JP2008225452A5 - - Google Patents

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光学素子用成形体Molded body for optical element

本発明は、偏光板等の光学素子を製造するための光学素子用成形体に関する。   The present invention relates to an optical element molded body for producing an optical element such as a polarizing plate.

最近の液晶テレビに代表される薄型ディスプレイ市場の拡大に伴い、より鮮明な画像をより低価格で得たいという要求が高まっている。これを実現するために重要となるのが偏光板等の光学素子である。   With the recent expansion of the thin display market represented by liquid crystal televisions, there is an increasing demand for clearer images at a lower price. What is important for realizing this is an optical element such as a polarizing plate.

光学素子には湿度等の外部環境に対する耐久性を高めるために保護フイルムが積層されていることがある。そして、このような光学素子の保護フイルムには、高い透明性が要求されるため、これまではトリアセチルセルロースフィルムが多く用いられてきた(非特許文献1)。
しかし、トリアセチルセルロースフィルムは透湿度が高いため、高温多湿の条件下での耐久性が劣るという欠点を持っている。特に、光学素子が、偏光フイルムの両面に保護フイルムを積層した偏光板である場合、偏光フイルムはポリビニルアルコール系樹脂フィルム等にヨウ素や二色性染料を吸着させた配位構造を有し、この配位構造が水分により損傷されやすいため、保護フイルムとして透湿度の低いものを用いると偏光板の劣化が顕著である。
In some cases, a protective film is laminated on the optical element in order to enhance durability against an external environment such as humidity. And since the protective film of such an optical element requires high transparency, many triacetyl cellulose films have been used until now (nonpatent literature 1).
However, since the triacetyl cellulose film has a high moisture permeability, it has a disadvantage that the durability under high-temperature and high-humidity conditions is poor. In particular, when the optical element is a polarizing plate in which a protective film is laminated on both sides of a polarizing film, the polarizing film has a coordination structure in which iodine or a dichroic dye is adsorbed on a polyvinyl alcohol resin film or the like. Since the coordination structure is easily damaged by moisture, when a protective film having a low moisture permeability is used, the polarizing plate is significantly deteriorated.

この問題に対して、透湿度の低い光学素子用保護フイルムとして、非晶性ポリオレフィン系樹脂(熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂)を使用することが試みられている。(特許文献1)しかし、非晶性ポリオレフィン系樹脂はその透湿度が極めて低いため、今度は光学素子の内部の水分が外部に放出されず、その結果、光学素子が変形し、光学素子としての機能を損なうという問題が生じる。   In order to solve this problem, an attempt has been made to use an amorphous polyolefin resin (thermoplastic saturated norbornene resin) as a protective film for an optical element having a low moisture permeability. However, since the moisture permeability of the amorphous polyolefin-based resin is extremely low, the moisture inside the optical element is not released to the outside. As a result, the optical element is deformed, and the optical element is used as an optical element. The problem of loss of function arises.

井出文雄監修、「ディスプレイ用光学フィルム」、シーエムシー出版、2004年Supervised by Fumio Ide, “Optical Film for Display”, CM Publishing, 2004 特開平8−43812号公報JP-A-8-43812

このような状況から、吸水率と水蒸気透過度を所望の値に調整できる光学素子用成形体が望まれている。   From such a situation, a molded body for an optical element that can adjust water absorption and water vapor permeability to desired values is desired.

本発明の課題は、吸水率と水蒸気透過度を所望の値に調整できる光学素子用成形体を提供することである。   The subject of this invention is providing the molded object for optical elements which can adjust a water absorption and water vapor permeability to a desired value.

本発明者らは、光学素子の保護フイルムに用いることができる材料について鋭意検討を行った結果、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含む樹脂組成物は、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)との質量比を調整することにより、これを成形した場合に、吸水率が少なく、適度な水蒸気透過度を有する適度の透湿度を有する成形体が得られることを見出した。   As a result of intensive studies on materials that can be used for a protective film of an optical element, the present inventors have found that a resin composition containing an acrylic resin (A) and a styrene resin (B) is an acrylic resin ( By adjusting the mass ratio between A) and the styrene-based resin (B), when this is molded, a molded product having a low moisture absorption and an appropriate moisture permeability can be obtained. I found.

さらに、本発明者らは、アクリル系樹脂(A)及びスチレン系樹脂(B)とを含む樹脂組成物の成形体は、所望のレタデーションを付与することが容易であるため、保護フィルムとしてだけではなく、位相差フイルムとしても機能させることが可能であることを見い出した。具体的には、アクリル系樹脂(A)及びスチレン系樹脂(B)とを含む樹脂組成物の成形体を、偏光板の保護フイルムとしてだけではなく、位相差フイルムとして兼用することにより、保護フィルムの上に別途、位相差フィルムを接着することを省いて偏光板の薄肉化を図ると共に、生産性、耐久性に優れた偏光板を製造することができることを見出した。   Furthermore, since the present inventors can easily give a desired retardation to a molded product of a resin composition containing an acrylic resin (A) and a styrene resin (B), It was also found that it can function as a phase difference film. Specifically, a protective film is obtained by using a molded product of a resin composition containing an acrylic resin (A) and a styrene resin (B) not only as a protective film for a polarizing plate but also as a retardation film. It has been found that a polarizing plate having excellent productivity and durability can be produced while the thickness of the polarizing plate is reduced by omitting the adhesion of the retardation film separately.

本発明によれば、レタデーションの制御が容易で、しかも、水蒸気透過度を適度な値に制御することが可能な光学素子用成形体を製造することができる。
また、本発明によれば、さらに、生産性、耐久性に優れる偏光板を製造することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the control of retardation is easy, and also the molded object for optical elements which can control water vapor permeability to an appropriate value can be manufactured.
Moreover, according to the present invention, a polarizing plate excellent in productivity and durability can be produced.

本発明において用いる光学材料用樹脂組成物は、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含む。
本発明においてアクリル系樹脂とは、アクリル酸、メタクリル酸又はこれらの誘導体を単量体成分として含む重合体をいう。
本発明におけるアクリル系樹脂(A)の具体例としては、例えば、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル等のアクリル酸エステル、より選ばれる1種以上の単量体を重合したものが挙げられる。
The resin composition for optical materials used in the present invention contains an acrylic resin (A) and a styrene resin (B).
In the present invention, the acrylic resin refers to a polymer containing acrylic acid, methacrylic acid or a derivative thereof as a monomer component.
Specific examples of the acrylic resin (A) in the present invention include, for example, methacrylic acid esters such as cyclohexyl methacrylate, t-butyl cyclohexyl methacrylate, and methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, and acrylic. Examples thereof include those obtained by polymerizing one or more monomers selected from acrylic acid esters such as isopropyl acid and 2-ethylhexyl acrylate.

なお、アクリル系樹脂(A)には、アクリル酸、メタクリル酸又はこれらの誘導体と、他の単量体成分を共重合したものも含まれるが、このような他の単量体成分の含量(共重合割合)は、アクリル系樹脂(A)に対して50質量%未満であることが好ましく、より好ましくは40質量%未満、さらに好ましくは30質量%未満である。   The acrylic resin (A) includes those obtained by copolymerizing acrylic acid, methacrylic acid or their derivatives and other monomer components. The content of such other monomer components ( The copolymerization ratio) is preferably less than 50% by mass relative to the acrylic resin (A), more preferably less than 40% by mass, and even more preferably less than 30% by mass.

これらの中でも、メタクリル酸メチルを単量体成分として含む重合体は、スチレン系樹脂(B)の好ましい例である、スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1)、スチレン−メタクリル酸共重合体(B−2)、スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−3)との相溶性が高いため、特に好ましい。   Among these, the polymer containing methyl methacrylate as a monomer component is a preferred example of the styrene resin (B), which is a styrene-acrylonitrile copolymer (B-1), a styrene-methacrylic acid copolymer ( Since B-2) and the compatibility with a styrene-maleic anhydride copolymer (B-3) are high, it is especially preferable.

メタクリル酸メチルを単量体成分として含む重合体としては、メタクリル酸メチルの単独重合体、他の単量体との共重合体いずれでもよい。
メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体としては、メタクリル酸メチル以外のメタリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン等の核アルキル置換スチレンやα−メチルスチレン、α−メチル−p−メ
チルスチレン等のα−アルキル置換スチレン等の芳香族ビニル化合物類;アクリロニトリ
ル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類;N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類;無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類;アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類が挙げられる。
これらの単量体は、一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
The polymer containing methyl methacrylate as a monomer component may be either a homopolymer of methyl methacrylate or a copolymer with other monomers.
Monomers copolymerizable with methyl methacrylate include methacrylic acid alkyl esters other than methyl methacrylate, acrylic acid alkyl esters, styrene, o-methyl styrene, p-methyl styrene, 2,4-dimethyl styrene, Aromatic vinyl compounds such as ethyl styrene, p-tert-butyl styrene, etc., nuclear alkyl-substituted styrene, α-methyl styrene, α-alkyl-substituted styrene, such as α-methyl-p-methyl styrene; acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Examples thereof include vinyl cyanides; maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride; unsaturated acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid.
These monomers can be used alone or in combination of two or more.

これらのメタクリル酸メチルと共重合可能な単量体の中でも、特にアクリル酸アルキルエステル類は、耐熱分解性に優れ、これを共重合させて得られるアクリル系樹脂は成形加工時の流動性が高いため好ましい。メタクリル酸メチルにアクリル酸アルキルエステル類を共重合させる場合のアクリル酸アルキルエステル類の使用量は、耐熱分解性の観点から0.1重量%以上であることが好ましく、耐熱性の観点から15重量%以下であることが好ましい。0.2重量%以上14重量%以下であることがさらに好ましく、1重量%以上12重量%以下であることがとりわけ好ましい。
アクリル酸アルキルエステル類の中でも、特にアクリル酸メチル及びアクリル酸エチルは、少量メタクリル酸メチルと共重合させるだけで前述の成形加工時の流動性の改良効果が著し得られるため最も好ましい。
Among these monomers that can be copolymerized with methyl methacrylate, acrylic acid alkyl esters are particularly excellent in heat decomposability, and acrylic resins obtained by copolymerizing these have high fluidity during molding. Therefore, it is preferable. The amount of alkyl acrylates used when methyl acrylate is copolymerized with methyl methacrylate is preferably 0.1% by weight or more from the viewpoint of thermal decomposition resistance, and 15% from the viewpoint of heat resistance. % Or less is preferable. The content is more preferably 0.2% by weight or more and 14% by weight or less, and particularly preferably 1% by weight or more and 12% by weight or less.
Among the alkyl acrylates, methyl acrylate and ethyl acrylate are most preferable because the effect of improving the fluidity at the time of the molding process can be remarkably obtained only by copolymerizing with a small amount of methyl methacrylate.

アクリル系樹脂(A)の重量平均分子量は、5万〜20万であることが望ましい。アクリル系樹脂(A)の重量平均分子量は成形品の強度の観点から5万以上が望ましく、成形加工性、流動性の観点から20万以下が望ましい。さらに望ましい範囲は7万〜15万である。   The weight average molecular weight of the acrylic resin (A) is desirably 50,000 to 200,000. The weight average molecular weight of the acrylic resin (A) is preferably 50,000 or more from the viewpoint of the strength of the molded product, and preferably 200,000 or less from the viewpoint of molding processability and fluidity. A more desirable range is 70,000 to 150,000.

また、本発明においてはアイソタクチックポリメタクリル酸エステルとシンジオタクチックポリメタクリル酸エステルを同時に用いることもできる。   In the present invention, isotactic polymethacrylate and syndiotactic polymethacrylate can be used simultaneously.

アクリル系樹脂(A)を製造する方法として、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、光学用途としては微小な異物の混入はできるだけ避けるのが好ましく、この観点からは懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が望ましい。
溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調整した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
As a method for producing the acrylic resin (A), for example, generally used polymerization methods such as cast polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, anionic polymerization, and the like can be used. It is preferable to avoid the introduction of minute foreign substances as much as possible. From this viewpoint, bulk polymerization or solution polymerization without using a suspending agent or an emulsifier is desirable.
When solution polymerization is performed, a solution prepared by dissolving a mixture of monomers in an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or ethylbenzene can be used. In the case of polymerization by bulk polymerization, the polymerization can be started by irradiation with free radicals generated by heating or ionizing radiation as is usually done.

重合反応に用いられる開始剤としては、ラジカル重合において一般に用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えば、アゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物を用いることができる。
特に、90℃以上の高温下で重合を行わせる場合には、溶液重合が一般的であるので、10時間半減期温度が80℃以上で、かつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤などが好ましい。具体的には1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメ チル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。 これらの開始剤は、例えば、0.005〜5wt%の範囲で用いることができる。
As the initiator used in the polymerization reaction, any initiator generally used in radical polymerization can be used, and examples thereof include azo compounds such as azobisisobutylnitrile, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, and t-butyl peroxide. Organic peroxides such as oxy-2-ethylhexanoate can be used.
In particular, when polymerization is carried out at a high temperature of 90 ° C. or higher, solution polymerization is common, so that the 10-hour half-life temperature is 80 ° C. or higher and a peroxide that is soluble in the organic solvent used, An azobis initiator is preferred. Specifically, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, cyclohexane peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 1, Examples thereof include 1-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile) and 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile. These initiators can be used in the range of 0.005 to 5 wt%, for example.

重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤としては、ラジカル重合において一般に用いられる任意のものを使用でき、例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸2−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が特に好ましいものとして挙げられる。
これらの分子量調節剤は、アクリル系樹脂(A)の重合度が好ましい範囲内に制御されるような濃度範囲で添加される。
As the molecular weight regulator used as necessary for the polymerization reaction, any one generally used in radical polymerization can be used. For example, mercaptan compounds such as butyl mercaptan, octyl mercaptan, dodecyl mercaptan, 2-ethylhexyl thioglycolate, etc. Particularly preferred.
These molecular weight regulators are added in a concentration range such that the polymerization degree of the acrylic resin (A) is controlled within a preferable range.

具体的な製造方法としては、特公昭63−1964号公報等に記載されている方法等を用いることができる。
また、アクリル系樹脂(A)として、分子量、組成等が異なる2種以上のものを同時に用いることができる。
As a specific production method, a method described in JP-B 63-1964 and the like can be used.
Further, as the acrylic resin (A), two or more kinds having different molecular weights, compositions, etc. can be used at the same time.

アクリル系樹脂(A)の23℃における未延伸時の光弾性係数は、−60×10-12
Pa-1以上であることが好ましく、−30×10-12Pa-1以上であることがさら
に好ましく、−6×10-12Pa-1以上であることがとりわけ好ましい。アクリル系
樹脂(A)の光弾性係数がこの範囲にあると、本発明の光学樹脂用組成物からなる成形体の光弾性係数を小さくすることができ、かつ、所望の厚み方向レタデーション(Rth)を付与することが可能となるため好ましい。
The photoelastic coefficient of the acrylic resin (A) when not stretched at 23 ° C. is −60 × 10 −12.
It is preferably Pa −1 or more, more preferably −30 × 10 −12 Pa −1 or more, and particularly preferably −6 × 10 −12 Pa −1 or more. When the photoelastic coefficient of the acrylic resin (A) is in this range, the photoelastic coefficient of the molded article made of the composition for optical resin of the present invention can be reduced, and a desired thickness direction retardation (Rth) is obtained. Can be imparted, which is preferable.

本発明における「光弾性係数」とは、外力による複屈折の変化の生じやすさを表す係数で、これに関しては種種の文献に記載があり(例えば化学総説、No.39、1998(学会出版センター発行))、下式により定義される。
R[Pa-1]=Δn/σR Δn=nx−ny
(式中、CR:光弾性係数、σR:伸張応力[Pa]、Δn:応力付加時の複屈折、nx
:伸張方向と平行な方向の屈折率、ny:伸張方向と垂直な方向の屈折率)
光弾性係数の値がゼロに近いほど外力による複屈折の変化が小さいことを示しており、各用途において設計された複屈折が外力によって変化が小さいことを意味し、光学特性に優れることになる。
The “photoelastic coefficient” in the present invention is a coefficient representing the ease with which birefringence changes due to external force, and is described in various literatures (for example, Chemical Review, No. 39, 1998 (Academic Publishing Center) Issue)), defined by the following formula.
C R [Pa −1 ] = Δn / σ R Δn = nx−ny
(In the formula, C R : Photoelastic coefficient, σ R : Extension stress [Pa], Δn: Birefringence when stress is applied, nx
: Refractive index in the direction parallel to the stretching direction, ny: refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction)
The closer the value of the photoelastic coefficient is to zero, the smaller the change in birefringence due to external force. This means that the birefringence designed for each application is small in change due to external force, and has superior optical characteristics. .

