JP2008216614A - Display and electronic device - Google Patents
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Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、表示装置および電子機器に関し、特に電気光学素子を含む画素が行列状(マトリクス状)に配置されてなる平面型(フラットパネル型)の表示装置および当該表示装置を有する電子機器に関する。 The present invention relates to a display device and an electronic apparatus, and more particularly, to a planar (flat panel type) display device in which pixels including electro-optic elements are arranged in a matrix (matrix shape), and an electronic apparatus having the display device.
近年、画像表示を行う表示装置の分野では、発光素子を含む画素(画素回路)が行列状に配置されてなる平面型の表示装置、例えば、画素の発光素子として、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化するいわゆる電流駆動型の電気光学素子、例えば有機薄膜に電界をかけると発光する現象を利用した有機EL(Electro Luminescence)素子を用いた有機EL表示装置が開発され、商品化が進められている。 In recent years, in the field of display devices that perform image display, a flat display device in which pixels (pixel circuits) including light emitting elements are arranged in a matrix, for example, as a light emitting element of a pixel, according to a current value flowing through the device. So-called current-driven electro-optic elements whose emission brightness changes, for example, organic EL display devices using organic EL (Electro Luminescence) elements utilizing the phenomenon of light emission when an electric field is applied to an organic thin film have been developed and commercialized. It is being advanced.
有機EL表示装置は次のような特長を持っている。すなわち、有機EL素子が10V以下の印加電圧で駆動できるために低消費電力であり、また自発光素子であることから、液晶セルを含む画素ごとに当該液晶セルにて光源(バックライト)からの光強度を制御することによって画像を表示する液晶表示装置に比べて、画像の視認性が高く、しかも液晶表示装置には必須なバックライト等の照明部材を必要としないために軽量化および薄型化が容易である。さらに、有機EL素子の応答速度が数μsec程度と非常に高速であるために動画表示時の残像が発生しない。 The organic EL display device has the following features. That is, since the organic EL element can be driven with an applied voltage of 10 V or less, it has low power consumption and is a self-luminous element. Therefore, for each pixel including the liquid crystal cell, the liquid crystal cell emits light from the light source (backlight). Compared to a liquid crystal display device that displays an image by controlling the light intensity, the image is highly visible, and the liquid crystal display device does not require an illumination member such as a backlight. Is easy. Furthermore, since the response speed of the organic EL element is as high as about several μsec, an afterimage at the time of displaying a moving image does not occur.
有機EL表示装置では、液晶表示装置と同様、その駆動方式として単純(パッシブ)マトリクス方式とアクティブマトリクス方式とを採ることができる。ただし、単純マトリクス方式の表示装置は、構造が簡単であるものの、大型でかつ高精細な表示装置の実現が難しいなどの問題がある。そのため、近年、電気光学素子に流れる電流を、当該電気光学素子と同じ画素回路内に設けた能動素子、例えば絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(一般には、TFT(Thin Film Transistor;薄膜トランジスタ))によって制御するアクティブマトリクス方式の表示装置の開発が盛んに行われている。 In the organic EL display device, as in the liquid crystal display device, a simple (passive) matrix method and an active matrix method can be adopted as the driving method. However, although a simple matrix display device has a simple structure, there is a problem that it is difficult to realize a large and high-definition display device. Therefore, in recent years, the current flowing through the electro-optical element is controlled by an active element provided in the same pixel circuit as the electro-optical element, for example, an insulated gate field effect transistor (generally, a TFT (Thin Film Transistor)). Active matrix display devices have been actively developed.
ところで、一般的に、有機EL素子のI−V特性(電流−電圧特性)は、時間が経過すると劣化(いわゆる、経時劣化)することが知られている。有機EL素子を電流駆動するトランジスタ(以下、「駆動トランジスタ」と記述する)としてNチャネル型のTFTを用いた画素回路では、駆動トランジスタのソース側に有機EL素子が接続されることになるために、有機EL素子のI−V特性が経時劣化すると、駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsが変化し、その結果、有機EL素子の発光輝度も変化する。 By the way, it is generally known that the IV characteristic (current-voltage characteristic) of the organic EL element is deteriorated with time (so-called deterioration with time). In a pixel circuit using an N-channel TFT as a transistor for driving an organic EL element with current (hereinafter referred to as “driving transistor”), the organic EL element is connected to the source side of the driving transistor. When the IV characteristic of the organic EL element deteriorates with time, the gate-source voltage Vgs of the driving transistor changes, and as a result, the emission luminance of the organic EL element also changes.
このことについてより具体的に説明する。駆動トランジスタのソース電位は、当該駆動トランジスタと有機EL素子の動作点で決まる。そして、有機EL素子のI−V特性が劣化すると、駆動トランジスタと有機EL素子との動作点が変動してしまうために、駆動トランジスタのゲートに同じ電圧を印加したとしても駆動トランジスタのソース電位が変化する。これにより、駆動トランジスタのソース−ゲート間電圧Vgsが変化するために、当該駆動トランジスタに流れる電流値が変化する。その結果、有機EL素子に流れる電流値も変化するために、有機EL素子の発光輝度が変化することになる。 This will be described more specifically. The source potential of the drive transistor is determined by the operating point of the drive transistor and the organic EL element. When the IV characteristic of the organic EL element deteriorates, the operating point of the driving transistor and the organic EL element fluctuates. Therefore, even if the same voltage is applied to the gate of the driving transistor, the source potential of the driving transistor is Change. As a result, since the source-gate voltage Vgs of the drive transistor changes, the value of the current flowing through the drive transistor changes. As a result, since the value of the current flowing through the organic EL element also changes, the light emission luminance of the organic EL element changes.
また、ポリシリコンTFTを用いた画素回路では、有機EL素子のI−V特性の経時劣化に加えて、駆動トランジスタの閾値電圧Vthや、駆動トランジスタのチャネルを構成する半導体薄膜の移動度μが経時的に変化したり、製造プロセスのばらつきによって閾値電圧Vthや移動度μが画素ごとに異なったりする(個々のトランジスタ特性にばらつきがある)。 In addition, in a pixel circuit using a polysilicon TFT, in addition to the deterioration over time of the IV characteristics of the organic EL element, the threshold voltage Vth of the driving transistor and the mobility μ of the semiconductor thin film constituting the channel of the driving transistor are changed over time. The threshold voltage Vth and the mobility μ vary from pixel to pixel due to variations in manufacturing processes (individual transistor characteristics vary).
駆動トランジスタの閾値電圧Vthや移動度μが画素ごとに異なると、画素ごとに駆動トランジスタに流れる電流値にばらつきが生じるために、駆動トランジスタのゲートに同じ電圧を印加しても、有機EL素子の発光輝度に画素間でばらつきが生じ、その結果、画面の一様性(ユニフォーミティ)が損なわれる。 If the threshold voltage Vth and mobility μ of the driving transistor differ from pixel to pixel, the current value flowing through the driving transistor varies from pixel to pixel. Therefore, even if the same voltage is applied to the gate of the driving transistor, the organic EL element The light emission luminance varies among pixels, and as a result, the uniformity of the screen is lost.
そこで、有機EL素子のI−V特性が経時劣化したり、駆動トランジスタの閾値電圧Vthや移動度μが経時変化したりしても、それらの影響を受けることなく、有機EL素子の発光輝度を一定に保つようにするために、有機EL素子の特性変動に対する補償機能、さらには駆動トランジスタの閾値電圧Vthの変動に対する補正(以下、「閾値補正」と記述する)や、駆動トランジスタの移動度μの変動に対する補正(以下、「移動度補正」と記述する)の各補正機能を画素回路の各々に持たせる構成を採っている(例えば、特許文献1参照)。 Therefore, even if the IV characteristic of the organic EL element deteriorates with time, or the threshold voltage Vth or mobility μ of the driving transistor changes with time, the light emission luminance of the organic EL element is not affected by those effects. In order to keep constant, the compensation function for the characteristic variation of the organic EL element, the correction for the variation of the threshold voltage Vth of the driving transistor (hereinafter referred to as “threshold correction”), the mobility μ of the driving transistor Each pixel circuit is provided with a correction function for correction of fluctuations (hereinafter referred to as “mobility correction”) (see, for example, Patent Document 1).
特許文献1記載の従来技術では、画素回路の各々に、有機EL素子の特性変動に対する補償機能および駆動トランジスタの閾値電圧Vthや移動度μの変動に対する補正機能を持たせることで、有機EL素子のI−V特性が経時劣化したり、駆動トランジスタの閾値電圧Vthや移動度μが経時変化したりしたとしても、それらの影響を受けることなく、有機EL素子の発光輝度を一定に保つことができるが、その反面、画素回路を構成する素子数が多く、画素サイズの微細化の妨げとなる。 In the prior art described in Patent Document 1, each pixel circuit is provided with a compensation function for a characteristic variation of the organic EL element and a correction function for a variation in threshold voltage Vth and mobility μ of the drive transistor, so that Even if the IV characteristics deteriorate over time or the threshold voltage Vth and mobility μ of the driving transistor change over time, the light emission luminance of the organic EL element can be kept constant without being affected by them. However, on the other hand, the number of elements constituting the pixel circuit is large, which hinders miniaturization of the pixel size.
これに対して、画素回路を構成する素子数や配線数の削減を図るために、例えば、画素回路の駆動トランジスタに供給する電源電位を切り替え可能な構成とし、当該電源電位の切り替えによって有機EL素子の発光期間/非発光期間を制御する機能を駆動トランジスタに持たせることで、発光期間/非発光期間を制御するトランジスタを省略する手法を採ることが考えられる。 On the other hand, in order to reduce the number of elements and the number of wirings constituting the pixel circuit, for example, the power supply potential supplied to the drive transistor of the pixel circuit can be switched, and the organic EL element is switched by switching the power supply potential. It is conceivable to adopt a method of omitting the transistor for controlling the light emission period / non-light emission period by providing the drive transistor with the function of controlling the light emission period / non-light emission period.
