JP2008179097A - ラインヘッドの調整方法および調整装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】非正立等倍のマイクロレンズにより発光素子からの光ビームを結像するラインヘッドに対して、発光素子とマイクロレンズとの相対的位置関係を高精度に調整する技術を提供する。
【解決手段】位置情報取得工程は、複数の光軸上素子のうちの１つ以上の対象素子の位置を取得し、光軸調整処理は、マイクロレンズの光軸に垂直な仮想平面を仮想垂直面としたとき、位置情報が与える対象素子の位置を仮想垂直面に投影した位置と、対象素子を発光させて射出される光ビームのマイクロレンズによる像の位置を仮想垂直面に投影した位置との面内距離が所定条件を満たすように、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する。
【選択図】図１３

Description

この発明は、発光素子から射出された光ビームをマイクロレンズにより被結像面に結像するラインヘッドに関し、特に発光素子とマイクロレンズとの位置関係を調整する技術に関するものである。
特許文献１および特許文献２には、マイクロレンズと発光素子との位置関係を合わせることを目的とした、次の技術が記載されている。これら特許文献記載の従来技術では、発光素子から射出される光ビームの光量が、マイクロレンズを介して測定される。そして、測定結果が所定の光量分布を示すように、マイクロレンズと発光素子との位置関係が決定される。なお、特許文献１及び特許文献２に示されているマイクロレンズは屈折率分布型ロッドレンズを俵状に配列したロッドレンズアレイである。
特開平０９−５２３８５号公報 特開平１０−１６２９５号公報
かかる従来技術のように、光量測定により位置関係を決定する方法は、マイクロレンズの光学特性が正立等倍である場合には有効である。しかしながら、マイクロレンズの光学特性が倒立あるいは正立非等倍のように正立等倍以外である場合には、精度において次のような課題があった。
正立等倍の光学特性を示すマイクロレンズを用いた方法では、レンズの光学特性ゆえに原理的には、発光素子とマイクロレンズとの位置関係が変動しても、発光素子から射出される光ビームの結像位置は変動しない。つまり、結像位置は、発光素子とマイクロレンズとの位置関係に依存しない。一方、非正立等倍の光学特性を示すマイクロレンズを用いた方法では、発光素子とマイクロレンズとの位置関係が変動すると、発光素子から射出される光ビームの結像位置も変動する。ここで、本明細書において、非正立等倍の光学特性とは、正立等倍以外（つまり、倒立あるいは正立非等倍）の光学特性を指す。
端的に言うと、非正立等倍の光学系において、結像位置は発光素子とマイクロレンズとの位置関係に依存する。また、結像位置が変化するのみならず、発光素子とマイクロレンズとの位置が横方向（長手方向）にずれると、本来の結像性能が得られないという問題も発生する。したがって、正立等倍以外の光学特性を示すマイクロレンズを用いる場合は、マイクロレンズと発光素子との位置関係をより高精度に決定する必要がある。よって、非正立等倍の光学特性を示すマイクロレンズと発光素子との位置関係を決定するにあたっては、従来技術で用いられる光量測定による方法は、精度において不十分である。
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、非正立等倍のマイクロレンズにより発光素子からの光ビームを結像するラインヘッドに対して、発光素子とマイクロレンズとの相対的位置関係を高精度に調整する技術の提供を目的とする。
この発明にかかるラインヘッドの調整方法は、上記目的を達成するために、１つ以上の発光素子から成る発光素子グループをその面に複数有する、素子基板を配置する基板配置工程と、発光素子の位置に関する位置情報を取得する位置情報取得工程と、それぞれが非正立等倍の光学特性を有する複数のマイクロレンズを複数の発光素子グループに一対一で対応して設けた、マイクロレンズアレイを複数のマイクロレンズのそれぞれが対応する発光素子グループに対向するように配置するアレイ配置工程と、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する位置調整工程とを備え、複数の発光素子グループのそれぞれは、該発光素子グループに対応するマイクロレンズの位置が理想位置である場合には、該発光素子グループに属する１つの発光素子が光軸上素子として該発光素子グループに対応するマイクロレンズの光軸上に存在するように構成されており、位置情報取得工程では、複数の光軸上素子のうちの１つ以上の対象素子の位置情報を取得し、位置調整工程では、位置情報取得工程で位置情報が取得された対象素子に対して下記の光軸調整処理を実行することを特徴としている。ここで、光軸調整処理は、マイクロレンズの光軸に垂直な仮想平面を仮想垂直面としたとき、位置情報が与える対象素子の位置を仮想垂直面に投影した位置と、対象素子を発光させて射出される光ビームのマイクロレンズによる像の位置を仮想垂直面に投影した位置との面内距離が所定条件を満たすように、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する処理である。
この発明にかかるラインヘッドの調整装置は、上記目的を達成するために、１つ以上の発光素子から成る発光素子グループをその面に複数有する、素子基板を保持する基板保持手段と、発光素子の位置に関する情報を取得する位置情報取得手段と、それぞれが非正立等倍の光学特性を有する複数のマイクロレンズを複数の発光素子グループに一対一で対応して設けた、マイクロレンズアレイを複数のマイクロレンズのそれぞれが対応する発光素子グループに対向する位置に保持するアレイ保持手段と、素子基板および／またはマイクロレンズアレイを動かして、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する位置調整手段とを備え、複数の発光素子グループのそれぞれは、該発光素子グループに対応するマイクロレンズの位置が理想位置である場合には、該発光素子グループが属する発光素子が光軸上素子として該発光素子グループに対応するマイクロレンズの光軸上に存在するように構成されており、位置情報取得手段は、複数の光軸上素子のうちの１つ以上の対象素子の位置情報を取得し、位置調整手段は、位置情報取得手段で位置情報が取得された対象素子に対して下記の光軸調整処理を実行することを特徴としている。ここで、光軸調整処理は、マイクロレンズの光軸に垂直な仮想平面を仮想垂直面としたとき、位置情報が与える対象素子の位置を仮想垂直面に投影した位置と、対象素子を発光させて射出される光ビームのマイクロレンズによる像の位置を仮想垂直面に投影した位置との面内距離が所定条件を満たすように、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する処理である。
このように構成された発明では、非正立等倍のマイクロレンズを用いて、発光素子から射出された光ビームを結像する。したがって、発光素子とマイクロレンズとの位置関係が変動すると、発光素子から射出される光ビームの結像位置も変動する。また、発光素子とマイクロレンズの位置が横方向（長手方向）にずれると、本来の結像性能が得られない。よって、発光素子とマイクロレンズとの位置関係をより高精度に調整する必要がある。
これに対して上記発明では、まず、マイクロレンズアレイが装着されていない状態において、素子基板の面に設けられた複数の発光素子のうち、対象素子の位置情報を取得する。次に、素子基板に対向するようにマイクロレンズアレイを配置して（つまり、マイクロレンズアレイを仮装着して）、光軸調整処理を実行する。かかる光軸調整処理では、マイクロレンズの光軸に垂直な仮想平面を仮想垂直面としたとき、先に取得された位置情報が与える対象素子の位置を仮想垂直面に投影した位置と、対象素子を発光させて射出される光ビームのマイクロレンズによる像の位置を仮想垂直面に投影した位置との面内距離が所定条件を満たすように、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する。つまり、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係の調整を、マイクロレンズアレイを装着しない状態における対象素子の位置と、マイクロレンズアレイを仮装着した状態における対象素子からの光ビームのマイクロレンズによる像との比較に基づいて実行している。よって、上記発明は、マイクロレンズアレイを仮装着した状態の光量分布にのみに基づいて素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する技術と比較して、より高精度な調整が可能となっている。
また、上記発明では、対象素子を発光させて射出される光ビームのマイクロレンズによる像の位置に基づいて、光軸調整処理を実行する。したがって、マイクロレンズアレイを仮装着した状態において、素子基板に対する照明が不十分で、対象素子の形状が読み取りずらい（つまり、対象素子のマイクロレンズによる像が良好に観察できず、結果として対象素子のマイクロレンズによる像の位置を特定できない）場合であっても、対象素子から射出される光ビームのマイクロレンズによる像を観察することで、実質的に対象素子のマイクロレンズによる像の位置を特定することが可能であり、好適である。
このとき、光軸調整処理において、面内距離がゼロとなるように素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整してもよい。つまり、このとき、対象素子の位置を仮想垂直面に投影した位置と、対象素子を発光させて射出される光ビームのマイクロレンズによる像の位置を仮想垂直面に投影した位置とが一致する。換言すれば、対象素子と対象素子の像とが光軸の上に並ぶこととなり、光軸上素子である対象素子がマイクロレンズの光軸上に位置する。よって、対象素子を含む発光素子グループに対応するマイクロレンズの位置を理想位置とすることが可能となり好適である。
ところで、ラインヘッドに求められる位置精度（発光素子とマイクロレンズとの相対的位置関係の精度）は、ラインヘッドの使用目的等によって異なる。そこで、光軸調整処理において、面内距離が所定距離未満となるように、素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整してもよい。この場合、面内距離が所定距離未満になったことをもって光軸調整処理を完了することが可能である。つまり、面内距離がゼロとなるまで光軸調整処理を実行する必要がない。よって、光軸調整処理の簡素化が図られており好適である。また、所定距離を適宜設定することで所望の位置精度に対応した光軸調整処理の実行が可能であり、簡便に所望の位置精度を実現できるという点においても好適である。
また、位置情報取得工程において、マイクロレンズアレイの長手方向の両端にある２つのマイクロレンズのそれぞれに対応する光軸上素子を対象素子として位置情報を取得するように構成してもよい。つまり、このとき、位置調整工程において、マイクロレンズアレイの長手方向の両端に位置する２つの対象素子について光軸調整処理が実行され、マイクロレンズアレイと素子基板の相対的位置関係がより高精度に調整することが可能となる。
また、マイクロレンズアレイが、マイクロレンズアレイの長手方向にマイクロレンズが配列されて成るレンズ行を、マイクロレンズアレイの幅方向に複数行配列した構造を有する場合は、次のように構成してもよい。つまり、位置情報取得工程において、複数のレンズ行のうちの一に属するマイクロレンズのうちの長手方向の両端にある２つのマイクロレンズのそれぞれに対応する光軸上素子を対象素子として位置情報を取得してもよい。つまり、このとき、位置調整工程において、一のレンズ行に属するマイクロレンズのうち長手方向の両端に位置する２つの対象素子について光軸調整処理が実行され、マイクロレンズアレイと素子基板との相対的位置関係がより高精度に調整することが可能となる。
また、位置情報取得工程において、さらに、複数のレンズ行のうちの一に属するマイクロレンズのうちの長手方向の両端にある２つのマイクロレンズのそれぞれに対応する光軸上素子以外の光軸上素子も、対象素子として位置情報を取得するように構成してもよい。このとき、対象素子としては、一のレンズ行に属するマイクロレンズのうち、長手方向の両端に位置する２つの対象素子と当該２つの対象素子以外の対象素子とがある。つまり、３つの対象素子が存在する。そして、位置調整工程において、これら３つの対象素子について光軸調整処理が実行される。よって、例えば、素子基板やマイクロレンズアレイに湾曲があるような場合であっても、かかる湾曲も考慮してマイクロレンズアレイと素子基板との相対的位置関係を調整することが可能となり、好適である。
また、複数のマイクロレンズのそれぞれを、倒立像を結像する光学特性を有するように構成してもよい。このようにマイクロレンズが倒立像を結像する構成では、対象素子がマイクロレンズの光軸からずれている場合、対象素子の位置と対象素子から射出された光ビームの像の位置とは、マイクロレンズの光軸に対して互いに逆となる。一方、マイクロレンズが正立像を結像する構成では、これら２つの位置は、マイクロレンズの光軸に対して同じとなる。つまり、倒立像を結像するマイクロレンズと、正立像を結像するマイクロレンズとを比較した場合、倒立像を結像するマイクロレンズの方が、面内距離が長くなる傾向にある。換言すれば、倒立像を結像するマイクロレンズを用いた場合、光軸からの対象素子のずれを、より高精度に検出することが可能となる。そして、このように高精度に検出された面内距離に基づいて光軸調整処理を実行することで、マイクロレンズアレイと素子基板との相対的位置関係がより高精度に調整することが可能となり、好適である。
