JP2008203447A - Color liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Katsuyuki Igarashi
克之 五十嵐
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color liquid crystal display device free from display irregularity and high in display quality. <P>SOLUTION: Level difference and variation is prevented by connecting frame light-shielding layers adjacent to each other on a color filter substrate or by forming a level correction layer 9 or a color layer between adjacent frame light-shielding layers 2. Since the level difference between frame light-shielding layers adjacent to each other in a horizontal or lateral direction is prevented, the cell gap is made uniform in the frame rim portion which functions as a sealing portion and in a display screen, and thereby a color liquid crystal display device showing uniform color tone and contrast within the display screen is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、携帯電話や電子手帳などの携帯情報機器、パーソナルコンピュータのモニタ等に用いられるカラー液晶表示装置、及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a color liquid crystal display device used for a portable information device such as a mobile phone or an electronic notebook, a monitor of a personal computer, and the like, and a manufacturing method thereof.

カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板は、遮光を目的とした額縁遮光層の中にRGBなどの3原色から成る着色層を3原色が繰り返すように並べたものをガラス基板上に多数配置して形成したものが一般的である。このカラーフィルタ基板と、透明電極が形成された対向基板とをシール部を介して対向させる際に、表示面内にわたってセルギャップが均一に保てるように、シール部の下にも遮光層を配置する構成が採用されている(例えば、特許文献1を参照)。   A color filter substrate used in a color liquid crystal display device has a large number of colored layers composed of three primary colors such as RGB arranged in a light-shielding frame for the purpose of light shielding so that the three primary colors are repeated on a glass substrate. Is generally formed. When this color filter substrate and the counter substrate on which the transparent electrode is formed are opposed to each other through the seal portion, a light shielding layer is also disposed under the seal portion so that the cell gap can be kept uniform over the display surface. A configuration is employed (see, for example, Patent Document 1).

従来のカラー液晶表示装置に用いられているカラーフィルタ基板10の概略平面図を図1に示す。カラーフィルタ基板10からは複数個の表示パネルを作成することができ、透明基板1上に各表示パネルの表示画面に対応して着色層3が一定の間隔をあけて取り個数分形成されている。各着色層3の周囲には額縁遮光層2が形成されている。図2に従来のカラーフィルタ基板10と対向基板11を重ね合わせたカラー液晶表示装置の概略断面図を示す。カラーフィルタ基板10と対向基板11は後に液晶が充填させる一定の間隙12を保ち互いに対向している。各基板の一方の表面には、所望のパターンを有した透明電極5と対向透明電極7が設けられている。カラーフィルタ基板10は、透明基板1上にカラーフィルタを形成する着色層3が設けられた構成である。具体的には、カラーフィルタ基板10の表面に所望のパターンを持つ着色層3が1μm前後の厚さで設けられている。図2では、着色層3は光の3原色である赤(3R)・緑(3G)・青(3B)で構成されており、所望のパターンを有した額縁遮光層2が設けられている。額縁遮光層2と着色層3の上には表面の凹凸を平坦にするため、平坦化膜4が設けられている。その上に液晶層12に電圧を印加するための透明電極5が設けられている。一方、対向基板11には対向電極7が形成され、これらの透明電極が向かい合うようにカラーフィルタ基板10と対向基板11とをシール剤8により固定し、カラーフィルタ基板10と対向基板11の間隙12に液晶層が設けられる構成となっている。このような構成が、透明基板1および対向基板6の表面に多数配置されているものが一般的である。上述のような構成をとる場合、面内に多数配置された上下左右に隣り合った額縁遮光層2間には、この遮光層膜厚分の段差が生じることになる。この場合、上方に平坦化膜4を塗布した場合においても、額縁遮光層2の外縁部に緩やかな傾斜が生じ、シール部と表示面内との間でセルギャップに差が出る。セルギャップは通常、両基板間に表示部スペーサ13を分散配置するとともに、シール部中にそのセルギャップに見合う粒径のシール部スペーサを混入することにより行われている。セルギャップが異なると、間隙に注入されている液晶分子の配向が異なってしまい、コントラストが悪くなる等の表示品質低下を引き起こすことになる。
特開平6−273743号公報
A schematic plan view of a color filter substrate 10 used in a conventional color liquid crystal display device is shown in FIG. A plurality of display panels can be formed from the color filter substrate 10, and the number of colored layers 3 corresponding to the display screen of each display panel is formed on the transparent substrate 1 at a certain interval. . A frame light shielding layer 2 is formed around each colored layer 3. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a color liquid crystal display device in which a conventional color filter substrate 10 and a counter substrate 11 are superimposed. The color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are opposed to each other with a certain gap 12 filled later with liquid crystal. A transparent electrode 5 and a counter transparent electrode 7 having a desired pattern are provided on one surface of each substrate. The color filter substrate 10 has a configuration in which a colored layer 3 for forming a color filter is provided on the transparent substrate 1. Specifically, the colored layer 3 having a desired pattern is provided on the surface of the color filter substrate 10 with a thickness of about 1 μm. In FIG. 2, the colored layer 3 is composed of three primary colors of light, red (3R), green (3G), and blue (3B), and a frame light-shielding layer 2 having a desired pattern is provided. A flattening film 4 is provided on the frame light-shielding layer 2 and the colored layer 3 in order to flatten the surface unevenness. A transparent electrode 5 for applying a voltage to the liquid crystal layer 12 is provided thereon. On the other hand, a counter electrode 7 is formed on the counter substrate 11, and the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are fixed with a sealant 8 so that these transparent electrodes face each other, and a gap 12 between the color filter substrate 10 and the counter substrate 11. In this configuration, a liquid crystal layer is provided. In general, a large number of such structures are arranged on the surfaces of the transparent substrate 1 and the counter substrate 6. In the case of adopting the above-described configuration, a step corresponding to the thickness of the light shielding layer is generated between the frame light shielding layers 2 that are arranged in the plane and that are adjacent to each other vertically and horizontally. In this case, even when the planarizing film 4 is applied on the upper side, a gentle inclination occurs at the outer edge of the frame light-shielding layer 2, and a difference in cell gap occurs between the seal portion and the display surface. The cell gap is usually performed by disposing the display spacers 13 between the two substrates and mixing the seal spacers having a particle size suitable for the cell gaps in the seal portions. If the cell gap is different, the orientation of the liquid crystal molecules injected into the gap is different, which causes a deterioration in display quality such as poor contrast.
JP-A-6-273743

