JP2008182087A - 配線形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】液滴吐出法に基づいて、基板に形成された孔にビア配線を良好に形成できる配線形成方法を提供する。
【解決手段】機能液の液滴で基板に配線を形成する方法は、基板に孔を形成し、機能液を受容可能な受容膜にて孔の内面を形成し、受容膜にて内面が形成された孔に液滴を供給する。
【選択図】図1
【解決手段】機能液の液滴で基板に配線を形成する方法は、基板に孔を形成し、機能液を受容可能な受容膜にて孔の内面を形成し、受容膜にて内面が形成された孔に液滴を供給する。
【選択図】図1
Description
本発明は、配線形成方法に関する。
配線パターンを形成するための手法の一つとして、例えば特許文献1に開示されているような、機能液の液滴で基板に配線パターンを形成する液滴吐出法(インクジェット法)が知られている。また、配線パターンが形成される基板として、例えば特許文献2、特許文献3等に開示されているような、低温同時焼成セラミックス(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics)基板が知られている。LTCC基板を用いて多層回路基板を形成する際には、焼成前のLTCC基板、すなわちグリーンシートに液滴を供給する動作、それらグリーンシートを積層する動作、及びグリーンシートを焼成する動作等が実行される。LTCC多層回路基板は、積層したグリーンシートを900℃以下の低温で焼成できるため、配線として銀、金等の低融点金属を使用することができ、配線の低抵抗化を図ることができる。
特開平11−248926号公報
特開2006−114593号公報
特開2006−261146号公報
ところで、積層されたLTCC基板同士を電気的に接続するために、LTCC基板(グリーンシート)には、ビアホール、スルーホール等の孔が形成される。液滴吐出法を用いて孔に配線(ビア配線)を形成する場合、その孔に機能液を良好に充填する必要がある。また、形成されるLTCC多層回路基板が所望の性能を得るために、孔に液滴を供給したとき、孔の外側に液滴(機能液)が溢れたり漏れたりするのを抑制する必要がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、液滴吐出法に基づいて、基板に形成された孔に配線(ビア配線)を良好に形成できる配線形成方法及び配線形成装置を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明は以下の構成を採用する。
本発明の第1の観点によると、機能液の液滴で基板に配線を形成する方法であって、前記基板に孔を形成し、前記機能液を受容可能な受容膜にて前記孔の内面を形成し、前記受容膜にて内面が形成された前記孔に前記液滴を供給する配線形成方法が提供される。
本発明の第1の観点によれば、機能液を受容可能な受容膜を孔に形成することによって、その受容膜で孔に供給された液滴(機能液)の液体成分を瞬時に吸収することができる。したがって、孔から液滴(機能液)が溢れるのを抑制しつつ、配線(ビア配線)を良好に形成できる。
本発明の配線形成方法において、前記基板を貫通する貫通孔を前記基板に形成する動作と、前記貫通孔の内面に前記受容膜を形成する動作とを含み、前記受容膜を形成する動作は、前記貫通孔の上端以外の前記基板の上面を第1フィルムで覆うとともに、前記貫通孔の下端以外の前記基板の下面を第2フィルムで覆った状態で、受容膜形成材料を含む液体に前記基板を浸ける動作を含む構成を採用できる。これによれば、孔に受容膜を円滑に形成できる。
本発明の配線形成方法において、前記液体に基板を浸けて前記受容膜を形成した後、前記基板から前記第1フィルム及び前記第2フィルムを離し、前記基板の下面に第3フィルムを配置して、貫通孔の下端を塞いだ状態で、貫通孔の上端より前記機能液の液滴を供給する構成を採用できる。これによれば、貫通孔から機能液が漏れるのを抑制しつつ、配線(ビア配線)を良好に形成できる。そして、孔に充填された機能液が固化した後、基板と第3フィルムとを離すことによって、基板を複数積層できる。
