JP2008231400A - Resin composition for optical element and curable resin composition - Google Patents

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Taeko Yamashita
妙子 山下
Takashi Deguchi
隆 出口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for optical elements, which is excellent in light resistance and heat resistance and can maintain optical transparency from the near ultraviolet region to the visible wavelength region over a long period, and to provide a curable resin composition used for the same. <P>SOLUTION: This resin composition for optical elements is characterized by condensation-reacting two kinds of metal oxides with an organopolysiloxane without adding a reaction catalyst. It is desirable that two or more kinds of metal alkoxides include silicon alkoxides and titanium alkoxides. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光ダイオード素子などに用いられる光学素子用樹脂組成物及びそれに用いられる硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a resin composition for optical elements used for light-emitting diode elements and the like, and a curable resin composition used for the same.

発光ダイオード(LED)素子は、通常、LED素子の保護や発色変更のために、封止材で覆われている。そして、LED素子から発せられた光を効率的に取り出すために、この封止材には高い光学的透明性が要求されている。   A light emitting diode (LED) element is usually covered with a sealing material in order to protect the LED element and change the color. And in order to take out the light emitted from the LED element efficiently, high optical transparency is requested | required of this sealing material.

従来、この封止材に用いられる樹脂は、エポキシ樹脂が一般的であった。
しかし、発光素子として青色LED素子や紫外線LED素子を用いた場合、青色LED素子や紫外線LED素子から発せられる近紫外光により、発光素子近傍においてエポキシ樹脂封止材が黄変したり、発光素子の発熱により熱劣化したりするという問題があった。
Conventionally, the resin used for this sealing material is generally an epoxy resin.
However, when a blue LED element or an ultraviolet LED element is used as the light emitting element, the near-ultraviolet light emitted from the blue LED element or the ultraviolet LED element causes yellowing of the epoxy resin sealing material in the vicinity of the light emitting element, There was a problem of heat deterioration due to heat generation.

また、前記近紫外光や紫外光による黄変が発生せず、耐熱性を有する封止材としてシリコーン樹脂封止材が検討されているが、ジメチルシロキサンからなるシリコーン樹脂は、屈折率が低いため、例えば、屈折率を1.5以上とするために、分子中にフェニル基を有するシリコーン樹脂を用いたり(例えば、特許文献1参照)、金属酸化物をシロキサン系縮合物に含有させたりする方法(例えば、特許文献2参照)が提案されている。   In addition, a silicone resin encapsulant is being investigated as a heat-resistant encapsulant that does not cause yellowing due to near-ultraviolet light or ultraviolet light, but a silicone resin made of dimethylsiloxane has a low refractive index. For example, a method of using a silicone resin having a phenyl group in the molecule (for example, refer to Patent Document 1) or including a metal oxide in a siloxane-based condensate in order to set the refractive index to 1.5 or more. (See, for example, Patent Document 2).

特開2006−63092号公報JP 2006-63092 A 特開2006−299251号公報JP 2006-299251 A

しかしながら、このような方法では、近紫外から可視波長領域で長期にわたり光学的透明性を維持することは困難であるという問題があった。   However, such a method has a problem that it is difficult to maintain optical transparency over a long period in the near-ultraviolet to visible wavelength region.

本発明は、前記した全ての問題点を解決することを目的とする。
すなわち、本発明の目的は、耐光性、耐熱性に優れ、近紫外から可視波長領域で長期にわたり光学的透明性を維持することが可能な光学素子用樹脂組成物及びそれに用いる硬化性樹脂組成物を提供することである。
The object of the present invention is to solve all the above-mentioned problems.
That is, an object of the present invention is to provide an optical element resin composition that is excellent in light resistance and heat resistance and can maintain optical transparency over a long period in the near ultraviolet to visible wavelength region, and a curable resin composition used therefor Is to provide.

(1)本発明は、2種以上の金属アルコキシドと、オルガノポリシロキサンとを反応触媒を添加することなく縮合反応させてなる光学素子用樹脂組成物に関するものである。 (1) The present invention relates to a resin composition for an optical element obtained by subjecting two or more metal alkoxides and an organopolysiloxane to a condensation reaction without adding a reaction catalyst.

(2)そして、前記した2種以上の金属アルコキシドが、ケイ素アルコキシド及びチタンアルコキシドを含むものが望ましい。 (2) The above-described two or more metal alkoxides preferably include silicon alkoxide and titanium alkoxide.

(3)また、前記した2つの発明である(1)または(2)において、60℃の雰囲気で、波長365nm、光量3000mW/cmの光を24時間照射後の350〜800nmにおける光透過率が、80%以上である光学素子用樹脂組成物に関するものである。 (3) Further, in the above-described two inventions (1) or (2), light transmittance at 350 to 800 nm after irradiation with light of wavelength 365 nm and light amount of 3000 mW / cm 2 for 24 hours in an atmosphere of 60 ° C. However, it is related with the resin composition for optical elements which is 80% or more.

(4)また、前記した3つの発明である(1)、(2)または(3)において、200℃の雰囲気に200時間放置後の350〜800nmにおける光透過率が、85%以上である光学素子用樹脂組成物に関するものである。 (4) In the above-described three inventions (1), (2), or (3), the optical transmittance at 350 to 800 nm after being left in an atmosphere at 200 ° C. for 200 hours is 85% or more. The present invention relates to a resin composition for an element.

(5)さらに、前記した4つの発明である(1)、(2)、(3)または(4)における光学素子用樹脂組成物に用いる硬化性樹脂組成物であって、複数の金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンを含む硬化性樹脂組成物である。 (5) Furthermore, the curable resin composition used for the optical element resin composition according to (1), (2), (3) or (4), which is the four inventions described above, comprising a plurality of metal alkoxides and A curable resin composition containing an organopolysiloxane.

本発明によれば、耐光性、耐熱性に優れ、近紫外から可視波長領域で長期にわたり光学的透明性を維持することが可能な光学素子用樹脂組成物及びそれに用いる硬化性樹脂組成物を提供することができる。   According to the present invention, there are provided a resin composition for an optical element that is excellent in light resistance and heat resistance and can maintain optical transparency over a long period in the near ultraviolet to visible wavelength region, and a curable resin composition used therefor. can do.

以下、本発明を詳細に説明する。
前記したように、シリコーン系の縮合物は高い透明性と耐熱性とを有しているため、光学素子用材料として有効である。
一方、無機成分と有機成分とを分子レベルで化学的に結合した無機・有機ハイブリッドが、金属アルコキシドからゾルゲル法により合成され、無機及び有機の特徴を兼ね備えた新しい材料として注目されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
As described above, since the silicone-based condensate has high transparency and heat resistance, it is effective as a material for optical elements.
On the other hand, an inorganic / organic hybrid in which an inorganic component and an organic component are chemically bonded at a molecular level is synthesized by a sol-gel method from a metal alkoxide, and is attracting attention as a new material having both inorganic and organic characteristics.

しかし、上記方法においても、最後の縮合反応の段階においてスズ系触媒などの金属触媒を用いるため、高い透明性を得ることができなかった。   However, even in the above method, since a metal catalyst such as a tin-based catalyst is used in the final condensation reaction stage, high transparency cannot be obtained.

上記問題に対し本発明者等が鋭意検討した結果、金属アルコキシドとオルガノポリシロキサンとを用いた前記無機成分と有機成分とのハイブリッド化において、2種以上の金属アルコキシドを用いることにより、反応触媒を用いることなく容易に加水分解反応が進行し、その後の縮合反応段階においても、金属触媒などの反応触媒を用いることなく前記加水分解した成分を縮合反応させることができることが見出された。   As a result of intensive studies by the present inventors on the above-mentioned problems, a reaction catalyst can be obtained by using two or more metal alkoxides in the hybridization of the inorganic component and the organic component using metal alkoxide and organopolysiloxane. It has been found that the hydrolysis reaction proceeds easily without using it, and the hydrolyzed component can be subjected to a condensation reaction without using a reaction catalyst such as a metal catalyst in the subsequent condensation reaction step.