かかる手法を採ることにより、必要最小限の素子数、具体的には、入力信号電圧をサンプリングして画素内に書き込む書き込みトランジスタと、この書き込みトランジスタによって書き込まれた入力信号電圧を保持する保持容量と、この保持容量に保持された入力信号電圧に基づいて電気光学素子を駆動する駆動トランジスタとによって画素回路を構成できる。 By adopting such a method, the minimum number of elements, specifically, a write transistor that samples the input signal voltage and writes it in the pixel, and a storage capacitor that holds the input signal voltage written by this write transistor, A pixel circuit can be configured with a driving transistor that drives the electro-optic element based on the input signal voltage held in the holding capacitor.
このように、有機EL素子の発光期間/非発光期間を制御するトランジスタとして駆動トランジスタを兼用することによって画素回路を構成する素子数の削減を図る構成を採る場合、書き込みトランジスタによって入力信号電圧を書き込むと同時に、上記移動度補正を行うことになる。因みに、特許文献1記載の従来技術では、入力信号電圧の書き込み期間が終わった後に移動度補正が行われる。 As described above, in the case of adopting a configuration in which the number of elements constituting the pixel circuit is reduced by using the drive transistor as a transistor for controlling the light emission period / non-light emission period of the organic EL element, the input signal voltage is written by the write transistor. At the same time, the mobility correction is performed. Incidentally, in the related art described in Patent Document 1, mobility correction is performed after the writing period of the input signal voltage is over.
上述したように、入力信号電圧を書き込むと同時に移動度補正を行うと、入力信号電圧の書き込みが不十分な状態で移動度補正を行うことになるために、画素間で移動度補正にばらつきが生じ、その結果、スジムラが発生して画質を悪化させることになる(その詳細については後で説明する)。 As described above, if the mobility correction is performed at the same time as the input signal voltage is written, the mobility correction is performed in a state where the input signal voltage is not sufficiently written. As a result, unevenness occurs and the image quality deteriorates (details will be described later).
また、書き込みトランジスタを駆動する書き込みパルスの立ち下がりの応答速度が速いと(書き込みパルスが急峻に立ち下がると)、図22に示すように、書き込みトランジスタがオフする際のカップリングによって駆動トランジスタのゲート電位が急激に低下し、それに伴って駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsが低下する(縮まる)ために、ゲート−ソース間電圧Vgsが低下する分だけ輝度が低下するという問題がある。 Further, when the response speed of the fall of the write pulse for driving the write transistor is fast (when the write pulse falls sharply), the gate of the drive transistor is coupled by coupling when the write transistor is turned off as shown in FIG. Since the potential is drastically lowered and the gate-source voltage Vgs of the driving transistor is lowered (shrinks) along with this, there is a problem that the luminance is lowered by the amount that the gate-source voltage Vgs is lowered.
そこで、本発明は、入力信号電圧の書き込みと移動度補正を安定して行うとともに、書き込みトランジスタのオフ時のカップリングに起因する駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧の低下に伴う輝度低下を防止しつつ、入力信号電圧の書き込みを安定して行うことが可能な表示装置および当該表示装置を有する電子機器を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention stably performs input signal voltage writing and mobility correction, and prevents a decrease in luminance due to a decrease in gate-source voltage of the driving transistor due to coupling when the writing transistor is off. An object of the present invention is to provide a display device capable of stably writing an input signal voltage and an electronic apparatus having the display device.
上記目的を達成するために、本発明は、電気光学素子と、入力信号電圧をサンプリングして書き込む書き込みトランジスタと、前記書き込みトランジスタによって書き込まれた入力信号電圧を保持する保持容量と、前記保持容量に保持された入力信号電圧に基づいて前記電気光学素子を駆動する駆動トランジスタとを含む画素が行列状に配置されてなる画素アレイ部と、第1電源と第2電源の間に直列に接続されたPチャネルトランジスタおよびNチャネルトランジスタを含む最終段バッファを有し、当該最終段バッファを通して出力する書き込みパルスを前記書き込みトランジスタに与えることによって前記画素アレイ部の各画素を行単位で選択走査する走査回路とを備えた表示装置において、前記Pチャネルトランジスタと前記Nチャネルトランジスタに同程度の電流が流れるときの前記Pチャネルトランジスタのサイズと前記Nチャネルトランジスタのサイズを基準としたときに、前記Pチャネルトランジスタのサイズが当該Pチャネルトランジスタの基準サイズよりも大きく設定され、前記Nチャネルトランジスタのサイズが当該Nチャネルトランジスタの基準サイズよりも小さく設定されていることを特徴としている。 To achieve the above object, the present invention provides an electro-optic element, a write transistor that samples and writes an input signal voltage, a storage capacitor that holds the input signal voltage written by the write transistor, and the storage capacitor. A pixel array unit in which pixels including a driving transistor for driving the electro-optic element based on the held input signal voltage are arranged in a matrix and connected in series between a first power source and a second power source A scanning circuit having a final stage buffer including a P-channel transistor and an N-channel transistor, and selectively scanning each pixel of the pixel array unit in a row unit by applying a write pulse output through the final stage buffer to the write transistor; A display device comprising: the P-channel transistor and the N channel. The size of the P channel transistor is set larger than the reference size of the P channel transistor when the size of the P channel transistor and the size of the N channel transistor when a current of the same level flows through the transistor is used as a reference, The size of the N-channel transistor is set smaller than a reference size of the N-channel transistor.
上記構成の表示装置および当該表示装置を用いた電子機器において、最終段バッファを構成するPチャネルトランジスタのサイズがその基準サイズよりも大きく設定されていることで、Pチャネルトランジスタのサイズで決まる、書き込みパルスがアクティブ状態に遷移するときの応答速度を基準サイズの場合に比べて速くできる。これにより、書き込みパルスによる入力信号電圧の書き込みを基準サイズの場合よりも早く行うことができる、即ち入力信号電圧が十分に書き込まれた状態で移動度補正を行うことができるために、入力信号電圧の書き込みと移動度補正を安定して行うことができる。 In the display device having the above-described configuration and the electronic device using the display device, the size of the P-channel transistor constituting the final stage buffer is set to be larger than the reference size, so that writing is determined by the size of the P-channel transistor. The response speed when the pulse transitions to the active state can be increased compared to the case of the reference size. As a result, writing of the input signal voltage by the writing pulse can be performed earlier than in the case of the reference size, that is, the mobility correction can be performed in a state where the input signal voltage is sufficiently written. Writing and mobility correction can be performed stably.
また、最終段バッファを構成するNチャネルトランジスタのサイズがその基準サイズよりも小さく設定されていることで、Nチャネルトランジスタのサイズで決まる、書き込みパルスが非アクティブ状態に遷移するときの応答速度を基準サイズの場合に比べて遅くできる。これにより、書き込みトランジスタがオフする際のカップリングによる駆動トランジスタのゲート電位の低下を抑えることができるために、駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧の低下を抑えることができる。 In addition, since the size of the N-channel transistor constituting the final stage buffer is set smaller than the reference size, the response speed when the write pulse transits to the inactive state, which is determined by the size of the N-channel transistor, is used as a reference. Can be slower than size. Accordingly, a decrease in the gate potential of the drive transistor due to coupling when the write transistor is turned off can be suppressed, so that a decrease in the gate-source voltage of the drive transistor can be suppressed.
本発明によれば、入力信号電圧の書き込みと移動度補正を安定して行うことができるために、画素間での移動度補正のばらつきを無くし、画質の向上を図ることができる。また、書き込みトランジスタのオフ時のカップリングに起因する駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧の低下を抑えることができるために、当該ゲート−ソース間電圧の低下に伴う輝度低下を防止しつつ、入力信号電圧の書き込みを安定して行うことができる。 According to the present invention, the writing of the input signal voltage and the mobility correction can be performed stably, so that variations in mobility correction among pixels can be eliminated and the image quality can be improved. In addition, since it is possible to suppress a decrease in the gate-source voltage of the driving transistor due to coupling when the writing transistor is turned off, the input signal can be prevented while preventing a decrease in luminance due to the decrease in the gate-source voltage. Voltage writing can be performed stably.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は、本発明の一実施形態に係るアクティブマトリクス型表示装置の構成の概略を示すシステム構成図である。ここでは、一例として、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化する電流駆動型の電気光学素子、例えば有機EL素子を画素の発光素子として用いたアクティブマトリクス型有機EL表示装置の場合を例に挙げて説明する。 FIG. 1 is a system configuration diagram showing an outline of the configuration of an active matrix display device according to an embodiment of the present invention. Here, as an example, a case of an active matrix type organic EL display device using a current-driven electro-optical element whose emission luminance changes according to a current value flowing through the device, for example, an organic EL element as a pixel light-emitting element is taken as an example. Will be described.
図1に示すように、本実施形態に係る有機EL表示装置10は、画素(PXLC)20が行列状(マトリクス状)に2次元配置されてなる画素アレイ部30と、当該画素アレイ部30の周辺に配置され、各画素20を駆動する駆動部、例えば書き込み走査回路40、電源供給走査回路50および水平駆動回路60とを有する構成となっている。
As shown in FIG. 1, the organic EL display device 10 according to this embodiment includes a
画素アレイ部30には、m行n列の画素配列に対して、画素行ごとに走査線31−1〜31−mと電源供給線32−1〜32−mとが配線され、画素列ごとに信号線33−1〜33−nが配線されている。
The
画素アレイ部30は、通常、ガラス基板などの透明絶縁基板上に形成され、平面型(フラット型)のパネル構造となっている。画素アレイ部30の各画素20は、アモルファスシリコンTFT(Thin Film Transistor;薄膜トランジスタ)または低温ポリシリコンTFTを用いて形成することができる。低温ポリシリコンTFTを用いる場合には、走査回路40、電源供給走査回路50および水平駆動回路60についても、画素アレイ部30を形成する表示パネル(基板)70上に実装することができる。
The
書き込み走査回路40は、シフトレジスタ等によって構成され、画素アレイ部30の各画素20への映像信号の書き込みに際して、走査線31−1〜31−mに順次走査信号WS1〜WSmを供給して画素20を行単位で順番に走査(線順次走査)する。
The writing
電源供給走査回路50は、シフトレジスタ等によって構成され、書き込み走査回路40による線順次走査に同期して、第1電位Vccpと当該第1電位Vccpよりも低い第2電位Viniで切り替わる電源供給線電位DS1〜DSmを電源供給線32−1〜32−mに供給する。
The power
水平駆動回路60は、信号供給源(図示せず)から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧Vsigとオフセット電圧Vofsのいずれか一方を適宜選択し、信号線33−1〜33−nを介して画素アレイ部30の各画素20に対して例えば行単位で一斉に書き込む。すなわち、水平駆動回路60は、入力信号電圧Vsigを行(ライン)単位で一斉に書き込む線順次書き込みの駆動形態を採っている。
The
ここで、オフセット電圧Vofsは、映像信号の信号電圧(以下、「入力信号電圧」、または単に「信号電圧」と記述する場合もある)Vsigの基準となる電圧(例えば、黒レベルに相当)である。また、第2電位Viniは、オフセット電圧Vofsよりも十分に低い電位である。 Here, the offset voltage Vofs is a reference voltage (for example, equivalent to a black level) of a signal voltage of a video signal (hereinafter sometimes referred to as “input signal voltage” or simply “signal voltage”) Vsig. is there. The second potential Vini is a potential sufficiently lower than the offset voltage Vofs.