従来のカラー液晶表示装置では、上述したように、カラーフィルタ基板と、透明電極が形成された対向基板とをシール部を介して対向させる際に、表示面内を通してセルギャップを均一に保てるよう、シール部の下に遮光層を配置する構成が採用されている。また、一般にカラーフィルタ基板には、取り個数分の複数のパターンが並べて形成されている。したがって、この構成の場合、隣り合った額縁遮光層間にある遮光層膜厚分の段差によって、平坦化膜塗布を行った場合でも緩やかな傾斜が生じてしまう。このように緩やかな傾斜が生じている場合には、表示面内と実際にシール部に対応する額縁遮光層の外縁部との間で段差が生じることになる。セルギャップは通常、両基板間にスペーサを分散配置するとともに、シール部中にそのセルギャップに見合う粒径のシール部スペーサを混入することにより行われている。上述のようにカラーフィルタ基板表面に段差がある場合、表示面内中央部と外縁部とで対向基板との間にセルギャップの違いが生じる。セルギャップが異なると、間隙に注入されている液晶分子の配向が異なってしまい、コントラストが悪くなる等の表示品質低下を引き起こすことになる。この段差は、特にSTN液晶を用いた表示装置において、表示品質を低下させる要因となっている。そこで、本発明は、表示ムラの無い、表示品質の高いカラー液晶表示装置を提供することを目的とする。   In the conventional color liquid crystal display device, as described above, when the color filter substrate and the counter substrate on which the transparent electrode is formed are opposed to each other through the seal portion, the cell gap can be kept uniform throughout the display surface. The structure which arrange | positions the light shielding layer under a seal | sticker part is employ | adopted. In general, the color filter substrate is formed with a plurality of patterns arranged side by side. Therefore, in the case of this configuration, a gentle inclination occurs even when the planarizing film is applied due to a step corresponding to the thickness of the light shielding layer between the adjacent frame light shielding layers. When such a gentle inclination occurs, a step is generated between the display surface and the outer edge portion of the frame light shielding layer that actually corresponds to the seal portion. The cell gap is usually performed by dispersing spacers between both substrates and mixing seal portion spacers having a particle size corresponding to the cell gap into the seal portion. As described above, when there is a step on the surface of the color filter substrate, a difference in cell gap occurs between the counter substrate at the center portion and the outer edge portion in the display surface. If the cell gap is different, the orientation of the liquid crystal molecules injected into the gap is different, which causes a deterioration in display quality such as poor contrast. This step is a factor that degrades display quality, particularly in a display device using STN liquid crystal. Therefore, an object of the present invention is to provide a color liquid crystal display device having high display quality without display unevenness.