本発明において、スチレン系樹脂(B)とは、少なくともスチレン系単量体を単量体成分として含む重合体をいう。ここで、スチレン系単量体とは、その構造中にスチレン骨格を有する単量体であり、例えば、スチレン;o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、p−tert−ブチルスチレンなどの核アルキル置換スチレン;α−メチルスチレン、α−メチル−p−メチルスチレンなどのα−アルキル置換スチレンなどのビニル芳香族化合物単量体が挙げられ
、代表的なものはスチレンである。
In the present invention, the styrene resin (B) refers to a polymer containing at least a styrene monomer as a monomer component. Here, the styrene monomer is a monomer having a styrene skeleton in its structure, for example, styrene; o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene. And vinyl aromatic compound monomers such as α-alkyl-substituted styrene such as α-methylstyrene and α-methyl-p-methylstyrene, and nuclear alkyl-substituted styrene such as ethylstyrene and p-tert-butylstyrene, A typical one is styrene.

また、スチレン系樹脂(B)には、スチレン系単量体成分に他の単量体成分を共重合したものも含まれる。共重合可能な単量体としては、例えば、メチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メチルフェニルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体;メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸等の不飽和カルボン酸単量体;無水マレイン酸、イタコン酸、エチルマレイン酸、メチルイタコン酸、クロルマレイン酸などの無水物である不飽和ジカルボン酸無水物単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル単量体;1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等の共役ジエンが挙げられ、これらの2種以上を共重合することも可能である。
このような他の単量体成分の含量は、スチレン系樹脂(B)に対して、50重量%以下であることがこのましく、より好ましくは30重量%以下、さらに好ましくは20重量%以下である。
The styrene resin (B) includes those obtained by copolymerizing a styrene monomer component with another monomer component. Examples of the copolymerizable monomer include alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, methylphenyl methacrylate, and isopropyl methacrylate, and alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and cyclohexyl acrylate. Unsaturated carboxylic acid alkyl ester monomers; methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid and other unsaturated carboxylic acid monomers; maleic anhydride, itaconic acid, ethyl maleic acid, methyl Unsaturated dicarboxylic acid anhydride monomers such as itaconic acid and chloromaleic acid; unsaturated nitrile monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; 1,3-butadiene, -Conjugated dienes such as methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, and the like. It is also possible to polymerize.
The content of such other monomer components is preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, still more preferably 20% by weight or less, based on the styrene resin (B). It is.

スチレン系樹脂(B)としては、特に、スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1)、スチレン−メタクリル酸共重合体(B−2)、スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−3)が、耐熱性、透明性等の光学材料に求められる特性を有しているため好ましい。   As the styrene resin (B), in particular, a styrene-acrylonitrile copolymer (B-1), a styrene-methacrylic acid copolymer (B-2), and a styrene-maleic anhydride copolymer (B-3). It is preferable because it has properties required for optical materials such as heat resistance and transparency.

スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1)の場合、共重合体中のアクリロニトリル含量は1〜40質量%であることが好ましい。さらに好ましい範囲は1〜30質量%であり、とりわけ好ましい範囲は1〜25質量%である。共重合体中のアクリロニトリルの含量が1〜40質量%の場合、透明性に優れるため好ましい。   In the case of the styrene-acrylonitrile copolymer (B-1), the acrylonitrile content in the copolymer is preferably 1 to 40% by mass. A more preferable range is 1 to 30% by mass, and an especially preferable range is 1 to 25% by mass. When the content of acrylonitrile in the copolymer is 1 to 40% by mass, it is preferable because of excellent transparency.

スチレン−メタクリル酸共重合体(B−2)の場合、共重合体中のメタクリル酸含量が0.1〜50質量%であることが好ましい。より好ましい範囲は0.1〜40質量%であり、さらに好ましい範囲は0.1〜30質量%である。共重合体中のメタクリル酸含量が0.1質量%以上であると耐熱性に優れ、50質量%以下の範囲であれば透明性に優れるので好ましい。   In the case of a styrene-methacrylic acid copolymer (B-2), the methacrylic acid content in the copolymer is preferably 0.1 to 50% by mass. A more preferable range is 0.1 to 40% by mass, and a further preferable range is 0.1 to 30% by mass. If the methacrylic acid content in the copolymer is 0.1% by mass or more, the heat resistance is excellent, and if it is in the range of 50% by mass or less, the transparency is excellent, which is preferable.

スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−3)の場合、共重合体中の無水マレイン酸含量が0.1〜50質量%であることが好ましい。より好ましい範囲は0.1〜40質量%であり、さらに好ましい範囲は0.1質量%〜30質量%である。共重合体中の無水マレイン酸含量が0.1質量%以上であると耐熱性に優れ、50質量%以下の範囲であれば透明性に優れるので好ましい。   In the case of the styrene-maleic anhydride copolymer (B-3), the maleic anhydride content in the copolymer is preferably 0.1 to 50% by mass. A more preferable range is 0.1 to 40% by mass, and a further preferable range is 0.1 to 30% by mass. If the maleic anhydride content in the copolymer is 0.1% by mass or more, the heat resistance is excellent, and if it is in the range of 50% by mass or less, the transparency is excellent, which is preferable.

スチレン系樹脂(B)として、組成、分子量など異なる複数種類のスチレン系樹脂を併用することもできる。   As the styrene resin (B), a plurality of types of styrene resins having different compositions and molecular weights can be used in combination.

スチレン系樹脂(B)は、公知のアニオン、塊状、懸濁、乳化または溶液重合方法により得ることができる。また、スチレン系樹脂(B)は、共役ジエンやスチレン系単量体のベンゼン環の不飽和二重結合が水素添加されていてもよい。水素添加率は核磁気共鳴装置(NMR)によって測定できる。   The styrene resin (B) can be obtained by a known anion, block, suspension, emulsion or solution polymerization method. Moreover, the unsaturated double bond of the benzene ring of the conjugated diene or the styrene monomer may be hydrogenated in the styrene resin (B). The hydrogenation rate can be measured by a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).

スチレン系樹脂(B)の23℃における未延伸時の光弾性係数は、60×10-12
-1以下であることが好ましく、30×10-12Pa-1以下であることがさらに好
ましく、6×10-12Pa-1以下であることがとりわけ好ましい。スチレン系樹脂(
B)の光弾性係数がこの範囲にあると、本発明の光学材料用樹脂用組成物からなる成形体の光弾性係数を小さくすることができ、かつ、本発明の光学材料用樹脂用組成物からなる成形体に所望の厚み方向レタデーション(Rth)を付与することが可能となるため好ましい。
The photoelastic coefficient when the styrene resin (B) is not stretched at 23 ° C. is 60 × 10 −12 P.
It is preferably a −1 or less, more preferably 30 × 10 −12 Pa −1 or less, and particularly preferably 6 × 10 −12 Pa −1 or less. Styrenic resin (
When the photoelastic coefficient of B) is in this range, the photoelastic coefficient of the molded article made of the resin composition for optical materials of the present invention can be reduced, and the resin composition for optical materials of the present invention can be reduced. Since it becomes possible to give a desired thickness direction retardation (Rth) to the molded object which consists of this, it is preferable.

本発明においてアクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含む光学材料用樹脂組成物における、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)の質量比((A)/(B))は、透湿度及び光学特性の点から、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)の質量比((A)/(B))が、20/80〜60/40であり、質量比((A)/(B))が、30/70〜50/50であることが更に好ましい。   In the present invention, the mass ratio ((A) / (B) of the acrylic resin (A) and the styrene resin (B) in the resin composition for an optical material containing the acrylic resin (A) and the styrene resin (B). )) Is a mass ratio ((A) / (B)) of the acrylic resin (A) and the styrene resin (B) of 20/80 to 60/40 in terms of moisture permeability and optical properties, The mass ratio ((A) / (B)) is more preferably 30/70 to 50/50.

本発明において用いる光学材料用樹脂組成物においては、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)の質量比((A)/(B))を大きくすると、これから得られる成形体の吸水率が大きくなる傾向を示し、逆に、質量比((A)/(B))を小さくすると、これから得られる成形体の吸水率が小さくなる傾向を示す。
またアクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)の質量比((A)/(B))を大きくすると、これから得られる成形体の吸水率は大きくなり、水蒸気透過度が小さくなる傾向を示し、逆に、質量比((A)/(B))を小さくすると、これから得られる成形体の吸水率は小さくなり、水蒸気透過度が大きくなる傾向を示す。
したがって、樹脂組成物の質量比((A)/(B))を調整することにより、所望の吸水率、所望の水蒸気透過度を有する成形体を容易に製造することができる。
In the resin composition for an optical material used in the present invention, when the mass ratio ((A) / (B)) of the acrylic resin (A) and the styrene resin (B) is increased, the water absorption of the molded product obtained therefrom is increased. In contrast, when the mass ratio ((A) / (B)) is decreased, the water absorption rate of the molded product obtained therefrom tends to decrease.
Moreover, when the mass ratio ((A) / (B)) of the acrylic resin (A) and the styrene resin (B) is increased, the water absorption rate of the molded product obtained therefrom tends to increase and the water vapor permeability tends to decrease. On the contrary, when the mass ratio ((A) / (B)) is decreased, the water absorption rate of the molded product obtained from this decreases, and the water vapor permeability tends to increase.
Therefore, by adjusting the mass ratio ((A) / (B)) of the resin composition, a molded product having a desired water absorption rate and a desired water vapor permeability can be easily produced.

また、本発明においては、光学材料用樹脂組成物に、本発明の目的を損なわない範囲でアクリル系樹脂(A)、スチレン系樹脂(B)以外の重合体を混合することができる。混合することができる重合体としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂、およびフェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂などが挙げられ、これらの1種以上を添加することができる。
光弾性係数の点から、これらの重合体の添加量は、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含む光学材料用樹脂組成物に対して、20重量%以下、より好ましくは10重量%以下、さらに好ましくは5重量%以下であることが好ましい。
Moreover, in this invention, polymers other than acrylic resin (A) and a styrene resin (B) can be mixed with the resin composition for optical materials in the range which does not impair the objective of this invention. Polymers that can be mixed include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyamides, polyphenylene sulfide resins, polyether ether ketone resins, polyesters, polysulfones, polyphenylene oxides, polyimides, polyether imides, polyacetals and other thermoplastic resins, and Examples thereof include thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, silicone resin, and epoxy resin, and one or more of these can be added.
From the viewpoint of the photoelastic coefficient, the amount of these polymers added is 20% by weight or less, more preferably based on the resin composition for optical materials containing the acrylic resin (A) and the styrene resin (B). It is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less.

さらに、本発明の効果を著しく損なわない範囲内で、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含む光学材料用樹脂組成物に、各種目的に応じて任意の添加剤を配合することができる。配合することができる添加剤としては、樹脂やゴム状重合体の配合に一般的に用いられるものであれば特に制限はない。   Furthermore, in the range which does not impair the effect of this invention remarkably, arbitrary additives are mix | blended with the resin composition for optical materials containing acrylic resin (A) and styrene resin (B) according to various objectives. be able to. The additive that can be blended is not particularly limited as long as it is generally used for blending resins and rubber-like polymers.

このような添加剤としては、例えば、二酸化珪素等の無機充填剤;酸化鉄等の顔料、ステアリン酸,ベヘニン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、エチレンビスステアロアミド等の滑剤;離型剤;パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン,ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤;ヒンダードフェノール系酸化防止剤、アクリレート基を有するフェノール系酸化防止剤、りん系熱安定剤等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、有機繊維、ガラス繊維、炭素繊維、金属ウィスカ等の補強剤;着色剤;ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、フェノール系化合物、オキサゾール系化合物、マロン酸エステル系化合物、ラクトン系化合物、その他添加剤或いはこれらの混合物等が挙げられる。これら添加剤の添加量は、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含む光学材料用樹脂組成物100質量部に対して0.01質量部以上50質量部以下、より好ましくは0.1質量部以上10質量部以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.1質量部以上2質量部以下であることが好ましい。
これらの添加剤の量を調整することにより、得られる成形体の吸水率、水蒸気透過度の値を調整することができる。
Examples of such additives include inorganic fillers such as silicon dioxide; lubricants such as pigments such as iron oxide, stearic acid, behenic acid, zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate, and ethylene bisstearamide; Mold release agents: Softeners and plasticizers such as paraffinic process oil, naphthenic process oil, aromatic process oil, paraffin, organic polysiloxane, mineral oil; hindered phenolic antioxidants, phenolic compounds with acrylate groups Antioxidants, antioxidants such as phosphorus heat stabilizers, hindered amine light stabilizers, UV absorbers, flame retardants, antistatic agents, organic fibers, glass fibers, carbon fibers, metal whiskers and other reinforcing agents; colorants Benzotriazole compounds, benzotriazine compounds, benzoate compounds , Benzophenone compounds, phenol compounds, oxazole compounds, malonic acid ester compounds, lactone compounds, other additives or mixtures thereof. The additive amount of these additives is 0.01 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass of the resin composition for an optical material containing the acrylic resin (A) and the styrene resin (B). The amount is preferably 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, more preferably 0.1 parts by mass or more and 2 parts by mass or less.
By adjusting the amounts of these additives, it is possible to adjust the water absorption rate and water vapor permeability of the resulting molded article.

これらの添加剤のうち、特に、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、フェノール系化合物、オキサゾール系化合物、マロン酸エステル系化合物、ラクトン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンズオキサジノン系化合物は、これを添加した樹脂組成物の光弾性係数の絶対値を小さくする効果があり好ましい。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物が特に好ましい。
これらは単独で用いても、2種以上併用して用いても構わない。
Among these additives, in particular, benzotriazole compounds, benzotriazine compounds, benzoate compounds, benzophenone compounds, phenol compounds, oxazole compounds, malonic acid ester compounds, lactone compounds, salicylic acid ester compounds, A benzoxazinone-based compound is preferable because it has the effect of reducing the absolute value of the photoelastic coefficient of the resin composition to which it is added. Of these, benzotriazole compounds and benzotriazine compounds are particularly preferable.
These may be used alone or in combination of two or more.

以下に、本発明で好ましく用いられる添加剤であるベンゾトリアゾール系化合物の具体例として、一般式[2]と[3]で示される化合物を、ベンゾトリアジン系化合物の具体例として一般式[4]で示される化合物を示す。   Hereinafter, as specific examples of the benzotriazole-based compound which is an additive preferably used in the present invention, the compounds represented by the general formulas [2] and [3] are used, and as specific examples of the benzotriazine-based compound, the general formula [4] is used. The compound shown by these is shown.

一般式[2] General formula [2]

Figure 2008225452
T

Figure 2008225452
T

一般式[3] General formula [3]

Figure 2008225452
T
Figure 2008225452
T

一般式[4]

Figure 2008225452
T General formula [4]
Figure 2008225452
T

一般式[2]中、X1は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基もしくはアルコキシ基を表し、R1〜R4は各々水素原子もしくは炭素数1〜20の置換、無置換のアルキル基を表す。一般式[3]中、X2,X3は各々水素原子、ハロゲン原子、R5,R6は各々水素原子、炭素数1〜20の置換、無置換のアルキル基、R7は炭素数1〜4のアルキレン基を表す。一般式[4]中、R8は炭素数1〜20のアルキル基もしくはアルコキシ基を表し、R9,R10は各々水素原子、炭素数1〜20の置換、無置換のアルキル基を表す。   In general formula [2], X1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group, and R1 to R4 are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Represents. In general formula [3], X2 and X3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, R5 and R6 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R7 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. Represents. In the general formula [4], R8 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxy group, and R9 and R10 each represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

また、本発明においては、フェノール系酸化防止剤を用いることが好ましい。フェノール系酸化防止剤の中でも、特に、分子内にアクリレート基を有するものが好ましい。フェノール系酸化防止剤、とりわけ分子内にアクリレート基を有するフェノール系酸化防止剤は、樹脂組成物中の高分子量の樹脂が成形加工時の加熱によりゲル化して成形体中に異物を発生させることを防止し、しかも、樹脂組成物中に多く添加しても、その光弾性係数を大きく変化させることがない。
分子中にアクリレート基を有するフェノール系酸化防止剤としては、例えば下記の一般式で表される化合物が好ましい。
Moreover, in this invention, it is preferable to use a phenolic antioxidant. Among phenolic antioxidants, those having an acrylate group in the molecule are particularly preferable. Phenolic antioxidants, especially phenolic antioxidants that have acrylate groups in the molecule, cause the high molecular weight resin in the resin composition to gel by heating during molding and generate foreign matter in the molded body. In addition, even if a large amount is added to the resin composition, the photoelastic coefficient is not greatly changed.
As a phenolic antioxidant which has an acrylate group in a molecule | numerator, the compound represented, for example by the following general formula is preferable.