(画素回路)
図2は、画素(画素回路)20の具体的な構成例を示す回路図である。図2に示すように、画素20は、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化する電流駆動型の電気光学素子、例えば有機EL素子21を発光素子として有し、当該有機EL素子21に加えて、駆動トランジスタ22、書き込みトランジスタ23、保持容量24および補助容量25を有する構成となっている。
(Pixel circuit)
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a specific configuration example of the pixel (pixel circuit) 20. As shown in FIG. 2, the pixel 20 includes a current-driven electro-optical element, for example, an
ここで、駆動トランジスタ22および書き込みトランジスタ23としてNチャネル型のTFTが用いられている。ただし、ここでの駆動トランジスタ22および書き込みトランジスタ23の導電型の組み合わせは一例に過ぎず、これらの組み合わせに限られるものではない。
Here, N-channel TFTs are used as the
有機EL素子21は、全ての画素20に対して共通に配線された共通電源供給線34にカソード電極が接続されている。駆動トランジスタ22は、ソース電極が有機EL素子21のアノード電極に接続され、ドレイン電極が電源供給線32(32−1〜32−m)に接続されている。
The
書き込みトランジスタ23は、ゲート電極が走査線31(31−1〜31−m)に接続され、一方の電極(ソース電極/ドレイン電極)が信号線33(33−1〜33−n)に接続され、他方の電極(ドレイン電極/ソース電極)が駆動トランジスタ22のゲート電極に接続されている。保持容量24は、一端が駆動トランジスタ22のゲート電極に接続され、他端が駆動トランジスタ22のソース電極(有機EL素子21のアノード電極)に接続されている。
The writing
補助容量25は、一端が駆動トランジスタ22のソース電極に接続され、他端が有機EL素子21のカソード電極(共通電源供給線34)に接続されている。この補助容量25は、有機EL素子21に対して並列に接続されることで、当該有機EL素子21の容量不足を補う作用をなす。したがって、補助容量25は必須の構成要素ではなく、有機EL素子21の容量が十分である場合は補助容量25を省略することが可能である。
The auxiliary capacitor 25 has one end connected to the source electrode of the
かかる構成の画素20において、書き込みトランジスタ23は、書き込み走査回路40から走査線31を通してゲート電極に印加される走査信号WSに応答して導通状態となることにより、信号線33を通して水平駆動回路60から供給される輝度情報に応じた映像信号の入力信号電圧Vsigまたはオフセット電圧Vofsをサンプリングして画素20内に書き込む。この書き込まれた入力信号電圧Vsigまたはオフセット電圧Vofsは保持容量24に保持される。
In the pixel 20 having such a configuration, the writing
駆動トランジスタ22は、電源供給線32(32−1〜32−m)の電位DSが第1電位Vccpにあるときに、電源供給線32から電流の供給を受けて、保持容量24に保持された入力信号電圧Vsigの電圧値に応じた電流値の駆動電流を有機EL素子21に供給することによって当該有機EL素子21を電流駆動する。
When the potential DS of the power supply line 32 (32-1 to 32-m) is at the first potential Vccp, the driving
(画素構造)
図3に、画素20の断面構造の一例を示す。図3に示すように、画素20は、駆動トランジスタ22、書き込みトランジスタ23等の画素回路が形成されたガラス基板201上に絶縁膜202およびウインド絶縁膜203が形成され、当該ウインド絶縁膜203の凹部203Aに有機EL素子21が設けられた構成となっている。
(Pixel structure)
FIG. 3 shows an example of a cross-sectional structure of the pixel 20. As shown in FIG. 3, in the pixel 20, an insulating film 202 and a window insulating film 203 are formed on a
有機EL素子21は、上記ウインド絶縁膜203の凹部203Aの底部に形成された金属等からなるアノード電極204と、当該アノード電極204上に形成された有機層(電子輸送層、発光層、ホール輸送層/ホール注入層)205と、当該有機層205上に全画素共通に形成された透明導電膜等からなるカソード電極206とから構成されている。
The
この有機EL素子21において、有機層208は、アノード電極204上にホール輸送層/ホール注入層2051、発光層2052、電子輸送層2053および電子注入層(図示せず)が順次堆積されることによって形成される。そして、図2の駆動トランジスタ22による電流駆動の下に、駆動トランジスタ22からアノード電極204を通して有機層205に電流が流れることで、当該有機層205内の発光層2052において電子と正孔が再結合する際に発光するようになっている。
In the
図3に示すように、画素回路が形成されたガラス基板201上に、絶縁膜202およびウインド絶縁膜203を介して有機EL素子21が画素単位で形成された後は、パッシベーション膜207を介して封止基板208が接着剤209によって接合され、当該封止基板208によって有機EL素子21が封止されることにより、表示パネル70が形成される。
As shown in FIG. 3, after the
(閾値補正機能)
ここで、電源供給走査回路50は、書き込みトランジスタ23が導通した後で、水平駆動回路60が信号線33(33−1〜33−n)にオフセット電圧Vofsを供給している間に、電源供給線32の電位DSを第1電位Vccpと第2電位Viniとの間で切り替える。この電源供給線32の電位DSの切り替えにより、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに相当する電圧が保持容量24に保持される。
(Threshold correction function)
Here, the power
保持容量24に駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに相当する電圧を保持するのは次の理由による。駆動トランジスタ22の製造プロセスのばらつきや経時変化により、各画素ごとに駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthや移動度μなどのトランジスタ特性の変動がある。このトランジスタ特性の変動により、駆動トランジスタ22に同一のゲート電位を与えても、画素ごとにドレイン・ソース間電流(駆動電流)Idsが変動し、発光輝度のばらつきとなって現れる。この閾値電圧Vthの画素ごとのばらつきの影響をキャンセル(補正)するために、閾値電圧Vthに相当する電圧を保持容量24に保持するのである。
The voltage corresponding to the threshold voltage Vth of the driving
駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthの補正は次のようにして行われる。すなわち、保持容量24にあらかじめ閾値電圧Vthを保持しておくことで、入力信号電圧Vsigによる駆動トランジスタ22の駆動の際に、当該駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthが保持容量24に保持された閾値電圧Vthに相当する電圧と相殺される、換言すれば、閾値電圧Vthの補正が行われる。
The threshold voltage Vth of the driving
これが閾値補正機能である。この閾値補正機能により、画素ごとに閾値電圧Vthにばらつきや経時変化があったとしても、それらの影響を受けることなく、有機EL素子21の発光輝度を一定に保つことができることになる。閾値補正の原理については後で詳細に説明する。
This is the threshold correction function. With this threshold correction function, even if the threshold voltage Vth varies or changes with time for each pixel, the light emission luminance of the
(移動度補正機能)
図2に示した画素20は、上述した閾値補正機能に加えて、移動度補正機能を備えている。すなわち、水平駆動回路60が映像信号の信号電圧Vsigを信号線33(33−1〜33−n)に供給している期間で、かつ、書き込み走査回路40から出力される走査信号WS(WS1〜WSm)に応答して書き込みトランジスタ23が導通する期間、即ち移動度補正期間において、保持容量24に入力信号電圧Vsigを保持する際に、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsの移動度μに対する依存性を打ち消す移動度補正が行われる。この移動度補正の具体的な原理および動作については後述する。
(Mobility correction function)
The pixel 20 shown in FIG. 2 has a mobility correction function in addition to the threshold correction function described above. That is, the scanning signal WS (WS1 to WS1) output from the writing
(ブートストラップ機能)
図2に示した画素20はさらにブートストラップ機能も備えている。すなわち、水平駆動回路60は、保持容量24に入力信号電圧Vsigが保持された段階で走査線31(31−1〜31−m)に対する走査信号WS(WS1〜WSm)の供給を解除し、書き込みトランジスタ23を非導通状態にして駆動トランジスタ22のゲートを信号線33(33−1〜33−n)から電気的に切り離す。これにより、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgがソース電位Vsに連動して変動するために、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsを一定に維持することができる。
(Bootstrap function)
The pixel 20 shown in FIG. 2 further has a bootstrap function. That is, the
すなわち、有機EL素子21のI−V特性が経時変化し、これに伴って駆動トランジスタ22のソース電位Vsが変化したとしても、保持容量24の作用によって駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電位Vgsが一定に保たれるために、有機EL素子21に流れる電流は変わらず、したがって当該有機EL素子21の発光輝度も一定に保たれる。この輝度補正のための動作がブートストラップ動作である。このブートストラップ動作により、有機EL素子21のI−V特性が経時変化しても、それに伴う輝度劣化のない画像表示が可能になる。
That is, even if the IV characteristic of the
(回路動作)
次に、本実施形態に係る有機EL表示装置10の回路動作について、図4のタイミングチャートを基に、図5および図6の動作説明図を用いて説明する。なお、図5および図6の動作説明図では、図面の簡略化のために、書き込みトランジスタ23をスイッチのシンボルで図示している。また、有機EL素子21は寄生容量を持っており、当該寄生容量と補助容量25を合成容量Csubとして図示している。
(Circuit operation)
Next, the circuit operation of the organic EL display device 10 according to the present embodiment will be described based on the timing chart of FIG. 4 and the operation explanatory diagrams of FIGS. In the operation explanatory diagrams of FIGS. 5 and 6, the
図4のタイミングチャートでは、時間軸を共通にして、1H(Hは水平走査時間)における走査線31(31−1〜31−m)の電位(走査信号)WSの変化、電源供給線32(32−1〜32−m)の電位DSの変化、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgおよびソース電位Vsの変化を表している。また、時刻t2までは、走査線31の電位(走査信号)WSの波形を一点鎖線で示し、電源供給線32の電位DSを点線で示すことで、両者を識別できるようにしている。時刻t3以降については両者共実線で示している。
In the timing chart of FIG. 4, with a common time axis, the change in potential (scanning signal) WS of the scanning line 31 (31-1 to 31-m) at 1H (H is the horizontal scanning time), the power supply line 32 ( 32-1 to 32 -m), and changes in the gate potential Vg and the source potential Vs of the driving
<発光期間>
図4のタイミングチャートにおいて、時刻t1以前は有機EL素子21が発光状態にある(発光期間)。この発光期間では、電源供給線32の電位DSが高電位Vccp(第1電位)にあり、図5(A)に示すように、電源供給線32から駆動トランジスタ22を通して有機EL素子21に駆動電流(ドレイン−ソース間電流)Idsが供給されるため、有機EL素子21が駆動電流Idsに応じた輝度で発光する。
<Light emission period>
In the timing chart of FIG. 4, before the time t1, the
<閾値補正準備期間>
そして、時刻t1になると線順次走査の新しいフィールドに入り、図5(B)に示すように、電源供給線32の電位DSが高電位Vccpから信号線33のオフセット電圧Vofsよりも十分に低い電位Vini(第2電位)に遷移すると、駆動トランジスタ22のソース電位Vsも低電位Viniに向けて下降を開始する。
<Threshold correction preparation period>
Then, at time t1, a new field of line sequential scanning is entered, and as shown in FIG. 5B, the potential DS of the