本発明の実施形態について説明するに先立って、本発明の適用対象であるラインヘッドを用いた画像形成装置と、同ラインヘッドの構成及び潜像形成動作とを説明する。これらの説明の後に、本発明の実施形態について説明する。
画像形成装置の構成
図１は本発明の適用対象であるラインヘッドを用いた画像形成装置の構成を示す図である。また、図２は図１の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この装置は、ブラック（Ｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の４色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック（Ｋ）のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置である。なお図１は、カラーモード実行時に対応する図面である。この画像形成装置では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がＣＰＵやメモリなどを有するメインコントローラＭＣに与えられると、このメインコントローラＭＣはエンジンコントローラＥＣに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータＶＤをヘッドコントローラＨＣに与える。また、このヘッドコントローラＨＣは、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤとエンジンコントローラＥＣからの垂直同期信号Ｖsyncおよびパラメータ値とに基づき各色のラインヘッド２９を制御する。これによって、エンジン部ＥＧが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびOHP用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
画像形成装置が有するハウジング本体３内には、電源回路基板、メインコントローラＭＣ、エンジンコントローラＥＣおよびヘッドコントローラＨＣを内蔵する電装品ボックス５が設けられている。また、画像形成ユニット７、転写ベルトユニット８および給紙ユニット１１もハウジング本体３内に配設されている。また、図１においてハウジング本体３内右側には、２次転写ユニット１２、定着ユニット１３、シート案内部材１５が配設されている。なお、給紙ユニット１１は、装置本体１に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット１１および転写ベルトユニット８については、それぞれ取り外して修理または交換を行うことが可能な構成になっている。
画像形成ユニット７は、複数の異なる色の画像を形成する４個の画像形成ステーションＹ（イエロー用）、Ｍ（マゼンダ用）、Ｃ（シアン用）、Ｋ（ブラック用）を備えている。また、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋには、それぞれの色のトナー像がその表面に形成される感光体ドラム２１が設けられている。各感光体ドラム２１はそれぞれ専用の駆動モータに接続され図中矢印Ｄ２１の方向に所定速度で回転駆動される。これにより感光体ドラム２１の表面が副走査方向に搬送されることとなる。また、感光体ドラム２１の周囲には、回転方向に沿って帯電部２３、ラインヘッド２９、現像部２５および感光体クリーナ２７が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。したがって、カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋで形成されたトナー像を転写ベルトユニット８が有する転写ベルト８１に重ね合わせてカラー画像を形成するとともに、モノクロモード実行時は、画像形成ステーションＫで形成されたトナー像のみを用いてモノクロ画像を形成する。なお、図１において、画像形成ユニット７の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号をつけて、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
帯電部２３は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム２１の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム２１の回転動作に伴って感光体ドラム２１に対して従動方向に周速で従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部（図示省略）に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部２３と感光体ドラム２１が当接する帯電位置で感光体ドラム２１の表面を帯電させる。
ラインヘッド２９は、感光体ドラム２１の軸方向（図１の紙面に対して垂直な方向）に配列された複数の発光素子を備えるとともに、感光体ドラム２１から離間配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部２３により帯電された感光体ドラム２１の表面に対して光を照射して該表面に潜像を形成する。なお、この画像形成装置では、各色のラインヘッド２９を制御するためにヘッドコントローラＨＣが設けられ、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤと、エンジンコントローラＥＣからの信号とに基づき各ラインヘッド２９を制御している。すなわち、画像形成指令に含まれる画像データがメインコントローラＭＣの画像処理部５１に入力される。そして、該画像データに対して種々の画像処理が施されて各色のビデオデータＶＤが作成されるとともに、該ビデオデータＶＤがメイン側通信モジュール５２を介してヘッドコントローラＨＣに与えられる。また、ヘッドコントローラＨＣでは、ビデオデータＶＤはヘッド側通信モジュール５３を介してヘッド制御モジュール５４に与えられる。このヘッド制御モジュール５４には、上記したように潜像形成に関連するパラメータ値を示す信号と垂直同期信号ＶsyncがエンジンコントローラＥＣから与えられている。そして、これらの信号およびビデオデータＶＤなどに基づきヘッドコントローラＨＣは各色のラインヘッド２９に対して素子駆動を制御するための信号を作成し、各ラインヘッド２９に出力する。こうすることで、各ラインヘッド２９において発光素子の作動が適切に制御されて画像形成指令に対応する潜像が形成される。
そして、この画像形成装置においては、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの感光体ドラム２１、帯電部２３、現像部２５および感光体クリーナ２７を感光体カートリッジとしてユニット化している。また、各感光体カートリッジには、該感光体カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラＥＣと各感光体カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各感光体カートリッジに関する情報がエンジンコントローラＥＣに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。
現像部２５は、その表面にトナーが担持する現像ローラ２５１を有する。そして、現像ローラ２５１と電気的に接続された現像バイアス発生部（図示省略）から現像ローラ２５１に印加される現像バイアスによって、現像ローラ２５１と感光体ドラム２１とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ２５１から感光体ドラム２１に移動してラインヘッド２９により形成された静電潜像が顕在化される。
このように上記現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ２１に搬送された後、後に詳述する転写ベルト８１と各感光体ドラム２１が当接する１次転写位置ＴＲ1において転写ベルト８１に１次転写される。
また、この画像形成装置では、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ２１の１次転写位置ＴＲ1の下流側で且つ帯電部２３の上流側に、感光体ドラム２１の表面に当接して感光体クリーナ２７が設けられている。この感光体クリーナ２７は、感光体ドラムの表面に当接することで１次転写後に感光体ドラム２１の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
転写ベルトユニット８は、駆動ローラ８２と、図１において駆動ローラ８２の左側に配設される従動ローラ８３（ブレード対向ローラ）と、これらのローラに張架され図示矢印Ｄ８１の方向（搬送方向）へ循環駆動される転写ベルト８１とを備えている。また、転写ベルトユニット８は、転写ベルト８１の内側に、感光体カートリッジ装着時において各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋが有する感光体ドラム２１各々に対して一対一で対向配置される、４個の１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを備えている。これらの１次転写ローラ８５は、それぞれ１次転写バイアス発生部（図示省略）と電気的に接続される。そして、後に詳述するように、カラーモード実行時は、図１に示すように全ての１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋ側に位置決めすることで、転写ベルト８１を画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋそれぞれが有する感光体ドラム２１に押し遣り当接させて、各感光体ドラム２１と転写ベルト８１との間に１次転写位置ＴＲ1を形成する。そして、適当なタイミングで上記１次転写バイアス発生部から１次転写ローラ８５に１次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム２１の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する１次転写位置ＴＲ1において転写ベルト８１表面に転写してカラー画像を形成する。
一方、モノクロモード実行時は、４個の１次転写ローラ８５のうち、カラー１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃをそれぞれが対向する画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃから離間させるとともにモノクロ１次転写ローラ８５Ｋのみを画像形成ステーションＫに当接させることで、モノクロ画像形成ステーションＫのみを転写ベルト８１に当接させる。その結果、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋと画像形成ステーションＫとの間にのみ１次転写位置ＴＲ1が形成される。そして、適当なタイミングで前記１次転写バイアス発生部からモノクロ１次転写ローラ８５Ｋに１次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム２１の表面上に形成されたトナー像を、１次転写位置ＴＲ1において転写ベルト８１表面に転写してモノクロ画像を形成する。
さらに、転写ベルトユニット８は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋの下流側で且つ駆動ローラ８２の上流側に配設された下流ガイドローラ８６を備える。また、この下流ガイドローラ８６は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋが画像形成ステーションＫの感光体ドラム２１に当接して形成する１次転写位置ＴＲ1での１次転写ローラ８５Ｋと感光体ドラム２１との共通内接線上において、転写ベルト８１に当接するように構成されている。
駆動ローラ８２は、転写ベルト８１を図示矢印Ｄ８１の方向に循環駆動するとともに、２次転写ローラ１２１のバックアップローラを兼ねている。駆動ローラ８２の周面には、厚さ３mm程度、体積抵抗率が１０００ｋΩ・ｃｍ以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する２次転写バイアス発生部から２次転写ローラ１２１を介して供給される２次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ８２に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、駆動ローラ８２と２次転写ローラ１２１との当接部分（２次転写位置ＴＲ２）へのシートが進入する際の衝撃が転写ベルト８１に伝達しにくく、画質の劣化を防止することができる。