一般式[5]

Figure 2008225452
T General formula [5]
Figure 2008225452
T

一般式[5]中、R11は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R12およびR13は、それぞれ独立して炭素数1〜8にアルキル基を表す。   In General Formula [5], R11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R12 and R13 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

一般式[5]におけるR11の炭素数1〜10のアルキル基は、直鎖でも、分岐構造または環構造を有しているものでもよい。また、R12及びR13は、好ましくは、4級炭素を含む「*−(CH3)2−R'」で表される構造(*は芳香環への連結部位を表し、R'は炭素数1〜5のアルキル基を表す)である。
R12は、より好ましくはt−ブチル基、t−アミル基またはt−オクチル基である。R13は、より好ましくはt−ブチル基、t−アミル基である。
The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R11 in the general formula [5] may be linear or have a branched structure or a ring structure. R12 and R13 are preferably a structure represented by “* — (CH 3) 2 —R ′” containing a quaternary carbon (* represents a site connected to an aromatic ring, and R ′ represents 1 to 1 carbon atoms. Represents an alkyl group of 5).
R12 is more preferably a t-butyl group, a t-amyl group or a t-octyl group. R13 is more preferably a t-butyl group or a t-amyl group.

上記一般式[5]で表される化合物として、市販のものではSumilizer GM(一般式[6])、Sumilizer GS(一般式[7])(共に商品名、住友化学(株)製等が挙げられる。   As a compound represented by the above general formula [5], commercially available products include Sumilizer GM (general formula [6]), Sumilizer GS (general formula [7]) (both trade names, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). It is done.

一般式[6]

Figure 2008225452
T General formula [6]
Figure 2008225452
T

一般式[7]

Figure 2008225452
T General formula [7]
Figure 2008225452
T

添加剤の20℃における蒸気圧(P)が1.0×10-4Pa以下である場合に成形加
工性に優れ好ましい。さらに好ましい範囲は蒸気圧(P)が1.0×10-6Pa以下で
あり、とりわけ好ましい範囲は蒸気圧(P)が1.0×10-8Pa以下である。ここで
、成形加工性に優れるとは、例えばフィルム成形時に、添加剤のロールへの付着が少ないことなどを示す。添加剤がロールへ付着すると、例えば成形体表面へ付着し外観、光学特性を悪化させるため、光学用材料として好ましくないものとなる。
When the vapor pressure (P) at 20 ° C. of the additive is 1.0 × 10 −4 Pa or less, the processability is excellent and preferable. A more preferable range is a vapor pressure (P) of 1.0 × 10 −6 Pa or less, and a particularly preferable range is a vapor pressure (P) of 1.0 × 10 −8 Pa or less. Here, being excellent in moldability means that, for example, the adhesion of the additive to the roll is small during film formation. When the additive adheres to the roll, for example, it adheres to the surface of the molded body and deteriorates the appearance and optical characteristics, which is not preferable as an optical material.

紫外線吸収剤の融点(Tm)が80℃以上であると成形加工性に優れ好ましい。さらに好ましい範囲は融点(Tm)が130℃以上であり、とりわけ好ましい範囲は融点(Tm)が160℃以上である。
紫外線吸収剤が、23℃から260℃まで20℃/分の速度で昇温した場合の重量減少率が50%以下である場合に成形加工性に優れ好ましい。さらに好ましい範囲は重量減少率が15%以下であり、とりわけ好ましい範囲は重量減少率が2%以下である。
The melting point (Tm) of the ultraviolet absorber is preferably 80 ° C. or higher, which is excellent in molding processability. A more preferable range is a melting point (Tm) of 130 ° C. or higher, and a particularly preferable range is a melting point (Tm) of 160 ° C. or higher.
The ultraviolet absorber is excellent in molding processability when the weight reduction rate when the temperature is increased from 23 ° C. to 260 ° C. at a rate of 20 ° C./min is 50% or less. A more preferable range is a weight reduction rate of 15% or less, and a particularly preferable range is a weight reduction rate of 2% or less.

本発明において用いる光学材料用樹脂組成物の製造方法は、特に制限されるものではなく、公知の方法が利用できる。例えば単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー、各種ニーダー等の溶融混練機を用いて、樹脂成分、必要に応じて耐加水分解抑制剤や上記その他の成分を添加して溶融混練して製造することができる。   The manufacturing method of the resin composition for optical materials used in the present invention is not particularly limited, and a known method can be used. For example, using a melt kneader such as a single screw extruder, twin screw extruder, Banbury mixer, Brabender, various kneaders, etc., adding a resin component, if necessary, adding a hydrolysis resistance inhibitor and the above other components to melt It can be produced by kneading.

次に、本発明の光学素子用成形体について説明する。
本発明の光学素子用成形体をフイルムとして用いる場合には、その吸水率は0.01%以上0.5%以下であることが好ましい。高温多湿の条件下において光学素子を外部の湿度から保護するために保護フイルムの透湿度は低いことが好ましいので、その吸水率は0.5%以下であることが好ましい。一方、光学素子の内部から生じる水分を外部に放出するためには、保護フイルムであっても多少の透湿度を有していることが好ましく、その吸水率は0.01%以上であることが好ましい。
Next, the molded body for optical elements of the present invention will be described.
When the molded article for optical elements of the present invention is used as a film, the water absorption is preferably 0.01% or more and 0.5% or less. Since the moisture permeability of the protective film is preferably low in order to protect the optical element from external humidity under high temperature and high humidity conditions, the water absorption is preferably 0.5% or less. On the other hand, in order to release moisture generated from the inside of the optical element to the outside, even a protective film preferably has some moisture permeability, and its water absorption rate is 0.01% or more. preferable.

ここで、成形体の吸水率とは、成形体の試験片を23℃、50%RHの浸潤空気に吸水が平衡に達するまで曝したときに試験片が吸収する水分量の試験片の乾燥質量に対する割合であり、下記の式で示される。
吸水率(%)=(M1/M2)×100
(M1:試験片の吸水量、M2:試験片の乾燥質量)
Here, the water absorption rate of the molded product is the dry mass of the test sample with the amount of water absorbed by the test piece when the test piece is exposed to infiltrated air at 23 ° C. and 50% RH until the water absorption reaches equilibrium. It is a ratio with respect to and is shown by the following formula.
Water absorption rate (%) = (M1 / M2) × 100
(M1: water absorption of the test piece, M2: dry weight of the test piece)

吸水率は、具体的には、以下の方法によって測定できる。
試験片を乾燥、例えば50℃に保った恒温槽中で24時間静置、した後、23℃、50%RHの浸潤空気雰囲気下に吸水が平衡に達するまで長時間、例えば24時間以上、静置し、吸水した試験片の質量を測定する。次いで、吸水した試験片を、乾燥窒素等の気流下で高温、例えば180℃、に昇温し、試験片から放出される水分量をカールフィッシャー法により定量する。この測定方法による場合、吸水率は下記の式により求められる。
吸水率(%)=(W2/(W1−W2))×100
(W1:湿潤空気に曝露後の試験片の質量、W2:放出された水分質量)
Specifically, the water absorption rate can be measured by the following method.
The test piece was dried, for example, allowed to stand in a thermostat kept at 50 ° C. for 24 hours, and then allowed to stand for a long time, for example, 24 hours or more until water absorption reached equilibrium in an infiltrated air atmosphere at 23 ° C. and 50% RH. The mass of the test piece placed and absorbed is measured. Next, the water absorption test piece is heated to a high temperature, for example, 180 ° C. under an air stream such as dry nitrogen, and the amount of water released from the test piece is quantified by the Karl Fischer method. In the case of this measuring method, the water absorption is obtained by the following formula.
Water absorption (%) = (W2 / (W1-W2)) × 100
(W1: Mass of test piece after exposure to humid air, W2: Mass of released water)

成形体の吸水率は、光学材料用樹脂組成物のアクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)の種類や、両者の質量比((A)/(B))を調整することにより制御できる。   The water absorption rate of the molded body is controlled by adjusting the type of acrylic resin (A) and styrene resin (B) in the resin composition for optical materials and the mass ratio ((A) / (B)) between the two. it can.

本発明の光学素子用成形体をフィルムとして用いる場合には、その水蒸気透過度は、15g/m2・24h(g/m2・day)以上100g/m2・24hであることが好ま
しい。さらに好ましくは20g/m2・24h以上80g/m2・24hであることが好
ましく、とりわけ好ましくは20g/m2・24h以上60g/m2・24hである。
ここで、成形体の水蒸気透過度とは、JIS K 7129 B(1992)法(赤外センサー法)に従って求めた40℃及び相対湿度90%RHにおいて単位時間に単位面積の試験片を通過する水蒸気量である。
When the molded article for an optical element of the present invention is used as a film, the water vapor permeability is preferably 15 g / m 2 · 24 h (g / m 2 · day) or more and 100 g / m 2 · 24 h. More preferably, it is preferably 20 g / m 2 · 24 h or more and 80 g / m 2 · 24 h, and particularly preferably 20 g / m 2 · 24 h or more and 60 g / m 2 · 24 h.
Here, the water vapor permeability of the molded body is water vapor that passes through a test piece of a unit area per unit time at 40 ° C. and a relative humidity of 90% RH determined according to JIS K 7129 B (1992) method (infrared sensor method). Amount.

本発明の光学素子用成形体の製造方法に限定はなく、射出成形、シート成形、ブロー成形、インジェクションブロー成形、インフレーション成形、押し出し成形、発泡成形等、公知の方法で成形することが可能であり、圧空成形、真空成形等の二次加工成形法を用いることもできる。   The method for producing the molded article for optical elements of the present invention is not limited, and can be molded by known methods such as injection molding, sheet molding, blow molding, injection blow molding, inflation molding, extrusion molding, and foam molding. Secondary processing molding methods such as pressure forming and vacuum forming can also be used.

本発明の光学素子用成形体がフィルムまたはシートの場合は、例えば、Tダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、未延伸フィルムを押し出し成形することができる。押し出し成形により成形体を得る場合は、事前にアクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)を溶融混錬したしておいてもよいが、押し出し成形時に溶融混錬を経て成形することもできる。またアクリル系樹脂(A)、スチレン系樹脂(B)に共通の良溶媒、例えば、クロロホルム等の溶媒を用いキャスト成形し未延伸フィルム、シートを得ることも可能である。   When the optical element molded body of the present invention is a film or a sheet, for example, an unstretched film can be extruded using an extruder or the like equipped with a T die, a circular die, or the like. When obtaining a molded body by extrusion molding, the acrylic resin (A) and the styrene resin (B) may be melt-kneaded in advance, but may be molded through melt-kneading at the time of extrusion molding. it can. It is also possible to obtain an unstretched film or sheet by cast molding using a good solvent common to the acrylic resin (A) and the styrene resin (B), for example, a solvent such as chloroform.

さらに必要に応じて、未延伸フィルム、シートを機械的流れ方向(MD)に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向(TD)に横一軸延伸することができる。例えば、工業的には、ロール延伸またはテンター延伸による一軸延伸法、ロール延伸とテンター延伸の組み合わせによる逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、チューブラー延伸による2軸延伸法等によって延伸フィルムを製造することができる。
延伸倍率は、少なくともどちらか一方向に0.1%以上300%以下であることが好ましく、1%以上200%以下であることがさらに好ましく、2%以上100%以下であることがとりわけ好ましい。この範囲に設計することにより、複屈折、強度の観点で好ましい延伸成形体が得られる。
ここで、延伸倍率は、得られた延伸フィルムまたはシートをガラス転移温度よりも20℃以上高い温度で収縮させ、以下の式により求めることができる。また、ガラス転移温度はDSC法や粘弾性法により求めることもできる。
延伸倍率(%)=[(収縮前の長さ/収縮後の長さ)−1]×100
Further, if necessary, the unstretched film or sheet can be stretched uniaxially in the machine flow direction (MD) and uniaxially stretched in the direction (TD) perpendicular to the mechanical flow direction. For example, industrially, a uniaxial stretching method by roll stretching or tenter stretching, a sequential biaxial stretching method by a combination of roll stretching and tenter stretching, a simultaneous biaxial stretching method by tenter stretching, a biaxial stretching method by tubular stretching, etc. A stretched film can be produced.
The draw ratio is preferably 0.1% or more and 300% or less in at least one of the directions, more preferably 1% or more and 200% or less, and particularly preferably 2% or more and 100% or less. By designing in this range, a stretched molded article preferable in terms of birefringence and strength can be obtained.
Here, the draw ratio can be obtained by the following equation by shrinking the obtained stretched film or sheet at a temperature 20 ° C. or higher than the glass transition temperature. The glass transition temperature can also be determined by DSC method or viscoelastic method.
Stretch ratio (%) = [(length before shrinkage / length after shrinkage) −1] × 100

本発明において、フィルムとは厚さが300μm以下のものをいい、シートとは厚さが300μmを超えるものである。また、本発明において、フィルムの厚さは、望ましくは1μm以上、より望ましくは5μm以上であり、シートの厚さは、望ましくは10mm以下、より望ましくは5mm以下の厚さである。   In the present invention, a film means a film having a thickness of 300 μm or less, and a sheet has a thickness exceeding 300 μm. In the present invention, the thickness of the film is desirably 1 μm or more, more desirably 5 μm or more, and the thickness of the sheet is desirably 10 mm or less, more desirably 5 mm or less.

本発明の光学素用成形体には、例えば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理等の表面機能化処理をすることもできる。   The molded article for optical element of the present invention may be subjected to surface functionalization treatment such as antireflection treatment, transparent conductive treatment, electromagnetic wave shielding treatment, gas barrier treatment and the like.

本発明の光学素子用成形体は、高い機械強度を有するので、各種光学素子用の保護フィルムとして用いることもできる。特に、本発明の光学素子用成形体は、光学的に異方性を持たせることが可能であるため、偏光板保護フイルムとして好適に用いることができる。以下に、本発明の光学素子用成形体を偏光板保護フィルムとして用いる場合について説明する。   Since the molded article for optical elements of the present invention has high mechanical strength, it can also be used as a protective film for various optical elements. In particular, the molded article for an optical element of the present invention can be used as a polarizing plate protective film because it can be optically anisotropic. Below, the case where the molded object for optical elements of this invention is used as a polarizing plate protective film is demonstrated.

本発明の偏光板保護フィルムを偏光フィルムに積層することにより偏光板を製造することができる。本発明においては、偏光フィルムの一方の面にReが10nm以上の保護フィルムを積層し、他方の面にReが10nm以下の保護フィルムを積層することが好ましい。
通常、保護フィルムは、偏光フィルムの保護を目的としているので、トリアセチルセルロース系フィルムのような光学的に等方性を持つフィルムが用いられている。
これに対し、本発明の好ましい態様では、一方の面に本発明の光学的に異方性を持つ保護フィルムを積層し、他方の面に光学的に等方性を持つ保護フィルムを積層する。これにより、一方の面の保護フィルムが位相差フィルムを兼ねるので、通常は偏光板の保護フィルムの上に貼り付けられるポリカーボネート樹脂やシクロオレフィン系の樹脂などからなる位相差フィルムを省き、偏光板の薄肉化を図ることができる。
また、保護フィルムの上に別の位相差フィルムを接着する工程がないので生産性に優れる。
A polarizing plate can be produced by laminating the polarizing plate protective film of the present invention on a polarizing film. In the present invention, it is preferable to laminate a protective film with Re of 10 nm or more on one surface of the polarizing film and laminate a protective film with Re of 10 nm or less on the other surface.
Usually, since the protective film aims at protecting the polarizing film, a film having optical isotropy such as a triacetyl cellulose-based film is used.
On the other hand, in a preferred embodiment of the present invention, the protective film having optical anisotropy of the present invention is laminated on one surface and the protective film having optical isotropy is laminated on the other surface. As a result, the protective film on one side also serves as the retardation film, so that the retardation film made of polycarbonate resin or cycloolefin-based resin usually attached on the protective film of the polarizing plate is omitted. Thinning can be achieved.
Moreover, since there is no process which adhere | attaches another retardation film on a protective film, it is excellent in productivity.