次に、時刻t2で書き込み走査回路40から走査信号WSが出力され、走査線31の電位WSが高電位側に遷移することで、図5(C)に示すように、書き込みトランジスタ23が導通状態となる。このとき、水平駆動回路60から信号線33に対してオフセット電圧Vofsが供給されているために、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgがオフセット電圧Vofsになる。また、駆動トランジスタ22のソース電位Vsは、オフセット電圧Vofsよりも十分に低い電位Viniにある。
Next, at time t2, the scanning signal WS is output from the writing
ここで、低電位Viniについては、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsが、当該駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthよりも大きくなるように設定しておくこととする。このように、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgをオフセット電圧Vofs、ソース電位Vsを低電位Viniにそれぞれ初期化することで、閾値電圧補正動作の準備が完了する。
Here, the low potential Vini is set so that the gate-source voltage Vgs of the
<閾値補正期間>
次に、時刻t3で、図5(D)に示すように、電源供給線32の電位DSが低電位Viniから高電位Vccpに切り替わると、駆動トランジスタ22のソース電位Vsが上昇を開始する。やがて、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsが当該駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthになり、当該閾値電圧Vthに相当する電圧が保持容量24に書き込まれる。
<Threshold correction period>
Next, at time t3, as shown in FIG. 5D, when the potential DS of the
ここでは、便宜上、閾値電圧Vthに相当する電圧を保持容量24に書き込む期間を閾値補正期間と呼んでいる。なお、この閾値補正期間において、電流が専ら保持容量24側に流れ、有機EL素子21側には流れないようにするために、有機EL素子21がカットオフ状態となるように共通電源供給線34の電位Vcathを設定しておくこととする。
Here, for convenience, a period during which a voltage corresponding to the threshold voltage Vth is written to the
次に、時刻t4で走査線31の電位WSが低電位側に遷移することで、図6(A)に示すように、書き込みトランジスタ23が非導通状態となる。このとき、駆動トランジスタ22のゲートがフローティング状態になるが、ゲート−ソース間電圧Vgsが駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに等しいために、当該駆動トランジスタ22はカットオフ状態にある。したがって、ドレイン−ソース間電流Idsは流れない。
Next, at time t4, the potential WS of the
<書き込み期間/移動度補正期間>
次に、時刻t5で、図6(B)に示すように、信号線33の電位がオフセット電圧Vofsから映像信号の信号電圧Vsigに切り替わる。続いて、時刻t6で、走査線31の電位WSが高電位側に遷移することで、図6(C)に示すように、書き込みトランジスタ23が導通状態になって映像信号の信号電圧Vsigをサンプリングする。
<Writing period / mobility correction period>
Next, at time t5, as shown in FIG. 6B, the potential of the
この書き込みトランジスタ23による入力信号電圧Vsigのサンプリングにより、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgが入力信号電圧Vsigとなる。このとき、有機EL素子21は始めカットオフ状態(ハイインピーダンス状態)にあるために、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsは有機EL素子21に並列に接続された合成容量Csubに流れ込み、よって当該合成容量Csubの充電が開始される。
By sampling the input signal voltage Vsig by the
この合成容量Csubの充電により、駆動トランジスタ22のソース電位Vsが上昇を開始し、やがて駆動トランジスタ22のゲート‐ソース間電圧VgsはVsig+Vth−ΔVとなる。すなわち、ソース電位Vsの上昇分ΔVは、保持容量24に保持された電圧(Vsig+Vth)から差し引かれるように、換言すれば、保持容量24の充電電荷を放電するように作用し、負帰還がかけられたことになる。したがって、ソース電位Vsの上昇分ΔVは負帰還の帰還量となる。
Due to the charging of the composite capacitor Csub, the source potential Vs of the
このように、駆動トランジスタ22に流れるドレイン−ソース間電流Idsを当該駆動トランジスタ22のゲート入力に、即ちゲート‐ソース間電圧Vgsに負帰還することにより、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsの移動度μに対する依存性を打ち消す、即ち移動度μの画素ごとのばらつきを補正する移動度補正が行われる。
As described above, the drain-source current Ids flowing through the
より具体的には、映像信号の信号電圧Vsigが高いほどドレイン−ソース間電流Idsが大きくなるために、負帰還の帰還量(補正量)ΔVの絶対値も大きくなる。したがって、発光輝度レベルに応じた移動度補正が行われる。また、映像信号の信号電圧Vsigを一定とした場合、駆動トランジスタ22の移動度μが大きいほど負帰還の帰還量ΔVの絶対値も大きくなるために、画素ごとの移動度μのばらつきを取り除くことができる。
More specifically, since the drain-source current Ids increases as the signal voltage Vsig of the video signal increases, the absolute value of the feedback amount (correction amount) ΔV of negative feedback also increases. Therefore, the mobility correction according to the light emission luminance level is performed. Further, when the signal voltage Vsig of the video signal is constant, the absolute value of the feedback amount ΔV of the negative feedback increases as the mobility μ of the driving
<発光期間>
次に、時刻t7で走査線31の電位WSが低電位側に遷移することで、図6(D)に示すように、書き込みトランジスタ23が非導通(オフ)状態となる。これにより、駆動トランジスタ22のゲートは信号線33から切り離される。これと同時に、ドレイン−ソース間電流Idsが有機EL素子21に流れ始めることにより、有機EL素子21のアノード電位はドレイン−ソース間電流Idsに応じて上昇する。
<Light emission period>
Next, at time t7, the potential WS of the
有機EL素子21のアノード電位の上昇は、即ち駆動トランジスタ22のソース電位Vsの上昇に他ならない。駆動トランジスタ22のソース電位Vsが上昇すると、保持容量24のブートストラップ動作により、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgも連動して上昇する。このとき、ゲート電位Vgの上昇量はソース電位Vsの上昇量に等しくなる。故に、発光期間中駆動トランジスタ22のゲート‐ソース間電圧VgsはVsig+Vth−ΔVで一定に保持される。そして、時刻t8で信号線33の電位が映像信号の信号電圧Vsigからオフセット電圧Vofsに切り替わる。
The increase in the anode potential of the
以上説明した一連の回路動作から明らかなように、書き込み走査回路40から出力される走査信号WSは、書き込みトランジスタ23を駆動することによってオフセット電圧Vofsをサンプリングして書き込む前半の書き込みパルスと、入力信号電圧Vsigをサンプリングして書き込む後半の書き込みパルスを含んでいる(図4参照)。
As is clear from the series of circuit operations described above, the scanning signal WS output from the writing
(閾値補正の原理)
ここで、駆動トランジスタ22の閾値補正の原理について説明する。駆動トランジスタ22は、飽和領域で動作するように設計されているために定電流源として動作する。これにより、有機EL素子21には駆動トランジスタ22から、次式(1)で与えられる一定のドレイン−ソース間電流(駆動電流)Idsが供給される。
Ids=(1/2)・μ(W/L)Cox(Vgs−Vth)2 ……(1)
ここで、Wは駆動トランジスタ22のチャネル幅、Lはチャネル長、Coxは単位面積当たりのゲート容量である。
(Principle of threshold correction)
Here, the principle of threshold correction of the
Ids = (1/2) · μ (W / L) Cox (Vgs−Vth) 2 (1)
Here, W is the channel width of the
図7に、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Ids対ゲート−ソース間電圧Vgsの特性を示す。この特性図に示すように、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthのばらつきに対する補正を行わないと、閾値電圧VthがVth1のとき、ゲート−ソース間電圧Vgsに対応するドレイン−ソース間電流IdsがIds1になるのに対し、閾値電圧VthがVth2(Vth2>Vth1)のとき、同じゲート−ソース間電圧Vgsに対応するドレイン−ソース間電流IdsがIds2(Ids2<Ids)になる。すなわち、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthが変動すると、ゲート−ソース間電圧Vgsが一定であってもドレイン−ソース間電流Idsが変動する。
FIG. 7 shows characteristics of the drain-source current Ids of the
これに対し、上記構成の画素(画素回路)20では、先述したように、発光時の駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧VgsがVsig+Vth−ΔVであるために、これを式(1)に代入すると、ドレイン−ソース間電流Idsは、
Ids=(1/2)・μ(W/L)Cox(Vsig−ΔV)2 ……(2)
で表される。
On the other hand, in the pixel (pixel circuit) 20 having the above-described configuration, as described above, the gate-source voltage Vgs of the driving
Ids = (1/2) · μ (W / L) Cox (Vsig−ΔV) 2 (2)
It is represented by
すなわち、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthの項がキャンセルされており、駆動トランジスタ22から有機EL素子21に供給されるドレイン−ソース間電流Idsは、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに依存しない。その結果、駆動トランジスタ22の製造プロセスのばらつきや経時変化により、各画素ごとに駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthが変動しても、ドレイン−ソース間電流Idsが変動しないために、有機EL素子21の発光輝度も変動しない。
That is, the term of the threshold voltage Vth of the
(移動度補正の原理)
次に、駆動トランジスタ22の移動度補正の原理について説明する。図8に、駆動トランジスタ22の移動度μが相対的に大きい画素Aと、駆動トランジスタ22の移動度μが相対的に小さい画素Bとを比較した状態で特性カーブを示す。駆動トランジスタ22をポリシリコン薄膜トランジスタなどで構成した場合、画素Aや画素Bのように、画素間で移動度μがばらつくことは避けられない。
(Principle of mobility correction)
Next, the principle of mobility correction of the
画素Aと画素Bで移動度μにばらつきがある状態で、例えば両画素A,Bに同レベルの入力信号電圧Vsigを書き込んだ場合に、何ら移動度μの補正を行わないと、移動度μの大きい画素Aに流れるドレイン−ソース間電流Ids1′と移動度μの小さい画素Bに流れるドレイン−ソース間電流Ids2′との間には大きな差が生じてしまう。このように、移動度μのばらつきに起因してドレイン−ソース間電流Idsに画素間で大きな差が生じると、画面のユニフォーミティが損なわれることになる。 For example, when the input signal voltage Vsig of the same level is written to both the pixels A and B in a state where the mobility μ is varied between the pixel A and the pixel B, the mobility μ is not corrected. A large difference is generated between the drain-source current Ids1 ′ flowing in the pixel A having a large value and the drain-source current Ids2 ′ flowing in the pixel B having the small mobility μ. Thus, if a large difference occurs between the pixels in the drain-source current Ids due to the variation in the mobility μ, the uniformity of the screen is impaired.