すなわち、金属アルコキシド等を用いたゾルゲル法では、通常、まず金属アルコキシド等の原料を酸性、塩基性触媒下で加水分解することが行われている。
しかし、2種以上の金属アルコキシドを用いた場合には、酸性、塩基性触媒を用いることなく原料成分を加水分解することができるのである。
That is, in the sol-gel method using a metal alkoxide or the like, usually, a raw material such as a metal alkoxide is first hydrolyzed under an acidic or basic catalyst.
However, when two or more metal alkoxides are used, the raw material components can be hydrolyzed without using an acidic or basic catalyst.

さらに、この加水分解物の縮合反応には一般的にスズ系などの金属触媒を用いるが、2種以上の金属アルコキシドを作用させることにより得られた加水分解物については、金属触媒等の反応触媒を用いることなく加熱のみで縮合反応を進行させることができ、目的とする硬化物(光学素子用樹脂組成物)を得ることができるのである。   In addition, a metal catalyst such as tin is generally used for the condensation reaction of the hydrolyzate. However, the hydrolyzate obtained by reacting two or more metal alkoxides may be a reaction catalyst such as a metal catalyst. Thus, the condensation reaction can be progressed only by heating without using the above, and the desired cured product (resin composition for optical elements) can be obtained.

そして、上記により得られた無機・有機ハイブリッドにおいては、オルガノポリシロキサンの縮合物が主となるため、高い透明性が得られることがわかった。
さらに、上記優れた光学特性に加えて、耐光性、耐熱性にも優れ、光照射や加熱後においても前記優れた光学特性を維持することができることが判明した。
And in the inorganic-organic hybrid obtained by the above, since the polycondensate of organopolysiloxane became main, it turned out that high transparency is obtained.
Furthermore, in addition to the above-mentioned excellent optical characteristics, it has been found that the light resistance and heat resistance are also excellent, and the excellent optical characteristics can be maintained even after light irradiation or heating.

以下、本発明の光学素子用樹脂組成物について、その製法と共に説明する。
(金属アルコキシド)
本発明に用いられる金属アルコキシドを形成する金属または半金属の種類としては、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、チタン、バナジウム、マンガン、鉄、コバルト、亜鉛、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、カドミウム、タンタル、タングステン等のアルコキシドを形成し得る金属または半金属が挙げられる。
Hereinafter, the resin composition for an optical element of the present invention will be described together with its production method.
(Metal alkoxide)
The metal or metalloid forming the metal alkoxide used in the present invention includes boron, aluminum, silicon, titanium, vanadium, manganese, iron, cobalt, zinc, germanium, yttrium, zirconium, niobium, cadmium, tantalum and tungsten. And metal or metalloid capable of forming an alkoxide such as.

また、アルコキシドの種類は特に限定されることなく、例えば、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、ブトキシド等が挙げられ、更には、アルコキシ基の一部をβ−ジケトン、β−ケトエステル等で置換したアルコキシド誘導体であってもよい。   Further, the type of alkoxide is not particularly limited, and examples thereof include methoxide, ethoxide, propoxide, isopropoxide, butoxide and the like. Furthermore, a part of the alkoxy group is β-diketone, β-ketoester and the like. It may be a substituted alkoxide derivative.

本発明においては、複数(2種以上)の金属アルコキシドが用いられるが、該複数の金属アルコキシドが、ケイ素アルコキシド及びチタンアルコキシドを含むことが望ましい。また、ジルコニウムアルコキシドを用いることも好適である。   In the present invention, a plurality (two or more) of metal alkoxides are used, and it is preferable that the plurality of metal alkoxides include silicon alkoxide and titanium alkoxide. It is also preferable to use zirconium alkoxide.

ケイ素アルコキシドは、チタンアルコキシドやジルコニウムアルコキシドに比べ、安価で入手し易く、また反応が穏やかであるため作業性に優れる。一方、チタンアルコキシドやジルコニウムアルコキシドは、ケイ素アルコキシドに比べて加水分解、縮合などの反応が進みやすく、酸を使わなくても後述する加水分解反応を進めることができると期待される。   Silicon alkoxides are cheaper and easier to obtain than titanium alkoxides and zirconium alkoxides, and are excellent in workability because of their mild reactions. On the other hand, titanium alkoxide and zirconium alkoxide are more likely to undergo reactions such as hydrolysis and condensation than silicon alkoxide, and it is expected that the hydrolysis reaction described below can proceed without using an acid.

これらを含む複数の金属アルコキシドとオルガノポリシロキサンとを水の存在下で反応させると、金属アルコキシドのアルコキシ基が水酸基に置換され、その水酸基が例えばオルガノポリメチルシロキサンの末端のシラノール基と脱水・縮合反応を起こすことにより、金属アルコキシドに由来する無機成分とオルガノポリメチルシロキサンとから構成される無機・有機ハイブリッドが形成される。   When a metal alkoxide containing these and an organopolysiloxane are reacted in the presence of water, the alkoxy group of the metal alkoxide is substituted with a hydroxyl group, and the hydroxyl group is dehydrated and condensed with, for example, a silanol group at the end of the organopolymethylsiloxane. By causing the reaction, an inorganic / organic hybrid composed of an inorganic component derived from metal alkoxide and organopolymethylsiloxane is formed.

ケイ素アルコキシドの具体的な例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the silicon alkoxide include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert- Butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane Ethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, di Chill propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.

また、チタンアルコキシドやジルコニウムアルコキシドとしては、アルコキシル基の炭素数が1〜10のチタンテトラアルコキシドやジルコニウムアルコキシドが好ましく用いられる。反応性を抑え作業性を上げるために、アルコキシ基の炭素数が3〜8のチタンテトラアルコキシドやジルコニウムテトラアルコキシドがより好ましい。このチタンテトラアルコキシドにおいては、4つのアルコキシル基は、たがいに同一でも異なっていてもよいが、入手の容易さなどの点から、同一のものが好ましく用いられる。   Moreover, as a titanium alkoxide and a zirconium alkoxide, the titanium tetraalkoxide and zirconium alkoxide whose carbon number of an alkoxyl group is 1-10 are used preferably. In order to suppress reactivity and improve workability, titanium tetraalkoxide or zirconium tetraalkoxide having 3 to 8 carbon atoms in the alkoxy group is more preferable. In this titanium tetraalkoxide, the four alkoxyl groups may be the same or different, but the same one is preferably used from the viewpoint of availability.

該チタンテトラアルコキシドの例としては、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラ−n−ブトキシド、チタンテトライソブトキシド、チタンテトラ−sec−ブトキシド、チタンテトラ−tert−ブトキシド、チタンテトラ−2−エチルヘトキシド、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、ジルコニウムテトライソブトキシド、ジルコニウムテトラ−sec−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−tert−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−2−エチルヘトキシド、及びジルコニウムテトラ−tert−ペンチルオキシド等が挙げられる。   Examples of the titanium tetraalkoxide include titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetraisobutoxide, titanium tetra-sec- Butoxide, Titanium tetra-tert-butoxide, Titanium tetra-2-ethylhexoxide, Zirconium tetramethoxide, Zirconium tetraethoxide, Zirconium tetra-n-propoxide, Zirconium tetraisopropoxide, Zirconium tetra-n-butoxide, Zirconium tetraiso Butoxide, zirconium tetra-sec-butoxide, zirconium tetra-tert-butoxide, zirconium tetra-2-ethyl hetoxide, and zirconium tetra- ert- pentyl oxide, and the like.

ケイ素アルコキシドを含めこれらは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   These including silicon alkoxide may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

後述するように、光学素子用樹脂組成物を得るには、ケイ素アルコキシド及びチタンアルコキシドを各々含む2液を混合する場合と、両者を含む1液で反応させる場合とがあるが、いずれにおいても両者が混合されたときに、ケイ素アルコキシド量A及びチタンアルコキシド量Bの質量比(A/B)が40/1〜100/1の範囲となるようにすることが望ましい。   As will be described later, in order to obtain a resin composition for an optical element, there are a case where two liquids each containing a silicon alkoxide and a titanium alkoxide are mixed, and a case where they are reacted in a single liquid containing both. When is mixed, it is desirable that the mass ratio (A / B) of the silicon alkoxide amount A and the titanium alkoxide amount B is in the range of 40/1 to 100/1.