このような観点から、偏光フィルムの一方の面に積層する保護フィルムの面内レタデーションReは10nm以上であることが好ましく、より好ましくは20〜1000nm、さらに好ましくは30〜900nmである。
この場合、一方の面に積層するReが10nm以上の保護フィルムは、1/4波長板、1/2波長板、その他位相差フィルムとしての機能を併せもつことになる。
From such a viewpoint, the in-plane retardation Re of the protective film laminated on one surface of the polarizing film is preferably 10 nm or more, more preferably 20 to 1000 nm, still more preferably 30 to 900 nm.
In this case, the protective film with Re of 10 nm or more laminated on one surface also has a function as a quarter-wave plate, a half-wave plate, and other retardation films.

また、偏光フィルムの他方の面に積層する光学的に等方性を持つ保護フィルムのReは小さい方が好ましく、好ましくはReは10nm以下、より好ましくは8nm以下、さらに好ましくは5nm以下である。   The optically isotropic protective film laminated on the other surface of the polarizing film preferably has a smaller Re, preferably Re is 10 nm or less, more preferably 8 nm or less, and even more preferably 5 nm or less.

ここで、面内レタデーション(Re)は下式により定義される。
Re=(nx−ny)×d
式中、nx:成形体面内において屈折率が最大となる方向をxとした場合のx方向の主屈折率、ny:成形体面内においてx方向に垂直な方向をyとした場合のy方向の主屈折率d:成形体の厚み(nm)である。
Here, the in-plane retardation (Re) is defined by the following equation.
Re = (nx−ny) × d
In the formula, nx: main refractive index in the x direction when the direction in which the refractive index is maximum in the molded body surface is x, ny: y direction in the direction perpendicular to the x direction in the molded body surface is y Main refractive index d: thickness (nm) of the molded product.

本発明においては、他方の面に積層する光学的に等方性を持つ保護フィルムとしてアクリル系樹脂(d)を含むフィルムを用いることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a film containing an acrylic resin (d) as an optically isotropic protective film laminated on the other surface.

アクリル系樹脂(d)の具体例としては、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸2−エチルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステルより選ばれる1種以上の単量体を重合したものが挙げられる。   Specific examples of the acrylic resin (d) include methacrylic acid alkyl ester such as cyclohexyl methacrylate, t-butyl cyclohexyl methacrylate, methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isopropyl acrylate, acrylic What polymerized 1 or more types of monomers chosen from acrylic acid alkylesters, such as acid 2-ethylhexyl, is mentioned.

これらの中でも、メタクリル酸メチルの単独重合体またはメタクリル酸メチルと他の単量体との共重合体が特に好ましい。
メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体としては、他のメタリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類;アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類;N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類;無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類;アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類等が挙げられる。これらは一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
Among these, a homopolymer of methyl methacrylate or a copolymer of methyl methacrylate and other monomers is particularly preferable.
Examples of monomers copolymerizable with methyl methacrylate include other alkyl alkyl methacrylates, alkyl acrylates, aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyl toluene and α-methyl styrene; acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Vinyl cyanides; maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride; unsaturated acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid . These may be used alone or in combination of two or more.

これらメタクリル酸メチルと共重合可能な単量体の中でも、特に、アクリル酸アルキルエステル類は、耐熱分解性に優れ、これを共重合させて得られるメタクリル系樹脂の成形加工時の流動性が高いため好ましい。
メタクリル酸メチルにアクリル酸アルキルエステル類を共重合させる場合のアクリル酸アルキルエステル類の使用量は、耐熱分解性の観点から、0.1質量%以上であることが好ましく、耐熱性の観点から15質量%以下であることが好ましい。0.2〜14質量%であることがさらに好ましく、1〜12質量%であることがとりわけ好ましい。
アクリル酸アルキルエステル類としては、アクリル酸メチル及びアクリル酸エチルが、少量メタクリル酸メチルと共重合させるだけでも前述の成形加工時の流動性の改良効果が著しく得られるため好ましい。
Among these monomers that are copolymerizable with methyl methacrylate, alkyl acrylates are particularly excellent in heat decomposability and have high fluidity during the molding of methacrylic resins obtained by copolymerizing these. Therefore, it is preferable.
The amount of alkyl acrylates used when methyl acrylate is copolymerized with methyl methacrylate is preferably 0.1% by mass or more from the viewpoint of heat decomposability, and 15 from the viewpoint of heat resistance. It is preferable that it is below mass%. More preferably, it is 0.2-14 mass%, and it is especially preferable that it is 1-12 mass%.
As alkyl acrylates, methyl acrylate and ethyl acrylate are preferred because the effect of improving the fluidity during the molding process described above can be remarkably obtained only by copolymerizing with a small amount of methyl methacrylate.

アクリル系樹脂(d)の質量平均分子量は、5万〜20万であることが好ましい。質量平均分子量は成形品の強度の観点から5万以上であることが好ましく、成形加工性、流動性の観点から20万以下であることが好ましい。さらに好ましい範囲は7万〜15万である。また、本発明においてはアイソタクチックポリメタクリル酸エステルとシンジオタクチックポリメタクリル酸エステルを同時に用いることもできる。   The mass average molecular weight of the acrylic resin (d) is preferably 50,000 to 200,000. The mass average molecular weight is preferably 50,000 or more from the viewpoint of the strength of the molded product, and preferably 200,000 or less from the viewpoint of molding processability and fluidity. A more preferable range is 70,000 to 150,000. In the present invention, isotactic polymethacrylate and syndiotactic polymethacrylate can be used simultaneously.

アクリル系樹脂(d)を製造する方法として、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、光学用途としては微小な異物の混入はできるだけ避けることが好ましく、この観点からは懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が好ましい。具体的には、特公昭63−1964号公報等に記載されている方法等を用いることができる。
溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調整した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
As a method for producing the acrylic resin (d), for example, generally used polymerization methods such as cast polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, and anionic polymerization can be used. It is preferable to avoid the introduction of minute foreign substances as much as possible. From this viewpoint, bulk polymerization and solution polymerization without using a suspending agent or an emulsifier are preferable. Specifically, the method described in Japanese Patent Publication No. 63-1964 can be used.
When solution polymerization is performed, a solution prepared by dissolving a mixture of monomers in an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or ethylbenzene can be used. In the case of polymerization by bulk polymerization, the polymerization can be started by irradiation with free radicals generated by heating or ionizing radiation as is usually done.

重合反応に用いられる開始剤としては、ラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えばアゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物を用いることができる。
特に、90℃以上の高温下で重合を行わせる場合には、溶液重合が一般的であるので、10時間半減期温度が80℃以上でかつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤などが好ましい。具体的には1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は、例えば、0.005〜5質量%の範囲で用いることができる。
As the initiator used in the polymerization reaction, any initiator used in radical polymerization can be used. For example, azo compounds such as azobisisobutylnitrile, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxy- An organic peroxide such as 2-ethylhexanoate can be used.
In particular, when polymerization is carried out at a high temperature of 90 ° C. or higher, solution polymerization is generally used. Therefore, a peroxide, azobis, which has a 10-hour half-life temperature of 80 ° C. or higher and is soluble in the organic solvent used. Initiators and the like are preferred. Specifically, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, cyclohexane peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 1,1 -Azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile and the like can be mentioned. These initiators can be used in the range of 0.005 to 5 mass%, for example.

重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤としては、ラジカル重合において用いられる任意のものが使用でき、例えばブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸2−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が特に好ましいものとして挙げられる。これらの分子量調節剤は、アクリル系樹脂(d)の重合度が好ましい範囲内に制御されるような濃度範囲で添加される。   As the molecular weight regulator used as necessary in the polymerization reaction, any of those used in radical polymerization can be used. For example, mercaptan compounds such as butyl mercaptan, octyl mercaptan, dodecyl mercaptan, 2-ethylhexyl thioglycolate are particularly preferable. It is mentioned as a thing. These molecular weight regulators are added in a concentration range such that the polymerization degree of the acrylic resin (d) is controlled within a preferable range.

本発明で用いるアクリル系樹脂(d)としては、メタクリル酸エステルおよび/またはアクリル酸エステル単位と芳香族ビニル化合物単位と下記一般式[1]で表される化合物単位を有する共重合体が好ましい。   As acrylic resin (d) used by this invention, the copolymer which has a methacrylic ester and / or an acrylate ester unit, an aromatic vinyl compound unit, and the compound unit represented by following General formula [1] is preferable.

一般式[1]   General formula [1]

Figure 2008225452
T
(XはOまたは、N−Rを示す。Oは酸素原子、Nは窒素原子、Rは水素原子、アルキル基、アリール基またはシクロアルカン基である)
Figure 2008225452
T
(X represents O or N—R. O is an oxygen atom, N is a nitrogen atom, R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a cycloalkane group)

一般式[1]で表される化合物と共重合させるメタクリル酸エステルおよび/またはアクリル酸エステルとしては、メタクリル酸メチルが好ましい。芳香族ビニル化合物としては、α−メチルスチレン、α−メチル−p−メチルスチレン等のα−アルキル置換スチレ
ン等が挙げられ、好ましくはスチレンである。
As the methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester copolymerized with the compound represented by the general formula [1], methyl methacrylate is preferable. Examples of the aromatic vinyl compound include α-alkyl-substituted styrene such as α-methylstyrene and α-methyl-p-methylstyrene, and styrene is preferable.

上記一般式[1]で表される化合物としては、X=Oであるもの、すなわち無水マレイン酸が好ましい。さらに、耐熱性、光弾性係数の点から、共重合体中のメタクリル酸メチル単位が40〜90質量%、スチレン単位が5〜40質量%、マレイン酸単位が5〜20質量%であり、かつマレイン酸単位の共重合割合に対するスチレン単位の共重合割合が1〜3倍であることが好ましい。さらに好ましくは、共重合体中のメタクリル酸メチル単位が40〜90質量%、無水マレイン酸単位が5〜19質量%、スチレン単位が10〜40質量%であり、とりわけ好ましくは、共重合体中のメタクリル酸メチル単位が45〜88質量%、無水マレイン酸単位が6〜15質量%、スチレン単位が16〜40質量%である。   As the compound represented by the general formula [1], a compound in which X = O, that is, maleic anhydride is preferable. Furthermore, from the viewpoint of heat resistance and photoelastic coefficient, the methyl methacrylate unit in the copolymer is 40 to 90% by mass, the styrene unit is 5 to 40% by mass, the maleic acid unit is 5 to 20% by mass, and It is preferable that the copolymerization ratio of the styrene unit to the copolymerization ratio of the maleic acid unit is 1 to 3 times. More preferably, the methyl methacrylate unit in the copolymer is 40 to 90% by mass, the maleic anhydride unit is 5 to 19% by mass, and the styrene unit is 10 to 40% by mass, and particularly preferably in the copolymer. The methyl methacrylate unit is 45 to 88% by mass, the maleic anhydride unit is 6 to 15% by mass, and the styrene unit is 16 to 40% by mass.

また、アクリル樹脂(d)の別の好適な例として、メタクリル酸エステルおよび/またアクリル酸エステル単位、芳香族ビニル化合物単位及び6員環構造の酸無水物単位を含む共重合体が挙げられる。この6員環構造の酸無水物単位を含む共重合体は、耐熱性に優れると共に、これから得られる成形体のレタデーション設計が容易であることから、光学材料に適している。
この6員環構造の酸無水物単位を含む共重合体の第一の単量体成分であるメタクリル酸エステルおよび/またはアクリル酸エステルとしてはメタクリル酸メチルが好ましく、第二の単量体成分である芳香族ビニル化合物としては、α−メチルスチレン、α−メチル−p−メチルスチレン等のα−アルキル置換スチレン等が挙げられ、好ましくはスチレンで
ある。
また、6員環構造の酸無水物単位を含む共重合体の第三の単位である6員環構造の酸無水物単位は、不飽和カルボン酸単量体及び、必要に応じて不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体と、その他の単量体成分と重合させ、共重合体とした後、かかる共重合体を適当な触媒の存在下あるいは非存在下で加熱し、脱アルコールおよび/または脱水による分子内環化反応を行わせることにより生成することができる。この場合、典型的には共重合体を加熱することにより2単位の不飽和カルボン酸単位のカルボキシル基が脱水されて、あるいは隣接する不飽和カルボン酸単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル単位からアルコールの脱離により1単位の6員環構造の酸無水物単位が生成される。
6員環構造の酸無水物単位を生成するための不飽和カルボン酸単量体としては、例えば、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸等が挙げられ、不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体としては、例えば、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等が挙げられる。
6員環構造の酸無水物単位を含む共重合体は、特公平02−26641号公報、特開2006−266543号公報、特開2006−274069号公報、特開2006−274071号公報、特開2006−283013公報、特開2005−162835公報に記載の方法を参照して、組成比を決定し、製造、評価することができる。
Another preferred example of the acrylic resin (d) is a copolymer containing a methacrylic ester and / or an acrylic ester unit, an aromatic vinyl compound unit, and an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure. The copolymer containing an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure is suitable for an optical material because it is excellent in heat resistance and the retardation design of a molded product obtained therefrom is easy.
As the methacrylic acid ester and / or acrylic acid ester which is the first monomer component of the copolymer containing an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure, methyl methacrylate is preferable, and the second monomer component is Examples of the aromatic vinyl compound include α-alkyl-substituted styrene such as α-methylstyrene and α-methyl-p-methylstyrene, and styrene is preferable.
Further, the acid anhydride unit having a 6-membered ring structure, which is the third unit of the copolymer containing an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure, includes an unsaturated carboxylic acid monomer and, if necessary, an unsaturated carboxylic acid. After polymerization with an acid alkyl ester monomer and other monomer components to form a copolymer, the copolymer is heated in the presence or absence of an appropriate catalyst to remove alcohol and / or dehydrate. It can produce | generate by performing intramolecular cyclization reaction by. In this case, typically, the carboxyl group of the unsaturated carboxylic acid unit of 2 units is dehydrated by heating the copolymer, or the alcohol of the alcohol from the unsaturated carboxylic acid unit and the unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit adjacent to each other is dehydrated. One unit of an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure is generated by elimination.
Examples of the unsaturated carboxylic acid monomer for producing a 6-membered ring acid anhydride unit include methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, and the like. Examples of the carboxylic acid alkyl ester monomer include methyl methacrylate and methyl acrylate.
A copolymer containing an acid anhydride unit having a 6-membered ring structure is disclosed in JP-B-02-26641, JP-A-2006-266543, JP-A-2006-274069, JP-A-2006-274071, and JP-A-2006-274071. The composition ratio can be determined, manufactured, and evaluated with reference to the methods described in JP 2006-283013 A and JP 2005-162835 A.

本発明で用いるアクリル系樹脂(d)のメルトインデックス(ASTM D1238;I条件)は、これを成形して得られる保護フイルムの強度の観点から10g/10分以下であることが好ましい。より好ましくは6g/10分以下、さらに好ましくは3g/10分以下である。   The melt index (ASTM D1238; I condition) of the acrylic resin (d) used in the present invention is preferably 10 g / 10 min or less from the viewpoint of the strength of the protective film obtained by molding the acrylic resin (d). More preferably, it is 6 g / 10 minutes or less, More preferably, it is 3 g / 10 minutes or less.

