課題があった。   However, blue organic electroluminescent elements have not been satisfactory in terms of efficiency, life, and heat resistance, and there is a problem that application to full color display is limited.

有機電界発光素子の各構成層の形成方法としては、真空蒸着法と湿式成膜法がある。このうち、真空蒸着法では、テレビやモニタ用の中・大型フルカラーパネルなどを製作する場合、歩留まりの観点で課題を有する。そのため、中でもこれら大面積の用途には湿式成膜法が好適である。   As a method for forming each constituent layer of the organic electroluminescent element, there are a vacuum vapor deposition method and a wet film formation method. Among these, the vacuum deposition method has a problem in terms of yield when manufacturing a medium- or large-sized full-color panel for a television or a monitor. Therefore, the wet film-forming method is suitable for these large area applications.

しかしながら、湿式成膜法で有機電界発光素子の有機層を形成するためには、有機層を形成する材料が溶剤に溶解し、かつ湿式成膜後にも素子の構成層として要求される高い性能を有することが望まれる。しかし、従来開発されている湿式成膜用材料であっても、このような湿式成膜法に要求される条件を満たさないものが多かった。   However, in order to form an organic layer of an organic electroluminescent element by a wet film formation method, the material for forming the organic layer is dissolved in a solvent, and the high performance required as a component layer of the element after the wet film formation is obtained. It is desirable to have. However, many materials for wet film formation that have been developed in the past do not satisfy the conditions required for such a wet film formation method.

例えば、特許文献1では、下記式で示される材料を用いて、湿式成膜法によって作製した素子が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses an element manufactured by a wet film formation method using a material represented by the following formula.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

また、特許文献2には、下記式で示される材料を用い、湿式成膜法によって作製した素子が開示されている。   Patent Document 2 discloses an element manufactured by a wet film forming method using a material represented by the following formula.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

しかしながら、これらの材料は、溶剤に対する溶解性や耐熱性といった湿式成膜のプロセス上の要求物性を満足していない上に、素子に用いても駆動電圧が高かったり、十分な寿命が得られないなどの問題があった。   However, these materials do not satisfy the physical properties required in the process of wet film formation such as solubility in solvents and heat resistance, and the driving voltage is high or sufficient life is not obtained even when used in an element. There were problems such as.

国際公開2006/070712号パンフレットInternational Publication No. 2006/070712 Pamphlet 特開2004−224766号公報JP 2004-224766 A

本発明は、有機電界発光素子の発光層を湿式成膜法で形成して、駆動電圧が低く、十分な寿命を有する有機電界発光素子を作製し得る有機電界発光素子材料および有機電界発光素子用組成物と、この有機電界発光素子材料を用いて形成された発光層を有する有機電界発光素子と、この有機電界発光素子を用いた有機ELディスプレイを提供することを目的とする。   The present invention relates to an organic electroluminescent device material and an organic electroluminescent device capable of producing an organic electroluminescent device having a low driving voltage and a sufficient lifetime by forming a light emitting layer of the organic electroluminescent device by a wet film forming method. An object is to provide an organic electroluminescent device having a composition, a light emitting layer formed using the organic electroluminescent device material, and an organic EL display using the organic electroluminescent device.

本発明者らが鋭意検討した結果、分子内にアントラセン骨格および/またはピレン骨格を有する化合物であって、レーザー脱離イオン化質量分析においてR値(%)が9以下である蛍光発光化合物を用いることにより、長寿命、高輝度かつ高効率な有機電界発光素子を提供できることを見出し、本発明に到達した。   As a result of intensive studies by the present inventors, a compound having an anthracene skeleton and / or a pyrene skeleton in the molecule and having a R value (%) of 9 or less in laser desorption ionization mass spectrometry is used. Thus, it has been found that an organic electroluminescence device having a long life, high luminance and high efficiency can be provided, and the present invention has been achieved.

即ち、本発明(請求項1)の有機電界発光素子材料は、分子内にアントラセン骨格および/またはピレン骨格を有する蛍光発光化合物からなる有機電界発光素子材料であって、下記式(a)で算出されるレーザー脱離イオン化質量分析におけるR値(%)が9以下であることを特徴とする。   That is, the organic electroluminescent device material of the present invention (Claim 1) is an organic electroluminescent device material comprising a fluorescent compound having an anthracene skeleton and / or a pyrene skeleton in the molecule, and is calculated by the following formula (a). The R value (%) in laser desorption ionization mass spectrometry is 9 or less.

R値%=Idecomp/I×100 (a)
(式(a)中、Idecompは開裂フラグメントイオン強度を表し、Iは全イオン強度を表す。)
R value% = I decomp / ID × 100 (a)
(In formula (a), I decomp represents the cleavage fragment ionic strength, and ID represents the total ionic strength.)

請求項2の有機電界発光素子材料は、請求項1において、湿式成膜法による有機電界発光素子の製造に用いられることを特徴とする。   The organic electroluminescent element material according to claim 2 is used for manufacturing an organic electroluminescent element by a wet film-forming method in claim 1.

本発明(請求項3)の有機電界発光素子用組成物は、請求項1または2に記載の有機電界発光素子材料および溶剤を含有することを特徴とする。   The composition for organic electroluminescent elements of the present invention (invention 3) is characterized by containing the organic electroluminescent element material according to claim 1 or 2 and a solvent.

本発明(請求項4)の有機電界発光素子は、陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた発光層を有する有機電界発光素子であって、該発光層が、請求項1または2に記載の有機電界発光素子材料を含有することを特徴とする。   The organic electroluminescent element of the present invention (invention 4) is an organic electroluminescent element having an anode, a cathode, and a light emitting layer provided between both electrodes, and the light emitting layer is described in claim 1 or 2. The organic electroluminescent element material is contained.

本発明(請求項5)の有機電界発光素子は、陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた発光層を有する有機電界発光素子であって、該発光層が、請求項3に記載の有機電界発光素子用組成物を用いて形成された層であることを特徴とする。   The organic electroluminescent device of the present invention (invention 5) is an organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and a light emitting layer provided between both electrodes, and the light emitting layer is the organic electroluminescent device according to claim 3. It is a layer formed using the composition for electroluminescent elements.

本発明(請求項6)の有機ELディスプレイは、請求項4または5に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする。   An organic EL display according to the present invention (invention 6) is characterized by having the organic electroluminescent element according to claim 4 or 5.

本発明(請求項7)の有機EL照明は、請求項5または6に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする。   The organic EL illumination of the present invention (invention 7) has the organic electroluminescent element according to claim 5 or 6.

本発明の有機電界発光素子材料は、有機電界発光素子の有機層を湿式成膜法で形成して、駆動電圧が低く、十分な寿命を有する有機電界発光素子を作製し得る。   In the organic electroluminescent element material of the present invention, an organic layer of the organic electroluminescent element can be formed by a wet film forming method to produce an organic electroluminescent element having a low driving voltage and a sufficient lifetime.

従って、本発明の有機電界発光素子材料およびこの有機電界発光素子材料を含む本発明の有機電界発光素子用組成物を用いた有機電界発光素子は、フラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピューター用や壁掛けテレビ)、車載表示素子、携帯電話表示や、面発光体としての特徴を生かした光源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイや計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯への応用が考えられ、その技術的価値は高いものである。   Accordingly, an organic electroluminescent device using the organic electroluminescent device material of the present invention and the organic electroluminescent device composition of the present invention containing the organic electroluminescent device material is a flat panel display (for example, for OA computers and wall-mounted televisions). ), In-vehicle display elements, mobile phone displays, light sources that make use of the characteristics of surface light emitters (for example, light sources for copying machines, backlight sources for liquid crystal displays and instruments), display boards, and indicator lights And its technical value is high.

本発明の有機電界発光素子の実施の形態を示す断面の模式図である。It is a schematic diagram of the cross section which shows embodiment of the organic electroluminescent element of this invention.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は本発明の実施態様の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定されない。   Embodiments of the present invention will be described in detail below, but the description of the constituent elements described below is an example (representative example) of an embodiment of the present invention, and the present invention does not exceed the gist thereof. Not specific to the content.

[有機電界発光素子材料]
本発明の有機電界発光素子材料は、分子内にアントラセン骨格および/またはピレン骨格を有する蛍光発光化合物からなる有機電界発光素子材料であって、下記式(a)で算出されるレーザー脱離イオン化質量分析におけるR値(%)が9以下であることを特徴とする。
[Organic electroluminescent material]
The organic electroluminescent device material of the present invention is an organic electroluminescent device material comprising a fluorescent compound having an anthracene skeleton and / or a pyrene skeleton in the molecule, and is a laser desorption ionization mass calculated by the following formula (a). The R value (%) in the analysis is 9 or less.

R値%=Idecomp/I×100 (a)
(式(a)中、Idecompは開裂フラグメントイオン強度を表し、Iは全イオン強度を表す。)
R value% = I decomp / ID × 100 (a)
(In formula (a), I decomp represents the cleavage fragment ionic strength, and ID represents the total ionic strength.)

{R値(%)}
まず、本発明の有機電界発光素子材料のレーザー脱離イオン化質量分析におけるR値(%)について説明する。
{R value (%)}
First, the R value (%) in laser desorption ionization mass spectrometry of the organic electroluminescent element material of the present invention will be described.

本発明におけるレーザー脱離イオン化質量分析(以下「LDI−MS分析」と略記する。)とは、次のような方法で測定されるものである。
蛍光発光化合物サンプルを試料プレートに塗布し、MALDI−MS装置内にセットし、窒素レーザーなどのレーザーを照射して検出されるピークを観測する。
本方法によると、レーザーを照射された蛍光発光化合物は、場合により弱い結合が開裂し、そのフラグメント由来のイオンピーク(M)あるいはプロトン付加イオン(M+H)ピークなどを産出する。この際、通常のマス分析にて、フラグメントが検出されなかったことから、ここで検出されたフラグメントはレーザー照射により生じたイオン種と推測される。
すなわち、LDI−MS分析によると、レーザー照射下で分子が励起し、その状態での不安定性により、場合によりフラグメントを生成する。その中で、本発明に係る蛍光発光化合物の基本骨格の中心を構成するアントラセン環またはピレン環とそれに結合する芳香環との間で開裂を起こす場合は、素子寿命を悪化させる原因となるラジカルを生成しやすいと考えられる。そこで、全イオン強度Iに占めるこのアントラセン環及び/又はピレン環と芳香環との間での開裂と再付加に由来するイオン強度Idecompの割合をR値(%)として以下の式(a)で算出した。
R値%=Idecomp/I×100 (a)
この値を用いて蛍光発光化合物の安定性を評価することができる。
Laser desorption ionization mass spectrometry (hereinafter abbreviated as “LDI-MS analysis”) in the present invention is measured by the following method.
A fluorescent light emitting compound sample is applied to a sample plate, set in a MALDI-MS apparatus, and a peak detected by irradiation with a laser such as a nitrogen laser is observed.
According to this method, the fluorescent compound irradiated with a laser breaks a weak bond in some cases, and produces an ion peak (M + ) or a proton-added ion (M + H + ) peak derived from the fragment. At this time, since the fragment was not detected by normal mass analysis, the detected fragment is presumed to be an ion species generated by laser irradiation.
That is, according to LDI-MS analysis, molecules are excited under laser irradiation, and in some cases, fragments are generated due to instability in that state. Among them, when cleavage occurs between the anthracene ring or pyrene ring constituting the center of the basic skeleton of the fluorescent compound according to the present invention and the aromatic ring bonded thereto, radicals that cause deterioration of the device lifetime are removed. It is thought that it is easy to generate. Therefore, the ratio of the ionic strength I decomp resulting from the cleavage and re-addition between the anthracene ring and / or the pyrene ring and the aromatic ring in the total ionic strength I D is represented by the following formula (a ).
R value% = I decomp / ID × 100 (a)
This value can be used to evaluate the stability of the fluorescent compound.

R値(%)が大きい値をもつものほどレーザー照射で素子寿命に悪影響を及ぼす大きな分解が起きやすく、不安定である。R値(%)は9以下、好ましくは7以下、最も好ましくは5以下である。   Larger values of R value (%) tend to cause large decomposition that adversely affects the device lifetime by laser irradiation, and are unstable. The R value (%) is 9 or less, preferably 7 or less, and most preferably 5 or less.

なお、LDI−MS分析は、具体的には次のようにして実施される。   The LDI-MS analysis is specifically performed as follows.

<LDI−MS分析方法>
材料Aのトルエン(純正化学、特級)溶液をLDI−MS(MALDI−MS)専用試料プレート上に均一に塗布、風乾させて試料スポットを作製する。
なお、試料プレートには装置純正品のほか、試料濃縮やイオン化促進効果をもたせるため種々の表面処理がほどこされた市販プレートを用いることもできるし、EL素子を貼付したプレートを使用することもできる。また、試料溶液の乾燥は風乾のほか、減圧乾燥など様々な方法をとることができる。さらにイオン化促進の目的で、種々の芳香族化合物、脂肪族化合物、または無機塩類をマトリックス物質として用いることもできる。通常、マトリックス物質は分析試料に対して過剰量を分析試料に混合して用いられるが、有機電界発光素子材料のLDI−MS分析にあってはこの限りではない。
このようにして得られた試料プレートを装置内にセットし、減圧下にLDI−MS分析する。レーザー強度は、対象サンプルの親ピーク(主ピーク)強度が検出器飽和しない程度(<10シグナルカウント)になるように設定する。また、レーザー照射位置についてはスペクトルが均質となるよう、試料スポットの全領域をまんべんなく照射する。
<LDI-MS analysis method>
A toluene (pure chemistry, special grade) solution of material A is evenly applied onto an LDI-MS (MALDI-MS) dedicated sample plate and air-dried to prepare a sample spot.
In addition to genuine equipment, the sample plate can be a commercially available plate with various surface treatments to provide a sample concentration and ionization promoting effect, or a plate with an EL element attached. . The sample solution can be dried by various methods such as drying under reduced pressure, as well as air drying. Furthermore, for the purpose of promoting ionization, various aromatic compounds, aliphatic compounds, or inorganic salts can be used as the matrix material. Usually, the matrix substance is used by mixing the analysis sample with an excess amount with respect to the analysis sample, but this is not the case in the LDI-MS analysis of the organic electroluminescent element material.
The sample plate thus obtained is set in the apparatus and subjected to LDI-MS analysis under reduced pressure. The laser intensity is set so that the parent peak (main peak) intensity of the target sample does not saturate the detector (<10 6 signal count). In addition, the entire area of the sample spot is irradiated uniformly so that the spectrum is uniform at the laser irradiation position.

LDI−MS測定条件は以下の通りである。
・分析装置 : アプライドバイオシステムズ社製、Voyager−DE STR
・レーザー : 窒素レーザー(337nm)
・検出イオン: 正イオン検出
LDI-MS measurement conditions are as follows.
・ Analyzer: Voyager-DE STR manufactured by Applied Biosystems
・ Laser: Nitrogen laser (337 nm)
・ Detection ion: Positive ion detection

材料AのLDI−MS分析におけるおもな検出イオンは、材料Aのフラグメント由来のイオンピーク(M)あるいはプロトン付加イオン(M+H)等である。
材料Aを別法(HPLC法等)により分析すると、前述の如く、材料A中に脱フラグメントが検出されないことから、ここで検出される脱フラグメントはレーザー照射により生じたイオン種と推測される。
同レーザー強度下に産生した脱フラグメントの生成率の違いは、材料Aの、原子間結合強度を反映しているものと予想され、そこで、主に中心骨格とそれに結合する芳香環との間の開裂および開裂後当該蛍光発光化合物への付加に由来するイオン強度(Idecomp)/全イオン強度(I)比(R値)を以下のように算出する。
R値%=Idecomp/I×100 (a)
The main detected ions in the LDI-MS analysis of the material A are an ion peak (M + ) or a proton-added ion (M + H + ) derived from the fragment of the material A.
When the material A is analyzed by another method (HPLC method or the like), since defragmentation is not detected in the material A as described above, the defragmentation detected here is presumed to be an ionic species generated by laser irradiation.
The difference in the rate of defragmentation produced under the same laser intensity is expected to reflect the interatomic bond strength of material A, where there is mainly a difference between the central skeleton and the aromatic ring attached to it. The ionic strength (I decomp ) / total ionic strength (I D ) ratio (R value) derived from cleavage and addition to the fluorescent compound after cleavage is calculated as follows.
R value% = I decomp / ID × 100 (a)

本発明に係るR値(%)は、通常の分析法では検出し難い蛍光発光化合物の中心骨格とそれに結合する芳香環との間の開裂および再付加による性能劣化を反映するものであり、R値(%)9以下の蛍光発光化合物であれば、それ自体耐久性、安定性に優れ、また、素子に適用した場合においても、高効率、かつ長寿命な有機電界発光素子を実現し得る。   The R value (%) according to the present invention reflects performance degradation due to cleavage and re-addition between the central skeleton of a fluorescent compound that is difficult to detect by ordinary analytical methods and an aromatic ring bonded thereto. A fluorescent compound having a value (%) of 9 or less can provide an organic electroluminescent device that is excellent in durability and stability, and that has a high efficiency and a long life even when applied to the device.

