JP2010192474A - Organic electroluminescent element, organic el display, and organic el lighting - Google Patents

Organic electroluminescent element, organic el display, and organic el lighting Download PDF

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宏一朗 飯田
Kiyoshi Sugiyama
淑 杉山
Kazutake Okabe
一毅 岡部
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element which can be driven at a low voltage, has high light-emitting efficiency and long drive service life, and to provide an organic EL display and an organic EL lighting equipped with the element. <P>SOLUTION: The organic electroluminescent element includes a substrate; an anode provided on the substrate, a plurality of organic layers and a cathode, wherein the plurality of organic layers include a first organic layer; and a second organic layer formed by a wet film forming method, where halogen atom concentration (wt.%) of the first organic layer is ≥2 wt.%, and not less than 20 times the halogen atom concentration (wt.%) of the second organic layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機電界発光素子、有機ELディスプレイ及び有機EL照明に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescent element, an organic EL display, and organic EL lighting.

近年、有機薄膜を用いた電界発光素子(即ち、有機電界発光素子)の開発が行われている。有機電界発光素子における有機薄膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着法と湿式成膜法が挙げられる。真空蒸着法は積層化が容易であるため、陽極及び/又は陰極からの電荷注入の改善、励起子の発光層封じ込めが容易であるという利点を有する。また、湿式成膜法は、真空蒸着法に比べて、大面積化が容易で、1つの層(塗布液)に様々な機能をもった複数の材料を混合して入れることが容易である等の利点がある。   In recent years, electroluminescent devices using organic thin films (that is, organic electroluminescent devices) have been developed. Examples of the method for forming the organic thin film in the organic electroluminescence device include a vacuum deposition method and a wet film formation method. Since the vacuum deposition method is easy to stack, it has an advantage that the charge injection from the anode and / or the cathode is improved, and the exciton light-emitting layer is easily contained. In addition, the wet film formation method is easier to increase in area than the vacuum deposition method, and it is easy to mix a plurality of materials having various functions in one layer (coating liquid). There are advantages.

真空蒸着法で形成した層を含む有機電界発光素子の作製として、例えば特許文献1及び特許文献2では、ハロゲン原子濃度が少ない材料を用いて、すべての有機層を形成することが開示されている。
湿式成膜法で形成した層を含む有機電界発光素子の作製として、特許文献3及び特許文献4では、湿式成膜法で層を形成する場合にも、ハロゲン原子濃度が少ない材料を用いることが開示されている。
For example, Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose that all organic layers are formed using a material having a low halogen atom concentration as a method for manufacturing an organic electroluminescent element including a layer formed by a vacuum deposition method. .
In the preparation of an organic electroluminescent element including a layer formed by a wet film formation method, in Patent Document 3 and Patent Document 4, a material having a low halogen atom concentration is used even when a layer is formed by a wet film formation method. It is disclosed.

特開2004−327454号公報JP 2004-327454 A 特開2004−327455号公報JP 2004-327455 A 特開2007−220772号公報JP 2007-220772 A 国際公開第2006−37458号パンフレットInternational Publication No. 2006-37458 Pamphlet

本発明は、低い電圧で駆動可能で、発光効率が高く、さらに駆動寿命が長い有機電界発光素子、並びにそれを備えた有機ELディスプレイ及び有機EL照明を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide an organic electroluminescence device that can be driven at a low voltage, has high luminous efficiency, and has a long driving life, and an organic EL display and organic EL illumination including the organic electroluminescence device.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、湿式成膜法によって成膜される特定の有機層において、該有機層のハロゲン原子濃度(重量%)を相対的に特定以上の値とすることで、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、基板と、該基板上に設けられた陽極、複数の有機層、及び陰極とを備えた有機電界発光素子であって、該複数の有機層が、湿式成膜法で形成された第一の有機層及び第二の有機層を含み、第一の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)が2重量%以上であり、さらに第二の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)の20倍以上であることを特徴とする、有機電界発光素子、並びにそれを備えた有機ELディスプレイ及び有機EL照明に存する。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have determined that the halogen atom concentration (% by weight) of the organic layer is relatively specified or higher in the specific organic layer formed by the wet film forming method. The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by setting the value of.
That is, the present invention is an organic electroluminescent device comprising a substrate, an anode provided on the substrate, a plurality of organic layers, and a cathode, wherein the plurality of organic layers are formed by a wet film formation method. The first organic layer and the second organic layer, the halogen atom concentration (wt%) of the first organic layer is 2 wt% or more, and the halogen atom concentration (wt%) of the second organic layer The organic electroluminescent element, and the organic EL display and the organic EL illumination provided with the organic electroluminescent element.

本発明の有機電界発光素子は、低い電圧で駆動可能であり、高い発光効率を有し、さらに、駆動寿命が長い。また、定電流駆動時の発光輝度の低下、電圧上昇、非発光部分(ダークスポット)の発生、短絡欠陥等が抑制される。   The organic electroluminescence device of the present invention can be driven at a low voltage, has high luminous efficiency, and has a long driving life. In addition, a decrease in light emission luminance, a voltage increase, generation of a non-light emitting portion (dark spot), a short circuit defect, and the like during constant current driving are suppressed.

本発明の有機電界発光素子の構造の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the structure of the organic electroluminescent element of this invention. 本発明の参考実1及び参考比較例1において測定した電流−電圧特性を示す図である。尚、縦軸は電流密度[A/cm]を表し、横軸は電圧[V]を表す。It is a figure which shows the current-voltage characteristic measured in the reference example 1 and the reference comparative example 1 of this invention. The vertical axis represents current density [A / cm 2 ], and the horizontal axis represents voltage [V]. 本発明の実施例1で作製した素子のTOF−SIMSによる測定結果を示す図である。尚、縦軸は、イオン検出強度、横軸は測定時間[s]を表す。It is a figure which shows the measurement result by TOF-SIMS of the element produced in Example 1 of this invention. The vertical axis represents ion detection intensity, and the horizontal axis represents measurement time [s]. 本発明の比較例3で作製した素子のTOF−SIMSによる測定結果を示す図である。尚、縦軸は、イオン検出強度、横軸は測定時間[s]を表す。It is a figure which shows the measurement result by TOF-SIMS of the element produced by the comparative example 3 of this invention. The vertical axis represents ion detection intensity, and the horizontal axis represents measurement time [s].

本発明の有機電界発光素子、並びに有機ELディスプレイ及び有機EL照明の実施態様を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定されない。
<基本構成>
本発明の有機電界発光素子は、基板と、該基板上に設けられた陽極、有機層、及び陰極とを備えた有機電界発光素子であって、該有機層が、湿式成膜法で形成された第一の有機層及び第二の有機層を含み、該第一の有機層と第二の有機層は、陽極側からこの順に隣接して設けられており、第一の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)が2重量%以上であり、さらに第二の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)の20倍以上であることを特徴とする、有機電界発光素子である。
The embodiment of the organic electroluminescent element of the present invention, and the organic EL display and organic EL illumination will be described in detail. The description of the constituent elements described below is an example (representative example) of the embodiment of the present invention. The present invention is not limited to these contents unless it exceeds the gist.
<Basic configuration>
The organic electroluminescent device of the present invention is an organic electroluminescent device comprising a substrate and an anode, an organic layer, and a cathode provided on the substrate, wherein the organic layer is formed by a wet film formation method. The first organic layer and the second organic layer, the first organic layer and the second organic layer being provided adjacent to each other in this order from the anode side, and the halogen atoms of the first organic layer The organic electroluminescent device is characterized in that the concentration (% by weight) is 2% by weight or more and further 20 times or more the halogen atom concentration (% by weight) of the second organic layer.

[ハロゲン原子濃度]
本発明において、有機層のハロゲン原子濃度の絶対値は、以下(1.ハロゲン原子濃度の算出方法)の項に記載の方法で算出する。また、層間の比、例えば、第一の有機層のハロゲン原子濃度と第二の有機層のハロゲン原子濃度との比は、以下(2.有機層間のハロゲン原子濃度の比の測定方法)の項で記載の測定方法より算出する。
[Halogen atom concentration]
In the present invention, the absolute value of the halogen atom concentration of the organic layer is calculated by the method described in the following section (1. Calculation method of halogen atom concentration). Further, the ratio between layers, for example, the ratio of the halogen atom concentration in the first organic layer to the halogen atom concentration in the second organic layer is described in the following section (2. Method for measuring the ratio of halogen atom concentration between organic layers). It is calculated from the measurement method described in 1.

(1.ハロゲン原子濃度の算出方法)
第一の有機層に含まれるハロゲン原子濃度は、層を形成後の状態より算出する。
具体的には、参考例1で用いた組成で説明する。下記構造式で表される化合物(H1)(4.5重量%)、及び下記式で表される化合物(A1)(0.09重量%)を、溶媒としての安息香酸エチルに溶解した組成物を用いて、層を形成する。
(1. Calculation method of halogen atom concentration)
The halogen atom concentration contained in the first organic layer is calculated from the state after forming the layer.
Specifically, the composition used in Reference Example 1 will be described. A composition in which a compound (H1) (4.5% by weight) represented by the following structural formula and a compound (A1) (0.09% by weight) represented by the following formula are dissolved in ethyl benzoate as a solvent. Is used to form a layer.

上記組成物を用いて層を形成した場合、層中の構造は、下記の通りになっていると推測される。 When a layer is formed using the said composition, it is estimated that the structure in a layer is as follows.

これより、層中のハロゲン原子濃度は、下記の通り計算される。
上記式(A1)のアニオン部分に含まれるハロゲン含有率は、{(フッ素の原子量)/((A1)のアニオン部分の分子量)}×100=380/679=56%と算出される。
From this, the halogen atom concentration in the layer is calculated as follows.
The halogen content contained in the anion portion of the formula (A1) is calculated as {(atomic weight of fluorine) / (molecular weight of the anion portion of (A1))} × 100 = 380/679 = 56%.

ここで、0.09重量%の(A1)中に、まず0.601重量%の(A1)のアニオン部分が含まれていて、さらにこの(A1)のアニオン部分中に、0.336重量%のハロゲン原子(フッ素原子)が含まれる。
これより、層中に含まれるハロゲン原子の濃度(重量%)は、{0.336重量%/(4.5重量%+0.601重量%)}×100=6.6重量%、と算出される。
(有機電解発光素子の有機層の各々のハロゲン原子濃度(重量%)の総計が0.5重量%以上であること)
本発明の有機電界発光素子は、陽極と陰極との間に、有機層を備えており、該有機層中のハロゲン原子濃度(重量%)のが、0.5重量%以上であることを特徴とする有機電界発光素子である。
Here, 0.09% by weight of (A1) first contains 0.601% by weight of (A1) anion portion, and further in this (A1) anion portion, 0.336% by weight Of halogen atoms (fluorine atoms).
From this, the concentration (wt%) of the halogen atoms contained in the layer is calculated as {0.336 wt% / (4.5 wt% + 0.601 wt%)} × 100 = 6.6 wt%. The
(The total halogen atom concentration (% by weight) of each organic layer of the organic electroluminescence device is 0.5% by weight or more)
The organic electroluminescent device of the present invention comprises an organic layer between an anode and a cathode, and the halogen atom concentration (wt%) in the organic layer is 0.5 wt% or more. It is an organic electroluminescent element.

有機層中のハロゲン原子濃度が0.5重量%以上であるとは、下記の通りである。
有機層全体の膜厚が、x(nm)で、ハロゲン原子を含有する層が1層で、ハロゲン原子の濃度がa(重量%)である層の膜厚がy(nm)であった場合、複数の有機層の各々のハロゲン原子の濃度の総計は、a×y/x(重量%)として算出される。
後述の、実施例1を例にして以下、具体的に説明する。
The halogen atom concentration in the organic layer is 0.5% by weight or more as follows.
When the total thickness of the organic layer is x (nm), the layer containing halogen atoms is one layer, and the thickness of the layer having a halogen atom concentration of a (wt%) is y (nm) The total concentration of halogen atoms in each of the plurality of organic layers is calculated as a × y / x (% by weight).
A specific description will be given below with reference to Example 1 described later.

実施例1で作製した素子における有機層の膜厚は、各々、正孔注入層(第一の有機層/30nm)、正孔輸送層(第二の有機層/20nm)、発光層(40nm)、正孔阻止層(10nm)、電子輸送層(30nm)で、合計130nmである。ここで、ハロゲンを含んでいる層は、正孔注入層のみで、ハロゲン原子濃度は6.6重量%である。これより、複数数の有機層の各々のハロゲン原子濃度の総計は、6.6×(30/130)=1.52重量%と算出される。   The film thicknesses of the organic layers in the device produced in Example 1 are the hole injection layer (first organic layer / 30 nm), the hole transport layer (second organic layer / 20 nm), and the light emitting layer (40 nm), respectively. The hole blocking layer (10 nm) and the electron transport layer (30 nm) are 130 nm in total. Here, the layer containing halogen is only the hole injection layer, and the halogen atom concentration is 6.6% by weight. From this, the total of the halogen atom concentration of each of the plurality of organic layers is calculated as 6.6 × (30/130) = 1.52 wt%.

(2.有機層間のハロゲン原子濃度の比の測定方法)
次に、第一の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)が第二の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)の20倍以上であることについては、TOF−SIMS法により定義する。
TOF−SIMS法は、TOF−SIMS IV(ION−TOF社製)を用いて測定を行う。
(2. Measurement method of halogen atom concentration ratio between organic layers)
Next, the fact that the halogen atom concentration (wt%) of the first organic layer is 20 times or more the halogen atom concentration (wt%) of the second organic layer is defined by the TOF-SIMS method.
The TOF-SIMS method performs measurement using TOF-SIMS IV (manufactured by ION-TOF).

測定方法は、測定試料をスパッタイオンによりエッチングし、エッチング後に一次イオンを照射して試料から放出される二次イオンのTOF−SIMSスペクトルを、負イオンモードで測定を行う。一次イオンとしてビスマス三量体クラスターの2価の正イオンを用い、スパッタイオンとしてアルゴンの正イオンを用いる。また、エッチング面積は300μmとし、スパッタ分析面積は150μmとする。エッチングとTOF−SIMS測定を繰り返すことで、試料表面から深さ方向へのハロゲンイオンの分布を評価する。 In the measurement method, a measurement sample is etched with sputter ions, and the TOF-SIMS spectrum of secondary ions emitted from the sample by irradiation with primary ions after etching is measured in a negative ion mode. Bivalent positive ions of bismuth trimer clusters are used as primary ions, and argon positive ions are used as sputter ions. The etching area is 300 μm 2 and the sputter analysis area is 150 μm 2 . By repeating etching and TOF-SIMS measurement, the distribution of halogen ions in the depth direction from the sample surface is evaluated.