また、上記ケイ素アルコキシド及びチタンアルコキシドを含む複数の金属アルコキシドの、混合後の反応系内の含有量は1〜40質量%の範囲とすることが望ましく、5〜15質量%の範囲とすることがより好適である。   The content of the plurality of metal alkoxides including silicon alkoxide and titanium alkoxide in the reaction system after mixing is preferably in the range of 1 to 40% by mass, and in the range of 5 to 15% by mass. More preferred.

(オルガノポリシロキサン)
本発明に用いられるオルガノポリシロキサンとしては、例えばシラノール変性ポリジメチルシロキサンのような、片末端または両末端に、シラン化合物、金属およびまたは半金属アルコキシドの官能基と反応可能な官能基を有するポリジメチルシロキサン(PDMS)等を使用することができる。
(Organopolysiloxane)
Examples of the organopolysiloxane used in the present invention include polydimethyl having a functional group capable of reacting with a functional group of a silane compound, metal and / or metalloid alkoxide at one or both ends, such as silanol-modified polydimethylsiloxane. Siloxane (PDMS) or the like can be used.

上記オルガノポリシロキサンとしては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が400〜80000の範囲にあるものを使用することが望ましい。オルガノポリシロキサンの重量平均分子量が80000を超えると、ゾル液の粘度が高くなり過ぎて作業性が悪くなる場合があり、重量平均分子量が400に満たないと、光学素子用樹脂組成物で、低分子シロキサンの発生が多くなり、その結果電気接点の絶縁不良を招き易くなる。   As said organopolysiloxane, it is desirable to use what has the weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography in the range of 400-80000. If the weight average molecular weight of the organopolysiloxane exceeds 80,000, the viscosity of the sol solution may become too high and workability may deteriorate. If the weight average molecular weight is less than 400, the resin composition for optical elements is low. The generation of molecular siloxane is increased, and as a result, the insulation failure of the electrical contact is likely to occur.

オルガノポリシロキサンの重量平均分子量は4000〜60000の範囲であることがより望ましく、10000〜40000の範囲であることがさらに望ましい。   The weight average molecular weight of the organopolysiloxane is more preferably in the range of 4000 to 60000, and still more preferably in the range of 10000 to 40000.

なお、前記官能基を有するポリジメチルシロキサン(PDMS)の官能基、該PDMSの官能基と反応可能な官能基とは、活性水素を有する官能基、もしくは潜在的に活性水素を有するような官能基である。   The functional group of polydimethylsiloxane (PDMS) having the functional group, the functional group capable of reacting with the functional group of the PDMS is a functional group having active hydrogen, or a functional group potentially having active hydrogen. It is.

該官能基としては、例えば、以下に示される官能基1〜13である。なお、下式におけるRおよびR’は、各々独立に、置換または未置換のアルキレン基、アルキル基を示す。   Examples of the functional group include functional groups 1 to 13 shown below. In the following formula, R and R ′ each independently represents a substituted or unsubstituted alkylene group or alkyl group.

Figure 2008231400
Figure 2008231400

Figure 2008231400
但し、上記において、Xは−OCH、−OC等のアルコキシル基、のいずれかを表す。
Figure 2008231400
However, in the above, X represents -OCH 3, alkoxyl groups such as -OC 2 H 5, one of the.

Figure 2008231400
Figure 2008231400

Figure 2008231400
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Figure 2008231400
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Figure 2008231400
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このような官能基を有するPDMSなどのオルガノポリシロキサンは、前記金属アルコキシドと円滑に反応し易い。なお、上記オルガノポリシロキサンは、過剰に存在する水分や低分子量成分を除去するために加熱処理することが望ましい。水分除去を行えば、後述するオルガノポリシロキサン溶液中に金属アルコキシドを添加した場合、該金属アルコキシドの残存水分による加水分解が防止でき、また、低分子量成分残存による光学素子用樹脂組成物(有機・無機ハイブリッド)の表面のべたつき、機械的強度の劣化等の不具合を効果的に解消することができる。   Organopolysiloxane such as PDMS having such a functional group easily reacts smoothly with the metal alkoxide. The organopolysiloxane is preferably heat-treated in order to remove excess water and low molecular weight components. If moisture removal is performed, when a metal alkoxide is added to the organopolysiloxane solution described later, hydrolysis of the metal alkoxide due to residual moisture can be prevented, and a resin composition for optical elements (organic / organic) due to residual low molecular weight components remains. It is possible to effectively eliminate problems such as surface stickiness of inorganic hybrid) and deterioration of mechanical strength.

また、上記オルガノポリシロキサンの縮合反応系内の含有量は40〜95質量%の範囲とすることが望ましく、70〜85質量%の範囲とすることがより望ましい。   The content of the organopolysiloxane in the condensation reaction system is preferably in the range of 40 to 95% by mass, and more preferably in the range of 70 to 85% by mass.

本発明の光学素子用樹脂組成物は、2種以上の金属アルコキシドと、オルガノポリシロキサンを反応触媒を用いることなく加水分解したゾル液(硬化性樹脂組成物)を、各種用途に応じて塗布あるいは成型して、反応触媒を用いることなく加熱により縮合反応させゲル化せしめて製造される。
なお、本発明の硬化性樹脂組成物には、前記金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンを加水分解する前のもの、加水分解反応途中のものも含まれる。
The resin composition for an optical element of the present invention can be applied by applying a sol solution (curable resin composition) obtained by hydrolyzing two or more metal alkoxides and organopolysiloxane without using a reaction catalyst depending on various applications. It is produced by gelation and gelation by heating without using a reaction catalyst.
In addition, the thing before hydrolyzing the said metal alkoxide and organopolysiloxane and the thing in the middle of a hydrolysis reaction are also contained in the curable resin composition of this invention.

上記金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンの加水分解は、両者を溶媒に加え攪拌したのち、金属アルコキシドの加水分解物とオルガノポリシロキサンとを反応させる、あるいは必要により水を加えることによって行う。   The metal alkoxide and organopolysiloxane are hydrolyzed by adding both to a solvent and stirring, and then reacting the hydrolyzate of metal alkoxide with the organopolysiloxane, or adding water as necessary.

上記溶媒としては、前記金属アルコキシドとオルガノポリシロキサンとを均一に分散、溶解できる溶媒であれば特に限定されるものではない。
例えば、メタノール、プロパノール、ブタノール等の第1級アルコール、イソプロパノール、イソブタノール、sec−ブチルアルコール等の第2級アルコール、tert−ブチルアルコール(t−ブタノール)、tert−アミルアルコール等の第3級アルコール、酢酸エチル、メトキシメタノール、メトキシエタノール、エトキシメタノール、2−エトキシエタノール等の各種アルコールの他、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン等の有機溶媒が一般的に使用される。
硬化性樹脂組成物の液安定性(ポットライフ)の観点からは、tert−ブチルアルコール、tert−アミルアルコールなど第3級アルコールを用いることが望ましい。
The solvent is not particularly limited as long as it can uniformly disperse and dissolve the metal alkoxide and organopolysiloxane.
For example, primary alcohols such as methanol, propanol and butanol, secondary alcohols such as isopropanol, isobutanol and sec-butyl alcohol, tertiary alcohols such as tert-butyl alcohol (t-butanol) and tert-amyl alcohol In addition to various alcohols such as ethyl acetate, methoxymethanol, methoxyethanol, ethoxymethanol, and 2-ethoxyethanol, organic solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, toluene, and xylene are generally used.
From the viewpoint of the liquid stability (pot life) of the curable resin composition, it is desirable to use a tertiary alcohol such as tert-butyl alcohol or tert-amyl alcohol.

上記各成分の配合は、例えば、前記溶媒中に金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンを同時に配合してもよいし、予め金属アルコキシドのみを溶解し、これに対してオルガノポリシロキサンを配合してもよい。さらには、加水分解した金属アルコキシドに対してオルガノポリシロキサンを配合してもよい。   For example, the metal alkoxide and the organopolysiloxane may be blended in the solvent at the same time, or only the metal alkoxide may be dissolved in advance and the organopolysiloxane may be blended. Furthermore, you may mix | blend organopolysiloxane with respect to the hydrolyzed metal alkoxide.