R値(%)9以下の蛍光発光化合物を得る方法としては特に制限は無いが、例えば、結合強度を強めたねじれの少ない化合物を選択することが考えられる。   A method for obtaining a fluorescent compound having an R value (%) of 9 or less is not particularly limited. For example, it is conceivable to select a compound having a high twist and a small twist.

{化学構造}
本発明に係る蛍光発光化合物は、分子内にアントラセン骨格および/またはピレン骨格を有するものである(以下、前述の式(a)を満たし、分子内にアントラセン骨格および/またはピレン骨格を有する蛍光発光化合物を「蛍光発光化合物(a)」と称す場合がある。)。
{Chemical structure}
The fluorescent compound according to the present invention has an anthracene skeleton and / or a pyrene skeleton in the molecule (hereinafter, satisfies the above-mentioned formula (a) and has an anthracene skeleton and / or a pyrene skeleton in the molecule). The compound may be referred to as “fluorescent compound (a)”.)

蛍光発光化合物(a)としては、分子内にアントラセン骨格および/またはピレン骨格を有する蛍光発光化合物であり、かつ、前述の式(a)を満たすものであればよく、特に制限はないが、例えば、国際公開第2005/054162号パンフレットに非対称モノアントラセン誘導体として記載されたもの、国際公開第2006/104044号パンフレットにアントリルアリーレン誘導体として記載されたものや、次のようなものが挙げられる。ただし、本発明に係る蛍光発光化合物(a)は、何らこれらに限定されるものではない。   The fluorescent compound (a) is not particularly limited as long as it is a fluorescent compound having an anthracene skeleton and / or a pyrene skeleton in the molecule and satisfies the above formula (a). Examples thereof include those described as an asymmetric monoanthracene derivative in International Publication No. 2005/054162, pamphlet described as an anthryl arylene derivative in International Publication No. 2006/104044, and the following. However, the fluorescent compound (a) according to the present invention is not limited to these.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

これらのうち、特に分子内にアントラセン骨格とピレン骨格とを有する化合物が、発光効率の点で好ましい。   Among these, a compound having an anthracene skeleton and a pyrene skeleton in the molecule is particularly preferable in terms of light emission efficiency.

{分子量}
上記蛍光発光化合物(a)の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。蛍光発光化合物(a)の分子量が小さ過ぎると、耐熱性が著しく低下したり、ガス発生の原因となったり、膜を形成した際の膜質の低下を招いたり、或いはマイグレーションなどによる有機電界発光素子のモルフォロジー変化を来したりする場合がある。一方、蛍光発光化合物(a)の分子量が大き過ぎると、当該発光材料の有機化合物の精製が困難となってしまったり、溶剤に溶解させる際に時間を要したりする傾向がある。
{Molecular weight}
The molecular weight of the fluorescent compound (a) is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, still more preferably 3000 or less, and usually 100. The range is preferably 200 or more, more preferably 300 or more, and still more preferably 400 or more. If the molecular weight of the fluorescent light-emitting compound (a) is too small, the heat resistance is remarkably reduced, gas generation is caused, the film quality is deteriorated when the film is formed, or the organic electroluminescence device due to migration or the like Morphological changes may occur. On the other hand, if the molecular weight of the fluorescent light-emitting compound (a) is too large, it tends to be difficult to purify the organic compound of the light-emitting material or to take time when dissolved in a solvent.

{含有量}
このような蛍光発光化合物(a)は、主として有機電界発光素子の発光層を形成する材料として用いられる。また、本発明の有機電界発光素子材料は、上述の蛍光発光化合物(a)の1種を含むものであってもよく、2種以上を含むものであってもよい。更に、上述の蛍光発光化合物(a)以外の有機電界発光素子材料を含むものであってもよい。ただし、前記蛍光発光化合物(a)による効果を十分に得る上で、本発明の有機電界発光素子材料中の上記蛍光発光化合物(a)の含有量は通常0.1重量%以上、好ましくは、1重量%以上である。
なお、本発明の有機電界発光素子材料は、上記蛍光発光化合物(a)以外の有機電界発光素子材料を含む場合、その他の有機電界発光素子材料としては本発明の有機電界発光素子用組成物に含まれるその他の発光材料および電荷輸送性材料として後述するものが挙げられる。
{Content}
Such a fluorescent compound (a) is mainly used as a material for forming a light emitting layer of an organic electroluminescent device. Moreover, the organic electroluminescent element material of this invention may contain 1 type of the above-mentioned fluorescence compound (a), and may contain 2 or more types. Furthermore, organic electroluminescent element materials other than the above-mentioned fluorescent light-emitting compound (a) may be included. However, in order to sufficiently obtain the effect of the fluorescent light emitting compound (a), the content of the fluorescent light emitting compound (a) in the organic electroluminescent element material of the present invention is usually 0.1% by weight or more, preferably 1% by weight or more.
In addition, when the organic electroluminescent element material of this invention contains organic electroluminescent element materials other than the said fluorescence light emitting compound (a), as another organic electroluminescent element material, it is the composition for organic electroluminescent elements of this invention. Examples of other light-emitting materials and charge transporting materials included are those described later.

[有機電界発光素子用組成物]
<有機電界発光素子材料>
本発明の有機電界発光素子用組成物は、好ましくは、湿式成膜法で形成される有機電界発光素子の有機層に用いられる組成物であって、前述の本発明の有機電界発光素子材料の1種または2種以上と溶剤を含有するものである。
[Composition for organic electroluminescence device]
<Organic electroluminescent material>
The composition for an organic electroluminescent element of the present invention is preferably a composition used for an organic layer of an organic electroluminescent element formed by a wet film-forming method, wherein the organic electroluminescent element material of the present invention described above is used. It contains one or more types and a solvent.

本発明の有機電界発光素子用組成物中の本発明の有機電界発光素子材料含有量は、当該有機電界発光素子材料の種類、有機電界発光素子用組成物の用途(この有機電界発光素子用組成物を用いて湿式成膜法で形成する層の種類)によって異なり、特に制限はないが、通常10重量%以上、好ましくは50重量%以上で、通常99重量%以下、好ましくは98重量%以下である。   The content of the organic electroluminescent element material of the present invention in the composition for organic electroluminescent element of the present invention is the kind of the organic electroluminescent element material, the use of the composition for organic electroluminescent element (this composition for organic electroluminescent element) Depending on the type of layer formed by a wet film-forming method using a product, there is no particular limitation, but it is usually 10% by weight or more, preferably 50% by weight or more, and usually 99% by weight or less, preferably 98% by weight or less. It is.

以下、主として、本発明の有機電界発光素子材料が発光層を形成する材料であり、このような有機電界発光素子材料を含む本発明の有機電界発光素子用組成物を発光層形成用組成物として用いる場合を例示して、本発明の有機電界発光素子用組成物を説明するが、本発明は何らこの態様に限定されるものではない。   Hereinafter, mainly the organic electroluminescent element material of the present invention is a material for forming a light emitting layer, and the composition for organic electroluminescent element of the present invention containing such an organic electroluminescent element material is used as the composition for forming a light emitting layer. The case of using the organic electroluminescent element composition of the present invention will be described by way of example, but the present invention is not limited to this embodiment.

<溶剤>
本発明の有機電界発光素子用組成物に含まれる溶剤としては、上述の本発明の有機電界発光素子材料等の溶質が良好に溶解する溶剤であれば特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル;シクロヘキサノン、シクロオクタノン等の脂環を有するケトン;メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン;メチルエチルケトン、シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環を有するアルコール;ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル等が利用できる。これらのうち、水の溶解度が低い点、容易には変質しない点で、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素が好ましい。
<Solvent>
The solvent contained in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is not particularly limited as long as it is a solvent that dissolves solutes such as the above-described organic electroluminescent element materials of the present invention well. For example, toluene, xylene, Aromatic hydrocarbons such as methicylene, cyclohexylbenzene and tetralin; halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and trichlorobenzene; 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, phenetole and 2-methoxy Aromatic ethers such as toluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethylanisole; phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, Aromatic esters such as n-butyl benzoate; Ketone having an alicyclic ring such as rohexanone and cyclooctanone; Aliphatic ketone such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone; Alcohol having an alicyclic ring such as methyl ethyl ketone, cyclohexanol and cyclooctanol; Aliphatic alcohol such as butanol and hexanol; Ethylene glycol dimethyl ether Aliphatic ethers such as ethylene glycol diethyl ether and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); aliphatic esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, ethyl lactate and n-butyl lactate can be used. Of these, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, tetralin and the like are preferable in that they have low water solubility and are not easily altered.

有機電界発光素子には、陰極等の水分により著しく劣化する材料が多く使用されているため、組成物中の水分の存在は、乾燥後の膜中に水分が残留し、素子の特性を低下させる可能性が考えられ好ましくない。   Since organic electroluminescent devices use many materials such as cathodes that deteriorate significantly due to moisture, the presence of moisture in the composition causes moisture to remain in the dried film, degrading the device characteristics. The possibility is considered and it is not preferable.

組成物中の水分量を低減する方法としては、例えば、蒸留や乾燥剤の使用などにより溶剤を予め脱水する、窒素ガスシール、水の溶解度が低い溶剤を使用する等が挙げられる。なかでも、水の溶解度が低い溶剤を使用する場合は、湿式成膜工程中に、溶液膜が大気中の水分を吸収して白化する現象を防ぐことができるため好ましい。この様な観点からは、本実施の形態が適用される有機電界発光素子用組成物は、例えば、25℃における水の溶解度が1重量%以下、好ましくは0.1重量%以下である溶剤を、組成物中10重量%以上含有することが好ましい。   Examples of the method for reducing the amount of water in the composition include dehydration of the solvent in advance by distillation or use of a desiccant, nitrogen gas sealing, use of a solvent with low water solubility, and the like. In particular, it is preferable to use a solvent having low water solubility because the solution film can prevent whitening by absorbing moisture in the atmosphere during the wet film forming process. From such a viewpoint, the composition for organic electroluminescent elements to which the present embodiment is applied includes, for example, a solvent having a water solubility at 25 ° C. of 1% by weight or less, preferably 0.1% by weight or less. It is preferable to contain 10% by weight or more in the composition.

また、湿式成膜時における組成物からの溶剤蒸発による、成膜安定性の低下を低減するためには、有機電界発光素子用組成物の溶剤として、沸点が100℃以上、好ましくは沸点が150℃以上、より好ましくは沸点が200℃以上の溶剤を用いることが効果的である。また、より均一な膜を得るためには、成膜直後の液膜から溶剤が適当な速度で蒸発することが必要で、このためには通常沸点80℃以上、好ましくは沸点100℃以上、より好ましくは沸点120℃以上で、通常沸点270℃未満、好ましくは沸点250℃未満、より好ましくは沸点230℃未満の溶剤を用いることが有効である。   Further, in order to reduce a decrease in film formation stability due to evaporation of the solvent from the composition during wet film formation, the solvent of the composition for organic electroluminescent elements has a boiling point of 100 ° C. or higher, preferably a boiling point of 150. It is effective to use a solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher. In order to obtain a more uniform film, it is necessary for the solvent to evaporate from the liquid film immediately after the film formation at an appropriate rate. For this purpose, the boiling point is usually 80 ° C. or higher, preferably the boiling point is 100 ° C. or higher. It is effective to use a solvent having a boiling point of 120 ° C. or more, usually less than 270 ° C., preferably less than 250 ° C., more preferably less than 230 ° C.

上述の条件、即ち溶質の溶解性、蒸発速度、水の溶解度の条件を満足する溶剤を単独で用いてもよいが、すべての条件を満たす溶剤が選定できない場合は、2種類以上の溶剤を混合して用いることもできる。   A solvent that satisfies the above-mentioned conditions, ie, solute solubility, evaporation rate, and water solubility conditions, may be used alone. However, if a solvent that satisfies all the conditions cannot be selected, two or more solvents may be mixed. It can also be used.

<発光材料>
本発明の有機電界発光素子用組成物を発光層形成用組成物とする場合、発光材料を含有することが好ましい。
発光材料とは、本発明の有機電界発光素子用組成物において、主として発光する成分を指し、有機ELデバイスにおけるドーパント成分に当たる。該有機電界発光素子用組成物から発せられる光量(単位:cd/m)の内、通常10〜100%、好ましくは20〜100%、より好ましくは50〜100%、最も好ましくは80〜100%が、ある成分材料からの発光と同定される場合、それを発光材料と定義する。
<Light emitting material>
When making the composition for organic electroluminescent elements of this invention into the composition for light emitting layer formation, it is preferable to contain a luminescent material.
A luminescent material refers to the component which mainly light-emits in the composition for organic electroluminescent elements of this invention, and corresponds to the dopant component in an organic EL device. Of the amount of light (unit: cd / m 2 ) emitted from the composition for organic electroluminescent elements, it is usually 10 to 100%, preferably 20 to 100%, more preferably 50 to 100%, and most preferably 80 to 100%. If% is identified as luminescence from a component material, it is defined as the luminescent material.

前述の如く、本発明の有機電界発光素子用組成物は、発光材料として本発明の有機電界発光素子材料を含んでいてもよい。
ただし、本発明の有機電界発光素子材料と共に、他の発光材料を含有していてもよく、また、本発明の有機電界発光素子材料を発光材料以外の機能材料として含み、前述の蛍光発光化合物(a)以外の化合物を発光材料として含んでいてもよい。
As described above, the composition for organic electroluminescent elements of the present invention may contain the organic electroluminescent element material of the present invention as a luminescent material.
However, the organic electroluminescent element material of the present invention may contain other luminescent materials, and the organic electroluminescent element material of the present invention is included as a functional material other than the luminescent material, A compound other than a) may be contained as a light emitting material.

その他の発光材料としては、通常、有機電界発光素子の発光材料として使用されているものであれば限定されない。例えば、蛍光発光材料であってもよく、燐光発光材料であってもよいが、内部量子効率の観点から、好ましくは燐光発光材料である。また、青色発光材料は蛍光発光材料を用い、緑色発光材料や赤色発光材料は燐光発光材料を用いるなど、組み合わせて用いてもよい。   Other light emitting materials are not limited as long as they are usually used as light emitting materials for organic electroluminescent elements. For example, a fluorescent material or a phosphorescent material may be used, but a phosphorescent material is preferable from the viewpoint of internal quantum efficiency. In addition, a fluorescent material may be used for the blue light emitting material, and a phosphorescent light emitting material may be used for the green light emitting material and the red light emitting material.

なお、発光材料としては、溶剤への溶解性を向上させる目的で、分子の対称性や剛性を低下させたり、或いはアルキル基などの親油性置換基が導入されたりしている材料を用いることが好ましい。   As the light emitting material, for the purpose of improving the solubility in a solvent, a material in which the symmetry or rigidity of the molecule is reduced or a lipophilic substituent such as an alkyl group is introduced is used. preferable.

以下、発光材料のうち蛍光発光材料の例を挙げるが、蛍光発光材料は以下の例示物に限定されるものではない。   Hereinafter, examples of the fluorescent light emitting material among the light emitting materials will be described, but the fluorescent light emitting material is not limited to the following examples.

