JP2001290159A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2001290159A
JP2001290159A JP2000106666A JP2000106666A JP2001290159A JP 2001290159 A JP2001290159 A JP 2001290159A JP 2000106666 A JP2000106666 A JP 2000106666A JP 2000106666 A JP2000106666 A JP 2000106666A JP 2001290159 A JP2001290159 A JP 2001290159A
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JP
Japan
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substrate
liquid crystal
display device
crystal display
conductive
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000106666A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Tsuji
和志 辻
Ichiro Nakamura
伊知郎 中村
Nobuhiro Waka
伸浩 和歌
Koichi Chokai
幸一 鳥海
Eiichiro Nishimura
英一郎 西村
Tsuneo Nakamura
恒夫 中村
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of normally holding continuity between two substrates and improving display quality. SOLUTION: In the liquid crystal display device 1 comprising a liquid crystal 14 disposed between a TFT (thin film transistor) substrate 10 having TFT elements and a color filter(CF) substrate 11 having a CF, a plurality of protrusions 50, 51 are formed on the CF substrate 11 and a counter electrode 40 is formed thereon. Thereby, a spacer 43 to hold a distance between the TFT substrate 10 and CF substrate 11 and a conductive protrusion 42 to electrically connect the TFT substrate 10 and CF substrate 11 are formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ノート型パソコン
またはディスプレイなどに用いられる液晶表示装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device used for a notebook computer or a display.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下、TFT(Thin Film Transistor)
素子を有するカラー液晶表示装置を例に従来の技術につ
いて説明する。前記液晶表示装置の多くは、互いに対向
するTFT基板およびCF(カラーフィルタ)基板を有
し、各基板がシール材によって貼合わされ、各基板の間
に液晶が封入され構成される。液晶が封入される基板の
間隔(セルギャップ)は、基板間に分布する多数の粒状
のスペーサによって保たれる。TFT基板は、透明基板
上に、TFT素子、画素電極および配向膜を有し、CF
基板は、透明基板上にカラーフィルタ、対向電極および
配向膜を有する。
2. Description of the Related Art TFT (Thin Film Transistor)
A conventional technique will be described using a color liquid crystal display device having elements as an example. Most of the liquid crystal display devices have a TFT substrate and a CF (color filter) substrate facing each other, each substrate is bonded with a sealant, and liquid crystal is sealed between the substrates. The spacing (cell gap) between the substrates in which the liquid crystal is sealed is maintained by a number of granular spacers distributed between the substrates. The TFT substrate has a TFT element, a pixel electrode, and an alignment film on a transparent substrate.
The substrate has a color filter, a counter electrode, and an alignment film on a transparent substrate.

【0003】前記液晶表示装置を駆動するために、回路
基板がTFT基板に電気的に接続されるが、CF基板上
に形成した対向電極(コモン電極)も回路基板の配線の
一部に電気的に接続する必要がある。このため、従来技
術では、液晶表示装置の製造工程でCF基板上に導電性
ペーストを塗布し、この導電性ペーストをTFT基板の
配線の一部に接触させることによって、CF基板の対向
電極と回路基板とを電気的に接続している。また両基板
の配向膜は、布などを用いてこするラビング処理が行わ
れ形成される。
In order to drive the liquid crystal display device, a circuit substrate is electrically connected to a TFT substrate. A counter electrode (common electrode) formed on a CF substrate is also electrically connected to a part of the wiring of the circuit substrate. Need to be connected to For this reason, in the prior art, a conductive paste is applied on a CF substrate in a manufacturing process of a liquid crystal display device, and this conductive paste is brought into contact with a part of the wiring of the TFT substrate, thereby forming a circuit between the counter electrode of the CF substrate and the circuit. The board is electrically connected. The alignment films on both substrates are formed by performing a rubbing process using a cloth or the like.

【0004】図12は、従来の液晶表示装置の製造手順
の一例を示すフローチャートである。従来の製造方法で
は、配向膜のラビング処理後の洗浄(a4)を終えたT
FT基板に、前記導電性ペーストを塗布し(a5)、ス
ペーサを散布する(a6)。一方、ラビング処理後の洗
浄(b4)を終えたCF基板に、シール材を塗布し(b
5)、仮止め樹脂を塗布する(b6)。その後2枚の基
板の貼合わせ工程(c1)が行われる。
FIG. 12 is a flowchart showing an example of a procedure for manufacturing a conventional liquid crystal display device. According to the conventional manufacturing method, the cleaning after the rubbing treatment of the alignment film (a4) is completed.
The conductive paste is applied to the FT substrate (a5), and spacers are dispersed (a6). On the other hand, a sealing material is applied to the CF substrate after the cleaning (b4) after the rubbing treatment (b)
5) Apply a temporary fixing resin (b6). Thereafter, a bonding step (c1) of the two substrates is performed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図12に示す従来の製
造手順では、ラビング処理後の洗浄を終えたTFT基板
に、導電性ペースト塗布(a5)とスペーサ散布(a
6)の処理を施さなければならない。ラビング後の洗浄
(a4)の後、貼合わせ工程(c1)の前に、このよう
な処理を行うことは基板上への異物の付着が懸念され望
ましくない。
In the conventional manufacturing procedure shown in FIG. 12, a conductive paste is applied (a5) and spacers are dispersed (a) on a TFT substrate which has been cleaned after rubbing.
The processing of 6) must be performed. Performing such treatment after the rubbing cleaning (a4) and before the laminating step (c1) is not desirable because there is a concern that foreign substances may adhere to the substrate.

【0006】また、従来の液晶表示装置では、導電性ペ
ーストによってCF基板の対向電極とTFT基板の配線
の一部とを導通させているが、導電性ペーストの塗布量
を均一にすることは困難であり、導電性ペーストの塗布
量が少なすぎると、CF基板とTFT基板との電気接続
が不完全になり、不良品を生じる恐れがある。なお、導
電性ペーストの塗布量のばらつきは、生産上不良とはな
らなくても、接続部分における電気抵抗値のばらつきま
たは基板間隔のむらを引起こし、液晶表示装置の表示品
位の低下を招くので、できる限り発生しない方がよい。
Further, in the conventional liquid crystal display device, a conductive paste is used to conduct the counter electrode of the CF substrate and a part of the wiring of the TFT substrate. However, it is difficult to make the applied amount of the conductive paste uniform. If the amount of the conductive paste applied is too small, the electrical connection between the CF substrate and the TFT substrate becomes incomplete, which may cause defective products. In addition, the variation in the amount of the conductive paste applied, even if it does not result in a production defect, causes variation in the electrical resistance value at the connection portion or unevenness in the distance between the substrates, and causes deterioration in the display quality of the liquid crystal display device. It is better not to occur as much as possible.

【0007】また、前記液晶表示装置では粒状のスペー
サによってセルギャップを保っているが、透明ビーズな
どの粒状のスペーサを均一に散布することは困難であ
り、スペーサの不均一な散布によってセルギャップにむ
らが発生し、液晶表示装置の表示コントラストの低下お
よび色むらが発生する恐れがある。また、前記スペーサ
を特定の位置に配置することは困難であり、スペーサが
液晶表示装置の表示に直接かかわる画素域に配置された
場合には、そのスペーサから光が漏れ、表示のコントラ
ストが低下する。なお、画素域とはTFT基板の画素電
極とCF基板の対向電極とが対向する領域のことであ
る。
In the liquid crystal display device, the cell gap is maintained by the granular spacers. However, it is difficult to uniformly disperse the granular spacers such as transparent beads. Unevenness may occur, which may cause a decrease in display contrast of the liquid crystal display device and unevenness in color. Further, it is difficult to dispose the spacer at a specific position. When the spacer is disposed in a pixel area directly related to the display of the liquid crystal display device, light leaks from the spacer, and the display contrast is reduced. . Note that the pixel area is an area where the pixel electrode of the TFT substrate and the counter electrode of the CF substrate face each other.