本発明における偏光フイルムの他方の面に積層するReが10nm以下の保護フィルムには、アクリル系樹脂(d)の他に、脂肪族ポリエステル系樹脂(e)を含むことができる。
脂肪族ポリエステル系樹脂(e)としては、例えば、脂肪族ヒドロキシカルボン酸を主たる構成成分とする重合体、脂肪族多価カルボン酸と脂肪族多価アルコールを主たる構成成分とする重合体などが挙げられる。
脂肪族ヒドロキシカルボン酸を主たる構成成分とする重合体の具体例としては、ポリグリコール酸、ポリ乳酸、ポリ3−ヒドロキシ酪酸、ポリ4−ヒドロキシ酪酸、ポリ4−ヒドロキシ吉草酸、ポリ3−ヒドロキシヘキサン酸およびポリカプロラクトンなどが挙げられ、脂肪族多価カルボン酸と脂肪族多価アルコールを主たる構成成分とする重合体の具体例としては、ポリエチレンアジペート、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペートおよびポリブチレンサクシネートなどが挙げられる。これらの脂肪族ポリエステル系樹脂(e)は、単独ないし2種以上を用いることができる。
The protective film with Re of 10 nm or less laminated on the other surface of the polarizing film in the present invention may contain an aliphatic polyester resin (e) in addition to the acrylic resin (d).
Examples of the aliphatic polyester-based resin (e) include a polymer mainly composed of an aliphatic hydroxycarboxylic acid and a polymer mainly composed of an aliphatic polycarboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol. It is done.
Specific examples of the polymer mainly containing an aliphatic hydroxycarboxylic acid include polyglycolic acid, polylactic acid, poly-3-hydroxybutyric acid, poly-4-hydroxybutyric acid, poly-4-hydroxyvaleric acid, and poly-3-hydroxyhexane. Examples of the polymer mainly composed of aliphatic polycarboxylic acid and aliphatic polyhydric alcohol include polyethylene adipate, polyethylene succinate, polybutylene adipate and polybutylene succinate. Etc. These aliphatic polyester resins (e) can be used alone or in combination of two or more.

これらの脂肪族ポリエステル系樹脂(e)の中でも、ヒドロキシカルボン酸を主たる構成成分とする重合体が好ましく、特にポリ乳酸系樹脂が好ましく使用される。これらの(e)成分は1種以上を用いることができる。   Among these aliphatic polyester resins (e), a polymer containing hydroxycarboxylic acid as a main constituent component is preferable, and a polylactic acid resin is particularly preferably used. These (e) components can use 1 or more types.

ポリ乳酸系樹脂としては、L−乳酸および/またはD−乳酸を主たる構成成分とする重合体が挙げられる。   Examples of the polylactic acid-based resin include polymers having L-lactic acid and / or D-lactic acid as main constituent components.

ポリ乳酸系樹脂において、L−乳酸単位と、D−乳酸単位の構成モル比は、L−体とD−体あわせて100%に対し、L体ないしD体いずれかが85%以上が好ましく、より好ましくは一方が90%以上であり、さらに好ましくは一方が94%以上の重合体である。本発明においてはL−乳酸を主体とするポリL乳酸とD−乳酸を主体とするポリD乳酸を同時に用いることもできる。
ポリ乳酸系樹脂は、L体ないしD体以外の乳酸誘導体モノマーまたは、ラクチドと共重合可能な他成分を共重合していてもよく、このような成分としてはジカルボン酸、多価アルコール、ヒドロキシカルボン酸、ラクトン等が挙げられる。ポリ乳酸系樹脂は、直接脱水縮合、ラクチドの開環重合等公知の重合法で重合することができる。また必要に応じてポリイソシアネート等の結合剤を用いて、高分子量化することもできる。
ポリ乳酸系樹脂の好ましい質量平均分子量範囲は、機械的性質の観点から質量平均分子量が30,000以上であることが好ましく、加工性の観点から1000,000以下であることがより好ましい。さらに好ましくは50,000〜500,000、最も好ましくは100,000〜280,000である。
In the polylactic acid-based resin, the constituent molar ratio of the L-lactic acid unit and the D-lactic acid unit is preferably 100% for both the L-form and the D-form, and either the L-form or the D-form is preferably 85% or more. More preferably, one is 90% or more, and still more preferably one is 94% or more. In the present invention, poly-L lactic acid mainly composed of L-lactic acid and poly-D lactic acid mainly composed of D-lactic acid can be used simultaneously.
The polylactic acid-based resin may be copolymerized with lactic acid derivative monomers other than L-form or D-form or other components copolymerizable with lactide. Examples of such components include dicarboxylic acids, polyhydric alcohols, hydroxycarboxylic acids. Examples include acids and lactones. The polylactic acid resin can be polymerized by a known polymerization method such as direct dehydration condensation or ring-opening polymerization of lactide. Moreover, it can also be made high molecular weight using binders, such as polyisocyanate, as needed.
The mass average molecular weight range of the polylactic acid-based resin is preferably 30,000 or more from the viewpoint of mechanical properties, and more preferably 1,000,000 or less from the viewpoint of workability. More preferably, it is 50,000-500,000, Most preferably, it is 100,000-280,000.

また、ポリ乳酸系樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲で、乳酸以外の他の共重合成分0.1〜30質量%を含んでいてもよい。かかる他の共重合成分単位としては、例えば、多価カルボン酸、多価アルコール、ヒドロキシカルボン酸、ラクトンなどが挙げられ、具体的には、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、フマル酸、シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、5−テトラブチルホスホニウムスルホイソフタル酸などの多価カルボン酸類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘプタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノ−ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ビスフェノールA、ビスフェノールにエチレンオキシドを付加反応させた芳香族多価アルコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどの多価アルコール類;グリコール酸、3−ヒドロキシ酪酸、4−ヒドロキシ酪酸、4−ヒドロキシ吉草酸、6−ヒドロキシカプロン酸、ヒドロキシ安息香酸などのヒドロキシカルボン酸類;グリコリド、ε−カプロラクトングリコリド、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、δ−ブチロラクトン、β−またはγ−ブチロラクトン、ピバロラクトン
、δ−バレロラクトンなどのラクトン類などを使用することができる。これらの共重合成分は、単独ないし2種以上を用いることができる。
In addition, the polylactic acid-based resin may contain 0.1 to 30% by mass of a copolymer component other than lactic acid as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of such other copolymer component units include polyvalent carboxylic acids, polyhydric alcohols, hydroxycarboxylic acids, lactones, and the like. Specifically, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid , Azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, fumaric acid, cyclohexanedicarboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 5-tetrabutylphosphonium sulfoisophthalic acid Polyvalent carboxylic acids such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, heptanediol, hexanediol, octanediol, nonanediol, decanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentylglycol, glycerin, trimethyl Aromatic propane, pentaerythritol, bisphenol A, polyhydric alcohols such as aromatic polyhydric alcohol obtained by addition reaction of bisphenol with ethylene oxide, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol; glycolic acid, 3- Hydroxycarboxylic acids such as hydroxybutyric acid, 4-hydroxybutyric acid, 4-hydroxyvaleric acid, 6-hydroxycaproic acid, hydroxybenzoic acid; glycolide, ε-caprolactone glycolide, ε-caprolactone, β-propiolactone, δ-butyrolactone, Lactones such as β- or γ-butyrolactone, pivalolactone, and δ-valerolactone can be used. These copolymer components can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族ポリエステル系樹脂(e)の製造方法としては、既知の重合方法を用いることができ、特にポリ乳酸系樹脂については、乳酸からの直接重合法、ラクチドを介する開環重合法などを採用することができる。   As a method for producing the aliphatic polyester resin (e), a known polymerization method can be used. In particular, for a polylactic acid resin, a direct polymerization method from lactic acid, a ring-opening polymerization method via lactide, or the like is employed. be able to.

本発明において、Reが10nm以下の保護フイルムがアクリル系樹脂(d)と脂肪族ポリエステル系樹脂(e)を含む場合、アクリル系樹脂(d)の割合(質量部)は、アクリル系樹脂(d)と脂肪族ポリエステル系樹脂(e)の合計量100質量部に対して、光弾性係数、強度、耐熱性、ヘイズ値の点から0.1〜99.9質量部であることが好ましく、50〜99.9質量部であることがさらに好ましく、60〜95質量部であることがとりわけ好ましい。50質量部以上であると、湿熱雰囲気下でのヘイズ値が小さくなり好ましい。ヘイズ値が小さい、または変化が小さいと、ディスプレイ用途等に好適に用いることが可能となる。   In the present invention, when the protective film having Re of 10 nm or less contains the acrylic resin (d) and the aliphatic polyester resin (e), the proportion (parts by mass) of the acrylic resin (d) is the acrylic resin (d ) And aliphatic polyester-based resin (e) in a total amount of 100 parts by mass, it is preferably 0.1 to 99.9 parts by mass in terms of photoelastic coefficient, strength, heat resistance, and haze value. More preferably, it is -99.9 mass parts, and it is especially preferable that it is 60-95 mass parts. When it is 50 parts by mass or more, the haze value in a moist heat atmosphere becomes small, which is preferable. When the haze value is small or the change is small, it can be suitably used for display applications.

脂肪族ポリエステル系樹脂(e)の割合(質量部)は、アクリル系樹脂(d)と脂肪族ポリエステル系樹脂(b)の合計量100質量部に対して、光弾性係数、強度、耐熱性、ヘイズ値の点から0.1〜99.9質量部であることが好ましく、0.1〜50質量部であることがさらに好ましく、5〜40質量部であることがとりわけ好ましい。50質量部以下であると、湿熱雰囲気下でのヘイズ値が小さくなり好ましい。ヘイズ値が小さい、または変化が小さいと、ディスプレイ用途に好適に用いることが可能となる。   The ratio (parts by mass) of the aliphatic polyester-based resin (e) is 100 parts by mass of the total amount of the acrylic resin (d) and the aliphatic polyester-based resin (b), photoelastic coefficient, strength, heat resistance, It is preferable that it is 0.1-99.9 mass part from the point of a haze value, It is more preferable that it is 0.1-50 mass part, It is especially preferable that it is 5-40 mass part. When it is 50 parts by mass or less, the haze value in a moist and heat atmosphere is preferably reduced. When the haze value is small or the change is small, it can be suitably used for display applications.

本発明において、Reが10nm以下の保護フィルムの厚さは、ハンドリング性の観点から0.1μm以上であることが好ましく、薄肉化の観点から300μm以下が好ましい。そして、同様の理由から0.2〜250μmの範囲がさらに好ましく、0.3〜200μmの範囲がとりわけ好ましい。   In the present invention, the thickness of the protective film having Re of 10 nm or less is preferably 0.1 μm or more from the viewpoint of handling properties, and preferably 300 μm or less from the viewpoint of thinning. For the same reason, the range of 0.2 to 250 μm is more preferable, and the range of 0.3 to 200 μm is particularly preferable.

偏光フィルムと保護フィルムとの貼合には、光学的に等方性を有する接着剤を用いるのが好ましく、かかる接着剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤、ウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤などが挙げられる。偏光フィルムと保護フィルムとの接着性が悪い場合は、保護フィルムに適宜、コロナ処理、プライマ処理、コーティング処理などの易接着処理を施してから、偏光フィルムと貼合することが好ましい。   For the bonding of the polarizing film and the protective film, it is preferable to use an optically isotropic adhesive. Examples of such an adhesive include a polyvinyl alcohol-based adhesive, a urethane-based adhesive, an epoxy-based adhesive, Examples include acrylic adhesives. When the adhesion between the polarizing film and the protective film is poor, it is preferable that the protective film is appropriately bonded with the polarizing film after an easy adhesion treatment such as a corona treatment, a primer treatment or a coating treatment.

偏光フイルムの一方の面に本発明の光学材料用樹脂組成物からなる偏光板保護フィルムを用い、他方の面にアクリル系樹脂(d)を含むReが10nm以下の保護フィルムを用いると、樹脂間の特性差による反りやカールといった不具合や、吸湿性の差に起因する応力による異常を生じることが少なくなる。   When a polarizing plate protective film made of the resin composition for optical materials of the present invention is used on one surface of the polarizing film, and a protective film having an acrylic resin (d) of 10 nm or less is used on the other surface, The occurrence of problems such as warping and curling due to the difference in characteristics and stress due to the difference in hygroscopicity are reduced.

本発明において、偏光フィルムは、特に限定されるものではないが、例えば、一軸延伸された樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させた偏光フィルムが好ましい。
このような偏光フィルムは公知の方法を用いて製造することができ、例えば特開2002−174729号公報等に記載されている方法により製造することができる。具体的には以下の通りである。
偏光フィルムを構成する樹脂としては、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましく、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。ここで、ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニル及びこれと共重合可能な他の単量体の共重合体などが挙げられる。酢酸ビニルに共重合される他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類などが挙げられる。また、ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、85〜100モル%であることが好ましく、より好ましくは98〜100モル%である。このポリビニルアルコール系樹脂はさらに変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールなども使用し得る。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、1000〜10000であることが好ましく、より好ましくは1500〜10000である。
In the present invention, the polarizing film is not particularly limited. For example, a polarizing film obtained by adsorbing and orienting a dichroic dye on a uniaxially stretched resin film is preferable.
Such a polarizing film can be manufactured using a well-known method, for example, can be manufactured by the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-174729 etc. Specifically, it is as follows.
As the resin constituting the polarizing film, a polyvinyl alcohol resin is preferable, and a polyvinyl alcohol resin obtained by saponifying a polyvinyl acetate resin is preferable. Here, examples of the polyvinyl acetate resin include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and copolymers of vinyl acetate and other monomers copolymerizable therewith. Examples of other monomers copolymerized with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, and unsaturated sulfonic acids. Moreover, it is preferable that the saponification degree of a polyvinyl alcohol-type resin is 85-100 mol%, More preferably, it is 98-100 mol%. This polyvinyl alcohol-based resin may be further modified, and for example, polyvinyl formal and polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used. The degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin is preferably 1000 to 10,000, and more preferably 1500 to 10,000.

偏光フィルムは、例えば、樹脂からフィルムを作製して一軸延伸する工程、延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色してヨウ素や二色性染料を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造できる。
一軸延伸は、二色性色素による染色の前に行ってもよいし、二色性色素による染色と同時に行ってもよいし、二色性色素による染色の後に行ってもよい。一軸延伸を二色性色素による染色後に行う場合、一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。
一軸延伸するには、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤で膨潤した状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常4〜8倍程度である。
For example, a polarizing film is a process of producing a film from a resin and uniaxially stretching the film, a process of dyeing a stretched polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye, and adsorbing iodine or a dichroic dye, a dichroic dye Can be produced through a step of treating the polyvinyl alcohol-based resin film adsorbed with boric acid aqueous solution and a step of washing with water after the treatment with boric acid aqueous solution.
Uniaxial stretching may be performed before dyeing with a dichroic dye, may be performed simultaneously with dyeing with a dichroic dye, or may be performed after dyeing with a dichroic dye. When uniaxial stretching is performed after dyeing with a dichroic dye, uniaxial stretching may be performed before boric acid treatment or during boric acid treatment. It is also possible to perform uniaxial stretching in a plurality of stages.
For uniaxial stretching, rolls having different peripheral speeds may be uniaxially stretched or uniaxially stretched using a hot roll. Moreover, the dry-type extending | stretching which extends | stretches in air | atmosphere may be sufficient, and the wet extending | stretching which extends | stretches in the state swollen with the solvent may be sufficient. The draw ratio is usually about 4 to 8 times.