青色発光を与える蛍光発光材料(青色蛍光色素)としては、例えば、ナフタレン、クリセン、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼンおよびそれらの誘導体等が挙げられる。中でも、アントラセン、クリセン、ピレンおよびそれらの誘導体等が好ましい。   Examples of the fluorescent light-emitting material (blue fluorescent dye) that emits blue light include naphthalene, chrysene, perylene, pyrene, anthracene, coumarin, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and derivatives thereof. Of these, anthracene, chrysene, pyrene, and derivatives thereof are preferable.

緑色発光を与える蛍光発光材料(緑色蛍光色素)としては、例えば、キナクリドン、クマリン、Al(CNO)などのアルミニウム錯体およびそれらの誘導体等が挙げられる。 Examples of the fluorescent light-emitting material (green fluorescent dye) that gives green light emission include aluminum complexes such as quinacridone, coumarin, Al (C 9 H 6 NO) 3, and derivatives thereof.

黄色発光を与える蛍光発光材料(黄色蛍光色素)としては、例えば、ルブレン、ペリミドンおよびそれらの誘導体等が挙げられる。   Examples of the fluorescent material that gives yellow light (yellow fluorescent dye) include rubrene, perimidone and derivatives thereof.

赤色発光を与える蛍光発光材料(赤色蛍光色素)としては、例えば、DCM(4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチレン)−4H−ピラン)系化合物、ベンゾピラン、ローダミン、ベンゾチオキサンテン、アザベンゾチオキサンテン等のキサンテンおよびそれらの誘導体等が挙げられる。   Examples of fluorescent light-emitting materials (red fluorescent dyes) that emit red light include DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyrene) -4H-pyran) -based compounds, benzopyran, and rhodamine. , Xanthenes such as benzothioxanthene and azabenzothioxanthene, and derivatives thereof.

燐光発光材料としては、例えば、長周期型周期表(以下、特に断り書きの無い限り「周期表」という場合には、長周期型周期表を指すものとする。)第7〜11族から選ばれる金属を中心金属として含むウェルナー型錯体または有機金属錯体が挙げられる。   As the phosphorescent material, for example, a long-period type periodic table (hereinafter referred to as a long-period type periodic table when referred to as “periodic table” unless otherwise specified) is selected from the seventh to eleventh groups. A Werner complex or an organometallic complex containing a metal as a central metal.

周期表第7〜11族から選ばれる金属として、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金等が挙げられ、中でもより好ましくはイリジウムまたは白金である。   Preferred examples of the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold. Among these, iridium or platinum is more preferable.

錯体の配位子としては、(ヘテロ)アリールピリジン配位子、(ヘテロ)アリールピラゾール配位子などの(ヘテロ)アリール基とピリジン、ピラゾール、フェナントロリンなどが連結した配位子が好ましく、特にフェニルピリジン配位子、フェニルピラゾール配位子が好ましい。ここで、(ヘテロ)アリールとは、アリール基またはヘテロアリール基を表す。   As the ligand of the complex, a ligand in which a (hetero) aryl group such as a (hetero) arylpyridine ligand or a (hetero) arylpyrazole ligand and a pyridine, pyrazole, phenanthroline, or the like is connected is preferable. A pyridine ligand and a phenylpyrazole ligand are preferable. Here, (hetero) aryl represents an aryl group or a heteroaryl group.

燐光発光材料として、具体的には、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム、トリス(2−フェニルピリジン)ルテニウム、トリス(2−フェニルピリジン)パラジウム、ビス(2−フェニルピリジン)白金、トリス(2−フェニルピリジン)オスミウム、トリス(2−フェニルピリジン)レニウム、オクタエチル白金ポルフィリン、オクタフェニル白金ポルフィリン、オクタエチルパラジウムポルフィリン、オクタフェニルパラジウムポルフィリン等が挙げられる。   Specific examples of the phosphorescent material include tris (2-phenylpyridine) iridium, tris (2-phenylpyridine) ruthenium, tris (2-phenylpyridine) palladium, bis (2-phenylpyridine) platinum, tris (2- Phenylpyridine) osmium, tris (2-phenylpyridine) rhenium, octaethyl platinum porphyrin, octaphenyl platinum porphyrin, octaethyl palladium porphyrin, octaphenyl palladium porphyrin, and the like.

その他発光材料として用いる化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。発光材料の分子量が小さ過ぎると、耐熱性が著しく低下したり、ガス発生の原因となったり、膜を形成した際の膜質の低下を招いたり、或いはマイグレーションなどによる有機電界発光素子のモルフォロジー変化を来したりする場合がある。一方、発光材料の分子量が大き過ぎると、当該発光材料の有機化合物の精製が困難となってしまったり、溶剤に溶解させる際に時間を要したりする傾向がある。   The molecular weight of the compound used as the other light emitting material is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, more preferably 3000 or less, and usually 100 or more. The range is preferably 200 or more, more preferably 300 or more, and still more preferably 400 or more. If the molecular weight of the luminescent material is too small, the heat resistance will be significantly reduced, gas generation will be caused, the film quality will be reduced when the film is formed, or the morphology of the organic electroluminescent element will be changed due to migration, etc. Sometimes come. On the other hand, if the molecular weight of the luminescent material is too large, it tends to be difficult to purify the organic compound of the luminescent material, or it may take time to dissolve in the solvent.

なお、上述したその他の発光材料は、いずれか1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, as for the other luminescent material mentioned above, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and ratios.

本発明の有機電界発光素子用組成物に含まれる発光材料の含有量は、0.000001重量%以上が好ましく、0.0001重量%以上がより好ましく、0.01重量%以上が特に好ましく、25重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましく、15重量%以下が特に好ましい。
有機電界発光素子用組成物中の発光材料の含有量がこの下限を下回ると、有機電界発光素子用組成物中の固形分含有量が不足することにより成膜時に薄膜が形成されない部分が生じる、あるいは形成された薄膜の膜厚が薄くなりすぎるなどの問題が生じ、最終的に得られた素子の黒点の発生や短絡の原因となる等、所望の機能を十分に得ることが出来ない場合がある。また、有機電界発光素子用組成物に通常含まれる電荷輸送性材料に対する濃度の相対値が低下してしまい、電荷輸送性材料からの電荷あるいはエネルギーの移動が不十分となり、無効電流の増大による消費電力の低下や電荷輸送性材料そのものからの発光による色ずれなどが生じる場合もある。
一方、有機電界発光素子用組成物中の発光材料の含有量がこの上限を上回ると、成膜時に得られる薄膜の膜厚が厚くなりすぎ素子の駆動電圧が上昇する、薄膜の不均一性(塗布ムラ)が生じやすくなり素子発光面の輝度ムラの原因となる等、やはり所望の機能を十分に得られない場合がある。また、一般に濃度消光と呼ばれる発光材料分子間の相互作用の増大による消光現象や、乾燥時の発光材料の凝集、発光材料が発光層へ注入された電荷のトラップとして作用することによる駆動電圧の上昇や素子の耐久性の低下などが起こりやすくなる場合もある。
該含有量は、本発明の有機電界発光素子用組成物中に含まれる発光材料が複数ある場合には、その合計量を表す。
The content of the light emitting material contained in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is preferably 0.000001% by weight or more, more preferably 0.0001% by weight or more, particularly preferably 0.01% by weight or more, 25 % By weight or less is preferred, 15% by weight or less is more preferred, and 15% by weight or less is particularly preferred.
When the content of the light emitting material in the composition for organic electroluminescent elements is less than this lower limit, a portion where a thin film is not formed during film formation occurs due to insufficient solid content in the composition for organic electroluminescent elements, Or the problem that the film thickness of the formed thin film becomes too thin may occur, and it may not be possible to obtain the desired function sufficiently, such as generation of black spots or short circuit in the finally obtained device. is there. In addition, the relative value of the concentration with respect to the charge transporting material usually contained in the composition for organic electroluminescent elements is lowered, the charge or energy transfer from the charge transporting material becomes insufficient, and the consumption due to the increase in reactive current. There may be a color shift due to a decrease in power or light emission from the charge transporting material itself.
On the other hand, if the content of the luminescent material in the composition for organic electroluminescent elements exceeds this upper limit, the film thickness of the thin film obtained at the time of film formation becomes too thick, and the driving voltage of the element rises. In some cases, the desired function cannot be sufficiently obtained, such as uneven coating) which easily causes luminance unevenness on the light emitting surface of the element. In addition, quenching phenomenon due to increased interaction between light emitting material molecules, generally called concentration quenching, aggregation of the light emitting material during drying, and increase in driving voltage due to the light emitting material acting as a trap for charges injected into the light emitting layer In some cases, the durability of the device may be reduced.
When there are a plurality of light emitting materials contained in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention, the content represents the total amount.

なお、発光材料としての本発明の有機電界発光素子材料とその他の発光材料を併用する場合、前述の蛍光発光化合物(a)が、発光材料の合計の重量に対して0.1重量%以上、特に1重量%以上となるように用いることが好ましい。   In addition, when using together the organic electroluminescent element material of this invention as a luminescent material, and another luminescent material, the above-mentioned fluorescence luminescent compound (a) is 0.1 weight% or more with respect to the total weight of a luminescent material, In particular, it is preferable to use it so that it may become 1 weight% or more.

<電荷輸送性材料>
有機電界発光素子において、発光材料は、電荷輸送性のホスト材料から電荷またはエネルギーを受け取って発光することが好ましい。従って、本発明の有機電界発光素子用組成物は、ドーパント材料である発光材料のホスト材料となる電荷輸送性材料を含むことが好ましい。本発明の有機電界発光素子材料は、このホスト材料となる電荷輸送性材料として用いられることが好ましい。また、その他の電荷輸送性材料としては、正孔輸送性の化合物(正孔輸送性材料)や電子輸送性の化合物(電子輸送性材料)が挙げられる。
<Charge transport material>
In the organic electroluminescent element, the light emitting material preferably emits light upon receiving electric charge or energy from a charge transporting host material. Therefore, it is preferable that the composition for organic electroluminescent elements of the present invention includes a charge transporting material that becomes a host material of the light emitting material that is a dopant material. The organic electroluminescent element material of the present invention is preferably used as a charge transporting material serving as the host material. Examples of other charge transporting materials include a hole transporting compound (hole transporting material) and an electron transporting compound (electron transporting material).

ここで、電荷輸送性材料の例としては、芳香族アミン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン系化合物、ベンジルフェニル系化合物、フルオレン系化合物、ヒドラゾン系化合物、シラザン系化合物、シラナミン系化合物、ホスファミン系化合物、キナクリドン系化合物、トリフェニレン系化合物、カルバゾール系化合物、ピレン系化合物、アントラセン系化合物、フェナントロリン系化合物、キノリン系化合物、ピリジン系化合物、トリアジン系化合物、オキサジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物等が挙げられる。   Here, examples of the charge transporting material include aromatic amine compounds, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, thiophene compounds, benzylphenyl compounds, fluorene compounds, hydrazone compounds, silazane compounds, and silanamine compounds. Phosphamine compounds, quinacridone compounds, triphenylene compounds, carbazole compounds, pyrene compounds, anthracene compounds, phenanthroline compounds, quinoline compounds, pyridine compounds, triazine compounds, oxadiazole compounds, imidazole compounds Etc.

より具体的には、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルに代表される、2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族アミン系化合物(特開平5−234681号公報)、4,4’,4”−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン系化合物(Journal of Luminescence, 1997年, Vol.72−74, pp.985)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン系化合物(Chemical Communications, 1996年, pp.2175)、2,2’,7,7’−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン等のフルオレン系化合物(Synthetic Metals, 1997年,Vol.91 ,pp.209)、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール(BND)、2,5−ビス(6’−(2’,2”−ビピリジル))−1,1−ジメチル−3,4−ジフェニルシロール(PyPySPyPy)、バソフェナントロリン(BPhen)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP、バソクプロイン)、2−(4−ビフェニリル)−5−(p−ターシャルブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(tBu−PBD)、4,4’−ビス(9−カルバゾール)−ビフェニル(CBP)等が挙げられる。   More specifically, two or more condensed aromatic rings containing two or more tertiary amines represented by 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl Aromatic amine compounds having a starburst structure such as aromatic amine compounds substituted with nitrogen atoms (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), 4,4 ′, 4 ″ -tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine Compound (Journal of Luminescence, 1997, Vol. 72-74, pp. 985), an aromatic amine compound composed of a tetramer of triphenylamine (Chemical Communications, 1996, pp. 2175), 2, 2 ′ , 7,7'-tetrakis- (diphenylamino) -9,9'-spirobifluorene Orenic compounds (Synthetic Metals, 1997, Vol. 91, pp. 209), 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole (BND), 2,5-bis (6 '-(2', 2 "-bipyridyl))-1,1-dimethyl-3,4-diphenylsilole (PyPySPyPy), bathophenanthroline (BPhen), 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10 -Phenanthroline (BCP, bathocuproine), 2- (4-biphenylyl) -5- (p-tertiarybutylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (tBu-PBD), 4,4'-bis (9 -Carbazole) -biphenyl (CBP) and the like.

本発明における電荷輸送性材料の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。
電荷輸送性材料の分子量が小さ過ぎると、発光材料の場合と同様に、ガラス転移温度や融点、分解温度等が低くなりやすく、有機電界発光素子材料および得られた有機薄膜の耐熱性が著しく低下し、再結晶化や分子のマイグレーションなどに起因する膜質の低下や、材料の熱分解に伴う不純物濃度の上昇などを引き起こし、素子性能の低下を引き起こす場合がある。
一方、電荷輸送性材料の分子量が大きすぎると、有機電界発光素子材料の構造や組成物の調製に使用する溶剤の種類によっては溶剤に対する材料の溶解度が小さくなりすぎ、例えば材料製造工程における精製が困難となるため不純物濃度が高くなり、有機電界発光素子の発光効率や耐久性の低下の原因となる、あるいは湿式成膜時に薄膜が形成されない部分が生じる、形成された薄膜の膜厚が薄くなりすぎるなどの問題が生じ、最終的に得られた素子の黒点の発生や短絡の原因となる等、所望の機能を十分に得ることが出来ない場合がある。
The molecular weight of the charge transporting material in the present invention is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, still more preferably 3000 or less, and usually 100. The range is preferably 200 or more, more preferably 300 or more, and still more preferably 400 or more.
If the molecular weight of the charge transporting material is too small, the glass transition temperature, melting point, decomposition temperature, etc. are likely to be lowered as in the case of the luminescent material, and the heat resistance of the organic electroluminescent element material and the obtained organic thin film is significantly reduced. However, the film performance may be reduced due to recrystallization, molecular migration, or the like, and the impurity concentration may be increased due to thermal decomposition of the material.
On the other hand, if the molecular weight of the charge transporting material is too large, the solubility of the material in the solvent becomes too small depending on the structure of the organic electroluminescent element material and the type of the solvent used for preparing the composition. This makes it difficult to increase the impurity concentration, resulting in a decrease in the luminous efficiency and durability of the organic electroluminescence device, or a portion where no thin film is formed during wet film formation, resulting in a thin film thickness. In some cases, the desired function cannot be sufficiently obtained, such as generation of black spots or short-circuiting of the finally obtained device.

なお、上述した電荷輸送性材料は、いずれか1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, any 1 type may be used for the charge transport material mentioned above, and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

本発明の有機電界発光素子用組成物に含まれる電荷輸送性材料の含有量は、0.000001重量%以上が好ましく、0.0001重量%以上がより好ましく、0.01重量%以上が更に好ましい。また、50重量%以下が好ましく、30重量%以下がより好ましく、15重量%以下が更に好ましい。有機電界発光素子用組成物中の電荷輸送性材料の含有量がこの下限を下回ると、湿式成膜法により形成される薄膜中の電荷輸送能力が低下することによる駆動電圧の上昇、あるいは発光効率の低下を引き起こす場合がある。加えて、有機電界発光素子用組成物中の固形分含有量が不足することにより、塗布成膜時に薄膜が形成されない部分が生じる、あるいは形成された薄膜の膜厚が薄くなりすぎるなどの問題が生じ、最終的に得られた素子の黒点の発生や短絡の原因となる等、所望の機能を十分に得ることが出来ない場合もあるため好ましくない。一方、電荷輸送性材料の含有量がこの上限を上回ると、成膜時に得られる薄膜の膜厚が厚くなりすぎ、素子の駆動電圧が上昇する、塗布ムラが生じやすくなり、素子発光面の輝度ムラの原因となる等、やはり所望の機能を十分に得られない場合があるため、好ましくない。   The content of the charge transporting material contained in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is preferably 0.000001% by weight or more, more preferably 0.0001% by weight or more, and still more preferably 0.01% by weight or more. . Moreover, 50 weight% or less is preferable, 30 weight% or less is more preferable, and 15 weight% or less is still more preferable. If the content of the charge transporting material in the composition for organic electroluminescent elements is below this lower limit, the driving voltage is increased due to a decrease in the charge transporting ability in the thin film formed by the wet film forming method, or the luminous efficiency. May cause a decrease in In addition, the solid content in the composition for organic electroluminescent elements is insufficient, resulting in a problem that a thin film is not formed at the time of coating film formation, or the formed thin film is too thin. This is not preferable because a desired function may not be sufficiently obtained, such as generation of a black spot or a short circuit in the finally obtained device. On the other hand, if the content of the charge transport material exceeds this upper limit, the thickness of the thin film obtained at the time of film formation becomes too thick, the drive voltage of the device rises, coating unevenness is likely to occur, and the brightness of the light emitting surface of the device Since the desired function may not be sufficiently obtained such as causing unevenness, it is not preferable.