なお、前記金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンの溶液は、金属アルコキシドごとに分けて調製しても良いし、1液にすべて混合して調製しても良いが、金属アルコキシドごとに複数の液に分けて調製し、それらの液を混合する方法が反応の安定性、硬化後の樹脂組成物の安定性の点から好ましい。   The metal alkoxide and organopolysiloxane solution may be prepared separately for each metal alkoxide, or may be prepared by mixing all in one liquid, but divided into a plurality of liquids for each metal alkoxide. A method of preparing and mixing these liquids is preferable from the viewpoint of stability of reaction and stability of the resin composition after curing.

前記混合する金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンの量比としては、両者の総量において、金属アルコキシドの量を2〜60質量%の範囲とすることが望ましく、10〜30質量%の範囲とすることがより好適である。   As a quantitative ratio of the metal alkoxide and the organopolysiloxane to be mixed, the total amount of the metal alkoxide is preferably in the range of 2 to 60% by mass, more preferably in the range of 10 to 30% by mass. Is preferred.

なお、上記混合液には本発明の作用・効果を損なわない範囲で、その他の成分を配合することができる。その他の成分は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   In addition, other components can be mix | blended with the said liquid mixture in the range which does not impair the effect | action and effect of this invention. Other components may be used alone or in combination of two or more.

その他の任意成分としては、例えば、無機蛍光体、老化防止剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定性改良剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、カップリング剤、酸化防止剤、防腐剤、熱安定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤等が挙げられる。   Other optional components include, for example, inorganic phosphors, anti-aging agents, radical inhibitors, UV absorbers, adhesion improvers, flame retardants, surfactants, storage stability improvers, ozone degradation inhibitors, and light stability. Agent, thickener, plasticizer, coupling agent, antioxidant, preservative, heat stabilizer, conductivity imparting agent, antistatic agent, radiation blocking agent, nucleating agent, phosphorus peroxide decomposing agent, lubricant, Examples thereof include pigments, metal deactivators and physical property modifiers.

前記のように、加水分解では未加水分解のアルコキシ基に対して、必要により所定量の水を添加する。本発明では、この工程において複数の金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンを加水分解するが、水の量は加水分解に用いる原料液全体に対し0.01〜0.25質量%の範囲とすることが望ましく、0.02〜0.1質量%の範囲とすることがより好適である。   As described above, in the hydrolysis, a predetermined amount of water is added to the unhydrolyzed alkoxy group as necessary. In the present invention, a plurality of metal alkoxides and organopolysiloxanes are hydrolyzed in this step, and the amount of water is preferably in the range of 0.01 to 0.25% by mass with respect to the entire raw material liquid used for hydrolysis. , And more preferably in the range of 0.02 to 0.1% by mass.

雰囲気湿度により縮合反応後に樹脂組成物の硬度にバラツキが出る場合があり、予め少量の水を添加しておくことが好ましい。水の量が0.01質量%に満たないと、縮合反応後に樹脂組成物の高度にバラツキが出易くなる場合がある。一方、0.25質量%を越えると、十分に硬化しない部分が存在する場合がある。   The hardness of the resin composition may vary after the condensation reaction due to atmospheric humidity, and it is preferable to add a small amount of water in advance. If the amount of water is less than 0.01% by mass, the resin composition may be highly uneven after the condensation reaction. On the other hand, if it exceeds 0.25% by mass, there may be a portion that is not sufficiently cured.

加水分解は、前記金属アルコキシドを溶解した溶液に、前記必要量の水を加え、10〜35℃、好ましくは20〜25℃の温度で、0.1〜2時間、好ましくは0.5〜1時間攪拌することによって行う。   In the hydrolysis, the necessary amount of water is added to the solution in which the metal alkoxide is dissolved, and the temperature is 10 to 35 ° C., preferably 20 to 25 ° C., for 0.1 to 2 hours, preferably 0.5 to 1. Do by stirring for hours.

次いで、加水分解したゾル液を、適応させる素子の形状に応じて塗布、注入等を行って成型等を行う。なおこのとき、溶媒、加水分解で生成したアルコール等を常圧あるいは減圧下で留去して塗布してもよい。   Next, the hydrolyzed sol solution is formed by applying, injecting or the like according to the shape of the element to be adapted. At this time, the solvent, alcohol produced by hydrolysis, etc. may be distilled off under normal pressure or reduced pressure.

前記塗布は、例えばスプレーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ロールコート法、スピンコート法等により、前記注入は、例えば圧力注入法、インクジェット法等により行うことができる。   The application can be performed by, for example, a spray coating method, a dip coating method, a spray coating method, a roll coating method, a spin coating method, or the like, and the injection can be performed by, for example, a pressure injection method, an ink jet method, or the like.

成型後、加熱により縮合反応させ硬化物とする。このとき、本発明では反応触媒を用いることはない。
加熱温度は50〜250℃の範囲とすることが望ましく、100〜180℃の範囲とすることがより好適である。
After molding, a condensation reaction is performed by heating to obtain a cured product. At this time, the reaction catalyst is not used in the present invention.
The heating temperature is preferably in the range of 50 to 250 ° C, and more preferably in the range of 100 to 180 ° C.

50℃未満であると、溶媒等が十分蒸発せず、硬度、耐熱性が得られない場合がある。250℃を越えると、加熱に要する熱エネルギーが大であり、省エネの観点で好ましくなく、コストアップを招く場合がある。加熱時間は0.5〜6時間の範囲とすることが望ましく、1〜4時間の範囲とすることがより好適である。   If it is lower than 50 ° C., the solvent or the like does not evaporate sufficiently, and hardness and heat resistance may not be obtained. If it exceeds 250 ° C., the heat energy required for heating is large, which is not preferable from the viewpoint of energy saving and may increase the cost. The heating time is preferably in the range of 0.5 to 6 hours, and more preferably in the range of 1 to 4 hours.

なお、上記縮合反応においては、前記加熱を下記のような手順により行うことが望ましい。   In the condensation reaction, the heating is desirably performed according to the following procedure.

まず、加熱初期に関しては、オーブン等の加熱器内の温度を前記ゾル液の成型品を投入する前に設定温度に十分高くしておき、その加熱器にゾル液を投入して初期から急激な加熱を行うことが望ましい。これにより、硬化物である光学素子用樹脂組成物の特性のばらつきを最小限にすることができる。   First, regarding the initial stage of heating, the temperature in a heater such as an oven is set to a sufficiently high temperature before the molded product of the sol solution is charged, and the sol solution is charged into the heater and the temperature is rapidly increased from the beginning. It is desirable to perform heating. Thereby, the dispersion | variation in the characteristic of the resin composition for optical elements which is hardened | cured material can be minimized.

このようにして得られた硬化体(光学素子用樹脂組成物)は、金属酸化物等がほとんど含まれないため、近紫外から可視波長領域で高い光学的透明性を維持することができる。   Since the cured body (resin composition for optical elements) thus obtained contains almost no metal oxide or the like, it can maintain high optical transparency in the near-ultraviolet to visible wavelength region.

具体的には、10mm×30mm×厚さ2mmにおいて、波長350〜800nmの光透過率が85%以上であることが望ましく、より好ましくは90%以上である。   Specifically, in 10 mm × 30 mm × thickness 2 mm, the light transmittance at a wavelength of 350 to 800 nm is desirably 85% or more, and more preferably 90% or more.

さらに、本発明の光学素子用樹脂組成物には、前記複数の金属アルコキシドに基づく架橋構造が存在するため、高い耐光性、耐熱性が発現される。   Furthermore, since the resin composition for optical elements of the present invention has a crosslinked structure based on the plurality of metal alkoxides, high light resistance and heat resistance are exhibited.

具体的には、前記光学素子用樹脂組成物は、波長365nm、光量3000mW/cm2の光を24時間照射後でも、350〜800nmにおける透過率が80%以上であることが望ましく、85%以上であることがより望ましい。光照射後の透過率が上記範囲であれば、例えば各色LEDにおける長期の使用に対しても、充分な光学特性を維持することができる。 Specifically, the resin composition for an optical element preferably has a transmittance of 80% or more at 350 to 800 nm even after irradiation with light having a wavelength of 365 nm and a light amount of 3000 mW / cm 2 for 24 hours, and 85% or more. Is more desirable. If the transmittance after light irradiation is in the above range, for example, sufficient optical characteristics can be maintained even for long-term use in each color LED.