【0008】本発明の目的は、これらの問題を解決し、
2枚の基板を正常に導通させることができ、かつ表示品
位の向上を図ることができる液晶表示装置を提供するこ
とである。
[0008] The object of the present invention is to solve these problems,
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of normally conducting two substrates and improving display quality.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、2枚の基板の
間に液晶が介在される液晶表示装置において、一方の基
板に複数の突起が形成され、この上に対向電極が形成さ
れることによって、2枚の基板の間隔を保持するスペー
サと、2枚の基板を電気的に接続する導通突起とが形成
されることを特徴とする液晶表示装置である。
According to the present invention, in a liquid crystal display device in which liquid crystal is interposed between two substrates, a plurality of projections are formed on one of the substrates, and a counter electrode is formed thereon. Thus, a liquid crystal display device is provided in which a spacer for maintaining a distance between two substrates and a conductive protrusion for electrically connecting the two substrates are formed.

【0010】従来技術の製造方法に従えば、ラビング処
理後の洗浄を終えた一方の基板に、2枚の基板を導通さ
せる導電性ペーストの塗布と、2枚の基板の間隔を保つ
スペーサの散布とが行われる。これに対して、本発明で
は、配向膜および対向電極形成前の一方の基板に突起を
設け、この上に対向電極を形成することによって、2枚
の基板の間隔を保つスペーサと、2枚の基板を電気的に
接続する導通突起とを形成するので、貼合わせ前の基板
に異物が付着する危険性を回避することができる。
According to the prior art manufacturing method, a conductive paste for conducting the two substrates is applied to one of the substrates which has been cleaned after the rubbing treatment, and a spacer for keeping the distance between the two substrates is dispersed. Is performed. On the other hand, in the present invention, a protrusion is provided on one of the substrates before the formation of the alignment film and the counter electrode, and the counter electrode is formed thereon. Since the conductive projections for electrically connecting the substrates are formed, it is possible to avoid the risk of foreign matter adhering to the substrates before bonding.

【0011】また、従来導電性ペーストによって行われ
る2枚の基板の電気接続を、本発明では対向電極で覆わ
れる前記導通突起によって行うので、基板間を確実に導
通させることができ、導通不良を防ぐことができる。ま
た、本発明の導通突起は、従来の導電性ペーストと違っ
て所定の形状に形成することができるので、電気抵抗値
の違いまたは基板間隔のむらによる表示品位の低下を防
ぐことができる。さらに、本発明の前記スペーサは、所
定の位置に容易に形成することができるので、基板間隔
のむらを防ぐことができ、表示品位の低下を防ぐことが
できる。
Further, in the present invention, the electrical connection between the two substrates made by the conductive paste is made by the conductive projections covered with the counter electrode in the present invention. Can be prevented. Further, since the conductive projection of the present invention can be formed in a predetermined shape, unlike the conventional conductive paste, it is possible to prevent a decrease in display quality due to a difference in electric resistance value or unevenness in substrate spacing. Further, since the spacer of the present invention can be easily formed at a predetermined position, it is possible to prevent unevenness in the interval between the substrates, and to prevent deterioration in display quality.

【0012】また本発明の前記導通突起は、側面の傾斜
がなだらかな突起上に対向電極が形成されることによっ
て、突起の頂部から底部にわたって電気的に接続されて
形成されることを特徴とする。
Further, the conductive projection according to the present invention is characterized in that an opposing electrode is formed on a projection having a gentle side surface, so that the projection is electrically connected from the top to the bottom of the projection. .

【0013】本発明に従えば、導通突起は、突起の側面
の傾斜がなだらかであるので、突起の側面を対向電極で
完全に覆うことができ、頂部および底部が確実に電気接
続される。このため、導通突起を有する液晶表示装置で
は、2枚の基板の導通不良を防ぐことができる。
According to the present invention, since the conductive projection has a gentle slope on the side face of the projection, the side face of the projection can be completely covered with the counter electrode, and the top and bottom portions are reliably electrically connected. For this reason, in the liquid crystal display device having the conduction projection, conduction failure between the two substrates can be prevented.

【0014】また本発明の前記スペーサは、側面の傾斜
が急な突起上に対向電極が形成されることによって、突
起の頂部と底部との電気的接続が遮断されて形成される
ことを特徴とする。
Further, the spacer according to the present invention is characterized in that an opposing electrode is formed on a projection having a steep side surface, so that an electrical connection between a top and a bottom of the projection is cut off. I do.

【0015】本発明に従えば、スペーサは、突起の側面
の傾斜が急なので、対向電極を基板上に一様に形成して
も、突起の側面には対向電極が形成されず、突起の頂部
と底部との電気接続が遮断される。このため、前記スペ
ーサが他方の基板の画素電極に接触しても、画素電極と
対向電極とは導通しない。
According to the present invention, since the spacer has a steep side surface of the protrusion, even if the counter electrode is formed uniformly on the substrate, the counter electrode is not formed on the side surface of the protrusion and the top of the protrusion is formed. The electrical connection between the and the bottom is cut off. For this reason, even if the spacer contacts the pixel electrode on the other substrate, the pixel electrode and the counter electrode do not conduct.

【0016】また本発明は、対向電極がパターニングさ
れて形成されることによって、対向電極で被覆される導
通突起と対向電極で被覆されないスペーサとが形成され
ることを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that a conductive projection covered with the counter electrode and a spacer not covered with the counter electrode are formed by patterning and forming the counter electrode.

【0017】本発明に従えば、前記対向電極がパターニ
ングされて形成されることによって、対向電極で被覆さ
れる導通突起と対向電極で被覆されないスペーサとが形
成されるので、導通突起によって2枚の基板を電気接続
することができ、スペーサによって2枚の基板の間隔を
一定に保つことができる。また、スペーサは対向電極で
被覆されていないので、他方の基板の画素電極と接触し
ても導通しない。
According to the present invention, since the opposing electrode is patterned and formed, a conductive projection covered with the opposing electrode and a spacer not covered with the opposing electrode are formed. The substrates can be electrically connected, and the distance between the two substrates can be kept constant by the spacer. Further, since the spacer is not covered with the counter electrode, the spacer does not conduct even when it comes into contact with the pixel electrode on the other substrate.

【0018】また本発明の前記導通突起は、他方の基板
の画素電極に接触しない位置に形成されることを特徴と
する。
Further, according to the present invention, the conductive projection is formed at a position on the other substrate which does not contact the pixel electrode.

【0019】本発明に従えば、前記導通突起は、他方の
基板の画素電極に接触しない位置に形成されるので、導
通突起を覆う対向電極と画素電極とが導通することを防
ぐことができる。
According to the present invention, since the conductive protrusion is formed at a position on the other substrate which does not contact the pixel electrode, it is possible to prevent the opposing electrode covering the conductive protrusion from conducting to the pixel electrode.

【0020】また本発明は、2枚の基板の間に液晶が介
在される液晶表示装置において、一方の基板に複数の突
起が形成され、この上に対向電極が形成されることによ
って、2枚の基板の間隔を保持し、2枚の基板を電気的
に接続する導通突起が形成され、この導通突起が他方の
基板の画素電極に接触しないように、他方の基板の画素
電極がパターニングされることを特徴とする液晶表示装
置である。
According to the present invention, in a liquid crystal display device in which liquid crystal is interposed between two substrates, a plurality of projections are formed on one of the substrates, and a counter electrode is formed on the projections. A conductive projection is formed to maintain the distance between the substrates and electrically connect the two substrates, and the pixel electrode of the other substrate is patterned so that the conductive projection does not contact the pixel electrode of the other substrate. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.