ここで、先述した式(1)のトランジスタ特性式から明らかなように、移動度μが大きいとドレイン−ソース間電流Idsが大きくなる。したがって、負帰還における帰還量ΔVは移動度μが大きくなるほど大きくなる。図8に示すように、移動度μの大きな画素Aの帰還量ΔV1は、移動度の小さな画素Vの帰還量ΔV2に比べて大きい。そこで、移動度補正動作によって駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsを入力信号電圧Vsig側に負帰還させることで、移動度μが大きいほど負帰還が大きくかかることになるために、移動度μのばらつきを抑制することができる。
Here, as is clear from the transistor characteristic equation of Equation (1), the drain-source current Ids increases when the mobility μ is large. Therefore, the feedback amount ΔV in the negative feedback increases as the mobility μ increases. As shown in FIG. 8, the feedback amount ΔV1 of the pixel A having a high mobility μ is larger than the feedback amount ΔV2 of the pixel V having a low mobility. Therefore, by negatively feeding back the drain-source current Ids of the
具体的には、移動度μの大きな画素Aで帰還量ΔV1の補正をかけると、ドレイン−ソース間電流IdsはIds1′からIds1まで大きく下降する。一方、移動度μの小さな画素Bの帰還量ΔV2は小さいために、ドレイン−ソース間電流IdsはIds2′からIds2までの下降となり、それ程大きく下降しない。結果的に、画素Aのドレイン−ソース間電流Ids1と画素Bのドレイン−ソース間電流Ids2とはほぼ等しくなるために、移動度μのばらつきが補正される。 Specifically, when the feedback amount ΔV1 is corrected in the pixel A having a high mobility μ, the drain-source current Ids greatly decreases from Ids1 ′ to Ids1. On the other hand, since the feedback amount ΔV2 of the pixel B having a low mobility μ is small, the drain-source current Ids decreases from Ids2 ′ to Ids2, and does not decrease that much. As a result, since the drain-source current Ids1 of the pixel A and the drain-source current Ids2 of the pixel B are substantially equal, the variation in the mobility μ is corrected.
以上をまとめると、移動度μの異なる画素Aと画素Bがあった場合、移動度μの大きい画素Aの帰還量ΔV1は移動度μの小さい画素Bの帰還量ΔV2に比べて小さくなる。つまり、移動度μが大きい画素ほど帰還量ΔVが大きく、ドレイン−ソース間電流Idsの減少量が大きくなる。したがって、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsを入力信号電圧Vsig側に負帰還させることで、移動度μの異なる画素のドレイン−ソース間電流Idsの電流値が均一化され、その結果、移動度μのばらつきを補正することができる。
In summary, when there are a pixel A and a pixel B having different mobility μ, the feedback amount ΔV1 of the pixel A having a high mobility μ is smaller than the feedback amount ΔV2 of the pixel B having a low mobility μ. That is, the larger the mobility μ, the larger the feedback amount ΔV, and the larger the amount of decrease in the drain-source current Ids. Therefore, by negatively feeding back the drain-source current Ids of the driving
ここで、図2に示した画素(画素回路)20において、閾値補正、移動度補正の有無による映像信号の信号電位(サンプリング電位)Vsigと駆動トランジスタ22のドレイン・ソース間電流Idsとの関係について図9を用いて説明する。
Here, in the pixel (pixel circuit) 20 shown in FIG. 2, the relationship between the signal potential (sampling potential) Vsig of the video signal and the drain-source current Ids of the
図9において、(A)は閾値補正および移動度補正を共に行わない場合、(B)は移動度補正を行わず、閾値補正のみを行った場合、(C)は閾値補正および移動度補正を共に行った場合をそれぞれ示している。図9(A)に示すように、閾値補正および移動度補正を共に行わない場合には、閾値電圧Vthおよび移動度μの画素A,Bごとのばらつきに起因してドレイン−ソース間電流Idsに画素A,B間で大きな差が生じることになる。 In FIG. 9, (A) does not perform both threshold correction and mobility correction, (B) does not perform mobility correction, and performs only threshold correction, (C) performs threshold correction and mobility correction. Each case is shown. As shown in FIG. 9A, when neither threshold correction nor mobility correction is performed, the drain-source current Ids is caused by variations in the threshold voltage Vth and the mobility μ for each of the pixels A and B. A large difference occurs between the pixels A and B.
これに対して、閾値補正のみを行った場合は、図9(B)に示すように、当該閾値補正によってドレイン−ソース間電流Idsのばらつきをある程度低減できるものの、移動度μの画素A,Bごとのばらつきに起因する画素A,B間でのドレイン−ソース間電流Idsの差は残る。そして、閾値補正および移動度補正を共に行うことで、図9(C)に示すように、閾値電圧Vthおよび移動度μの画素A,Bごとのばらつきに起因する画素A,B間でのドレイン−ソース間電流Idsの差をほぼ無くすことができるために、どの階調においても有機EL素子21の輝度ばらつきは発生せず、良好な画質の表示画像を得ることができる。
On the other hand, when only the threshold correction is performed, as shown in FIG. 9B, although the variation in the drain-source current Ids can be reduced to some extent by the threshold correction, the pixels A and B having the mobility μ A difference in the drain-source current Ids between the pixels A and B due to the variation of each pixel remains. Then, by performing both the threshold correction and the mobility correction, as shown in FIG. 9C, the drain between the pixels A and B due to the variation of the threshold voltage Vth and the mobility μ for each of the pixels A and B. -Since the difference between the source currents Ids can be almost eliminated, the luminance variation of the
(移動度補正における問題点)
ここで、移動度補正における問題点について、図10のタイミングチャートを用いて説明する。
(Problems in mobility correction)
Here, problems in mobility correction will be described with reference to the timing chart of FIG.
先述した回路動作の説明から明らかなように、駆動トランジスタ22を有機EL素子21の発光期間/非発光期間を制御するトランジスタとして兼用した構成を採る画素20では、入力信号電圧Vsigの書き込みと同時に移動度補正が行われる。ここで、移動度補正は、入力信号電圧Vsigが完全に書き込まれた状態で行われるのが好ましい。
As is clear from the description of the circuit operation described above, in the pixel 20 having the configuration in which the
しかしながら、書き込み走査回路40から出力され、書き込みトランジスタ23を駆動する書き込みパルス(図4の後半の走査信号WS)の立ち上がりの応答速度が遅いと、入力信号電圧Vsigの書き込みが完全に完了するまでに時間がかかるために、入力信号電圧Vsigの書き込みが不十分なまま移動度補正を行うという不安定な駆動を行うことになる。
However, if the response speed of the rise of the write pulse (scan signal WS in the latter half of FIG. 4) output from the
このように、入力信号電圧Vsigの書き込みが不十分なまま移動度補正を行うと、移動度μの大きい画素と、移動度μの小さい画素で移動度補正の補正量、即ち負帰還の帰還量ΔVが異なるために、画素間で移動度補正にばらつきが生じ、その結果、スジムラが発生して画質を悪化させる。 As described above, when the mobility correction is performed with the input signal voltage Vsig being insufficiently written, the correction amount of the mobility correction, that is, the feedback amount of the negative feedback is performed between the pixel having the high mobility μ and the pixel having the low mobility μ. Since ΔV is different, the mobility correction varies among pixels, and as a result, unevenness occurs and the image quality deteriorates.
