JP2008229449A - 洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、短時間かつ低コストでの構成部材の洗浄を可能とする。
【解決手段】成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄方法であって、上記付着物と上記構成部材との密着力を低減させるプラズマエッチング処理と、上記プラズマエッチング処理によって上記構成部材との密着力が低減した上記付着物を水にて洗い流す水洗処理とを有する。
【選択図】図1
【解決手段】成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄方法であって、上記付着物と上記構成部材との密着力を低減させるプラズマエッチング処理と、上記プラズマエッチング処理によって上記構成部材との密着力が低減した上記付着物を水にて洗い流す水洗処理とを有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、洗浄方法に関するものである。
従来から、液晶装置等の製造工程では、基板等の処理対象物に対して所定材料からなる膜を形成するための成膜装置が用いられている。このような成膜装置では、チャンバ内部に材料源及び処理対象物を配置し、材料源から材料を放出させて処理対象物に付着させることによって成膜を行っている。
ところで、成膜装置では、材料源から放射状に材料が放出されるため、放出された材料が処理対象物以外の箇所にも付着する。このため、処理対象物以外の箇所にも成膜されてしまう。処理対象物以外の箇所に形成された膜は、徐々に膜厚を増し、いずれ剥離してパーティクルとなってしまう。
このため、成膜装置は、チャンバから取り外し可能な防着板をチャンバの壁部を覆うように配置し、定期的に防着板を取り外して洗浄を行うことによって、パーティクルが発生することを防止している。また、防着板にて覆えない箇所については、個別に取り外し可能とし、定期的な洗浄が可能とされている。このように、成膜装置の構成部材のうち、放出された材料が付着される構成部材は、取り外しが可能とされており、定期的に洗浄が行われている。
このため、成膜装置は、チャンバから取り外し可能な防着板をチャンバの壁部を覆うように配置し、定期的に防着板を取り外して洗浄を行うことによって、パーティクルが発生することを防止している。また、防着板にて覆えない箇所については、個別に取り外し可能とし、定期的な洗浄が可能とされている。このように、成膜装置の構成部材のうち、放出された材料が付着される構成部材は、取り外しが可能とされており、定期的に洗浄が行われている。
成膜装置の構成部材の洗浄方法としては、いわゆるブラスト方法やウェットエッチング方法、ドライエッチング方法等が用いられている。
ブラスト方法は、ガラスビーズやサンド等を砥粒として用い、該砥粒にて構成部材を研磨することによって付着物を剥離する方法である。また、ウェットエッチング方法は、薬液によって付着物を溶解させて剥離する方法である。また、ドライエッチング方法は、プラズマを用いて気相中にて構成部材の表面をエッチングすることによって付着物を除去する方法である。
特開平6−49626号公報
ブラスト方法は、ガラスビーズやサンド等を砥粒として用い、該砥粒にて構成部材を研磨することによって付着物を剥離する方法である。また、ウェットエッチング方法は、薬液によって付着物を溶解させて剥離する方法である。また、ドライエッチング方法は、プラズマを用いて気相中にて構成部材の表面をエッチングすることによって付着物を除去する方法である。
しかしながら、従来の洗浄方法は以下のような問題を有している。
ブラスト方法は、砥粒が構成部材に残留し、成膜装置内においてパーティクルとなる虞がある。また、ウェットエッチング方法では、成膜装置にて用いられる材料に応じて薬液を使い分ける必要があるとともに、洗浄コストが高くなる。ドライエッチング方法では、完全に付着物を除去するまでの処理時間が長くなるとともに、洗浄コストが高くなる。
ブラスト方法は、砥粒が構成部材に残留し、成膜装置内においてパーティクルとなる虞がある。また、ウェットエッチング方法では、成膜装置にて用いられる材料に応じて薬液を使い分ける必要があるとともに、洗浄コストが高くなる。ドライエッチング方法では、完全に付着物を除去するまでの処理時間が長くなるとともに、洗浄コストが高くなる。
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、短時間かつ低コストでの構成部材の洗浄を可能とすることを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の洗浄方法は、成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄方法であって、上記付着物と上記構成部材との密着力を低減させるプラズマエッチング処理と、上記プラズマエッチング処理によって上記構成部材との密着力が低減した上記付着物を水にて洗い流す水洗処理とを有することを特徴とする。
このような特徴を有する本発明の洗浄方法によれば、プラズマエッチング処理によって付着物と構成部材との密着力が低減され、水洗処理によって密着力が低減した付着物が水によって洗い流される。プラズマエッチング処理によって付着物と構成部材との密着力を低減させる処理は、プラズマエッチング処理によって付着物を完全に除去する場合と比べて極めて短時間にて行うことができる。また、水洗処理は、構成部材を水にて洗う処理であるため、安価に短時間に行うことができる。