給紙ユニット１１は、シートを積層保持可能である給紙カセット７７と、給紙カセット７７からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ７９とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ７９により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対８０において給紙タイミングが調整された後、シート案内部材１５に沿って２次転写位置ＴＲ２に給紙される。
２次転写ローラ１２１は、転写ベルト８１に対して離当接自在に設けられ、２次転写ローラ駆動機構（図示省略）により離当接駆動される。定着ユニット１３は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ１３１と、この加熱ローラ１３１を押圧付勢する加圧部１３２とを有している。そして、その表面に画像が２次転写されたシートは、シート案内部材１５により、加熱ローラ１３１と加圧部１３２の加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部１３２は、２つのローラ１３２１，１３２２と、これらに張架される加圧ベルト１３２３とで構成されている。そして、加圧ベルト１３２３の表面のうち、２つのローラ１３２１，１３２２により張られたベルト張面を加熱ローラ１３１の周面に押し付けることで、加熱ローラ１３１と加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体３の上面部に設けられた排紙トレイ４に搬送される。
また、この装置では、ブレード対向ローラ８３に対向してクリーナ部７１が配設されている。クリーナ部７１は、クリーナブレード７１１と廃トナーボックス７１３とを有する。クリーナブレード７１１は、その先端部を転写ベルト８１を介してブレード対向ローラ８３に当接することで、２次転写後に転写ベルトに残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス７１３に回収される。また、クリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３は、ブレード対向ローラ８３と一体的に構成されている。したがって、次に説明するようにブレード対向ローラ８３が移動する場合は、ブレード対向ローラ８３と一緒にクリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３も移動することとなる。
ラインヘッドの構成
図３は、本発明の適用対象であるラインヘッドの一構成の概略を示す斜視図である。また、図４は、ラインヘッドの一構成の幅方向断面図である。図５は、ラインヘッドの分解斜視図である。なお、図５では、ケース等の一部の部材については、記載を省略している。ラインヘッド２９は、主走査方向ＭＤを長手方向ＬＤとするとともに、副走査方向ＳＤを幅方向ＷＤとする。また、ラインヘッド２９は、ケース２９１を備え、かかるケース２９１の両端には位置決めピン２９１１とねじ挿入孔２９１２が設けられている。そして、かかる位置決めピン２９１１を、感光体ドラム２１を覆うとともに感光体ドラム２１に対して位置決めされた感光体カバー（図示省略）に穿設された位置決め孔（図示省略）に嵌め込むことで、ラインヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決めされる。そして更に、ねじ挿入孔２９１２を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔（図示省略）にねじ込んで固定することで、ラインヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決め固定される。
ケース２９１は、感光体ドラム２１の表面に対向する位置にマイクロレンズアレイ２９９を保持するとともに、その内部に、該マイクロレンズアレイ２９９に近い順番で、スペーサ２９７及び素子基板２９３を備えている。スペーサ２９７は、マイクロレンズアレイ２９９と素子基板２９３との間隔を規定する機能を果たすとともに、その内部に中空部２９７１が穿設されている。また、素子基板は２９３は透明のガラス基板であるとともに、その裏面（素子基板２９３が有する２つの面のうちマイクロレンズアレイ２９９と逆側の面）には、複数の発光素子グループ２９５が設けられている。即ち、複数の発光素子グループ２９５は、素子基板２９３の裏面に、長手方向ＬＤ及び幅方向ＷＤに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。ここで、複数の発光素子グループ２９５の各々は、複数の発光素子を配列して構成されるが、これについては後に説明する。また、このラインヘッド２９では、発光素子として有機ＥＬ（Electro-Luminescence）を用いる。つまり、素子基板２９３の裏面に有機ＥＬを発光素子として配置している。そして、複数の発光素子それぞれから感光体ドラム２１の方向に射出される光ビームは、スペーサ２９７の中空部２９７１を通過して、マイクロレンズアレイ２９９へと向かう。
図４に示すように、固定器具２９１４によって、裏蓋２９１３が素子基板２９３を介してケース２９１に押圧されている。つまり、固定器具２９１４は、裏蓋２９１３をケース２９１側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋を押圧することで、ケース２９１の内部を光密に（つまり、ケース２９１内部から光が漏れないように、及び、ケース２９１の外部から光が侵入しないように）密閉している。なお、固定器具２９１４は、長手方向ＬＤに複数箇所設けられている。また、発光素子グループ２９５は、封止部材２９４により覆われている。
図６は、マイクロレンズアレイの長手方向の断面図である。マイクロレンズアレイ２９９は、ガラス基板２９９１を有するとともに、該ガラス基板２９９１を挟むように一対一で配置された２枚のレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂにより構成されるレンズ対を複数有している。なお、これらレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂは樹脂により形成することができる。
つまり、ガラス基板２９９１の表面２９９１Ａには複数のレンズ２９９３Ａが配置されるとともに、複数のレンズ２９９３Ａに一対一で対応するように、複数のレンズ２９９３Ｂがガラス基板２９９１の裏面２９９１Ｂに配置されている。また、レンズ対を構成する２枚のレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂは、相互に光軸ＯＡを共通にする。また、これら複数のレンズ対は、複数の発光素子グループ２９５に一対一で配置されている。なお、この明細書では、一対一の対を成すレンズ対２９９３Ａ，２９９３Ｂと、かかるレンズ対によって挟まれたガラス基板２９９１とから成る光学系を「マイクロレンズＭＬ」と称することとする。そして、これら複数のレンズ対（マイクロレンズＭＬ）は、発光素子グループ２９５の配置に対応して、長手方向ＬＤ及び幅方向ＷＤに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。また、複数のマイクロレンズＭＬそれぞれの光軸ＯＡは、互いに略平行である。
図７は、マイクロレンズアレイおよび発光素子グループの構成を示す図である。マイクロレンズアレイ２９９は、長手方向ＬＤに複数のマイクロレンズＭＬを並べて成るレンズ行ＭＬＲを幅方向ＷＤに３行配列した構造を有する。これらレンズ行ＭＬＲは、幅方向ＷＤに等間隔で配置されている。また、長手方向ＬＤにおいて、複数のマイクロレンズＭＬそれぞれの位置は互いに異なる。さらに、長手方向ＬＤにおいて、複数のマイクロレンズＭＬは等間隔で配置されている。そして、複数のマイクロレンズＭＬに一対一で対応して、複数の発光素子グループ２９５が設けられている。
このラインヘッドでは、長手方向ＬＤに５つの発光素子２９５１を配列して、１つの発光素子グループ２９５を構成している。発光素子グループ２９５を構成する５つの発光素子２９５１のうちの光軸上素子２９５１Ａは、対応するマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡの上に存在する。さらに、各発光素子グループ２９５において、発光素子２９５１は、光軸上素子２９５１Ａに対して対称に配置されている。そして、発光素子２９５１から射出された光ビームは、該発光素子２９５１が対向するマイクロレンズＭＬにより、感光体ドラム２１の表面に結像される。このとき、マイクロレンズＭＬは、倒立等倍で光ビームを結像する。
図８は、倒立等倍の光学特性の説明図である。同説明図では、発光素子グループを構成する５つの発光素子ＯＪに対向して、倒立等倍の光学特性を有する結像光学系ＯＰＳが配置されている。そして、発光素子ＯＪから射出された光ビームは、結像光学系ＯＰＳにより結像面ＳＩＭに結像される。このとき、結像光学系ＯＰＳの光軸ＯＡの上にある発光素子ＯＪ1から射出された光ビームは、光軸ＯＡの上の結像位置ＩＭ1に結像される。また、発光素子ＯＪ2から射出された光ビームは、光軸ＯＡに対して、発光素子ＯＪ2の反対側の結像位置ＩＭ2に結像される。なお、発光素子ＯＪ2から光軸ＯＡまでの距離と、結像位置ＩＭ2から光軸ＯＡまでの距離は等しい。また、発光素子ＯＪ3から射出された光ビームは、光軸ＯＡに対して、発光素子ＯＪ3の反対側の結像位置ＩＭ3に結像される。なお、発光素子ＯＪ3から光軸ＯＡまでの距離と、結像位置ＩＭ3から光軸ＯＡまでの距離は等しい。つまり、倒立等倍の光学特性を有する結像光学系は、倒立像を結像するとともに、その結像倍率は１倍である。
ラインヘッドの潜像形成動作
図９は、ラインヘッドによる潜像形成動作を示す図である。以下に、図２、図７、図９を用いてラインヘッドによる潜像形成動作を説明する。また、発明の理解を容易にするため、主走査方向ＭＤに伸びる直線上に複数のスポットを並べてライン潜像を形成する場合について説明する。概略としては、かかる潜像形成動作では、感光体ドラム２１の表面を副走査方向ＳＤ（幅方向ＷＤ）に搬送しながら、ヘッド制御モジュール５４により複数の発光素子を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向ＭＤ（長手方向ＬＤ）に伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。以下に、詳細について説明する。
ラインヘッド２９では、幅方向位置ＷＤ1〜ＷＤ3の各位置において、発光素子２９５１が長手方向ＬＤに配列されている（図７）。そこで、同一の幅方向位置にある発光素子２９５１は、略同一のタイミングで発光させるとともに、異なる幅方向位置にある発光素子２９５１は、互いに異なるタイミングで発光させる。より具体的には、幅方向位置ＷＤ1〜ＷＤ3の順番で、発光素子２９５１を発光させる。つまり、感光体ドラム２１の表面を副走査方向ＳＤ（幅方向ＷＤ）に搬送しながら、上述の順番で発光素子行２９５１Ｒを発光させることで、該表面の主走査方向ＭＤ（長手方向ＬＤ）に伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
かかる動作を、図７，９を用いて説明する。最初に、幅方向ＷＤに最上流の発光素子グループ２９５Ａ１，２９５Ａ２，２９５Ａ３，…に属する幅方向位置ＷＤ１の複数の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームのそれぞれは、上述の倒立等倍特性を有するマイクロレンズＭＬにより、感光体ドラム２１の表面に結像される。つまり、図９の「１回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号２９５Ｃ１，２９５Ｂ１，２９５Ａ１，２９５Ｃ２でラベルされたスポットは、それぞれ発光素子グループ２９５Ｃ１，２９５Ｂ１，２９５Ａ１，２９５Ｃ２により形成されるスポットであることを示す。
次に、幅方向上流側から２番目の発光素子グループ２９５Ｂ１，２９５Ｂ２，２９５Ｂ３，…に属する幅方向位置ＷＤ2の複数の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームのそれぞれは、上述の倒立等倍特性を有するマイクロレンズＭＬにより、感光体ドラム２１の表面に結像される。つまり、図９の「２回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
最後に、幅方向最下流の発光素子グループ２９５Ｃ１，２９５Ｃ２，２９５Ｃ３，…に属する幅方向位置ＷＤ3の複数の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームのそれぞれは、上述の倒立等倍特性を有するマイクロレンズＭＬにより、感光体ドラム２１の表面に結像される。つまり、図９の「３回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、１〜３回目までの発光動作を実行することで、主走査方向ＭＤ（長手方向ＬＤ）に伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