本発明のカラー液晶表示装置は、少なくとも額縁遮光層および着色層を備えるカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板と液晶層を介して対向する対向基板を備えており、カラーフィルタ基板上で上下左右に隣り合った額縁遮光層間に、額縁遮光層と同膜厚の段差補正層を形成する。このような構成により、隣り合った額縁遮光層間にある遮光層膜厚分の段差が解消され、平坦化膜塗布後に傾斜が生じない。そのため、表示面内と実際にシール部に対応する額縁遮光層の外縁部との間で段差が生じない。したがって、表示ムラの無い、表示品質の高いカラー液晶表示装置を提供することが可能となる。   The color liquid crystal display device of the present invention includes a color filter substrate having at least a frame light-shielding layer and a colored layer, and a counter substrate facing the color filter substrate with the liquid crystal layer interposed therebetween. A step correction layer having the same thickness as the frame light shielding layer is formed between the combined frame light shielding layers. With such a configuration, the step corresponding to the film thickness of the light shielding layer between the adjacent frame light shielding layers is eliminated, and no inclination occurs after the planarization film is applied. Therefore, there is no step between the display surface and the outer edge portion of the frame light shielding layer that actually corresponds to the seal portion. Therefore, it is possible to provide a color liquid crystal display device with high display quality without display unevenness.

本発明のカラー液晶表示装置によれば、表示面内と実際にシール部に対応する額縁遮光層の外縁部との間で段差が生じないため、表示ムラの無い、表示品質の高いカラー液晶表示装置を提供することが可能となる。   According to the color liquid crystal display device of the present invention, there is no step between the display surface and the outer edge portion of the frame light shielding layer that actually corresponds to the seal portion. An apparatus can be provided.

本発明によるカラー液晶表示装置は、表示画面に対応して形成された着色層と、着色層の周囲に形成された額縁遮光層を備えるカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板とシール剤により接合された対向基板と、カラーフィルタ基板と対向基板の間隙に設けられた液晶層を備えており、カラーフィルタ基板上の額縁遮光層より外形側に、額縁遮光層と同膜厚の段差補正層が形成されている。   A color liquid crystal display device according to the present invention includes a color layer formed corresponding to a display screen, a color filter substrate including a frame light-shielding layer formed around the color layer, and a color filter substrate and a sealant bonded to each other. A counter substrate and a liquid crystal layer provided in the gap between the color filter substrate and the counter substrate are provided, and a step correction layer having the same thickness as the frame light shielding layer is formed on the outer side of the frame light shielding layer on the color filter substrate. ing.

本発明のカラー液晶表示装置を図3に基づいて説明する。図3は大板のカラーフィルタ基板10の概略平面図を示す。カラーフィルタ基板10は、透明基板1上に額縁遮光層2および表示面に着色層3が一定の間隔をあけて取り個数分形成されたものである。図4に本発明のカラー液晶表示装置に用いられているカラーフィルタ基板10と対向基板11とを重ね合わせた際の概略断面図を示す。カラーフィルタ基板10と対向基板11は液晶層となる一定の間隙12を保ち互いに対向している。各基板の一方の表面には、所望のパターンを有した透明電極5と対向透明電極7が設けられている。カラーフィルタ基板10にはカラーフィルタを形成する着色層3が設けられている。ここでは、着色層3は光の3原色である赤(3R)・緑(3G)・青(3B)で構成されており、その周囲に所望のパターンで額縁遮光層2が設けられている。また、隣り合った額縁遮光層2の間には、額縁遮光層2と同膜厚の段差補正層9が形成されている。着色層3の上には表面の凹凸を平坦にするため、平坦化膜4が設けられている。その上に液晶層に電圧を印加するための透明電極5が設けられている。一方、対向基板11には対向電極7が形成され、これらの電極が向かい合うように、カラーフィルタ基板10と対向基板11がシール剤8により固定されている。カラーフィルタ基板10と対向基板11の間隙に液晶層が設けられる。このような構成が、透明基板1や対向基板6の表面に多数個配置されている。このような構成によれば、平坦化膜4を塗布した場合でも、額縁遮光層2の外縁部に傾斜が生じない。したがって、シール部と表示面内との間でセルギャップに差が出ないため、表示ムラの無い、表示品質の高いカラー液晶表示装置を提供することが可能となる。   The color liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic plan view of the large color filter substrate 10. The color filter substrate 10 is formed by forming the frame light-shielding layer 2 on the transparent substrate 1 and the number of colored layers 3 on the display surface at a predetermined interval. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view when the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 used in the color liquid crystal display device of the present invention are overlaid. The color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are opposed to each other with a certain gap 12 serving as a liquid crystal layer. A transparent electrode 5 and a counter transparent electrode 7 having a desired pattern are provided on one surface of each substrate. The color filter substrate 10 is provided with a colored layer 3 that forms a color filter. Here, the colored layer 3 is composed of red (3R), green (3G), and blue (3B), which are the three primary colors of light, and the frame light shielding layer 2 is provided in a desired pattern around it. Further, a step correction layer 9 having the same thickness as the frame light shielding layer 2 is formed between the adjacent frame light shielding layers 2. A planarizing film 4 is provided on the colored layer 3 in order to flatten the surface irregularities. A transparent electrode 5 for applying a voltage to the liquid crystal layer is provided thereon. On the other hand, a counter electrode 7 is formed on the counter substrate 11, and the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are fixed by a sealant 8 so that these electrodes face each other. A liquid crystal layer is provided in the gap between the color filter substrate 10 and the counter substrate 11. A large number of such configurations are arranged on the surfaces of the transparent substrate 1 and the counter substrate 6. According to such a configuration, even when the planarizing film 4 is applied, the outer edge portion of the frame light shielding layer 2 is not inclined. Therefore, since there is no difference in cell gap between the seal portion and the display surface, it is possible to provide a color liquid crystal display device with high display quality without display unevenness.

