JP2008165964A - 電力消費を制限するメモリ - Google Patents
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Abstract
【課題】相変化メモリの書込み時のピーク電力消費を制限する。
【解決手段】複数の抵抗メモリセルと、パルス発生器と、回路とを備えたメモリを提供する。上記各抵抗メモリセルは、少なくとも2つの各状態にプログラム可能である。上記パルス発生器は、上記複数の抵抗メモリセルをプログラムするために、書き込みパルスを供給する。上記回路は、上記複数の抵抗メモリセルをプログラムするために、第1の電流を受け取り、当該第1の電流を制限し、また、蓄積電荷を第2の電流として上記パルス発生器に供給する。
【選択図】図2
【解決手段】複数の抵抗メモリセルと、パルス発生器と、回路とを備えたメモリを提供する。上記各抵抗メモリセルは、少なくとも2つの各状態にプログラム可能である。上記パルス発生器は、上記複数の抵抗メモリセルをプログラムするために、書き込みパルスを供給する。上記回路は、上記複数の抵抗メモリセルをプログラムするために、第1の電流を受け取り、当該第1の電流を制限し、また、蓄積電荷を第2の電流として上記パルス発生器に供給する。
【選択図】図2
Description
〔背景〕
メモリの1つのタイプとして、抵抗メモリがある。抵抗メモリは、メモリ素子の抵抗値を用いて、1ビットまたはそれ以上のデータを記憶する。例えば、抵抗値が高くなるようにプログラムされたメモリ素子は論理値「1」を示し、抵抗値が低くなるようにプログラムされたメモリ素子は論理値「0」を示す。一般的に、メモリ素子の抵抗値は、メモリ素子に電圧パルスまたは電流パルスを印加することによって、電気的に切り替えられる。
メモリの1つのタイプとして、抵抗メモリがある。抵抗メモリは、メモリ素子の抵抗値を用いて、1ビットまたはそれ以上のデータを記憶する。例えば、抵抗値が高くなるようにプログラムされたメモリ素子は論理値「1」を示し、抵抗値が低くなるようにプログラムされたメモリ素子は論理値「0」を示す。一般的に、メモリ素子の抵抗値は、メモリ素子に電圧パルスまたは電流パルスを印加することによって、電気的に切り替えられる。
抵抗メモリの1つのタイプとして、相変化メモリがある。相変化メモリは、抵抗メモリ素子として相変化材料を用いる。相変化材料は、アモルファス状態および結晶状態と称される状態を含む、少なくとも2つの異なる状態を示す。アモルファス状態では原子構造がより不規則であり、結晶状態では格子がより規則的である。アモルファス状態は、一般的に、結晶状態よりも高い抵抗率を示す。また、一部の相変化材料は、例えば面心立方(face-centered cubic; FCC)状態および六方最密充てん(hexagonal closest packing; HCP)状態など、抵抗率の異なる複数の結晶状態を示し、これらの状態を用いてデータを記憶することができる。以下の説明では、アモルファス状態は、抵抗率のより高い状態を指し、結晶状態は、抵抗率のより低い状態を指している。
相変化材料における相変化は、可逆的に誘発させることができる。メモリは、温度変化に反応して、アモルファス状態から結晶状態、および結晶状態からアモルファス状態へと変化する。相変化材料の温度は、相変化材料自身への電流供給、あるいは相変化材料に隣接する抵抗ヒータへの電流供給によって変化させることができる。これら方法のいずれにおいても、相変化材料の加熱が制御可能であることによって、これら相変化材料内における相変化が制御可能となる。
相変化材料からなるメモリセルアレイを備えた相変化メモリは、データを記憶するために、相変化材料のメモリ状態を利用してプログラムすることができる。このような相変化メモリデバイスにおけるデータの読み出しおよび書き込みを行うための方法の1つとして、相変化材料へ印加される電流および/または電圧パルスを制御する方法がある。電流および/または電圧のレベルは、一般的には、メモリセルの相変化材料内において誘発される温度と対応している。
一部のメモリでは、相変化メモリセルをプログラムするために、標的相変化メモリセル内の相変化材料を加熱する電流パルスを生成するのは、書き込み回路である。この書き込み回路は適切な電流パルスを生成し、この電流パルスは標的セルに分配される。この電流パルスの振幅および幅は、標的セルがプログラムされる特定の状態に依存して制御される。一般的には、メモリセルの「セット」動作は、標的セルの相変化材料をその結晶化温度を超えて(しかしその融点は超えずに)、結晶状態が得られるまで十分な時間加熱する工程である。一般的には、メモリセルの「リセット」動作は、標的セルの相変化材料をその融点を超えて加熱した後に急速に冷却し、これによってアモルファス状態を得る工程である。メモリセルに部分的「セット」または部分的「リセット」パルスを印加して、相変化材料の非晶質部分と結晶質部分とを形成することによって、メモリセルを、アモルファス状態と結晶状態との中間の抵抗状態にプログラムすることができる。