このように、上述のラインヘッド２９では、倒立等倍の光学特性、つまり非正立等倍の光学特性を有するマイクロレンズＭＬにより、発光素子２９５１から射出された光ビームを結像する。したがって、理想的には、全ての光軸上素子２９５１Ａのそれぞれが、対応するマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡの上に在ることが望ましい。換言すれば、全てのマイクロレンズＭＬのそれぞれが、理想位置にあることが望ましい。なんとなれば、マイクロレンズＭＬが理想位置からずれると、光ビームの結像位置もずれることとなるからである。なお、本明細書では、マイクロレンズＭＬが、その光軸ＯＡが対応する光軸上素子２９５１Ａを通るように配置されているとき、「マイクロレンズＭＬが理想位置にある」と表現する。よって、上述のような非正立等倍のマイクロレンズＭＬを用いるラインヘッドを組み立てるに際しては、マイクロレンズアレイ２９９と素子基板２９３との相対的位置関係を高精度に調整することが重要となる。以下に、かかる高精度の調整を実現する技術について説明する。
第１実施形態
図１０は、本発明の第１実施形態にかかるラインヘッドの調整装置が備えるアレイ移動機構と観察光学系とを示す斜視図である。また、図１１は、ラインヘッドの調整装置を長手方向から見た図である。ラインヘッドの調整装置９は、素子基板２９３を保持可能である基板保持手段９１と、３つのアレイ移動機構９３，９５，９７と、観察光学系９９とを備えている。
基板保持手段９１は、裏面に発光素子グループ２９５を有する素子基板２９３を保持可能に構成されている。つまり、基板保持手段９１は、２つの載置台９１１，９１２を有するとともに、２つの載置台９１１，９１２の間には退避空間９１３が設けられている。２つの載置台９１１，９１２のそれぞれには、Ｌ字状の切欠部９１１１，９１２１が設けられている。また、これら切欠部９１１１，９１２１は、互いに対向するように設けられている。そして、素子基板２９３を基板保持手段９１により保持するに際しては、素子基板２９３の幅方向ＷＤにおける一方端を切欠部９１１１に載置するとともに、素子基板２９３の幅方向ＷＤにおける他方端を切欠部９１２１に載置する。切欠部９１１１，９１２１の間の距離は、幅方向ＷＤにおける素子基板２９３の移動を規制するように設定されている。つまり、基板保持手段９１に載置された素子基板２９３は、切欠部９１１１，９１２１により、幅方向ＷＤへの移動が規制される。なお、幅方向ＷＤに対して略直交する長手方向ＬＤについても、載置された素子基板２９３の移動を規制する同様の機構が、基板保持手段９１に設けられている。このように、基板保持手段９１は、載置された素子基板２９３の幅方向ＷＤおよび長手方向ＬＤへの素子基板２９３の移動を規制して、素子基板２９３を保持している。
また、素子基板２９３が基板保持手段９１に載置された状態において、素子基板２９３の裏面にある発光素子グループ２９５および封止部材２９４は、素子基板２９３に対して重力方向下側に突出する格好となる。しかしながら、上述のとおり基板保持手段９１には退避空間９１３が設けられている。つまり、第１実施形態では、素子基板２９３が基板保持手段９１に載置された状態において、発光素子グループ２９５および封止部材２９４を、退避空間９１３に位置させて他の部材と接触しないように構成されている。
図１１を用いてアレイ移動機構９３について説明する。アレイ移動機構９３は、マイクロメータヘッド９３１と付勢ロッド９３２とを有する。マイクロメータヘッド９３１は、基板保持手段９１に対して固定された支持部材９３３により支持されている。また、マイクロメータヘッド９３１のストロークである移動ロッド９３１１は、つまみ９３１２の回転に伴って、ストローク方向ＳＤ93に進退する。付勢ロッド９３２は、移動ロッド９３１１に対向して配置されている。同図が示すように、付勢ロッド９３２は、支持部材９３４に穿設された孔に嵌合するとともに、当該孔をストローク方向ＳＤ93に進退可能である。なお、支持部材９３４は、基板保持手段９１に対して固定されている。また、基板保持手段９１に対して固定された支持部材９３５と付勢ロッド９３２とは、付勢手段９３６により連接されている。その結果、付勢ロッド９３２は、ストローク方向ＳＤ93に付勢されている。
そして、アレイ移動機構９３は、次のようにしてマイクロレンズアレイ２９９を動かす。基板保持手段９１に載置された素子基板２９３の上にスペーサ２９７を置き、さらにスペーサ２９７の上にマイクロレンズアレイ２９９を置いたとき、マイクロレンズアレイ２９９は、移動ロッド９３１１と付勢ロッド９３２との間に位置する。また、このとき、複数のマイクロレンズＭＬそれぞれの光軸ＯＡは素子基板２９３の表面と略直交する。この状態において、つまみ９３１２を回して移動ロッド９３１１の進退を調整すると、移動ロッド９３１１と付勢ロッド９３２により、マイクロレンズアレイ２９９が挟まれる。そして、マイクロレンズアレイ２９９が２つのロッド９３１１，９３２に挟まれた状態において移動ロッドを進退させることで、マイクロレンズアレイ２９９をストローク方向ＳＤ93に動かすことができる。なお、このとき、付勢ロッド９３２は、ストローク方向ＳＤ93において移動ロッド９３１１に向けて付勢されている。よって、マイクロレンズアレイ２９９は、移動ロッド９３１１と付勢ロッド９３２とにより、かかる付勢力でもって挟持されつつ、動かされることとなる。
図１０が示すように、アレイ移動機構９５は、マイクロメータヘッド９５１と付勢ロッド９５２とを有する。そして、つまみ９５１２を回してマイクロメータヘッド９５１のストロークである移動ロッド９５１１を進退させることで、マイクロレンズアレイ２９９をストローク方向ＳＤ95に動かすことが可能である。なお、アレイ移動機構９５の構成・動作の詳細は、アレイ移動機構９３と同様であるので説明を省略する。
また、アレイ移動機構９７は、マイクロメータヘッド９７１と付勢ロッド９７２とを有する。アレイ移動機構９７のマイクロメータヘッド９７１と付勢ロッド９７２は、長手方向ＬＤからマイクロレンズアレイ２９９を挟む点で、上述したアレイ移動機構９３，９５と異なる。そして、つまみ９７１２を回してマイクロメータヘッド９７１のストロークである移動ロッド９７１１を進退させることで、マイクロレンズアレイ２９９をストローク方向ＳＤ97に動かすことが可能である。なお、アレイ移動機構９７の構成・動作の詳細は、アレイ移動機構９３と同様であるので説明を省略する。
図１０が示すように、ストローク方向ＳＤ93，ＳＤ95は幅方向ＷＤと略平行であるとともに、ストローク方向ＳＤ97は長手方向ＬＤと略平行である。つまり、アレイ移動機構９３，９５はマイクロレンズアレイ２９９を幅方向ＷＤに移動させる機能を果たすとともに、アレイ移動機構９７はマイクロレンズアレイ２９９を長手方向ＬＤに移動させる機能を果たす。そして、以下の説明において、アレイ移動機構９３，９５，９７が、本発明の「アレイ保持手段」および「位置調整手段」として機能する。
観察光学系９９は、マイクロレンズアレイ２９９がスペーサ２９７の上に載置された状態において、マイクロレンズアレイ２９９の長手方向ＬＤにおける一方端部を重力方向上側から臨むように、配置されている。このとき、観察光学系９９はマイクロレンズＭＬの光軸方向からマイクロレンズアレイ２９９を観ることとなる。つまり、観察光学系９９は、マイクロレンズＭＬの光軸ＯＡに対して垂直な平面に投影された映像を観る。そして、観察光学系９９は、発光素子２９５１および該発光素子２９５１から射出された光ビームの像を観察することが可能である。また、観察光学系９９は、十字カーソルを有し、該十字カーソルを用いて発光素子２９５１の位置に関する位置情報を取得する。かかる十字カーソルは、観察光学系９９が観察する映像の任意の点に対して、移動および固定可能に構成されている。なお、十字カーソルの詳細および十字カーソルを用いた位置情報の取得動作は、以下の説明において明らかにする。また、以下の説明において、観察光学系９９が、本発明の「位置情報取得手段」として機能する。次に、上述した調整装置９を用いて実行されるラインヘッドの調整方法について説明する。
図１２は、ラインヘッドの調整方法を示すフローチャートである。図１３は、図１２のフローチャートに対応する動作説明斜視図である。なお、図１３では、理解の容易のため、発光素子グループは対象素子を含む発光素子グループのみを、また、マイクロレンズは対象素子に対向するマイクロレンズのみを示している。図１４は、図１２のフローチャートに対応する動作説明正面図である。つまり、図１４は、観察光学系が観る調整動作を示している。
ステップＳ１０１において、素子基板２９３を基板保持手段９１に配置する（基板配置工程）。ステップＳ１０２において、観察光学系９９を用いて、対象素子ＯＥを含む発光素子２９５１の像を観察する。なお、第１実施形態では、幅方向ＷＤに並ぶ３行のレンズ行ＭＬＲのうち真中のレンズ行ＭＬＲ（つまり、図７において幅方向位置ＷＤ2に配置されるレンズ行ＭＬＲ）に属する複数のマイクロレンズＭＬのうち、図７において最も左側に位置するマイクロレンズＭＬに対向する光軸上素子２９５１Ａを、対象素子ＯＥとする。
ステップＳ１０３において、対象素子ＯＥの位置に十字カーソルＣＣの照準点を合わせて、該照準点の位置を対象素子ＯＥの位置に関する位置情報として取得する（位置情報取得工程）。ここで、十字カーソルＣＣの照準点とは、十字を構成する２本の直線の交点である。また、本明細書において、「対象素子ＯＥの位置に十字カーソルＣＣの照準点を合わせる」とは、対象素子ＯＥから光軸ＯＡ方向に伸びる直線ＯＥＬの上に、十字カーソルＣＣの照準点を合わせることを言う。
ステップＳ１０４において、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着する。なお、「仮装着」とは、マイクロレンズアレイ２９９を、素子基板２９３に対して可動である状態を保ちつつ該素子基板２９３に対向する位置に配置する動作を表す。つまり、ステップＳ１０４では、図１１を用いて説明したように、素子基板２９３の上にスペーサ２９７を載置し、さらにスペーサ２９７の上にマイクロレンズアレイ２９９を配置する。このとき、複数のマイクロレンズＭＬのそれぞれが対応する発光素子グループ２９５に対向するように、マイクロレンズアレイ２９９を配置する（アレイ配置工程）。
そして、次に対象素子ＯＥに対して、光軸調整処理を実行する。この光軸調整処理では、まず、対象素子ＯＥを発光させる。このとき、対象素子ＯＥには、対応するマイクロレンズＭＬが対向している。したがって、対象素子ＯＥから射出された光ビームは、マイクロレンズＭＬにより像ＩＥとして結像される。なお、光軸ＯＡの方向において、対象素子ＯＥの位置と像ＩＥの位置とはマイクロレンズＭＬの共役長だけ離れているので、観察光学系９９により像ＩＥを観察するためには、観察光学系９９を光軸ＯＡの方向に素子基板２９３から離す必要がある。
ところで、対象素子ＯＥは光軸上素子２９５１であるので、本来的には、マイクロレンズＭＬの光軸ＯＡの上に像ＩＥは結像される。したがって、本来的には、対象素子ＯＥと当該対象素子ＯＥから射出された光ビームの像ＩＥとの面内距離ｄ1（図１３，１４参照）は、ゼロとなるはずである。しかしながら、図１３，１４の「Ｓ１０４」の欄に示すように、面内距離ｄ1はゼロではない。ここで、本明細書における「面内距離」について説明する。
図１５は、面内距離の説明図である。本明細書において、対象素子ＯＥと当該対象素子ＯＥから射出された光ビームの像ＩＥとの面内距離ｄは、マイクロレンズＭＬの光軸ＯＡに垂直な仮想平面である仮想垂直面ＨＰＬの面内にある２点の間の距離として定義される。つまり、仮想垂直面ＨＰＬに対して、対象素子ＯＥと像ＩＥとを投影した点をそれぞれ点ＰＪ(OE)、点ＰＪ(IE)としたとき、面内距離ｄは点ＰＪ(OE)と点ＰＪ(IE)との距離である。ここで、仮想垂直面ＨＰＬに対する投影とは、光軸方向からの投影を指す。このとき、仮想垂直面ＨＰＬの光軸方向ＯＡにおける位置に依らず、面内距離ｄが一義的に決まることは明らかである。よって、仮想平面ＨＰＬは、光軸ＯＡに対して垂直であればよく、光軸方向における位置に対しては任意に設定できる。
また、対象素子ＯＥの位置を仮想垂直面ＨＰＬに投影した位置ＰＪ(OE)は、十字カーソルＣＣの照準点の位置（位置情報）により与えられる。つまり、上述の通り十字カーソルＣＣの照準点は対象素子ＯＥから光軸ＯＡ方向に伸びる直線ＯＥＬの上に在る。よって、十字カーソルＣＣの照準点を仮想垂直面ＨＰＬに投影した位置は、即ち、対象素子ＯＥの位置を仮想垂直面ＨＰＬに投影した位置ＰＪ(OE)となる。このように、上述してきた実施形態において、面内距離ｄは、観察光学系９９が観る像ＩＥの位置と十字カーソルＣＣの照準点との間の距離となる。なお、以下の説明において「対象素子ＯＥの面内距離」と称した場合は、「対象素子ＯＥの位置と当該対象素子ＯＥから射出された光ビームの像ＩＥとの面内距離」を意味するものとする。
面内距離ｄ1が発生する原因は、光軸上素子である対象素子ＯＥが光軸ＯＡの上に無い、つまり、発光素子２９５１とマイクロレンズＭＬとの相対的位置関係が理想的でない（マイクロレンズＭＬが理想位置に無い）ことにある。そこで、光軸調整処理では、ステップＳ１０５に進んで、アレイ移動機構９３，９５，９７を用いて、面内距離ｄ1が所定条件を満たすようにマイクロレンズアレイの位置を調整する（位置調整工程）。具体的には、第１実施形態では、面内距離ｄ1がゼロとなるように（つまり、観察光学系９９から観て像ＩＥと十字カーソルＣＣの照準点とが重なるように）マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する。こうして光軸調整処理を実行することにより位置調整工程が完了すると、ステップＳ１０６において、マイクロレンズアレイ２９９、スペーサ２９７を素子基板２９３に対して固定する。