本発明の配線形成方法において、前記基板及び前記第3フィルムを加熱しつつ、吐出口から吐出された前記機能液の液滴を孔に供給し、前記基板及び前記第3フィルムの温度が、前記吐出口から吐出されるときの前記液滴の温度以上、且つ前記液滴に含まれる液体成分の沸点以下となるように、前記基板及び前記第3フィルムの温度を調整する構成を採用できる。これによれば、基板及び第3フィルムを加熱しつつ孔に液滴を供給することによって、孔に供給された液滴(機能液)の液体成分を瞬時に気化(揮発)させることができる。換言すれば、孔に供給した液滴の体積を瞬時に小さくすることができる。したがって、孔から液滴(機能液)が溢れるのを抑制しつつ、配線(ビア配線)を良好に形成できる。また、基板を加熱する動作と液滴を供給する動作とを並行して行うので、処理効率(スループット)を向上できる。また、液滴が基板及び第3フィルムの少なくとも一方に接触したときに、突沸の発生を抑制しつつ、液滴の液体成分を気化できる。
本発明の配線形成方法において、前記基板を貫通する貫通孔を前記基板に形成する動作と、前記貫通孔の内面に前記受容膜を形成する動作とを含み、前記受容膜を形成する動作は、前記基板の下面に第4フィルムを配置して、前記貫通孔の下端を塞いだ状態で、前記貫通孔の上端より受容膜形成材料を含む液体を前記貫通孔に供給する動作を含む構成を採用できる。これによれば、孔に受容膜を円滑に形成できる。
本発明の配線形成方法において、前記液体を供給して前記受容膜を形成した後、前記基板から前記第4フィルムを離し、前記基板の下面に第5フィルムを配置して、貫通孔の下端を塞いだ状態で、貫通孔の上端より前記機能液の液滴を供給する構成を採用できる。これによれば、貫通孔から機能液が漏れるのを抑制しつつ、配線(ビア配線)を良好に形成できる。そして、孔に充填された機能液が固化した後、基板と第5フィルムとを離すことによって、基板を複数積層できる。
本発明の配線形成方法において、前記基板及び前記第5フィルムを加熱しつつ、吐出口から吐出された前記機能液の液滴を孔に供給し、前記基板及び前記第5フィルムの温度が、前記吐出口から吐出されるときの前記液滴の温度以上、且つ前記液滴に含まれる液体成分の沸点以下となるように、前記基板及び前記第5フィルムの温度を調整する構成を採用できる。これによれば、基板及び第5フィルムを加熱しつつ孔に液滴を供給することによって、孔に供給された液滴(機能液)の液体成分を瞬時に気化(揮発)させることができる。換言すれば、孔に供給した液滴の体積を瞬時に小さくすることができる。したがって、孔から液滴(機能液)が溢れるのを抑制しつつ、配線(ビア配線)を良好に形成できる。また、基板を加熱する動作と液滴を供給する動作とを並行して行うので、処理効率(スループット)を向上できる。また、液滴が基板及び第5フィルムの少なくとも一方に接触したときに、突沸の発生を抑制しつつ、液滴の液体成分を気化できる。
本発明の配線形成方法において、前記機能液の液滴は、前記孔よりも小さい構成を採用できる。これによれば、孔の内側に液滴を円滑に供給できる。
本発明の配線形成方法において、低温同時焼成セラミックス基板に前記配線を形成する構成を採用できる。これによれば、LTCC多層回路基板を形成できる。
本発明の配線形成方法において、前記受容膜形成材料は、前記低温同時焼成セラミックス基板を形成するセラミックス材料と、前記機能液に対して親液性を有する樹脂材料とを混合したものである構成を採用できる。これによれば、基板と受容膜との密着性を高めることができるとともに、受容膜で機能液を良好に受容できる。
本発明の配線形成方法において、前記孔に前記機能液の液滴を供給した後、前記基板を焼成する動作を含む構成を採用できる。これによれば、基板及び配線に所望の機能を付加できる。また、受容膜の一部は、基板と同じセラミックス材料で形成されているので、焼成後において、受容膜のうち、樹脂成分は減少したり無くなる可能性があるものの、セラミックス成分は残留する。したがって、焼成後において、基板と配線との間に隙間ができる等の不具合の発生を抑制できる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。
<第1実施形態>
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る回路モジュール1を示す図である。図1において、回路モジュール1は、板状に形成されたLTCC多層基板2と、LTCC多層基板2の上側にワイヤーボンディングで接続された半導体チップ3とを備える。