ここで、額縁遮光層を延長することで段差補正層を形成してもよい。また、複数色の着色層のうちいずれかの着色層を用いて段差補正層を形成してもよい。   Here, the step correction layer may be formed by extending the frame light shielding layer. Moreover, you may form a level | step difference correction layer using any one of the colored layers of a plurality of colors.

さらに、本発明のカラー液晶表示装置の製造方法は、一つのパネルの表示画面に対応する着色層と、該表示画面の周囲に形成された額縁遮光層とが、複数のパネルに対応するように、基板上に複数個レイアウト形成してカラーフィルタ基板を作製する工程と、前記カラーフィルタ基板と対向基板をシール剤により接合する工程と、前記接合されたカラーフィルタ基板と対向基板を個々のパネルに分離する工程を備えるカラー液晶表示装置の製造方法であって、前記カラーフィルタ基板上で隣接する個々のパネルの額縁遮光層の間には前記額縁遮光層と同膜厚の段差補正層が形成され、前記段差補正層の部位で個々のパネルに分離されたこととした。このような製造方法により、着色層とその周囲に形成された額縁遮光層を備えるカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板とシール剤により接合された対向基板と、カラーフィルタ基板と対向基板の間隙に設けられた液晶層と、カラーフィルタ基板上の額縁遮光層より外形側に、額縁遮光層と同膜厚の段差補正層が形成されたカラー液晶表示装置を製造できる。   Furthermore, in the method for manufacturing a color liquid crystal display device of the present invention, the colored layer corresponding to the display screen of one panel and the frame light-shielding layer formed around the display screen correspond to a plurality of panels. Forming a plurality of layouts on the substrate to produce a color filter substrate; joining the color filter substrate and the counter substrate with a sealant; and bonding the joined color filter substrate and the counter substrate into individual panels. A method of manufacturing a color liquid crystal display device comprising a step of separating, wherein a step correction layer having the same thickness as the frame light-shielding layer is formed between the frame light-shielding layers of individual panels adjacent on the color filter substrate. The individual steps are separated into individual panels at the level difference correction layer. By such a manufacturing method, a color filter substrate having a colored layer and a frame light-shielding layer formed therearound, a counter substrate bonded to the color filter substrate by a sealing agent, and a gap between the color filter substrate and the counter substrate are provided. A color liquid crystal display device in which a step correction layer having the same thickness as the frame light-shielding layer is formed on the outer side of the liquid crystal layer and the frame light-shielding layer on the color filter substrate can be manufactured.