尚、第一の有機層と第二の有機層の境界については、上記TOF−SIMS法のスペクトルで以下の通り求めることができる。
第一の有機層におけるハロゲンイオンの検出強度をX1とし、第二の有機層におけるハロゲンの検出強度をX2とする。この時、第一の有機層と第二の有機層の界面において、ハロゲンイオンの検出強度が((X1−X2)/2)となる深さを、第一の有機層と第二の有機層の境界とする。
In addition, about the boundary of a 1st organic layer and a 2nd organic layer, it can obtain | require as follows with the spectrum of the said TOF-SIMS method.
The detected intensity of halogen ions in the first organic layer is X1, and the detected intensity of halogen in the second organic layer is X2. At this time, at the interface between the first organic layer and the second organic layer, the depth at which the detected intensity of the halogen ion is ((X1-X2) / 2) is set to the first organic layer and the second organic layer. The boundary.

尚、本発明の特定に用いる測定機器は、上記と同等の測定が可能であれば、上記の測定機器に限定されるものではなく、その他の測定機器を用いてもよいが、上記の測定機器を用いることが好ましい。
本発明における第一の有機層は、ハロゲン原子濃度(重量%)を通常2重量%以上、好ましくは4重量%以上、さらに好ましくは、6重量%以上、また通常60重量%以下、好ましくは40重量%以下、さらに好ましくは20重量%以下である。この範囲内であると、熱的、及び電気的に安定で、電荷輸送能の高い層が得られるため好ましい。
Note that the measuring device used for specifying the present invention is not limited to the above measuring device as long as the same measurement as described above is possible, and other measuring devices may be used. Is preferably used.
The first organic layer in the present invention has a halogen atom concentration (% by weight) of usually 2% by weight or more, preferably 4% by weight or more, more preferably 6% by weight or more, and usually 60% by weight or less, preferably 40%. % By weight or less, more preferably 20% by weight or less. Within this range, a layer that is thermally and electrically stable and has a high charge transporting ability can be obtained.

また、本発明の有機電界発光素子は、第二の有機層に対する第一の有機層のハロゲン原子濃度は、通常20倍以上、好ましくは50倍以上、さらに好ましくは100倍以上、また通常1,000,000倍以下、好ましくは10,000倍以下である。
上記範囲内であると、第一の有機層から第二の有機層への電荷の注入がよく、また、第二の有機層及び第二の有機層とその上の層との界面においてハロゲン原子由来のトラップサイトやクエンチサイトが少ないため、得られる素子の駆動電圧が低く、電流効率が高く、また駆動寿命が長い。
In the organic electroluminescent device of the present invention, the halogen atom concentration of the first organic layer relative to the second organic layer is usually 20 times or more, preferably 50 times or more, more preferably 100 times or more, and usually 1, It is 1,000,000 times or less, preferably 10,000 times or less.
Within the above range, charge injection from the first organic layer to the second organic layer is good, and halogen atoms are present at the interface between the second organic layer and the second organic layer and the layer above it. Since there are few trap sites and quench sites, the resulting device has a low drive voltage, high current efficiency, and a long drive life.

(2.ハロゲン原子として含まれているもの)
第一の有機層に含まれているハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子のいずれであってもよいが、熱的、及び電気的に安定で、更に電荷輸送能の高い層が得られる点でフッ素原子が好ましい。
尚、ハロゲン原子が含まれる態様としては、本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、ハロゲン化物イオン、錯イオン及び電気的に中性な分子で含まれていてもよい。
(2. Contained as a halogen atom)
The halogen atom contained in the first organic layer may be any of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, but is thermally and electrically stable and further has a charge transporting ability. A fluorine atom is preferable in that a high layer can be obtained.
In addition, there is no restriction | limiting in particular as an aspect containing a halogen atom, unless the effect of this invention is impaired, You may contain by the halide ion, complex ion, and the electrically neutral molecule | numerator.

尚、ハロゲン化物イオンとして含まれている場合、特に、電子受容性化合物であることが好ましい。
(電子受容性化合物)
電子受容性化合物としては、酸化力を有し、上述の正孔輸送性化合物から一電子受容する能力を有する化合物が好ましい。具体的には、電子親和力が4eV以上である化合物が好ましく、5eV以上の化合物である化合物がさらに好ましい。
In addition, when contained as a halide ion, an electron accepting compound is particularly preferable.
(Electron-accepting compound)
As the electron-accepting compound, a compound having an oxidizing power and an ability to accept one electron from the above-described hole-transporting compound is preferable. Specifically, a compound with an electron affinity of 4 eV or more is preferable, and a compound with a compound of 5 eV or more is more preferable.

上記を満たす化合物としては、ハロゲン原子を有する芳香族化合物、トリアリールホウ素化合物、トリアリールホウ素化合物、オニウム塩、アミニウム塩、ハロゲン化金属、ハロゲン含有ポリマー、及び有機酸などが挙げられる。
以下に、電子受容性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Examples of the compound satisfying the above include aromatic compounds having a halogen atom, triaryl boron compounds, triaryl boron compounds, onium salts, aminium salts, metal halides, halogen-containing polymers, and organic acids.
Specific examples of the electron-accepting compound are shown below, but the present invention is not limited to these.

<ハロゲン原子を有する芳香族化合物>   <Aromatic compound having halogen atom>

<トリアリールホウ素化合物> <Triaryl boron compound>

<オニウム塩> <Onium salt>

<アミニウム塩> <Aminium salt>

<ハロゲン化金属> <Metal halide>

<ハロゲン含有ポリマー> <Halogen-containing polymer>

<有機酸> <Organic acid>

さらに、ハロゲン原子が含まれない電子受容性化合物としては、以下の<ハロゲン非含有電子受容性群>に記載のものが挙げられるが、本発明の効果を損なわない限り、これらに限定されるものではない。 Furthermore, examples of the electron-accepting compound not containing a halogen atom include those described in the following <Halogen-free electron-accepting group>, but are not limited to these unless the effects of the present invention are impaired. is not.

<ハロゲン非含有電子受容性化合物群>   <Halogen-free electron-accepting compound group>

[有機層]
本発明において「有機層」とは、有機化合物を含有する層をいう。
本発明の有機電界発光素子において、有機層とは、陽極及び陰極の間に配置される各層をいう。
[Organic layer]
In the present invention, the “organic layer” refers to a layer containing an organic compound.
In the organic electroluminescent element of the present invention, the organic layer refers to each layer disposed between the anode and the cathode.

本発明の有機電界発光素子における有機層の例としては、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。
これらの有機層のうち、ハロゲン原子濃度が2重量%以上含まれている層(第一の有機層)、及び第二の有機層は、隣接して構成される二層であれば、制限されるものではなく、何れの層であってもよい。
Examples of the organic layer in the organic electroluminescence device of the present invention include a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.
Of these organic layers, the layer containing the halogen atom concentration of 2% by weight or more (first organic layer) and the second organic layer are limited as long as they are two adjacent layers. Any layer may be used.

これらの有機層のうち隣接する二層を第一の有機層及び第二の層として形成することにより、定電流通電時の駆動電圧の上昇や通電時の輝度の低下が少なく、駆動寿命に優れた
有機電界発光素子を得ることができる。
但し、陽極からの電荷注入を促進し、駆動電圧をより低減することができる点で、第一の有機層は陽極に出来るだけ近い位置に存在することが好ましい。
By forming two adjacent layers of these organic layers as the first organic layer and the second layer, there is little increase in drive voltage during constant current energization or decrease in brightness during energization, and excellent drive life. An organic electroluminescent device can be obtained.
However, the first organic layer is preferably present as close as possible to the anode in that charge injection from the anode can be promoted and the driving voltage can be further reduced.

具体的には、図1に模式的に示すように、第一の有機層が、第二の層を挟んで発光層5と反対側に存在すること、即ち、第一の有機層、第二の有機層、及び発光層がこの順に配置されることが好ましい。
より具体的には、正孔注入層が第一の有機層であり、正孔輸送層が第二の有機層である。
Specifically, as schematically shown in FIG. 1, the first organic layer is present on the opposite side of the light emitting layer 5 with the second layer interposed therebetween, that is, the first organic layer, the second organic layer, The organic layer and the light emitting layer are preferably arranged in this order.
More specifically, the hole injection layer is the first organic layer, and the hole transport layer is the second organic layer.

また、正孔輸送層は、省略されていてもよいので、正孔注入層が第一の有機層であって、発光層が第二の有機層であってもよい。
(第一の有機層)
本発明における第一の有機層は、層中に正孔輸送材料が含まれることが好ましい。
正孔輸送材料としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、公知の化合物を用いることが出来るが、湿式成膜法による積層が容易に行うことができる点で不溶化基を有する化合物(以下、「不溶化性化合物」と称する場合がある)であることが好ましい。
Further, since the hole transport layer may be omitted, the hole injection layer may be the first organic layer and the light emitting layer may be the second organic layer.
(First organic layer)
The first organic layer in the present invention preferably contains a hole transport material in the layer.
The hole transport material is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, and a known compound can be used, but has an insolubilizing group in that lamination by a wet film forming method can be easily performed. A compound (hereinafter sometimes referred to as “insoluble compound”) is preferred.

[不溶化基]
本発明における不溶化性化合物は、不溶化基を含む基を有する化合物である。
不溶化基とは、熱及び/又は活性エネルギー線の照射により反応する基であり、反応後は反応前に比べて有機溶媒や水への溶解性を低下させる効果を有する基である。
本発明においては、不溶化基は、解離基又は架橋性基であることが好ましい。
[Insolubilized group]
The insolubilizing compound in the present invention is a compound having a group containing an insolubilizing group.
The insolubilizing group is a group that reacts by irradiation with heat and / or active energy rays, and is a group having an effect of lowering solubility in an organic solvent or water after the reaction than before the reaction.
In the present invention, the insolubilizing group is preferably a dissociating group or a crosslinkable group.

(解離基)
本発明における正孔輸送材料は、不溶化基として、解離基を有していることが不溶化後(解離反応後)の電荷輸送能に優れる点で好ましい。
ここで、解離基とは、結合している芳香族炭化水素環から70℃以上で解離し、さらに溶媒に対して可溶性を示す基をいう。ここで、溶媒に対して可溶性を示すとは、化合物が熱及び/又は活性エネルギー線の照射によって反応する前の状態で、常温でトルエンに0.1重量%以上溶解することをいい、化合物のトルエンへの溶解性は、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上である。
(Dissociable group)
The hole transport material in the present invention preferably has a dissociation group as an insolubilizing group in terms of excellent charge transport ability after insolubilization (after dissociation reaction).
Here, the dissociating group refers to a group that dissociates from a bonded aromatic hydrocarbon ring at 70 ° C. or more and is soluble in a solvent. Here, being soluble in a solvent means that the compound is dissolved in toluene at 0.1% by weight or more at room temperature in a state before reacting by irradiation with heat and / or active energy rays. The solubility in toluene is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more.

このような解離基として好ましくは、芳香族炭化水素環側に極性基を形成せずに熱解離する基であり、逆ディールスアルダー反応により熱解離する基であることがより好ましい。
またさらに、100℃以上で熱解離する基であることが好ましく、300℃以下で熱解離する基であることが好ましい。
Such a dissociating group is preferably a group that thermally dissociates without forming a polar group on the aromatic hydrocarbon ring side, and more preferably a group that dissociates thermally by a reverse Diels-Alder reaction.
Furthermore, it is preferably a group that thermally dissociates at 100 ° C. or higher, and preferably a group that thermally dissociates at 300 ° C. or lower.

解離基の具体例は、以下の通りであるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
解離基が2価の基である場合の具体例は、以下の<2価の解離基群A>の通りである。<2価の解離基群A>
Specific examples of the dissociating group are as follows, but the present invention is not limited thereto.
A specific example in the case where the dissociating group is a divalent group is as shown in <Divalent dissociating group group A> below. <Divalent dissociation group A>

解離基が1価の基である場合の具体例は、以下の<1価の解離基群B>の通りである。<1価の解離基群B> A specific example in the case where the dissociating group is a monovalent group is as shown in <Monovalent dissociating group B> below. <Monovalent dissociation group B>

(架橋性基)
また、本発明における正孔輸送材料は、不溶化基として、架橋性基を有していることが、熱及び/又は活性エネルギー線の照射により起こる反応(不溶化反応)の前後で、溶媒に対する溶解性に大きな差を生じさせることができる点で好ましい。
(Crosslinkable group)
In addition, the hole transport material in the present invention has a crosslinkable group as an insolubilizing group, and is soluble in a solvent before and after a reaction (insolubilizing reaction) caused by irradiation with heat and / or active energy rays. It is preferable in that a large difference can be generated.

ここで、架橋性基とは、熱及び/又は活性エネルギー線の照射により近傍に位置するほかの分子の同一又は異なる基と反応して、新規な化学結合を生成する基のことをいう。
架橋性基としては、不溶化がしやすいという点で、例えば、架橋性基群Tに示す基が挙げられる。
[架橋性基群T]
Here, the crosslinkable group refers to a group that reacts with the same or different groups of other molecules located nearby by irradiation with heat and / or active energy rays to form a new chemical bond.
Examples of the crosslinkable group include groups shown in the crosslinkable group group T in that it is easily insolubilized.
[Crosslinkable group T]

(式中、R〜Rは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Ar31は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。)
エポキシ基、オキセタン基などの環状エーテル基、ビニルエーテル基などのカチオン重合によって不溶化反応する基が、反応性が高く不溶化が容易な点で好ましい。中でも、カ
チオン重合の速度を制御しやすい点でオキセタン基が特に好ましく、カチオン重合の際に素子の劣化をまねくおそれのあるヒドロキシル基が生成しにくい点でビニルエーテル基が好ましい。
(In formula, R < 1 > -R < 5 > represents a hydrogen atom or an alkyl group each independently. Ar < 31 > may have the aromatic hydrocarbon group or substituent which may have a substituent. Represents an aromatic heterocyclic group.)
Groups that are insolubilized by cationic polymerization, such as cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetane groups, and vinyl ether groups are preferred because they are highly reactive and easily insolubilized. Among these, an oxetane group is particularly preferable from the viewpoint that the rate of cationic polymerization can be easily controlled, and a vinyl ether group is preferable from the viewpoint that a hydroxyl group that may cause deterioration of the device during the cationic polymerization is hardly generated.

シンナモイル基などアリールビニルカルボニル基、ベンゾシクロブテン環由来の基などの環化付加反応する基が、電気化学的安定性をさらに向上させる点で好ましい。
また、架橋性基の中でも、不溶化後の構造が特に安定な点で、ベンゾシクロブテン環由来の基が特に好ましい。
架橋性基は分子内の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基に直接結合してもよいが、2価の基を介して結合してもよい。この2価の基としては、−O−基、−C(=O)−基又は(置換基を有していてもよい)−CH−基から選ばれる基を任意の順番で1〜30個連結してなる2価の基を介して、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基に結合することが好ましい。
A group that undergoes a cycloaddition reaction, such as an arylvinylcarbonyl group such as a cinnamoyl group, or a group derived from a benzocyclobutene ring, is preferred from the viewpoint of further improving electrochemical stability.
Among the crosslinkable groups, a group derived from a benzocyclobutene ring is particularly preferable in that the structure after insolubilization is particularly stable.
The crosslinkable group may be directly bonded to the aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group in the molecule, but may be bonded via a divalent group. As the divalent group, a group selected from an —O— group, a —C (═O) — group, or an (optionally substituted) —CH 2 — group may be selected from 1 to 30 in any order. It is preferable to bind to an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group via a divalent group formed by connecting them individually.