樹脂フィルムを二色性色素で染色するには、例えば、樹脂フィルムを、二色性色素を含有する水溶液に浸漬すればよい。ここで、二色性色素としては、例えば、ヨウ素や二色性染料が挙げられる。
二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用できる。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水100質量部あたり0.01〜0.5質量部程度であることが好ましく、ヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり0.5〜10質量部程度であることが好ましい。この水溶液の温度は、20〜40℃程度であることが好ましく、また、この水溶液への浸漬時間は、30〜300秒程度であることが好ましい。
二色性色素として二色性染料を用いる場合は、二色性染料を含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用できる。この水溶液における二色性染料の含有量は、水100質量部あたり1×10-3〜1×10-2質量部程度であ
ることが好ましい。この水溶液は、硫酸ナトリウムなどの無機塩を含有していてもよい。この水溶液の温度は、20〜80℃程度であることが好ましく、また、この水溶液への浸漬時間は、30〜300秒程度であることが好ましい。
In order to dye the resin film with the dichroic dye, for example, the resin film may be immersed in an aqueous solution containing the dichroic dye. Here, examples of the dichroic dye include iodine and dichroic dyes.
When iodine is used as the dichroic dye, a method of immersing and dyeing a resin film in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide can be employed. The iodine content in this aqueous solution is preferably about 0.01 to 0.5 parts by mass per 100 parts by mass of water, and the potassium iodide content is 0.5 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of water. It is preferable that it is a grade. The temperature of this aqueous solution is preferably about 20 to 40 ° C., and the immersion time in this aqueous solution is preferably about 30 to 300 seconds.
When a dichroic dye is used as the dichroic dye, a method of immersing and dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film in an aqueous solution containing the dichroic dye can be employed. The content of the dichroic dye in this aqueous solution is preferably about 1 × 10 −3 to 1 × 10 −2 parts by mass per 100 parts by mass of water. This aqueous solution may contain an inorganic salt such as sodium sulfate. The temperature of this aqueous solution is preferably about 20 to 80 ° C., and the immersion time in this aqueous solution is preferably about 30 to 300 seconds.

二色性色素による染色後のホウ酸処理は、染色された樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬することにより行われる。ホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水100質量部あたり2〜15質量部程度であることが好ましく、さらに好ましくは5〜12質量部程度である。二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有するのが好ましい。ホウ酸水溶液におけるヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり2〜20質量部程度であることが好ましく、さらに好ましくは5〜15質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、100〜1200秒程度あることが好ましく、より好ましくは150〜600秒程度、さらに好ましくは200〜400秒程度である。またホウ酸水溶液の温度は、50℃以上であることが好ましく、より好ましくは50〜85℃である。   The boric acid treatment after dyeing with the dichroic dye is performed by immersing the dyed resin film in an aqueous boric acid solution. The boric acid content in the boric acid aqueous solution is preferably about 2 to 15 parts by mass, more preferably about 5 to 12 parts by mass per 100 parts by mass of water. When iodine is used as the dichroic dye, the aqueous boric acid solution preferably contains potassium iodide. The content of potassium iodide in the boric acid aqueous solution is preferably about 2 to 20 parts by mass, more preferably 5 to 15 parts by mass per 100 parts by mass of water. The immersion time in the boric acid aqueous solution is preferably about 100 to 1200 seconds, more preferably about 150 to 600 seconds, and further preferably about 200 to 400 seconds. Moreover, it is preferable that the temperature of boric-acid aqueous solution is 50 degreeC or more, More preferably, it is 50-85 degreeC.

ホウ酸処理後の樹脂フィルムは、水洗処理されることが好ましい。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬することにより行われる。水洗後は適宜乾燥処理が施されて、偏光フィルムが得られる。水洗処理における水の温度は、5〜40℃程度であることが好ましく、浸漬時間は、2〜120秒程度であることが好ましく。その後に行われる乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行われることが好ましい。乾燥温度は、40〜100℃であることが好ましく。乾燥処理における処理時間は、120秒〜600秒程度であるあることが好ましい。
最終的なフィルム厚は、フィルムの取り扱い易さ、ディスプレイの薄肉化要求の観点から、5〜200μmが好ましく、10〜150μmが更に好ましく、15〜100μmがとりわけ好ましい。
The resin film after the boric acid treatment is preferably washed with water. The water washing treatment is performed, for example, by immersing a boric acid-treated polyvinyl alcohol resin film in water. After washing with water, a drying process is appropriately performed to obtain a polarizing film. The water temperature in the water washing treatment is preferably about 5 to 40 ° C., and the immersion time is preferably about 2 to 120 seconds. It is preferable that the drying process performed after that is performed using a hot air dryer or a far-infrared heater. The drying temperature is preferably 40 to 100 ° C. The treatment time in the drying treatment is preferably about 120 seconds to 600 seconds.
The final film thickness is preferably 5 to 200 [mu] m, more preferably 10 to 150 [mu] m, and particularly preferably 15 to 100 [mu] m from the viewpoint of easy handling of the film and the requirement for thinning the display.

次に実施例によって本発明を具体的に説明する。
本発明および実施例で用いた評価法を説明する。
(I)評価方法
(1)複屈折、光弾性係数の測定
Macromolecules 2004,37,1062−1066に詳細の記載のある複屈折測定装置を用いた。レーザー光の経路にフィルムの引っ張り装置を配置し、23℃で伸張応力をかけながら複屈折を測定した。伸張時の歪速度は20%/分(チャック間:30mm、チャック移動速度:6mm/分)、試験片幅は7mmで測定を行った。複屈折(Δn)をy軸、伸張応力(σR)をx軸としてプロットし、その関係から、最小二
乗近似により線形領域の直線の傾きをもとめ光弾性係数(CR)を計算した。
(2)面内レタデーション(Re)の測定
シックネスゲージを用いてフィルムの厚さd(nm)を測定した。この値を大塚電子(株)社製複屈折測定装置RETS−100に入力し、測定面が測定光と垂直になるように試料を配置し、23℃で回転検光子法により面内レタデーション(Re)を測定・算出した。
(3)吸水率測定方法
フィルムを23℃50%RH下に24h以上置いた後、三菱化学株式会社製CA−06型カールフィッシャー水分計を用い、180℃に昇温したときの揮発成分を適定し、吸水率を求めた。
(4)水蒸気透過度測定方法
MOCON社製PERMATRAN−W3/33を用い、JIS K 7129 B(1992)法(赤外センサー法)に従い、40℃/90%RHの条件で測定した。
(5)偏光板の反りの測定
偏光板を200mm×200mmの正方形に裁断し、水平で平坦な台の上にフィルムの中央が台に接するように置き、23℃、50%RHの雰囲気下で72時間静置し、裁断したフィルムの四隅が台から反り上がった高さを平均して算出した。
(6)偏光板の高温多湿時の耐久性の測定
60℃、90%RH条件で1000時間保持した前後の偏光度を下式に従って求め、この値を用いて偏光度保持率を算出して耐久性を評価した。
偏光度(%)={〔(H2−H1)/(H2+H1)〕×1/2}×100
ここで、H2は2枚の偏光板の配向方向が同一方向になるように重ね合わせた状態で分
光光度計を用いて測定した値(平行透過率)であり、H1は2枚の偏光板の配向方向が互
いに直交方向になるように重ね合わせた状態で測定した値(直交透過率)である。偏光度の測定は、島津製作所UV−3150分光光度計を使用した。
偏光度保持率とは、60℃、90%RH条件、1000時間保持試験後の偏光度を試験前の偏光度で除した値に100を掛けた数値である。数値が大きいほど耐久性がよい。
Next, the present invention will be described specifically by way of examples.
The evaluation methods used in the present invention and examples will be described.
(I) Evaluation Method (1) Measurement of Birefringence and Photoelastic Coefficient A birefringence measuring device described in detail in Macromolecules 2004, 37, 1062-1066 was used. A film tensioning device was placed in the laser beam path, and birefringence was measured while applying a tensile stress at 23 ° C. The strain rate during stretching was 20% / min (chuck interval: 30 mm, chuck moving speed: 6 mm / min), and the test piece width was 7 mm. Plotting birefringence (Δn) as the y-axis and stretching stress (σ R ) as the x-axis, the photoelastic coefficient (C R ) was calculated by obtaining the slope of the straight line in the linear region by least square approximation.
(2) Measurement of in-plane retardation (Re) The thickness d (nm) of the film was measured using a thickness gauge. This value is input to a birefringence measuring apparatus RETS-100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., a sample is placed so that the measurement surface is perpendicular to the measurement light, and in-plane retardation (Re ) Was measured and calculated.
(3) Method for measuring water absorption rate After placing the film at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours or longer, use a CA-06 type Karl Fischer moisture meter manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation to determine the volatile components when heated to 180 ° C. The water absorption was determined.
(4) Water vapor transmission rate measurement method Using PERMATRAN-W3 / 33 manufactured by MOCON, the water vapor transmission rate was measured under the conditions of 40 ° C./90% RH according to JIS K 7129 B (1992) method (infrared sensor method).
(5) Measurement of warpage of polarizing plate The polarizing plate is cut into a square of 200 mm × 200 mm, placed on a horizontal and flat base so that the center of the film is in contact with the base, and in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH. The height at which the four corners of the cut film were allowed to warp from the table was calculated by averaging.
(6) Measurement of durability of polarizing plate at high temperature and high humidity The degree of polarization before and after being held at 60 ° C. and 90% RH for 1000 hours is obtained according to the following formula, and the degree of polarization holding rate is calculated using this value to be durable. Sex was evaluated.
Degree of polarization (%) = {[(H 2 −H 1 ) / (H 2 + H 1 )] × ½} × 100
Here, H 2 is a value (parallel transmittance) measured using a spectrophotometer in a state in which the orientation directions of the two polarizing plates are aligned so as to be the same direction, and H 1 is the two polarizations. It is a value (orthogonal transmittance) measured in a state where the orientation directions of the plates are superposed so as to be orthogonal to each other. Shimadzu UV-3150 spectrophotometer was used for the measurement of the degree of polarization.
The degree of polarization retention is a value obtained by multiplying 100 by the value obtained by dividing the degree of polarization after the retention test at 60 ° C. and 90% RH by the degree of polarization before the test. The larger the value, the better the durability.

(7)スチレン−アクリロニトリル共重合体中のアクリロニトリル含量の測定
試料となるスチレン−アクリロニトリル共重合体を熱プレス機を用いてフィルムに成形し、日本分光社製FT−410を用いて、フィルムの1603cm-1、2245cm-
1におけるアクリロニトリル基に由来する吸光度を測定した。アクリロニトリル含量が既
知のスチレン−アクリロニトリル共重合体を用いてあらかじめ求めておいたスチレン−アクリロニトリル共重合体中のアクリロニトリル含量と1603cm-1、2245cm-
1の吸光度比との関係を用いて、スチレン−アクリロニトリル共重合体中のアクリロニト
リル含量を定量した。
(8)スチレン−無水マレイン酸共重合体中の無水マレイン酸含有量の測定
試料となるスチレン−無水マレイン酸共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子製1H−NMR(JNM ECA−500)を用い、周波数500MHz、室温にてNMR測定を行なった。測定結果より、スチレン単位中のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)と無水マレイン酸単位中のアルキル基のプロトンピーク(1〜3ppm付近)の面積比から、試料中のスチレン単位と無水マレイン酸単位のモル比を求めた。得られたモル比とそれぞれのモノマー単位の質量比(スチレン単位:無水マレイン酸単位=104:98)から、スチレン−無水マレイン酸共重合体中の無水マレイン酸の含量を求めた。
(9)スチレン−メタクリル酸共重合体中のメタクリル酸含有量の測定
試料となるスチレン−メタクリル酸共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子製1H−NMR(JNM ECA−500)を用い、周波数500MHz、室温にてNMR測定を行なった。測定結果より、スチレン単位中のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)とメタクリル酸単位中のアルキル基のプロトンピーク(1〜3ppm付近)の面積比から、試料中のスチレン単位とメタクリル酸単位のモル比を求めた。得られたモル比とそれぞれのモノマー単位の質量比(スチレン単位:メタクリル酸単位=104:86)から、スチレン−メタクリル酸共重合体中のメタクリル酸の含量を求めた。
(10)メタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体中のそれぞれの含有量の測定
試料となるメタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体を重クロロホルムに溶解し、日本電子製1H−NMR(JNM ECA−500)を用い、周波数500MHz、室温にてNMR測定を行なった。測定結果より、スチレン単位中のベンゼン環のプロトンピーク(7ppm付近)と無水マレイン酸単位中のアルキル基のプロトンピーク(1〜3ppm付近)とメタクリル酸メチル単位中のメチル基のプロトンピーク(0.5〜1ppm付近)の面積比から、試料中のスチレン単位と無水マレイン酸単位とメタクリル酸メチル単位のモル比を求めた。得られたモル比とそれぞれのモノマー単位の質量比(スチレン単位:無水マレイン酸単位:メタクリル酸メチル=104:86:100)から、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体中のそれぞれの含量を求めた。
(7) Measurement of acrylonitrile content in styrene-acrylonitrile copolymer A styrene-acrylonitrile copolymer as a sample was formed into a film using a hot press machine, and FT-410 manufactured by JASCO Corporation was used to obtain 1603 cm of the film. -1, 2245cm -
The absorbance derived from the acrylonitrile group in 1 was measured. The acrylonitrile content in the styrene-acrylonitrile copolymer previously determined using a styrene-acrylonitrile copolymer with a known acrylonitrile content, and 1603 cm −1 , 2245 cm −.
Using the relationship with the absorbance ratio of 1 , the acrylonitrile content in the styrene-acrylonitrile copolymer was quantified.
(8) Measurement of maleic anhydride content in styrene-maleic anhydride copolymer A styrene-maleic anhydride copolymer as a sample was dissolved in deuterated chloroform, and 1H-NMR (JNM ECA-500) manufactured by JEOL Ltd. NMR measurement was performed at a frequency of 500 MHz and at room temperature. From the measurement results, the area ratio between the proton peak of the benzene ring in the styrene unit (near 7 ppm) and the proton peak of the alkyl group in the maleic anhydride unit (near 1 to 3 ppm), the styrene unit and maleic anhydride unit in the sample The molar ratio of was determined. From the obtained molar ratio and the mass ratio of each monomer unit (styrene unit: maleic anhydride unit = 104: 98), the content of maleic anhydride in the styrene-maleic anhydride copolymer was determined.
(9) Measurement of methacrylic acid content in styrene-methacrylic acid copolymer A styrene-methacrylic acid copolymer as a sample was dissolved in deuterated chloroform, and 1H-NMR (JNM ECA-500) manufactured by JEOL Ltd. was used. NMR measurement was performed at a frequency of 500 MHz and at room temperature. From the measurement results, the molar ratio of the styrene unit and the methacrylic acid unit in the sample was determined from the area ratio of the proton peak of the benzene ring in the styrene unit (around 7 ppm) and the proton peak of the alkyl group in the methacrylic acid unit (around 1 to 3 ppm). The ratio was determined. The content of methacrylic acid in the styrene-methacrylic acid copolymer was determined from the obtained molar ratio and the mass ratio of each monomer unit (styrene unit: methacrylic acid unit = 104: 86).
(10) Measurement of each content in methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer A methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer as a sample was dissolved in deuterated chloroform, and 1H- manufactured by JEOL Ltd. NMR measurement was performed using NMR (JNM ECA-500) at a frequency of 500 MHz and at room temperature. From the measurement results, the proton peak of the benzene ring in the styrene unit (around 7 ppm), the proton peak of the alkyl group in the maleic anhydride unit (around 1-3 ppm), and the proton peak of the methyl group in the methyl methacrylate unit (0. The molar ratio of styrene units, maleic anhydride units and methyl methacrylate units in the sample was determined from the area ratio of about 5 to 1 ppm. From the obtained molar ratio and the mass ratio of each monomer unit (styrene unit: maleic anhydride unit: methyl methacrylate = 104: 86: 100), each of the methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymers The content was determined.