また、200℃の雰囲気に200時間放置後の350〜800nmにおける透過率が、85%以上であることが望ましく、90%以上であることがより望ましい。加熱処理後の透過率が上記範囲であれば、例えば用いた光学素子における発熱に対しても熱劣化せず、充分な光学特性を維持することができる。   Further, the transmittance at 350 to 800 nm after being left in an atmosphere of 200 ° C. for 200 hours is desirably 85% or more, and more desirably 90% or more. If the transmittance after the heat treatment is in the above range, for example, heat deterioration due to heat generation in the used optical element is not caused and sufficient optical characteristics can be maintained.

本発明の光学素子用樹脂組成物は、特にLED素子の封止材として有用であり、耐光性、耐熱性に優れることから、発光素子が青色LED素子や紫外線LED素子であるLED素子の封止材としても有用であり、高輝度環境下においても優れた耐久性を示す。さらに、この封止材は、効率的に発光素子からの光を取り出すことができる。   The resin composition for optical elements of the present invention is particularly useful as a sealing material for LED elements, and is excellent in light resistance and heat resistance. Therefore, the LED element is a blue LED element or an ultraviolet LED element. It is also useful as a material and exhibits excellent durability even in a high luminance environment. Furthermore, this sealing material can efficiently extract light from the light emitting element.

また、その他にも、その優れた耐熱性、耐光性、透明性等の特徴から、下記のディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の用途にも用いることができる。   In addition, due to its excellent heat resistance, light resistance, transparency, etc., the following display materials, optical recording medium materials, optical equipment materials, optical component materials, optical fiber materials, optical / electronic functional organic materials, It can also be used for applications such as semiconductor integrated circuit peripheral materials.

前記ディスプレイ材料としては、例えば、液晶ディスプレイの基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム等の液晶用フィルム等の液晶表示装置周辺材料;次世代フラットパネルディスプレイであるカラープラズマディスプレイ(PDP)の封止剤、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤等;プラズマアドレス液晶(PALC)ディスプレイの基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム等;有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイの前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤等;フィールドエミッションディスプレイ(FED)の各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤等が挙げられる。   Examples of the display material include a liquid crystal display substrate material, a light guide plate, a prism sheet, a deflector plate, a retardation plate, a viewing angle correction film, an adhesive, a liquid crystal film such as a polarizer protective film, etc. Materials: Sealant for color plasma display (PDP), next-generation flat panel display, antireflection film, optical correction film, housing material, front glass protective film, front glass substitute material, adhesive, front glass protective film Alternative materials for front glass, adhesives, etc .; substrate material for plasma addressed liquid crystal (PALC) display, light guide plate, prism sheet, deflector plate, retardation plate, viewing angle correction film, adhesive, polarizer protective film, etc .; organic EL (Electroluminescence) Protective film for front glass of display, Surface glass substitute material, adhesive or the like; various film substrate of a field emission display (FED), front glass protective films, front glass substitute material, adhesives and the like.

前記光記録材料としては、例えば、VD(ビデオディスク)、CD、CD−ROM、CD−R/CD−RW、DVD±R/DVD±RW/DVD−RAM、MO、MD、PD(相変化ディスク)、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤等が挙げられる。   Examples of the optical recording material include VD (video disc), CD, CD-ROM, CD-R / CD-RW, DVD ± R / DVD ± RW / DVD-RAM, MO, MD, PD (phase change disc). ), Disk substrate materials for optical cards, pickup lenses, protective films, sealants, adhesives, and the like.

前記光学機器材料としては、例えば、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダープリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部等;ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダー等;プロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤等;光センシング機器のレンズ用材料、封止剤、接着剤、フィルム等が挙げられる。   Examples of the optical device material include a steel camera lens material, a finder prism, a target prism, a finder cover, a light receiving sensor unit, a video camera photographing lens, a finder, and the like; a projection television projection lens, a protective film, and a seal Agents, adhesives, and the like; materials for lenses of optical sensing devices, sealants, adhesives, films, and the like.

前記光部品材料としては、例えば、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止剤、接着剤等;光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止剤、接着剤等;光受動部品、光回路部品である、レンズ、導波路、LED素子の封止剤、接着剤等;光電子集積回路(OEIC)周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤等が挙げられる。   Examples of the optical component material include a fiber material around an optical switch, a lens, a waveguide, an element sealant, and an adhesive in an optical communication system; an optical fiber material around an optical connector, a ferrule, a sealant, and an adhesive Agents, etc .: Optical passive components, optical circuit components, lenses, waveguides, LED element sealants, adhesives, etc .; substrate materials, fiber materials, element sealants, adhesives around optoelectronic integrated circuits (OEIC) Agents and the like.

前記光ファイバー材料としては、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイド等;工業用のセンサー類、表示・標識類等;通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバー等が挙げられる。   Examples of the optical fiber material include decorative display illumination / light guides, etc .; industrial sensors, displays / signs, etc .; optical fibers for communication infrastructure and for connecting digital devices in the home.

また、前記半導体集積回路周辺材料としては、例えば、LSI、超LSI材料のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料等が挙げられる。   Examples of the peripheral material for the semiconductor integrated circuit include a resist material for microlithography of LSI and VLSI material.

さらに、前記光・電子機能有機材料としては、例えば、有機EL素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子;光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料;ファイバー材料;これらの素子の封止剤、接着剤等が挙げられる。   Further, examples of the optical / electronic functional organic material include organic EL element peripheral materials, organic photorefractive elements; optical amplification elements that are light-to-light conversion devices, optical arithmetic elements, substrate materials around organic solar cells; fiber materials A sealing agent and an adhesive for these elements.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例中の「部」及び「%」は、特記しない限り、「質量部」及び「質量%」を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited at all by these Examples. In the examples and comparative examples, “parts” and “%” mean “parts by mass” and “% by mass” unless otherwise specified.

<各種特性の測定法>
実施例および比較例における各種測定は、下記の方法により行なった。
<Measurement methods for various properties>
Various measurements in Examples and Comparative Examples were performed by the following methods.

(光透過性)
得られた各硬化性樹脂組成物を、10mm×30mm×膜厚2mmに切り取り、分光光度計U−3300(日立製作所製)を用いて、波長350〜800nmの分光透過率(%T)を測定した。
(Optical transparency)
Each curable resin composition obtained was cut into 10 mm × 30 mm × film thickness 2 mm, and the spectral transmittance (% T) at a wavelength of 350 to 800 nm was measured using a spectrophotometer U-3300 (manufactured by Hitachi, Ltd.). did.

(屈折率)
得られた各硬化性樹脂組成物を、10mm×30mm×膜厚2mmに切り取り、光学素子用樹脂組成物を作製した。この硬化体について、25℃における波長587nmの光の屈折率をアタゴ社製のアッベ屈折率計で測定した。
(Refractive index)
Each curable resin composition obtained was cut into 10 mm × 30 mm × film thickness 2 mm to prepare a resin composition for optical elements. About this hardening body, the refractive index of the light of wavelength 587nm in 25 degreeC was measured with the Abbe refractometer made from an Atago company.

(耐光性、耐熱性)
前記の条件で作製した光透過性試験用の試料を、各々耐光性については、ウシオ電機社製UVスポット照射装置SP−9を用い、60℃の雰囲気で、波長365nm、光量3000mW/cmの光を24時間照射し、耐熱性については加熱オーブンを用い、200℃の雰囲気に200時間放置した後、前記の測定条件で光透過率を測定し、初期の状態との比較を行った。
(Light resistance, heat resistance)
Samples for light transmission tests prepared under the above conditions were each light-resistant, using a UV spot irradiation device SP-9 manufactured by Ushio Electric Co., Ltd., in an atmosphere of 60 ° C., having a wavelength of 365 nm and a light amount of 3000 mW / cm 2 . Light was irradiated for 24 hours, and for heat resistance, a heating oven was used and left in an atmosphere of 200 ° C. for 200 hours, and then the light transmittance was measured under the measurement conditions described above, and compared with the initial state.