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る回路モジュール1を示す図である。図1において、回路モジュール1は、板状に形成されたLTCC多層基板2と、LTCC多層基板2の上側にワイヤーボンディングで接続された半導体チップ3とを備える。
LTCC多層基板2は、シート状に形成された複数のLTCC基板4の積層体である。LTCC基板4は、ガラスセラミック系材料の焼結体であって、その厚みは数百μmである。
LTCC基板4は、抵抗素子、容量素子、コイル素子等の各種の回路素子5と、各回路素子5を電気的に接続する内部配線6と、スタックビア構造、サーマルビア構造等を含み、所定の孔径(例えば20μm)を有した複数の孔(ビアホール、コンタクトホール)7と、孔7に形成されたビア配線8とを備える。孔7は、LTCC基板4を貫通するように形成されている。内部配線6及びビア配線8のそれぞれは、銀、銀合金等の金属微粒子の焼結体であって、液滴吐出法を用いて形成される。
図2は、LTCC多層基板2の製造工程の一例を示す模式図である。まず、原料となる、アルミナ(Al2O3)、酸化チタン(TiO2)、二酸化珪素(SiO2)等のセラミックス粉末と、ホウ珪酸ガラス等のガラス粉末とが混合され、混合粉末が生成される。
次に、混合粉末と、バインダー(結合剤)と、溶剤(分散剤)とが混合され、撹拌されることによって、スラリーが生成される。
次に、ドクターブレード等を備える成膜装置によって、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム等の支持フィルム上に上述のスラリーの膜が形成される。支持フィルム上に形成された膜は、支持フィルムとともにロールに巻き取られる。その後、膜は、支持フィルムとともに四角形状に裁断される。これにより、支持フィルム上にグリーンシートが形成される。
次に、グリーンシートにCO2レーザ、YAGレーザ等を照射することによって、そのグリーンシートに孔(ビアホール)が形成される。孔は、グリーンシートを貫通するように形成される。すなわち、本実施形態においては、グリーンシートには、そのグリーンシートを貫通する貫通孔が形成される。なお、支持フィルムには孔は形成されない。
なお、グリーンシートに孔7を形成する際に、一旦、グリーンシートと支持フィルムとを分離し、そのグリーンシートにCO2レーザ、YAGレーザ等を照射したり、孔あけ工具等を用いたりすることによって、そのグリーンシートに孔を形成してもよい。
グリーンシートに孔が形成された後、後述するように、その孔に受容膜が形成される。そして、グリーンシートの孔に受容膜が形成された後、液滴吐出法(インクジェット法)に基づいて、ビア配線8を形成するための機能液の液滴が孔に供給される。孔に機能液の液滴を供給する際には、グリーンシートの下面に支持フィルムを配置して、グリーンシートの下面側の孔の端を塞いだ状態で、グリーンシートの上面側の孔の端に機能液の液滴が供給される。
ビア配線8を形成するための機能液は、例えば特開2005−34837号公報に開示されているような、導電性微粒子を所定の分散媒に分散したものを含む。本実施形態においては、機能液の導電性微粒子は、銀の微粒子(有機銀化合物、酸化銀ナノ粒子を含む)を主成分とし、分散媒は、水を主成分とする。
孔に供給された液滴(機能液)が固化した後、グリーンシートと支持フィルムとが分離される。すなわち、グリーンシートより支持フィルムが剥がされる。そして、固化した機能液(膜)が孔に配置されたグリーンシートが複数形成された後、それらグリーンシートが積層される。複数のグリーンシートを積層する際、各グリーンシートのコネクタ同士が電気的に接続されるように、各グリーンシートが積層される。
グリーンシートの積層体を形成した後、その積層体は、例えばベルト炉等によって焼成処理され、焼結される。積層体は、例えば600℃〜900℃で焼成(焼結)される。これにより、グリーンシートはLTCC基板4になるとともに、孔7にはビア配線8が形成され、LTCC多層基板2が形成される。
図3は、グリーンシートに配線を形成するための機能液の液滴を供給する液滴吐出装置(配線形成装置、インクジェット装置)10の一例を示す図である。液滴吐出装置10は、内部配線6及びビア配線8を含む各種配線を形成するための機能液の液滴をグリーンシートPに供給可能である。以下の説明においては、液滴が供給されるグリーンシートPを適宜、基板P、と称する。