上述のとおり、第１実施形態では、まず、マイクロレンズアレイ２９９が装着されていない状態において、素子基板２９３の面に設けられた複数の発光素子２９５１のうち、対象素子ＯＥに十字カーソルＣＣの照準点を合わせて、該対象素子ＯＥの位置情報を取得する。次に、素子基板２９３に対向するようにマイクロレンズアレイ２９９を配置して（つまり、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着して）、光軸調整処理を実行する。かかる光軸調整処理では、マイクロレンズＭＬの光軸ＯＡに垂直な仮想平面を仮想垂直面ＨＰＬとしたとき、先に取得された位置情報（十字カーソルＣＣの照準点の位置）が与える対象素子ＯＥの位置を仮想垂直面ＨＰＬに投影した位置ＯＪ(OE)と、対象素子ＯＥを発光させて射出される光ビームのマイクロレンズＭＬによる像ＩＥの位置を仮想垂直面ＨＰＬに投影した位置ＰＪ(IE)との面内距離ｄ1がゼロとなるように、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整する。つまり、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係の調整を、マイクロレンズアレイ２９９を装着しない状態における対象素子ＯＥの位置と、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着した状態における対象素子ＯＥからの光ビームのマイクロレンズＭＬによる像との比較に基づいて実行している。よって、上記発明は、マイクロレンズアレイを仮装着した状態の光量分布にのみに基づいて素子基板とマイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する従来技術と比較して、より高精度な調整が可能となっている。
また、上記実施形態では、対象素子ＯＥを発光させて射出される光ビームのマイクロレンズＭＬによる像ＩＥの位置に基づいて、光軸調整処理を実行する。したがって、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着した状態において、素子基板２９３に対する照明が不十分で、対象素子ＯＥの形状が読み取りずらい（つまり、対象素子ＯＥのマイクロレンズＭＬによる像が良好に観察できず、結果として対象素子ＯＥのマイクロレンズによる像の位置を特定できない）場合であっても、対象素子ＯＥから射出される光ビームのマイクロレンズＭＬによる像ＩＥを観察することで、実質的に対象素子ＯＥのマイクロレンズＭＬによる像の位置を特定することが可能であり、好適である。
特に、第１実施形態では、光軸調整処理において、面内距離ｄ1がゼロとなるように素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。このとき、対象素子ＯＥの位置を仮想垂直面ＨＰＬに投影した位置ＰＪ(OE)と、対象素子ＯＥを発光させて射出される光ビームのマイクロレンズＭＬによる像ＩＥの位置を仮想垂直面ＨＰＬに投影した位置ＰＪ(IE)とが一致する。換言すれば、対象素子ＯＥと対象素子ＯＥの像ＩＥとが光軸ＯＡの上に並ぶこととなり、光軸上素子である対象素子ＯＥがマイクロレンズＭＬの光軸上に位置する。よって、対象素子ＯＥを含む発光素子グループ２９５に対応するマイクロレンズＭＬの位置を理想位置とすることが可能となり好適である。
第２実施形態
第１実施形態では、１つの対象素子ＯＥに対してのみ光軸調整処理を行った。しかしながら、２つの対象素子に対して光軸調整処理を行ってもよい。そこで、第２実施形態では、２つの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2に対して光軸調整処理を実行する。
図１６は、第２実施形態におけるラインヘッドの調整装置を示す図である。同図が示すように、第２実施形態における調整装置は、２つの観察光学系９９１，９９２を長手方向ＬＤにおいて素子基板２９３の両端に配置している。つまり、後述の説明で明らかとなるように、２つの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2に対応して２つの観察光学系９９１，９９２を設けている。そして、これら観察光学系９９１，９９２が、本発明の「位置情報取得手段」として機能する。それ以外の調整装置の構成は、第１実施形態と同様である。図１７は、第２実施形態における調整動作を示す正面図である。つまり、図１７は、観察光学系が観る調整動作を示している。なお、第２実施形態で実行する調整動作のフローは基本的に第１実施形態と同様であるので、フローについては図１２のフローチャートを参照しつつ説明する。
ステップＳ１０１において、素子基板２９３を基板保持手段９１に置く（基板配置工程）。ステップＳ１０２において、観察光学系９９１を用いて対象素子ＯＥ1を含む素子基板２９３の像を観察するとともに、観察光学系９９２を用いて対象素子ＯＥ2を含む素子基板２９３の像を観察する。なお、第２実施形態では、幅方向ＷＤに並ぶ３行のレンズ行ＭＬＲのうち真中のレンズ行ＭＬＲ（つまり、図７において幅方向位置ＷＤ2に配置されるレンズ行ＭＬＲ）に属する複数のマイクロレンズＭＬのうち、両端に位置する２つのマイクロレンズＭＬそれぞれに対向する光軸上素子２９５１Ａを対象素子ＯＥ1，ＯＥ2としている。ちなみに、左端側の対象素子に対しては符号ＯＥ1を付し、右端側の対象素子に対しては符号ＯＥ2を付した。そして、ステップＳ１０３において、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2それぞれの位置に十字カーソルＣＣの照準点を合わせて、これら２つの十字カーソルＣＣそれぞれの照準点の位置を、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2の位置に関する位置情報として取得する（位置情報取得工程）。
ステップＳ１０４において、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着する。つまり、ステップＳ１０４では、図１１を用いて説明したように、素子基板２９３の上にスペーサ２９７を載置し、さらにスペーサ２９７の上にマイクロレンズアレイ２９９を配置する。このとき、複数のマイクロレンズＭＬのそれぞれが対応する発光素子グループ２９５１に対向するように、マイクロレンズアレイ２９９を配置する（アレイ配置工程）。
そして、次にそれぞれの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2に対して光軸調整処理を実行する。この光軸調整処理では、まず、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2を発光させる。このとき、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2には、対応するマイクロレンズＭＬが対向している。したがって、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2から射出された光ビームは、マイクロレンズＭＬにより像ＩＥ1，ＩＥ2として結像される。そして、ステップＳ１０５に進んで、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2それぞれの面内距離ｄ21，ｄ22が所定条件を満たすようにマイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する（位置調整工程）。具体的には、第２実施形態では、面内距離ｄ21，ｄ22がゼロとなるように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する。これにより、図１７の「Ｓ１０４」の欄においては、それぞれ有限の長さを有する面内距離ｄ21，ｄ22が、同図「Ｓ１０５」の欄に示すようにゼロとなる。こうして光軸調整処理を実行することにより位置調整工程が完了すると、ステップＳ１０６において、マイクロレンズアレイ２９９、スペーサ２９７を素子基板２９３に対して固定する。
上述のとおり、第２実施形態では、マイクロレンズＭＬを装着しない場合の対象素子ＯＥ1，ＯＥ2の位置とマイクロレンズＭＬを仮装着した場合の該マイクロレンズＭＬによる像ＩＥ1，ＩＥ2の位置とを比較して、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。つまり、２つの面内距離ｄ21，ｄ22がゼロとなるように、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。よって、発光素子２９５１とマイクロレンズＭＬとの相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。その結果、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。さらに、第２実施形態では、２つの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2に対して光軸調整処理を実行して、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整しており、第１実施形態と比較してより高精度な調整が実現されている。
第３実施形態
上記第１・第２実施形態は、いずれも、マイクロレンズアレイ２９９におけるマイクロレンズＭＬの配列間隔と、素子基板２９３における発光素子グループ２９５の配列間隔とが、完全に同一かつ一様であるとの前提で説明を行った。つまり、例えば、第２実施形態では、２つの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2それぞれの面内距離ｄ21，d22をゼロにすると説明した。しかしながら、実際の製造工程において形成されるこれらの部材（マイクロレンズアレイ２９９、素子基板２９３）は、長手方向ＬＤにおいて素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との長さが異なっていたり、マイクロレンズアレイ２９９におけるマイクロレンズＭＬの配列間隔が一様でなかったり、素子基板２９３における発光素子グループ２９５の配列間隔が一様でなかったり、或いは、マイクロレンズＭＬの配列間隔と発光素子グループ２９５の配列間隔とが異なっていたりと、さまざまなバラツキが存在する可能性がある。したがって、必ずしも面内距離ｄ21，d22の両方をゼロにすることが可能であるとは限らない。つまり、面内距離ｄ21をゼロにすると、面内距離d22をゼロにすることが不可能である場合も考えられる。
そこで、次に、上述のバラツキが存在する場合であっても、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することを可能とする技術について説明する。なお、以下に説明する第３実施形態では、バラツキの一例として、長手方向ＬＤにおいて、マイクロレンズアレイ２９９が素子基板２９３よりも短いことを仮定している。
図１８は、第３実施形態における調整動作を示す正面図である。つまり、図１８は、観察光学系が観る調整動作を示している。第３実施形態でのラインヘッドの調整装置は、第２実施形態のそれと同様である。また、第３実施形態で実行する調整動作のフローは基本的に第１実施形態と同様であるので、フローについては図１２のフローチャートを参照しつつ説明する。
ステップＳ１０１〜ステップＳ１０３の動作については、第２実施形態と同様であるので、説明を省略する。ステップＳ１０４において、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着する。つまり、ステップＳ１０４では、図１１を用いて説明したように、素子基板２９３の上にスペーサ２９７を載置し、さらにスペーサ２９７の上にマイクロレンズアレイ２９９を配置する。このとき、複数のマイクロレンズＭＬのそれぞれが対応する発光素子グループ２９５１に対向するように、マイクロレンズアレイ２９９を配置する（アレイ配置工程）。
そして、次にそれぞれの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2に対して光軸調整処理を実行する。この光軸調整処理では、まず、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2を発光させる。このとき、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2には、対応するマイクロレンズＭＬが対向している。したがって、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2から射出された光ビームは、マイクロレンズＭＬにより像ＩＥ1，ＩＥ2として結像される。そして、ステップＳ１０５に進んで、面内距離が所定条件を満たすように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する（位置調整工程）。具体的には、第３実施形態では、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2それぞれの面内距離ｄ21，ｄ22が案分されるように、つまり
ｄ21＝ｄ22
となるように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する。これにより、図１８の「Ｓ１０４」の欄においては互いに異なる長さを有する面内距離ｄ21，ｄ22が、同図「Ｓ１０５」の欄に示すよう面内距離ｄ21，ｄ22の長さが互いに等しくなる。こうして光軸調整処理を実行することにより位置調整工程が完了すると、ステップＳ１０６において、マイクロレンズアレイ２９９、スペーサ２９７を素子基板２９３に対して固定する。