したがって、本発明の洗浄方法によれば、洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、短時間かつ低コストでの構成部材の洗浄を可能とする。
したがって、本発明の洗浄方法によれば、洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、短時間かつ低コストでの構成部材の洗浄を可能とする。
また、本発明の洗浄方法においては、上記構成部材は、ステンレス鋼からなるという構成を採用することができる。
また、本発明の洗浄方法においては、上記構成部材は、ステンレス鋼からなる母材と、該母材の表面に溶射されたアルミニウムが凝固したアルミニウム層とを備えるという構成を採用することもできる。
また、本発明の洗浄方法においては、上記構成部材は、ステンレス鋼からなる母材と、該母材の表面に溶射されたアルミニウムが凝固したアルミニウム層とを備えるという構成を採用することもできる。
以下、図面を参照して、本発明に係る洗浄方法の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
また、本実施形態においては、成膜装置の処理雰囲気に設置された防着板(成膜装置の構成部材)を洗浄する洗浄方法について説明する。
本実施形態の洗浄方法の説明に先立ち、防着板が設置される成膜装置について説明する。
本実施形態の洗浄方法の説明に先立ち、防着板が設置される成膜装置について説明する。
図1は、成膜装置100の概略構成を示す断面図である。この図に示すように、成膜装置100は、真空ポンプ102が接続されたチャンバ104を備えている。そのチャンバ104の内部には、基板ホルダ110が設けられている。この基板ホルダ110には、成膜処理の対象となる基板Pが下向きに保持されるようになっている。一方、基板ホルダ110と対向するように、成膜材料124が充填されるルツボ120が設けられている。そのルツボ120にはフィラメント122が敗戦され、ルツボ内の成膜材料124を加熱しうるようになっている。そして、ルツボ120から放出された材料がチャンバ104の内壁等に付着するのを防止するための防着板130が設置されている。すなわち、防着板130は、成膜装置の処理雰囲気に設置されている。
このような成膜装置を用いて成膜処理を行うには、まず基板ホルダ110に基板Pを装着するとともに、ルツボ120に成膜材料124を充填する。次に、チャンバ104に接続された真空ポンプ102を運転して、チャンバ104の内部を真空引きする。次に、ルツボ120に配線されたフィラメント122に通電し、フィラメント122を発熱させて、ルツボ内の成膜材料124を加熱する。すると、成膜材料124が蒸発して、基板Pの表面に付着する。そして、このような成膜処理の過程において、基板P以外の方向に飛散した成膜材料が、防着板130の表面に付着する。なお、本実施形態において、成膜材料124は、酸化珪素である。
この防着板130は、チャンバ104に対して脱着可能とされており、定期的に取り外され、成膜装置100の外部にて洗浄されて再生される。図2は、防着板130の断面図である。この図に示すように、本実施形態においては、防着板130は、ステンレス鋼からなる母材131と、該母材131の表面に溶射されたアルミニウムが凝固したアルミニウム層132とを備えている。
そして、本実施形態の洗浄方法は、上述の防着板130の表面に付着した付着物である成膜材料124を除去するためのものである。
そして、本実施形態の洗浄方法は、上述の防着板130の表面に付着した付着物である成膜材料124を除去するためのものである。
(洗浄方法)
次に、本実施形態の洗浄方法について説明する。図3は、本実施形態の洗浄方法を示すフローチャートである。この図に示すように、本実施形態の洗浄方法は、プラズマエッチング処理工程(ステップS1)と、水洗処理工程(ステップS2とを有している。)
次に、本実施形態の洗浄方法について説明する。図3は、本実施形態の洗浄方法を示すフローチャートである。この図に示すように、本実施形態の洗浄方法は、プラズマエッチング処理工程(ステップS1)と、水洗処理工程(ステップS2とを有している。)
図4は、プラズマエッチング処理工程S1にて用いるプラズマエッチング処理装置200の概略構成図である。なお、本実施形態のプラズマエッチング処理装置200では、いわゆるリモートプラズマ処理方法を採用するものであり、反応ガス供給部201と、プラズマ発生部202と、反応装置203とを備えている。
反応ガス供給部201は、配管204を介してプラズマ発生部202に反応ガスを供給するものである。
プラズマ発生部202は、反応ガス供給部201から供給された反応ガスを励起し、励起ガスを配管205を介して反応装置203に供給するものであり、例えば誘導結合型プラズマ源を有する真空容器及び高周波電源を備えるものを用いることができる。
反応装置203は、内部に防着板130を載置するための防着板ホルダ206を備えており、該防着板ホルダ206に載置された防着板130を、プラズマ発生部202から供給された励起ガスにてエッチング処理するものである。
反応ガス供給部201は、配管204を介してプラズマ発生部202に反応ガスを供給するものである。
プラズマ発生部202は、反応ガス供給部201から供給された反応ガスを励起し、励起ガスを配管205を介して反応装置203に供給するものであり、例えば誘導結合型プラズマ源を有する真空容器及び高周波電源を備えるものを用いることができる。