(本実施形態の特徴部分)
そこで、本実施形態では、図11のタイミングチャートに示すように、書き込みパルスWSがアクティブ状態に遷移するときの応答速度(本例では、立ち上がり速度)を速くする、即ち応答波形の立ち上がりを急峻にすることにより、入力信号電圧Vsigの書き込みが完全に完了するまでの時間を短縮して、入力信号電圧Vsigの書き込みが完了した状態で移動度補正を行うことで、画素間での移動度補正のばらつきを無くすようにすることを特徴としている。
(Characteristics of this embodiment)
Therefore, in the present embodiment, as shown in the timing chart of FIG. 11, the response speed (rising speed in this example) when the write pulse WS transitions to the active state is increased, that is, the response waveform rises sharply. As a result, the time until the writing of the input signal voltage Vsig is completely completed is shortened, and the mobility correction is performed in the state where the writing of the input signal voltage Vsig is completed. It is characterized by eliminating variations.
加えて、本実施形態では、書き込みパルスWSが非アクティブ状態に遷移するときの応答速度(本例では、立ち下がり速度)を遅くする、即ち応答波形の立ち下がりを緩やかにする(なまらせる)ことにより、書き込みトランジスタ23のオフ時のカップリングに起因する駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsの低下を抑え、当該ゲート−ソース間電圧Vgsの低下に伴う輝度低下を防止しつつ、入力信号電圧Vsigの書き込みを安定して行えるようにすることを特徴としている。
In addition, in this embodiment, the response speed (the falling speed in this example) when the write pulse WS transitions to the inactive state is slowed down, that is, the response waveform falls slowly (smooths). This suppresses the decrease in the gate-source voltage Vgs of the
[実施例]
以下に、入力信号電圧Vsigを書き込むための書き込みパルスWSがアクティブ状態に遷移するときの応答速度を速くし、書き込みパルスWSが非アクティブ状態に遷移するときの応答速度を遅くするための具体的な実施例について説明する。
[Example]
The following is a specific example for increasing the response speed when the write pulse WS for writing the input signal voltage Vsig transitions to the active state and for decreasing the response speed when the write pulse WS transitions to the inactive state. Examples will be described.
先述したように、書き込みパルスを含む走査信号WS(WS1〜WSm)は書き込み走査回路40から出力される。この書き込み走査回路40は、図12に示すように、シフトレジスタ41、ロジック回路42および各画素行ごとに複数段のバッファからなる出力回路43によって構成され、画素アレイ部30の各画素20を駆動する駆動部として表示パネル70上に実装されている。
As described above, the scanning signal WS (WS 1 to WSm) including the writing pulse is output from the writing
(出力回路の回路構成)
図13は、ある画素行の出力回路43の構成の一例を示す回路図である。ここでは、最終段のバッファ431とその前段のバッファ432の2段構成の出力回路を例に挙げて示しているが、2段構成に限られるものではない。
(Circuit configuration of the output circuit)
FIG. 13 is a circuit diagram showing an example of the configuration of the output circuit 43 in a certain pixel row. Here, an output circuit having a two-stage configuration including the last-
なお、図2の画素回路や、図4のタイミングチャートなどから明らかなように、本実施形態においては、駆動トランジスタ22および書き込みトランジスタ23がNチャネルのトランジスタであることから、書き込みトランジスタ23を駆動する書き込みパルスWSは、正側電源電圧Vddでアクティブ状態になり、負側電源電圧Vssで非アクティブ状態になる。
As is clear from the pixel circuit of FIG. 2, the timing chart of FIG. 4, and the like, in this embodiment, the
最終段バッファ431は、第1電源である電源電圧Vddの正側電源ラインと第2電源である電源電圧Vssの負側電源ラインの間に直列に接続されたPチャネルMOSトランジスタP11およびNチャネルMOSトランジスタN11を有し、例えば、これらトランジスタP11,N11のゲート同士およびドレイン同士がそれぞれ共通に接続されたCMOSインバータによって構成されている。
The
前段のバッファ432は、電源電圧Vddの正側電源ラインと電源電圧Vssの負側電源ラインの間に直列に接続されたPチャネルMOSトランジスタP12およびNチャネルMOSトランジスタN12を有し、例えば、これらトランジスタP12,N12のゲート同士およびドレイン同士がそれぞれ共通に接続されたCMOSインバータによって構成されている。
The front-
ところで、一般的に、PチャネルトランジスタとNチャネルトランジスタでバッファを構成する際に、Nチャネルトランジスタの方がPチャネルトランジスタに比して1.3〜1.4倍程度移動度μが高いために、両者のトランジスタサイズ比を変え、両者に同程度の電流が流れるように設計する。例えば、Nチャネルトランジスタの移動度がPチャネルトランジスタの移動度の1.3倍であるとしたとき、PチャネルトランジスタのサイズをNチャネルトランジスタのサイズの1.3倍になるように設計する。 By the way, in general, when a buffer is constituted by a P-channel transistor and an N-channel transistor, the mobility μ is about 1.3 to 1.4 times higher in the N-channel transistor than in the P-channel transistor. The transistor size ratio between the two is changed so that the same current flows through both transistors. For example, when the mobility of the N channel transistor is 1.3 times the mobility of the P channel transistor, the size of the P channel transistor is designed to be 1.3 times the size of the N channel transistor.
これに対し、本実施例では、最終段バッファ431において、当該バッファ431から出力される書き込みパルスWSのトランジェント(過渡応答)を制御するために意図的にPチャネルMOSトランジスタP11とNチャネルMOSトランジスタN11のサイズのバランス(上記の例では、1:1.3)を崩して設計するようにしている。
In contrast, in the present embodiment, in the
書き込みパルスWSの立ち上がり、立ち下がりの応答速度τは、
τ=RC
で定義される。ここで、Rは抵抗成分であり、当該抵抗成分Rには最終段バッファ431のON抵抗、配線抵抗、書き込みトランジスタ23のゲート抵抗などが含まれる。また、Cは容量成分であり、当該容量成分Cには主に配線間のオーバーラップ容量などが含まれる。
The response speed τ of the rise and fall of the write pulse WS is
τ = RC
Defined by Here, R is a resistance component, and the resistance component R includes the ON resistance of the
数値例を挙げてより具体的に説明する。一般的な構成を採ったとし、PチャネルMOSトランジスタP11のサイズをNチャネルMOSトランジスタN11のサイズの1.3倍に設定したときに、書き込みパルスWSの立ち上がりの応答速度τ1が150nsec、立ち下がりの応答速度τ2が180nsecであったとする。 A more specific explanation will be given with numerical examples. Assuming that a general configuration is adopted, when the size of the P-channel MOS transistor P11 is set to 1.3 times the size of the N-channel MOS transistor N11, the rising response speed τ1 of the write pulse WS is 150 nsec, It is assumed that the response speed τ2 is 180 nsec.
これは、一例として、PチャネルMOSトランジスタP11のON抵抗を4kΩ、配線抵抗を1kΩ、配線間のオーバーラップ容量を30pFとしたときの書き込みパルスWSの立ち上がり、立ち下がりの各応答速度τ1,τ2である。すなわち、
τ1=(4kΩ+1kΩ)×(30pF)=150nsec
τ2=(5kΩ+1kΩ)×(30pF)=180nsec
である。
As an example, the response speeds τ1, τ2 of the write pulse WS rise and fall when the ON resistance of the P-channel MOS transistor P11 is 4 kΩ, the wiring resistance is 1 kΩ, and the overlap capacitance between the wirings is 30 pF. is there. That is,
τ1 = (4 kΩ + 1 kΩ) × (30 pF) = 150 nsec
τ2 = (5 kΩ + 1 kΩ) × (30 pF) = 180 nsec
It is.
これに対し、本実施例では、PチャネルMOSトランジスタP11とNチャネルMOSトランジスタN11に同程度の電流が流れるようにしたときのトランジスタサイズ比(上記の例では、1:1.3)を基準とし、この基準となるサイズ比のときの応答速度(150nsec,180nsec)に比べて、書き込みパルスWSの立ち上がりの応答速度τ1が遅く(例えば、90nsec)、立ち下がりの応答速度τ2が速く(例えば、300nsec)なるようにするために、MOSトランジスタP11,N11の各ON抵抗を設定する。 On the other hand, in this embodiment, the transistor size ratio (1: 1.3 in the above example) when the same current flows through the P channel MOS transistor P11 and the N channel MOS transistor N11 is used as a reference. The rising response speed τ1 of the write pulse WS is slow (for example, 90 nsec) and the falling response speed τ2 is fast (for example, 300 nsec) compared to the response speed (150 nsec, 180 nsec) at the reference size ratio. ), The ON resistances of the MOS transistors P11 and N11 are set.
具体的には、書き込みパルスWSの立ち上がり、立ち下がりの各応答速度τ1,τ2を例えば90nsec,300nsecにするために、PチャネルMOSトランジスタP11のON抵抗を4kΩから2kΩに下げ、NチャネルMOSトランジスタN11のON抵抗を5kΩから9kΩに上げるように、MOSトランジスタP11,N11の各ON抵抗を変更する。 Specifically, the ON resistance of the P-channel MOS transistor P11 is lowered from 4 kΩ to 2 kΩ in order to set the response speeds τ1, τ2 of the rising and falling of the write pulse WS to 90 nsec and 300 nsec, for example, and the N-channel MOS transistor N11 The ON resistances of the MOS transistors P11 and N11 are changed so that the ON resistance of the MOS transistors P11 and N11 is increased from 5 kΩ to 9 kΩ.
このON抵抗の変更により、次式から、書き込みパルスWSの立ち上がり、立ち下がりの各応答速度τ1,τ2として、90nsec,300nsecの各数値が得られる。
τ1=(2kΩ+1kΩ)×(30pF)=90nsec
τ2=(9kΩ+1kΩ)×(30pF)=300nsec
By changing the ON resistance, numerical values of 90 nsec and 300 nsec are obtained as the response speeds τ1 and τ2 of the write pulse WS from the following equation.