(正孔輸送材料の構造)
第一の有機層を形成する材料としては、正孔輸送能が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが好ましい。そのために、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、正孔移動度が大きく、安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが好ましい。また、多くの場合、発光層に接するため、発光層からの発光を消光したり、発光層との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させたりしないことが好ましい。
(Structure of hole transport material)
The material forming the first organic layer is preferably a material having a high hole transport capability and capable of efficiently transporting injected holes. Therefore, it is preferable that the ionization potential is small, the transparency to visible light is high, the hole mobility is large, the stability is high, and impurities that become traps are not easily generated during manufacturing or use. In many cases, since it is in contact with the light emitting layer, it is preferable not to quench the light emitted from the light emitting layer or to reduce the efficiency by forming an exciplex with the light emitting layer.

このような第一の有機層の材料としては、従来、第一の有機層の構成材料として用いられている材料であればよく、例えば、前述の正孔注入層に使用される正孔輸送性化合物として例示したものが挙げられる。また、アリールアミン誘導体、フルオレン誘導体、スピロ誘導体、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、シロール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。   As the material of the first organic layer, any material that has been conventionally used as a constituent material of the first organic layer may be used. For example, the hole transport property used in the above-described hole injection layer may be used. What was illustrated as a compound is mentioned. In addition, arylamine derivatives, fluorene derivatives, spiro derivatives, carbazole derivatives, pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, silole derivatives, oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatics Group derivatives, metal complexes and the like.

また、例えば、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリアリールアミン誘導体、ポリビニルトリフェニルアミン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリアリーレン誘導体、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン誘導体、ポリアリーレンビニレン誘導体、ポリシロキサン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)誘導体等が挙げられる。これらは、交互共高分子化合物、ランダム高分子化合物、ブロック高分子化合物又はグラフト共高分子化合物のいずれであってもよい。また、主鎖に枝分かれがあり末端部が3つ以上ある高分子や、所謂デンドリマーであってもよい。   Also, for example, polyvinylcarbazole derivatives, polyarylamine derivatives, polyvinyltriphenylamine derivatives, polyfluorene derivatives, polyarylene derivatives, polyarylene ether sulfone derivatives containing tetraphenylbenzidine, polyarylene vinylene derivatives, polysiloxane derivatives, polythiophenes Derivatives, poly (p-phenylene vinylene) derivatives, and the like. These may be any of alternating copolymer compounds, random polymer compounds, block polymer compounds, and graft copolymer compounds. Further, it may be a polymer having a branched main chain and three or more terminal portions, or a so-called dendrimer.

中でも、ポリアリールアミン誘導体やポリアリーレン誘導体が好ましい。
ポリアリールアミン誘導体としては、下記式(II)で表される繰り返し単位を含む高分子化合物であることが好ましい。特に、下記式(II)で表される繰り返し単位からなる高分子化合物であることが好ましく、この場合、繰り返し単位それぞれにおいて、ArまたはArが異なっているものであってもよい。
Of these, polyarylamine derivatives and polyarylene derivatives are preferred.
The polyarylamine derivative is preferably a polymer compound containing a repeating unit represented by the following formula (II). In particular, it is preferably a polymer compound composed of a repeating unit represented by the following formula (II). In this case, Ar a or Ar b may be different in each repeating unit.

(式(II)中、Ar及びArは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、
芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。)
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの、6員環の単環または2〜5縮合環由来の基およびこれらの環が2環以上直接結合で連結してなる基が挙げられる。
(In Formula (II), Ar a and Ar b may each independently have a substituent,
Represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group. )
Examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, a triphenylene ring, and an acenaphthene. Examples thereof include a group derived from a 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring, such as a ring, a fluoranthene ring, a fluorene ring, and a group in which two or more rings are connected by a direct bond.

置換基を有していてもよい芳香族複素環基としては、例えばフラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの、5または6員環の単環または2〜4縮合環由来の基およびこれらの環が2環以上直接結合で連結してなる基が挙げられる。   Examples of the aromatic heterocyclic group which may have a substituent include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, an indole ring, and a carbazole ring. , Pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine Ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring, etc. Or a group and the rings of from 2-4 fused rings include groups formed by connecting a direct bond or two or more rings.

溶解性、耐熱性の点から、ArおよびArは、各々独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、ピレン環、チオフェン環、ピリジン環、フルオレン環からなる群より選ばれる環由来の基やベンゼン環が2環以上連結してなる基(例えば、ビフェニル基やターフェニル基)が好ましい。
中でも、ベンゼン環由来の基(フェニル基)、ベンゼン環が2環連結してなる基(ビフェニル基)およびフルオレン環由来の基(フルオレニル基)が好ましい。
In view of solubility and heat resistance, Ar a and Ar b are each independently selected from the group consisting of a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, triphenylene ring, pyrene ring, thiophene ring, pyridine ring, and fluorene ring. A group derived from a selected ring or a group formed by linking two or more benzene rings (for example, a biphenyl group or a terphenyl group) is preferable.
Among these, a group derived from a benzene ring (phenyl group), a group formed by connecting two benzene rings (biphenyl group), and a group derived from a fluorene ring (fluorenyl group) are preferable.

ArおよびArにおける芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アシル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、シロキシ基、シアノ基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基などが挙げられる。 Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group in Ar a and Ar b may have include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a dialkyl. Examples thereof include an amino group, a diarylamino group, an acyl group, a halogen atom, a haloalkyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a silyl group, a siloxy group, a cyano group, an aromatic hydrocarbon ring group, and an aromatic heterocyclic group.

ポリアリーレン誘導体としては、前記式(II)におけるArやArとして例示した置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基などのアリーレン基をその繰り返し単位に有する高分子化合物が挙げられる。
ポリアリーレン誘導体としては、下記式(III−1)および/または下記式(III−2)からなる繰り返し単位を有する高分子化合物が好ましい。
As the polyarylene derivative, an arylene group such as an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent exemplified as Ar a or Ar b in the formula (II) is used as its repeating unit. The high molecular compound which has is mentioned.
As the polyarylene derivative, a polymer compound having a repeating unit composed of the following formula (III-1) and / or the following formula (III-2) is preferable.

(式(III−1)中、Ra、Rb、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、フェニルアルキル基、フェニルアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、又はカルボキシ基を表す。tおよびsは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。tまたはsが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のRaまたはRbは同一であっても
異なっていてもよく、隣接するRaまたはRbどうしで環を形成していてもよい。)
(In formula (III-1), R a , R b , R c and R d are each independently an alkyl group, an alkoxy group, a phenylalkyl group, a phenylalkoxy group, a phenyl group, a phenoxy group, an alkylphenyl group, Represents an alkoxyphenyl group, an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, or a carboxy group, and t and s each independently represent an integer of 0 to 3. When t or s is 2 or more, they are contained in one molecule. A plurality of R a or R b may be the same or different, and adjacent R a or R b may form a ring.)

(式(III−2)中、RおよびRは、それぞれ独立に、上記式(III−1)におけるRa、Rb、RまたはRと同義である。rおよびuは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。rまたはuが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のRおよびRは同一であっても異なっていてもよく、隣接するRまたはRどうしで環を形成していてもよい。Xは、5員環または6員環を構成する原子または原子群を表す。)
Xの具体例としては、―O―、―BR―、―NR―、―SiR―、―PR―、―SR―、―CR―またはこれらが結合してなる基である。尚、Rは、水素原子又は任意の有機基を表す。
(In Formula (III-2), R e and R f are each independently the same as R a , R b , R c or R d in Formula (III-1) above. Independently, it represents an integer of 0 to 3. When r or u is 2 or more, a plurality of R e and R f contained in one molecule may be the same or different, and adjacent R e or R f may form a ring, and X represents an atom or a group of atoms constituting a 5-membered ring or a 6-membered ring.)
Specific examples of X are —O—, —BR—, —NR—, —SiR 2 —, —PR—, —SR—, —CR 2 — or a group formed by bonding thereof. R represents a hydrogen atom or an arbitrary organic group.

また、ポリアリーレン誘導体としては、下記式(III−1)および/または下記式(III−2)からなる繰り返し単位に加えて、さらに下記式(III−3)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。   The polyarylene derivative has a repeating unit represented by the following formula (III-3) in addition to the repeating unit represented by the following formula (III-1) and / or the following formula (III-2). Is preferred.

(式(III−3)中、Ar〜Arは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。vおよびwは、それぞれ独立に0または1を表す。)
Ar〜Arの具体例としては、前記式(II)における、Ar及びArと同様である。
(In the formula (III-3), Ar c to Ar j each independently represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Independently represents 0 or 1.)
Specific examples of Ar c to Ar j are the same as Ar a and Ar b in the formula (II).

上記式(III−1)〜(III−3)の具体例およびポリアリーレン誘導体の具体例等は、特開2008−98619号公報に記載のものなどが挙げられる。
正孔輸送性化合物の構造は特に限定しないが、下記式(4)で表される構造を部分構造として有する化合物であることが好ましい。
Specific examples of the above formulas (III-1) to (III-3) and specific examples of polyarylene derivatives include those described in JP-A-2008-98619.
The structure of the hole transporting compound is not particularly limited, but is preferably a compound having a structure represented by the following formula (4) as a partial structure.

また、本発明における正孔輸送材料が、不溶化基を有さない化合物である場合は、例えばPEDOT/PSS(Adv.Mater.,2000年,12巻,481頁)やエメラルジン塩酸塩(J.Phys.Chem.,1990年,94巻,7716頁)等の酸化重合(脱水素重合)によって得られる高分子化合物が挙げられる。ここでいう酸化重合は、モノマーを酸性溶液中で、ペルオキソ二硫酸塩等を用いて化学的に、または、電気化学的に酸化するものである。この酸化重合(脱水素重合)の場合、モノマーが酸化されることにより高分子化されるとともに、酸性溶液由来のアニオンを対アニオンとする、カチオンラジカルを含む高分子が生成する。この酸化重合の際に、ハロゲン原子を含有する酸を用いると、ハロゲン原子を含有した対アニオンを有するカチオンラジカルを含む高分子が得られるため、熱的、電気的安定性に優れ、好ましい。 Further, when the hole transport material in the present invention is a compound having no insolubilizing group, for example, PEDOT / PSS (Adv. Mater., 2000, Vol. 12, p. 481) or emeraldine hydrochloride (J. Phys) Chem., 1990, Vol. 94, p. 7716), and the like, and high molecular compounds obtained by oxidative polymerization (dehydrogenation polymerization). The oxidative polymerization referred to here is a method in which a monomer is chemically or electrochemically oxidized using peroxodisulfate or the like in an acidic solution. In the case of this oxidative polymerization (dehydrogenation polymerization), the monomer is polymerized by being oxidized, and a polymer containing a cation radical is generated with an anion derived from an acidic solution as a counter anion. In this oxidative polymerization, when an acid containing a halogen atom is used, a polymer containing a cation radical having a counter anion containing a halogen atom is obtained, which is preferable because of excellent thermal and electrical stability.

[成膜方法]
本発明の有機電界発光素子は、第一の有機層及び第二の有機層が、湿式成膜法で形成される。
尚、本発明において湿式成膜法とは、例えば、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、キャピラリーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等湿式で成膜される方法をいう。これらの成膜方法の中でも、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェット法が好ましい。これは、有機電界発光素子に用いられる塗布用組成物特有の液性に合うためである。
[Film formation method]
In the organic electroluminescent element of the present invention, the first organic layer and the second organic layer are formed by a wet film forming method.
In the present invention, the wet film forming method includes, for example, spin coating method, dip coating method, die coating method, bar coating method, blade coating method, roll coating method, spray coating method, capillary coating method, ink jet method, screen printing. This method is a wet film formation method such as a method, a gravure printing method, or a flexographic printing method. Among these film forming methods, a spin coating method, a spray coating method, and an ink jet method are preferable. This is because the liquid property specific to the coating composition used for the organic electroluminescent element is matched.

湿式成膜法で層を形成する場合、通常は、正孔注入層の材料を適切な溶媒と混合して成膜用の組成物を用意して、該組成物を適切な手法により、下層に該当する層上に塗布して、乾燥することにより成膜する。この乾燥は、加熱乾燥であっても、減圧乾燥であってもよい。
不溶化性化合物を用いて膜を形成する場合は、上記の通り塗布後、加熱及び/または活性エネルギー線の照射により、不溶化性化合物が不溶化反応を起こして層を形成する。
When forming a layer by a wet film formation method, usually, a material for hole injection layer is mixed with an appropriate solvent to prepare a composition for film formation, and the composition is applied to the lower layer by an appropriate method. It forms into a film by apply | coating on the applicable layer and drying. This drying may be heat drying or reduced pressure drying.
When forming a film using an insolubilizing compound, the insolubilizing compound undergoes an insolubilizing reaction and forms a layer by heating and / or irradiation with active energy rays after application as described above.

不溶化方法が加熱による場合、加熱の手法は特に限定されないが、加熱条件としては、通常120℃以上、好ましくは400℃以下に成膜された膜を加熱する。加熱時間としては、通常1分以上、好ましくは24時間以下である。
また、加熱手段としては特に限定されないが、形成された膜を有する基板あるいは積層体をホットプレート上にのせたり、オーブン内で加熱したりするなどの手段が用いられる。例えば、ホットプレート上で120℃以上、1分間以上加熱する等の条件を用いることができる。
When the insolubilization method is heating, the heating method is not particularly limited, but the heating condition is that a film formed at 120 ° C. or higher, preferably 400 ° C. or lower is heated. The heating time is usually 1 minute or longer, preferably 24 hours or shorter.
The heating means is not particularly limited, and means such as placing a substrate or a laminate having the formed film on a hot plate or heating in an oven is used. For example, conditions such as heating on a hot plate at 120 ° C. or more for 1 minute or more can be used.

不溶化方法が活性エネルギー線の照射による場合には、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、赤外ランプ等の紫外・可視・赤外光源を直接用いて照射する方法、あるいは前述の光源を内蔵するマスクアライナ、コンベア型光照射装置を用いて照射する方法などが挙げられる。また、例えばマグネトロンにより発生させたマイクロ波を照射する装置、いわゆる電子レンジを用いて照射する方法が挙げられる。照射時間としては、膜の溶解性を低下させるために必要な条件を設定することが好ましいが、通常、0.1秒以上、好ましくは10時間以下照射される。   When the insolubilization method is based on irradiation with active energy rays, direct irradiation using an ultraviolet, visible or infrared light source such as an ultra high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, halogen lamp or infrared lamp, or the aforementioned light source Examples include a mask aligner incorporated and a method of irradiation using a conveyor type light irradiation device. Further, for example, there is a method of irradiating using a so-called microwave oven that irradiates a microwave generated by a magnetron. As the irradiation time, it is preferable to set conditions necessary for reducing the solubility of the film, but irradiation is usually performed for 0.1 seconds or longer, preferably 10 hours or shorter.