(II)原料の準備
(1)アクリル系樹脂(A)
i)メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体1
メタクリル酸メチル89.2重量部、アクリル酸メチル5.8重量部、及びキシレン5重量部からなる単量体混合物に、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,3,3−トリメチルシクロヘキサン0.0294重量部、及びn−オクチルメルカプタン0.115重量部を添加し、均一に混合した。この溶液を内容積10リットルの密閉耐圧反応器に連続的に供給し、攪拌下に平均温度130℃、平均滞留時間2時間で重合した後、反応器に接続された貯層に連続的に送り出し、一定条件下で揮発分を除去し、さらに押出機に連続的に溶融状態で移送し、アクリル系樹脂(A)であるメタクリル酸メチル/アクリル酸メチル共重合体ペレットを得た。得られた共重合体のアクリル酸メチル含量は6.0%、重量平均分子量は14.5万、ASTM−D1238に準拠して測定した230℃3.8kg荷重のメルトフロー値は1.0g/分であった。また、その23℃における光弾性係数(未延伸)は、−5.2×10-12/Paであった。
ii)メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体2
メタクリル酸メチル93.2質量部、アクリル酸メチル2.3質量部、及びキシレン3.3質量部からなる単量体混合物に、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,3,3−トリメチルシクロヘキサン0.03質量部、及びn−オクチルメルカプタン0.12質量部を添加し、均一に混合する。この溶液を内容積10Lの密閉耐圧反応器に連続的に供給し、攪拌下に平均温度130℃、平均滞留時間2時間で重合した後、反応器に接続された貯層に連続的に送り出し、一定条件下で揮発分を除去した。さらに押出機に連続的に溶融状態で移送し、メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体のペレットを得た。
得られたメタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体のアクリル酸メチル含量は2.0%、質量平均分子量は10.2万、ASTM−D1238に準拠して測定した230℃3.8kg荷重のメルトフロー値は2.0g/10分であった。その23℃における光弾性係数(未延伸)は、−4.5×10-12/Paであった。
(II) Preparation of raw materials (1) Acrylic resin (A)
i) Methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer 1
1,1-di-t-butylperoxy-3,3,3-trimethyl was added to a monomer mixture consisting of 89.2 parts by weight of methyl methacrylate, 5.8 parts by weight of methyl acrylate, and 5 parts by weight of xylene. 0.0294 parts by weight of cyclohexane and 0.115 parts by weight of n-octyl mercaptan were added and mixed uniformly. This solution is continuously supplied to a closed pressure-resistant reactor having an internal volume of 10 liters, polymerized with stirring at an average temperature of 130 ° C. and an average residence time of 2 hours, and then continuously sent to a reservoir connected to the reactor. The volatile matter was removed under a certain condition, and the volatile matter was continuously transferred to an extruder in a molten state to obtain a methyl methacrylate / methyl acrylate copolymer pellet as an acrylic resin (A). The resulting copolymer had a methyl acrylate content of 6.0%, a weight average molecular weight of 145,000, and a melt flow value measured at 230 ° C. of 3.8 kg measured according to ASTM-D1238 was 1.0 g / Minutes. The photoelastic coefficient (unstretched) at 23 ° C. was −5.2 × 10 −12 / Pa.
ii) Methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer 2
1,1-di-t-butylperoxy-3,3,3 was added to a monomer mixture consisting of 93.2 parts by weight of methyl methacrylate, 2.3 parts by weight of methyl acrylate, and 3.3 parts by weight of xylene. Add 0.03 parts by weight of trimethylcyclohexane and 0.12 parts by weight of n-octyl mercaptan and mix uniformly. This solution was continuously supplied to a sealed pressure-resistant reactor having an internal volume of 10 L, polymerized with stirring at an average temperature of 130 ° C. and an average residence time of 2 hours, and then continuously sent to a reservoir connected to the reactor, Volatiles were removed under certain conditions. Furthermore, it was continuously transferred to an extruder in a molten state, and methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer pellets were obtained.
The resulting methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer has a methyl acrylate content of 2.0%, a mass average molecular weight of 102,000, and a 230 ° C. 3.8 kg load melt measured in accordance with ASTM-D1238. The flow value was 2.0 g / 10 min. The photoelastic coefficient (unstretched) at 23 ° C. was −4.5 × 10 −12 / Pa.

(2)スチレン系樹脂(B)
i)スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1)
攪拌機付き完全混合型反応機に、スチレン72質量%、アクリロニトリル13質量%、エチルベンゼン15質量%からなる単量体混合物を連続的にフイードし、150℃、滞留時間2時間で重合反応を行った。
得られた重合溶液を押出機に連続的に供給し、押出機で未反応単量体、溶媒を回収し、スチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1)のペレットを得た。
得られたスチレン−アクリロニトリル共重合体(B−1)は無色透明で、中和滴定による組成分析の結果、スチレン含量80質量%、アクリロニトリル含量20質量%であり、ASTM−D1238に準拠した220℃、10kg荷重のメルトフローレート値は13g/10分であった。また、その光弾性係数(未延伸)は、5.0×10-12Pa-1
であり、固有複屈折は負であった。
(2) Styrenic resin (B)
i) Styrene-acrylonitrile copolymer (B-1)
A monomer mixture composed of 72% by mass of styrene, 13% by mass of acrylonitrile, and 15% by mass of ethylbenzene was continuously fed into a complete mixing reactor equipped with a stirrer, and a polymerization reaction was performed at 150 ° C. and a residence time of 2 hours.
The obtained polymerization solution was continuously supplied to an extruder, and unreacted monomers and a solvent were collected by the extruder to obtain pellets of a styrene-acrylonitrile copolymer (B-1).
The obtained styrene-acrylonitrile copolymer (B-1) was colorless and transparent, and as a result of compositional analysis by neutralization titration, the styrene content was 80% by mass, the acrylonitrile content was 20% by mass, and 220 ° C. in accordance with ASTM-D1238. The melt flow rate value at 10 kg load was 13 g / 10 min. The photoelastic coefficient (unstretched) is 5.0 × 10 −12 Pa −1.
The intrinsic birefringence was negative.

ii)スチレン−メタクリル酸共重合体(B−2)
装置の全てがステンレス鋼で製作されているものを用いて、連続溶液重合を行った。スチレン75.2質量%、メタクリル酸4.8質量%、エチルベンゼン20質量%を調合液とし、重合開始剤として1,1−tert−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを用いる。この調合液を1L/hr.の速度で連続して、内容積2Lの攪拌機付きの完全混合重合器へ供給し、136℃で重合を行った。
固形分49%を含有する重合液を連続して取り出し、まず230℃に予熱後、230℃に保温し、20torrに減圧された脱揮器に供給し、平均滞留0.3時間経過後、脱揮器の低部のギヤポンプより連続して排出した。
得られたスチレン−メタクリル酸共重合体(B−2)は無色透明で、中和滴定による組成分析の結果、スチレン含量92質量%、メタクリル酸含量8質量%であった。ASTM−D1238に準拠して測定した230℃、3.8kg荷重のメルトフローレート値は5.2g/10分であった。また、その光弾性係数(未延伸)は、4.8×10-12Pa
-1であり、固有複屈折は負であった。
ii) Styrene-methacrylic acid copolymer (B-2)
Continuous solution polymerization was carried out using all the equipment made of stainless steel. 75.2% by mass of styrene, 4.8% by mass of methacrylic acid, and 20% by mass of ethylbenzene are used as a preparation liquid, and 1,1-tert-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane is used as a polymerization initiator. This prepared solution was added at 1 L / hr. The mixture was continuously fed at a rate of 1 to a completely mixed polymerization reactor with an internal volume of 2 L and equipped with a stirrer, and polymerization was carried out at 136 ° C.
A polymerization solution containing 49% of solid content is continuously taken out, first preheated to 230 ° C., kept at 230 ° C., and supplied to a devolatilizer depressurized to 20 torr. It discharged continuously from the gear pump at the lower part of the volatilizer.
The obtained styrene-methacrylic acid copolymer (B-2) was colorless and transparent, and as a result of compositional analysis by neutralization titration, the styrene content was 92 mass% and the methacrylic acid content was 8 mass%. The melt flow rate value measured at 230 ° C. under a load of 3.8 kg measured in accordance with ASTM-D1238 was 5.2 g / 10 minutes. The photoelastic coefficient (unstretched) is 4.8 × 10 −12 Pa.
The intrinsic birefringence was negative.

iii)スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−3)
装置の全てがステンレス鋼で製作されているものを用いて、連続溶液重合を行った。スチレン91.7質量部、無水マレイン酸8.3質量部の比率で合計100質量部を準備した。(ただし、両者は混合しない。)メチルアルコール5質量部、重合開始剤として1,1−tert−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.03質量部をスチレンに混合し、第1調合液とした。0.95kg/hr.の速度で連続して内容積4Lのジャケット付き完全混合重合機に供給した。
一方、70℃に加熱した無水マレイン酸を、第二調合液として0.10kg/hr.の速度で同一重合機へ供給し、111℃で重合を行う。重合転化率が54%となったところで、重合液を重合機から連続して取り出し、まず230℃に予熱後、230℃に保温し、20torrに減圧された脱揮器に供給し、平均滞留0.3時間経過後、脱揮器の低部のギヤポンプより連続して排出し、スチレン−無水マレイン酸共重合体(B−3)を得た。 得られたスチレン−無水マレイン酸共重合体(B−3)は無色透明で、中和滴定による組成分析の結果、スチレン含量85質量%、無水マレイン酸単位15質量%であった。ASTM−D1238に準拠して測定した230℃、2.16kg荷重のメルトフローレート値は2.0g/10分であった。また、その光弾性係数(未延伸)は、4.1×10-
12Pa-1であり、固有複屈折は負であった。
iii) Styrene-maleic anhydride copolymer (B-3)
Continuous solution polymerization was carried out using all the equipment made of stainless steel. A total of 100 parts by mass was prepared at a ratio of 91.7 parts by mass of styrene and 8.3 parts by mass of maleic anhydride. (However, the two are not mixed.) 5 parts by mass of methyl alcohol and 0.03 parts by mass of 1,1-tert-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane as a polymerization initiator are mixed with styrene. It was set as the preparation liquid. 0.95 kg / hr. Was continuously supplied to a jacketed complete mixing polymerization machine having an internal volume of 4 L.
On the other hand, maleic anhydride heated to 70 ° C. was used as the second preparation liquid at 0.10 kg / hr. To the same polymerization machine at a rate of 1 ° C., and polymerization is carried out at 111 ° C. When the polymerization conversion rate became 54%, the polymerization solution was continuously removed from the polymerization machine, first preheated to 230 ° C., kept at 230 ° C., and supplied to a devolatilizer reduced to 20 torr, with an average retention of 0 After 3 hours, it was continuously discharged from the lower gear pump of the devolatilizer to obtain a styrene-maleic anhydride copolymer (B-3). The obtained styrene-maleic anhydride copolymer (B-3) was colorless and transparent, and as a result of compositional analysis by neutralization titration, the styrene content was 85% by mass and the maleic anhydride unit was 15% by mass. The melt flow rate value measured at 230 ° C. under a load of 2.16 kg measured according to ASTM-D1238 was 2.0 g / 10 min. The photoelastic coefficient (unstretched) is 4.1 × 10 −.
12 Pa −1 and the intrinsic birefringence was negative.

(3)シクロオレフィン系フィルム(COP)の準備
比較のため、従来技術の偏光板保護フィルムの代表例として非晶性ポリオレフィン系樹脂であるシクロオレフィン系樹脂フィルムを以下のようにして製造した。
環状ポリオレフィンとしてエチレンとノルボルネンとの付加重合を行い、エチレン−ノルボルネンランダム共重合体(エチレン含量:65mol%、MFR:31g/10分、数平均分子量:68000)を製造した。ここで得た樹脂100質量部をシクロヘキサン80質量部、トルエン80質量部、キシレン80質量部の混合溶剤に溶解し、流延法により厚さ101μmのフィルムを作製した。
(3) Preparation of cycloolefin-based film (COP) For comparison, a cycloolefin-based resin film, which is an amorphous polyolefin-based resin, was produced as follows as a representative example of a conventional polarizing plate protective film.
Addition polymerization of ethylene and norbornene was performed as a cyclic polyolefin to produce an ethylene-norbornene random copolymer (ethylene content: 65 mol%, MFR: 31 g / 10 min, number average molecular weight: 68000). 100 parts by mass of the resin obtained here was dissolved in a mixed solvent of 80 parts by mass of cyclohexane, 80 parts by mass of toluene, and 80 parts by mass of xylene, and a film having a thickness of 101 μm was produced by a casting method.

(4)トリアセチルセルロース(TAC)フイルムの準備
比較のため、トリアセチルセルロースフイルム(富士写真フィルム株式会社製)(100μm)を用いた。
(4) Preparation of triacetyl cellulose (TAC) film For comparison, a triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) (100 μm) was used.

(5)添加剤
(i)アデカスタブLA−31
一般式[3]で示されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である旭電化(株)社製アデカスタブLA−31(融点(Tm):195℃)を用いた。
(ii)スミライザ− GS
アクリレート基を有するフェノール系酸化防止剤である住友化学(株)社製スミライザ− GS(融点(Tm):≧115℃)を用いた。
(5) Additive (i) ADK STAB LA-31
Adeka Stub LA-31 (melting point (Tm): 195 ° C.) manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., which is a benzotriazole ultraviolet absorber represented by the general formula [3] was used.
(Ii) Sumilyzer-GS
Sumitizer-GS (melting point (Tm): ≧ 115 ° C.) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., which is a phenolic antioxidant having an acrylate group, was used.

参考例1〜7、比較例1、2]
表1に記載の配合比の樹脂組成物を用い、テクノベル製Tダイ装着押し出し機(KZW15TW−25MG−NH型/幅150mmTダイ装着/リップ厚0.5mm)を用いて、スクリュー回転数、押し出し機のシリンダー内樹脂温度、Tダイの温度を表1に示す条件に調整し押し出し成形をすることにより未延伸フィルムを得た。フィルムの流れ(押し出し方向)をMD方向、MD方向に垂直な方向をTD方向とした。
そして、未延伸フィルムを幅が50mmになるように切り出し、表1に示す条件で1軸延伸(チャック間:50mm、チャック移動速度:500mm/分)を引っ張り試験機を用いて行い、参考例1、4、7の一軸延伸フィルムを得た。
また、1軸延伸フイルムを幅が50mmになるように切り出し、表1に示す条件で1軸延伸(チャック間:50mm、チャック移動速度:500mm/分)を引っ張り試験機を用いて行い、参考例2、3、5、6の2軸延伸フィルムを得た。
[ Reference Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 and 2]
Using the resin composition having the blending ratio shown in Table 1, using a Technobel T-die mounting extruder (KZW15TW-25MG-NH type / width 150 mmT die mounting / lip thickness 0.5 mm), screw rotation speed, extruder The unstretched film was obtained by adjusting the resin temperature in the cylinder and the temperature of the T die to the conditions shown in Table 1 and performing extrusion molding. The flow (extrusion direction) of the film was defined as the MD direction, and the direction perpendicular to the MD direction was defined as the TD direction.
Then, the unstretched film was cut out to have a width of 50 mm, and uniaxial stretching (between chucks: 50 mm, chuck moving speed: 500 mm / min) was performed using the tensile tester under the conditions shown in Table 1, Reference Example 1 4, 7 uniaxially stretched films were obtained.
Also, cut out such that the width of the uniaxial stretched film is 50 mm, uniaxial stretching under the conditions shown in Table 1 (between chucks: 50 mm, chuck moving speed: 500 mm / min) was performed using a tensile tester, reference example 2, 3, 5, 6 biaxially stretched films were obtained.

各延伸フィルムの組成、押し出し成形条件、フィルムの厚み、レターデーション(Re)、光弾性係数の絶対値、吸水率を表1に示す。
また、比較のための、シクロオレフィン系樹脂フィルム(COP)(光弾性係数は正、固有複屈折は正)を比較例1、市販のTAC(トリアセチルセルロース)フィルム(LOFO High Tech Film社製 商品名TACPHAN、光弾性係数は正、固有複屈折は正)を比較例2として、その厚み、面内レタデーションRe、光弾性係数の絶対値、吸水率を表1に示す。
Table 1 shows the composition of each stretched film, extrusion molding conditions, film thickness, retardation (Re), absolute value of photoelastic coefficient, and water absorption.
For comparison, a cycloolefin resin film (COP) (photoelastic coefficient is positive, intrinsic birefringence is positive) is Comparative Example 1, a commercially available TAC (triacetyl cellulose) film (LOFO High Tech Film, Inc.) Table 1 shows the thickness, the in-plane retardation Re, the absolute value of the photoelastic coefficient, and the water absorption rate as Comparative Example 2 in which the name TACPHAN, the photoelastic coefficient is positive, and the intrinsic birefringence is positive.

表1より、本発明の光学材料用樹脂組成物から製造したフイルムは、シクロオレフィン系樹脂よりも吸水率が高く、トリアセチルセルロース(TAC)フイルムより、吸水率が低いことが確認できた。   From Table 1, it was confirmed that the film produced from the resin composition for an optical material of the present invention has a higher water absorption rate than the cycloolefin-based resin and a lower water absorption rate than the triacetyl cellulose (TAC) film.