一般的に、リセット電流パルスの振幅はセット電流パルスの振幅よりも高く、リセット電流パルスの幅はセット電流パルスの幅よりも短い。リセット電流パルスの幅は、通常は100ns未満である。相変化メモリは、書き込み回路が相変化メモリセルをリセットする際に、ピーク電流を消費する。相変化メモリのピーク電流消費は、ランダムアクセスメモリシステムおよび組み込みメモリシステムなどのシステムの電流仕様を超過する場合がある。組み込みメモリシステムでは、組み込みシステムの電源が、相変化メモリセルをリセットするために必要な電流パルス振幅を供給できない場合がある。
上記および上記以外の理由により、本発明が必要とされる。
〔概要〕
本発明は、ピーク電力消費を制限するメモリを提供する。一実施形態は、複数の抵抗メモリセルと、パルス発生器と、回路とを備えたメモリを提供する。上記抵抗メモリセルは、少なくとも2つの各状態にプログラムされる。上記パルス発生器は、上記抵抗メモリセルをプログラムするために、書き込みパルスを供給する。上記回路は、上記抵抗メモリセルをプログラムするために、第1の電流を受け取り、当該第1の電流を制限し、また、蓄積電荷を第2の電流として上記パルス発生器に供給する。
本発明は、ピーク電力消費を制限するメモリを提供する。一実施形態は、複数の抵抗メモリセルと、パルス発生器と、回路とを備えたメモリを提供する。上記抵抗メモリセルは、少なくとも2つの各状態にプログラムされる。上記パルス発生器は、上記抵抗メモリセルをプログラムするために、書き込みパルスを供給する。上記回路は、上記抵抗メモリセルをプログラムするために、第1の電流を受け取り、当該第1の電流を制限し、また、蓄積電荷を第2の電流として上記パルス発生器に供給する。
〔図面の簡単な説明〕
本発明をさらに理解するために、図面が添付されている。これらの添付図面は本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成する。これらの図面は、本発明の実施形態を例証し、また本明細書における記載と共に本発明の原理を説明するためのものである。本発明の別の実施形態、および本発明の意図する多くの利点については、以下の詳細な説明を参照することによって容易に理解できるであろう。これら図面中の各素子は、必ずしも互いに相対的な縮尺とはなっていない。同様の符号は、対応する同様の箇所を示している。
本発明をさらに理解するために、図面が添付されている。これらの添付図面は本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成する。これらの図面は、本発明の実施形態を例証し、また本明細書における記載と共に本発明の原理を説明するためのものである。本発明の別の実施形態、および本発明の意図する多くの利点については、以下の詳細な説明を参照することによって容易に理解できるであろう。これら図面中の各素子は、必ずしも互いに相対的な縮尺とはなっていない。同様の符号は、対応する同様の箇所を示している。
図1は、本発明に係る電子システムの一実施形態を示す図である。
図2は、メモリの一実施形態を示すブロック図である。
図3は、書き込み回路および電源の一実施形態を示す図である。
図4は、電源、および2つのスイッチを備えた書き込み回路の一実施形態を示す図である。
図5は、電源、およびチャージポンプを備えた書き込み回路の一実施形態を示す図である。
図6は、電源、および3つのスイッチチャージポンプを備えた書き込み回路の一実施形態を示す図である。
〔詳細な説明〕
以下の詳細な説明では添付図面を参照する、これらの添付図面は、本明細書の一部を構成するものであり、また本発明を実施し得る具体的な実施形態を例証するために示されている。これに関し、説明する(これら)図面の方向を参照して、「上」「下」「前」「後」「先端」「後端」等の方向を示す用語が使用されている。本発明の実施形態の構成要素は、多くの様々な方向に配置することができる。従って方向を表す上記用語は、例証するために用いられているものであって、限定するものではない。なお、本発明の範囲を逸脱することなく、別の実施形態を用いること、および構造的または論理的な変化を加えることができることについて理解されたい。従って以下の詳細な説明は、限定的な意味として捉えられるものではなく、本発明の範囲は特許請求の範囲によって規定される。
以下の詳細な説明では添付図面を参照する、これらの添付図面は、本明細書の一部を構成するものであり、また本発明を実施し得る具体的な実施形態を例証するために示されている。これに関し、説明する(これら)図面の方向を参照して、「上」「下」「前」「後」「先端」「後端」等の方向を示す用語が使用されている。本発明の実施形態の構成要素は、多くの様々な方向に配置することができる。従って方向を表す上記用語は、例証するために用いられているものであって、限定するものではない。なお、本発明の範囲を逸脱することなく、別の実施形態を用いること、および構造的または論理的な変化を加えることができることについて理解されたい。従って以下の詳細な説明は、限定的な意味として捉えられるものではなく、本発明の範囲は特許請求の範囲によって規定される。