(原料液の調製)
テトライソプロポキシチタン(TIPT)(関東化学社製)0.2質量%をt−ブタノール(和光純薬工業社製)8.2質量%に添加し、そこにテトラエトキシシラン(TEOS)(関東化学社製)10.2質量%加え攪拌した。
(Preparation of raw material liquid)
Tetraisopropoxy titanium (TIPT) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 0.2% by mass is added to 8.2% by mass of t-butanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and tetraethoxysilane (TEOS) (Kanto Chemical) (Made by company) 10.2 mass% was added and stirred.

この溶液をポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)81.4質量%中に投入し、これを室温で30分間攪拌し原料液(硬化性樹脂組成物)を得た。   This solution was put into 81.4% by mass of polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone), and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material solution (curability). Resin composition) was obtained.

(光学素子用樹脂組成物の作製)
この原料液をフッ素樹脂製シャーレに流し込み、バッチ式のオーブンにて100℃で1時間硬化を行った後、120℃で3時間焼成を行い(脱水縮合工程)、硬化物を得た。
(Preparation of resin composition for optical element)
The raw material liquid was poured into a petri dish made of fluororesin and cured at 100 ° C. for 1 hour in a batch type oven, followed by baking at 120 ° C. for 3 hours (dehydration condensation step) to obtain a cured product.

(評価)
−初期特性−
・硬化特性
硬化物について、目視及び指触により以下の判断基準により評価した。
◎:垂れない程度に十分に硬化しており、硬度も均一である。
○:十分に硬化しているが、気泡が見られる。
△:全体として硬化しているが、一部柔らかくタック感のある部分がある。
×:硬化が不十分で液として垂れてしまう。
評価結果を表1に示す。
(Evaluation)
-Initial characteristics-
-Curing characteristics The cured product was evaluated according to the following criteria by visual observation and finger touch.
(Double-circle): It has fully hardened | cured so that it may not drip, and hardness is also uniform.
○: Although sufficiently cured, bubbles are observed.
(Triangle | delta): Although it hardens | cures as a whole, there exists a part with a one part soft feeling and tackiness.
X: Curing is insufficient and dripping as a liquid.
The evaluation results are shown in Table 1.

<光学特性>
前述の条件により、硬化物の25℃における波長587nmの光の屈折率及び350〜800nmの光透過率を測定した。結果を表1に示す。
<Optical characteristics>
Under the conditions described above, the refractive index of light having a wavelength of 587 nm and the light transmittance of 350 to 800 nm at 25 ° C. of the cured product were measured. The results are shown in Table 1.

<耐光性、耐熱性>
前述の条件により耐光試験、耐熱試験を行った各試料について、前記光透過率を測定し、初期特性と比較した。結果を表1に示す。
<Light resistance and heat resistance>
About each sample which performed the light resistance test and the heat resistance test on the above-mentioned conditions, the said light transmittance was measured and compared with the initial stage characteristic. The results are shown in Table 1.

実施例1の原料液の調製において、溶媒としてt−ブタノールの代わりにイソプロピルアルコールを用いた以外は同様にして光学素子用樹脂組成物の作製を行い、同様の評価を行った。結果を表1に示す。   In the preparation of the raw material liquid of Example 1, a resin composition for an optical element was prepared in the same manner except that isopropyl alcohol was used instead of t-butanol as a solvent, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

なお、本実施例で調製した原料液について、液調製から24時間放置後、再度硬化を行ったところ、他の実施例に比べ十分な硬化特性が得られなかった。   In addition, when the raw material liquid prepared in this example was allowed to stand for 24 hours from the preparation of the liquid and then cured again, sufficient curing characteristics were not obtained as compared with the other examples.

(原料液の調製)
−原料液A−
テトラエトキシシラン(TEOS)(関東化学社製)20.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)76.9質量%と、t−ブタノール(和光純薬工業社製)2.5質量%と、水0.1質量%とを混合し、これを室温で30分間攪拌し原料液Aを得た。
(Preparation of raw material liquid)
-Raw material liquid A-
Tetraethoxysilane (TEOS) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 20.5% by mass, polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone), 76.9% by mass, 2.5% by mass of t-butanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.1% by mass of water were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid A.

−原料液B−
テトライソプロポキシチタン(TIPT)(関東化学社製)0.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)86質量%と、t−ブタノール(和光純薬工業社製)13.5質量%とを混合し、これを室温で30分間攪拌し原料液Bを得た。
-Raw material liquid B-
Tetraisopropoxytitanium (TIPT) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 0.5% by mass, polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone) 86% by mass, t -Butanol (made by Wako Pure Chemical Industries) 13.5 mass% was mixed, this was stirred at room temperature for 30 minutes, and the raw material liquid B was obtained.

(光学素子用樹脂組成物の作製)
上記原料液A及び原料液Bを質量比1/1の割合で混合し、室温で30分間攪拌後(加水分解工程)、脱泡し、無色透明な液体を得た。
(Preparation of resin composition for optical element)
The raw material liquid A and the raw material liquid B were mixed at a mass ratio of 1/1, stirred at room temperature for 30 minutes (hydrolysis step), and then defoamed to obtain a colorless and transparent liquid.

この液体をフッ素樹脂製シャーレに流し込み、100℃で1時間硬化を行った後、120℃で3時間焼成を行い(脱水縮合工程)、無色透明な硬化物(光学素子用樹脂組成物)を得た。この硬化物について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。   This liquid is poured into a petri dish made of fluororesin, cured at 100 ° C. for 1 hour, and then baked at 120 ° C. for 3 hours (dehydration condensation process) to obtain a colorless and transparent cured product (resin composition for optical elements). It was. Evaluation similar to Example 1 was performed about this hardened | cured material. The results are shown in Table 1.

実施例3の原料液Aの調製において、PDMSを77.0質量%とし水を用いなかった以外は同様にして光学素子用樹脂組成物の作製を行い、同様の評価を行った。結果を表1に示す。   In the preparation of the raw material liquid A of Example 3, a resin composition for an optical element was prepared in the same manner except that PDMS was 77.0% by mass and water was not used, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

実施例3の原料液Aの調製において、PDMSを77.0質量%とし水を0.14質量%とした以外は同様にして光学素子用樹脂組成物の作製を行い、同様の評価を行った。結果を表1に示す。   In the preparation of the raw material liquid A of Example 3, a resin composition for an optical element was prepared in the same manner except that PDMS was 77.0% by mass and water was 0.14% by mass, and the same evaluation was performed. . The results are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1の原料液の調製において、TIPTを0.1質量%、t−ブタノールを13.0質量%とし、TEOSを用いなかった以外は同様にして光学素子用樹脂組成物の作製を試みたが、加熱後に硬化物は得られなかった。
(Comparative Example 1)
In the preparation of the raw material liquid of Example 1, TIPT was 0.1% by mass, t-butanol was 13.0% by mass, and an attempt was made to produce a resin composition for an optical element in the same manner except that TEOS was not used. However, a cured product was not obtained after heating.

(比較例2)
実施例1の原料液の調製において、TEOSを9.8質量%、t−ブタノールを11.8質量%とし、TIPTを用いなかった以外は同様にして光学素子用樹脂組成物の作製を試みたが、加熱後に硬化物は得られなかった。
(Comparative Example 2)
In the preparation of the raw material liquid of Example 1, TEOS was 9.8% by mass, t-butanol was 11.8% by mass, and an attempt was made to produce a resin composition for an optical element in the same manner except that TIPT was not used. However, a cured product was not obtained after heating.

Figure 2008231400
Figure 2008231400

表1に示すように、実施例の複数の金属アルコキシドを用いた場合では、縮合反応に触媒を用いなくても十分な硬化が行われ、硬化物は高い透明性、さらに耐光性、耐熱性を維持していた。一方、1種の金属アルコキシドを用いた比較例では、硬化物が得られなかった。   As shown in Table 1, when a plurality of metal alkoxides of Examples are used, sufficient curing is performed without using a catalyst for the condensation reaction, and the cured product has high transparency, light resistance, and heat resistance. Was maintained. On the other hand, in a comparative example using one kind of metal alkoxide, a cured product was not obtained.