Figure 2008225452
Figure 2008225452

[実施例8〜13]
表2に記載の配合比の樹脂組成物を用い、テクノベル製Tダイ装着押し出し機(KZW15TW−25MG−NH型/幅150mmTダイ装着/リップ厚0.5mm)を用いて、スクリュー回転数、押し出し機のシリンダー内樹脂温度、Tダイの温度を表2に示す条件に調整し押し出し成形をすることにより未延伸フィルムを得た。フィルムの流れ(押し出し方向)をMD方向、MD方向に垂直な方向をTD方向とした。
そして、未延伸フィルムを幅が50mmになるように切り出し、表2に示す条件で1軸延伸(チャック間:50mm、チャック移動速度:500mm/分)を引っ張り試験機を用いて行い、実施例8〜13の一軸延伸フィルムを得た。
[Examples 8 to 13]
Using the resin composition having the blending ratio shown in Table 2, using a Technobel T-die mounting extruder (KZW15TW-25MG-NH type / width 150 mmT die mounting / lip thickness 0.5 mm), screw rotation speed, extruder The unstretched film was obtained by adjusting the resin temperature in the cylinder and the temperature of the T die to the conditions shown in Table 2 and performing extrusion molding. The flow (extrusion direction) of the film was defined as the MD direction, and the direction perpendicular to the MD direction was defined as the TD direction.
Then, the unstretched film was cut out to have a width of 50 mm, and uniaxial stretching (between chucks: 50 mm, chuck moving speed: 500 mm / min) was performed using the tensile tester under the conditions shown in Table 2, Example 8 ˜13 uniaxially stretched films were obtained.

各延伸フィルムの組成、押し出し成形条件、フィルムの厚み、レターデーション(Re)、光弾性係数の絶対値、吸水率、水蒸気透過度を表2に示す。   Table 2 shows the composition of each stretched film, extrusion molding conditions, film thickness, retardation (Re), absolute value of photoelastic coefficient, water absorption, and water vapor permeability.

Figure 2008225452
Figure 2008225452

表1、表2より、添加剤を添加した本発明の光学材料用樹脂組成物(実施例8〜13)から製造したフイルムは、添加しないもの(参考例1〜7)から製造したフイルムと比較して水蒸気透過度が小さいことを確認した。 From Table 1 and Table 2, the film manufactured from the resin composition for optical materials of the present invention (Examples 8 to 13) to which the additive was added was compared with the film manufactured from those not added ( Reference Examples 1 to 7). It was confirmed that the water vapor permeability was small.

参考例14〜16、実施例17〜19、比較例3、4]
(偏光フィルムの製造)
ポリ酢酸ビニルをケン化後(ケン化度98モル%)、成形し、得られたポリビニルアルコールフィルム(厚さ75μm)を水1000質量部、ヨウ素7質量部、ヨウ化カリウム105質量部からなる水溶液に5分間浸漬し、フィルムにヨウ素を吸着させた。次いでこのフィルムを40℃の4質量%ホウ酸水溶液中で、5倍に縦方向一軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して偏光フィルムを得た。
[ Reference Examples 14 to 16, Examples 17 to 19, Comparative Examples 3 and 4]
(Manufacture of polarizing film)
Polyvinyl acetate is saponified (saponification degree: 98 mol%), molded, and the resulting polyvinyl alcohol film (thickness 75 μm) is an aqueous solution comprising 1000 parts by mass of water, 7 parts by mass of iodine, and 105 parts by mass of potassium iodide. For 5 minutes to adsorb iodine to the film. Next, this film was stretched uniaxially in the machine direction 5 times in a 4% by mass boric acid aqueous solution at 40 ° C., and then dried in a tension state to obtain a polarizing film.

(アクリル系樹脂(d)保護フィルムの製造)
特公昭63−1964号公報に記載の方法で、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体を得た。
得られたメタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体の組成は、メタクリル酸メチル74質量%、無水マレイン酸10質量%、スチレン16質量%であり、共重合体メルトフローレート値(ASTM−D1238;230℃、3.8kg荷重)は1.6g/10分であった。
このメタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体を表1に示す条件で成形・延伸し、試作例1の保護フィルムを製造した。
(偏光板の製造)
接着剤としてポリビニルアルコール系樹脂の10%水溶液を用いて、偏光フィルムの一方の面に、参考例1、5、7、実施例8、10、13、参考例14、16のフイルム、比較例2のCOPフイルム、比較例1のトリアセチルセルロースフイルムを、他方の面に試作例1の保護フイルムを貼り合わせ、参考例14〜16、実施例17〜19、比較例3〜4の偏光板を得た。
(Manufacture of acrylic resin (d) protective film)
A methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer was obtained by the method described in Japanese Patent Publication No. 63-1964.
The composition of the obtained methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer was 74% by mass of methyl methacrylate, 10% by mass of maleic anhydride, and 16% by mass of styrene, and the copolymer melt flow rate value (ASTM- D1238; 230 ° C., 3.8 kg load) was 1.6 g / 10 min.
This methyl methacrylate-maleic anhydride-styrene copolymer was molded and stretched under the conditions shown in Table 1 to produce a protective film of Prototype Example 1.
(Manufacture of polarizing plates)
Using a 10% aqueous solution of a polyvinyl alcohol-based resin as an adhesive, the films of Reference Examples 1, 5, 7, Examples 8, 10, 13, Reference Examples 14, 16 and Comparative Example 2 were formed on one surface of the polarizing film. The COP film of Example 1, the triacetyl cellulose film of Comparative Example 1 and the protective film of Prototype Example 1 were bonded to the other surface to obtain polarizing plates of Reference Examples 14 to 16, Examples 17 to 19, and Comparative Examples 3 to 4. It was.

参考例14〜16、実施例17〜19、比較例3、4の偏光板の反り、偏光度保持率を表3に示す。
表3より、保護フィルムとして本発明の光学材料用樹脂組成物から製造したフイルムを用いた偏光板は、反りが少なく、高温多湿時の耐久性にも優れることが確認できた。
Table 3 shows the warpage and polarization degree retention of the polarizing plates of Reference Examples 14 to 16, Examples 17 to 19, and Comparative Examples 3 and 4.
From Table 3, it was confirmed that the polarizing plate using the film produced from the resin composition for an optical material of the present invention as a protective film has little warpage and excellent durability at high temperature and high humidity.

Figure 2008225452
Figure 2008225452

本発明の光学材料用樹脂組成物は、ディスプレイ前面板、ディスプレイ基盤、タッチパネル、太陽電池に用いられる透明基盤等や、その他、光通信システム、光交換システム、光計測システム等の分野における、導波路、レンズ、光ファイバー、光ファイバーの被覆材料、LEDのレンズ、レンズカバーなど様々な光学素子を製造するための光学材料に使用できる。
特に、本発明の光学材料用樹脂組成物は、適度な透湿度を有する成形体を製造できるので、各種光学素子の保護フイルムを製造するための光学材料として好適に用いることができる。
とりわけ、本発明の光学樹脂組成物の成形体は、レタデーションを付与することが容易であるので、保護フイルムとしての機能と、位相差フイルムとしての機能とを兼ねることができ、偏光板保護フイルムとして好適に用いることができる。



The resin composition for an optical material of the present invention is a waveguide in the fields of a display front plate, a display substrate, a touch panel, a transparent substrate used for solar cells, and other optical communication systems, an optical switching system, an optical measurement system, etc. It can be used as an optical material for manufacturing various optical elements such as lenses, optical fibers, optical fiber coating materials, LED lenses, and lens covers.
In particular, the resin composition for optical materials of the present invention can be used suitably as an optical material for manufacturing protective films for various optical elements because it can produce a molded article having an appropriate moisture permeability.
In particular, since the molded article of the optical resin composition of the present invention can easily provide retardation, it can serve both as a protective film and as a retardation film, and as a polarizing plate protective film. It can be used suitably.



Claims (14)

アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含み、アクリル系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)の質量比((A)/(B))が20/80〜60/40である光学材料用樹脂組成物100質量部に対して0.01質量部以上2質量部以下の添加剤を含む組成物からなり、吸水率が0.01%以上0.5%以下、水蒸気透過度が15g/m2・day以上100g/m2・dayである光学素子用成形体。 The acrylic resin (A) and the styrene resin (B) are included, and the mass ratio ((A) / (B)) of the acrylic resin (A) and the styrene resin (B) is 20/80 to 60/40. It is composed of a composition containing 0.01 parts by mass or more and 2 parts by mass or less of an additive with respect to 100 parts by mass of the resin composition for an optical material. A molded article for an optical element having a degree of 15 g / m 2 · day or more and 100 g / m 2 · day. 前記添加剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾトリアジン系化合物、及び分子内にアクリレート基を有するフェノール系酸化防止剤からなる群から選択される少なくとも1つの添加剤である請求項1に記載の光学素子用成形体。  2. The optical element according to claim 1, wherein the additive is at least one additive selected from the group consisting of a benzotriazole compound, a benzotriazine compound, and a phenolic antioxidant having an acrylate group in the molecule. Molded body. 前記スチレン系樹脂(B)が、スチレン−アクリロニトリル共重合体である請求項1または2に記載の光学素子用成形体。 The molded article for an optical element according to claim 1 or 2 , wherein the styrene resin (B) is a styrene-acrylonitrile copolymer. 前記スチレン−アクリロニトリル共重合体中のアクリロニトリル含量が、1〜40質量%である請求項に記載の光学素子用成形体。 The molded article for an optical element according to claim 3 , wherein an acrylonitrile content in the styrene-acrylonitrile copolymer is 1 to 40% by mass. 前記スチレン系樹脂(B)が、スチレン−メタクリル酸共重合体である請求項1または2に記載の光学素子用成形体。 The molded article for an optical element according to claim 1, wherein the styrene resin (B) is a styrene-methacrylic acid copolymer. 前記スチレン−メタクリル酸共重合体中のメタクリル酸含量が、0.1〜50質量%である請求項に記載の光学素子用成形体。 The molded article for an optical element according to claim 5 , wherein a methacrylic acid content in the styrene-methacrylic acid copolymer is 0.1 to 50% by mass. 前記スチレン系樹脂(B)が、スチレン−無水マレイン酸共重合体である請求項1または2に記載の光学素子用成形体。 The molded article for an optical element according to claim 1 or 2 , wherein the styrene resin (B) is a styrene-maleic anhydride copolymer. 前記スチレン−無水マレイン酸共重合体中の無水マレイン酸含量が、0.1〜50質量%である請求項に記載の光学素子用成形体。 The molded article for an optical element according to claim 7 , wherein the maleic anhydride content in the styrene-maleic anhydride copolymer is 0.1 to 50% by mass. 水蒸気透過度が20g/m  Water vapor permeability is 20g / m 22 ・day以上60g/m・ Day and above 60g / m 22 ・day以下である請求項1〜8のいずれか1項に記載の光学素子用成形体。It is day or less, The molded object for optical elements of any one of Claims 1-8. 水蒸気透過度が30g/m  Water vapor permeability is 30g / m 22 ・day以上40g/m・ Day over 40g / m 22 ・day以下である請求項1〜8のいずれか1項に記載の光学素子用成形体。It is day or less, The molded object for optical elements of any one of Claims 1-8. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学素子用成形体からなる偏光板保護フィルム。 Polarizing plate protective film composed of a molded article for an optical element according to any one of claims 1-10. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学素子用成形体からなる位相差フィルム。 A retardation film consisting of the molded body for optical element according to any one of claims 1-10. 偏光フィルムと、
該偏光フイルムの一方の面に積層され、Reが10nm以上である請求項11に記載の偏光板保護フィルムと、
を有する偏光板。
A polarizing film;
The polarizing plate protective film according to claim 11 , wherein the polarizing film is laminated on one surface of the polarizing film and Re is 10 nm or more.
A polarizing plate having
さらに、前記偏光フイルムの他方の面に積層され、Reが10nm以下であるアクリル系樹脂(d)保護フィルムを有する請求項13に記載の偏光板。 Furthermore, the polarizing plate of Claim 13 which has an acrylic resin (d) protective film laminated | stacked on the other surface of the said polarizing film, and Re being 10 nm or less.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010181710A (en) * 2009-02-06 2010-08-19 Nippon Zeon Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
SG11201509671QA (en) * 2013-05-24 2015-12-30 Evonik Roehm Gmbh Composite system with high impact strength and a high softening point
JP6275961B2 (en) * 2013-06-26 2018-02-07 富士フイルム株式会社 Optical film and display device
JP6313674B2 (en) * 2013-07-05 2018-04-18 富士フイルム株式会社 Polarizing plate and liquid crystal display device
WO2015128995A1 (en) * 2014-02-27 2015-09-03 コニカミノルタ株式会社 Polarizer-protecting film, manufacturing method therefor, polarizer, and liquid-crystal display
JP2016066047A (en) * 2014-03-25 2016-04-28 住友化学株式会社 Polarizing plate and liquid crystal panel
WO2020137577A1 (en) 2018-12-26 2020-07-02 Dic株式会社 Resin composition for optical material, optical film, and display device

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264657A (en) * 1986-10-09 1988-11-01 Daicel Chem Ind Ltd Transparent resin composition
JP2667876B2 (en) * 1988-06-14 1997-10-27 株式会社クラレ Light diffusing plastic
JP3602555B2 (en) * 1993-06-07 2004-12-15 株式会社クラレ Liquid crystal display
JP4953494B2 (en) * 1998-12-09 2012-06-13 株式会社日本触媒 Transparent heat-resistant resin molding material, its production method and its use
JP2001081276A (en) * 1999-07-14 2001-03-27 Mitsubishi Chem Mkv Co Resin composition and composite resin molded article
JP4769348B2 (en) * 1999-11-26 2011-09-07 株式会社日本触媒 Production method of transparent heat-resistant resin
JP2003012724A (en) * 2001-06-28 2003-01-15 Nippon Shokubai Co Ltd Polymer and polymerizable resin composition using the same
JP2003064231A (en) * 2001-08-29 2003-03-05 Asahi Kasei Corp Weatherable impact-resistant styrene-based resin composition
JP2003131034A (en) * 2001-10-30 2003-05-08 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polarizing plate and its manufacturing method
JP4550404B2 (en) * 2003-12-04 2010-09-22 三菱レイヨン株式会社 Colored acrylic resin film for retroreflective sheeting
JP2005189519A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Mitsubishi Rayon Co Ltd Light-diffusive resin plate material and its manufacturing method
CN100388027C (en) * 2004-03-25 2008-05-14 日东电工株式会社 Manufacturing method for polarizing plate, polarizing plate and picture display device using the polarizing plate
JP2006171409A (en) * 2004-12-16 2006-06-29 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Low water absorbing light diffusion plate
EP1865347B1 (en) * 2005-03-31 2012-06-20 Nippon Shokubai Co., Ltd. Polarizer protection film, polarizing plate, and image display unit
JP4570042B2 (en) * 2005-03-31 2010-10-27 日東電工株式会社 Polarizer protective film, polarizing plate, and image display device
JP2006282902A (en) * 2005-04-01 2006-10-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd Colored acrylic resin film for surface skin of retroreflection sheet
JP4774856B2 (en) * 2005-08-09 2011-09-14 東ソー株式会社 Retardation film
JP4068120B2 (en) * 2005-10-07 2008-03-26 旭化成ケミカルズ株式会社 Optical compensation film
JP2007197703A (en) * 2005-12-27 2007-08-09 Toray Ind Inc Acrylic film and polarizing plate
JP2006293399A (en) * 2006-07-12 2006-10-26 Nitto Denko Corp Wide viewing angle polarizing plate
JP2006309266A (en) * 2006-07-14 2006-11-09 Gunze Ltd Protective film for polarizing plate and polarizing plate obtained by using the same
JP2008046495A (en) * 2006-08-18 2008-02-28 Nippon Zeon Co Ltd Optical laminated film, polarized light source apparatus, and liquid crystal display apparatus
JP5057807B2 (en) * 2006-09-14 2012-10-24 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Retardation film containing acrylic resin and styrene resin
JP4826490B2 (en) * 2007-01-31 2011-11-30 日本ゼオン株式会社 Optical composite element
JP2008276208A (en) * 2007-04-02 2008-11-13 Asahi Kasei Chemicals Corp Optical film

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