加熱及び/または活性エネルギー線の照射は、それぞれ単独、あるいは組み合わせて行ってもよい。組み合わせる場合、実施する順序は特に限定されない。
加熱及び/または活性エネルギー線の照射は、実施後に層が含有する水分及び/または層の表面に吸着する水分の量を低減するために、窒素ガス雰囲気等の水分を含まない雰囲気で行うことが好ましい。同様の目的で加熱及び/または活性エネルギー線の照射を組み合わせて行う場合には、少なくとも上の層の形成直前の工程を窒素ガス雰囲気等の水分を
含まない雰囲気で行うことが特に好ましい。
You may perform a heating and / or irradiation of an active energy ray individually or in combination, respectively. When combined, the order of implementation is not particularly limited.
In order to reduce the amount of moisture contained in the layer and / or the amount of moisture adsorbed on the surface of the layer after the heating and / or irradiation with active energy rays, it is performed in an atmosphere not containing moisture such as a nitrogen gas atmosphere. preferable. When performing heating and / or irradiation with active energy rays for the same purpose, it is particularly preferable to perform at least the process immediately before the formation of the upper layer in an atmosphere containing no moisture such as a nitrogen gas atmosphere.

このようにして形成される本発明における不溶化膜の膜厚は、通常3nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、また通常100nm以下、好ましくは80nm以下、さらに好ましくは50nm以下である。
(第二の有機層)
本発明において、第二の有機層は、所望する素子の構成により適宜選択されるが、上記正孔輸送材料を用いて形成された層であってもよく、また、発光層であってもよい。
The thickness of the insolubilized film thus formed in the present invention is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 80 nm or less, more preferably 50 nm or less.
(Second organic layer)
In the present invention, the second organic layer is appropriately selected depending on the desired configuration of the element, but may be a layer formed using the hole transport material, or may be a light emitting layer. .

第二の有機層を、上記正孔輸送材料を用いて形成する場合、その具体例と成膜方法は同様である。好ましい具体例も同様である。
(発光層)
発光層は、発光性低分子化合物、電荷輸送性低分子化合物および溶媒を含有する組成物(発光層用組成物)を用いて成膜することにより形成ことが好ましい。
When the second organic layer is formed using the hole transport material, the specific example and the film forming method are the same. The same applies to preferred embodiments.
(Light emitting layer)
The light emitting layer is preferably formed by forming a film using a composition (light emitting layer composition) containing a light emitting low molecular weight compound, a charge transporting low molecular weight compound and a solvent.

発光層用組成物は、発光性低分子化合物、及び電荷輸送性化合物を含有する。
[発光性低分子化合物]
本発明の有機電界発光素子は、陽極と、陰極との間に発光層を有し、該発光層が、発光性低分子化合物を含有することが好ましい。
発光性低分子化合物としては、単一の分子量で規定される発光の性質を有する化合物であれば特に制限はなく、公知の材料を適用可能である。例えば、蛍光発光性低分子化合物であってもよく、燐光発光性低分子化合物であってもよいが、内部量子効率の観点から、好ましくは燐光発光性低分子化合物である。
The composition for light emitting layer contains a light emitting low molecular weight compound and a charge transporting compound.
[Luminescent low molecular weight compound]
The organic electroluminescent element of the present invention preferably has a light emitting layer between an anode and a cathode, and the light emitting layer preferably contains a light emitting low molecular weight compound.
The light emitting low molecular compound is not particularly limited as long as it is a compound having a light emitting property defined by a single molecular weight, and a known material can be applied. For example, it may be a fluorescent low molecular weight compound or a phosphorescent low molecular weight compound, but from the viewpoint of internal quantum efficiency, it is preferably a phosphorescent low molecular weight compound.

なお、溶媒への溶解性を向上させる目的で、発光性低分子化合物の分子の対称性や剛性を低下させたり、或いはアルキル基などの親油性置換基を導入したりすることが好ましい。
以下、発光性低分子化合物のうち蛍光発光性低分子化合物の例を挙げるが、蛍光発光性低分子化合物は以下の例示物に限定されるものではない。
In order to improve the solubility in a solvent, it is preferable to reduce the symmetry and rigidity of the molecule of the light-emitting low molecular weight compound or to introduce a lipophilic substituent such as an alkyl group.
Hereinafter, examples of the fluorescent light-emitting low molecular compound among the light-emitting low molecular compounds will be described, but the fluorescent light-emitting low molecular compound is not limited to the following examples.

青色発光を与える蛍光発光性低分子化合物(青色蛍光発光性低分子化合物)としては、例えば、ナフタレン、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、クリセン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼン及びそれらの誘導体等が挙げられる。
緑色発光を与える蛍光発光性低分子化合物(緑色蛍光発光性低分子化合物)としては、例えば、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、Al(CNO)などのアルミニウム錯体等が挙げられる。
Examples of the fluorescent light-emitting low molecular compound that gives blue light emission (blue fluorescent light-emitting low molecular compound) include naphthalene, perylene, pyrene, anthracene, coumarin, chrysene, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and their Derivatives and the like.
Examples of the fluorescent low-molecular compound that gives green light emission (green fluorescent low-molecular compound) include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, aluminum complexes such as Al (C 9 H 6 NO) 3, and the like.

黄色発光を与える蛍光発光性低分子化合物(黄色蛍光発光性低分子化合物)としては、例えば、ルブレン、ペリミドン誘導体等が挙げられる。
赤色発光を与える蛍光発光性低分子化合物(赤色蛍光発光性低分子化合物)としては、例えば、DCM(4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6−(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran)系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等が挙げられる。
Examples of the fluorescent luminescent low molecular weight compound that gives yellow luminescence (yellow fluorescent luminescent low molecular weight compound) include rubrene and perimidone derivatives.
Examples of the fluorescent light-emitting low molecular compound that gives red light (red fluorescent light-emitting low molecular compound) include, for example, DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran) -based compound Benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, azabenzothioxanthene and the like.

燐光発光性低分子化合物としては、例えば、長周期型周期表(以下、特に断り書きの無い限り「周期表」という場合には、長周期型周期表を指すものとする。)第7〜11族から選ばれる金属を含む有機金属錯体が挙げられる。
周期表第7〜11族から選ばれる金属として、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金等が挙げられる。
Examples of the phosphorescent low molecular weight compound include, for example, a long-period periodic table (hereinafter, unless otherwise specified, the term “periodic table” refers to a long-period periodic table). And an organometallic complex containing a metal selected from the group.
Preferred examples of the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold.

錯体の配位子としては、(ヘテロ)アリールピリジン配位子、(ヘテロ)アリールピラゾール配位子などの(ヘテロ)アリール基とピリジン、ピラゾール、フェナントロリンなどが連結した配位子が好ましく、特にフェニルピリジン配位子、フェニルピラゾール配位子が好ましい。ここで、(ヘテロ)アリールとは、アリール基またはヘテロアリール基を表す。   As the ligand of the complex, a ligand in which a (hetero) aryl group such as a (hetero) arylpyridine ligand or a (hetero) arylpyrazole ligand and a pyridine, pyrazole, phenanthroline, or the like is connected is preferable. A pyridine ligand and a phenylpyrazole ligand are preferable. Here, (hetero) aryl represents an aryl group or a heteroaryl group.

燐光発光性低分子化合物として、具体的には、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム、トリス(2−フェニルピリジン)ルテニウム、トリス(2−フェニルピリジン)パラジウム、ビス(2−フェニルピリジン)白金、トリス(2−フェニルピリジン)オスミウム、トリス(2−フェニルピリジン)レニウム、オクタエチル白金ポルフィリン、オクタフェニル白金ポルフィリン、オクタエチルパラジウムポルフィリン、オクタフェニルパラジウムポルフィリン等が挙げられる。   Specific examples of the phosphorescent low molecular weight compound include tris (2-phenylpyridine) iridium, tris (2-phenylpyridine) ruthenium, tris (2-phenylpyridine) palladium, bis (2-phenylpyridine) platinum, and tris. (2-phenylpyridine) osmium, tris (2-phenylpyridine) rhenium, octaethyl platinum porphyrin, octaphenyl platinum porphyrin, octaethyl palladium porphyrin, octaphenyl palladium porphyrin, and the like.

発光性低分子化合物として用いる化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。発光性低分子化合物の分子量が小さ過ぎると、耐熱性が著しく低下したり、ガス発生の原因となったり、膜を形成した際の膜質の低下を招いたり、或いはマイグレーションなどによる有機電界発光素子のモルフォロジー変化を来したりする場合がある。一方、発光性低分子化合物の分子量が大き過ぎると、発光性低分子化合物の精製が困難となってしまったり、溶媒に溶解させる際に時間を要したりする傾向がある。   The molecular weight of the compound used as the light-emitting low molecular compound is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, still more preferably 3000 or less, and usually The range is 100 or more, preferably 200 or more, more preferably 300 or more, and still more preferably 400 or more. If the molecular weight of the light-emitting low molecular weight compound is too small, the heat resistance is remarkably lowered, gas generation is caused, the film quality is deteriorated when the film is formed, or the organic electroluminescent device is caused by migration or the like. It may cause morphological changes. On the other hand, if the molecular weight of the luminescent low molecular weight compound is too large, it tends to be difficult to purify the luminescent low molecular weight compound, or it may take time to dissolve in the solvent.

なお、上述した発光性低分子化合物は、いずれか1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
[電荷輸送性低分子化合物]
本発明における電荷輸送性低分子化合物とは、正孔輸送性や電子輸送性などの電荷輸送性を有する化合物であって、単一の分子量で規定される化合物である。
In addition, only 1 type may be used for the luminescent low molecular weight compound mentioned above, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
[Charge transporting low molecular weight compounds]
The charge transporting low molecular weight compound in the present invention is a compound having a charge transporting property such as a hole transporting property or an electron transporting property, and is a compound defined by a single molecular weight.

本発明においては、電荷輸送性低分子化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
発光層において、発光性低分子化合物をドーパント材料とし、電荷輸送性低分子化合物をホスト材料として用いることが好ましい。
電荷輸送性低分子化合物は、従来有機電界発光素子の発光層に用いられている化合物であればよく、特に発光層のホスト材料として使用されている化合物が好ましい。
In the present invention, only one kind of charge transporting low molecular weight compound may be used, or two or more kinds may be used in any combination and ratio.
In the light emitting layer, it is preferable to use a light emitting low molecular weight compound as a dopant material and a charge transporting low molecular weight compound as a host material.
The charge transporting low molecular weight compound may be a compound that has been conventionally used in a light emitting layer of an organic electroluminescence device, and particularly a compound that is used as a host material of the light emitting layer.

電荷輸送性低分子化合物として具体的には、芳香族アミン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、オリゴチオフェン系化合物、ポリチオフェン系化合物、ベンジルフェニル系化合物、フルオレン基で3級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン系化合物、シラザン系化合物、シラナミン系化合物、ホスファミン系化合物、キナクリドン系化合物、アントラセン系化合物、ピレン系化合物、カルバゾール系化合物、ピリジン系化合物、フェナントロリン系化合物、オキサジアゾール系化合物、シロール系化合物等が挙げられる。   Specific examples of charge transporting low molecular weight compounds include aromatic amine compounds, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, oligothiophene compounds, polythiophene compounds, benzylphenyl compounds, and compounds in which tertiary amines are linked by a fluorene group. , Hydrazone compounds, silazane compounds, silanamine compounds, phosphamine compounds, quinacridone compounds, anthracene compounds, pyrene compounds, carbazole compounds, pyridine compounds, phenanthroline compounds, oxadiazole compounds, silole compounds Etc.

例えば、4,4'−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルで
代表わされる2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4',4''−トリス(1−ナフ
チルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン系化合物(J.Lumin.,72−74巻、985頁、1997年)、トリフェニルア
ミンの四量体から成る芳香族アミン系化合物(Chem.Commun.,2175頁、1996年)、2,2',7,7'−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9'−スピ
ロビフルオレン等のフルオレン系化合物(Synth.Metals,91巻、209頁、1997年)、4,4'−N,N'−ジカルバゾールビフェニルなどのカルバゾール系化合物、2−(4−ビフェニリル)−5−(p−ターシャルブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(tBu−PBD)、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール(BND)などのオキサジアゾール系化合物、2,5−ビス(6’−(2’,2”−ビピリジル))−1,1−ジメチル−3,4−ジフェニルシロール(PyPySPyPy)等のシロール系化合物、バソフェナントロリン(BPhen)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP、バソクプロイン)などのフェナントロリン系化合物等が挙げられる。
For example, two or more condensed aromatic rings including two or more tertiary amines represented by 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl are substituted with nitrogen atoms. Aromatic amine compounds having a starburst structure (J. Lumin, etc.) such as aromatic diamines (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), 4,4 ′, 4 ″ -tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine, etc. , 72-74, 985, 1997), an aromatic amine compound comprising a tetramer of triphenylamine (Chem. Commun., 2175, 1996), 2, 2 ′, 7, 7 ′. -Fluorene compounds such as tetrakis- (diphenylamino) -9,9'-spirobifluorene (Synth. Metals, 91, 209, 1997), 4,4'-N, N'- Carbazole compounds such as carbazole biphenyl, 2- (4-biphenylyl) -5- (p-tertiarybutylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (tBu-PBD), 2,5-bis (1- Oxadiazole compounds such as naphthyl) -1,3,4-oxadiazole (BND), 2,5-bis (6 ′-(2 ′, 2 ″ -bipyridyl))-1,1-dimethyl-3 , 4-diphenylsilol (PyPySPyPy) and other silole compounds, bathophenanthroline (BPhen), 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP, bathocuproin) and other phenanthroline compounds It is done.

(溶媒)
また、溶媒は、発光性低分子化合物及び電荷輸送性低分子化合物が良好に溶解する溶媒であれば特に限定されない。
溶媒の溶解性としては、常温・常圧下で、発光性低分子化合物および電荷輸送性低分子化合物を、各々、通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、さらに好ましくは0.1重量%以上溶解することが好ましい。
(solvent)
Moreover, a solvent will not be specifically limited if it is a solvent in which a luminescent low molecular weight compound and a charge transporting low molecular weight compound dissolve favorably.
The solubility of the solvent is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, and more preferably 0% of the light-emitting low-molecular compound and the charge-transporting low-molecular compound at normal temperature and normal pressure, respectively. It is preferable to dissolve 1% by weight or more.