τ1 = (2 kΩ + 1 kΩ) × (30 pF) = 90 nsec
τ2 = (9 kΩ + 1 kΩ) × (30 pF) = 300 nsec
PチャネルMOSトランジスタP11のON抵抗を0.5倍(=2kΩ/4kΩ)に下げ、NチャネルMOSトランジスタN11のON抵抗を1.8倍(≒9kΩ/5kΩ)に上げるには、PチャネルMOSトランジスタP11とNチャネルMOSトランジスタN11に同程度の電流が流れるときの基準となるサイズに対して、MOSトランジスタP11のサイズを1.8倍に設定し、MOSトランジスタN11のサイズを約0.5倍に設定すれば良い。つまり、PチャネルMOSトランジスタP11のサイズをNチャネルMOSトランジスタN11のサイズの約4.7倍で設計すれば良いことになる。 To reduce the ON resistance of the P channel MOS transistor P11 to 0.5 times (= 2 kΩ / 4 kΩ) and increase the ON resistance of the N channel MOS transistor N11 to 1.8 times (≈9 kΩ / 5 kΩ), the P channel MOS transistor The size of the MOS transistor P11 is set to 1.8 times the size used as a reference when the same level of current flows through the P11 and the N-channel MOS transistor N11, and the size of the MOS transistor N11 is increased to about 0.5 times. Set it. That is, the size of the P channel MOS transistor P11 may be designed to be about 4.7 times the size of the N channel MOS transistor N11.
(出力回路の回路動作)
次に、上記構成の出力回路43の回路動作について、図14のタイミング波形図を用いて説明する。
(Circuit operation of the output circuit)
Next, the circuit operation of the output circuit 43 configured as described above will be described with reference to the timing waveform diagram of FIG.
出力回路43において、前段のバッファ432には、シフトレジスタ41から出力されるシフトパルスがロジック回路42を経由し、時刻t11で立ち上がり、時刻t12で立ち下がる入力パルスAとして入力される。この入力パルスAは、前段のバッファ432で極性反転される。
In the output circuit 43, the shift pulse output from the
ここで、前段のバッファ432では、PチャネルMOSトランジスタP12とNチャネルMOSトランジスタN12に同程度の電流が流れるようにするために、例えば、MOSトランジスタN12の移動度がMOSトランジスタP12の移動度の1.3倍であるとしたとき、MOSトランジスタP12のサイズをMOSトランジスタN12のサイズの1.3倍になるように設計されているものとする。
Here, in the
この場合、入力パルスAは、上記の例では、立ち下がりの応答速度τ2が180nsec、立ち上がりの応答速度τ1が150nsecの反転パルスとして前段のバッファ432から出力されることになる。そして、この反転パルスは、最終段バッファ431でさらに極性反転されて出力パルスBとなる。
In this case, in the above example, the input pulse A is output from the preceding
ここで、最終段バッファ431では、MOSトランジスタP11のサイズが前段のMOSトランジスタP12のサイズの約1.8倍に設定され、MOSトランジスタN11のサイズが前段のMOSトランジスタN12のサイズの約0.5倍に設定されていることにより、最終段バッファ431からは、立ち上がりの応答速度τ1が90nsec、立ち下がりの応答速度τ2が300nsecの出力パルスBが出力される。
Here, in the
そして、この出力パルスBは、書き込みパルスWS(走査号WS)として、対応する画素行の各画素20における書き込みトランジスタ23のゲートに印加される。
The output pulse B is applied as a write pulse WS (scanning number WS) to the gate of the
(本実施形態の作用効果)
上述したように、書き込み走査回路40における出力回路43の最終段バッファ431において、PチャネルMOSトランジスタP11のサイズがその基準サイズよりも大きく設定されていることで、MOSトランジスタP11のサイズで決まる書き込みパルスWSの立ち上がりの応答速度τ1を、MOSトランジスタP11が基準サイズの場合に比べて速くできる、即ち書き込みパルスWSを瞬時に立ち上げることができる。
(Operational effect of this embodiment)
As described above, in the
書き込みパルスWSが瞬時に立ち上がることにより、書き込みパルスWSによる入力信号電圧Vsigの書き込みを、MOSトランジスタP11が基準サイズの場合よりも早く完了することができるために、入力信号電圧Vsigが十分に書き込まれた状態で移動度補正を行うことができる。これにより、入力信号電圧Vsigの書き込みと移動度補正を安定して行うことができる。 Since the writing pulse WS rises instantaneously, the writing of the input signal voltage Vsig by the writing pulse WS can be completed earlier than the case where the MOS transistor P11 has the reference size, and thus the input signal voltage Vsig is sufficiently written. Mobility correction can be performed in a state where Thereby, the writing of the input signal voltage Vsig and the mobility correction can be stably performed.
また、最終段バッファ431を構成するNチャネルMOSトランジスタN11のサイズがその基準サイズよりも小さく設定されていることで、MOSトランジスタN11のサイズで決まる書き込みパルスWSの立ち下がりの応答速度τ2を、MOSトランジスタN11が基準サイズの場合に比べて遅くできる、即ち書き込みパルスWSを緩やかに立ち下げることができる。
Further, since the size of the N-channel MOS transistor N11 constituting the
書き込みパルスWSが緩やかに立ち下がることにより、図15に示すように、書き込みトランジスタ23がオフする際の保持容量24によるカップリングが減少するために、当該カップリングによる駆動トランジスタ22のゲート電位Vgの低下を、MOSトランジスタN11が基準サイズで、書き込みパルスWSの立ち下がり速度が速い(書き込みパルスWSが急峻に立ち下がる)場合に比べて抑えることができる。
As the write pulse WS gradually falls, as shown in FIG. 15, the coupling by the
これにより、書き込みトランジスタ23のオフ時のカップリングに起因する駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsの低下を抑えることができるために、当該ゲート−ソース間電圧Vgsの低下に伴う輝度低下を防止しつつ、入力信号電圧Vsigの書き込みを安定して行うことができる。
As a result, the decrease in the gate-source voltage Vgs of the
また、書き込みパルスWSの立ち下がり波形が矩形波のように急峻でなく、緩やかであることにより、グレー〜黒階調でも移動度補正期間を最適化できる、即ち各階調に対応した最適な移動度補正期間を設定することができる。このことについて、以下に具体的に説明する。 Further, since the falling waveform of the write pulse WS is not steep and gentle like a rectangular wave, the mobility correction period can be optimized even in gray to black gradations, that is, the optimum mobility corresponding to each gradation. A correction period can be set. This will be specifically described below.
白階調に比べてグレー、黒階調と入力信号電圧Vsigが低くなるにしたがって、最適な移動度補正時間が長くなる。これは、図16に示すように、グレー階調では、駆動トランジスタ22に流れる初期電流が白階調に比べて小さいために、駆動トランジスタ22の動作点の関係上、移動度μの補正に必要な移動度補正時間が白階調よりも長くなるからである。
As the gray and black gradations and the input signal voltage Vsig become lower than the white gradation, the optimum mobility correction time becomes longer. As shown in FIG. 16, since the initial current flowing through the driving
ここで、入力信号電圧Vsigの書き込みと移動度補正を同時に行う構成の場合、書き込みトランジスタ23のオン期間が移動度補正期間(信号書き込み期間)になる。書き込みトランジスタ23は、入力信号電圧Vsigと書き込みパルスWSのレベル差が閾値電圧以上になるとオン状態になる。したがって、書き込みトランジスタ23のオン期間、即ち移動度補正期間は、書き込みパルスWSの立ち下がり波形に依存するとも言える。
Here, in the case where the writing of the input signal voltage Vsig and the mobility correction are performed at the same time, the ON period of the writing
このことから、書き込みパルスWSが緩やかに立ち下がることにより、白階調のように入力信号電圧Vsigが大きいときには、書き込みパルスWSの立ち下がりの高いレベルで書き込みトランジスタ23がオフ状態になるために、白階調の移動度補正期間として短い時間が設定され、グレー階調のように入力信号電圧Vsigが小さいときには、書き込みパルスWSの立ち下がりの低いレベルで書き込みトランジスタ23がオフ状態になるために、グレー階調の移動度補正期間として長い時間が設定されることになる。
Therefore, when the input signal voltage Vsig is large as in the white gradation, the write transistor WS is turned off at a high level of the fall of the write pulse WS because the write pulse WS gradually falls. When a short time is set as the mobility correction period of the white gradation and the input signal voltage Vsig is small as in the gray gradation, the writing
すなわち、入力信号電圧Vsigの書き込みと移動度補正を同時に行う構成を採る有機EL表示装置10において、立ち下がりの応答波形がなだらかな、即ち応答速度が遅い書き込みパルスによる制御の下に、書き込みトランジスタ23によって入力信号電圧Vsigをサンプリングして書き込むことにより、グレー階調と白階調で最適な移動度補正時間が異なるのに対応して、各階調に応じた最適な移動度補正時間を設定できる。
That is, in the organic EL display device 10 having a configuration in which the writing of the input signal voltage Vsig and the mobility correction are performed simultaneously, the writing
このように、各階調に対応した最適な移動度補正時間を設定できることにより、画素ごとの移動度μのばらつきを取り除く移動度補正を、白階調から黒階調の全階調に亘ってより確実に行うことができるために、表示画像のより高画質化を図ることができる。 In this way, by setting the optimal mobility correction time corresponding to each gradation, mobility correction that removes the variation in mobility μ for each pixel can be performed over all gradations from white gradation to black gradation. Since it can be performed reliably, it is possible to achieve higher image quality of the display image.
なお、本実施例では、書き込みパルスWSの立ち上がりの応答速度τ1を90nsecに、立ち下がりの応答速度τ2を300nsecに設定するとしたが、これは一例に過ぎず、これらの数値に限定されるものではない。 In this embodiment, the rising response speed τ1 of the write pulse WS is set to 90 nsec and the falling response speed τ2 is set to 300 nsec. However, this is only an example, and the present invention is not limited to these values. Absent.
ただし、入力信号電圧Vsigが十分に書き込まれた状態で移動度補正を行うようにするためには、書き込みパルスWSの立ち上がりの応答速度τ1が好ましくは100nsec程度以下になるようにPチャネルMOSトランジスタP11のトランジスタサイズを設定すると良い。 However, in order to perform mobility correction in a state where the input signal voltage Vsig is sufficiently written, the P channel MOS transistor P11 is set so that the response speed τ1 of the rising of the write pulse WS is preferably about 100 nsec or less. The transistor size should be set.