【0021】本発明に従えば、他方の基板の画素電極
が、前記導通突起と接触しないように、パターニングさ
れるので、導通突起を覆う対向電極と画素電極とが導通
することを防ぐことができる。このため、導通突起の形
成できる範囲を広めることができ、導通突起によって2
枚の基板の間隔を均一に保持することができる。
According to the present invention, the pixel electrode on the other substrate is patterned so as not to come into contact with the conductive projection, so that conduction between the counter electrode covering the conductive projection and the pixel electrode can be prevented. . For this reason, the range in which the conductive projection can be formed can be widened, and the conductive projection can reduce
The distance between the substrates can be kept uniform.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、TFT(Thin Film Transi
stor)素子を有するカラー液晶表示装置を例に本発明の
実施の形態について説明する。前記液晶表示装置の多く
は、互いに対向するカラーフィルタ(CF)基板および
TFT基板を有し、各基板がシール材によって貼合わさ
れ、各基板の間に液晶が封入されて構成される。TFT
基板は、ガラスなどから成る透明基板上に、TFT素
子、ITO(インジウム錫酸化物)などから成る画素電
極および配向膜などがこの順に積層され構成される。一
方、CF基板は、ガラスなどから成る透明基板上に、カ
ラーフィルタ、保護膜、ITOなどから成る対向電極お
よび配向膜がこの順に積層され構成される。TFT基板
は、導電フィルムなどによって、液晶表示装置を駆動す
る回路基板に電気的に接続され、またCF基板の対向電
極は、TFT基板の配線の一部に電気的に接続されるこ
とによって、前記回路基板に電気的に接続される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a TFT (Thin Film Transi
An embodiment of the present invention will be described by taking a color liquid crystal display device having a (stor) element as an example. Many of the liquid crystal display devices have a color filter (CF) substrate and a TFT substrate facing each other, each substrate is bonded with a sealant, and liquid crystal is sealed between the substrates. TFT
The substrate is formed by laminating a TFT element, a pixel electrode made of ITO (indium tin oxide), an alignment film, and the like in this order on a transparent substrate made of glass or the like. On the other hand, the CF substrate is configured such that a color filter, a protective film, a counter electrode made of ITO and the like, and an alignment film are laminated in this order on a transparent substrate made of glass or the like. The TFT substrate is electrically connected to a circuit substrate for driving a liquid crystal display device by a conductive film or the like, and the counter electrode of the CF substrate is electrically connected to a part of the wiring of the TFT substrate. It is electrically connected to the circuit board.

【0023】図1は、導通突起12およびスペーサ13
を有する本発明による液晶表示装置を示す概略図であ
る。CF基板11には、高さの等しい複数の突起が所定
の位置に形成され、この上に対向電極が形成されること
によって、突起が対向電極で被覆される導通突起12と
突起が対向電極で被覆されないスペーサ13とが形成さ
れる。ここで、対向電極で覆われる導通突起12は、T
FT基板10の配線の一部に接する所定の位置に形成さ
れる。
FIG. 1 shows the conductive projections 12 and the spacers 13.
FIG. 2 is a schematic view showing a liquid crystal display device according to the present invention having the following. A plurality of protrusions having the same height are formed at predetermined positions on the CF substrate 11, and a counter electrode is formed thereon, so that the conductive protrusion 12 whose protrusion is covered with the counter electrode and the protrusion are formed by the counter electrode. An uncoated spacer 13 is formed. Here, the conductive protrusion 12 covered by the counter electrode is T
It is formed at a predetermined position in contact with a part of the wiring of the FT substrate 10.

【0024】導通突起12およびスペーサ13が形成さ
れるCF基板11とTFT基板10とを貼合わせると、
所定の高さを有する導通突起12およびスペーサ13に
よって両基板10,11間の間隔(セルギャップ)が一
定に保持される。
When the TFT substrate 10 is bonded to the CF substrate 11 on which the conductive protrusions 12 and the spacers 13 are formed,
The spacing (cell gap) between the substrates 10 and 11 is kept constant by the conductive protrusions 12 and the spacers 13 having a predetermined height.

【0025】また、対向電極で覆われる導通突起12
は、TFT基板10の配線の一部に接する所定の位置に
形成され、かつセルギャップを保持する所定の高さを有
するので、TFT基板10とCF基板11とを確実に電
気接続することができる。したがって、TFT基板10
に電気的に接続される図示されない回路基板と、CF基
板11の対向電極とを電気的に接続することができる。
なお、ここでスペーサ13は、対向電極で被覆されてい
ないので、TFT基板10の画素電極と接触しても導通
しない。また、TFT基板10およびCF基板11の配
向膜は、導通突起12が配置される位置を除いて形成さ
れるので、TFT基板10とCF基板11との電気接続
に影響しない。
Further, the conductive projection 12 covered with the counter electrode is provided.
Is formed at a predetermined position in contact with a part of the wiring of the TFT substrate 10 and has a predetermined height for maintaining a cell gap, so that the TFT substrate 10 and the CF substrate 11 can be reliably electrically connected. . Therefore, the TFT substrate 10
A circuit board (not shown) that is electrically connected to the counter electrode of the CF substrate 11 can be electrically connected to the circuit board.
Here, since the spacer 13 is not covered with the counter electrode, it does not conduct even when it comes into contact with the pixel electrode of the TFT substrate 10. Further, since the alignment films of the TFT substrate 10 and the CF substrate 11 are formed except for the positions where the conductive protrusions 12 are arranged, they do not affect the electrical connection between the TFT substrate 10 and the CF substrate 11.

【0026】次に、CF基板11の複数の突起の製造手
順について説明する。図2は、CF基板11の複数の突
起15の製造手順を示す断面図である。まず、図2の
(1)では、透明基板19上にカラーフィルタ層24が
形成され、その上に保護膜20が形成される基板17を
用意する。カラーフィルタ層24は、赤(R)、緑
(G)、青(B)のフィルタおよびその間に配置される
ブラックマスク(BK)を有する。次に、基板17の保
護膜20の上に、たとえば紫外線によって硬化するアク
リル系のネガレジスト樹脂を、スピンコート法などによ
って塗布して、所定の厚さの樹脂膜21を形成する。
Next, a procedure for manufacturing the plurality of protrusions of the CF substrate 11 will be described. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a procedure for manufacturing the plurality of protrusions 15 of the CF substrate 11. First, in FIG. 2A, a substrate 17 on which a color filter layer 24 is formed on a transparent substrate 19 and a protective film 20 is formed thereon is prepared. The color filter layer 24 has red (R), green (G), and blue (B) filters and a black mask (BK) disposed therebetween. Next, on the protective film 20 of the substrate 17, for example, an acrylic negative resist resin which is cured by ultraviolet rays is applied by a spin coating method or the like to form a resin film 21 having a predetermined thickness.

【0027】次に、図2の(2)に示すように、透明シ
ート25上にパターニングされたマスク部23を有する
マスク版22を、樹脂膜21の上方に位置を合わせて配
置する。マスク部23は、樹脂膜21の突起15と成る
複数の部分に紫外線が照射するようにパターニングされ
ている。次に、マスク版22の上方から紫外線を照射
し、樹脂膜21を露光する。
Next, as shown in FIG. 2B, a mask plate 22 having a mask portion 23 patterned on a transparent sheet 25 is arranged above the resin film 21 so as to be aligned. The mask portion 23 is patterned so that a plurality of portions of the resin film 21 serving as the protrusions 15 are irradiated with ultraviolet rays. Next, ultraviolet rays are irradiated from above the mask plate 22 to expose the resin film 21.