また、有機電界発光素子用組成物中における電荷輸送性材料の含有量に対する発光材料の含有量の割合は、0.01重量%以上が好ましく、0.1重量%以上がより好ましく、1重量%以上が更に好ましい。また、50重量%以下が好ましく、30重量%以下がより好ましく、10重量%以下が更に好ましい。有機電界発光素子用組成物中の電荷輸送性材料の含有量に対する発光材料の含有量の割合がこの下限を下回ると、電荷輸送性材料からの電荷あるいはエネルギーの移動が不十分となり、無効電流の増大による消費電力の低下や電荷輸送性材料そのものからの発光による色ずれなどが生じるようになる。一方、この割合が上記上限を上回ると、一般に濃度消光と呼ばれる発光材料分子間の相互作用の増大による消光現象や、乾燥時の発光材料の凝集、発光材料が発光層へ注入された電荷のトラップとして作用することによる駆動電圧の上昇や素子の耐久性の低下などが起こりやすくなる。   In addition, the ratio of the content of the light emitting material to the content of the charge transporting material in the composition for organic electroluminescent elements is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, and 1% by weight. The above is more preferable. Moreover, 50 weight% or less is preferable, 30 weight% or less is more preferable, and 10 weight% or less is still more preferable. If the ratio of the content of the light-emitting material to the content of the charge-transporting material in the composition for organic electroluminescent elements is below this lower limit, the transfer of charge or energy from the charge-transporting material becomes insufficient, and the reactive current is reduced. A decrease in power consumption due to the increase or a color shift due to light emission from the charge transporting material itself occurs. On the other hand, if this ratio exceeds the above upper limit, quenching phenomenon due to an increase in interaction between light emitting material molecules, generally called concentration quenching, aggregation of the light emitting material during drying, trapping of charges injected into the light emitting layer. As a result, the driving voltage increases and the durability of the element decreases.

{その他の成分}
本発明の有機電界発光素子用組成物は、発光材料、電荷輸送性材料および溶剤の他、レベリング剤、消泡剤、増粘剤等の塗布性改良剤、電子受容性化合物や電子供与性化合物などの電荷輸送補助剤、バインダー樹脂などを含有していてもよい。これらのその他の成分の有機電界発光素子用組成物中の含有量は、形成される薄膜の電荷移動を著しく阻害しないこと、発光材料の発光を阻害しないこと、薄膜の膜質を低下させないことなどの観点から、通常50重量%以下である。
{Other ingredients}
The composition for an organic electroluminescent device of the present invention comprises a light emitting material, a charge transporting material and a solvent, a coating improver such as a leveling agent, an antifoaming agent and a thickener, an electron accepting compound and an electron donating compound. A charge transport aid such as a binder resin or the like may be contained. The content of these other components in the composition for organic electroluminescence devices does not significantly inhibit the charge transfer of the formed thin film, does not inhibit the light emission of the luminescent material, does not deteriorate the film quality of the thin film, etc. From the viewpoint, it is usually 50% by weight or less.

{溶剤濃度・固形分濃度}
本発明の有機電界発光素子用組成物を、後述の本発明の有機電界発光素子の発光層を形成するための発光層形成用組成物として用いる場合、有機電界発光素子用組成物中の溶剤の含有量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常50重量%以上、通常99.9999重量%以下、である。なお、溶剤として2種以上の溶剤を混合して用いる場合には、これらの溶剤の合計がこの範囲を満たすようにする。
また、発光材料、電荷輸送性材料、その他の材料等の全固形分濃度としては、通常0.01重量%以上、通常70重量%以下である。この濃度が高すぎると形成される薄膜の膜厚ムラが生じる可能性があり、また、低すぎると形成される薄膜に欠陥が生じる可能性がある。
{Solvent concentration / Solid concentration}
When the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is used as a composition for forming a light emitting layer for forming a light emitting layer of the organic electroluminescent element of the present invention described later, the solvent in the composition for organic electroluminescent elements is used. The content is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 50% by weight or more and usually 99.9999% by weight or less. In addition, when mixing and using 2 or more types of solvents as a solvent, it is made for the sum total of these solvents to satisfy | fill this range.
Further, the total solid content concentration of the light emitting material, charge transporting material, and other materials is usually 0.01% by weight or more and usually 70% by weight or less. If this concentration is too high, film thickness unevenness of the formed thin film may occur, and if it is too low, defects may occur in the formed thin film.

[有機電界発光素子]
本発明の有機電界発光素子は、基板上に、陽極、陰極および該陽極と該陰極の間に、発光層を有し、該発光層が、上記本発明の有機電界発光素子材料を含有する層、ないしは、上記本発明の有機電界発光素子用組成物を用いて形成された層であることを特徴とする。
[Organic electroluminescence device]
The organic electroluminescent device of the present invention has an anode, a cathode, and a light emitting layer between the anode and the cathode on a substrate, and the light emitting layer contains the organic electroluminescent device material of the present invention. Or it is a layer formed using the composition for organic electroluminescent elements of the present invention.

以下に、本発明の有機電界発光素子の層構成およびその一般的形成方法等について、図1を参照にして説明する。   Below, the layer structure of the organic electroluminescent element of this invention, its general formation method, etc. are demonstrated with reference to FIG.

図1は本発明の有機電界発光素子10の構造例を示す断面の模式図であり、図1において、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は正孔阻止層、7は電子輸送層、8は電子注入層、9は陰極を各々表す。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structural example of an organic electroluminescent element 10 of the present invention. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, 5 Represents a light-emitting layer, 6 represents a hole blocking layer, 7 represents an electron transport layer, 8 represents an electron injection layer, and 9 represents a cathode.

尚、本発明において湿式成膜法とは、前述の如く、例えば、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、キャピラリーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等湿式で成膜される方法をいう。これらの成膜方法の中でも、有機電界発光素子に用いられる有機電界発光素子用組成物特有の液性に合うため、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェット法が好ましい。   In the present invention, the wet film forming method is, for example, a spin coating method, a dip coating method, a die coating method, a bar coating method, a blade coating method, a roll coating method, a spray coating method, a capillary coating method, and an inkjet as described above. This method is a wet film formation method such as a printing method, a screen printing method, a gravure printing method, or a flexographic printing method. Among these film forming methods, a spin coating method, a spray coating method, and an ink jet method are preferable because they are suitable for the liquid property peculiar to the composition for an organic electroluminescence device used for the organic electroluminescence device.

{基板}
基板1は有機電界発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板が好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機電界発光素子が劣化することがあるので好ましくない。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。
{substrate}
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent element, and a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film, a sheet, or the like is used. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, polysulfone or the like is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent element may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate, which is not preferable. For this reason, a method of providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also a preferable method.

{陽極}
陽極2は発光層側の層への正孔注入の役割を果たすものである。
{anode}
The anode 2 serves to inject holes into the layer on the light emitting layer side.

この陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウムおよび/またはスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅等のハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。   This anode 2 is usually a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or It is composed of a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or polyaniline.

陽極2の形成は通常、スパッタリング法、真空蒸着法等により行われることが多い。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極2を形成する場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散させて、基板1上に塗布することにより陽極2を形成することもできる。さらに、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板1上に薄膜を形成したり、基板1上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。   In general, the anode 2 is often formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. In addition, when forming the anode 2 using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, and conductive polymer fine powder, an appropriate binder resin solution It is also possible to form the anode 2 by dispersing it and applying it onto the substrate 1. Furthermore, in the case of a conductive polymer, a thin film can be directly formed on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or the anode 2 can be formed by applying a conductive polymer on the substrate 1 (Appl. Phys. Lett. 60, 2711, 1992).

陽極2は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすることも可能である。   The anode 2 usually has a single-layer structure, but it can also have a laminated structure made of a plurality of materials if desired.

陽極2の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが好ましい。この場合、陽極2の厚みは通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下程度である。不透明でよい場合は陽極2の厚みは任意であり、陽極2は基板1と同一でもよい。また、さらには、上記の陽極2の上に異なる導電材料を積層することも可能である。   The thickness of the anode 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 1000 nm or less, preferably about 500 nm or less. When it may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary, and the anode 2 may be the same as the substrate 1. Furthermore, it is also possible to laminate different conductive materials on the anode 2 described above.

陽極2に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的に、陽極2表面を紫外線(UV)/オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることは好ましい。   For the purpose of removing impurities adhering to the anode 2 and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the surface of the anode 2 is treated with ultraviolet (UV) / ozone, or with oxygen plasma or argon plasma. It is preferable to do.

{正孔注入層}
正孔注入層3は、陽極2から発光層5へ正孔を輸送する層であり、通常、陽極2上に形成される。
{Hole injection layer}
The hole injection layer 3 is a layer that transports holes from the anode 2 to the light emitting layer 5, and is usually formed on the anode 2.

本発明に係る正孔注入層3の形成方法は真空蒸着法でも、湿式成膜法でもよく、特に制限はないが、ダークスポット低減の観点から正孔注入層3を湿式成膜法により形成することが好ましい。   The method for forming the hole injection layer 3 according to the present invention may be a vacuum deposition method or a wet film formation method, and is not particularly limited, but the hole injection layer 3 is formed by a wet film formation method from the viewpoint of reducing dark spots. It is preferable.

正孔注入層3の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下の範囲である。   The thickness of the hole injection layer 3 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less.

<湿式成膜法による正孔注入層の形成>
湿式成膜により正孔注入層3を形成する場合、通常は、正孔注入層3を構成する材料を適切な溶剤(正孔注入層用溶剤)と混合して成膜用の組成物(正孔注入層形成用組成物)を調製し、この正孔注入層形成用組成物を適切な手法により、正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極)上に塗布して成膜し、乾燥することにより正孔注入層3を形成する。
<Formation of hole injection layer by wet film formation method>
When forming the hole injection layer 3 by wet film formation, the material for forming the hole injection layer 3 is usually mixed with an appropriate solvent (hole injection layer solvent) to form a film-forming composition (positive A composition for forming a hole injection layer), and applying the composition for forming a hole injection layer on a layer (usually an anode) corresponding to the lower layer of the hole injection layer 3 by an appropriate technique. The hole injection layer 3 is formed by coating and drying.

(正孔輸送性化合物)
正孔注入層形成用組成物は通常、正孔注入層の構成材料として正孔輸送性化合物および溶剤を含有する。
(Hole transporting compound)
The composition for forming a hole injection layer usually contains a hole transporting compound and a solvent as constituent materials of the hole injection layer.

正孔輸送性化合物は、通常、有機電界発光素子の正孔注入層に使用される、正孔輸送性を有する化合物であれば、重合体などの高分子化合物であっても、単量体などの低分子化合物であってもよいが、高分子化合物であることが好ましい。   The hole transporting compound is a compound having a hole transporting property that is usually used in a hole injection layer of an organic electroluminescence device, and may be a polymer compound or the like, a monomer or the like. Although it may be a low molecular weight compound, it is preferably a high molecular weight compound.

正孔輸送性化合物としては、陽極2から正孔注入層3への電荷注入障壁の観点から4.5eV〜6.0eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物が好ましい。正孔輸送性化合物の例としては、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で3級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。   The hole transporting compound is preferably a compound having an ionization potential of 4.5 eV to 6.0 eV from the viewpoint of a charge injection barrier from the anode 2 to the hole injection layer 3. Examples of hole transporting compounds include aromatic amine derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, polythiophene derivatives, benzylphenyl derivatives, compounds in which tertiary amines are linked by a fluorene group, hydrazone derivatives, silazane derivatives, silanamines Derivatives, phosphamine derivatives, quinacridone derivatives, polyaniline derivatives, polypyrrole derivatives, polyphenylene vinylene derivatives, polythienylene vinylene derivatives, polyquinoline derivatives, polyquinoxaline derivatives, carbon and the like.

尚、本発明において誘導体とは、例えば、芳香族アミン誘導体を例にするならば、芳香族アミンそのものおよび芳香族アミンを主骨格とする化合物を含むものであり、重合体であっても、単量体であってもよい。   In the present invention, a derivative includes, for example, an aromatic amine derivative, and includes an aromatic amine itself and a compound having an aromatic amine as a main skeleton. It may be a mer.

正孔注入層3の材料として用いられる正孔輸送性化合物は、このような化合物のうち何れか1種を単独で含有していてもよく、2種以上を含有していてもよい。2種以上の正孔輸送性化合物を含有する場合、その組み合わせは任意であるが、芳香族三級アミン高分子化合物1種または2種以上と、その他の正孔輸送性化合物1種または2種以上とを併用することが好ましい。   The hole transporting compound used as the material for the hole injection layer 3 may contain any one of these compounds alone, or may contain two or more. When two or more hole transporting compounds are contained, the combination thereof is arbitrary, but one or more aromatic tertiary amine polymer compounds and one or two other hole transporting compounds are used. It is preferable to use the above in combination.

上記例示した中でも非晶質性、可視光の透過率の点から、芳香族アミン化合物が好ましく、特に芳香族三級アミン化合物が好ましい。ここで、芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。   Among the above examples, an aromatic amine compound is preferable from the viewpoint of amorphousness and visible light transmittance, and an aromatic tertiary amine compound is particularly preferable. Here, the aromatic tertiary amine compound is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine.

芳香族三級アミン化合物の種類は特に制限されないが、表面平滑化効果による均一な発光の点から、重量平均分子量が1000以上、1000000以下の高分子化合物(繰り返し単位が連なる重合型化合物)がさらに好ましい。芳香族三級アミン高分子化合物の好ましい例として、下記式(I)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物が挙げられる。   The type of the aromatic tertiary amine compound is not particularly limited, but from the viewpoint of uniform light emission due to the surface smoothing effect, a polymer compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less (a polymerizable compound in which repeating units are linked) is further included. preferable. Preferable examples of the aromatic tertiary amine polymer compound include a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (I).

Figure 2010209211
Figure 2010209211

(式(I)中、ArおよびArは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ar〜Arは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Yは、下記の連結基群の中から選ばれる連結基を表す。また、Ar〜Arのうち、同一のN原子に結合する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい。

Figure 2010209211
(上記各式中、Ar〜Ar16は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子または任意の置換基を表す。)) (In Formula (I), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 3 to Ar 5 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Represents a linking group selected from the group of linking groups, and among Ar 1 to Ar 5 , two groups bonded to the same N atom may be bonded to each other to form a ring.
Figure 2010209211
(In said each formula, Ar < 6 > -Ar < 16 > represents each independently the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or the aromatic heterocyclic group which may have a substituent. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent.))

Ar〜Ar16の芳香族炭化水素基および芳香族複素環基としては、高分子化合物の溶解性、耐熱性、正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピリジン環由来の基が好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環由来の基がさらに好ましい。 As the aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group of Ar 1 to Ar 16 , a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, a thiophene from the viewpoint of the solubility, heat resistance, hole injection / transport property of the polymer compound A group derived from a ring or a pyridine ring is preferred, and a group derived from a benzene ring or a naphthalene ring is more preferred.