図3において、液滴吐出装置10は、液滴を吐出する吐出口11を有する吐出ヘッド12と、吐出ヘッド12を移動する第1駆動装置13と、基板Pを保持しながら移動可能なテーブル14と、テーブル14を移動する第2駆動装置15と、テーブル14に設けられ、テーブル14に保持された基板Pを加熱可能な加熱装置16と、液滴吐出装置10全体の動作を制御する制御装置17とを備えている。
本実施形態においては、第1駆動装置13は、吐出ヘッド12を、X軸方向に大きく移動することができるリニアモータ13Aを有する。また、第1駆動装置13は、吐出ヘッド12を、Z軸、θX、θY、及びθZ方向に微かに動かすことができる複数の微動モータ13Bを有する。
第2駆動装置15は、テーブル14を、Y軸方向に大きく移動することができるリニアモータ15Aを有する。また、第2駆動装置15は、テーブル14を、θZ方向に微かに動かすことができる回転モータ15Bを有する。
図4は、吐出ヘッド12の一例を示す側断面図である。吐出ヘッド12は、ヘッド本体18と、ヘッド本体18の下端に接続され、液滴を吐出する吐出口11が形成された吐出面19を有するプレート部材20とを有する。ヘッド本体18は、リザーバ21と、リザーバ21に接続された複数の収容室22とを有する。リザーバ21は、各収容室22に機能液を供給可能である。吐出口11は、複数の収容室22に対応するように複数形成されている。収容室22の上面は、振動板23で形成されている。振動板23に対して収容室22と反対側には、ピエゾ素子24が配置されている。ピエゾ素子24は、振動板23の上面に接続されている。ピエゾ素子24の動作は、制御装置17に制御される。
制御装置17からピエゾ素子24に入力された電気信号に基づいて、ピエゾ素子24は膨張又は収縮する。ピエゾ素子24が収縮すると、収容室22の圧力が低下して、リザーバ21から収容室22に機能液が流入する。ピエゾ素子24が膨張すると、収容室22の圧力が増加して、吐出口11から機能液の液滴が吐出される。また、印加電圧を変化させることにより、ピエゾ素子24の変形量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子24の変形速度が制御される。すなわち、ピエゾ素子24への印加電圧を制御することにより、液滴の吐出条件が制御される。
次に、上述の液滴吐出装置10を用いて、基板Pに形成された孔7にビア配線8を形成する動作の一例について、図5及び図6の模式図を参照して説明する。
本実施形態においては、配線を形成するための機能液の液滴を基板Pに供給する動作の前に、基板Pを貫通する貫通孔7Hを基板Pに形成する動作と、その貫通孔7Hの内面に受容膜30を形成する動作とが実行される。機能液の液滴が供給される孔7の内面は、受容膜30の内面によって形成される。受容膜30は、機能液を受容可能な材料で形成される。
受容膜30を形成するための材料(受容膜形成材料)としては、機能液に対して親液性を有するものが好ましい。上述のように、本実施形態の機能液は、水を主成分とする分散媒に導電性微粒子を分散したものであり、受容膜30を形成するための材料(受容膜形成材料)としては、水に対して親液性(親水性)を有するものが好ましい。そのような材料としては、例えばポリビニルアルコール(PVA)、ゼラチン等の樹脂材料が挙げられる。
本実施形態においては、受容膜形成材料として、LTCC基板を形成するセラミックス材料と、機能液に対して親液性を有する樹脂材料とを混合したものを用いる。上述のように、LTCC基板は、アルミナ(Al2O3)、酸化チタン(TiO2)、二酸化珪素(SiO2)等のセラミックス粉末を原料としている。本実施形態においては、受容膜形成材料として、アルミナ、酸化チタン、二酸化珪素を含むものを用いることができる。
一例として、LTCC基板がアルミナを含むものであり、機能液が水を含むものである場合には、受容膜形成材料として、少なくともアルミナ粒子とPVAとを含むものが用いられる。
受容膜形成材料として、LTCC基板を形成するセラミックス材料と、機能液に対して親液性を有する樹脂材料とを混合したものを用いることにより、受容膜形成材料に含まれるセラミックス材料によって、LTCC基板(グリーンシート)と受容膜30との密着性を高めることができる。また、受容膜形成材料に含まれる樹脂材料によって、受容膜30で機能液を良好に受容できる。