【0028】その後、アルカリ現像液で樹脂膜21の不
要な箇所を取除き、図2の(3)に示すように、複数の
突起15を形成する。ここで突起15の材料として、T
FT基板10およびCF基板11の製造工程で広く用い
られている感光性材料を用いることは、突起15を形成
するために、新たな設備を増設する必要がないなどのメ
リットがある。
Thereafter, unnecessary portions of the resin film 21 are removed with an alkali developing solution, and a plurality of projections 15 are formed as shown in FIG. Here, as the material of the projection 15, T
The use of a photosensitive material that is widely used in the manufacturing process of the FT substrate 10 and the CF substrate 11 has an advantage that it is not necessary to add new equipment to form the projection 15.

【0029】図3は、本発明の実施の一形態である液晶
表示装置1を示す断面図であり、図4は、液晶表示装置
1のTFT基板10を示す平面図である。液晶表示装置
1は、互いに対向するCF基板11およびTFT基板1
0を有し、各基板10,11はシール材41によって貼
合わされ、各基板10,11の間には液晶14が封入さ
れる。
FIG. 3 is a sectional view showing a liquid crystal display device 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a plan view showing a TFT substrate 10 of the liquid crystal display device 1. The liquid crystal display device 1 includes a CF substrate 11 and a TFT substrate 1 facing each other.
The substrates 10 and 11 are bonded together by a sealing material 41, and a liquid crystal 14 is sealed between the substrates 10 and 11.

【0030】TFT基板10は、ガラスなどから成る透
明基板18上に、TFT素子34、ソースバスライン3
0、ゲートバスライン31、コモンバスライン32、補
助容量35、およびITO(インジウム錫酸化物)から
成る画素電極36などが形成され、その上に図示されな
い配向膜が積層され構成される。TFT基板10は、補
助容量35がコモンバスライン32の上にあり、補助容
量35にコモンバスライン32と同じ信号を入力して駆
動するCs on Commonの構造を有する。補助容量35は、
液晶比抵抗の影響を緩和し、液晶14の駆動を安定化さ
せるために有効であり、また液晶表示装置1の光を点滅
したときに目に感じるちらつき、いわゆるフリッカ現象
を抑える役割を果す。なお、ソースバスライン30およ
びゲートバスライン31は格子状に配置され、画素電極
36およびTFT素子34はその升目の中に配置され
る。
The TFT substrate 10 includes a TFT element 34 and a source bus line 3 on a transparent substrate 18 made of glass or the like.
0, a gate bus line 31, a common bus line 32, a storage capacitor 35, a pixel electrode 36 made of ITO (indium tin oxide), and the like, and an alignment film (not shown) is laminated thereon. The TFT substrate 10 has a Cs on Common structure in which the auxiliary capacitance 35 is provided on the common bus line 32 and the same signal as the common bus line 32 is input to the auxiliary capacitance 35 and driven. The auxiliary capacity 35 is
It is effective for reducing the influence of the liquid crystal specific resistance and stabilizing the driving of the liquid crystal 14, and also has a role of suppressing the so-called flicker phenomenon which is perceived when the light of the liquid crystal display device 1 blinks. Note that the source bus lines 30 and the gate bus lines 31 are arranged in a lattice, and the pixel electrodes 36 and the TFT elements 34 are arranged in the cells.

【0031】一方、CF基板11は、透明基板上にカラ
ーフィルタ層および保護膜が形成される基板17上に、
形状の異なる2種類の樹脂製の突起50,51が形成さ
れ、その上にITOから成る対向電極40および図示さ
れない配向膜が積層され構成される。樹脂製の突起5
0,51は、高さが等しい突起であり、一方の突起51
は柱状で側面が基板17に対してほぼ垂直であり、他方
の突起50は山形で側面の傾斜が突起51の側面の傾斜
に比べてなだらかである。
On the other hand, the CF substrate 11 is provided on a substrate 17 on which a color filter layer and a protective film are formed on a transparent substrate.
Two types of resin protrusions 50 and 51 having different shapes are formed, and a counter electrode 40 made of ITO and an alignment film (not shown) are laminated thereon. Resin protrusion 5
Numerals 0 and 51 are projections having the same height.
Has a columnar shape, the side surface of which is substantially perpendicular to the substrate 17, and the other protrusion 50 has a chevron shape, the inclination of the side surface being gentler than the inclination of the side surface of the protrusion 51.

【0032】前記側面の傾斜がなだらかな樹脂製の突起
50上に対向電極40が形成されることによって、対向
電極40で被覆される導通突起42が形成される。導通
突起42では、樹脂製の突起50の側面の傾斜がなだら
かであるので、対向電極40によって突起50の側面お
よび上面が完全に覆われ、突起50の頂部から底部にわ
たって電気的に接続される。
By forming the opposing electrode 40 on the resin protrusion 50 having a gentle slope on the side surface, a conductive protrusion 42 covered with the opposing electrode 40 is formed. In the conductive protrusion 42, the side surface and the upper surface of the protrusion 50 are completely covered by the opposing electrode 40 since the side surface of the resin protrusion 50 is gentle, and the protrusion 50 is electrically connected from the top to the bottom.

【0033】一方、前記側面が基板17に対して垂直な
樹脂製の突起51上に対向電極40が形成されることに
よって、頂部および底部が導通しないスペーサ43が形
成される。スペーサ43では、樹脂製の突起51の側面
の傾斜が急であるので、対向電極40によって突起51
の上面のみに電極膜44が形成され、側面が対向電極4
0で覆われず、突起51の頂部と底部との電気接続が遮
断される。
On the other hand, by forming the opposing electrode 40 on the resin protrusion 51 whose side surface is perpendicular to the substrate 17, a spacer 43 is formed in which the top and bottom are not conductive. In the spacer 43, the inclination of the side surface of the resin-made protrusion 51 is steep.
The electrode film 44 is formed only on the upper surface of the
0, the electrical connection between the top and bottom of the protrusion 51 is cut off.

【0034】導通突起42は、基板10,11を貼合わ
せた時にTFT基板10のコモンバスライン32を束ね
た位置33に接触する位置に設けられ、スペーサ43
は、表示エリア内の所定の位置に設けられる。導通突起
42およびスペーサ43が形成されるCF基板11とT
FT基板10とを貼合わせると、所定の高さを有する導
通突起42およびスペーサ43によって両基板10,1
1間のセルギャップが一定に保持される。
The conductive projection 42 is provided at a position in contact with the position 33 where the common bus lines 32 of the TFT substrate 10 are bundled when the substrates 10 and 11 are bonded to each other.
Is provided at a predetermined position in the display area. The CF substrate 11 on which the conductive protrusions 42 and the spacers 43 are formed and T
When the FT substrate 10 is bonded to the FT substrate 10, the conductive protrusions 42 and the spacer 43 having a predetermined height allow the two substrates 10, 1
1 is kept constant.

【0035】また、対向電極40で覆われる導通突起4
2は、TFT基板10のコモンバスライン32を束ねた
位置33に対向する位置に形成され、かつセルギャップ
を保持する所定の高さを有するので、対向電極40とコ
モンバスライン32とを確実に電気接続することができ
る。これによって、対向電極40の電位をコモンバスラ
イン32の電位と等しくすることができる。一方、スペ
ーサ43は頂部および底部が電気接続されていないの
で、TFT基板10の画素電極36と接触しても導通し
ない。また、TFT基板10およびCF基板11の図示
されない配向膜は、導通突起42が配置される位置を除
いて形成されるので、TFT基板10とCF基板11と
の電気接続に影響しない。
The conductive projection 4 covered with the counter electrode 40
2 is formed at a position opposite to the position 33 where the common bus lines 32 of the TFT substrate 10 are bundled, and has a predetermined height for maintaining a cell gap, so that the counter electrode 40 and the common bus line 32 can be securely connected. Can be electrically connected. Thereby, the potential of the counter electrode 40 can be made equal to the potential of the common bus line 32. On the other hand, since the top and bottom of the spacer 43 are not electrically connected, the spacer 43 does not conduct even when it comes into contact with the pixel electrode 36 of the TFT substrate 10. In addition, since the alignment films (not shown) of the TFT substrate 10 and the CF substrate 11 are formed except for the positions where the conductive protrusions 42 are arranged, they do not affect the electrical connection between the TFT substrate 10 and the CF substrate 11.