Ar〜Ar16の芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の分子量としては、通常400以下、中でも250以下程度が好ましい。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基などが好ましい。 The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group of Ar 1 to Ar 16 may further have a substituent. The molecular weight of the substituent is usually 400 or less, preferably about 250 or less. As the substituent, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group and the like are preferable.

およびRが任意の置換基である場合、該置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シリル基、シロキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基などが挙げられる。 When R 1 and R 2 are optional substituents, examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a silyl group, a siloxy group, an aromatic hydrocarbon group, and an aromatic heterocyclic group. .

式(I)で表される繰り返し単位を有する芳香族三級アミン高分子化合物の具体例としては、国際公開第2005/089024号パンフレットに記載のものが挙げられる。   Specific examples of the aromatic tertiary amine polymer compound having a repeating unit represented by the formula (I) include those described in International Publication No. 2005/089024.

また、正孔輸送性化合物としては、ポリチオフェンの誘導体である3,4−ethylenedioxythiophene(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を高分子量ポリスチレンスルホン酸中で重合してなる導電性ポリマー(PEDOT/PSS)もまた好ましい。また、このポリマーの末端をメタクリレート等でキャップしたものであってもよい。   In addition, as a hole transporting compound, a conductive polymer (PEDOT / PSS) obtained by polymerizing 3,4-ethylenedioxythiophene (3,4-ethylenedioxythiophene), a polythiophene derivative, in high molecular weight polystyrene sulfonic acid. Is also preferred. Moreover, the end of this polymer may be capped with methacrylate or the like.

正孔注入層形成用組成物中の、正孔輸送性化合物の濃度は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、膜厚の均一性の点で通常0.01重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、さらに好ましくは0.5重量%以上、また、通常70重量%以下、好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは50重量%以下である。この濃度が大きすぎると膜厚ムラが生じる可能性があり、また、小さすぎると成膜された正孔注入層に欠陥が生じる可能性がある。   The concentration of the hole transporting compound in the composition for forming a hole injection layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01% by weight or more, preferably in terms of film thickness uniformity. Is 0.1% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more, and usually 70% by weight or less, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less. If this concentration is too high, film thickness unevenness may occur, and if it is too low, defects may occur in the formed hole injection layer.

(電子受容性化合物)
正孔注入層形成用組成物は正孔注入層の構成材料として、電子受容性化合物を含有していることが好ましい。
(Electron-accepting compound)
The composition for forming a hole injection layer preferably contains an electron accepting compound as a constituent material of the hole injection layer.

電子受容性化合物とは、酸化力を有し、上述の正孔輸送性化合物から一電子受容する能力を有する化合物が好ましく、具体的には、電子親和力が4eV以上である化合物が好ましく、5eV以上の化合物である化合物がさらに好ましい。   The electron-accepting compound is preferably a compound having an oxidizing power and the ability to accept one electron from the above-described hole transporting compound, specifically, a compound having an electron affinity of 4 eV or more is preferable, and 5 eV or more. The compound which is the compound of these is further more preferable.

このような電子受容性化合物としては、例えば、トリアリールホウ素化合物、ハロゲン化金属、ルイス酸、有機酸、オニウム塩、アリールアミンとハロゲン化金属との塩、アリールアミンとルイス酸との塩よりなる群から選ばれる1種または2種以上の化合物等が挙げられる。さらに具体的には、4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンダフルオロフェニル)ボラート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート等の有機基の置換したオニウム塩(国際公開2005/089024号パンフレット);塩化鉄(III)(特開平11−251067号公報)、ペルオキソ二硫酸アンモニウム等の高原子価の無機化合物;テトラシアノエチレン等のシアノ化合物、トリス(ペンダフルオロフェニル)ボラン(特開2003−31365号公報)等の芳香族ホウ素化合物;フラーレン誘導体;ヨウ素;ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、ショウノウスルホン酸イオン等のスルホン酸イオン等が挙げられる。   Examples of such electron-accepting compounds include triarylboron compounds, metal halides, Lewis acids, organic acids, onium salts, salts of arylamines and metal halides, and salts of arylamines and Lewis acids. Examples thereof include one or more compounds selected from the group. More specifically, an onium salt substituted with an organic group such as 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylsulfonium tetrafluoroborate (International Publication No. WO 2005/089024); High-valent inorganic compounds such as iron (III) chloride (Japanese Patent Laid-Open No. 11-251067), ammonium peroxodisulfate; cyano compounds such as tetracyanoethylene, tris (pendafluorophenyl) borane (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-31365) Aromatic boron compounds such as); fullerene derivatives; iodine; sulfonate ions such as polystyrene sulfonate ions, alkylbenzene sulfonate ions, camphor sulfonate ions, and the like.

これらの電子受容性化合物は、正孔輸送性化合物を酸化することにより正孔注入層の導電率を向上させることができる。   These electron accepting compounds can improve the conductivity of the hole injection layer by oxidizing the hole transporting compound.

正孔注入層或いは正孔注入層形成用組成物中の電子受容性化合物の正孔輸送性化合物に対する含有量は、通常0.1モル%以上、好ましくは1モル%以上である。但し、通常100モル%以下、好ましくは40モル%以下である。   The content of the electron-accepting compound in the hole-injecting layer or the composition for forming a hole-injecting layer with respect to the hole-transporting compound is usually 0.1 mol% or more, preferably 1 mol% or more. However, it is usually 100 mol% or less, preferably 40 mol% or less.

(その他の構成材料)
正孔注入層の材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述の正孔輸送性化合物や電子受容性化合物に加えて、さらに、その他の成分を含有させてもよい。その他の成分の例としては、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などが挙げられる。なお、その他の成分は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
(Other components)
As a material for the hole injection layer, other components may be further contained in addition to the above-described hole transporting compound and electron accepting compound as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of other components include various light emitting materials, electron transporting compounds, binder resins, and coating property improving agents. In addition, only 1 type may be used for another component and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(溶剤)
湿式成膜法に用いる正孔注入層形成用組成物の溶剤のうち少なくとも1種は、上述の正孔注入層の構成材料を溶解しうる化合物であることが好ましい。また、この溶剤の沸点は通常110℃以上、好ましくは140℃以上、中でも200℃以上、通常400℃以下、中でも300℃以下であることが好ましい。溶剤の沸点が低すぎると、乾燥速度が速すぎ、膜質が悪化する可能性がある。また、溶剤の沸点が高すぎると乾燥工程の温度を高くする必要があし、他の層や基板に悪影響を与える可能性がある。
(solvent)
At least one of the solvents of the composition for forming a hole injection layer used in the wet film formation method is preferably a compound that can dissolve the constituent material of the hole injection layer. The boiling point of this solvent is usually 110 ° C. or higher, preferably 140 ° C. or higher, particularly 200 ° C. or higher, usually 400 ° C. or lower, and preferably 300 ° C. or lower. If the boiling point of the solvent is too low, the drying speed is too high and the film quality may be deteriorated. Further, if the boiling point of the solvent is too high, it is necessary to increase the temperature of the drying step, which may adversely affect other layers and the substrate.

溶剤として例えば、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アミド系溶剤などが挙げられる。   Examples of the solvent include ether solvents, ester solvents, aromatic hydrocarbon solvents, amide solvents, and the like.

エーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル、等が挙げられる。   Examples of ether solvents include aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole , Phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, aromatic ethers such as 2,4-dimethylanisole, and the like.

エステル系溶剤としては、例えば、酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル、等が挙げられる。   Examples of the ester solvent include aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and n-butyl benzoate.

芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、3−イロプロピルビフェニル、1,2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,4−ジイソプロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、メチルナフタレン等が挙げられる。   As the aromatic hydrocarbon solvent, for example, toluene, xylene, cyclohexylbenzene, 3-isopropylpropylphenyl, 1,2,3,4-tetramethylbenzene, 1,4-diisopropylbenzene, cyclohexylbenzene, methylnaphthalene, etc. Can be mentioned.

アミド系溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、等が挙げられる。   Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like.

その他、ジメチルスルホキシド、等も用いることができる。   In addition, dimethyl sulfoxide and the like can also be used.

これらの溶剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で用いてもよい。   These solvent may use only 1 type and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

(成膜方法)
正孔注入層形成用組成物を調製後、この組成物を湿式成膜により、正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極2)上に塗布成膜し、乾燥することにより正孔注入層3を形成する。
(Film formation method)
After preparing the composition for forming the hole injection layer, the composition is applied on the layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer 3 (usually the anode 2) by wet film formation, and dried. The hole injection layer 3 is formed.

成膜工程における温度は、組成物中に結晶が生じることによる膜の欠損を防ぐため、10℃以上が好ましく、50℃以下が好ましくい。   The temperature in the film forming step is preferably 10 ° C. or higher, and preferably 50 ° C. or lower, in order to prevent film loss due to the formation of crystals in the composition.

成膜工程における相対湿度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.01ppm以上、通常80%以下である。   Although the relative humidity in a film-forming process is not limited unless the effect of this invention is impaired remarkably, it is 0.01 ppm or more normally and 80% or less normally.

成膜後、通常加熱等により正孔注入層形成用組成物の膜を乾燥させる。加熱工程において使用する加熱手段の例を挙げると、クリーンオーブン、ホットプレート、赤外線、ハロゲンヒーター、マイクロ波照射などが挙げられる。中でも、膜全体に均等に熱を与えるためには、クリーンオーブンおよびホットプレートが好ましい。   After the film formation, the film of the composition for forming a hole injection layer is usually dried by heating or the like. Examples of the heating means used in the heating step include a clean oven, a hot plate, infrared rays, a halogen heater, microwave irradiation and the like. Among them, a clean oven and a hot plate are preferable in order to uniformly apply heat to the entire film.

加熱工程における加熱温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り、正孔注入層形成用組成物に用いた溶剤の沸点以上の温度で加熱することが好ましい。また、正孔注入層に用いた溶剤が2種類以上含まれている混合溶剤の場合、少なくとも1種類がその溶剤の沸点以上の温度で加熱されるのが好ましい。溶剤の沸点上昇を考慮すると、加熱工程においては、好ましくは120℃以上、好ましくは410℃以下で加熱することが好ましい。   The heating temperature in the heating step is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent used in the composition for forming a hole injection layer as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In the case of a mixed solvent containing two or more types of solvents used in the hole injection layer, at least one type is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent. In consideration of an increase in the boiling point of the solvent, the heating step is preferably performed at 120 ° C. or higher, preferably 410 ° C. or lower.

加熱工程において、加熱温度が正孔注入層形成用組成物の溶剤の沸点以上であり、かつ塗布膜の十分な不溶化が起こらなければ、加熱時間は限定されないが、好ましくは10秒以上、通常180分以下である。加熱時間が長すぎると他の層の成分が拡散する傾向があり、短すぎると正孔注入層が不均質になる傾向がある。加熱は2回に分けて行ってもよい。   In the heating step, the heating time is not limited as long as the heating temperature is not lower than the boiling point of the solvent of the composition for forming a hole injection layer and sufficient insolubilization of the coating film does not occur. Is less than a minute. If the heating time is too long, the components of the other layers tend to diffuse, and if it is too short, the hole injection layer tends to be inhomogeneous. Heating may be performed in two steps.

<真空蒸着法による正孔注入層の形成>
真空蒸着により正孔注入層3を形成する場合には、正孔注入層3の構成材料(前述の正孔輸送性化合物、電子受容性化合物等)の1種または2種以上を真空容器内に設置されたるつぼに入れ(2種以上の材料を用いる場合は各々のるつぼに入れ)、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度まで排気した後、るつぼを加熱して(2種以上の材料を用いる場合は各々のるつぼを加熱して)、蒸発量を制御して蒸発させ(2種以上の材料を用いる場合はそれぞれ独立に蒸発量を制御して蒸発させ)、るつぼと向き合って置かれた基板の陽極2上に正孔注入層3を形成させる。なお、2種以上の材料を用いる場合は、それらの混合物をるつぼに入れ、加熱、蒸発させて正孔注入層3を形成することもできる。
<Formation of hole injection layer by vacuum deposition>
When the hole injection layer 3 is formed by vacuum deposition, one or more of the constituent materials of the hole injection layer 3 (the aforementioned hole transporting compound, electron accepting compound, etc.) are placed in a vacuum container. Put in crucibles installed (in case of using two or more materials, put them in each crucible), evacuate the inside of the vacuum vessel to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump, and then heat the crucible (two types When using the above materials, heat each crucible) and evaporate by controlling the amount of evaporation (when using two or more materials, evaporate by independently controlling the amount of evaporation) and face the crucible Then, the hole injection layer 3 is formed on the anode 2 of the substrate placed on the substrate. In addition, when using 2 or more types of materials, the hole injection layer 3 can also be formed by putting those mixtures into a crucible, heating and evaporating.

蒸着時の真空度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1×10−6Torr(0.13×10−4Pa)以上、通常9.0×10−6Torr(12.0×10−4Pa)以下である。蒸着速度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1Å/秒以上、通常5.0Å/秒以下である。蒸着時の成膜温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、好ましくは10℃以上で、好ましくは50℃以下で行われる。 The degree of vacuum at the time of vapor deposition is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1 × 10 −6 Torr (0.13 × 10 −4 Pa) or more, usually 9.0 × 10 −6 Torr. (12.0 × 10 −4 Pa) or less. The deposition rate is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1 Å / second or more and usually 5.0 Å / second or less. The film forming temperature at the time of vapor deposition is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is preferably 10 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or lower.

{正孔輸送層}
正孔輸送層4は、正孔注入層がある場合には正孔注入層3の上に、正孔注入層3が無い場合には陽極2の上に形成することができる。また、本発明の有機電界発光素子は、正孔輸送層を省いた構成であってもよい。
{Hole transport layer}
The hole transport layer 4 can be formed on the hole injection layer 3 when there is a hole injection layer and on the anode 2 when there is no hole injection layer 3. The organic electroluminescent device of the present invention may have a configuration in which the hole transport layer is omitted.

本発明に係る正孔輸送層4の形成方法は真空蒸着法でも、湿式成膜法でもよく、特に制限はないが、ダークスポット低減の観点から正孔輸送層4を湿式成膜法により形成することが好ましい。   The method for forming the hole transport layer 4 according to the present invention may be a vacuum deposition method or a wet film formation method, and is not particularly limited, but the hole transport layer 4 is formed by a wet film formation method from the viewpoint of reducing dark spots. It is preferable.

正孔輸送層4を形成する材料としては、正孔輸送性が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが好ましい。そのために、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、正孔移動度が大きく、安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが好ましい。また、多くの場合、発光層5に接するため、発光層5からの発光を消光したり、発光層5との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させたりしないことが好ましい。   The material for forming the hole transport layer 4 is preferably a material having high hole transportability and capable of efficiently transporting injected holes. Therefore, it is preferable that the ionization potential is small, the transparency to visible light is high, the hole mobility is large, the stability is high, and impurities that become traps are not easily generated during manufacturing or use. In many cases, it is preferable not to quench the light emitted from the light emitting layer 5 or to form an exciplex with the light emitting layer 5 to reduce the efficiency because it is in contact with the light emitting layer 5.

このような正孔輸送層4の材料としては、従来、正孔輸送層の構成材料として用いられている材料であればよく、例えば、前述の正孔注入層3に使用される正孔輸送性化合物として例示したものが挙げられる。また、アリールアミン誘導体、フルオレン誘導体、スピロ誘導体、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、シロール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。   The material for the hole transport layer 4 may be any material conventionally used as a constituent material for the hole transport layer. For example, the hole transport property used for the hole injection layer 3 described above. What was illustrated as a compound is mentioned. In addition, arylamine derivatives, fluorene derivatives, spiro derivatives, carbazole derivatives, pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, silole derivatives, oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatics Group derivatives, metal complexes and the like.

また、例えば、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリアリールアミン誘導体、ポリビニルトリフェニルアミン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリアリーレン誘導体、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン誘導体、ポリアリーレンビニレン誘導体、ポリシロキサン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)誘導体等が挙げられる。これらは、交互共重合体、ランダム重合体、ブロック重合体またはグラフト共重合体のいずれであってもよい。また、主鎖に枝分かれがあり末端部が3つ以上ある高分子や、所謂デンドリマーであってもよい。
中でも、ポリアリールアミン誘導体やポリアリーレン誘導体が好ましい。
Also, for example, polyvinylcarbazole derivatives, polyarylamine derivatives, polyvinyltriphenylamine derivatives, polyfluorene derivatives, polyarylene derivatives, polyarylene ether sulfone derivatives containing tetraphenylbenzidine, polyarylene vinylene derivatives, polysiloxane derivatives, polythiophenes Derivatives, poly (p-phenylene vinylene) derivatives, and the like. These may be any of an alternating copolymer, a random polymer, a block polymer, or a graft copolymer. Further, it may be a polymer having a branched main chain and three or more terminal portions, or a so-called dendrimer.
Of these, polyarylamine derivatives and polyarylene derivatives are preferred.