また、書き込みトランジスタWSがオフする際のカップリングによる駆動トランジスタ22のゲート電位Vgの低下を抑えるようにするためには、書き込みパルスWSの立ち下がりの応答速度τ2を好ましくは200〜400nsec程度以下になるようにNチャネルMOSトランジスタN11のトランジスタサイズを設定すると良い。
Further, in order to suppress a decrease in the gate potential Vg of the
以上説明した本実施例では、書き込みパルスWS(走査信号WS)として高レベルでアクティブ状態となる正論理の出力パルスBを生成する場合を例に挙げて説明したが、低レベルでアクティブ状態となる負論理の出力パルスB′を生成する場合にも同様に適用可能である。 In the present embodiment described above, the case of generating the positive logic output pulse B that becomes active at a high level as the writing pulse WS (scanning signal WS) has been described as an example, but becomes active at a low level. The same applies to the case of generating a negative logic output pulse B ′.
なお、上記実施形態では、画素回路20の電気光学素子として、有機EL素子を用いた有機EL表示装置に適用した場合を例に挙げて説明したが、本発明はこの適用例に限られるものではなく、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化する電流駆動型の電気光学素子(発光素子)を用いた表示装置全般に対して適用可能である。 In the above embodiment, the case where the present invention is applied to an organic EL display device using an organic EL element as the electro-optical element of the pixel circuit 20 has been described as an example. However, the present invention is not limited to this application example. In addition, the present invention can be applied to all display devices using current-driven electro-optic elements (light-emitting elements) whose light emission luminance changes according to the value of current flowing through the device.
[適用例]
以上説明した本発明に係る表示装置は、図17〜図21に示す様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。以下に、本発明が適用される電子機器の一例について説明する。
[Application example]
The display device according to the present invention described above is input to various electronic devices shown in FIGS. 17 to 21 such as a digital camera, a notebook personal computer, a mobile terminal device such as a mobile phone, and a video camera. The present invention can be applied to display devices for electronic devices in various fields that display a video signal or a video signal generated in the electronic device as an image or video. An example of an electronic device to which the present invention is applied will be described below.
なお、本発明に係る表示装置は、封止された構成のモジュール形状のものをも含む。例えば、画素アレイ部30に透明なガラス等の対向部に貼り付けられて形成された表示モジュールが該当する。この透明な対向部には、カラーフィルタ、保護膜等、更には、上記した遮光膜が設けられてもよい。尚、表示モジュールには、外部から画素アレイ部への信号等を入出力するための回路部やFPC(フレキシブルプリントサーキット)等が設けられていてもよい。
Note that the display device according to the present invention includes a module-shaped one having a sealed configuration. For example, a display module formed by being affixed to an opposing portion such as transparent glass on the
図17は、本発明が適用されるテレビを示す斜視図である。本適用例に係るテレビは、フロントパネル102やフィルターガラス103等から構成される映像表示画面部101を含み、その映像表示画面部101として本発明に係る表示装置を用いることにより作成される。 FIG. 17 is a perspective view showing a television to which the present invention is applied. The television according to this application example includes a video display screen unit 101 including a front panel 102, a filter glass 103, and the like, and is created by using the display device according to the present invention as the video display screen unit 101.
図18は、本発明が適用されるデジタルカメラを示す斜視図であり、(A)は表側から見た斜視図、(B)は裏側から見た斜視図である。本適用例に係るデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部111、表示部112、メニュースイッチ113、シャッターボタン114等を含み、その表示部112として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 18A and 18B are perspective views showing a digital camera to which the present invention is applied. FIG. 18A is a perspective view seen from the front side, and FIG. 18B is a perspective view seen from the back side. The digital camera according to this application example includes a light emitting unit 111 for flash, a display unit 112, a menu switch 113, a shutter button 114, and the like, and is manufactured by using the display device according to the present invention as the display unit 112.
図19は、本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータは、本体121に、文字等を入力するとき操作されるキーボード122、画像を表示する表示部123等を含み、その表示部123として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 19 is a perspective view showing a notebook personal computer to which the present invention is applied. A notebook personal computer according to this application example includes a main body 121 including a keyboard 122 that is operated when characters and the like are input, a display unit 123 that displays an image, and the like. It is produced by using.
図20は、本発明が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。本適用例に係るビデオカメラは、本体部131、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ132、撮影時のスタート/ストップスイッチ133、表示部134等を含み、その表示部134として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 20 is a perspective view showing a video camera to which the present invention is applied. The video camera according to this application example includes a main body 131, a lens 132 for shooting an object on a side facing forward, a start / stop switch 133 at the time of shooting, a display unit 134, and the like. It is manufactured by using such a display device.
図21は、本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す斜視図であり、(A)は開いた状態での正面図、(B)はその側面図、(C)は閉じた状態での正面図、(D)は左側面図、(E)は右側面図、(F)は上面図、(G)は下面図である。本適用例に係る携帯電話機は、上側筐体141、下側筐体142、連結部(ここではヒンジ部)143、ディスプレイ144、サブディスプレイ145、ピクチャーライト146、カメラ147等を含み、そのディスプレイ144やサブディスプレイ145として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 21 is a perspective view showing a mobile terminal device to which the present invention is applied, for example, a mobile phone, in which (A) is a front view in an opened state, (B) is a side view thereof, and (C) is closed. (D) is a left side view, (E) is a right side view, (F) is a top view, and (G) is a bottom view. The mobile phone according to this application example includes an upper housing 141, a lower housing 142, a connecting portion (here, a hinge portion) 143, a display 144, a sub display 145, a picture light 146, a camera 147, and the like. And the sub display 145 is manufactured by using the display device according to the present invention.
10…有機EL表示装置、20…画素(画素回路)、21…有機EL素子、22…駆動トランジスタ、23…書き込みトランジスタ、24…保持容量、25…補助容量、30…画素アレイ部、31(31−1〜31−m)…走査線、32(32−1〜32−m)…電源供給線、33(33−1〜33−n)…信号線、34…共通電源供給線、40…書き込み走査回路、50…電源供給走査回路、60…水平駆動回路、70…表示パネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Organic EL display device, 20 ... Pixel (pixel circuit), 21 ... Organic EL element, 22 ... Drive transistor, 23 ... Write transistor, 24 ... Retention capacity, 25 ... Auxiliary capacity, 30 ... Pixel array part, 31 (31 -1 to 31-m) ... scanning lines, 32 (32 to 1 to 32-m) ... power supply lines, 33 (33-1 to 33-n) ... signal lines, 34 ... common power supply lines, 40 ... write
Claims (3)
第1電源と第2電源の間に直列に接続されたPチャネルトランジスタおよびNチャネルトランジスタを含む最終段バッファを有し、当該最終段バッファを通して出力する書き込みパルスを前記書き込みトランジスタに与えることによって前記画素アレイ部の各画素を行単位で選択走査する走査回路とを備え、
前記Pチャネルトランジスタと前記Nチャネルトランジスタに同程度の電流が流れるときの前記Pチャネルトランジスタのサイズと前記Nチャネルトランジスタのサイズを基準としたときに、前記Pチャネルトランジスタのサイズが当該Pチャネルトランジスタの基準サイズよりも大きく設定され、前記Nチャネルトランジスタのサイズが当該Nチャネルトランジスタの基準サイズよりも小さく設定されている
ことを特徴とする表示装置。 An electro-optic element; a writing transistor that samples and writes an input signal voltage; a holding capacitor that holds the input signal voltage written by the writing transistor; and the electro-optic device based on the input signal voltage held in the holding capacitor A pixel array unit in which pixels including drive transistors for driving elements are arranged in a matrix;
The pixel has a final stage buffer including a P-channel transistor and an N-channel transistor connected in series between a first power source and a second power source, and gives a write pulse to be output through the final stage buffer to the write transistor. A scanning circuit that selectively scans each pixel of the array unit in units of rows,
Based on the size of the P-channel transistor and the size of the N-channel transistor when the same current flows through the P-channel transistor and the N-channel transistor, the size of the P-channel transistor is the size of the P-channel transistor. A display device, wherein the display device is set larger than a reference size, and the size of the N-channel transistor is set smaller than the reference size of the N-channel transistor.
ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。 Each pixel of the pixel array unit has a drain-source current of the driving transistor by negatively feeding back the drain-source current of the driving transistor to the gate input side during the writing period of the input signal voltage by the writing transistor. The display device according to claim 1, wherein a correction operation is performed to cancel the dependence on the mobility of the display device.
第1電源と第2電源の間に直列に接続されたPチャネルトランジスタおよびNチャネルトランジスタを含む最終段バッファを有し、当該最終段バッファを通して出力する書き込みパルスを前記書き込みトランジスタに与えることによって前記画素アレイ部の各画素を行単位で選択走査するとともに、前記Pチャネルトランジスタと前記Nチャネルトランジスタに同程度の電流が流れるときの前記Pチャネルトランジスタのサイズと前記Nチャネルトランジスタのサイズを基準としたときに、前記Pチャネルトランジスタのサイズが当該Pチャネルトランジスタの基準サイズよりも大きく設定され、前記Nチャネルトランジスタのサイズが当該Nチャネルトランジスタの基準サイズよりも小さく設定されている走査回路と
を備えた表示装置を有することを特徴とする電子機器。 An electro-optic element; a writing transistor that samples and writes an input signal voltage; a holding capacitor that holds the input signal voltage written by the writing transistor; and the electro-optic device based on the input signal voltage held in the holding capacitor A pixel array unit in which pixels including drive transistors for driving elements are arranged in a matrix;
The pixel has a final stage buffer including a P-channel transistor and an N-channel transistor connected in series between a first power source and a second power source, and gives a write pulse to be output through the final stage buffer to the write transistor. When each pixel of the array section is selectively scanned in units of rows, and the size of the P channel transistor and the size of the N channel transistor when the same current flows through the P channel transistor and the N channel transistor are used as a reference And a scanning circuit in which the size of the P-channel transistor is set larger than the reference size of the P-channel transistor, and the size of the N-channel transistor is set smaller than the reference size of the N-channel transistor. Have equipment An electronic device characterized by that.
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