本実施形態においては、貫通孔7Hの内面に受容膜30を形成する動作は、図5(A)に示すように、貫通孔7Hの上端以外の基板Pの上面を第1フィルムF1で覆うとともに、貫通孔7Hの下端以外の基板Pの下面を第2フィルムF2で覆った状態で、受容膜形成材料を含む液体Lqに基板Pを浸ける動作を含む。液体Lqは、例えば水に上述のアルミナ粒子とPVAとを分散又は溶解したものである。液体Lqは、槽31に収容されており、基板Pは、第1フィルムF1及び第2フィルムF2と一緒に、液体Lqに浸けられる。
貫通孔7Hの上端以外の基板Pの上面は第1フィルムF1で覆われており、貫通孔7Hの下端以外の基板Pの下面は第2フィルムF2で覆われているので、その状態で基板Pを液体Lqに浸けても、基板Pの上面及び下面には液体Lqは接触しない。一方、貫通孔7Hの内面は露出しているので、基板Pを液体Lqに浸けることによって、貫通孔7Hの内面と液体Lqとは接触する。
基板Pを液体Lqに浸けた後、その基板Pを液体Lqから出し、乾燥することによって、図5(B)に示すように、貫通孔7Hの内面には、受容膜30が形成される。
そして、受容膜30が形成された後、図5(C)に示すように、基板Pから第1フィルムF1及び第2フィルムF2を離す(剥がす)ことによって、孔7の内面が受容膜30の内面で形成された基板Pが形成される。
そして、次の液滴吐出工程のために、図5(D)に示すように、基板Pの下面に第3フィルム(支持フィルム)F3が貼付される。
基板Pに受容膜30が形成された後、液滴吐出装置10によって、孔7に機能液の液滴を供給する動作が実行される。液滴吐出装置10は、吐出口11より吐出した機能液の液滴Dを基板Pに形成された孔7に供給して、孔7にビア配線8を形成する。
制御装置17は、孔7に液滴Dを供給するために、第1駆動装置13及び第2駆動装置15の少なくとも一方を制御して、吐出口11と基板Pの孔7とが対向するように、吐出ヘッド12とテーブル14との位置関係を調整する。
孔7は、基板Pを貫通するように形成されている。また、基板Pの下面には、第3フィルムF3が貼付されている。これにより、基板Pの下面側の孔7の下端は、第3フィルムF3で塞がれる。また、テーブル14は、第3フィルムF3の下面を保持する保持面14Hを有する。テーブル14は、第3フィルムF3を介して、基板Pを保持する。
テーブル14は、吐出口11と対向する位置に基板Pに形成された孔7を配置可能である。制御装置17は、第1駆動装置13及び第2駆動装置15の少なくとも一方を制御して、吐出ヘッド12とテーブル14との位置関係を調整して、吐出ヘッド12の吐出口11とテーブル4に第3フィルムF3を介して保持されている基板Pの孔7の上端とを対向させる。
また、制御装置17は、加熱装置16を用いて、基板Pを加熱する。加熱装置16は、例えばテーブル14の内部に配置されたヒータ機構を含み、保持面14Hを加熱可能である。加熱装置16は、保持面14Hを加熱することによって、第3フィルムF3を介して、基板Pを加熱する。また、第3フィルムF3も、加熱装置16によって加熱される。
そして、図6(A)に示すように、制御装置17は、吐出口11と基板Pの孔7の上端とを対向させた状態で、加熱装置16で基板Pを加熱しつつ、吐出口11より液滴Dを吐出して、その液滴Dを孔7に供給する。制御装置17は、基板Pの下面に第3フィルムF3を配置して、孔7の下端を塞いだ状態で、孔7の上端に吐出口11からの液滴Dを供給する。
本実施形態においては、吐出口11から吐出された直後であって、基板Pに接触する前の液滴Dの大きさ(直径)は、孔7の大きさ(直径、幅)よりも小さい。したがって、液滴Dは、基板Pの上面等に接触することなく、孔7の内側に円滑に供給される。
図6(B)に示すように、孔7に供給された液滴Dは、受容膜30に接触する。受容膜30は、接触した液滴D(機能液)の液体成分(本実施形態では水)を瞬時に吸収することができる。したがって、孔7から液滴D(機能液)が溢れるのを抑制できる。