【0036】次に、導通突起42およびスペーサ43の
製造手順について説明する。図5は、導通突起42およ
びスペーサ43の製造手順を示す断面図である。まず、
図5の(1)に示すように、基板17上に形状の異なる
2種類の突起50,51を同時に形成する。図2に示す
ように感光性材料にて突起50,51を形成する場合に
は、露光量を変えることによって、一枚の基板17上に
形状の異なる2種類の突起50,51を同時に形成する
ことができる。つまり、樹脂膜に充分な露光量が照射さ
れる場合には、テーパ角θ2がほぼ90゜で側面の傾斜
が急な突起51が形成され、一方、露光量が少ない場合
には、テーパ角θ1がテーパ角θ2より小さく側面の傾斜
がなだらかな突起50が形成される。
Next, a procedure for manufacturing the conductive projection 42 and the spacer 43 will be described. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a procedure for manufacturing the conductive protrusion 42 and the spacer 43. First,
As shown in FIG. 5A, two types of protrusions 50 and 51 having different shapes are simultaneously formed on the substrate 17. As shown in FIG. 2, when the projections 50 and 51 are formed of a photosensitive material, two types of projections 50 and 51 having different shapes are simultaneously formed on one substrate 17 by changing the exposure amount. be able to. That is, when the resin film is irradiated with a sufficient exposure amount, the protrusion 51 having a taper angle θ 2 of approximately 90 ° and a steeply inclined side surface is formed. theta 1 is inclined gentle projections 50 of the smaller side than the taper angle theta 2 is formed.

【0037】次に図5の(2)に示すように、樹脂製の
突起50,51が形成される基板17上に電極材料を一
様にスパッタリングまたは蒸着すると、突起51は側面
の傾斜が急であるので、上面のみに電極膜44が形成さ
れ側面が対向電極によって被覆されないスペーサ44が
形成される。一方、突起50は側面の傾斜がなだらかな
ので、対向電極40によって完全に被覆されて導通突起
42が形成される。このように、図5に示す製造手順で
は、導通突起42およびスペーサ44を、同時にしかも
対向電極40をパターニングすることなく形成すること
ができる。
Next, as shown in FIG. 5B, when the electrode material is uniformly sputtered or vapor-deposited on the substrate 17 on which the resin protrusions 50 and 51 are formed, the protrusions 51 have a steep side surface. Therefore, the spacer film 44 is formed only on the upper surface and the side surface is not covered with the counter electrode. On the other hand, since the projection 50 has a gentle slope on the side, the projection 50 is completely covered with the counter electrode 40 to form the conductive projection 42. As described above, in the manufacturing procedure shown in FIG. 5, the conductive projections 42 and the spacers 44 can be formed simultaneously and without patterning the counter electrode 40.

【0038】図6は、突起50,51の配置位置を示す
平面図である。図6に示すように、表示エリア外のCF
基板11の周辺部11aにテーパ角θ1の小さい突起5
0を形成し、表示エリア内のCF基板11の中央部11
bにテーパ角θ2の大きい突起51を形成する。
FIG. 6 is a plan view showing the arrangement positions of the projections 50 and 51. FIG. As shown in FIG. 6, CF outside the display area
A projection 5 having a small taper angle θ 1 is formed on a peripheral portion 11 a of the substrate 11.
0, and the central portion 11 of the CF substrate 11 in the display area
b to form a larger projection 51 of the taper angle theta 2.

【0039】前述したように突起50,51を感光性樹
脂によって形成するのであれば、周辺部11aに突起5
0を形成し、中央部11bに突起51を形成することは
容易に達成することができる。このように突起50,5
1を形成することによって、導通突起42およびスペー
サ43をそれぞれ配置すべき所定の位置に形成すること
ができる。なお図6において、TFT基板10がCF基
板11よりも大きいのは、TFT基板10の周辺部に端
子部10aが形成されているからである。
If the protrusions 50 and 51 are formed of a photosensitive resin as described above, the protrusions 5 are formed on the peripheral portion 11a.
Forming 0 and forming the projection 51 on the central portion 11b can be easily achieved. Thus, the projections 50 and 5
By forming 1, the conductive protrusions 42 and the spacers 43 can be formed at predetermined positions to be arranged respectively. In FIG. 6, the reason why the TFT substrate 10 is larger than the CF substrate 11 is that the terminal portion 10a is formed around the TFT substrate 10.

【0040】図7は、本発明の実施の他の形態である液
晶表示装置2を示す断面図である。液晶表示装置2にお
いて、液晶表示装置1と同様に構成される箇所について
は、同じ符号を用い説明を省略する。
FIG. 7 is a sectional view showing a liquid crystal display device 2 according to another embodiment of the present invention. In the liquid crystal display device 2, the same components as those of the liquid crystal display device 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0041】液晶表示装置1では、CF基板11の基板
17上に、樹脂製の突起50,51が2種類形成される
が、液晶表示装置2ではテーパ角θ1が小さく側面の傾
斜がなだらかな複数の樹脂製の突起50が1種類のみ形
成される。また、対向電極40はパターニングによって
一部の樹脂製の突起50を除いて形成される。こうする
ことによって、液晶表示装置2のCF基板11には、対
向電極40で被覆される導通突起42と対向電極40で
被覆されないスペーサ52とが形成される。
In the liquid crystal display device 1, two types of resin projections 50 and 51 are formed on the substrate 17 of the CF substrate 11, but in the liquid crystal display device 2, the taper angle θ 1 is small and the inclination of the side surface is gentle. Only one type of the plurality of resin protrusions 50 is formed. The opposing electrode 40 is formed by patterning except for some of the resin protrusions 50. By doing so, conductive protrusions 42 covered with the counter electrode 40 and spacers 52 not covered with the counter electrode 40 are formed on the CF substrate 11 of the liquid crystal display device 2.

【0042】スペーサ52は、表示エリア内に設けられ
るが、対向電極40で覆われていなので、TFT基板1
0の画素電極36と接触しても、画素電極36と対向電
極40とが導通しない。一方、対向電極40で被覆され
る導通突起42は、液晶表示装置1と同様に基板10,
11を貼合わせた時にTFT基板10のコモンバスライ
ン32を束ねた位置33に接触する位置に設けられる。
このため、基板10,11を貼合わせると、導通突起4
2によって対向電極40とコモンバスライン32とが電
気的に接続される。
The spacer 52 is provided in the display area, but is covered with the counter electrode 40.
Even when the pixel electrode 36 contacts the zero pixel electrode 36, the pixel electrode 36 and the counter electrode 40 do not conduct. On the other hand, the conductive protrusions 42 covered with the counter electrode 40 are provided on
11 is provided at a position in contact with a position 33 where the common bus lines 32 of the TFT substrate 10 are bundled when the substrates 11 are bonded.
Therefore, when the substrates 10 and 11 are bonded together, the conductive protrusions 4
2, the counter electrode 40 and the common bus line 32 are electrically connected.