ポリアリールアミン誘導体としては、下記式(II)で表される繰り返し単位を含む重合体であることが好ましい。特に、下記式(II)で表される繰り返し単位からなる重合体であることが好ましく、この場合、繰り返し単位それぞれにおいて、ArまたはArが異なっているものであってもよい。 The polyarylamine derivative is preferably a polymer containing a repeating unit represented by the following formula (II). In particular, a polymer composed of a repeating unit represented by the following formula (II) is preferable. In this case, Ar a or Ar b may be different in each repeating unit.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

(式(II)中、ArおよびArは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。) (In formula (II), Ar a and Ar b each independently represent an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent.)

置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの、6員環の単環または2〜5縮合環由来の基およびこれらの環が2環以上直接結合で連結してなる基が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, a triphenylene ring, and an acenaphthene. Examples thereof include a group derived from a 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring, such as a ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring, and a group in which two or more of these rings are linked by a direct bond.

置換基を有していてもよい芳香族複素環基としては、例えばフラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの、5または6員環の単環または2〜4縮合環由来の基およびこれらの環が2環以上直接結合で連結してなる基が挙げられる。   Examples of the aromatic heterocyclic group which may have a substituent include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, an indole ring, and a carbazole ring. , Pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine Ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring, etc. Or a group and the rings of from 2-4 fused rings include groups formed by connecting a direct bond or two or more rings.

溶解性、耐熱性の点から、ArおよびArは、各々独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、ピレン環、チオフェン環、ピリジン環、フルオレン環からなる群より選ばれる環由来の基やベンゼン環が2環以上連結してなる基(例えば、ビフェニル基やターフェニル基)が好ましい。
中でも、ベンゼン環由来の基(フェニル基)、ベンゼン環が2環連結してなる基(ビフェニル基)およびフルオレン環由来の基(フルオレニル基)が好ましい。
In view of solubility and heat resistance, Ar a and Ar b are each independently selected from the group consisting of a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, triphenylene ring, pyrene ring, thiophene ring, pyridine ring, and fluorene ring. A group derived from a selected ring or a group formed by linking two or more benzene rings (for example, a biphenyl group or a terphenyl group) is preferable.
Among these, a group derived from a benzene ring (phenyl group), a group formed by connecting two benzene rings (biphenyl group), and a group derived from a fluorene ring (fluorenyl group) are preferable.

ArおよびArにおける芳香族炭化水素基および芳香族複素環基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アシル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、シロキシ基、シアノ基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基などが挙げられる。 Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group in Ar a and Ar b may have include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a dialkyl. Examples thereof include an amino group, a diarylamino group, an acyl group, a halogen atom, a haloalkyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a silyl group, a siloxy group, a cyano group, an aromatic hydrocarbon ring group, and an aromatic heterocyclic group.

ポリアリーレン誘導体としては、前記式(II)におけるArやArとして例示した置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基などのアリーレン基をその繰り返し単位に有する重合体が挙げられる。
ポリアリーレン誘導体としては、下記式(III−1)および/または下記式(III−2)からなる繰り返し単位を有する重合体が好ましい。
As the polyarylene derivative, an arylene group such as an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent exemplified as Ar a or Ar b in the formula (II) is used as its repeating unit. The polymer which has is mentioned.
As the polyarylene derivative, a polymer having a repeating unit consisting of the following formula (III-1) and / or the following formula (III-2) is preferable.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

(式(III−1)中、R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、フェニルアルキル基、フェニルアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、またはカルボキシ基を表す。tおよびsは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。tまたはsが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のRまたはRは同一であっても異なっていてもよく、隣接するRまたはRどうしで環を形成していてもよい。) (In the formula (III-1), R a , R b , R c and R d are each independently an alkyl group, an alkoxy group, a phenylalkyl group, a phenylalkoxy group, a phenyl group, a phenoxy group, an alkylphenyl group, Represents an alkoxyphenyl group, an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, or a carboxy group, and t and s each independently represent an integer of 0 to 3. When t or s is 2 or more, they are contained in one molecule. A plurality of R a or R b may be the same or different, and adjacent R a or R b may form a ring.)

Figure 2010209211
Figure 2010209211

(式(III−2)中、RおよびRは、それぞれ独立に、上記式(III−1)におけるR、R、RまたはRと同義である。rおよびuは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。rまたはuが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のRおよびRは同一であっても異なっていてもよく、隣接するRまたはRどうしで環を形成していてもよい。Xは、5員環または6員環を構成する原子または原子群を表す。) (In the formula (III-2), R e and R f are independently the same as R a , R b , R c or R d in the formula (III-1). Independently, it represents an integer of 0 to 3. When r or u is 2 or more, a plurality of R e and R f contained in one molecule may be the same or different, and adjacent R e or R f may form a ring, and X represents an atom or a group of atoms constituting a 5-membered ring or a 6-membered ring.)

Xの具体例としては、酸素原子、置換基を有していてもよいホウ素原子、置換基を有していてもよい窒素原子、置換基を有していてもよいケイ素原子、置換基を有していてもよいリン原子、置換基を有していてもよいイオウ原子、置換基を有していてもよい炭素原子またはこれらが結合してなる基である。   Specific examples of X include an oxygen atom, a boron atom which may have a substituent, a nitrogen atom which may have a substituent, a silicon atom which may have a substituent, and a substituent. A phosphorus atom which may be substituted, a sulfur atom which may have a substituent, a carbon atom which may have a substituent, or a group formed by bonding these.

また、ポリアリーレン誘導体としては、下記式(III−1)および/または下記式(III−2)からなる繰り返し単位に加えて、さらに下記式(III−3)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。   The polyarylene derivative has a repeating unit represented by the following formula (III-3) in addition to the repeating unit represented by the following formula (III-1) and / or the following formula (III-2). Is preferred.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

(式(III−3)中、Ar〜Arは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。xおよびyは、それぞれ独立に0または1を表す。) (In the formula (III-3), Ar c to Ar j each independently represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent, and x and y are respectively Independently represents 0 or 1.)

Ar〜Arの具体例としては、前記式(II)における、ArおよびArと同様である。 Specific examples of Ar c to Ar j are the same as Ar a and Ar b in the formula (II).

上記式(III−1)〜(III−3)の具体例およびポリアリーレン誘導体の具体例等は、特開2008−98619号公報に記載のものなどが挙げられる。   Specific examples of the above formulas (III-1) to (III-3) and specific examples of polyarylene derivatives include those described in JP-A-2008-98619.

湿式成膜法で正孔輸送層4を形成する場合は、上記正孔注入層3の形成と同様にして、正孔輸送層形成用組成物を調製した後、湿式成膜後、加熱乾燥させる。   In the case of forming the hole transport layer 4 by a wet film formation method, a composition for forming a hole transport layer is prepared in the same manner as the formation of the hole injection layer 3 and then heated and dried after the wet film formation. .

正孔輸送層形成用組成物には、上述の正孔輸送性化合物の他、溶剤を含有する。用いる溶剤は上記正孔注入層形成用組成物に用いたものと同様である。また、成膜条件、加熱乾燥条件等も正孔注入層3の形成の場合と同様である。   The composition for forming a hole transport layer contains a solvent in addition to the above hole transport compound. The solvent used is the same as that used for the composition for forming a hole injection layer. The film forming conditions, heat drying conditions, and the like are the same as in the case of forming the hole injection layer 3.

真空蒸着法により正孔輸送層を形成する場合もまた、その成膜条件等は上記正孔注入層3の形成の場合と同様である。   In the case where the hole transport layer is formed by the vacuum deposition method, the film forming conditions are the same as those in the case of forming the hole injection layer 3.

正孔輸送層4は、上記正孔輸送性化合物の他、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などを含有していてもよい。   The hole transport layer 4 may contain various light emitting materials, electron transport compounds, binder resins, coating property improving agents, and the like in addition to the hole transport compound.

正孔輸送層4はまた、架橋性化合物を架橋して形成される層であってもよい。架橋性化合物は、架橋性基を有する化合物であって、架橋することにより網目状高分子化合物を形成する。   The hole transport layer 4 may also be a layer formed by crosslinking a crosslinkable compound. The crosslinkable compound is a compound having a crosslinkable group, and forms a network polymer compound by crosslinking.

この架橋性基の例を挙げると、オキセタン、エポキシなどの環状エーテル由来の基;ビニル基、トリフルオロビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリロイル、シンナモイル等の不飽和二重結合由来の基;ベンゾシクロブテン由来の基などが挙げられる。   Examples of this crosslinkable group include groups derived from cyclic ethers such as oxetane and epoxy; groups derived from unsaturated double bonds such as vinyl, trifluorovinyl, styryl, acrylic, methacryloyl and cinnamoyl; benzo Examples include groups derived from cyclobutene.

架橋性化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。 架橋性化合物は1種のみを有していてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で有していてもよい。   The crosslinkable compound may be any of a monomer, an oligomer, and a polymer. The crosslinkable compound may have only 1 type, and may have 2 or more types by arbitrary combinations and ratios.

架橋性化合物としては、架橋性基を有する正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。正孔輸送性化合物としては、上記の例示したものが挙げられ、これら正孔輸送性化合物に対して、架橋性基が主鎖または側鎖に結合しているものが挙げられる。特に架橋性基は、アルキレン基等の連結基を介して、主鎖に結合していることが好ましい。また、特に正孔輸送性化合物としては、架橋性基を有する繰り返し単位を含む重合体であることが好ましく、上記式(II)や式(III−1)〜(III−3)に架橋性基が直接または連結基を介して結合した繰り返し単位を有する重合体であることが好ましい。   As the crosslinkable compound, a hole transporting compound having a crosslinkable group is preferably used. Examples of the hole transporting compound include those exemplified above, and those having a crosslinkable group bonded to the main chain or side chain with respect to these hole transporting compounds. In particular, the crosslinkable group is preferably bonded to the main chain via a linking group such as an alkylene group. In particular, the hole transporting compound is preferably a polymer containing a repeating unit having a crosslinkable group, and the above formula (II) and formulas (III-1) to (III-3) can be used as a crosslinkable group. Is preferably a polymer having a repeating unit bonded directly or via a linking group.

架橋性化合物としては、架橋性基を有する正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。正孔輸送性化合物の例を挙げると、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体等の含窒素芳香族化合物誘導体;トリフェニルアミン誘導体;シロール誘導体;オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。その中でも、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体等の含窒素芳香族誘導体;トリフェニルアミン誘導体、シロール誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが好ましく、特に、トリフェニルアミン誘導体がより好ましい。   As the crosslinkable compound, a hole transporting compound having a crosslinkable group is preferably used. Examples of hole transporting compounds include nitrogen-containing aromatic compound derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives; triphenylamine derivatives Silole derivatives; oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes and the like. Among them, nitrogen-containing aromatic derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives; triphenylamine derivatives, silole derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes, etc. Particularly preferred are triphenylamine derivatives.

架橋性化合物を架橋して正孔輸送層4を形成するには、通常、架橋性化合物を溶剤に溶解または分散した正孔輸送層形成用組成物を調製して、湿式成膜により成膜して架橋させる。   In order to form the hole transport layer 4 by crosslinking the crosslinkable compound, a composition for forming a hole transport layer in which the crosslinkable compound is dissolved or dispersed in a solvent is usually prepared and deposited by wet film formation. To crosslink.

正孔輸送層形成用組成物には、架橋性化合物の他、架橋反応を促進する添加物を含んでいてもよい。架橋反応を促進する添加物の例を挙げると、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシムエステル化合物、アゾ化合物、オニウム塩等の重合開始剤および重合促進剤;縮合多環炭化水素、ポルフィリン化合物、ジアリールケトン化合物等の光増感剤;などが挙げられる。
また、さらに、レベリング剤、消泡剤等の塗布性改良剤;電子受容性化合物;バインダー樹脂;などを含有していてもよい。
The composition for forming a hole transport layer may contain an additive for promoting a crosslinking reaction in addition to the crosslinking compound. Examples of additives that accelerate the crosslinking reaction include polymerization initiators and polymerization accelerators such as alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime ester compounds, azo compounds, onium salts; condensed polycyclic hydrocarbons, And photosensitizers such as porphyrin compounds and diaryl ketone compounds.
Further, it may contain a coating property improving agent such as a leveling agent and an antifoaming agent; an electron accepting compound; a binder resin;

正孔輸送層形成用組成物は、架橋性化合物を通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、さらに好ましくは0.1重量%以上、通常50重量%以下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下含有する。   In the composition for forming a hole transport layer, the crosslinkable compound is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, usually 50% by weight or less, preferably 20%. It is contained in an amount of not more than wt%, more preferably not more than 10 wt%.

このような濃度で架橋性化合物を含む正孔輸送層形成用組成物を下層(通常は正孔注入層3)上に成膜後、加熱および/または光などの電磁エネルギー照射により、架橋性化合物を架橋させて網目状高分子化合物を形成する。   After forming a composition for forming a hole transport layer containing a crosslinkable compound at such a concentration on the lower layer (usually the hole injection layer 3), the composition is crosslinked by heating and / or irradiation with electromagnetic energy such as light. Are crosslinked to form a network polymer compound.

成膜時の温度、湿度などの条件は、前記正孔注入層3の湿式成膜時と同様である。
成膜後の加熱の手法は特に限定されない。加熱温度条件としては、通常120℃以上、好ましくは400℃以下である。
加熱時間としては、通常1分以上、好ましくは24時間以下である。加熱手段としては特に限定されないが、成膜された層を有する積層体をホットプレート上に載せたり、オーブン内で加熱するなどの手段が用いられる。例えば、ホットプレート上で120℃以上、1分間以上加熱する等の条件を用いることができる。
Conditions such as temperature and humidity during film formation are the same as those during the wet film formation of the hole injection layer 3.
The heating method after film formation is not particularly limited. As heating temperature conditions, it is 120 degreeC or more normally, Preferably it is 400 degrees C or less.
The heating time is usually 1 minute or longer, preferably 24 hours or shorter. The heating means is not particularly limited, and means such as placing a laminated body having a deposited layer on a hot plate or heating in an oven is used. For example, conditions such as heating on a hot plate at 120 ° C. or more for 1 minute or more can be used.

光などの電磁エネルギー照射による場合には、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、赤外ランプ等の紫外・可視・赤外光源を直接用いて照射する方法、あるいは前述の光源を内蔵するマスクアライナ、コンベア型光照射装置を用いて照射する方法などが挙げられる。光以外の電磁エネルギー照射では、例えばマグネトロンにより発生させたマイクロ波を照射する装置、いわゆる電子レンジを用いて照射する方法が挙げられる。照射時間としては、膜の溶解性を低下させるために必要な条件を設定することが好ましいが、通常、0.1秒以上、好ましくは10時間以下照射される。   In the case of irradiation with electromagnetic energy such as light, a method of irradiating directly using an ultraviolet / visible / infrared light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, an infrared lamp, etc. Examples include a mask aligner and a method of irradiation using a conveyor type light irradiation device. In electromagnetic energy irradiation other than light, for example, there is a method of irradiation using a device that irradiates a microwave generated by a magnetron, a so-called microwave oven. As the irradiation time, it is preferable to set conditions necessary for reducing the solubility of the film, but irradiation is usually performed for 0.1 seconds or longer, preferably 10 hours or shorter.

加熱および光などの電磁エネルギー照射は、それぞれ単独、あるいは組み合わせて行ってもよい。組み合わせる場合、実施する順序は特に限定されない。   Heating and irradiation of electromagnetic energy such as light may be performed individually or in combination. When combined, the order of implementation is not particularly limited.