以下、図面を参照して、本発明の実施例について説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

本実施例のカラー液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルについて図3を用いて説明する。カラーフィルタ基板10は、ガラス基板のような透明基板1上に、額縁遮光層2および表示面に着色層3が一定の間隔をあけて取り個数分形成されたものである。図4に本実施例のカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板10および対向基板11を重ね合わせた際の概略断面図を示す。カラーフィルタ基板10と対向基板11は液晶層となる一定の間隙12を保ち互いに対向している。各基板の一方の表面には、所望のパターンを有した透明電極5と対向透明電極7が設けられている。透明電極5および対向電極7は、フォトリソグラフィー法により所望のパターンで形成されている。透明電極5および対向電極7はスズ(Sn)を不純物に含有したインジウム(In)を酸化させたITOと呼ばれる透明導電膜であり、所望の抵抗値が設定できる。ITOは低抵抗の半導体物質であるので、その抵抗値はシート抵抗で10Ω/□から100Ω/□のものが最も汎用レベルである。通常ITOはスパッタリング法や蒸着法と呼ばれる真空成膜法で形成する。カラーフィルタ基板10は、透明基板1上にカラーフィルタを形成する着色層3が設けられた構成である。具体的には、カラーフィルタ基板10の表面に所望のパターンを持つ着色層3が約1μmの厚さで設けられている。図4では、着色層3は光の3原色である赤(3R)・緑(3G)・青(3B)で構成されており、所望のパターンを有した額縁遮光層2が約1μmの厚さで設けられている。また、隣り合った額縁遮光層2間には、額縁遮光層2と同膜厚で段差補正層9が形成されている。段差補正層9は、感光性アクリル樹脂等を用いて、フォトリソグラフィー法等の手法により形成することができる。額縁遮光層2と着色層3の上には表面の凹凸を平坦にするため、平坦化膜4が約2μmの膜厚で設けられている。その上に液晶層に電圧を印加するための透明電極5が設けられている。一方、対向基板11には対向電極7が形成され、これらの透明電極が向かい合うようにカラーフィルタ基板10と対向基板11とを、表示面に表示部スペーサ13を分散配置した後にシール剤8により固定し、カラーフィルタ基板10と対向基板11の間隙12に液晶層が設けられる構成となっている。このような構成が、透明基板1と対向基板6の表面に多数配置されているものが一般的である。その後、基板上に多数配置された各々の表示面を分離し、間隙に液晶を封入する。次いで、上下面に偏光板を配置し、照明装置を組み合わせることにより、カラー液晶表示装置を得る。   A liquid crystal display panel used in the color liquid crystal display device of this embodiment will be described with reference to FIG. The color filter substrate 10 is formed by forming a frame light-shielding layer 2 and a colored layer 3 on the display surface at a certain interval on a transparent substrate 1 such as a glass substrate. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view when the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 used in the color liquid crystal display device of this embodiment are overlaid. The color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are opposed to each other with a certain gap 12 serving as a liquid crystal layer. A transparent electrode 5 and a counter transparent electrode 7 having a desired pattern are provided on one surface of each substrate. The transparent electrode 5 and the counter electrode 7 are formed in a desired pattern by a photolithography method. The transparent electrode 5 and the counter electrode 7 are transparent conductive films called ITO in which indium (In) containing tin (Sn) as an impurity is oxidized, and a desired resistance value can be set. Since ITO is a low-resistance semiconductor material, its resistance value is 10Ω / □ to 100Ω / □, which is the most general-purpose level. Usually, ITO is formed by a vacuum film forming method called a sputtering method or a vapor deposition method. The color filter substrate 10 has a configuration in which a colored layer 3 for forming a color filter is provided on the transparent substrate 1. Specifically, the colored layer 3 having a desired pattern is provided on the surface of the color filter substrate 10 with a thickness of about 1 μm. In FIG. 4, the colored layer 3 is composed of the three primary colors of light, red (3R), green (3G), and blue (3B), and the frame light-shielding layer 2 having a desired pattern has a thickness of about 1 μm. Is provided. Further, a step correction layer 9 having the same film thickness as the frame light shielding layer 2 is formed between the adjacent frame light shielding layers 2. The step correction layer 9 can be formed using a photosensitive acrylic resin or the like by a technique such as a photolithography method. A flattening film 4 is provided on the frame light shielding layer 2 and the colored layer 3 with a film thickness of about 2 μm in order to flatten the surface irregularities. A transparent electrode 5 for applying a voltage to the liquid crystal layer is provided thereon. On the other hand, the counter electrode 7 is formed on the counter substrate 11, and the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are arranged so that these transparent electrodes face each other, and the display portion spacers 13 are dispersedly arranged on the display surface, and then fixed by the sealant 8. In addition, a liquid crystal layer is provided in the gap 12 between the color filter substrate 10 and the counter substrate 11. In general, a large number of such structures are arranged on the surfaces of the transparent substrate 1 and the counter substrate 6. Thereafter, a large number of display surfaces arranged on the substrate are separated, and liquid crystal is sealed in the gap. Next, a polarizing plate is disposed on the upper and lower surfaces, and a lighting device is combined to obtain a color liquid crystal display device.