実施例3で得た無色透明な硬化物(光学素子用樹脂組成物)について、以下の評価テストを行った。   The colorless and transparent cured product (resin composition for optical elements) obtained in Example 3 was subjected to the following evaluation test.

(評価テスト1)
硬化物を200℃の環境下で200時間放置した場合の透明性を前記した分光光度計U−3300を用いて測定した。
初期テータは89.0〜91.6%Tであるのに対し、200℃、200時間放置後は90.2〜92.4%Tであり、ほとんど変化しないことが分かった。
(Evaluation test 1)
The transparency when the cured product was allowed to stand for 200 hours in an environment of 200 ° C. was measured using the spectrophotometer U-3300 described above.
The initial data was 89.0 to 91.6% T, whereas it was 90.2 to 92.4% T after being left at 200 ° C. for 200 hours.

(評価テスト2)
硬化物を200℃の環境下で200時間放置した場合の重量減を測定した。
初期データを100とした場合に、200℃、200時間放置後は97.4であった。すなわち、重量減は、2.6%であった。
(Evaluation test 2)
The weight loss when the cured product was allowed to stand in an environment of 200 ° C. for 200 hours was measured.
When the initial data was 100, it was 97.4 after being left at 200 ° C. for 200 hours. That is, the weight loss was 2.6%.

(評価テスト3)
硬化物を150℃の環境下で400時間放置した場合の透明性の保持について目視検査を行った。評価基準は、目視にて観察した結果、剥離、亀裂、ボイドおよび白濁が無ければ○(=状態変化(変質)無し)、剥離、亀裂、ボイドまたは白濁があれば×とした。結果は、○であった。
(Evaluation test 3)
The cured product was visually inspected for maintaining its transparency when left in an environment of 150 ° C. for 400 hours. As the evaluation criteria, as a result of visual observation, if there was no peeling, cracking, void, and white turbidity, ○ (= no change in state (degeneration)), and if there was peeling, cracking, void, or white turbidity, it was rated as x. The result was ○.

(評価テスト4)
硬化物について前記したUVスポット照射装置SP−9を用いて耐紫外線試験を行った。試験条件は、波長400nm、照度中心部10w/cm、照度周辺部5w/cm、試験時間350時間とした。また、評価基準は、評価テスト3と同じである。結果は、○であった。
(Evaluation test 4)
The cured product was subjected to an ultraviolet resistance test using the above-described UV spot irradiation apparatus SP-9. The test conditions were a wavelength of 400 nm, an illuminance center part 10 w / cm 2 , an illuminance peripheral part 5 w / cm 2 , and a test time of 350 hours. The evaluation criteria are the same as those in the evaluation test 3. The result was ○.

(評価テスト5)
硬化物について、80℃、85%Rhの環境下で150時間の高温高湿テストを行った。評価基準は、評価テスト3と同じである。結果は、○であった。
(Evaluation test 5)
The cured product was subjected to a high temperature and high humidity test for 150 hours in an environment of 80 ° C. and 85% Rh. The evaluation criteria are the same as those in the evaluation test 3. The result was ○.

(評価テスト6)
硬化物について、60℃、60%Rhの環境下で140時間の高温高湿テストを行った。評価基準は、評価テスト3と同じである。結果は、○であった。
(Evaluation test 6)
The cured product was subjected to a high temperature and high humidity test for 140 hours in an environment of 60 ° C. and 60% Rh. The evaluation criteria are the same as those in the evaluation test 3. The result was ○.

(評価テスト7)
硬化物について、−40℃、120℃を600サイクル繰り返すヒートサイクルテストを行った。評価基準は、評価テスト3と同じである。結果は、○であった。
(Evaluation test 7)
About the hardened | cured material, the heat cycle test which repeats -40 degreeC and 120 degreeC 600 cycles was done. The evaluation criteria are the same as those in the evaluation test 3. The result was ○.

(評価テスト8)
硬化物を200℃の環境下で60時間放置した前後での引っ張り強度を測定した。測定器は、島津製作所製万能試験機(型番:AGS−1kNG)を用いた。その結果、初期データおよび試験後データは共に0.5MPaであり、60時間放置前後で変化しないことが分かった。
(Evaluation test 8)
The tensile strength was measured before and after the cured product was left in an environment of 200 ° C. for 60 hours. The measuring instrument used was a universal testing machine (model number: AGS-1kNG) manufactured by Shimadzu Corporation. As a result, it was found that both initial data and post-test data were 0.5 MPa and did not change before and after being left for 60 hours.

以下にPDMSを、原料液Aのみに入れた場合の実施例を示す。
(原料液の調製)
−原料液A−
テトライソプロポキシチタン(TIPT)(和光純薬工業社製)0.2質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)98質量%と、t−ブタノール(和光純薬工業社製)1.8質量%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Aを得た。
Examples where PDMS is put only in the raw material liquid A will be shown below.
(Preparation of raw material liquid)
-Raw material liquid A-
0.2% by mass of tetraisopropoxy titanium (TIPT) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 98% by mass of polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone) , T-butanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 1.8% by mass was mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid A.

−原料液B−
テトラエトキシシラン(TEOS)(関東化学社製)93質量%と、t−ブタノール(和光純薬工業社製)6.8質量%と、水0.2質量%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Bを得た。
-Raw material liquid B-
Tetraethoxysilane (TEOS) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 93% by mass, t-butanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 6.8% by mass, and water 0.2% by mass are mixed at room temperature. The mixture was stirred for 30 minutes to obtain a raw material liquid B.

(硬化樹脂成形物の作製)
上記原料液A:原料液B=7:1の質量比の割合で混合し、室温で30分間攪拌後(加水分解工程)、無色透明な液体を得た。
この液体をフッ素樹脂製シャーレ(型)に流し込み、120℃で4時間焼成を行い(脱水縮合工程)、透明な硬化物(硬化樹脂成形物)を得た。
(Production of cured resin molding)
The raw material liquid A was mixed at a mass ratio of the raw material liquid B = 7: 1, and after stirring for 30 minutes at room temperature (hydrolysis step), a colorless and transparent liquid was obtained.
This liquid was poured into a fluororesin petri dish (mold) and baked at 120 ° C. for 4 hours (dehydration condensation process) to obtain a transparent cured product (cured resin molded product).

以下に、実施例7におけるテトライソプロポキシチタン(TIPT)の代わりにテトラブトキシジルコニウム(TBZR)を用いた場合の実施例を示す。   An example in which tetrabutoxyzirconium (TBZR) is used in place of tetraisopropoxytitanium (TIPT) in Example 7 is shown below.

(原料液の調製)
−原料液A−
テトラブトキシジルコニウム(TBZR)(和光純薬工業社製)0.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)95.2質量%と、t−ブタノール(和光純薬工業社製)4.3質量%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Aを得た。
(Preparation of raw material liquid)
-Raw material liquid A-
Tetrabutoxyzirconium (TBZR) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.5% by mass and polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone) 95.2% by mass And t-butanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 4.3 mass% were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid A.

−原料液B−
テトラエトキシシラン(TEOS)(関東化学社製)93質量%と、t−ブタノール(和光純薬工業社製)6.8質量%と、水0.2質量%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Bを得た。
-Raw material liquid B-
Tetraethoxysilane (TEOS) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 93% by mass, t-butanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 6.8% by mass, and water 0.2% by mass are mixed at room temperature. The mixture was stirred for 30 minutes to obtain a raw material liquid B.

(硬化樹脂成形物の作製)
上記原料液A:原料液B=10:1の質量比の割合で混合し、室温で30分間攪拌後(加水分解工程)、無色透明な液体を得た。
この液体をフッ素樹脂製シャーレ(型)に流し込み、120℃で4時間焼成を行い(脱水縮合工程)、透明な硬化物(硬化樹脂成形物)を得た。
(Production of cured resin molding)
The raw material liquid A and the raw material liquid B were mixed at a mass ratio of 10: 1 and stirred at room temperature for 30 minutes (hydrolysis step) to obtain a colorless and transparent liquid.
This liquid was poured into a fluororesin petri dish (mold) and baked at 120 ° C. for 4 hours (dehydration condensation process) to obtain a transparent cured product (cured resin molded product).