上述のとおり、第３実施形態では、マイクロレンズＭＬを装着しない場合の対象素子ＯＥ1，ＯＥ2の位置とマイクロレンズＭＬを仮装着した場合の該マイクロレンズＭＬによる像ＩＥ1，ＩＥ2の位置とを比較して、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。つまり、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2それぞれの面内距離ｄ21，ｄ22が互いに等しくなるように、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。よって、発光素子２９５１とマイクロレンズＭＬとの相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。その結果、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。
さらに、第３実施形態における光軸調整処理では、２つの面内距離ｄ21，ｄ22をゼロにするのではなく、面内距離ｄ21，ｄ22の長さが互いに等しくなるように調整している。このような調整処理は、製造工程において形成された素子基板２９３・マイクロレンズアレイ２９９にバラツキがある場合に特に好適である。つまり、このようなバラツキがあると、光軸調整処理において、面内距離ｄ21，ｄ22の両方をゼロにすることが不可能である場合が考えられる。その結果、光軸調整処理を終了できないという場合が考えられる。これに対して第３実施形態における光軸調整処理では、面内距離ｄ21，ｄ22の長さが互いに等しくなるように調整しているため、光軸調整処理を終了できないという問題を回避することが可能となっており、好適である。
第４実施形態
第３実施形態では、素子基板２９３、マイクロレンズアレイ２９９にバラツキがある場合に好適である調整方法について説明した。しかしながら、これらの部材の製造工程に起因して発生する問題としては、上述のようなバラツキのみではなく、素子基板２９３・マイクロレンズアレイ２９９が湾曲するという問題が発生する場合がある。そこで、以下に説明する第４実施形態では、このような湾曲が存在した場合においても、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することが可能である技術について説明する。
図１９は、素子基板の湾曲の様子を示す図である。なお、以下の説明では、素子基板２９３のみが図１９に示すように湾曲しているものとし、マイクロレンズアレイ２９９は湾曲していないものとする。図２０は、第４実施形態における調整動作を示す正面図である。つまり、図２０は、観察光学系が観る調整動作を示している。なお、第４実施形態では、観察光学系は、３つの対象素子に一対一で対応して３つ設けられる。また、第４実施形態で実行する調整動作のフローは基本的に第１実施形態と同様であるので、フローについては図１２のフローチャートを参照しつつ説明する。
図１９，２０が示すように、第４実施形態において素子基板２９３は湾曲している。つまり、素子基板２９３の中央に対して、素子基板２９３の右端または左端は、素子基板２９３の幅方向に距離ｆ1だけずれている。そこで、第４実施形態では、光軸調整処理を、「左端」「右端」「中央」の３箇所の対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3について実行する。つまり、幅方向ＷＤに並ぶ３行のレンズ行ＭＬＲのうち真中のレンズ行ＭＬＲ（つまり、図７において幅方向位置ＷＤ2に配置されるレンズ行ＭＬＲ）に属する複数のマイクロレンズＭＬのうち、「左端」に位置するマイクロレンズＭＬに対応する光軸上素子である対象素子ＯＥ1と、「右端」に位置するマイクロレンズＭＬに対応する光軸上素子である対象素子ＯＥ2と、「中央」に位置するマイクロレンズＭＬに対応する光軸上素子である対象素子ＯＥ3に対して光軸調整処理を実行する。なお、「中央」に位置するマイクロレンズＭＬとは、レンズ行ＭＬＲが（２Ｎ＋１）個のマイクロレンズＭＬで構成される場合は左或いは右から（Ｎ＋１）番目のマイクロレンズＭＬを指し、レンズ行ＭＬＲが２Ｎ個のマイクロレンズＭＬで構成される場合は左或いは右からＮ番目のマイクロレンズＭＬを指す。ここでＮは整数である。そして、ステップＳ１０３において、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3それぞれの位置に十字カーソルＣＣの照準点を合わせて、これら３つの十字カーソルＣＣそれぞれの照準点の位置を、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3の位置に関する位置情報として取得する（位置情報取得工程）。ちなみに、第４実施形態においては、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3それぞれに対して観察光学系が設けられているものとする。すなわち、第４実施形態では、「左端」「右端」「中央」の３ヵ所に観察光学系が設けられている。
ステップＳ１０４において、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着する。つまり、ステップＳ１０４では、図１１を用いて説明したように、素子基板２９３の上にスペーサ２９７を載置し、さらにスペーサ２９７の上にマイクロレンズアレイ２９９を配置する。このとき、複数のマイクロレンズＭＬのそれぞれが対応する発光素子グループ２９５１に対向するように、マイクロレンズアレイ２９９を配置する（アレイ配置工程）。
次に、それぞれの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3に対して光軸調整処理を実行する。この光軸調整処理では、まず、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3を発光させる。このとき、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3には、対応するマイクロレンズＭＬが対向している。したがって、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3から射出された光ビームは、マイクロレンズＭＬにより像ＩＥ1，ＩＥ2，ＩＥ3として結像される。そして、ステップＳ１０５に進んで、面内距離が所定条件を満たすように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する（位置調整工程）。具体的には、第４実施形態では、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3それぞれの面内距離ｄ31，ｄ32，ｄ33の平均値、すなわち
ａｖ＝（ｄ31+ｄ32+ｄ33）／３
が最小となるように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する。これにより、図２０の「Ｓ１０４」の欄と「Ｓ１０５」の欄との比較からも判るように、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3それぞれの面内距離ｄ31，ｄ32，ｄ33を減少させることが可能となる。こうして光軸調整処理を実行することにより位置調整工程が完了すると、ステップＳ１０６において、マイクロレンズアレイ２９９、スペーサ２９７を素子基板２９３に対して固定する。
上述のとおり、第４実施形態では、マイクロレンズＭＬを装着しない場合の対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3の位置とマイクロレンズＭＬを仮装着した場合の該マイクロレンズＭＬによる像ＩＥ1，ＩＥ2，ＩＥ3の位置とを比較して、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。つまり、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3それぞれの面内距離ｄ31，ｄ32，ｄ33の平均値が最小となるように、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。よって、発光素子２９５１とマイクロレンズＭＬとの相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。その結果、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。
さらに、第４実施形態においては、「左端」と「右端」以外の位置（同実施形態では「中央」）にも対象素子を設け、これら３つの対象素子に対して光軸調整処理を実行している。よって、素子基板２９３の湾曲をも考慮して、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。
第５実施形態
上述の第１〜第４実施形態では、ラインヘッド２９に求められる位置精度については、特に考慮してこなかった。しかしながら、ラインヘッド２９に求められる位置精度は、ラインヘッド２９の使用目的等によって異なる。つまり、例えば、ラインヘッド２９を画像形成装置に用いるような場合、画像形成装置が実現しようとする解像度によって、ラインヘッド２９に求められる位置精度は変わる。そこで、第５実施形態では、所望の位置精度を簡便に実現する技術について説明する。
図２１は、第５実施形態で用いる十字カーソルの説明図である。第１〜第４実施形態で用いた十字カーソルＣＣは、図２１の上段に示す十字カーソルＣＣである。十字カーソルＣＣは、照準点ＡＰにおいて互いに交差する２つの直線により構成される。一方、第５実施形態で用いる十字カーソルは、図２１の下段に示す円付十字カーソルＣＣＣである。円付十字カーソルＣＣＣは、２本の直線が交わる照準点ＡＰを中心とする半径ｒの円ＣＲを有する。よって、円ＣＲの内側に存在する点は、照準点ＡＰからの距離が距離ｒ未満となる。また、図２２は、第５実施形態における調整動作を示す正面図である。つまり、図２２は、観察光学系が観る調整動作を示している。第５実施形態でのラインヘッドの調整装置は、第３実施形態のそれと同様である。また、第５実施形態で実行する調整動作のフローは基本的に第１実施形態と同様であるので、フローについては図１２のフローチャートを参照しつつ説明する。
ステップＳ１０１〜ステップＳ１０３の動作については、第３実施形態と同様であるので、説明を省略する。つまり、第５実施形態では、第３実施形態と同様に「左端」「右端」に対象素子ＯＥ1，ＯＥ2を設定している。但し、ステップＳ１０３において、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2の位置を取得する際に用いる十字カーソルが、円ＣＲを設けた円付十字カーソルＣＣＣである点においては異なる。
ステップＳ１０４において、マイクロレンズアレイ２９９を仮装着する。つまり、ステップＳ１０４では、図１１を用いて説明したように、素子基板２９３の上にスペーサ２９７を載置し、さらにスペーサ２９７の上にマイクロレンズアレイ２９９を配置する。このとき、複数のマイクロレンズＭＬのそれぞれが対応する発光素子グループ２９５１に対向するように、マイクロレンズアレイ２９９を配置する（アレイ配置工程）。
そして、次にそれぞれの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2に対して光軸調整処理を実行する。この光軸調整処理では、まず、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2を発光させる。このとき、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2には、対応するマイクロレンズＭＬが対向している。したがって、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2から射出された光ビームは、マイクロレンズＭＬにより像ＩＥ1，ＩＥ2として結像される。そして、ステップＳ１０５に進んで、面内距離が所定条件を満たすように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する（位置調整工程）。具体的には、第５実施形態では、観察光学系９９１，９９２から観て、像ＩＥ1，ＩＥ2のそれぞれが、対応する円付十字カーソルＣＣＣの円ＣＲの内側にくるように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する。これにより、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2の面内距離ｄ21，ｄ22は、距離ｒ未満となる。こうして光軸調整処理を実行することにより位置調整工程が完了すると、ステップＳ１０６において、マイクロレンズアレイ２９９、スペーサ２９７を素子基板２９３に対して固定する。
上述のとおり、第５実施形態では、マイクロレンズＭＬを装着しない場合の対象素子ＯＥ1，ＯＥ2の位置とマイクロレンズＭＬを仮装着した場合の該マイクロレンズＭＬによる像ＩＥ1，ＩＥ2の位置とを比較して、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。つまり、２つの面内距離ｄ21，ｄ22のいずれもが距離ｒ未満となるように、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。よって、発光素子２９５１とマイクロレンズＭＬとの相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。その結果、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。