このようにして形成される正孔輸送層4の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。   The film thickness of the hole transport layer 4 thus formed is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

{発光層}
正孔注入層3の上、または正孔輸送層4を設けた場合には正孔輸送層4の上には発光層5が設けられる。発光層5は、電界を与えられた電極間において、陽極2から注入された正孔と、陰極9から注入された電子との再結合により励起されて、主たる発光源となる層である。
{Light emitting layer}
When the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 is provided, the light emitting layer 5 is provided on the hole transport layer 4. The light emitting layer 5 is a layer that is excited by recombination of holes injected from the anode 2 and electrons injected from the cathode 9 between electrodes to which an electric field is applied, and becomes a main light emitting source.

<発光層の材料>
発光層5は、その構成材料として、少なくとも、発光の性質を有する材料(発光材料)を含有するとともに、好ましくは、正孔輸送の性質を有する化合物(正孔輸送性化合物)、あるいは、電子輸送の性質を有する化合物(電子輸送性化合物)を含有する。発光材料をドーパント材料として使用し、正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物などをホスト材料として使用してもよい。本発明の有機電界発光素子の発光層は、前述の本発明の有機電界発光素子用組成物を用いて好ましくは湿式成膜法で形成される。
<Light emitting layer material>
The light emitting layer 5 contains at least a material having a light emitting property (light emitting material) as a constituent material, and preferably a compound having a hole transporting property (hole transporting compound) or an electron transport. A compound (electron transporting compound) having the following properties: A light emitting material may be used as a dopant material, and a hole transporting compound, an electron transporting compound, or the like may be used as a host material. The light emitting layer of the organic electroluminescent element of the present invention is preferably formed by a wet film forming method using the above-described composition for an organic electroluminescent element of the present invention.

更に、発光層5は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、その他の成分を含有していてもよい。なお、湿式成膜法で発光層5を形成する場合は、低分子量の材料(分子量通常10000以下、好ましくは5000以下)を使用することが好ましい。   Furthermore, the light emitting layer 5 may contain other components as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In addition, when forming the light emitting layer 5 with a wet film-forming method, it is preferable to use a low molecular weight material (molecular weight is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less).

<発光層の形成>
湿式成膜法により発光層5を形成する場合は、発光層に用いる材料を適切な溶剤に溶解させて発光層形成用組成物(即ち、本発明の有機電界発光素子用組成物)を調製し、それを用いて成膜することにより形成する。
<Formation of light emitting layer>
When forming the light emitting layer 5 by the wet film-forming method, the material used for the light emitting layer is dissolved in an appropriate solvent to prepare the light emitting layer forming composition (that is, the organic electroluminescent element composition of the present invention). The film is formed by using this film.

発光層5を本発明に係る湿式成膜法で形成するための発光層形成用組成物に含有させる発光層用溶剤としては、上記本発明の有機電界発光素子用組成物に含有される溶剤として説明したものと同様である。   As the solvent for the light emitting layer to be contained in the composition for forming the light emitting layer for forming the light emitting layer 5 by the wet film forming method according to the present invention, The same as described.

また、発光層形成用組成物中の発光材料、電荷輸送性化合物等の固形分濃度としては、通常0.01重量%以上、通常70重量%以下である。この濃度が大きすぎると膜厚ムラが生じる可能性があり、また、小さすぎると膜に欠陥が生じる可能性がある。   The solid content concentration of the light emitting material, charge transporting compound, etc. in the composition for forming a light emitting layer is usually 0.01% by weight or more and usually 70% by weight or less. If this concentration is too large, film thickness unevenness may occur, and if it is too small, defects may occur in the film.

発光層形成用組成物を湿式成膜後、得られた塗膜を乾燥し、溶剤を除去することにより、発光層が形成される。具体的には、上記正孔注入層の形成において記載した方法と同様である。湿式成膜法の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されず、前述のいかなる方式も用いることができる。   After wet-deposition of the composition for forming a light emitting layer, the resulting coating film is dried and the solvent is removed to form a light emitting layer. Specifically, it is the same as the method described in the formation of the hole injection layer. The method of the wet film forming method is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, and any of the methods described above can be used.

発光層5の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常3nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常200nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。発光層5の膜厚が、薄すぎると膜に欠陥が生じる可能性があり、厚すぎると駆動電圧が上昇する可能性がある。   The thickness of the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less. If the thickness of the light emitting layer 5 is too thin, defects may occur in the film, and if it is too thick, the driving voltage may increase.

{正孔阻止層}
発光層5と後述の電子注入層8との間に、正孔阻止層6を設けてもよい。正孔阻止層6は、発光層5の上に、発光層5の陰極9側の界面に接するように積層される層である。
{Hole blocking layer}
A hole blocking layer 6 may be provided between the light emitting layer 5 and an electron injection layer 8 described later. The hole blocking layer 6 is a layer laminated on the light emitting layer 5 so as to be in contact with the interface of the light emitting layer 5 on the cathode 9 side.

この正孔阻止層6は、陽極2から移動してくる正孔を陰極9に到達するのを阻止する役割と、陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とを有する。   The hole blocking layer 6 has a role of blocking holes moving from the anode 2 from reaching the cathode 9 and a role of efficiently transporting electrons injected from the cathode 9 toward the light emitting layer 5. Have

正孔阻止層6を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。このような条件を満たす正孔阻止層の材料としては、例えば、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報)などが挙げられる。更に、国際公開第2005−022962号公報に記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も、正孔阻止層6の材料として好ましい。   The physical properties required for the material constituting the hole blocking layer 6 include high electron mobility, low hole mobility, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and excited triplet level (T1). Is high. Examples of the material for the hole blocking layer that satisfies such conditions include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum, and the like. Mixed-ligand complexes, metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolinato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives, etc. Triazole derivatives such as styryl compounds (JP-A-11-242996), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole (JP-A-7 -41759), phenanthroline derivatives such as bathocuproine (JP-A-10-79297), and the like. That. Further, a compound having at least one pyridine ring substituted at positions 2, 4, and 6 described in International Publication No. 2005-022962 is also preferable as a material for the hole blocking layer 6.

なお、正孔阻止層6の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the hole-blocking layer 6 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

正孔阻止層6の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成できる。   There is no restriction | limiting in the formation method of the hole-blocking layer 6. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

正孔阻止層6の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。   The thickness of the hole blocking layer 6 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less.

正孔阻止層にかえて、正孔緩和層を設けてもよい。   A hole relaxation layer may be provided in place of the hole blocking layer.

{電子輸送層}
発光層5と後述の電子注入層8の間に、電子輸送層7を設けてもよい。
{Electron transport layer}
An electron transport layer 7 may be provided between the light emitting layer 5 and an electron injection layer 8 described later.

電子輸送層7は、素子の発光効率を更に向上させることを目的として設けられるもので、電界を与えられた電極間において陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物より形成される。   The electron transport layer 7 is provided for the purpose of further improving the light emission efficiency of the device, and efficiently transports electrons injected from the cathode 9 between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer 5. Formed from a compound capable of

電子輸送層7に用いられる電子輸送性化合物としては、通常、陰極9または電子注入層8からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物を用いる。このような条件を満たす化合物としては、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−ヒドロキシフラボン金属錯体、5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5645948号明細書)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。   As an electron transport compound used for the electron transport layer 7, usually, the electron injection efficiency from the cathode 9 or the electron injection layer 8 is high, and the injected electrons are transported efficiently with high electron mobility. The compound which can be used is used. Examples of the compound satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole derivatives , Distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives, 3-hydroxyflavone metal complexes, 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compounds ( JP-A-6-207169), phenanthroline derivative (JP-A-5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N'-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide , N-type zinc sulfide, n-type zinc Such as emissions of zinc, and the like.

なお、電子輸送層7の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the electron carrying layer 7 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子輸送層7の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。   There is no restriction | limiting in the formation method of the electron carrying layer 7. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

電子輸送層7の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。   The thickness of the electron transport layer 7 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

{電子注入層}
電子注入層8は、陰極9から注入された電子を効率よく発光層5へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行うには、電子注入層8を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属等が用いられる。例えばフッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF)、酸化リチウム(LiO)、炭酸セシウム(II)(CsCO)等が挙げられる(Applied Physics Letters, 1997年, Vol.70, pp.152;特開平10−74586号公報;I有機ELディスプレイおよび有機EL照明 Transactions on Electron Devices, 1997年,Vol.44, pp.1245;SID 04 Digest, pp.154等参照)。その膜厚は通常0.1nm以上、5nm以下が好ましい。
{Electron injection layer}
The electron injection layer 8 plays a role of efficiently injecting electrons injected from the cathode 9 into the light emitting layer 5. In order to perform electron injection efficiently, the material for forming the electron injection layer 8 is preferably a metal having a low work function. Examples include alkali metals such as sodium and cesium, and alkaline earth metals such as barium and calcium. Examples include lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), lithium oxide (Li 2 O), cesium carbonate (II) (CsCO 3 ), and the like (Applied Physics Letters, 1997, Vol. 70, pp. 152; Japanese Patent Laid-Open No. 10-74586; see I Organic EL Display and Organic EL Lighting Transactions on Electron Devices, 1997, Vol. 44, pp. 1245; SID 04 Digest, pp. 154, etc.). The film thickness is usually preferably from 0.1 nm to 5 nm.

更に、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体に代表される有機電子輸送化合物に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特開2002−100478号公報、特開2002−100482号公報などに記載)ことにより、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。この場合の膜厚は、通常5nm以上、中でも10nm以上が好ましく、また、通常200nm以下、中でも100nm以下が好ましい。   Furthermore, an organic electron transport compound represented by a metal complex such as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium, or rubidium ( (As described in JP-A-10-270171, JP-A-2002-1000047, JP-A-2002-1000048, etc.), it is possible to improve the electron injection / transport properties and achieve excellent film quality. preferable. In this case, the film thickness is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

なお、電子注入層8の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the electron injection layer 8 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子注入層8の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。   There is no restriction | limiting in the formation method of the electron injection layer 8. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

{陰極}
陰極9は、発光層5側の層(電子注入層8または発光層5など)に電子を注入する役割を果たすものである。
{cathode}
The cathode 9 plays a role of injecting electrons into a layer (such as the electron injection layer 8 or the light emitting layer 5) on the light emitting layer 5 side.

陰極9の材料としては、前記の陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率よく電子注入を行うには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。   As the material of the cathode 9, the material used for the anode 2 can be used. However, in order to perform electron injection efficiently, a metal having a low work function is preferable. For example, tin, magnesium, indium, A suitable metal such as calcium, aluminum, silver, or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

なお、陰極9の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the cathode 9 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

陰極9の膜厚は、通常、陽極2と同様である。   The film thickness of the cathode 9 is usually the same as that of the anode 2.

さらに、低仕事関数金属から成る陰極9を保護する目的で、この上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層すると、素子の安定性が増すので好ましい。この目的のために、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。なお、これらの材料は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   Further, for the purpose of protecting the cathode 9 made of a low work function metal, it is preferable to further stack a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere because the stability of the device is increased. For this purpose, for example, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold and platinum are used. In addition, these materials may be used only by 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

{その他の層}
本発明の有機電界発光素子は、その趣旨を逸脱しない範囲において、別の構成を有していてもよい。例えば、その性能を損なわない限り、陽極2と陰極9との間に、上記説明にある層の他に任意の層を有していてもよく、また、任意の層が省略されていてもよい。
{Other layers}
The organic electroluminescent element of the present invention may have another configuration without departing from the gist thereof. For example, as long as the performance is not impaired, an arbitrary layer may be provided between the anode 2 and the cathode 9 in addition to the layers described above, and an arbitrary layer may be omitted. .

有していてもよい層としては、例えば、電子阻止層が挙げられる。
電子阻止層は、正孔注入層3または正孔輸送層4と発光層5との間に設けられ、発光層5から移動してくる電子が正孔注入層3に到達するのを阻止することで、発光層5内で正孔と電子との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層5内に閉じこめる役割と、正孔注入層3から注入された正孔を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とがある。特に、発光材料として燐光材料を用いたり、青色発光材料を用いたりする場合は電子阻止層を設けることが効果的である。
Examples of the layer that may be included include an electron blocking layer.
The electron blocking layer is provided between the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 and the light emitting layer 5 and prevents electrons moving from the light emitting layer 5 from reaching the hole injection layer 3. Thus, the probability of recombination of holes and electrons in the light emitting layer 5 is increased, the excitons generated are confined in the light emitting layer 5, and the holes injected from the hole injection layer 3 are efficiently collected. There is a role to transport in the direction of. In particular, when a phosphorescent material or a blue light emitting material is used as the light emitting material, it is effective to provide an electron blocking layer.

電子阻止層に求められる特性としては、正孔輸送性が高く、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いこと等が挙げられる。また、発光層5を湿式成膜法で作製する場合には、電子阻止層にも湿式成膜の適合性が求められる。このような電子阻止層に用いられる材料としては、F8−TFBに代表されるジオクチルフルオレンとトリフェニルアミンの共重合体(国際公開第2004/084260号パンフレット)等が挙げられる。   The characteristics required for the electron blocking layer include high hole transportability, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and a high excited triplet level (T1). When the light emitting layer 5 is produced by a wet film formation method, the electron blocking layer is also required to be compatible with the wet film formation. Examples of the material used for such an electron blocking layer include a copolymer of dioctylfluorene and triphenylamine typified by F8-TFB (International Publication No. 2004/084260).

なお、電子阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of an electron blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。   There is no restriction | limiting in the formation method of an electron blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

また、以上説明した層構成において、基板以外の構成要素を逆の順に積層することも可能である。例えば、図1の層構成であれば、基板1上に他の構成要素を陰極9、電子注入層8、電子輸送層7、正孔阻止層6、発光層5、正孔輸送層4、正孔注入層3、陽極2の順に設けてもよい。   Moreover, in the layer structure demonstrated above, it is also possible to laminate | stack components other than a board | substrate in reverse order. For example, in the case of the layer configuration of FIG. 1, the other components on the substrate 1 are the cathode 9, the electron injection layer 8, the electron transport layer 7, the hole blocking layer 6, the light emitting layer 5, the hole transport layer 4, the positive layer. The hole injection layer 3 and the anode 2 may be provided in this order.

更には、少なくとも一方が透明性を有する2枚の基板の間に、基板以外の構成要素を積層することにより、本発明に係る有機電界発光素子を構成することも可能である。   Furthermore, it is also possible to constitute the organic electroluminescent element according to the present invention by laminating components other than the substrate between two substrates, at least one of which is transparent.

また、基板以外の構成要素(発光ユニット)を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その場合には、各段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合は、それら2層)の代わりに、例えば五酸化バナジウム(V)等からなる電荷発生層(Carrier Generation Layer:CGL)を設けると、段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。 Further, a structure in which a plurality of components (light emitting units) other than the substrate are stacked in a plurality of layers (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) may be employed. In that case, (when the anode is ITO, the cathode is Al, these two layers) interfacial layer between the respective stages (between emission units) Alternatively, for example, a charge consisting of five vanadium oxide (V 2 O 5), etc. When a generation layer (Carrier Generation Layer: CGL) is provided, a barrier between steps is reduced, which is more preferable from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage.

更には、本発明に係る有機電界発光素子は、単一の有機電界発光素子として構成してもよく、複数の有機電界発光素子がアレイ状に配置された構成に適用してもよく、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構成に適用してもよい。   Furthermore, the organic electroluminescent device according to the present invention may be configured as a single organic electroluminescent device, or may be applied to a configuration in which a plurality of organic electroluminescent devices are arranged in an array. You may apply to the structure by which the cathode is arrange | positioned at XY matrix form.

また、上述した各層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、材料として説明した以外の成分が含まれていてもよい。   Each layer described above may contain components other than those described as materials unless the effects of the present invention are significantly impaired.

[有機ELディスプレイおよび有機EL照明]
本発明の有機電界発光素子は、有機ELディスプレイや有機EL照明に使用される。本発明により得られる有機電界発光素子は、例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社,平成16年8月20日発行,時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような方法で有機ELディスプレイや有機EL照明を形成することができる。
[Organic EL display and organic EL lighting]
The organic electroluminescent element of the present invention is used for organic EL displays and organic EL lighting. The organic electroluminescent device obtained by the present invention is described in, for example, “Organic EL Display” (Ohm, August 20, 2004, written by Shizushi Tokito, Chiba Adachi, and Hideyuki Murata). An organic EL display and organic EL illumination can be formed by the method.