また、本実施形態においては、孔7に供給された液滴Dは、加熱装置16で加熱されている基板Pの孔7(受容膜30)の内面、及び孔7の内側の第3フィルムF3の上面の少なくとも一方に接触する。加熱装置16によって加熱されている基板P及び第3フィルムF3の少なくとも一方に液滴Dが接触することによって、孔7に供給された液滴(機能液)の液体成分は瞬時に気化(揮発)する。これにより、孔7に供給された液滴Dの体積は瞬時に小さくなる。したがって、孔7から液滴D(機能液)が溢れるのをより一層抑制できる。
図6(C)に示すように、孔7に供給された後の液滴Dの液体成分が気化することによって、その液滴D(機能液)は固化し、孔7の内側には、液滴Dに基づく膜DLが形成される。本実施形態においては、1つの液滴Dによって孔7の内側に形成される膜DLの高さ(厚み)は、孔7の高さ(深さ)よりも十分に小さい。
本実施形態においては、加熱装置16は、基板P及び第3フィルムF3の温度が、吐出口11から吐出されるときの液滴Dの温度以上、且つ液滴Dに含まれる液体成分の沸点以下となるように、基板P及び第3フィルムF3の温度を調整する。本実施形態においては、吐出ヘッド12、吐出口11近傍の温度は、例えば室温(例えば22℃)に調整されている。換言すれば、吐出口11近傍の温度が室温(22℃)となるように、液滴吐出装置10を収容するチャンバの内部の温度を調整する空調装置の目標温度が設定されている。したがって、本実施形態においては、吐出口11から吐出されるときの液滴Dの温度は、約22℃である。また、上述のように、本実施形態の機能液は、水を主成分とする分散媒に導電性微粒子を分散したものである。したがって、本実施形態においては、液滴Dに含まれる液体成分(水)の沸点は、約100℃である。したがって、本実施形態においては、加熱装置16は、基板P及び第3フィルムF3の温度が、22℃以上、且つ100℃以下となるように、基板P及び第3フィルムF3の温度を調整する。本実施形態においては、基板P及び第3フィルムF3の温度は、例えば80℃〜90℃に設定される。こうすることにより、液滴Dが基板P及び第3フィルムF3の少なくとも一方に接触したときに、液体成分(水)の突沸の発生を抑制しつつ、液滴Dの液体成分を気化できる。
そして、制御装置17は、基板Pを加熱しつつ、孔7に液滴Dを供給する動作を複数回繰り返す。図6(D)に示すように、孔7に供給された液滴Dの液体成分は瞬時に気化され、先に孔7に形成されている膜DLの上に新たな膜DLが形成され、それら膜DLが孔7の内側で順次積層される。1つの液滴Dによって孔7の内側に形成される膜DLの高さ(厚み)は、孔7の高さ(深さ)よりも十分に小さいので、孔7から液滴D(機能液)が溢れることなく、膜DLが積層される。
そして、基板Pを加熱しつつ、孔7に液滴Dを供給する動作を複数回繰り返すことによって、図6(E)に示すように、孔7は、液滴Dに基づく膜DLで充填される。
なお、ここでは、ビア配線8を形成する場合について説明したが、もちろん、基板Pの上面に液滴Dを供給して、内部配線6を形成できる。
そして、基板Pに液滴Dを供給する動作(液滴Dに基づく膜DLで孔7を充填する動作)を実行した後、基板Pと第3フィルムF3とが分離され、基板Pが複数積層される。基板Pの積層体は、加熱装置16による加熱温度(本実施形態では80℃〜90℃)よりも高い温度(例えば600℃〜900℃)で焼成され、焼結される。
以上説明したように、本実施形態によれば、機能液を受容可能な受容膜30を孔7に形成することによって、その受容膜30で孔7に供給された液滴D(機能液)の液体成分を瞬時に吸収することができる。したがって、孔7から液滴D(機能液)が溢れるのを抑制しつつ、ビア配線8を良好に形成できる。
また、本実施形態においては、基板Pを加熱しつつ孔7に液滴Dを供給しているので、孔7に供給された液滴D(機能液)の液体成分を瞬時に気化(揮発)させることができる。したがって、孔7から液滴D(機能液)が溢れるのを抑制しつつ、ビア配線8を良好に形成できる。また、基板Pを加熱する動作と液滴Dを供給する動作とを並行して行うので、処理効率(スループット)を向上できる。
また、基板Pを加熱しつつ、その基板Pに液滴Dを供給することにより、ピニング現象を生じさせることができる。基板Pに供給された後の液滴Dの乾燥過程においては、液滴Dの周縁部における固形分濃度が飽和濃度に達すると、その周縁部において固形分が局所的に析出する。すると、その析出した固形分によって液滴Dの周縁部がピン止めされたような状態となり、それ以降の乾燥に伴う液滴Dの収縮(外径の収縮)が抑制される。このような、周縁部に析出した固形分によって乾燥に伴う液滴Dの収縮が抑制される現象(ピニング現象)を生じさせることによって、基板Pに形成されるビア配線8及び内部配線6のエッジ(外形)を良好に規定することができる。