さらに、第５実施形態では、面内距離ｄ21，ｄ22が距離ｒ未満になったことをもって光軸調整処理を完了することが可能である。特に円付十字カーソルＣＣＣを用いる方法においては、観察光学系９９１，９９２から観て、像ＩＥ1，ＩＥ2が対応する円付十字カーソルＣＣＣの円ＣＲの内側に入ったことをもって、光軸調整処理を完了できる。よって、例えば、面内距離ｄ21，ｄ22がゼロとなるまで光軸調整処理を実行する等の必要がない。よって、光軸調整処理の簡素化が図られており好適である。また、距離ｒを適宜設定することで所望のラインヘッドの位置精度に対応した光軸調整処理の実行が可能であり、簡便に所望の位置精度を実現できるという点においても好適である。
第６実施形態
第５実施形態のように、円付十字カーソルＣＣＣを用いる方法は、例えば、第４実施形態で説明したような、３つの対象素子を設ける構成においても適用可能である。そこで、以下に説明する第６実施形態では、第４実施形態で説明した調整方法において、円付十字カーソルＣＣＣを用いた調整方法について説明する。
図２３は、第６実施形態における調整動作を示す正面図である。つまり、図２３は、観察光学系が観る調整動作を示している。第６実施形態でのラインヘッドの調整装置は、第４実施形態のそれと同様である。また、第６実施形態で実行する調整動作のフローは基本的に第１実施形態と同様であるので、フローについては図１２のフローチャートを参照しつつ説明する。
ステップＳ１０１〜ステップＳ１０３の動作については、第４実施形態と同様であるので、説明を省略する。つまり、第６実施形態では、第４実施形態と同様に「左端」「右端」「中央」に対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3を設定している。但し、ステップＳ１０３において、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3の位置を取得する際に用いる十字カーソルが、円ＣＲを設けた円付十字カーソルＣＣＣである点においては異なる。
そして、次にそれぞれの対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3に対して光軸調整処理を実行する。この光軸調整処理では、まず、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3を発光させる。このとき、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3には、対応するマイクロレンズＭＬが対向している。したがって、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3から射出された光ビームは、マイクロレンズＭＬにより像ＩＥ1，ＩＥ2，ＩＥ3として結像される。そして、ステップＳ１０５に進んで、面内距離が所定条件を満たすように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する（位置調整工程）。具体的には、第６実施形態では、観察光学系から観て、像ＩＥ1，ＩＥ2，ＩＥ3のそれぞれが、対応する円付十字カーソルＣＣＣの円ＣＲの内側にくるように、マイクロレンズアレイ２９９の位置を調整する。これにより、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3の面内距離ｄ31，ｄ32，ｄ33は、いずれも距離ｒ未満となる。こうして光軸調整処理を実行することにより位置調整工程が完了すると、ステップＳ１０６において、マイクロレンズアレイ２９９、スペーサ２９７を素子基板２９３に対して固定する。
上述のとおり、第６実施形態では、マイクロレンズＭＬを装着しない場合の対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3の位置とマイクロレンズＭＬを仮装着した場合の該マイクロレンズＭＬによる像ＩＥ1，ＩＥ2，ＩＥ3の位置とを比較して、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。つまり、対象素子ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3の面内距離ｄ31，ｄ32，ｄ33のいずれもが距離ｒ未満となるように、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。よって、発光素子２９５１とマイクロレンズＭＬとの相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。その結果、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を高精度に調整することが可能となっている。
さらに、第６実施形態では、面内距離ｄ31，ｄ32，ｄ33が距離ｒ未満になったことをもって光軸調整処理を完了することが可能である。特に円付十字カーソルＣＣＣを用いる方法においては、像ＩＥ1，ＩＥ2，ＩＥ3が対応する円付十字カーソルＣＣＣの円ＣＲの内側に入ったことをもって、光軸調整処理を完了できる。よって、例えば、面内距離ｄ31，ｄ32，ｄ33がゼロとなるまで光軸調整処理を実行する等の必要がない。よって、光軸調整処理の簡素化が図られており好適である。また、距離ｒを適宜設定することで所望の位置精度に対応した光軸調整処理の実行が可能であり、簡便に所望の位置精度を実現できるという点においても好適である。
その他
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上述の第２〜６実施形態では、対象素子に対向するマイクロレンズＭＬはいずれも同一のレンズ行ＭＬＲに属する。つまり、同一のレンズ行ＭＬＲに対応する光軸上素子から対象素子を選んでいる。しかしながら、対象素子の設定の態様はこれに限られるものではなく、複数のレンズ行ＭＬＲに対応する光軸上素子から対象素子を選んでもよい。
図２４、２５は、対象素子の設定態様のバリエーションを示す図である。図２４では、長手方向の両端にある２つのマイクロレンズのそれぞれに対応する光軸上素子を対象素子ＯＥ1，ＯＥ2としている。このとき、位置調整工程において、マイクロレンズアレイの長手方向の両端に位置する２つの対象素子について光軸調整処理が実行され、マイクロレンズアレイと素子基板の相対的位置関係がより高精度に調整することが可能となり好適である。また、図２５では、素子基板２９３の四隅にある光軸上素子を、対象素子ＯＥ1〜ＯＥ4としている。この場合、マイクロレンズアレイ２９９と素子基板２９３との四隅の位置関係が調整されることとなり、マイクロレンズアレイ２９９と素子基板２９３との相対的位置関係がより高精度に調整されるため好適である。
また、上記実施形態では、本発明における光軸調整処理において面内距離が満たすべき「所定条件」の例として、第１・２実施形態では「面内距離がゼロであること」を挙げ、第３実施形態では、「複数の対象素子それぞれの面内距離が互いに等しいこと」を挙げ、第４実施形態では、「複数の対象素子それぞれの面内距離の平均値が最小となること」を挙げ、第５・６実施形態では、「面内距離が所定距離ｒ未満であること」を挙げた。しかしながら、光軸調整処理において面内距離が満たすべき「所定条件」は、これに限られるものではなく、例えば、「複数の対象素子それぞれの面内距離の偏差が最小となること」としてもよい。つまり、第４実施形態で、面内距離の平均値が最小となることを求める代わりに、面内距離ｄ31〜ｄ33の偏差
ｓ＝［｛（ｄ31−ａｖ）2+（ｄ32−ａｖ）2+（ｄ33−ａｖ）2）｝／３］１／２
が最小となることを求めてもよい。また、面内距離ｄ31〜ｄ33のうちの最小の面内距離が極小となることを求めてもよい。
また、上記実施形態では、観察光学系を用いて対象素子の位置情報を取得するにあたり、十字カーソルＣＣまたは円付十字カーソルＣＣＣを用いている。しかしながら、対象素子の位置情報を取得するにあたり、これらの十字カーソルを用いることは必須の要件ではない。つまり、観察光学系から観て対象素子と同程度の大きさの点である点カーソルを、上述してきた十字カーソルの照準点と同様に機能させて、対象素子の位置情報を取得してもよい。また、観察光学系に対して固定された十字スケールを用いてもよい。但し、この場合、対象素子の位置を取得するために観察光学系そのものを移動させる必要があり、そのための移動機構を観察光学系に設ける必要がある。よって、装置構成の簡便化という観点からは、観察光学系に対して可動なカーソルが好適である。
また、上記実施形態では、位置情報取得工程で十字カーソルＣＣ，ＣＣＣの照準点を対象素子ＯＥに合わした後は、かかる十字カーソルＣＣを素子基板２９３に対して固定している。しかしながら、位置情報取得工程で十字カーソルＣＣ，ＣＣＣの照準点を対象素子ＯＥに合わした後に、十字カーソルＣＣ，ＣＣＣを対象素子ＯＥから外すように構成することも可能である。つまり、位置情報取得工程では、マイクロレンズアレイ２９９を装着しない状態における対象素子ＯＥの位置情報を取得することを目的とする。したがって、例えば、位置情報取得工程で十字カーソルＣＣ，ＣＣＣの照準点を対象素子ＯＥに合わした際に、該照準点の座標を位置情報として記憶して、以後の工程を実行しても良い。つまり、第１〜第６実施形態では十字カーソルＣＣ，ＣＣＣの照準点を対象素子ＯＥの位置情報としていた代わりに、当該座標を位置情報として以後の工程を実行しても良い。
また、上記実施形態における位置調整工程では、マイクロレンズアレイ２９９を動かして、素子基板２９３とマイクロレンズアレイ２９９との相対的位置関係を調整している。しかしながら、これらの相対的位置関係の調整態様はこれに限られず、例えば、素子基板２９３を動かして調整してもよいし、素子基板２９３およびマイクロレンズアレイ２９９の両方を動かしてもよい。そして、これに対応して、位置調整手段を、素子基板２９３を動かすように構成してもよいし、素子基板２９３およびマイクロレンズアレイ２９９の両方を動かすように構成してもよい。但し、十字カーソルＣＣ，ＣＣＣの照準点の位置を対象素子ＯＥの位置情報とする構成においては、位置調整工程で素子基板２９３を動かす場合、該素子基板２９３の移動に伴って十字カーソルＣＣ，ＣＣＣも動かす必要がある。なんとなれば、かかる構成の場合、十字カーソルＣＣ，ＣＣＣの照準点が対象素子ＯＥの位置情報として機能するため、位置調整工程の間、十字カーソルＣＣ，ＣＣＣの照準点は対象素子ＯＥに合っている必要があるからである。よって、構成の簡素化という観点からは、マイクロレンズアレイ２９９のみを動かして調整する構成が好適である。
また、上記実施形態では、発光素子２９５１として有機ＥＬを用いたが、発光素子２９５１の具体的構成はこれに限られるものではなく、例えばＬＥＤ（Light Emitting Diode）を発光素子２９５１として用いても良い。ただし、発光素子２９５１としてＬＥＤを用いるためには、素子基板２９３にＬＥＤチップを配列することとなる。その結果、発光素子２９５１の配置の自由度が下がる。よって、比較的自由に発光素子２９５１を素子基板２９３に配列可能であるという観点から、有機ＥＬを発光素子２９５１として用いるのが好適である。
また、上述の通り発光素子２９５１としては有機ＥＬが好適ではあるが、ＦＬ（Fluorescent Lamp）管等の蛍光管や無機ＥＬ等の自発光素子を光源とするシャッターアレイ（ライトバルブ）を用いることも可能である。つまり、光の通過を制御する各シャッターを通過した光ビームをマイクロレンズＭＬにより結像するように構成することで、シャッターアレイの各シャッターを、発光素子２９５１の如く機能させることが可能である。
また、上述の実施形態では、発光素子グループ２９５を、長手方向ＬＤに一次元的に配列された５つの発光素子２９５１により構成している。しかしながら、発光素子グループ２９５の構成態様はこれに限られるものではなく、例えば、７つの発光素子２９５１を一次元的に配列して構成してもよいし、あるいは、複数の発光素子２９５１を二次元的に配列してもよい。要は、対応するマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡの上に発光素子２９５１が存在する構成であれば、本発明を適用可能である。
また、上述の実施形態では、レンズ行ＭＬＲを３行並べて、マイクロレンズアレイ２９９を構成しているが、マイクロレンズアレイ２９９の構成態様はこれに限られるものではない。つまり、例えば、１行のレンズ行ＭＬＲのみでマイクロレンズアレイ２９９を構成してもよいし、２行のレンズ行ＭＬＲでマイクロレンズアレイ２９９を構成してもよい。
また、上記実施形態では、倒立等倍の光学特性を有するマイクロレンズＭＬを用いた。しかしながら、本発明に用いることができるマイクロレンズＭＬはこれに限られず、要は、非正立等倍の光学特性を有するマイクロレンズＭＬであれば、本発明に用いることができる。より具体的に言うと、本発明を実施するにあたっては、倒立等倍以外に、倒立拡大、倒立縮小、正立拡大、正立縮小のいずれかの光学特性を有するマイクロレンズＭＬを用いることができる。