次に、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to description of a following example, unless the summary is exceeded.

[LDI−MS分析]
以下の構造の化合物E−1,E−2につき、それぞれ以下の方法でLDI−MS分析を行い、R値(%)を算出した。
各化合物のトルエン(純正化学、特級)溶液をLDI−MS(MALDI−MS)専用試料プレート上に均一に塗布、風乾させて試料スポットを作製した。このようにして得られた試料プレートを装置内にセットし、減圧下にLDI−MS分析した。レーザー強度は対象サンプルの親ピーク(主ピーク)強度が検出器飽和しない程度(<10シグナルカウント)になるように設定した。またレーザー照射位置についてはスペクトルが均質となるよう、試料スポットの全領域をまんべんなく照射した。
LDI−MS測定条件は以下の通りである。
・分析装置 : アプライドバイオシステムズ社製、Voyager−DE STR
・レーザー : 窒素レーザー(337nm)
・検出イオン: 正イオン検出
中心骨格とそれに結合する芳香環の間の開裂および開裂後当該蛍光発光化合物への付加に由来するイオン強度(Idecomp)/全イオン強度(I)比(R値)を以下の式(a)で算出した。
R値%=Idecomp/I×100 (a)
[LDI-MS analysis]
The compounds E-1 and E-2 having the following structures were subjected to LDI-MS analysis by the following methods to calculate R values (%).
A toluene (pure chemical, special grade) solution of each compound was evenly applied onto an LDI-MS (MALDI-MS) dedicated sample plate and air-dried to prepare a sample spot. The sample plate thus obtained was set in the apparatus and subjected to LDI-MS analysis under reduced pressure. The laser intensity was set so that the parent peak (main peak) intensity of the target sample did not saturate the detector (<10 6 signal count). In addition, the entire area of the sample spot was irradiated evenly so that the spectrum of the laser irradiation position was uniform.
LDI-MS measurement conditions are as follows.
・ Analyzer: Voyager-DE STR manufactured by Applied Biosystems
・ Laser: Nitrogen laser (337 nm)
- Detection ion: Positive ion detection central skeleton and ionic strength resulting from the addition of the cleavage and cleavage the fluorescence compound between the aromatic ring bonded thereto (I decomp) / total ionic strength (I D) ratio (R values ) Was calculated by the following formula (a).
R value% = I decomp / ID × 100 (a)

<化合物E−1>

Figure 2010209211
<Compound E-1>
Figure 2010209211

E−1のLDI−MS
606(親ピーク);100%
451(ピレニルフェニルアントラセンフラグメント);1.1%
328(ビフェニルアントラセンフラグメント);1.1%
R=(1.1+1.1)/(100+1.1+1.1)×100=2.2
尚、測定方法の性質上、上記数値は1〜3の範囲でズレが生じることがある。従って、以下構造式中の数値は、上記数値に1〜3の範囲でズレが生じた値を記載している場合もある。
E-1 LDI-MS
606 (parent peak); 100%
451 (pyrenylphenylanthracene fragment); 1.1%
328 (biphenylanthracene fragment); 1.1%
R = (1.1 + 1.1) / (100 + 1.1 + 1.1) × 100 = 2.2
In addition, due to the nature of the measurement method, the above numerical value may vary in the range of 1 to 3. Therefore, the numerical values in the following structural formulas may describe values in which the above numerical values are shifted within a range of 1 to 3.

<化合物E−2>

Figure 2010209211
<Compound E-2>
Figure 2010209211

E−2のLDI−MS
656(親ピーク);100%
731(ピレニルフェニルアントラセンフラグメントに
ピレニルフェニルフラグメントが付加したフラグメント);1.4%
582(ナフチルフェニルアントラセンフラグメントに
ナフチルフェニルアントラセンフラグメントが付加したフラグメント);
1.4%
452(ピレニルフェニルアントラセンフラグメント);1.6%
378(ナフチルフェニルアントラセンフラグメント);7.1%
R=(1.4+1.4+1.6+7.1)/(100+1.4+1.4+1.6+7.1)×100=10.3
E-2 LDI-MS
656 (parent peak); 100%
731 (pyrenylphenylanthracene fragment)
Fragment with pyrenylphenyl fragment added); 1.4%
582 (in the naphthylphenylanthracene fragment)
A fragment to which a naphthylphenylanthracene fragment is added);
1.4%
452 (pyrenylphenylanthracene fragment); 1.6%
378 (naphthylphenylanthracene fragment); 7.1%
R = (1.4 + 1.4 + 1.6 + 7.1) / (100 + 1.4 + 1.4 + 1.6 + 7.1) × 100 = 10.3

化合物E−1,E−2のR値(%)を表1にまとめて示す。   Table 1 summarizes the R values (%) of compounds E-1 and E-2.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

[有機電界発光素子の作製]
<実施例1>
図1に示す有機電界発光素子を作製した。
ガラス基板1の上にインジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を150nm成膜したもの(スパッタ成膜品、シート抵抗15Ω)を通常のフォトリソグラフィ技術により2mm幅のストライプにパターニングして陽極2を形成した。パターン形成したITO基板を、アセトンによる超音波洗浄、純水による水洗、イソプロピルアルコールによる超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。
[Production of organic electroluminescence device]
<Example 1>
The organic electroluminescent element shown in FIG. 1 was produced.
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film with a thickness of 150 nm formed on a glass substrate 1 (sputtered film, sheet resistance 15Ω) is patterned into a 2 mm wide stripe by a normal photolithography technique, and the anode 2 Formed. The patterned ITO substrate was cleaned in the order of ultrasonic cleaning with acetone, water with pure water, and ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, dried with nitrogen blow, and finally subjected to ultraviolet ozone cleaning.

正孔輸送性化合物として下記構造の芳香族アミン高分子化合物PB−1(重量平均分子量:29400、数平均分子量:12600)、電子受容性化合物として下記構造の化合物PI−1および溶剤として安息香酸エチルを含有する正孔注入層形成用組成物を調製した。PB−1とPI−1は重量比でPB−1:PI−1=10:4とし、組成物中のPB−1およびPI−1の合計濃度は2重量%とした。この組成物をスピナ回転数1500rpm、スピナ回転時間30秒で陽極2上にスピンコートにより湿式成膜した。成膜後、260℃で180分間加熱乾燥させた。以上の操作により膜厚30nmの均一な正孔注入層3の薄膜が形成された。   Aromatic amine polymer compound PB-1 (weight average molecular weight: 29400, number average molecular weight: 12600) having the following structure as a hole transporting compound, compound PI-1 having the following structure as an electron accepting compound, and ethyl benzoate as a solvent A hole injection layer forming composition containing was prepared. PB-1 and PI-1 were PB-1: PI-1 = 10: 4 by weight ratio, and the total concentration of PB-1 and PI-1 in the composition was 2% by weight. This composition was wet-formed by spin coating on the anode 2 at a spinner rotation speed of 1500 rpm and a spinner rotation time of 30 seconds. After the film formation, it was heated and dried at 260 ° C. for 180 minutes. The thin film of the uniform hole injection layer 3 with a film thickness of 30 nm was formed by the above operation.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

次いで、正孔輸送性化合物として下記構造の化合物H1(重量平均分子量:95000)および溶剤としてシクロヘキシルベンゼンを含有する正孔輸送層形成用組成物を調製した。組成物中における化合物H1の濃度は0.4重量%とした。この組成物をスピナ回転数1500rpm、スピナ回転時間30秒で正孔注入層3上にスピンコートにより湿式成膜した。成膜後、230℃で60分間加熱した。以上の操作により膜厚20nmの均一な正孔輸送層4の薄膜が形成された。   Next, a composition for forming a hole transport layer containing Compound H1 (weight average molecular weight: 95000) having the following structure as a hole transporting compound and cyclohexylbenzene as a solvent was prepared. The concentration of Compound H1 in the composition was 0.4% by weight. This composition was formed into a wet film by spin coating on the hole injection layer 3 at a spinner rotation speed of 1500 rpm and a spinner rotation time of 30 seconds. After film formation, the film was heated at 230 ° C. for 60 minutes. The thin film of the uniform hole transport layer 4 with a film thickness of 20 nm was formed by the above operation.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

次いで、有機電界発光素子材料として下記構造の化合物E−1、下記構造の化合物D−1およびシクロヘキシルベンゼンを含有する有機電界発光素子用組成物を、発光層形成に用いる組成物として調製した。組成物中の化合物E−1と化合物D−1とは重量比で化合物E−1:D−1=10:1とし、組成物中の化合物E−1およびD−1の合計濃度は0.75重量%とした。
この組成物をスピナ回転数1500rpm、スピナ回転時間30秒で正孔輸送層4上にスピンコートにより湿式成膜した。成膜後、100℃で60分間加熱乾燥させた。以上の操作により膜厚40nmの均一な発光層5の薄膜が形成された。
Subsequently, the composition for organic electroluminescent elements containing the compound E-1 of the following structure, the compound D-1 of the following structure, and cyclohexylbenzene as an organic electroluminescent element material was prepared as a composition used for light emitting layer formation. The compound E-1 and the compound D-1 in the composition are compound E-1: D-1 = 10: 1 by weight ratio, and the total concentration of the compounds E-1 and D-1 in the composition is 0.00. 75% by weight.
This composition was wet-formed by spin coating on the hole transport layer 4 at a spinner rotation speed of 1500 rpm and a spinner rotation time of 30 seconds. After the film formation, it was heated and dried at 100 ° C. for 60 minutes. The thin film of the uniform light emitting layer 5 with a film thickness of 40 nm was formed by the above operation.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

得られた発光層5の上に、真空蒸着法により正孔阻止層6として下記構造の化合物HB−1を膜厚10nmとなるように、次いで、電子輸送層7として下記構造の化合物ET−1を膜厚30nmとなるように、それぞれ順次積層した。   On the obtained light-emitting layer 5, the compound HB-1 having the following structure as the hole blocking layer 6 is formed to have a film thickness of 10 nm by a vacuum deposition method, and then the compound ET-1 having the following structure as the electron transporting layer 7. Were sequentially laminated so as to have a film thickness of 30 nm.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

その後、真空蒸着法により、電子注入層8としてフッ化リチウム(LiF)を膜厚0.5nmとなるように、陰極9としてアルミニウムを膜厚80nmとなるように、それぞれ陽極2であるITOストライプと直交する形状の2mm幅のストライプ状に積層した。   Thereafter, by the vacuum evaporation method, the ITO stripe as the anode 2 is formed so that lithium fluoride (LiF) has a thickness of 0.5 nm as the electron injection layer 8 and aluminum as the cathode 9 has a thickness of 80 nm. The stripes were stacked in a 2 mm width with an orthogonal shape.

以上の様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子が得られた。
この素子からは、ELピーク波長464nmの青色発光が得られることを確認した。
この素子に250mA/cmで通電したときの最高輝度(正面輝度)は8140cd/m、100cd/m時の駆動電圧は5.0V、10mA/cmで通電したときの電流効率は3.3cd/A、CIE色度座標は(0.14,0.17)であった。
この素子を、室温条件下、初期正面輝度1,000cd/mで定電流駆動したとき、正面輝度が初期輝度の50%まで低下するまでに要した時間T50を調べ、この時間を1とした。
As described above, an organic electroluminescent element having a light emitting area portion having a size of 2 mm × 2 mm was obtained.
It was confirmed that blue light emission having an EL peak wavelength of 464 nm was obtained from this device.
Maximum brightness (front brightness) of 8140cd / m 2, the driving voltage of at 100 cd / m 2 is 5.0V, 10 mA / cm current efficiency when energized with 2 3 when energized at 250 mA / cm 2 in this element .3 cd / A, and the CIE chromaticity coordinates were (0.14, 0.17).
When this element was driven at a constant current at an initial front luminance of 1,000 cd / m 2 under room temperature conditions, a time T 50 required for the front luminance to decrease to 50% of the initial luminance was examined. did.

[比較例1]
実施例1における発光層形成に用いた有機電界発光素子用組成物に含まれる有機電界発光素子材料である化合物E−1に代えて、前記構造の化合物E−2を使用した以外は、実施例1と同様にして有機電界発光素子を作製した。
この素子からは、ELピーク波長464nmの青色発光が得られることを確認した。
また、室温条件下、初期正面輝度1,000cd/mで定電流駆動したとき、正面輝度が初期輝度の50%まで低下するまでに要した時間T50は、実施例1の素子のT50を1とした場合、0.66であった。
[Comparative Example 1]
Example except that compound E-2 having the above structure was used instead of compound E-1 which is an organic electroluminescent element material contained in the composition for organic electroluminescent element used for forming the light emitting layer in Example 1. In the same manner as in Example 1, an organic electroluminescent element was produced.
It was confirmed that blue light emission having an EL peak wavelength of 464 nm was obtained from this device.
Also, room temperature conditions, when the constant current drive at an initial front brightness 1,000 cd / m 2, time T 50 required until the front luminance decreases to 50% of the initial luminance, T 50 of the device of Example 1 Was 0.66.

上記実施例1および比較例1の結果を、用いた有機電界発光素子材料のR値(%)と共に表2にまとめて示す。   The results of Example 1 and Comparative Example 1 are shown together in Table 2 together with the R value (%) of the organic electroluminescent element material used.

Figure 2010209211
Figure 2010209211

以上の結果から、R値(%)9以下の本発明の有機電界発光素子材料を用いて、長寿命で高効率な有機電界発光素子を実現することができることが分かる。   From the above results, it can be seen that a long-life and highly efficient organic electroluminescent device can be realized by using the organic electroluminescent device material of the present invention having an R value (%) of 9 or less.

1 基板
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 正孔阻止層
7 電子輸送層
8 電子注入層
9 陰極
10 有機電界発光素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Hole injection layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Hole blocking layer 7 Electron transport layer 8 Electron injection layer 9 Cathode 10 Organic electroluminescent device

Claims (7)

分子内にアントラセン骨格および/またはピレン骨格を有する蛍光発光化合物からなる有機電界発光素子材料であって、
下記式(a)で算出されるレーザー脱離イオン化質量分析におけるR値(%)が9以下であることを特徴とする、有機電界発光素子材料。
R値%=Idecomp/I×100 (a)
(式(a)中、Idecompは開裂フラグメントイオン強度を表し、Iは全イオン強度を表す。)
An organic electroluminescent element material comprising a fluorescent compound having an anthracene skeleton and / or a pyrene skeleton in a molecule,
An organic electroluminescent element material, wherein an R value (%) in laser desorption ionization mass spectrometry calculated by the following formula (a) is 9 or less.
R value% = I decomp / ID × 100 (a)
(In formula (a), I decomp represents the cleavage fragment ionic strength, and ID represents the total ionic strength.)
湿式成膜法による有機電界発光素子の製造に用いられることを特徴とする、請求項1に記載の有機電界発光素子材料。   The organic electroluminescent element material according to claim 1, wherein the organic electroluminescent element material is used for manufacturing an organic electroluminescent element by a wet film forming method. 請求項1または2に記載の有機電界発光素子材料および溶剤を含有することを特徴とする、有機電界発光素子用組成物。   An organic electroluminescent element composition comprising the organic electroluminescent element material according to claim 1 or 2 and a solvent. 陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた発光層を有する有機電界発光素子であって、該発光層が、請求項1または2に記載の有機電界発光素子材料を含有することを特徴とする、有機電界発光素子。   An organic electroluminescent element having an anode, a cathode, and a light emitting layer provided between the two electrodes, wherein the light emitting layer contains the organic electroluminescent element material according to claim 1 or 2. Organic electroluminescence device. 陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた発光層を有する有機電界発光素子であって、該発光層が、請求項3に記載の有機電界発光素子用組成物を用いて形成された層であることを特徴とする、有機電界発光素子。   An organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and a light emitting layer provided between both electrodes, wherein the light emitting layer is a layer formed using the composition for organic electroluminescent devices according to claim 3. An organic electroluminescent element, characterized in that there is. 請求項4または5に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする、有機ELディスプレイ。   An organic EL display comprising the organic electroluminescent element according to claim 4. 請求項4または5に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする、有機EL照明。   An organic EL illumination comprising the organic electroluminescent element according to claim 4.
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