以下に、実施例3における溶媒を酢酸エチルに変更した場合の実施例を示す。
(原料液の調製)
−原料液A−
テトラエトキシシラン(TEOS)(関東化学社製)20.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)77質量%と、酢酸エチル(和光純薬工業社製)2.4質量%と、水0.1%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Aを得た。
Below, the Example at the time of changing the solvent in Example 3 into ethyl acetate is shown.
(Preparation of raw material liquid)
-Raw material liquid A-
Tetraethoxysilane (TEOS) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 20.5% by mass, polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicones) 77% by mass, ethyl acetate 2.4% by mass (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.1% water were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid A.

−原料液B−
テトライソプロポキシチタン(TIPT)(和光純薬工業社製)0.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)83.5質量%と、酢酸エチル(和光純薬工業社製)16質量%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Bを得た。
-Raw material liquid B-
Tetraisopropoxy titanium (TIPT) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.5 mass% and polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone) 83.5 mass % And ethyl acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 16% by mass were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid B.

(硬化樹脂成形物の作製)
上記原料液A:原料液B=1:1の質量比の割合で混合し、室温で30分間攪拌後(加水分解工程)、無色透明な液体を得た。
この液体をフッ素樹脂製シャーレ(型)に流し込み、120℃で4時間焼成を行い(脱水縮合工程)、透明な硬化物(硬化樹脂成形物)を得た。
(Production of cured resin molding)
The raw material liquid A and the raw material liquid B were mixed at a mass ratio of 1: 1, and after stirring for 30 minutes at room temperature (hydrolysis step), a colorless and transparent liquid was obtained.
This liquid was poured into a fluororesin petri dish (mold) and baked at 120 ° C. for 4 hours (dehydration condensation process) to obtain a transparent cured product (cured resin molded product).

(比較例3)
以下に、実施例3における溶媒を、エタノールに変更した場合の比較例を示す。
(原料液の調製)
−原料液A−
テトラエトキシシラン(TEOS)(関東化学社製)20.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)77質量%と、エタノール(和光純薬工業社製)2.4質量%と、水0.1%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Aを得た。
(Comparative Example 3)
Below, the comparative example at the time of changing the solvent in Example 3 into ethanol is shown.
(Preparation of raw material liquid)
-Raw material liquid A-
Tetraethoxysilane (TEOS) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 20.5% by mass, polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone) 77% by mass, ethanol ( 2.4% by mass (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.1% water were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid A.

−原料液B−
テトライソプロポキシチタン(TIPT)(和光純薬工業社製)0.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)89.5質量%と、エタノール(和光純薬工業社製)10質量%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Bを得た。
-Raw material liquid B-
Tetraisopropoxy titanium (TIPT) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.5% by mass and polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone) 89.5 mass % And ethanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 10 mass% were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid B.

(硬化樹脂成形物の作製)
上記原料液A:原料液B=1:1の質量比の割合で混合し、室温で30分間攪拌後(加水分解工程)、無色透明な液体を得た。
この液体をフッ素樹脂製シャーレ(型)に流し込み、120℃で4時間焼成を行ったが(脱水縮合工程)、完全な硬化物(硬化樹脂成形物)は得られなかった。
(Production of cured resin molding)
The raw material liquid A and the raw material liquid B were mixed at a mass ratio of 1: 1, and after stirring for 30 minutes at room temperature (hydrolysis step), a colorless and transparent liquid was obtained.
This liquid was poured into a fluororesin petri dish (mold) and baked at 120 ° C. for 4 hours (dehydration condensation step), but a completely cured product (cured resin molded product) could not be obtained.

(比較例4)
以下に、実施例3における溶媒を、ジメチルホルムアミドに変更した場合の比較例を示す。
(Comparative Example 4)
Below, the comparative example at the time of changing the solvent in Example 3 into dimethylformamide is shown.

(原料液の調製)
−原料液A−
テトラエトキシシラン(TEOS)(関東化学社製)20.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)77質量%と、ジメチルホルムアミド(関東化学社製)2.4質量%と、水0.1%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Aを得た。
(Preparation of raw material liquid)
-Raw material liquid A-
Tetraethoxysilane (TEOS) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 20.5% by mass, polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicones) 77% by mass, dimethylformamide (Made by Kanto Chemical Co., Inc.) 2.4 mass% and water 0.1% were mixed, and this was stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid A.

−原料液B−
テトライソプロポキシチタン(TIPT)(和光純薬工業社製)0.5質量%と、ポリジメチルシロキサン(PDMS)(重量平均分子量:20000、商品名:XF3905、GE東芝シリコーン社製)86質量%と、ジメチルホルムアミド(関東化学社製)13.5質量%とを混合し、これを室温で30分攪拌し原料液Bを得た。
-Raw material liquid B-
0.5% by mass of tetraisopropoxy titanium (TIPT) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 86% by mass of polydimethylsiloxane (PDMS) (weight average molecular weight: 20000, trade name: XF3905, manufactured by GE Toshiba Silicone) And 13.5% by mass of dimethylformamide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) were mixed and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a raw material liquid B.

(硬化樹脂成形物の作製)
上記原料液A:原料液B=1:1の質量比の割合で混合し、室温で30分間攪拌後(加水分解工程)、白濁した液体を得た。
この液体をフッ素樹脂製シャーレ(型)に流し込み、120℃で4時間焼成を行ったが(脱水縮合工程)、無色透明な硬化物(硬化樹脂成形物)は得られず、白濁した硬化物が得られた。
(Production of cured resin molding)
The raw material liquid A and the raw material liquid B were mixed at a mass ratio of 1: 1, and after stirring for 30 minutes at room temperature (hydrolysis step), a cloudy liquid was obtained.
This liquid was poured into a fluororesin petri dish (mold) and baked at 120 ° C. for 4 hours (dehydration condensation process). However, a colorless and transparent cured product (cured resin molded product) was not obtained, and the cloudy cured product was Obtained.

前記した実施例は、説明のために例示したものであって、本発明としてはそれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲、発明の詳細な説明の記載から当業者が認識することができる本発明の技術的思想に反しない限り、変更および付加が可能である。   The above-described embodiments are illustrated for the purpose of explanation, and the present invention is not limited to them. Those skilled in the art will recognize from the claims and the detailed description of the invention. Modifications and additions can be made without departing from the technical idea of the present invention.

Claims (5)

2種以上の金属アルコキシドと、オルガノポリシロキサンとを反応触媒を添加することなく縮合反応させてなることを特徴とする光学素子用樹脂組成物   A resin composition for an optical element, characterized in that a condensation reaction of two or more metal alkoxides and an organopolysiloxane is carried out without adding a reaction catalyst. 前記2種以上の金属アルコキシドが、ケイ素アルコキシド及びチタンアルコキシドを含む請求項1に記載の光学素子用樹脂組成物   The resin composition for an optical element according to claim 1, wherein the two or more metal alkoxides include a silicon alkoxide and a titanium alkoxide. 60℃の雰囲気で、波長365nm、光量3000mW/cmの光を24時間照射後の350〜800nmにおける光透過率が、80%以上である請求項1または請求項2に記載の光学素子用樹脂組成物 The optical element resin according to claim 1 or 2, wherein a light transmittance at 350 to 800 nm after irradiation with light having a wavelength of 365 nm and a light amount of 3000 mW / cm 2 for 24 hours in an atmosphere of 60 ° C is 80% or more. Composition 200℃の雰囲気に200時間放置後の350〜800nmにおける光透過率が、85%以上である請求項1、請求項2または請求項3に記載の光学素子用樹脂組成物   4. The resin composition for an optical element according to claim 1, wherein the light transmittance at 350 to 800 nm after being left in an atmosphere of 200 ° C. for 200 hours is 85% or more. 5. 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学素子用樹脂組成物に用いる硬化性樹脂組成物であって、
複数の金属アルコキシド及びオルガノポリシロキサンを含む硬化性樹脂組成物
A curable resin composition used for the resin composition for an optical element according to any one of claims 1 to 4,
Curable resin composition comprising a plurality of metal alkoxides and organopolysiloxane
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