以下に溶媒の具体例を挙げるが、本発明の効果を損なわない限り、これらに限定されるものではない。
例えば、n−デカン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン、ビシクロヘキサン等のアルカン類;トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール、ジフェニルエーテル等の芳香族エーテル類;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル類、シクロヘキサノン、シクロオクタノン、フェンコン等の脂環族ケトン類;シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環族アルコール類;メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン類;ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル類;等が挙げられる。
Although the specific example of a solvent is given to the following, as long as the effect of this invention is not impaired, it is not limited to these.
For example, alkanes such as n-decane, cyclohexane, ethylcyclohexane, decalin, and bicyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, and tetralin; halogenated aroma such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene Group hydrocarbons: 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethyl Aromatic ethers such as anisole and diphenyl ether; aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and n-butyl benzoate; Alicyclic ketones such as Sanone, Cyclooctanone and Fencon; Alicyclic alcohols such as cyclohexanol and cyclooctanol; Aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone; Aliphatic alcohols such as butanol and hexanol; Ethylene And aliphatic ethers such as glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA).

中でも好ましくは、アルカン類や芳香族炭化水素類である。これらの溶媒は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
また、より均一な膜を得るためには、成膜直後の液膜から溶媒が適当な速度で蒸発することが好ましい。このため、溶媒の沸点は通常80℃以上、好ましくは100℃以上、より好ましくは120℃以上、また、通常270℃以下、好ましくは250℃以下、より好ましくは沸点230℃以下である。
Of these, alkanes and aromatic hydrocarbons are preferable. One of these solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio.
In order to obtain a more uniform film, it is preferable that the solvent evaporates from the liquid film immediately after the film formation at an appropriate rate. For this reason, the boiling point of the solvent is usually 80 ° C or higher, preferably 100 ° C or higher, more preferably 120 ° C or higher, and usually 270 ° C or lower, preferably 250 ° C or lower, more preferably 230 ° C or lower.

溶媒の使用量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、発光層用組成物100重量部に対して、好ましくは10重量部以上、より好ましくは50重量部以上、特に好ましくは80重量部以上、また、好ましくは99.95重量部以下、より好ましくは99.9重量部以下、特に好ましくは99.8重量部以下である。含有量が下限を下回ると、粘性が高くなりすぎ、成膜作業性が低下する可能性がある。一方、上限を上回ると、成膜後、溶媒を除去して得られる膜の厚みが稼げなくなるため、成膜が困難となる傾向がある。なお、発光層用組成物として2種以上の溶媒を混合して用いる場合には、これらの
溶媒の合計がこの範囲を満たすようにする。
The amount of the solvent used is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is preferably 10 parts by weight or more, more preferably 50 parts by weight or more, particularly preferably with respect to 100 parts by weight of the composition for the light emitting layer. 80 parts by weight or more, preferably 99.95 parts by weight or less, more preferably 99.9 parts by weight or less, and particularly preferably 99.8 parts by weight or less. When the content is lower than the lower limit, the viscosity becomes too high, and the film forming workability may be lowered. On the other hand, if the value exceeds the upper limit, the film thickness obtained by removing the solvent after film formation cannot be obtained, so that film formation tends to be difficult. In addition, when mixing and using 2 or more types of solvents as a composition for light emitting layers, it is made for the sum total of these solvents to satisfy | fill this range.

また、本発明における発光層用組成物は、成膜性の向上を目的として、レベリング剤や消泡剤等の各種添加剤を含有してもよい。
(発光層の形成方法)
本発明における発光層の形成方法は、成膜性に優れる点で、湿式成膜法で行うことが好ましい。
Moreover, the composition for light emitting layers in this invention may contain various additives, such as a leveling agent and an antifoamer, for the purpose of improving film formability.
(Method for forming light emitting layer)
The method for forming a light emitting layer in the present invention is preferably performed by a wet film forming method from the viewpoint of excellent film forming properties.

発光層を製造するための発光層用組成物の塗布後、得られた塗膜を乾燥し、発光層用溶媒を除去することにより、発光層が形成される。湿式成膜法の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、例えば、前記の[成膜方法]で記載した、本発明における湿式成膜法が挙げられ、中でも好ましくは、スピンコート法及びインクジェット法である。   After application of the composition for the light emitting layer for producing the light emitting layer, the obtained coating film is dried and the solvent for the light emitting layer is removed to form the light emitting layer. The method of the wet film formation method is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. For example, the wet film formation method in the present invention described in the above [Film formation method] can be mentioned. Coating method and inkjet method.

発光層の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常3nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常200nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。発光層の膜厚が、薄すぎると膜に欠陥が生じる可能性があり、厚すぎると駆動電圧が上昇する可能性がある。
<有機電界発光素子の構成>
以下に、本発明の方法で製造される有機電界発光素子の層構成およびその一般的形成方法等について、図1を参照して説明する。
The thickness of the light emitting layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less. If the light emitting layer is too thin, defects may occur in the film, and if it is too thick, the driving voltage may increase.
<Configuration of organic electroluminescent element>
Below, the layer structure of the organic electroluminescent element manufactured with the method of this invention, its general formation method, etc. are demonstrated with reference to FIG.

図1は本発明にかかる有機電界発光素子の構造例を示す断面の模式図であり、図1において、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は正孔阻止層、7は電子輸送層、8は電子注入層、9は陰極を各々表す。
(基板)
基板は有機電界発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板が好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機電界発光素子が劣化することがあるので好ましくない。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structural example of an organic electroluminescent device according to the present invention. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, 5 Represents a light-emitting layer, 6 represents a hole blocking layer, 7 represents an electron transport layer, 8 represents an electron injection layer, and 9 represents a cathode.
(substrate)
The substrate serves as a support for the organic electroluminescence device, and quartz or glass plates, metal plates or metal foils, plastic films, sheets, or the like are used. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, polysulfone or the like is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent element may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate, which is not preferable. For this reason, a method of providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also a preferable method.

(陽極)
陽極2は発光層側の層への正孔注入の役割を果たすものである。
この陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウムおよび/またはスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅等のハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。
(anode)
The anode 2 serves to inject holes into the layer on the light emitting layer side.
This anode 2 is usually a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or It is composed of a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or polyaniline.

陽極2の形成は通常、スパッタリング法、真空蒸着法等により行われることが多い。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極2を形成する場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散させて、基板上に塗布することにより陽極2を形成することもできる。さらに、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板上に薄膜を形成したり、基板上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。   In general, the anode 2 is often formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. When forming the anode 2 using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, conductive polymer fine powder, etc., an appropriate binder resin solution It is also possible to form the anode 2 by dispersing it and applying it onto the substrate. Further, in the case of a conductive polymer, a thin film can be directly formed on the substrate by electrolytic polymerization, or the anode 2 can be formed by applying a conductive polymer on the substrate (Appl. Phys. Lett., 60, 2711, 1992).

陽極2は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすること
も可能である。
陽極2の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが好ましい。この場合、陽極2の厚みは通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下程度である。不透明でよい場合は陽極2の厚みは任意であり、陽極2は基板と同一でもよい。また、さらには、上記の陽極2の上に異なる導電材料を積層することも可能である。
The anode 2 usually has a single-layer structure, but it can also have a laminated structure made of a plurality of materials if desired.
The thickness of the anode 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 1000 nm or less, preferably about 500 nm or less. When it may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary, and the anode 2 may be the same as the substrate. Furthermore, it is also possible to laminate different conductive materials on the anode 2 described above.

陽極2に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的に、陽極2表面を紫外線(UV)/オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることは好ましい。
[正孔注入層]
正孔注入層は、陽極2から発光層へ正孔を輸送する層であり、通常、陽極2上に形成される。
For the purpose of removing impurities adhering to the anode 2 and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the surface of the anode 2 is treated with ultraviolet (UV) / ozone, or with oxygen plasma or argon plasma. It is preferable to do.
[Hole injection layer]
The hole injection layer is a layer that transports holes from the anode 2 to the light emitting layer, and is usually formed on the anode 2.

本発明に係る正孔注入層の形成方法は真空蒸着法でも、湿式成膜法でもよく、特に制限はないが、ダークスポット低減の観点から正孔注入層を湿式成膜法により形成することが好ましい。
正孔注入層の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下の範囲である。
The method for forming the hole injection layer according to the present invention may be a vacuum vapor deposition method or a wet film formation method, and is not particularly limited. However, from the viewpoint of reducing dark spots, the hole injection layer may be formed by a wet film formation method. preferable.
The thickness of the hole injection layer is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less.

<湿式成膜法による正孔注入層の形成>
湿式成膜により正孔注入層を形成する場合、通常は、正孔注入層を構成する材料を適切な溶剤(正孔注入層用溶剤)と混合して成膜用の組成物(正孔注入層形成用組成物)を調製し、この正孔注入層形成用組成物を適切な手法により、正孔注入層の下層に該当する層(通常は、陽極)上に塗布して成膜し、乾燥することにより正孔注入層を形成する。
<Formation of hole injection layer by wet film formation method>
When the hole injection layer is formed by wet film formation, the material for forming the hole injection layer is usually mixed with an appropriate solvent (hole injection layer solvent) to form a composition for film formation (hole injection). Layer forming composition), and applying this hole injection layer forming composition onto a layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer (usually an anode) by an appropriate technique, A hole injection layer is formed by drying.

(正孔輸送性化合物)
正孔注入層形成用組成物は通常、正孔注入層の構成材料として正孔輸送性化合物および溶剤を含有する。
正孔輸送性化合物は、通常、有機電界発光素子の正孔注入層に使用される、正孔輸送性を有する化合物であれば、重合体などの高分子化合物であっても、単量体などの低分子化合物であってもよいが、高分子化合物であることが好ましい。
(Hole transporting compound)
The composition for forming a hole injection layer usually contains a hole transporting compound and a solvent as constituent materials of the hole injection layer.
As long as the hole transporting compound is a compound having a hole transporting property, which is usually used in a hole injection layer of an organic electroluminescence device, a monomer or the like may be a polymer compound or the like. Although it may be a low molecular weight compound, it is preferably a high molecular weight compound.

また、正孔輸送性化合物としては、陽極2から正孔注入層への電荷注入障壁の観点から4.5eV〜6.0eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物が好ましい。
そのため、正孔輸送性化合物としては、前記の正孔輸送材料を用いて形成することが好ましい。前記の正孔輸送材料以外のものを用いる場合、正孔輸送性化合物の例としては、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で3級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。
As the hole transporting compound, a compound having an ionization potential of 4.5 eV to 6.0 eV from the viewpoint of a charge injection barrier from the anode 2 to the hole injection layer is preferable.
Therefore, the hole transporting compound is preferably formed using the above hole transporting material. In the case of using a material other than the above-described hole transporting material, examples of the hole transporting compound include aromatic amine derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, polythiophene derivatives, benzylphenyl derivatives, and fluorene groups that are tertiary. Examples include amine-linked compounds, hydrazone derivatives, silazane derivatives, silanamine derivatives, phosphamine derivatives, quinacridone derivatives, polyaniline derivatives, polypyrrole derivatives, polyphenylene vinylene derivatives, polythienylene vinylene derivatives, polyquinoline derivatives, polyquinoxaline derivatives, and carbon.

尚、本発明において誘導体とは、例えば、芳香族アミン誘導体を例にするならば、芳香族アミンそのもの及び芳香族アミンを主骨格とする化合物を含むものであり、重合体であっても、単量体であってもよい。
正孔注入層の材料として用いられる正孔輸送性化合物は、このような化合物のうち何れか1種を単独で含有していてもよく、2種以上を含有していてもよい。2種以上の正孔輸
送性化合物を含有する場合、その組み合わせは任意であるが、芳香族三級アミン高分子化合物1種または2種以上と、その他の正孔輸送性化合物1種または2種以上とを併用することが好ましい。
In the present invention, the derivative includes, for example, an aromatic amine derivative and includes an aromatic amine itself and a compound having an aromatic amine as a main skeleton. It may be a mer.
The hole transporting compound used as the material for the hole injection layer may contain any one of these compounds alone, or may contain two or more. When two or more hole transporting compounds are contained, the combination thereof is arbitrary, but one or more aromatic tertiary amine polymer compounds and one or two other hole transporting compounds are used. It is preferable to use the above in combination.

上記例示した中でも非晶質性、可視光の透過率の点から、芳香族アミン化合物が好ましく、特に芳香族三級アミン化合物が好ましい。ここで、芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。
芳香族三級アミン化合物の種類は特に制限されないが、表面平滑化効果による均一な発光の点から、重量平均分子量が1000以上、1000000以下の高分子化合物(繰り返し単位が連なる重合型化合物)がさらに好ましい。芳香族三級アミン高分子化合物の好ましい例として、下記式(I)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物が挙げられる。
Among the above-mentioned examples, an aromatic amine compound is preferable from the viewpoint of amorphousness and visible light transmittance, and an aromatic tertiary amine compound is particularly preferable. Here, the aromatic tertiary amine compound is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine.
The type of the aromatic tertiary amine compound is not particularly limited, but from the viewpoint of uniform light emission due to the surface smoothing effect, a polymer compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less (a polymerizable compound in which repeating units are linked) is further included. preferable. Preferable examples of the aromatic tertiary amine polymer compound include a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (I).

(式(I)中、ArおよびArは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ar〜Arは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Yは、下記の連結基群の中から選ばれる連結基を表す。また、Ar〜Arのうち、同一のN原子に結合する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい。 (In Formula (I), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 3 to Ar 5 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Represents a linking group selected from the group of linking groups, and among Ar 1 to Ar 5 , two groups bonded to the same N atom may be bonded to each other to form a ring.

(上記各式中、Ar〜Ar16は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子または任意の置換基を表す。))
Ar〜Ar16の芳香族炭化水素基および芳香族複素環基としては、高分子化合物の溶解性、耐熱性、正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピリジン環由来の基が好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環由来の
基がさらに好ましい。
(In said each formula, Ar < 6 > -Ar < 16 > represents each independently the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or the aromatic heterocyclic group which may have a substituent. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent.))
As the aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group of Ar 1 to Ar 16 , a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, a thiophene from the viewpoint of the solubility, heat resistance, hole injection / transport property of the polymer compound A group derived from a ring or a pyridine ring is preferred, and a group derived from a benzene ring or a naphthalene ring is more preferred.

Ar〜Ar16の芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の分子量としては、通常400以下、中でも250以下程度が好ましい。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基などが好ましい。
およびRが任意の置換基である場合、該置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シリル基、シロキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基などが挙げられる。
The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group of Ar 1 to Ar 16 may further have a substituent. The molecular weight of the substituent is usually 400 or less, preferably about 250 or less. As the substituent, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group and the like are preferable.
When R 1 and R 2 are optional substituents, examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a silyl group, a siloxy group, an aromatic hydrocarbon group, and an aromatic heterocyclic group. .

式(I)で表される繰り返し単位を有する芳香族三級アミン高分子化合物の具体例としては、国際公開第2005/089024号パンフレットに記載のものが挙げられる。
また、正孔輸送性化合物としては、ポリチオフェンの誘導体である3,4-ethylenedioxythiophene(3,4-エチレンジオキシチオフェン)を高分子量ポリスチレンスルホン酸中で重合してなる導電性ポリマー(PEDOT/PSS)もまた好ましい。また、このポリマーの末端をメタクリレート等でキャップしたものであってもよい。
Specific examples of the aromatic tertiary amine polymer compound having a repeating unit represented by the formula (I) include those described in International Publication No. 2005/089024.
In addition, as a hole transporting compound, a conductive polymer (PEDOT / PSS) obtained by polymerizing 3,4-ethylenedioxythiophene (3,4-ethylenedioxythiophene), which is a polythiophene derivative, in high molecular weight polystyrene sulfonic acid. Is also preferred. Moreover, the end of this polymer may be capped with methacrylate or the like.