反応装置203は、内部に防着板130を載置するための防着板ホルダ206を備えており、該防着板ホルダ206に載置された防着板130を、プラズマ発生部202から供給された励起ガスにてエッチング処理するものである。
このようなプラズマエッチング処理装置200では、まず、反応ガス供給部201から配管204を介して反応ガスがプラズマ発生部202に供給され、プラズマ発生部202にて供給された反応ガスが励起された励起ガスが生成される。そして、生成された励起ガスは、配管205を介して反応装置203に供給される。この結果、防着板130に付着された付着物である成膜材料124がエッチングされる。
成膜材料124のエッチングは徐々に進行するが、進行の過程において、成膜材料124が徐々に分解され、これによって成膜材料124と防着板130との密着力が低減される。
そして、本実施形態の洗浄方法において、プラズマエッチング処理工程S1とは、付着物である成膜材料124と防着板130との密着力を低減させる工程である。なお、プラズマエッチング処理工程S1では、成膜材料124が完全になくなるまでエッチング処理する工程ではなく、あくまでも成膜材料124と防着板130との密着力を低減させる工程である。このため、プラズマエッチング処理工程S1が終了した後であっても、付着物である成膜材料124は防着板130に対して付着した状態のままである。
成膜材料124のエッチングは徐々に進行するが、進行の過程において、成膜材料124が徐々に分解され、これによって成膜材料124と防着板130との密着力が低減される。
そして、本実施形態の洗浄方法において、プラズマエッチング処理工程S1とは、付着物である成膜材料124と防着板130との密着力を低減させる工程である。なお、プラズマエッチング処理工程S1では、成膜材料124が完全になくなるまでエッチング処理する工程ではなく、あくまでも成膜材料124と防着板130との密着力を低減させる工程である。このため、プラズマエッチング処理工程S1が終了した後であっても、付着物である成膜材料124は防着板130に対して付着した状態のままである。
実際には、成膜材料124がSiO2である場合に、プラズマエッチング処理装置200では、反応ガスとしてC3F6、O2を用い、反応ガス流量を、O2が2000sccm、C3F6がO2の30%以下とする。そして、パワーを10kW(MAX)とし、10〜30分のプラズマエッチング処理を行う。防着板130に付着した成膜材料124を完全に除去するには、同条件にて1時間以上のプラズマエッチング処理を行う必要があるため、本実施形態の洗浄方法におけるプラズマエッチング処理は、短時間の処理となる。
図5は、水洗処理工程S2にて用いられる水洗処理装置300の概略構成図である。この水洗処理装置300は、チャンバ302と、ノズルヘッド303と、水供給部304と、移動部305と、防着板ホルダ306とを備えている。
チャンバ302は、防着板130を洗浄するための空間を囲うものであり、洗浄空間を形成している。そして、チャンバ302の内部にノズルヘッド303、水供給部304、移動部305及び防着板ホルダ306が載置されている。
ノズルヘッド303は、水供給部304から供給される水Wを防着板130に向けて噴射するものであり、例えば複数のノズルを介して水Wを噴射する。このノズルヘッド303は、チャンバ302によって形成された洗浄空間の上方に位置されており、下方に向けて水Wを噴射可能とされている。
水供給部304は、水Wを、フレキシブルチューブ307を介してノズルヘッド303に供給するものである。
移動部305は、ノズルヘッド303を支持するとともに、ノズルヘッド303を水平方向に移動するためのものである。この移動部305としては、図6の模式図に示すように、例えば、ノズルヘッド303を水平に縦横に移動可能とするXYテーブルを用いることができる。
防着板ホルダ306は、防着板130を支持するものであり、防着板130の洗浄を行う面を上方に向けた状態にて防着板130を支持する。
次に、このような水洗装置300では、防着板ホルダ306によって防着板130が支持された状態にて、移動部305によってノズルヘッド303が防着板130の上方に移動される。
続いて、水供給部304から水Wをフレキシブルチューブ307を介してノズルヘッド303に供給し、ノズルヘッド303から防着板130に向けて水Wを噴射する。
そして、ノズルヘッド303が移動部305によって、防着板130との距離を保ちながら水平に移動され、これによって防着板130の全体に水Wが噴射される。
この結果、付着物である成膜材料124が付着した防着板130の面に水Wが噴射され、付着物である成膜材料が剥離して除去される。
続いて、水供給部304から水Wをフレキシブルチューブ307を介してノズルヘッド303に供給し、ノズルヘッド303から防着板130に向けて水Wを噴射する。
そして、ノズルヘッド303が移動部305によって、防着板130との距離を保ちながら水平に移動され、これによって防着板130の全体に水Wが噴射される。
この結果、付着物である成膜材料124が付着した防着板130の面に水Wが噴射され、付着物である成膜材料が剥離して除去される。
ここで、本実施形態においては、上述のプラズマエッチング処理工程S1にて、付着物である成膜材料124と防着板130との密着力が低減されている。このため、水洗処理工程S2にて、水洗装置300を用いて防着板130に水Wを噴射することによって、容易に成膜材料124が防着板130から剥離する。
このように、本実施形態の洗浄方法において、水洗処理工程S2とは、プラズマエッチング処理工程S1によって防着板130との密着力が低減した成膜材料124を水Wにて洗い流す工程である。