図5に本実施例のカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板10の概略平面図を示す。カラーフィルタ基板10は、ガラス基板のような透明基板1上に、額縁遮光層2および表示面に着色層3が一定の間隔をあけて取り個数分形成されたものである。図6に本実施例のカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板10と対向基板11を重ね合わせた際の概略断面図を示す。カラーフィルタ基板10と対向基板11は液晶層となる一定の間隙12を保ち互いに対向している。各基板の一方の表面には、所望のパターンを有した透明電極5と対向透明電極7が設けられている。透明電極5と対向電極7はフォトリソグラフィー法により所望のパターンで形成されている。透明電極5や対向電極7はスズ(Sn)を不純物に含有したインジウム(In)を酸化させたITOと呼ばれる透明導電膜であり、所望の抵抗値が設定できる。ITOは低抵抗の半導体物質であるので、その抵抗値はシート抵抗で10Ω/□から100Ω/□のものが最も汎用レベルである。通常ITOはスパッタリング法や蒸着法と呼ばれる真空成膜法で形成する。カラーフィルタ基板10は、透明基板1上にカラーフィルタを形成する着色層3が設けられた構成である。具体的には、カラーフィルタ基板10の表面に所望のパターンを持つ着色層3が約1μmの厚さで設けられている。図6では、着色層3は光の3原色である赤(3R)・緑(3G)・青(3B)で構成されており、所望のパターンを有した額縁遮光層2が約1μmの厚さで設けられている。ここで、額縁遮光層2を延長して形成することにより、隣り合った額縁遮光層2間の段差を解消する構成である。額縁遮光層2と着色層3の上には表面の凹凸を平坦にするため、平坦化膜4が約2μmの膜厚で設けられている。その上に液晶層に電圧を印加するための透明電極5が設けられている。一方、対向基板11には対向電極7が形成され、これらの電極が向かい合うようにカラーフィルタ基板10と対向基板11を、表示面に表示部スペーサ13を分散配置した後にシール剤8により固定する。このような構成が、透明基板1および対向基板6の表面に多数配置されているものが一般的である。その後、基板上に多数配置された各々の表示面を分離し、カラーフィルタ基板10と対向基板11の間隙12に液晶を封入する。次いで、上下面に偏光板を配置し、照明装置を組み合わせることにより、カラー液晶表示装置を得る。   FIG. 5 is a schematic plan view of the color filter substrate 10 used in the color liquid crystal display device of this embodiment. The color filter substrate 10 is formed by forming a frame light-shielding layer 2 and a colored layer 3 on the display surface at a certain interval on a transparent substrate 1 such as a glass substrate. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view when the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 used in the color liquid crystal display device of this embodiment are overlapped. The color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are opposed to each other with a certain gap 12 serving as a liquid crystal layer. A transparent electrode 5 and a counter transparent electrode 7 having a desired pattern are provided on one surface of each substrate. The transparent electrode 5 and the counter electrode 7 are formed in a desired pattern by a photolithography method. The transparent electrode 5 and the counter electrode 7 are transparent conductive films called ITO in which indium (In) containing tin (Sn) as an impurity is oxidized, and a desired resistance value can be set. Since ITO is a low-resistance semiconductor material, its resistance value is 10Ω / □ to 100Ω / □, which is the most general-purpose level. Usually, ITO is formed by a vacuum film forming method called a sputtering method or a vapor deposition method. The color filter substrate 10 has a configuration in which a colored layer 3 for forming a color filter is provided on the transparent substrate 1. Specifically, the colored layer 3 having a desired pattern is provided on the surface of the color filter substrate 10 with a thickness of about 1 μm. In FIG. 6, the colored layer 3 is composed of the three primary colors of light, red (3R), green (3G), and blue (3B), and the frame light-shielding layer 2 having a desired pattern has a thickness of about 1 μm. Is provided. Here, the frame light-shielding layer 2 is formed so as to be extended to eliminate a step between adjacent frame light-shielding layers 2. A flattening film 4 is provided on the frame light shielding layer 2 and the colored layer 3 with a film thickness of about 2 μm in order to flatten the surface irregularities. A transparent electrode 5 for applying a voltage to the liquid crystal layer is provided thereon. On the other hand, the counter electrode 7 is formed on the counter substrate 11, and the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are arranged with the display portion spacers 13 dispersed on the display surface so that these electrodes face each other, and then fixed by the sealant 8. In general, a large number of such structures are arranged on the surfaces of the transparent substrate 1 and the counter substrate 6. Thereafter, a large number of display surfaces arranged on the substrate are separated, and liquid crystal is sealed in the gap 12 between the color filter substrate 10 and the counter substrate 11. Next, a polarizing plate is disposed on the upper and lower surfaces, and a lighting device is combined to obtain a color liquid crystal display device.