正孔注入層形成用組成物中の、正孔輸送性化合物の濃度は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、膜厚の均一性の点で通常0.01重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、さらに好ましくは0.5重量%以上、また、通常70重量%以下、好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは50重量%以下である。この濃度が大きすぎると膜厚ムラが生じる可能性があり、また、小さすぎると成膜された正孔注入層に欠陥が生じる可能性がある。   The concentration of the hole transporting compound in the composition for forming a hole injection layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01% by weight or more, preferably in terms of film thickness uniformity. Is 0.1% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more, and usually 70% by weight or less, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less. If this concentration is too high, film thickness unevenness may occur, and if it is too low, defects may occur in the formed hole injection layer.

(電子受容性化合物)
正孔注入層形成用組成物は正孔注入層の構成材料として、電子受容性化合物を含有していることが好ましい。
電子受容性化合物については、前記(2−1.電子受容性化合物)の項で記載の通りである。好ましい例も同様である。
(Electron-accepting compound)
The composition for forming a hole injection layer preferably contains an electron accepting compound as a constituent material of the hole injection layer.
The electron accepting compound is as described in the section (2-1. Electron accepting compound). The preferable example is also the same.

(その他の構成材料)
正孔注入層の材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述の正孔輸送性化合物や電子受容性化合物に加えて、さらに、その他の成分を含有させてもよい。その他の成分の例としては、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などが挙げられる。なお、その他の成分は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
(Other components)
As a material for the hole injection layer, other components may be further contained in addition to the above-described hole transporting compound and electron accepting compound as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of other components include various light emitting materials, electron transporting compounds, binder resins, and coating property improving agents. In addition, only 1 type may be used for another component and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(溶剤)
湿式成膜法に用いる正孔注入層形成用組成物の溶剤のうち少なくとも1種は、上述の正孔注入層の構成材料を溶解しうる化合物であることが好ましい。また、この溶剤の沸点は通常110℃以上、好ましくは140℃以上、中でも200℃以上、通常400℃以下、中でも300℃以下であることが好ましい。溶剤の沸点が低すぎると、乾燥速度が速すぎ、膜質が悪化する可能性がある。また、溶剤の沸点が高すぎると乾燥工程の温度を高くする必要があし、他の層や基板に悪影響を与える可能性がある。
(solvent)
At least one of the solvents of the composition for forming a hole injection layer used in the wet film formation method is preferably a compound that can dissolve the constituent material of the hole injection layer. The boiling point of this solvent is usually 110 ° C. or higher, preferably 140 ° C. or higher, particularly 200 ° C. or higher, usually 400 ° C. or lower, and preferably 300 ° C. or lower. If the boiling point of the solvent is too low, the drying speed is too high and the film quality may be deteriorated. Further, if the boiling point of the solvent is too high, it is necessary to increase the temperature of the drying step, which may adversely affect other layers and the substrate.

溶剤として例えば、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アミド系溶剤などが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシ
ベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル、等が挙げられる。
Examples of the solvent include ether solvents, ester solvents, aromatic hydrocarbon solvents, amide solvents, and the like.
Examples of ether solvents include aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole , Phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, aromatic ethers such as 2,4-dimethylanisole, and the like.

エステル系溶剤としては、例えば、酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル、等が挙げられる。
芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、3−イロプロピルビフェニル、1,2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,4−ジイソプロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、メチルナフタレン等が挙げられる。
Examples of the ester solvent include aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and n-butyl benzoate.
Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include toluene, xylene, cyclohexylbenzene, 3-isopropylpropylphenyl, 1,2,3,4-tetramethylbenzene, 1,4-diisopropylbenzene, cyclohexylbenzene, and methylnaphthalene. Can be mentioned.

アミド系溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、等が挙げられる。
その他、ジメチルスルホキシド、等も用いることができる。
これらの溶剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で用いてもよい。
Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like.
In addition, dimethyl sulfoxide and the like can also be used.
These solvent may use only 1 type and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

(成膜方法)
正孔注入層形成用組成物を調製後、この組成物を湿式成膜により、正孔注入層の下層に該当する層(通常は、陽極2)上に塗布成膜し、乾燥することにより正孔注入層を形成する。
成膜工程における温度は、組成物中に結晶が生じることによる膜の欠損を防ぐため、10℃以上が好ましく、50℃以下が好ましくい。
(Film formation method)
After the composition for forming the hole injection layer is prepared, the composition is coated on the layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer (usually the anode 2) by wet film formation, and dried to form the composition. A hole injection layer is formed.
The temperature in the film forming step is preferably 10 ° C. or higher, and preferably 50 ° C. or lower, in order to prevent film loss due to the formation of crystals in the composition.

成膜工程における相対湿度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.01ppm以上、通常80%以下である。
成膜後、通常加熱等により正孔注入層形成用組成物の膜を乾燥させる。加熱工程において使用する加熱手段の例を挙げると、クリーンオーブン、ホットプレート、赤外線、ハロゲンヒーター、マイクロ波照射などが挙げられる。中でも、膜全体に均等に熱を与えるためには、クリーンオーブンおよびホットプレートが好ましい。
Although the relative humidity in a film-forming process is not limited unless the effect of this invention is impaired remarkably, it is 0.01 ppm or more normally and 80% or less normally.
After the film formation, the film of the composition for forming a hole injection layer is usually dried by heating or the like. Examples of the heating means used in the heating step include a clean oven, a hot plate, infrared rays, a halogen heater, microwave irradiation and the like. Among them, a clean oven and a hot plate are preferable in order to uniformly apply heat to the entire film.

加熱工程における加熱温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り、正孔注入層形成用組成物に用いた溶剤の沸点以上の温度で加熱することが好ましい。また、正孔注入層に用いた溶剤が2種類以上含まれている混合溶剤の場合、少なくとも1種類がその溶剤の沸点以上の温度で加熱されるのが好ましい。溶剤の沸点上昇を考慮すると、加熱工程においては、好ましくは120℃以上、好ましくは410℃以下で加熱することが好ましい。   The heating temperature in the heating step is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent used in the composition for forming a hole injection layer as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In the case of a mixed solvent containing two or more types of solvents used in the hole injection layer, at least one type is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent. In consideration of an increase in the boiling point of the solvent, the heating step is preferably performed at 120 ° C. or higher, preferably 410 ° C. or lower.

加熱工程において、加熱温度が正孔注入層形成用組成物の溶剤の沸点以上であり、かつ塗布膜の十分な不溶化が起こらなければ、加熱時間は限定されないが、好ましくは10秒以上、通常180分以下である。加熱時間が長すぎると他の層の成分が拡散する傾向があり、短すぎると正孔注入層が不均質になる傾向がある。加熱は2回に分けて行ってもよい。   In the heating step, the heating time is not limited as long as the heating temperature is not lower than the boiling point of the solvent of the composition for forming a hole injection layer and sufficient insolubilization of the coating film does not occur. Is less than a minute. If the heating time is too long, the components of the other layers tend to diffuse, and if it is too short, the hole injection layer tends to be inhomogeneous. Heating may be performed in two steps.

[正孔輸送層]
正孔輸送層は、前記[第二の有機層]の項で記載の材料、成膜方法で形成することができる。好ましい材料、及び方法も同様である。
{発光層}
発光層は、前記[発光層]の項で記載の材料、成膜方法で形成することができる。好ましい材料、及び方法も同様である。
[Hole transport layer]
The hole transport layer can be formed by the material and the film forming method described in the section [Second organic layer]. The preferred materials and methods are similar.
{Light emitting layer}
The light emitting layer can be formed by the material and film forming method described in the above section [Light emitting layer]. The preferred materials and methods are similar.

{正孔阻止層}
発光層と後述の電子注入層8との間に、正孔阻止層を設けてもよい。正孔阻止層は、発光層の上に、発光層の陰極側の界面に接するように積層される層である。
この正孔阻止層は、陽極2から移動してくる正孔を陰極に到達するのを阻止する役割と、陰極から注入された電子を効率よく発光層の方向に輸送する役割とを有する。
{Hole blocking layer}
A hole blocking layer may be provided between the light emitting layer and an electron injection layer 8 described later. The hole blocking layer is a layer stacked on the light emitting layer so as to be in contact with the cathode side interface of the light emitting layer.
This hole blocking layer has a role of blocking holes moving from the anode 2 from reaching the cathode and a role of efficiently transporting electrons injected from the cathode toward the light emitting layer.

正孔阻止層を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。このような条件を満たす正孔阻止層の材料としては、例えば、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報)などが挙げられる。更に、国際公開第2005−022962号公報に記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も、正孔阻止層の材料として好ましい。   The physical properties required for the material constituting the hole blocking layer include high electron mobility, low hole mobility, large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and excited triplet level (T1). It is expensive. Examples of the material for the hole blocking layer that satisfies such conditions include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum, and the like. Mixed-ligand complexes, metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolinato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives, etc. Triazole derivatives such as styryl compounds (JP-A-11-242996), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole (JP-A-7 -41759), phenanthroline derivatives such as bathocuproine (JP-A-10-79297), and the like. That. Furthermore, a compound having at least one pyridine ring substituted at the 2,4,6-positions described in International Publication No. 2005-022962 is also preferable as a material for the hole blocking layer.

なお、正孔阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
正孔阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成できる。
正孔阻止層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。
In addition, the material of a hole-blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of a hole-blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
The thickness of the hole blocking layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less.

{電子輸送層}
発光層と後述の電子注入層8の間に、電子輸送層を設けてもよい。
電子輸送層は、素子の発光効率を更に向上させることを目的として設けられるもので、電界を与えられた電極間において陰極から注入された電子を効率よく発光層の方向に輸送することができる化合物より形成される。
{Electron transport layer}
An electron transport layer may be provided between the light emitting layer and an electron injection layer 8 described later.
The electron transport layer is provided for the purpose of further improving the light emission efficiency of the device, and can efficiently transport electrons injected from the cathode between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer. Is formed.

電子輸送層に用いられる電子輸送性化合物としては、通常、陰極または電子注入層8からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物を用いる。このような条件を満たす化合物としては、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−ヒドロキシフラボン金属錯体、5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5645948号明細書)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。   As the electron transporting compound used for the electron transport layer, usually, the electron injection efficiency from the cathode or the electron injection layer 8 is high, and the injected electrons can be efficiently transported with high electron mobility. Use compounds. Examples of the compound satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole derivatives , Distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives, 3-hydroxyflavone metal complexes, 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compounds ( JP-A-6-207169), phenanthroline derivative (JP-A-5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N'-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide , N-type zinc sulfide, n-type zinc Such as emissions of zinc, and the like.

なお、電子輸送層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
電子輸送層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で
形成することができる。
電子輸送層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。
In addition, only 1 type may be used for the material of an electron carrying layer, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of an electron carrying layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
The thickness of the electron transport layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

{電子注入層}
電子注入層8は、陰極から注入された電子を効率良く発光層へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行なうには、電子注入層8を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属等が用いられ、その膜厚は通常0.1nm以上、5nm以下が好ましい。
{Electron injection layer}
The electron injection layer 8 plays a role of efficiently injecting electrons injected from the cathode into the light emitting layer. In order to perform electron injection efficiently, the material for forming the electron injection layer 8 is preferably a metal having a low work function. Examples include alkali metals such as sodium and cesium, alkaline earth metals such as barium and calcium, and the film thickness is preferably from 0.1 nm to 5 nm.

更に、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体に代表される有機電子輸送化合物に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特開2002−100478号公報、特開2002−100482号公報などに記載)ことにより、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。この場合の膜厚は、通常、5nm以上、中でも10nm以上が好ましく、また、通常200nm以下、中でも100nm以下が好ましい。   Furthermore, an organic electron transport compound represented by a metal complex such as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium, or rubidium ( (As described in JP-A-10-270171, JP-A-2002-1000047, JP-A-2002-1000048, etc.), it is possible to improve the electron injection / transport properties and achieve excellent film quality. preferable. In this case, the film thickness is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

なお、電子注入層8の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
電子注入層8の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
{陰極}
陰極は、発光層側の層(電子注入層8または発光層など)に電子を注入する役割を果たすものである。
In addition, the material of the electron injection layer 8 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of the electron injection layer 8. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
{cathode}
The cathode plays a role of injecting electrons into a layer (such as the electron injection layer 8 or the light emitting layer) on the light emitting layer side.

陰極の材料としては、前記の陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率良く電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。   As the cathode material, the material used for the anode 2 can be used. However, a metal having a low work function is preferable for efficient electron injection. For example, tin, magnesium, indium, calcium A suitable metal such as aluminum or silver or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

なお、陰極の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
陰極の膜厚は、通常、陽極2と同様である。
さらに、低仕事関数金属から成る陰極を保護する目的で、この上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層すると、素子の安定性が増すので好ましい。この目的のために、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。なお、これらの材料は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
In addition, only 1 type may be used for the material of a cathode, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
The thickness of the cathode is usually the same as that of the anode 2.
Further, for the purpose of protecting the cathode made of a low work function metal, it is preferable to further stack a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere because the stability of the device is increased. For this purpose, for example, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold and platinum are used. In addition, these materials may be used only by 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

{その他の層}
本発明に係る有機電界発光素子は、その趣旨を逸脱しない範囲において、別の構成を有していてもよい。例えば、その性能を損なわない限り、陽極2と陰極との間に、上記説明にある層の他に任意の層を有していてもよく、また、任意の層が省略されていてもよい。
<電子阻止層>
有していてもよい層としては、例えば、電子阻止層が挙げられる。
{Other layers}
The organic electroluminescent element according to the present invention may have another configuration without departing from the gist thereof. For example, as long as the performance is not impaired, an arbitrary layer may be provided between the anode 2 and the cathode in addition to the layers described above, and an arbitrary layer may be omitted.
<Electron blocking layer>
Examples of the layer that may be included include an electron blocking layer.

電子阻止層は、正孔注入層または正孔輸送層と発光層との間に設けられ、発光層から移動してくる電子が正孔注入層に到達するのを阻止することで、発光層内で正孔と電子との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層内に閉じこめる役割と、正孔注入層から注入された正孔を効率よく発光層の方向に輸送する役割とがある。特に、発光材料として燐光材料を用いたり、青色発光材料を用いたりする場合は電子阻止層を設けることが効果的である。   The electron blocking layer is provided between the hole injecting layer or the hole transporting layer and the light emitting layer, and prevents electrons moving from the light emitting layer from reaching the hole injecting layer. Increases the recombination probability of holes and electrons, and has the role of confining the generated excitons in the light-emitting layer, and the role of efficiently transporting holes injected from the hole injection layer toward the light-emitting layer. . In particular, when a phosphorescent material or a blue light emitting material is used as the light emitting material, it is effective to provide an electron blocking layer.