【0043】前述の液晶表示装置1では、2種類の樹脂
製の突起50,51を形成する必要があるが、本実施の
形態では、テーパ角θ1が小さく側面の傾斜がなだらか
な1種類の突起50から導通突起42とスペーサ52と
を形成することができる。ただし本実施の形態では、C
F基板11の作成時に、対向電極40をパターニングす
る工程を追加する必要がある。
In the liquid crystal display device 1 described above, it is necessary to form two types of resin projections 50 and 51. In the present embodiment, however, one type of taper angle θ 1 is small and the side surface is gentle. The conductive protrusion 42 and the spacer 52 can be formed from the protrusion 50. However, in the present embodiment, C
When forming the F substrate 11, it is necessary to add a step of patterning the counter electrode 40.

【0044】なお、TFT基板10のように、補助容量
35にコモンバスライン32と同じ信号を入力して装置
を駆動する方式では、コモンバスライン32上のどの位
置で接続しても対向電極40とコモンバスライン32と
の導通を得ることができる。
In the method of driving the device by inputting the same signal as that of the common bus line 32 to the auxiliary capacitor 35 as in the case of the TFT substrate 10, no matter where the connection is made on the common bus line 32, the opposing electrode 40 is connected. And the common bus line 32 can be electrically connected.

【0045】図8は、本発明の実施のさらに他の形態で
ある液晶表示装置3を示す断面図であり、図9は、液晶
表示装置3のTFT基板10を示す平面図である。液晶
表示装置3において、液晶表示装置1と同様に構成され
る箇所については、同じ符号を用い説明を省略する。
FIG. 8 is a sectional view showing a liquid crystal display device 3 according to still another embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a plan view showing a TFT substrate 10 of the liquid crystal display device 3. In the liquid crystal display device 3, the same components as those of the liquid crystal display device 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0046】液晶表示装置1および液晶表示装置2で
は、表示エリア外のコモンバスライン32が束ねられる
位置33に対向する位置に導通突起42が形成される
が、液晶表示装置3では、表示エリア内に導通突起42
が形成される。液晶表示装置3の導通突起42は、基板
10,11を貼合わせた時に、TFT基板10のコモン
バスライン32上の位置60に接触する箇所に形成され
る。また、TFT基板10の画素電極36は、位置60
の部分がパターニングによって除去される。このため、
基板10,11を貼合わせると、画素電極36と対向電
極40とを導通させることなく、導通突起42とコモン
バスライン32とを接触させることができ、対向電極4
0とコモンバスライン32とを電気的に接続することが
できる。
In the liquid crystal display device 1 and the liquid crystal display device 2, the conductive protrusion 42 is formed at a position outside the display area opposite to the position 33 where the common bus lines 32 are bundled. Conductive protrusion 42
Is formed. The conductive projection 42 of the liquid crystal display device 3 is formed at a position that contacts the position 60 on the common bus line 32 of the TFT substrate 10 when the substrates 10 and 11 are bonded. Further, the pixel electrode 36 of the TFT substrate 10 is
Are removed by patterning. For this reason,
When the substrates 10 and 11 are attached to each other, the conductive protrusion 42 and the common bus line 32 can be brought into contact with each other without conducting the pixel electrode 36 and the opposing electrode 40.
0 and the common bus line 32 can be electrically connected.

【0047】また、導通突起42は、所定の高さを有
し、表示エリア内に配置することができるので、基板1
0,11の間隔を一定に保持することができる。したが
って、液晶表示装置3では、液晶表示装置1のようにテ
ーパ角θ2の大きい突起51を形成してスペーサ43を
形成したり、液晶表示装置2のように対向電極40をパ
ターニングしてスペーサ52を形成する必要がない。ま
た、液晶表示装置3では、CF基板11の導通突起42
が表示エリア内でTFT基板10のコモンバスライン3
2と接触するので、TFT基板10の表示エリア外のコ
モンバスライン32を結合するパターンが不要となり、
TFT基板10の額縁面積を小さくすることが可能であ
る。
The conductive projections 42 have a predetermined height and can be arranged in the display area.
The interval between 0 and 11 can be kept constant. Therefore, in the liquid crystal display device 3, or to form a spacer 43 to form a larger projection 51 of the taper angle theta 2 to the liquid crystal display device 1, by patterning the counter electrode 40 as the liquid crystal display device 2 spacer 52 Need not be formed. In the liquid crystal display device 3, the conductive protrusions 42 of the CF substrate 11 are provided.
Is the common bus line 3 of the TFT substrate 10 in the display area.
2, the pattern for connecting the common bus line 32 outside the display area of the TFT substrate 10 becomes unnecessary,
The frame area of the TFT substrate 10 can be reduced.

【0048】次に、TFT基板のTFT素子と画素電極
との間に、有機材料の層間絶縁膜が配置され、画素電極
がバスライン上まで形成される高開口率の液晶表示装置
に本発明を適用した場合について説明する。図10は、
本発明の実施のさらに他の形態である液晶表示装置4を
示す断面図であり、図11は、液晶表示装置4のTFT
基板80を示す平面図である。液晶表示装置4におい
て、液晶表示装置1と同様に構成される箇所について
は、同じ符号を用い説明を省略する。液晶表示装置4
は、互いに対向するCF基板11およびTFT基板80
を有し、各基板80,11はシール材によって貼合わさ
れ、各基板80,11の間には液晶14が封入される。
Next, the present invention is applied to a high aperture ratio liquid crystal display device in which an interlayer insulating film made of an organic material is disposed between a TFT element and a pixel electrode on a TFT substrate, and the pixel electrode is formed up to a bus line. The case where the method is applied will be described. FIG.
FIG. 11 is a sectional view showing a liquid crystal display device 4 according to still another embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a substrate 80. In the liquid crystal display device 4, the same components as those of the liquid crystal display device 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. Liquid crystal display 4
Are the CF substrate 11 and the TFT substrate 80 facing each other.
The substrates 80 and 11 are bonded together with a sealing material, and the liquid crystal 14 is sealed between the substrates 80 and 11.

【0049】TFT基板80は、透明基板18上に、T
FT素子34、ソースバスライン30、ゲートバスライ
ン31およびコモンバスライン32が形成され、この上
に有機材料から成る層間絶縁膜70、画素電極71およ
び図示されない配向膜がこの順に積層され構成される。
画素電極71は、層間絶縁膜70に形成されるコンタク
トホール72によって、TFT素子34のドレイン電極
と電気的に接続される。TFT基板80では、層間絶縁
膜70によってTFT素子34およびバスライン30,
31,32が覆われるので、画素電極71をバスライン
30,31,32上まで形成することができ、これによ
って開口率が上昇する。なお、液晶表示装置4のような
高開口率の液晶表示装置に関する詳細は、特開平09−
292626号公報などに記載される。
The TFT substrate 80 has a transparent substrate 18 on which a TFT
An FT element 34, a source bus line 30, a gate bus line 31, and a common bus line 32 are formed, on which an interlayer insulating film 70 made of an organic material, a pixel electrode 71, and an alignment film (not shown) are laminated in this order. .
The pixel electrode 71 is electrically connected to a drain electrode of the TFT element 34 by a contact hole 72 formed in the interlayer insulating film 70. In the TFT substrate 80, the TFT element 34 and the bus line 30,
Since the pixels 31 and 32 are covered, the pixel electrodes 71 can be formed up to the bus lines 30, 31, and 32, thereby increasing the aperture ratio. The details of the liquid crystal display device having a high aperture ratio such as the liquid crystal display device 4 are described in
No. 292,626.