図7に本実施例のカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板10の概略平面図を示す。カラーフィルタ基板10は、ガラス基板のような透明基板1上に、額縁遮光層2および表示面に着色層3が一定の間隔をあけて取り個数分形成されたものである。図8に本実施例のカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板10と対向基板11を重ね合わせた際の概略断面図を示す。カラーフィルタ基板10と対向基板11は液晶層となる一定の間隙12を保ち互いに対向している。各基板の一方の表面には、所望のパターンを有した透明電極5と対向透明電極7が設けられている。透明電極5や対向電極7はフォトリソグラフィー法により所望のパターンで形成されている。透明電極5や対向電極7はスズ(Sn)を不純物に含有したインジウム(In)を酸化させたITOと呼ばれる透明導電膜であり、所望の抵抗値が設定できる。ITOは低抵抗の半導体物質であるので、その抵抗値はシート抵抗で10Ω/□から100Ω/□のものが最も汎用レベルである。通常ITOはスパッタリング法や蒸着法と呼ばれる真空成膜法で形成する。カラーフィルタ基板10は、透明基板1上にカラーフィルタを形成する着色層3が設けられた構成である。具体的には、カラーフィルタ基板10の表面に所望のパターンを持つ着色層3が約1μmの厚さで設けられている。図8では、着色層3は光の3原色である赤(3R)・緑(3G)・青(3B)で構成されており、所望のパターンを有した額縁遮光層2が約1μmの厚さで設けられている。また、隣り合った額縁遮光層2の間には、額縁遮光層2と同膜厚で段差補正用の着色層3が形成されている。段差補正用の着色層3は、表示面内の着色層(3R、3G、3B)のいずれかを形成する際に同時に形成することが好ましい。額縁遮光層2と着色層3の上には表面の凹凸を平坦にするため、平坦化膜4が約2μmの膜厚で設けられている。その上に液晶層12に電圧を印加するための透明電極5が設けられている。一方、対向基板11には対向電極7が形成され、表示面に表示部スペーサ13を分散配置した後に、これらの電極が向かい合うようにカラーフィルタ基板10と対向基板11をシール剤8により固定する。このような構成が、透明基板1と対向基板6の表面に多数配置されている。その後、基板上に多数配置された各々の表示面を分離し、カラーフィルタ基板10と対向基板11の間隙に液晶を封入する。次いで、上下面に偏光板を配置し、照明装置を組み合わせることにより、カラー液晶表示装置が形成される。   FIG. 7 is a schematic plan view of the color filter substrate 10 used in the color liquid crystal display device of this embodiment. The color filter substrate 10 is formed by forming a frame light-shielding layer 2 and a colored layer 3 on the display surface at a certain interval on a transparent substrate 1 such as a glass substrate. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view when the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 used in the color liquid crystal display device of this embodiment are overlaid. The color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are opposed to each other with a certain gap 12 serving as a liquid crystal layer. A transparent electrode 5 and a counter transparent electrode 7 having a desired pattern are provided on one surface of each substrate. The transparent electrode 5 and the counter electrode 7 are formed in a desired pattern by a photolithography method. The transparent electrode 5 and the counter electrode 7 are transparent conductive films called ITO in which indium (In) containing tin (Sn) as an impurity is oxidized, and a desired resistance value can be set. Since ITO is a low-resistance semiconductor material, its resistance value is 10Ω / □ to 100Ω / □, which is the most general-purpose level. Usually, ITO is formed by a vacuum film forming method called a sputtering method or a vapor deposition method. The color filter substrate 10 has a configuration in which a colored layer 3 for forming a color filter is provided on the transparent substrate 1. Specifically, the colored layer 3 having a desired pattern is provided on the surface of the color filter substrate 10 with a thickness of about 1 μm. In FIG. 8, the colored layer 3 is composed of three primary colors of light, red (3R), green (3G), and blue (3B), and the frame light-shielding layer 2 having a desired pattern has a thickness of about 1 μm. Is provided. Further, a colored layer 3 for correcting a step is formed between the adjacent frame light-shielding layers 2 with the same film thickness as the frame light-shielding layer 2. The colored layer 3 for level difference correction is preferably formed at the same time as any of the colored layers (3R, 3G, 3B) in the display surface is formed. A flattening film 4 is provided on the frame light shielding layer 2 and the colored layer 3 with a film thickness of about 2 μm in order to flatten the surface irregularities. A transparent electrode 5 for applying a voltage to the liquid crystal layer 12 is provided thereon. On the other hand, the counter electrode 7 is formed on the counter substrate 11, and after disposing the display portion spacers 13 on the display surface, the color filter substrate 10 and the counter substrate 11 are fixed by the sealant 8 so that these electrodes face each other. A large number of such configurations are arranged on the surfaces of the transparent substrate 1 and the counter substrate 6. Thereafter, the display surfaces arranged in large numbers on the substrate are separated, and liquid crystal is sealed in the gap between the color filter substrate 10 and the counter substrate 11. Next, a color liquid crystal display device is formed by arranging polarizing plates on the upper and lower surfaces and combining the lighting devices.