電子阻止層に求められる特性としては、正孔輸送性が高く、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いこと等が挙げられる。更に、本発明においては、発光層を本発明に係る有機層として湿式成膜法で作製する場合には、電子阻止層にも湿式成膜の適合性が求められる。このような電子阻止層に用いられる材料としては、F8−TFBに代表されるジオクチルフルオレンとトリフェニルアミンの共重合体(国際公開第2004/084260号パンフレット)等が挙げられる。   The characteristics required for the electron blocking layer include high hole transportability, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and a high excited triplet level (T1). Furthermore, in the present invention, when the light emitting layer is formed as an organic layer according to the present invention by a wet film formation method, the electron blocking layer is also required to be compatible with the wet film formation. Examples of the material used for such an electron blocking layer include a copolymer of dioctylfluorene and triphenylamine typified by F8-TFB (International Publication No. 2004/084260).

なお、電子阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
電子阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
さらに陰極と発光層または電子輸送層との界面に、例えばフッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、酸化リチウム(Li2O)、炭酸セシウム(II)(CsCO3)等で形成された極薄絶縁膜(0.1〜5nm)を挿入することも、素子の効率
を向上させる有効な方法である(Applied Physics Letters, 1997年, Vol.70, pp.152;特開平10−74586号公報;IEEE Transactions on Electron Devices, 1997年,Vol.44, pp.1245;SID 04 Digest, pp.154等参照)。
In addition, the material of an electron blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of an electron blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
Further, at the interface between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer, for example, lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), lithium oxide (Li 2 O), cesium carbonate (II) (CsCO 3 ), etc. are formed. It is also an effective method to improve the efficiency of the device by inserting a very thin insulating film (0.1 to 5 nm) (Applied Physics Letters, 1997, Vol. 70, pp. 152; No. 74586; see IEEE Transactions on Electron Devices, 1997, Vol. 44, pp. 1245; SID 04 Digest, pp. 154, etc.).

また、以上説明した層構成において、基板以外の構成要素を逆の順に積層することも可能である。例えば、図1の層構成であれば、基板上に他の構成要素を陰極、電子注入層8、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極2の順に設けてもよい。
更には、少なくとも一方が透明性を有する2枚の基板の間に、基板以外の構成要素を積層することにより、本発明に係る有機電界発光素子を構成することも可能である。
Moreover, in the layer structure demonstrated above, it is also possible to laminate | stack components other than a board | substrate in reverse order. For example, in the case of the layer configuration of FIG. 1, the other components on the substrate are cathode, electron injection layer 8, electron transport layer, hole blocking layer, light emitting layer, hole transport layer, hole injection layer, anode 2 You may provide in order.
Furthermore, it is also possible to constitute the organic electroluminescent element according to the present invention by laminating components other than the substrate between two substrates, at least one of which is transparent.

また、基板以外の構成要素(発光ユニット)を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その場合には、各段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合は、それら2層)の代わりに、例えば五酸化バナジウム(V25)等からなる電荷発生層(Carrier Generation Layer:CGL)を設けると、段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。 Further, a structure in which a plurality of components (light emitting units) other than the substrate are stacked in a plurality of layers (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) may be employed. In that case, instead of the interface layer between the steps (between the light emitting units) (when the anode is ITO and the cathode is Al, these two layers), for example, a charge made of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) or the like. When a generation layer (Carrier Generation Layer: CGL) is provided, a barrier between steps is reduced, which is more preferable from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage.

更には、本発明に係る有機電界発光素子は、単一の有機電界発光素子として構成してもよく、複数の有機電界発光素子がアレイ状に配置された構成に適用してもよく、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構成に適用してもよい。
また、上述した各層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、材料として説明した以外の成分が含まれていてもよい。
Furthermore, the organic electroluminescent device according to the present invention may be configured as a single organic electroluminescent device, or may be applied to a configuration in which a plurality of organic electroluminescent devices are arranged in an array. You may apply to the structure by which the cathode is arrange | positioned at XY matrix form.
Each layer described above may contain components other than those described as materials unless the effects of the present invention are significantly impaired.

[有機ELディスプレイ及び有機EL照明]
本発明の有機ELディスプレイ及び有機EL照明は、上述のような本発明の有機電界発光素子を備えるものである。有機ELディスプレイの型式や構造については特に制限はな
く、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。
例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社、平成16年8月20日発行、時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような方法で、本発明の有機ELディスプレイ及び有機EL照明を形成することができる。
[Organic EL display and organic EL lighting]
The organic EL display and the organic EL illumination of the present invention are provided with the organic electroluminescent element of the present invention as described above. There is no restriction | limiting in particular about the model and structure of an organic electroluminescent display, It can assemble in accordance with a conventional method using the organic electroluminescent element of this invention.
For example, the organic EL display and the organic EL display of the present invention can be obtained by the method described in “Organic EL display” (Ohm, August 20, 2004, published by Shizushi Tokito, Chiba Adachi, Hideyuki Murata). EL illumination can be formed.

以下、実施例を示して本発明について更に具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明はその要旨を逸脱しない限り任意に変更して実施できる。
[電流−電圧特性の評価]
(参考例1)
ガラス基板上に、インジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を120nmの厚さに堆積したもの(三容真空社製、スパッタ成膜品)を、通常のフォトリソグラフィー技術と塩酸エッチングを用いて2mm幅のストライプにパターニングして陽極を形成した。パターン形成したITO基板を、界面活性剤水溶液による超音波洗浄、超純水による水洗、超純水による超音波洗浄、超純水による水洗の順で洗浄後、圧縮空気で乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and the present invention can be arbitrarily modified and implemented without departing from the gist thereof.
[Evaluation of current-voltage characteristics]
(Reference Example 1)
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film deposited on a glass substrate to a thickness of 120 nm (manufactured by Sanyo Vacuum Co., Ltd., sputtered film) using ordinary photolithography technology and hydrochloric acid etching An anode was formed by patterning into a stripe having a width of 2 mm. The patterned ITO substrate is cleaned in the order of ultrasonic cleaning with an aqueous surfactant solution, water cleaning with ultrapure water, ultrasonic cleaning with ultrapure water, and water cleaning with ultrapure water, followed by drying with compressed air, and finally UV irradiation. Ozone cleaning was performed.

下記式(H1)に示すアリールアミンポリマー(4.5重量%)と、下記式(A1)に示す4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート0.09重量%(アリールアミンポリマーに対して20重量%)を
、溶媒としての安息香酸エチルに溶解した後、孔径0.2μmのPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)製メンブレンフィルターを用いて濾過し、塗布組成物を作製した。この塗布組成物を上記基板上にスピンコートした。スピンコートは気温23℃、相対湿度60%の大気中で行い、スピナ回転数は1500rpm、スピナ時間は30秒とした。スピンコート後、オーブンにて常圧大気雰囲気中、230℃で1時間加熱した。このようにして、約100nmの正孔注入層を形成した。
Arylamine polymer (4.5% by weight) represented by the following formula (H1) and 0.09% by weight (aryl) of 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate represented by the following formula (A1) 20 wt% with respect to the amine polymer) was dissolved in ethyl benzoate as a solvent, and then filtered using a PTFE (polytetrafluoroethylene) membrane filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a coating composition. This coating composition was spin coated on the substrate. The spin coating was performed in an air atmosphere at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 60%, the spinner rotation speed was 1500 rpm, and the spinner time was 30 seconds. After spin coating, it was heated at 230 ° C. for 1 hour in an oven at atmospheric pressure. In this way, a hole injection layer of about 100 nm was formed.

上記正孔注入層を形成する化合物は式(H2)で表され、仕込み比から計算されるハロゲン原子濃度は6.6重量%である。 The compound forming the hole injection layer is represented by the formula (H2), and the halogen atom concentration calculated from the charging ratio is 6.6% by weight.

続いて、陰極蒸着用のマスクとして2mm幅のストライプ状シャドーマスクを、陽極のITOストライプと直交するように素子に密着させた。油回転ポンプにより装置の粗排気を行った後、クライオポンプを用いて装置内の真空度が3×10-4Pa以下になるまで
排気した。
Subsequently, a 2 mm wide striped shadow mask was brought into close contact with the element so as to be orthogonal to the anode ITO stripe as a mask for cathode vapor deposition. After roughly evacuating the apparatus with an oil rotary pump, the apparatus was evacuated with a cryopump until the degree of vacuum in the apparatus was 3 × 10 −4 Pa or less.

陰極としてアルミニウムをモリブデンボートにより加熱し、蒸着速度0.5〜5Å/秒、真空度2〜3×10-4Paで制御して膜厚80nmのアルミニウム層を形成した。以
上の陰極の蒸着時の基板温度は室温に保持した。
以上の様にして、2mm×2mmのサイズの素子面積を有する単層素子が得られた。
得られた単層素子を2400型ソースメーター(Keithley社製)に接続し、電圧を順次印加していき電流値を読み取った。
Aluminum was heated as a cathode by a molybdenum boat, and an aluminum layer having a thickness of 80 nm was formed by controlling the deposition rate at 0.5 to 5 liters / second and the degree of vacuum at 2 to 3 × 10 −4 Pa. The substrate temperature during vapor deposition of the cathode was kept at room temperature.
As described above, a single layer element having an element area of 2 mm × 2 mm was obtained.
The obtained single layer element was connected to a 2400 type source meter (manufactured by Keithley), and voltage was sequentially applied to read the current value.

この素子の電流-電圧特性を図2に表す。
図2に示すが如く、ハロゲン原子濃度が2重量%以上である層を有する参考例1の素子は、参考比較例1の素子に比べて、低い電圧で電流が流れた。このことから、ハロゲン原子濃度を高めることで、層の抵抗を低減できることが明らかとなった。
[比較参考例1]
前記式(A1)に示す化合物の濃度を、前記式(H1)で示す化合物の3重量%とした以外は参考例1と同様にして、正孔注入層を有する素子を作成し、その電流-電圧特性を
測定した。
The current-voltage characteristic of this element is shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the device of Reference Example 1 having a layer having a halogen atom concentration of 2% by weight or more passed a current at a lower voltage than the device of Reference Comparative Example 1. From this, it became clear that the resistance of the layer can be reduced by increasing the halogen atom concentration.
[Comparative Reference Example 1]
A device having a hole injection layer was prepared in the same manner as in Reference Example 1 except that the concentration of the compound represented by the formula (A1) was changed to 3% by weight of the compound represented by the formula (H1). Voltage characteristics were measured.

上記正孔注入層の仕込み比から計算されるハロゲン原子濃度は1.1重量%である。この素子の電流電圧特性を図2に表す。
<有機電界発光素子の作製>
(実施例1)
図1に示す有機電界発光素子を作製した。
The halogen atom concentration calculated from the charge ratio of the hole injection layer is 1.1% by weight. The current-voltage characteristics of this element are shown in FIG.
<Production of organic electroluminescence device>
Example 1
The organic electroluminescent element shown in FIG. 1 was produced.

ガラス基板1上に、インジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を120nmの厚さに堆積したもの(三容真空社製、スパッタ成膜品)を、通常のフォトリソグラフィー技術と塩酸エッチングを用いて2mm幅のストライプにパターニングして陽極2を形成した。パターン形成したITO基板を、界面活性剤水溶液による超音波洗浄、超純水による水洗、超純水による超音波洗浄、超純水による水洗の順で洗浄後、圧縮空気で乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。   An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film deposited on a glass substrate 1 with a thickness of 120 nm (manufactured by Sanyo Vacuum Co., Ltd., sputtered film product) using ordinary photolithography technology and hydrochloric acid etching Then, the anode 2 was formed by patterning into stripes having a width of 2 mm. The patterned ITO substrate is cleaned in the order of ultrasonic cleaning with an aqueous surfactant solution, water cleaning with ultrapure water, ultrasonic cleaning with ultrapure water, and water cleaning with ultrapure water, followed by drying with compressed air, and finally UV irradiation. Ozone cleaning was performed.

まず、下の構造式(P1)に示す繰り返し構造を有する正孔輸送性高分子材料(重量平均分子量(Mw)=63600、数平均分子量(Mn)=35100、分散度(Mw/Mn)=1.81)、構造式(A1)に示す4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨ
ードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラートおよび安息香酸エチルを含有する正孔注入層形成用組成物を調製した。この組成物を下記条件で陽極2上にスピンコートにより成膜して、加熱により不溶化させることで膜厚30nmの正孔注入層3(第一の有機層)を得た。
First, a hole transporting polymer material having a repeating structure represented by the following structural formula (P1) (weight average molecular weight (Mw) = 63600, number average molecular weight (Mn) = 35100, dispersity (Mw / Mn) = 1 .81), a composition for forming a hole injection layer containing 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate represented by the structural formula (A1) and ethyl benzoate was prepared. This composition was formed into a film on the anode 2 by spin coating under the following conditions and insolubilized by heating to obtain a hole injection layer 3 (first organic layer) having a thickness of 30 nm.

<正孔注入層形成用組成物>
溶媒 安息香酸エチル
組成物濃度 P1:2.0重量%
A1:0.4重量%
<正孔注入層3の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 大気中
加熱条件 大気中 230℃ 3時間
引き続き、以下の正孔輸送性高分子材料(P2)を含有する有機電界発光素子用組成物を調製し、下記の条件でスピンコートにより成膜して、加熱により不溶化させることにより膜厚20nmの正孔輸送層4(第二の有機層)を形成した。
<Composition for forming hole injection layer>
Solvent Ethyl benzoate Composition concentration P1: 2.0% by weight
A1: 0.4% by weight
<Film formation conditions for hole injection layer 3>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coating atmosphere In-air heating conditions In-air 230 ° C. 3 hours Subsequently, an organic electroluminescent element composition containing the following hole-transporting polymer material (P2) was prepared, and the conditions were as follows: A hole transport layer 4 (second organic layer) having a thickness of 20 nm was formed by film formation by spin coating and insolubilization by heating.

<正孔輸送層形成用組成物>
溶媒 トルエン
固形分濃度 0.4重量%
<正孔輸送層4の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 窒素中
加熱条件 窒素中、230℃、1時間
次に、発光層5を形成するにあたり、以下に示す有機化合物(C1)、および(D1)を用いて下記に示す有機電界発光素子組成物を調製し、以下に示す条件で正孔輸送層4上にスピンコートして膜厚40nmで発光層5を得た。
<Composition for forming hole transport layer>
Solvent Toluene Solid concentration 0.4 wt%
<Film formation conditions for hole transport layer 4>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coating atmosphere In nitrogen Heating condition In nitrogen, 230 ° C., 1 hour Next, in forming the light emitting layer 5, the following is shown using the organic compounds (C1) and (D1) shown below An organic electroluminescent element composition was prepared and spin coated on the hole transport layer 4 under the conditions shown below to obtain a light emitting layer 5 with a film thickness of 40 nm.