ところで、光軸調整処理において高精度の位置調整を実現するという観点からは、光軸上素子２９５１Ａの光軸ＯＡからのズレを高精度に検知することが望ましい。そして、上記実施形態では、かかるズレを面内距離として検知している。したがって、高精度の位置調整という観点からは、小さなズレを大きな面内距離として表すのが好適である。よって、かかる観点からは、マイクロレンズＭＬは、倒立拡大系あるいは正立拡大系（つまり、拡大光学系）であることが好適である。
図２６は、倒立拡大の光学特性の説明図である。同説明図では、発光素子グループを構成する５つの発光素子ＯＪに対向して、倒立拡大の光学特性を有する結像光学系ＯＰＳが配置されている。そして、発光素子ＯＪから射出された光ビームは、結像光学系ＯＰＳにより結像面ＳＩＭに結像される。このとき、結像光学系ＯＰＳの光軸ＯＡの上にある発光素子ＯＪ1から射出された光ビームは、光軸ＯＡの上の結像位置ＩＭ1に結像される。また、発光素子ＯＪ2から射出された光ビームは、光軸ＯＡに対して、発光素子ＯＪ2の反対側の結像位置ＩＭ2に結像される。なお、結像位置ＩＭ2から光軸ＯＡまでの距離は、発光素子ＯＪ2から光軸ＯＡまでの距離よりも大きい。また、発光素子ＯＪ3から射出された光ビームは、光軸ＯＡに対して、発光素子ＯＪ3の反対側の結像位置ＩＭ3に結像される。なお、結像位置ＩＭ3から光軸ＯＡまでの距離は、発光素子ＯＪ3から光軸ＯＡまでの距離よりも大きい。
正立拡大の光学特性を以下に説明する。発光素子グループを構成する発光素子ＯＪに対向して、倒立拡大の光学特性を有する結像光学系が配置されている。発光素子ＯＪから射出された光ビームは、結像光学系により結像面に結像される。このとき、結像光学系の光軸ＯＡの上にある発光素子ＯＪ1から射出された光ビームは、光軸ＯＡの上の結像位置ＩＭ1に結像される。また、発光素子ＯＪ2から射出された光ビームは、光軸ＯＡに対して、発光素子ＯＪ2と同じ側の結像位置ＩＭ2に結像される。なお、結像位置ＩＭ2から光軸ＯＡまでの距離は、発光素子ＯＪ2から光軸ＯＡまでの距離よりも大きい。また、発光素子ＯＪ3から射出された光ビームは、光軸ＯＡに対して、発光素子ＯＪ3と同じ側の結像位置ＩＭ3に結像される。なお、結像位置ＩＭ3から光軸ＯＡまでの距離は、発光素子ＯＪ3から光軸ＯＡまでの距離よりも大きい。
上述のとおり、高精度の位置調整という観点からは、小さなズレを大きな面内距離として表すのが好適である。そして、面内距離を大きくするという観点からは、上述の倒立光学系と正立光学系のうち、特に倒立光学系が好適である。この理由は次のとおりである。
上述したとおり、正立光学系では、発光素子ＯＪと当該発光素子ＯＪからの光ビームの結像位置ＩＭは、光軸ＯＡに対して同じ側にある。よって、発光素子ＯＪと光軸ＯＡとの距離をＤ(OJ)と、結像位置ＩＭと光軸ＯＡとの距離をＤ(IM)とすると、正立光学系における面内距離は、
Ｄ(IM)−Ｄ(OJ)
と、２つの距離の差で与えられる。一方、倒立光学系では、発光素子ＯＪと当該発光素子ＯＪからの光ビームの結像位置ＩＭは、光軸ＯＡに対して反対側にある。よって、倒立光学系における面内距離は、
Ｄ(IM)＋Ｄ(OJ)
と、２つの距離の和で与えられる。この結果、倍率が同じであっても、倒立光学系の方が正立光学系よりも面内距離が大きくなる傾向にある。よって、倒立光学系の方が、より高精度の位置調整が可能となり好適である。
また、観察光学系９９，９９１，９９２としては、光学顕微鏡やＣＣＤ（Charge Coupled Devices)カメラ等を用いることができる。特に光軸調整処理の自動化という観点からは、ＣＣＤカメラが好適である。なんとなれば、ＣＣＤカメラが取得した映像をコンピュータに取り込むことで、画像認識技術を用いて、光軸調整処理を自動化することが可能となるからである。このとき、ストロークの進退を電気的に制御可能であるマイクロメータヘッドによりアレイ移動機構を構成すると良い。つまり、コンピュータにより、ＣＣＤカメラが取得した映像に基づいてアレイ移動機構を制御することで、光軸調整処理を自動的に実行することが可能となる。
また、このように、ＣＣＤカメラが取得した映像をコンピュータに取り込んで画像認識技術を用いた構成の場合、位置情報取得工程において十字カーソルＣＣ，ＣＣＣ等を用いないように構成することも可能である。つまり、コンピュータに取り込んだ映像から対象素子ＯＥの座標を求め、当該座標を対象素子ＯＥの位置情報として以後の工程を実行するように構成しても良い。
また、ＣＣＤカメラを用いて自動的に光軸調整処理を実行する場合、ＣＣＤカメラが取得した映像をモニタに映し出すように構成しても良い。なんとなれば、自動的に実行される光軸調整処理を、製造工程の管理者が確認することが可能となるからである。また、この際、２つの観察光学系９９１，９９２を用いて光軸調整処理を行う構成においては、２つの観察光学系９９１，９９２が取得した映像を、モニタに並べて映し出すことが好適である。
また、一般にラインヘッドの各発光素子から射出される光ビームの結像状態は、発光素子毎に僅かに異なる。そして、ラインヘッドを用いて画像を形成する場合、かかる差異が画質に影響する場合がある。そこで、ラインヘッドの出荷時には、全ての発光素子の結像状態の検査する出荷検査が必要となる場合が多い。しかしながら、上述のＣＣＤカメラを備えた構成の場合、かかるＣＣＤカメラを出荷検査に用いればよく、構成の簡素化が可能となり好適である。
本発明にかかるラインヘッドを用いた画像形成装置の構成を示す図。 図１の画像形成装置の電気的構成を示す図。 本発明にかかるラインヘッドの一構成の概略を示す斜視図。 ラインヘッドの一構成の幅方向断面図。 ラインヘッドの分解斜視図。 マイクロレンズアレイの長手方向の断面図。 マイクロレンズアレイおよび発光素子グループの構成を示す図。 倒立等倍の光学特性の説明図。 ラインヘッドによる潜像形成動作を示す図。 第１実施形態におけるアレイ移動機構を示す斜視図。 ラインヘッドの調整装置を長手方向から見た図。 ラインヘッドの調整方法を示すフローチャート。 図１２のフローチャートに対応する動作説明斜視図。 図１２のフローチャートに対応する動作説明正面図。 面内距離の説明図。 第２実施形態におけるラインヘッドの調整装置を示す図。 第２実施形態における調整動作を示す正面図。 第３実施形態における調整動作を示す正面図。 素子基板の湾曲の様子を示す図。 第４実施形態における調整動作を示す正面図。 第５実施形態で用いる十字カーソルの説明図。 第５実施形態における調整動作を示す正面図。 第６実施形態における調整動作を示す正面図。 対象素子の設定態様のバリエーションを示す図。 対象素子の設定態様のバリエーションを示す図。 倒立拡大の光学特性の説明図。
符号の説明
２９…ラインヘッド、 ２９３…素子基板、 ２９５…発光素子グループ、 ２９５１…発光素子、 ２９５１Ａ…光軸上素子、 ２９７…スペーサ、 ２９９…マイクロレンズアレイ、 ９…ラインヘッドの調整装置、 ９１…基板保持手段、 ９３，９５，９７…アレイ移動機構（アレイ保持手段、位置調整手段）、 ９９，９９１，９９２…観察光学系（位置情報取得手段）、 ＯＥ，ＯＥ1，ＯＥ2，ＯＥ3，ＯＥ4…対象素子、 ＩＥ，ＩＥ1，ＩＥ2，ＩＥ3…像、 ＨＰＬ…仮想垂直面、 ｄ1，ｄ21，ｄ22，ｄ31，ｄ32，ｄ33…面内距離、 ｒ…所定距離、 ＣＣ…十字カーソル、 ＣＣＣ…円付十字カーソル、 ＭＬ…マイクロレンズ、 ＬＤ…長手方向、 ＷＤ…幅方向、 ＭＬＲ…レンズ行

Claims (8)

  1. １つ以上の発光素子から成る発光素子グループをその面に複数有する、素子基板を配置する基板配置工程と、
    前記発光素子の位置に関する位置情報を取得する位置情報取得工程と、
    それぞれが非正立等倍の光学特性を有する複数のマイクロレンズを前記複数の発光素子グループに一対一で対応して設けた、マイクロレンズアレイを前記複数のマイクロレンズのそれぞれが対応する前記発光素子グループに対向するように配置するアレイ配置工程と、
    前記素子基板と前記マイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する位置調整工程と
    を備え、
    前記複数の発光素子グループのそれぞれは、該発光素子グループに対応する前記マイクロレンズの位置が理想位置である場合には、該発光素子グループに属する１つの前記発光素子が光軸上素子として該発光素子グループに対応する前記マイクロレンズの光軸上に存在するように構成されており、
    前記位置情報取得工程では、複数の前記光軸上素子のうちの１つ以上の対象素子の前記位置情報を取得し、
    前記位置調整工程では、前記位置情報取得工程で前記位置情報が取得された前記対象素子に対して下記の光軸調整処理を実行することを特徴とするラインヘッドの調整方法。
    前記光軸調整処理は、前記マイクロレンズの光軸に垂直な仮想平面を仮想垂直面としたとき、前記位置情報が与える前記対象素子の位置を前記仮想垂直面に投影した位置と、前記対象素子を発光させて射出される光ビームの前記マイクロレンズによる像の位置を前記仮想垂直面に投影した位置との面内距離が所定条件を満たすように、前記素子基板と前記マイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する処理である。
  2. 前記光軸調整処理は、前記面内距離がゼロとなるように、前記素子基板と前記マイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する処理である請求項１記載のラインヘッドの調整方法。
  3. 前記光軸調整処理は、前記面内距離が所定距離未満となるように、前記素子基板と前記マイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する処理である請求項１記載のラインヘッドの調整方法。
  4. 前記位置情報取得工程では、前記マイクロレンズアレイの長手方向の両端にある２つの前記マイクロレンズのそれぞれに対応する前記光軸上素子を前記対象素子として前記位置情報を取得する請求項１乃至３のいずれかに記載のラインヘッドの調整方法。
  5. 前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズアレイの長手方向に前記マイクロレンズが配列されて成るレンズ行を、前記マイクロレンズアレイの幅方向に複数行配列した構造を有し、
    前記位置情報取得工程では、複数の前記レンズ行のうちの一に属する前記マイクロレンズのうちの前記長手方向の両端にある２つの前記マイクロレンズのそれぞれに対応する前記光軸上素子を前記対象素子として前記位置情報を取得する請求項１乃至３のいずれかに記載のラインヘッドの調整方法。
  6. 前記位置情報取得工程では、さらに、複数の前記レンズ行のうちの一に属する前記マイクロレンズのうちの前記長手方向の両端にある２つの前記マイクロレンズのそれぞれに対応する前記光軸上素子以外の前記光軸上素子も、前記対象素子として前記位置情報を取得する請求項５記載のラインヘッドの調整方法。
  7. 前記複数のマイクロレンズのそれぞれは、倒立像を結像する光学特性を有する請求項１乃至６のいずれかに記載のラインヘッドの調整方法。
  8. １つ以上の発光素子から成る発光素子グループをその面に複数有する、素子基板を保持する基板保持手段と、
    前記発光素子の位置に関する情報を取得する位置情報取得手段と、
    それぞれが非正立等倍の光学特性を有する複数のマイクロレンズを前記複数の発光素子グループに一対一で対応して設けた、マイクロレンズアレイを前記複数のマイクロレンズのそれぞれが対応する前記発光素子グループに対向する位置に保持するアレイ保持手段と、
    前記素子基板および／または前記マイクロレンズアレイを動かして、前記素子基板と前記マイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する位置調整手段と
    を備え、
    前記複数の発光素子グループのそれぞれは、該発光素子グループに対応する前記マイクロレンズの位置が理想位置である場合には、該発光素子グループが属する前記発光素子が光軸上素子として該発光素子グループに対応する前記マイクロレンズの光軸上に存在するように構成されており、
    前記位置情報取得手段は、複数の前記光軸上素子のうちの１つ以上の対象素子の前記位置情報を取得し、
    前記位置調整手段は、前記位置情報取得手段で前記位置情報が取得された前記対象素子に対して下記の光軸調整処理を実行することを特徴とするラインヘッドの調整装置。
    前記光軸調整処理は、前記マイクロレンズの光軸に垂直な仮想平面を仮想垂直面としたとき、前記位置情報が与える前記対象素子の位置を前記仮想垂直面に投影した位置と、前記対象素子を発光させて射出される光ビームの前記マイクロレンズによる像の位置を前記仮想垂直面に投影した位置との面内距離が所定条件を満たすように、前記素子基板と前記マイクロレンズアレイとの相対的位置関係を調整する処理である。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013120296A (ja) * 2011-12-07 2013-06-17 V Technology Co Ltd マイクロレンズアレイの貼り合わせ装置
JP2015231715A (ja) * 2014-06-10 2015-12-24 コニカミノルタ株式会社 光書込装置、および位置補正方法
JP2019093615A (ja) * 2017-11-22 2019-06-20 コニカミノルタ株式会社 光書き込み装置及び画像形成装置

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