【0050】このように構成されるTFT基板80に対
向するCF基板11には、対向電極40によって被覆さ
れる複数の導通突起42が形成される。導通突起42
は、表示エリア外のTFT基板80上のコモンバスライ
ン32を束ねた位置33に対向する位置、および表示エ
リア内のTFT基板80のソースバスライン30および
ゲートバスライン31が交差する位置73に対向する位
置に形成される。
On the CF substrate 11 facing the TFT substrate 80 thus configured, a plurality of conductive projections 42 covered by the counter electrode 40 are formed. Conduction projection 42
Are opposed to a position 33 on the TFT substrate 80 outside the display area where the common bus lines 32 are bundled and a position 73 where the source bus line 30 and the gate bus line 31 of the TFT substrate 80 intersect in the display area. Formed at the position where

【0051】TFT基板80のコモンバスライン32を
束ねた位置33では、層間絶縁膜70および画素電極7
1が形成されないので、導通突起42とコモンバスライ
ン32とを接触させることができ、対向電極40とコモ
ンバスライン32とを電気接続することができる。ま
た、TFT基板80の表示エリア内の画素電極71は、
CF基板11の導通突起42と導通しないように、導通
突起42に対向する部分が図11の位置73に示すよう
にパターニングによって除去されている。このため、表
示エリア内の導通突起42は、基板を貼合わせた際にT
FT基板80の層間絶縁膜70と接触し、セルギャップ
を保持するスペーサとして機能する。したがって、液晶
表示装置4では、液晶表示装置1のようにテーパ角θ2
の大きい突起51を形成してスペーサ43を形成した
り、液晶表示装置2のように対向電極40をパターニン
グしてスペーサ52を形成する必要がない。
At the position 33 where the common bus lines 32 of the TFT substrate 80 are bundled, the interlayer insulating film 70 and the pixel electrode 7
Since 1 is not formed, the conductive protrusion 42 and the common bus line 32 can be brought into contact, and the counter electrode 40 and the common bus line 32 can be electrically connected. The pixel electrode 71 in the display area of the TFT substrate 80 is
The portion facing the conductive protrusion 42 is removed by patterning as shown at a position 73 in FIG. 11 so as not to be conductive with the conductive protrusion 42 of the CF substrate 11. For this reason, the conductive protrusion 42 in the display area has a T
It contacts the interlayer insulating film 70 of the FT substrate 80 and functions as a spacer for maintaining a cell gap. Therefore, in the liquid crystal display device 4, as in the liquid crystal display device 1, the taper angle θ 2
It is not necessary to form the spacer 43 by forming the projection 51 having a large size, or to form the spacer 52 by patterning the counter electrode 40 unlike the liquid crystal display device 2.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、配向膜お
よび対向電極形成前の一方の基板に突起を設け、この上
に対向電極を形成することによって、2枚の基板の間隔
を保つスペーサと、2枚の基板を電気的に接続する導通
突起とを形成するので、従来の導電性ペーストの塗布と
スペーサ散布の工程とを同時に行うことができ、製造コ
ストを低減できる。また、配向膜を形成する前に、導通
突起およびスペーサを形成するので、基板に異物が付着
することを防止することができ、歩留まりが向上する。
As described above, according to the present invention, a projection is provided on one of the substrates before the formation of the alignment film and the counter electrode, and the counter electrode is formed thereon to maintain the interval between the two substrates. Since the spacers and the conductive projections for electrically connecting the two substrates are formed, the conventional process of applying the conductive paste and dispersing the spacers can be performed simultaneously, and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since the conductive protrusions and the spacers are formed before forming the alignment film, foreign substances can be prevented from adhering to the substrate, and the yield is improved.

【0053】また、従来導電性ペーストによって行われ
る2枚の基板の電気的接続を、本発明では前記導通突起
によって行うので、基板間を確実に導通させることがで
き、導通不良を防ぐことができる。また、本発明の導通
突起は、従来の導電性ペーストと違って所定の形状に形
成することができるので、電気抵抗値の違いまたは基板
間隔のむらによる表示品位の低下を防ぐことができる。
さらに、本発明のスペーサは、所定の位置に容易に形成
することができるので、基板間隔のむらを防ぐことがで
き、表示品位の低下を防ぐことができる。
Further, in the present invention, the electrical connection between the two substrates made by the conductive paste is made by the conductive projections according to the present invention, so that the electrical connection between the substrates can be made surely and the poor connection can be prevented. . Further, since the conductive projection of the present invention can be formed in a predetermined shape, unlike the conventional conductive paste, it is possible to prevent a decrease in display quality due to a difference in electric resistance value or unevenness in substrate spacing.
Further, since the spacer of the present invention can be easily formed at a predetermined position, it is possible to prevent unevenness in the interval between the substrates and to prevent deterioration in display quality.

【0054】また本発明によれば、導通突起は、突起の
側面の傾斜がなだらかであるので、側面が対向電極で完
全に覆われ、頂部から底部にわたって確実に電気接続さ
れる。このため、2枚の基板の導通不良を防ぐことがで
きる。
Further, according to the present invention, the conductive projection has a gentle slope on the side face, so that the side face is completely covered with the counter electrode, and the electrical connection is reliably made from the top to the bottom. For this reason, conduction failure between the two substrates can be prevented.

【0055】また本発明によれば、スペーサは、突起の
側面の傾斜が急であるので、対向電極を基板上に一様に
形成しても、側面には対向電極が形成されないず、頂部
と底部との電気的接続が遮断される。このため、スペー
サが他方の基板の画素電極に接触しても、対向電極と画
素電極とは導通しない。したがって、本発明では対向電
極をパターニングする工程を省略することができる。
Further, according to the present invention, since the spacer has a steep side surface of the protrusion, even if the counter electrode is formed uniformly on the substrate, the counter electrode is not formed on the side surface, and the top and bottom are not formed. The electrical connection with the bottom is interrupted. For this reason, even if the spacer contacts the pixel electrode on the other substrate, the counter electrode and the pixel electrode do not conduct. Therefore, in the present invention, the step of patterning the counter electrode can be omitted.

【0056】また本発明によれば、前記スペーサ上に対
向電極が形成されないように、対向電極がパターニング
されて形成されるので、スペーサと画素電極とが接触し
ても、画素電極と対向電極とは導通しない。
Further, according to the present invention, the counter electrode is formed by patterning so that the counter electrode is not formed on the spacer. Does not conduct.

【0057】また本発明によれば、前記導通突起は、他
方の基板の画素電極に接触しない位置に形成されるの
で、画素電極と導通突起を覆う対向電極とが導通するこ
とを防ぐことができる。
Further, according to the present invention, since the conductive protrusion is formed at a position on the other substrate which does not contact the pixel electrode, it is possible to prevent the pixel electrode from conducting to the opposing electrode covering the conductive protrusion. .

【0058】また本発明によれば、前記導通突起が画素
電極に接触しないように、他方の基板の画素電極がパタ
ーニングされるので、画素電極と導通突起を覆う対向電
極とが導通することを防ぐことができる。このため、導
通突起の形成できる範囲を広めることができ、導通突起
によって基板間隔を均一に保持することができる。
Further, according to the present invention, the pixel electrode on the other substrate is patterned so that the conductive protrusion does not contact the pixel electrode, thereby preventing the pixel electrode from conducting to the opposing electrode covering the conductive protrusion. be able to. For this reason, the range in which the conductive protrusion can be formed can be widened, and the conductive protrusion can maintain a uniform substrate interval.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】導通突起12およびスペーサ13を有する本発
明の液晶表示装置を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a liquid crystal display device of the present invention having a conductive protrusion 12 and a spacer 13. FIG.

【図2】CF基板11の突起15の製造手順を示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a procedure for manufacturing a projection 15 of the CF substrate 11.

【図3】本発明の実施の一形態である液晶表示装置1を
示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a liquid crystal display device 1 according to an embodiment of the present invention.

【図4】液晶表示装置1のTFT基板10を示す平面図
である。
FIG. 4 is a plan view showing a TFT substrate 10 of the liquid crystal display device 1.

【図5】導通突起42およびスペーサ43の製造手順を
示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a procedure for manufacturing the conductive protrusion 42 and the spacer 43.