<発光層形成用組成物>
溶媒 トルエン
組成物濃度 C1:0.80重量%
D1:0.08重量%
<発光層5の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 窒素中
加熱条件 減圧下(0.1MPa)、130℃、1時間
ここで、発光層5までを成膜した基板を、窒素グローブボックスに連結された真空蒸着装置内に移し、装置内の真空度が1.7×10-4Pa以下になるまで排気した後、BA
lq(C2)を真空蒸着法によって積層し正孔阻止層6を得た。蒸着速度を0.5〜1.1Å/秒の範囲で制御し、発光層5の上に積層して膜厚10nmの膜の正孔阻止層6を形成した。蒸着時の真空度は2.5〜4.0×10-5Paであった。
<Composition for light emitting layer formation>
Solvent Toluene Composition concentration C1: 0.80 wt%
D1: 0.08% by weight
<Film-forming conditions of the light emitting layer 5>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coating atmosphere Nitrogen Heating conditions Under reduced pressure (0.1 MPa), 130 ° C., 1 hour Here, the substrate on which the light emitting layer 5 has been deposited is in a vacuum deposition apparatus connected to a nitrogen glove box Evacuated until the degree of vacuum in the apparatus becomes 1.7 × 10 −4 Pa or less, and then BA
lq (C2) was laminated by a vacuum deposition method to obtain a hole blocking layer 6. The deposition rate was controlled in the range of 0.5 to 1.1 liters / second, and the hole blocking layer 6 having a film thickness of 10 nm was formed by being laminated on the light emitting layer 5. The degree of vacuum at the time of deposition was 2.5 to 4.0 × 10 −5 Pa.

続いて、Alq3(C3)を加熱して蒸着を行い、電子輸送層7を成膜した。蒸着時の真空度は2.8〜3.7×10-5Pa、蒸着速度は0.7〜1.2Å/秒の範囲で制御
し、膜厚30nmの膜を正孔阻止層6の上に積層して電子輸送層7を形成した。
Then, Alq3 (C3) was heated and vapor-deposited, and the electron carrying layer 7 was formed into a film. The degree of vacuum during deposition is 2.8 to 3.7 × 10 −5 Pa, the deposition rate is controlled in the range of 0.7 to 1.2 Å / sec, and a film with a thickness of 30 nm is formed on the hole blocking layer 6. To form an electron transport layer 7.

ここで、電子輸送層7までの蒸着を行った素子を正孔阻止層6、および電子輸送層7を蒸着したチャンバーに連結されたチャンバーへと真空中で搬送し、陰極蒸着用のマスクとして2mm幅のストライプ状シャドーマスクを、陽極2のITOストライプとは直交するように素子に密着させた。 Here, the element that has been vapor-deposited up to the electron transport layer 7 is transported in a vacuum to a chamber connected to the hole blocking layer 6 and the chamber in which the electron transport layer 7 is vapor-deposited, and 2 mm as a mask for cathode vapor deposition. A stripe-shaped shadow mask having a width was brought into close contact with the element so as to be orthogonal to the ITO stripe of the anode 2.

電子注入層8として、先ずフッ化リチウム(LiF)を、モリブデンボートを用いて、蒸着速度0.08〜0.15Å/秒、真空度2.5〜5.5×10-5Paで制御し、0
.5nmの膜厚で電子輸送層7の上に成膜した。次に、陰極9としてアルミニウムを同様にモリブデンボートにより加熱して、蒸着速度0.5〜1.5Å/秒、真空度2.0〜5.5×10-5Paで制御して膜厚80nmのアルミニウム層を形成した。以上の2層の
蒸着時の基板温度は室温に保持した。
First, lithium fluoride (LiF) is controlled as the electron injection layer 8 at a deposition rate of 0.08 to 0.15 liters / second and a degree of vacuum of 2.5 to 5.5 × 10 −5 Pa using a molybdenum boat. , 0
. A film having a thickness of 5 nm was formed on the electron transport layer 7. Next, aluminum is similarly heated by a molybdenum boat as the cathode 9 and controlled at a deposition rate of 0.5 to 1.5 liters / second and a degree of vacuum of 2.0 to 5.5 × 10 −5 Pa to a film thickness of 80 nm. An aluminum layer was formed. The substrate temperature during the above two-layer deposition was kept at room temperature.

引き続き、素子が保管中に大気中の水分等で劣化することを防ぐため、以下に記載の方法で封止処理を行った。
窒素グローブボックス中で、23mm×23mmサイズのガラス板の外周部に、約1mmの幅で光硬化性樹脂30Y−437(スリーボンド社製)を塗布し、中央部に水分ゲッターシート(ダイニック社製)を設置した。この上に、陰極形成を終了した基板を、蒸着された面が乾燥剤シートと対向するように貼り合わせた。その後、光硬化性樹脂が塗布さ
れた領域のみに紫外光を照射し、樹脂を硬化させた。
Subsequently, in order to prevent the element from being deteriorated by moisture in the atmosphere during storage, sealing treatment was performed by the method described below.
In a nitrogen glove box, a photocurable resin 30Y-437 (manufactured by Three Bond) is applied to the outer periphery of a 23 mm × 23 mm size glass plate with a width of about 1 mm, and a moisture getter sheet (manufactured by Dynic) is applied to the center. Was installed. On this, the board | substrate which completed cathode formation was bonded together so that the vapor-deposited surface might oppose a desiccant sheet. Thereafter, only the region where the photocurable resin was applied was irradiated with ultraviolet light to cure the resin.

以上の様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子が得られた。この素子の特性を表1に表す。低い電圧駆動可能で、発光効率が高く、長寿命の素子が得られた。
また、比較例3の駆動寿命を1とした時の、規格化駆動寿命を表2に示す。
更に、TOF−SIMS法による測定結果を図3に示す。
As described above, an organic electroluminescent element having a light emitting area portion having a size of 2 mm × 2 mm was obtained. Table 1 shows the characteristics of this element. A device that can be driven at a low voltage, has high luminous efficiency, and has a long lifetime was obtained.
Table 2 shows the normalized drive life when the drive life of Comparative Example 3 is 1.
Furthermore, the measurement result by TOF-SIMS method is shown in FIG.

(実施例2)
正孔注入層形成用組成物を下記のようにして、正孔注入層3(第一の有機層)を形成したほかは、実施例1と同様に有機電界発光素子を作成した。
<正孔注入層形成用組成物>
溶媒 安息香酸エチル
組成物濃度 P1:2.0重量%
A1:0.8重量%
この素子の特性を表1に表す。低い電圧駆動可能で、発光効率が高く、長寿命の素子が得られた。
(Example 2)
An organic electroluminescent element was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hole injection layer 3 (first organic layer) was formed as follows.
<Composition for forming hole injection layer>
Solvent Ethyl benzoate Composition concentration P1: 2.0% by weight
A1: 0.8% by weight
Table 1 shows the characteristics of this element. A device that can be driven at a low voltage, has high luminous efficiency, and has a long lifetime was obtained.

(実施例3)
正孔注入層形成用組成物を下記のようにして、正孔注入層3を形成したほかは、実施例1と同様に有機電界発光素子を作成した。
<正孔注入層形成用組成物>
溶媒 安息香酸エチル
組成物濃度 P1:2.0重量%
A1:0.2重量%
この素子の特性を表1に表す。低い電圧駆動可能で、発光効率が高い素子が得られた。
(Example 3)
An organic electroluminescent element was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hole injection layer 3 was formed as follows.
<Composition for forming hole injection layer>
Solvent Ethyl benzoate Composition concentration P1: 2.0% by weight
A1: 0.2% by weight
Table 1 shows the characteristics of this element. An element capable of being driven at a low voltage and having high luminous efficiency was obtained.

(比較例1)
正孔注入層形成用組成物を下記のようにして、正孔注入層3を形成したほかは、実施例1と同様に有機電界発光素子を作成した。
<正孔注入層形成用組成物>
溶媒 安息香酸エチル
組成物濃度 P1:2.0重量%
A1:0.06重量%
この素子の特性を表1に表す。
(Comparative Example 1)
An organic electroluminescent element was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hole injection layer 3 was formed as follows.
<Composition for forming hole injection layer>
Solvent Ethyl benzoate Composition concentration P1: 2.0% by weight
A1: 0.06% by weight
Table 1 shows the characteristics of this element.

(比較例2)
正孔注入層形成用組成物を下記のようにして、正孔注入層3を形成したほかは、実施例1と同様に有機電界発光素子を作成した。
<正孔注入層形成用組成物>
溶媒 安息香酸エチル
組成物濃度 P1:2.0重量%
A1:0.1重量%
この素子の特性を表1に表す。
(Comparative Example 2)
An organic electroluminescent element was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hole injection layer 3 was formed as follows.
<Composition for forming hole injection layer>
Solvent Ethyl benzoate Composition concentration P1: 2.0% by weight
A1: 0.1% by weight
Table 1 shows the characteristics of this element.

(比較例3)
正孔注入層形成用組成物を下記のようにして、正孔注入層3を形成したほかは、実施例1と同様に有機電界発光素子を作成した。
<正孔注入層形成用組成物>
溶媒 安息香酸エチル
組成物濃度 P2:2.0重量%
A1:0.8重量%
(Comparative Example 3)
An organic electroluminescent element was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hole injection layer 3 was formed as follows.
<Composition for forming hole injection layer>
Solvent Ethyl benzoate Composition concentration P2: 2.0% by weight
A1: 0.8% by weight

(重量平均分子量:26500,数平均分子量:12000)
この素子の駆動寿命を表2に表す。
更に、TOF−SIMS法による測定結果を図4に示す。
(Weight average molecular weight: 26500, number average molecular weight: 12000)
The driving life of this element is shown in Table 2.
Furthermore, the measurement result by TOF-SIMS method is shown in FIG.

本発明は、有機電界発光素子が使用される各種の分野、例えば、フラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピュータ用や壁掛けテレビ)や面発光体としての特徴を生かした光源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイや計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯等の分野において、好適に使用することが出来る。   The present invention relates to various fields in which organic electroluminescent elements are used, for example, light sources (for example, light sources of copiers, flat panel displays (for example, for OA computers and wall-mounted televisions) and surface light emitters). It can be suitably used in the fields of liquid crystal displays and backlights of instruments), display panels, indicator lamps and the like.

1 基板
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 正孔阻止層
7 電子輸送層
8 電子注入層
9 陰極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Hole injection layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Hole blocking layer 7 Electron transport layer 8 Electron injection layer 9 Cathode

Claims (8)

基板と、該基板上に設けられた陽極、有機層、及び陰極とを備えた有機電界発光素子であって、
該有機層が、湿式成膜法で形成された第一の有機層及び第二の有機層を含み、
該第一の有機層と第二の有機層は、陽極側からこの順に隣接して設けられており、
第一の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)が2重量%以上であり、
さらに第二の有機層のハロゲン原子濃度(重量%)の20倍以上であることを特徴とする、有機電界発光素子。
An organic electroluminescent device comprising a substrate and an anode, an organic layer, and a cathode provided on the substrate,
The organic layer includes a first organic layer and a second organic layer formed by a wet film formation method,
The first organic layer and the second organic layer are provided adjacent in this order from the anode side,
The halogen atom concentration (% by weight) of the first organic layer is 2% by weight or more,
Furthermore, it is 20 times or more of the halogen atom concentration (weight%) of a 2nd organic layer, The organic electroluminescent element characterized by the above-mentioned.
第一の有機層が正孔注入層であり、第二の有機層が正孔輸送層であることを特徴とする、請求項1に記載の有機電界発光素子。   The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the first organic layer is a hole injection layer, and the second organic layer is a hole transport layer. 前記有機層中のハロゲン原子の濃度(重量%)が、0.5重量%以上であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の有機電界発光素子。   3. The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein a concentration (% by weight) of halogen atoms in the organic layer is 0.5% by weight or more. 含まれるハロゲン原子が、フッ素原子であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。   The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the halogen atom contained is a fluorine atom. 陽極と、陰極との間に発光層を有し、
該発光層が、発光性低分子化合物を含有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
A light emitting layer between the anode and the cathode;
The organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 4, wherein the light emitting layer contains a light emitting low molecular weight compound.
第一の有機層が、不溶化性高分子化合物を含有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに一項に記載の有機電界発光素子。   The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the first organic layer contains an insoluble polymer compound. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の有機電界発光素子を備えることを特徴とする、有機ELディスプレイ。 An organic EL display comprising the organic electroluminescent element according to claim 1. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の有機電界発光素子を備えることを特徴とする、有機EL照明。   An organic EL illumination comprising the organic electroluminescent element according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014090165A (en) * 2012-10-03 2014-05-15 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting element, light-emitting device, display device, electronic apparatus, and illumination device
US20230352250A1 (en) * 2020-03-16 2023-11-02 Ricoh Company, Ltd. Photoelectric conversion element, photoelectric conversion module, electronic device, and power supply module

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007123257A (en) * 2005-09-27 2007-05-17 Mitsubishi Chemicals Corp Method of manufacturing organic electroluminescent element
JP2008239948A (en) * 2006-11-02 2008-10-09 Mitsubishi Chemicals Corp Material for organic electroluminescent element, composition for organic electroluminescent element, organic electroluminescent display and color display
JP2009033146A (en) * 2007-06-28 2009-02-12 Mitsubishi Chemicals Corp Charge transport material for wet film-forming, charge transport material composition for wet film-forming, organic electroluminescent device and organic el display

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007123257A (en) * 2005-09-27 2007-05-17 Mitsubishi Chemicals Corp Method of manufacturing organic electroluminescent element
JP2008239948A (en) * 2006-11-02 2008-10-09 Mitsubishi Chemicals Corp Material for organic electroluminescent element, composition for organic electroluminescent element, organic electroluminescent display and color display
JP2008244424A (en) * 2006-11-02 2008-10-09 Mitsubishi Chemicals Corp Organic field fluorescence element, organic field fluorescence layer coating liquid, and color display unit
JP2009033146A (en) * 2007-06-28 2009-02-12 Mitsubishi Chemicals Corp Charge transport material for wet film-forming, charge transport material composition for wet film-forming, organic electroluminescent device and organic el display

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014090165A (en) * 2012-10-03 2014-05-15 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting element, light-emitting device, display device, electronic apparatus, and illumination device
US9799843B2 (en) 2012-10-03 2017-10-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting element, light-emitting device, display device, electronic device, and lighting device
TWI642216B (en) * 2012-10-03 2018-11-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 Light-emitting element, light-emitting device, display device, electronic device, and lighting device
KR20200035481A (en) * 2012-10-03 2020-04-03 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 Light-emitting device, electronic device, and lighting device
KR102230045B1 (en) 2012-10-03 2021-03-22 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 Light-emitting device, electronic device, and lighting device
US20230352250A1 (en) * 2020-03-16 2023-11-02 Ricoh Company, Ltd. Photoelectric conversion element, photoelectric conversion module, electronic device, and power supply module

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