上述した各実施例の構成により、上方に平坦化膜を塗布した場合でも額縁遮光層2の外縁部に傾斜が生じない。したがって、シール部と表示面内との間でセルギャップに差が出ないため、表示ムラの無い、表示品質の高いカラー液晶表示装置を提供することが可能となる。   With the configuration of each embodiment described above, the outer edge portion of the frame light-shielding layer 2 is not inclined even when a planarizing film is applied upward. Therefore, since there is no difference in cell gap between the seal portion and the display surface, it is possible to provide a color liquid crystal display device with high display quality without display unevenness.

従来のカラーフィルタ基板の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the conventional color filter board | substrate. 従来のカラー液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the conventional color liquid crystal display device typically. 本発明に用いたカラーフィルタ基板の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the color filter board | substrate used for this invention. 本発明に用いたカラー液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the color liquid crystal display device used for this invention. 本発明に用いたカラーフィルタ基板の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the color filter board | substrate used for this invention. 本発明に用いたカラー液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the color liquid crystal display device used for this invention. 本発明に用いたカラーフィルタ基板の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the color filter board | substrate used for this invention. 本発明に用いたカラー液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the color liquid crystal display device used for this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明基板
2 額縁遮光層
3 着色層
4 平坦化膜
5 透明電極
6 対向基板
7 対向電極
8 シール剤
9 段差補正層
10 カラーフィルタ基板
11 対向基板
12 間隙
13 表示部スペーサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Frame light shielding layer 3 Colored layer 4 Flattening film 5 Transparent electrode 6 Counter substrate 7 Counter electrode 8 Sealing agent 9 Step correction layer 10 Color filter substrate 11 Counter substrate 12 Gap 13 Display part spacer

Claims (4)

表示画面に対応して形成された着色層と前記着色層の周囲に形成された額縁遮光層を備えるカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板とシール剤により接合された対向基板と、カラーフィルタ基板と対向基板の間隙に設けられた液晶層を備えており、カラーフィルタ基板上の額縁遮光層より外形側に、額縁遮光層と同膜厚の段差補正層が形成されたことを特徴とするカラー液晶表示装置。   A color filter substrate including a colored layer formed corresponding to a display screen, a frame light-shielding layer formed around the colored layer, a counter substrate bonded to the color filter substrate with a sealant, and a color filter substrate A color liquid crystal comprising a liquid crystal layer provided in the gap between the opposing substrates, and a step correction layer having the same thickness as the frame light shielding layer formed on the outer side of the frame light shielding layer on the color filter substrate Display device. 前記段差補正層が、前記額縁遮光層を延長して形成されたことを特徴とする請求項1に記載のカラー液晶表示装置。   The color liquid crystal display device according to claim 1, wherein the step correction layer is formed by extending the frame light shielding layer. 前記着色層が複数色の着色層で構成され、前記段差補正層が、前記複数色の着色層のうちいずれかの着色層を用いて形成されたことを特徴とする請求項1に記載のカラー液晶表示装置。   2. The color according to claim 1, wherein the colored layer includes a plurality of colored layers, and the step correction layer is formed using any one of the colored layers. Liquid crystal display device. 一つのパネルの表示画面に対応する着色層と、該表示画面の周囲に形成された額縁遮光層とが、複数のパネルに対応するように、基板上に複数個レイアウト形成してカラーフィルタ基板を作製する工程と、
前記カラーフィルタ基板と対向基板をシール剤により接合する工程と、
前記接合されたカラーフィルタ基板と対向基板を個々のパネルに分離する工程を備えるカラー液晶表示装置の製造方法であって、
前記カラーフィルタ基板上で隣接する個々のパネルの額縁遮光層の間には前記額縁遮光層と同膜厚の段差補正層が形成され、前記段差補正層の部位で個々のパネルに分離されたことを特徴とするカラー液晶表示装置の製造方法。
A color filter substrate is formed by forming a plurality of layouts on a substrate so that a colored layer corresponding to a display screen of one panel and a frame light shielding layer formed around the display screen correspond to a plurality of panels. Manufacturing process;
Bonding the color filter substrate and the counter substrate with a sealant;
A method of manufacturing a color liquid crystal display device comprising a step of separating the bonded color filter substrate and the counter substrate into individual panels,
A step correction layer having the same film thickness as that of the frame light shielding layer is formed between the frame light shielding layers of the individual panels adjacent on the color filter substrate, and separated into individual panels at the level of the step correction layer. A method for producing a color liquid crystal display device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109656059A (en) * 2019-02-26 2019-04-19 京东方科技集团股份有限公司 A kind of array substrate, display device and its driving method

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