このように、本実施形態の洗浄方法において、水洗処理工程S2とは、プラズマエッチング処理工程S1によって防着板130との密着力が低減した成膜材料124を水Wにて洗い流す工程である。
このような本実施形態の洗浄方法によれば、プラズマエッチング処理によって付着物である成膜材料124と防着板130との密着力が低減され、水洗処理によって密着力が低減した成膜材料124が水Wによって洗い流される。プラズマエッチング処理によって成膜材料124と防着板130との密着力を低減させる処理は、プラズマエッチング処理によって成膜材料124を完全に除去する場合と比べて極めて短時間にて行うことができる。また、水洗処理は、防着板130を水にて洗う処理であるため、安価に短時間に行うことができる。
したがって、本実施形態の洗浄方法によれば、洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、短時間かつ低コストでの防着板130の洗浄を可能となる。
したがって、本実施形態の洗浄方法によれば、洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、短時間かつ低コストでの防着板130の洗浄を可能となる。
以上、本発明の一実施形態として洗浄方法を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各請求項に記載した範囲を逸脱しない限り、各請求項の記載文言に限定されず、当業者がそれらから容易に置き換えられる範囲にも及び、且つ当業者が通常有する知識に基づく改良を適宜付加することができる。
例えば、上記実施形態においては、防着板130が、母材131とアルミニウム層132とによって構成されている例について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、防着板130がステンレス鋼の母材のみからなる構成であっても良い。このような場合には、アルミニウム層132の剥離を考慮せずに洗浄を行うことができる。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、防着板130がステンレス鋼の母材のみからなる構成であっても良い。このような場合には、アルミニウム層132の剥離を考慮せずに洗浄を行うことができる。
また、上記実施形態においては、成膜装置の構成部材の一例として防着板を挙げ、当該防着板を洗浄する方法について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、成膜装置の他の構成部材(例えば、材料の通過領域を規定するためのシャッター等)を洗浄する方法にも適用することが可能である。
また、上記実施形態においては、プラズマエッチング処理工程において、リモートプラズマ処理方法を用いるプラズマエッチング処理装置200を用いた。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、バレル型や平行平板型のプラズマエッチング処理装置を用いることもできる。
また、上記実施形態の洗浄方法においては、水洗装置300の移動部305として、XYテーブルを用いる例について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、水洗装置300の移動部305として6自由度のロボットアームを用いても良い。また、移動部305を備えず作業者によってノズルヘッド303が把持可能な構成としても良い。また、防着板ホルダ306を回転可能としても良い。また、ノズルヘッド303を複数備えていても良い。
100……成膜装置、200……プラズマエッチング処理装置、300……水洗処理装置、130……防着板、131……母材、132……アルミニウム層、W……水
Claims (3)
- 成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄方法であって、
前記付着物と前記構成部材との密着力を低減させるプラズマエッチング処理と、
前記プラズマエッチング処理によって前記構成部材との密着力が低減した前記付着物を水にて洗い流す水洗処理と
を有することを特徴とする洗浄方法。 - 前記構成部材は、ステンレス鋼からなることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記構成部材は、前記構成部材は、ステンレス鋼からなる母材と、該母材の表面に溶射されたアルミニウムが凝固したアルミニウム層とを備えることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007070906A JP2008229449A (ja) | 2007-03-19 | 2007-03-19 | 洗浄方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104368566A (zh) * | 2013-08-14 | 2015-02-25 | 台山市华兴光电科技有限公司 | 磷化铟生长坩埚清洗方法 |
-
2007
- 2007-03-19 JP JP2007070906A patent/JP2008229449A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Legal Events
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