なお、例えば特開2005−28276号公報、特開2005−144324号公報等に開示されているように、基板Pの表面に配置された液滴Dの乾燥条件、対流条件等を調整して、基板Pに吐出(供給)された液滴Dに、ピニング現象を生じさせるようにしてもよい。
また、第3フィルムF3に支持された状態の基板Pに液滴Dを吐出することによって、保持面14Hに液滴Dが付着したり、機能液が漏洩することを抑制できる。
また、本実施形態においては、受容膜30は、LTCC基板(グリーンシート)と同じセラミックス材料を含むので、孔7に機能液の液滴Dを供給した後、基板Pを焼成した場合、その焼成後において、LTCC基板の孔の内面とビア配線8との間に隙間ができる等の不具合の発生を抑制できる。例えば、受容膜がPVA等の樹脂のみによって形成されている場合、焼成して受容膜を高温で加熱すると、受容膜の体積が大幅に減少したり、無くなったりしてしまう可能性がある。すると、焼成後において、LTCC基板の孔の内面とビア配線との間に隙間が形成されてしまったり、LTCC基板とビア配線との密着性が劣化したりする可能性がある。本実施形態によれば、受容膜30の一部は、基板Pと同じセラミックス材料で形成されているので、焼成後において、受容膜30のうち、樹脂成分は減少したり無くなる可能性があるものの、セラミックス成分は残留する。したがって、焼成後において、LTCC基板とビア配線との間に隙間ができたり、LTCC基板とビア配線との密着性が劣化したりする等の不具合の発生を抑制できる。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の第1実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の第1実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図7は、第2実施形態に係る受容膜30の形成工程を説明するための図である。上述の第1実施形態と同様、配線を形成するための機能液の液滴を基板Pに供給する動作の前に、基板Pを貫通する貫通孔7Hを基板Pに形成する動作と、その貫通孔7Hの内面に受容膜30を形成する動作とが実行される。
本実施形態においては、貫通孔7Hの内面に受容膜30を形成する動作は、図7(A)に示すように、基板Pの下面に第4フィルムF4を配置して、貫通孔7Hの下端を塞いだ状態で、貫通孔7Hの上端より受容膜形成材料を含む液体Lqを貫通孔7Hに供給する動作を含む。本実施形態においては、液体Lqは、液滴吐出装置10によって、貫通孔7Hに供給される。液滴吐出装置10は、テーブル14の保持面14Hで、第4フィルムF4を介して基板Pを保持し、吐出口11より貫通孔7Hの上端に液体Lqの液滴を供給する。図7(B)に示すように、貫通孔7Hに供給された液体Lqは、貫通孔7Hの内面と接触する。
そして、基板Pを乾燥することによって、図7(C)に示すように、貫通孔7Hの内面に受容膜30が形成される。また、受容膜30の一部は、貫通孔7Hの内側の第4フィルムF4の上面にも形成される。
そして、受容膜30が形成された後、図7(D)に示すように、基板Pから第4フィルムF4を離す(剥がす)ことによって、孔7の内面が受容膜30の内面で形成された基板Pが形成される。基板Pから第4フィルムF4を離すことによって、その第4フィルムF4の上面の一部に形成されていた受容膜30も、第4フィルムF4と一緒に基板Pから離れる。
そして、次の液滴吐出工程のために、図7(E)に示すように、基板Pの下面に第5フィルム(支持フィルム)F5が貼付される。
孔7に機能液の液滴Dを供給する動作は、上述の第1実施形態と同様である。すなわち、液滴吐出装置10は、基板P及び第5フィルムF5を加熱しつつ、吐出口11から吐出された機能液の液滴Dを孔7に供給する。制御装置17は、加熱装置16を用いて、基板P及び第5フィルムF5の温度が、吐出口11から吐出されるときの液滴Dの温度以上、且つ液滴Dに含まれる液体成分の沸点以下となるように、基板P及び第5フィルムF5の温度を調整する。