【図6】突起50,51の配置位置を示す平面図であ
る。
FIG. 6 is a plan view showing an arrangement position of protrusions 50 and 51.

【図7】本発明の実施の他の形態である液晶表示装置2
を示す断面図である。
FIG. 7 is a liquid crystal display device 2 according to another embodiment of the present invention.
FIG.

【図8】本発明の実施のさらに他の形態である液晶表示
装置3を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a liquid crystal display device 3 according to still another embodiment of the present invention.

【図9】液晶表示装置3のTFT基板10を示す平面図
である。
FIG. 9 is a plan view showing a TFT substrate 10 of the liquid crystal display device 3.

【図10】本発明の実施のさらに他の形態である液晶表
示装置4を示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a liquid crystal display device 4 according to still another embodiment of the present invention.

【図11】液晶表示装置4のTFT基板80を示す平面
図である。
FIG. 11 is a plan view showing a TFT substrate 80 of the liquid crystal display device 4.

【図12】従来の液晶表示装置の製造手順を示すフロー
チャートである。
FIG. 12 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3,4 液晶表示装置 10,80 TFT基板 11 CF基板 12,42 導通突起 13,43,52 スペーサ 14 液晶 15,50,51 樹脂製の突起 17 基板 18,19 透明基板 20 保護膜 21 レジスト 22 マスク版 23 マスク 24 カラーフィルタ層 30 ソースバスライン 31 ゲートバスライン 32 コモンバスライン 34 TFT素子 35 補助容量 36,71 画素電極 40 対向電極 41 シール剤 70 層間絶縁膜 72 コンタクトホール 1, 2, 3, 4 Liquid crystal display device 10, 80 TFT substrate 11 CF substrate 12, 42 Conduction protrusion 13, 43, 52 Spacer 14 Liquid crystal 15, 50, 51 Resin protrusion 17 Substrate 18, 19 Transparent substrate 20 Protective film Reference Signs List 21 resist 22 mask plate 23 mask 24 color filter layer 30 source bus line 31 gate bus line 32 common bus line 34 TFT element 35 auxiliary capacitance 36, 71 pixel electrode 40 counter electrode 41 sealant 70 interlayer insulating film 72 contact hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 和歌 伸浩 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 鳥海 幸一 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 西村 英一郎 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 中村 恒夫 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA10 LA12 MA03X NA14 QA14 QA16 TA02 TA09 2H092 JA24 JB01 JB13 NA01 NA27 NA29 PA03 PA08 PA09 5C094 AA04 AA42 AA43 AA44 BA03 BA44 CA19 DB05 EA02 EA04 EA07 EC03 FB12 HA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Waka Nobuhiro 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka, Osaka Inside Sharp Corporation (72) Inventor Koichi Tori 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka, Osaka Sharp (72) Inventor Eiichiro Nishimura 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Japan Sharp Corporation (72) Inventor Tsuneo Nakamura 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Sharp Corporation F Terms (reference) 2H089 LA10 LA12 MA03X NA14 QA14 QA16 TA02 TA09 2H092 JA24 JB01 JB13 NA01 NA27 NA29 PA03 PA08 PA09 5C094 AA04 AA42 AA43 AA44 BA03 BA44 CA19 DB05 EA02 EA04 EA07 EC03 FB12 HA08

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2枚の基板の間に液晶が介在される液晶
表示装置において、 一方の基板に複数の突起が形成され、この上に対向電極
が形成されることによって、2枚の基板の間隔を保持す
るスペーサと、2枚の基板を電気的に接続する導通突起
とが形成されることを特徴とする液晶表示装置。
In a liquid crystal display device in which liquid crystal is interposed between two substrates, a plurality of projections are formed on one of the substrates, and a counter electrode is formed on the projections. A liquid crystal display device comprising a spacer for maintaining a gap and a conductive projection for electrically connecting two substrates.
【請求項2】 前記導通突起は、側面の傾斜がなだらか
な突起上に対向電極が形成されることによって、突起の
頂部から底部にわたって電気的に接続されて形成される
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
2. The conductive projection is formed by forming an opposing electrode on a projection having a gentle slope on a side surface so as to be electrically connected from the top to the bottom of the projection. 2. The liquid crystal display device according to 1.
【請求項3】 前記スペーサは、側面の傾斜が急な突起
上に対向電極が形成されることによって、突起の頂部と
底部との電気的接続が遮断されて形成されることを特徴
とする請求項1または2記載の液晶表示装置。
3. The spacer according to claim 1, wherein the spacer is formed by forming an opposing electrode on a protrusion having a steeply inclined side surface, so that an electrical connection between a top and a bottom of the protrusion is cut off. Item 3. The liquid crystal display device according to item 1 or 2.
【請求項4】 対向電極がパターニングされて形成され
ることによって、対向電極で被覆される導通突起と対向
電極で被覆されないスペーサとが形成されることを特徴
とする請求項1または2記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal according to claim 1, wherein the opposing electrode is formed by patterning to form a conductive projection covered by the opposing electrode and a spacer not covered by the opposing electrode. Display device.
【請求項5】 前記導通突起は、他方の基板の画素電極
に接触しない位置に形成されることを特徴とする請求項
1〜4のいずれかに記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the conductive protrusion is formed at a position on the other substrate that does not contact the pixel electrode.
【請求項6】 2枚の基板の間に液晶が介在される液晶
表示装置において、 一方の基板に複数の突起が形成され、この上に対向電極
が形成されることによって、2枚の基板の間隔を保持
し、2枚の基板を電気的に接続する導通突起が形成さ
れ、この導通突起が他方の基板の画素電極に接触しない
ように、他方の基板の画素電極がパターニングされるこ
とを特徴とする液晶表示装置。
6. In a liquid crystal display device in which liquid crystal is interposed between two substrates, a plurality of protrusions are formed on one of the substrates, and a counter electrode is formed on the plurality of protrusions. Conductive projections are formed to maintain the gap and electrically connect the two substrates, and the pixel electrodes of the other substrate are patterned so that the conductive projections do not contact the pixel electrodes of the other substrate. Liquid crystal display device.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030073068A (en) * 2002-03-08 2003-09-19 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 Liquid crystal display device and method of manufacturing thereof
KR100672651B1 (en) 2004-02-25 2007-01-24 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Liquid Crystal Display Device and method for manufacturing the same
US7777858B2 (en) 2003-05-15 2010-08-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display apparatus and method of forming the same
KR101146536B1 (en) * 2005-06-27 2012-05-25 삼성전자주식회사 Display panel, method of manufacturing the same and display device having the same
JP2012155549A (en) * 2011-01-26 2012-08-16 Japan Display East Co Ltd Touch screen, display device with touch screen and manufacturing method therefor
WO2013078697A1 (en) * 2011-11-29 2013-06-06 深圳市华星光电技术有限公司 Method for manufacturing color filter substrate, liquid crystal panel, and liquid crystal display device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030073068A (en) * 2002-03-08 2003-09-19 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 Liquid crystal display device and method of manufacturing thereof
US7777858B2 (en) 2003-05-15 2010-08-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display apparatus and method of forming the same
KR100672651B1 (en) 2004-02-25 2007-01-24 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Liquid Crystal Display Device and method for manufacturing the same
KR101146536B1 (en) * 2005-06-27 2012-05-25 삼성전자주식회사 Display panel, method of manufacturing the same and display device having the same
JP2012155549A (en) * 2011-01-26 2012-08-16 Japan Display East Co Ltd Touch screen, display device with touch screen and manufacturing method therefor
WO2013078697A1 (en) * 2011-11-29 2013-06-06 深圳市华星光电技术有限公司 Method for manufacturing color filter substrate, liquid crystal panel, and liquid crystal display device

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