なお、上述の各実施形態においては、基板Pが焼成前のLTCC基板(グリーンシート)であり、基板Pに配線を形成する場合を例にして説明したが、基板Pとしては、グリーンシートのみならず、ガラス基板、半導体ウエハ等、製造するデバイスに応じて、適宜選択可能である。また、使用される機能液の導電性微粒子としても、銀のみならず、例えば特開2005−34837号公報等に開示されているような、金、白金、銅、パラジウム、及びニッケル等の金属微粒子であってもよいし、導電性ポリマーであってもよい。また、使用される分散媒も、導電性微粒子に応じて適宜選択可能である。また、配線パターンのみならず、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)の少なくとも一部を形成することもできる。
また、液滴吐出装置IJを用いて製造可能なデバイスとしては、回路基板に限られず、例えばカラーフィルタ、配向膜等、液晶装置の少なくとも一部を形成することができるし、有機EL装置の少なくとも一部を形成することもできる。
1…回路モジュール、2…LTCC基板、7…孔、8…ビア配線、10…液滴吐出装置(配線形成装置)、11…吐出口、14…テーブル(保持部材)、14H…保持面、16…加熱装置、30…受容膜、D…液滴、F1…第1フィルム、F2…第2フィルム、F3…第3フィルム、F4…第4フィルム、F5…第5フィルム、Lq…液体、P…基板
Claims (11)
- 機能液の液滴で基板に配線を形成する方法であって、
前記基板に孔を形成し、前記機能液を受容可能な受容膜にて前記孔の内面を形成し、
前記受容膜にて内面が形成された前記孔に前記液滴を供給する配線形成方法。 - 前記基板を貫通する貫通孔を前記基板に形成する動作と、
前記貫通孔の内面に前記受容膜を形成する動作とを含み、
前記受容膜を形成する動作は、
前記貫通孔の上端以外の前記基板の上面を第1フィルムで覆うとともに、前記貫通孔の下端以外の前記基板の下面を第2フィルムで覆った状態で、受容膜形成材料を含む液体に前記基板を浸ける動作を含む請求項1記載の配線方法。 - 前記液体に基板を浸けて前記受容膜を形成した後、前記基板から前記第1フィルム及び前記第2フィルムを離し、
前記基板の下面に第3フィルムを配置して、貫通孔の下端を塞いだ状態で、貫通孔の上端より前記機能液の液滴を供給する請求項2記載の配線形成方法。 - 前記基板及び前記第3フィルムを加熱しつつ、吐出口から吐出された前記機能液の液滴を孔に供給し、
前記基板及び前記第3フィルムの温度が、前記吐出口から吐出されるときの前記液滴の温度以上、且つ前記液滴に含まれる液体成分の沸点以下となるように、前記基板及び前記第3フィルムの温度を調整する請求項3記載の配線形成方法。 - 前記基板を貫通する貫通孔を前記基板に形成する動作と、
前記貫通孔の内面に前記受容膜を形成する動作とを含み、
前記受容膜を形成する動作は、
前記基板の下面に第4フィルムを配置して、前記貫通孔の下端を塞いだ状態で、前記貫通孔の上端より受容膜形成材料を含む液体を前記貫通孔に供給する動作を含む請求項1記載の配線方法。 - 前記液体を供給して前記受容膜を形成した後、前記基板から前記第4フィルムを離し、
前記基板の下面に第5フィルムを配置して、貫通孔の下端を塞いだ状態で、貫通孔の上端より前記機能液の液滴を供給する請求項5記載の配線形成方法。 - 前記基板及び前記第5フィルムを加熱しつつ、吐出口から吐出された前記機能液の液滴を孔に供給し、
前記基板及び前記第5フィルムの温度が、前記吐出口から吐出されるときの前記液滴の温度以上、且つ前記液滴に含まれる液体成分の沸点以下となるように、前記基板及び前記第5フィルムの温度を調整する請求項6記載の配線形成方法。 - 前記機能液の液滴は、前記孔よりも小さい請求項1〜7のいずれか一項記載の配線形成方法。
- 低温同時焼成セラミックス基板に前記配線を形成する請求項1〜8のいずれか一項記載の配線形成方法。
- 前記受容膜形成材料は、前記低温同時焼成セラミックス基板を形成するセラミックス材料と、前記機能液に対して親液性を有する樹脂材料とを混合したものである請求項9記載の配線形成方法。
- 前記孔に前記機能液の液滴を供給した後、前記基板を焼成する動作を含む請求項11記載の配線形成方法。
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