図1は、本発明に係る電子システム20の一実施形態を示す図である。電子システム20は、電源22および相変化メモリ24を有している。一実施形態では、電子システム20は組み込みシステムである。一実施形態では、電源22は、組み込みシステム電源である。一実施形態では、メモリ24は、組み込みシステム相変化メモリである。一実施形態では、電子システム20は、組み込みランダムアクセスメモリシステムである。
本明細書において使用される場合、「電気的に結合」という表現は、素子同士が直接結合しているという意味だけではなく、一方の素子と他方の素子との間に別の素子が介在した状態において「該一方の素子と該他方の素子とが電気的に結合されている」と言うことができる。
メモリ24は、相変化メモリセルおよび書き込み回路26を有している。電源22は、電源経路28を介して、メモリ24および書き込み回路26に電気的に結合されている。電源22は、電力すなわち電圧および電流を、電源経路28を介してメモリ24および書き込み回路26に供給する。一実施形態では、メモリ24は、シングルビット相変化メモリセルを有している。一実施形態では、メモリ24は、マルチビット相変化メモリセルを有している。
書き込み回路26は、電源22から電力を受け取り、相変化メモリセルをプログラムする。書き込み回路26は、相変化メモリセル内の相変化材料にプログラミングパルスを供給し、これら相変化メモリセルをプログラムする。メモリ24は、書き込み回路26が相変化メモリセルをプログラムしている間、例えば書き込み回路26が相変化メモリセルにリセットパルスを供給している間に、ピーク電力を消費する。書き込み回路26は、メモリ24のピーク電力消費を、電子システム20および電源22の制限内に収まるように制限する。一実施形態では、書き込み回路26は、メモリ24のピーク電力消費を、組み込みランダムアクセスメモリシステムの必要量と適合するように制限する。一実施形態では、書き込み回路26は、メモリ24のピーク電力消費を、組み込みシステム電源と適合するように制限する。別の実施形態では、書き込み回路26は、ピーク電力消費を、任意の適切な電子システムと適合するように制限する。
書き込み回路26は、相変化メモリセルを特定の状態にプログラムするために、電流および/または電圧プログラミングパルスの振幅および幅を制限する。プログラミングパルスのレベルは、相変化メモリセルの相変化材料内において誘起される温度と対応している。書き込み回路26は、標的相変化メモリセルの相変化材料を、その結晶化温度を超えて(しかし融点を超えないように)、結晶状態が得られるように十分な時間加熱する、1つまたは1つ以上のセットパルスを供給する。書き込み回路26は、標的相変化メモリセルの相変化材料を、その融点を超えて加熱した後、急速に冷却し、これによってアモルファス状態を達成する、リセットパルスを供給する。マルチビット相変化メモリを用いた実施形態では、書き込み回路26は、部分的セット動作または部分的リセット動作を適用することによって、アモルファス状態と結晶状態との中間の抵抗状態に相変化メモリセルをプログラムする。
メモリ24は、書き込み回路26が1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをリセットしている間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。別の実施形態では、書き込み回路26が任意の適切な(複数の)プログラミングパルスを供給している間に、ピーク電流およびピーク電力が消費される。
リセットパルスの振幅はセットパルスの振幅よりも高く、リセットパルスの幅はセットパルスの幅よりも短い。一実施形態では、リセットパルスの幅は100ns未満である。一実施形態では、リセットパルスの幅は約20nsである。別の実施形態では、リセットパルスの幅は任意の適切な値であってよい。
動作中では、書き込み回路26は、電源22から電流を受け取る。メモリ24は、書き込みコマンドを受け取り、そして書き込み回路26は、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムするために制御される。書き込み回路26は、電源22から引き出される電流を、電子システム20および電源22の制限内に収まるように制御する。書き込み回路26は、電源22から引き出される電流を制限している間に、相変化メモリセルのプログラムを完了させる。一実施形態では、書き込み回路26は、相変化メモリセルのプログラミングを完了した時に、電源22から電流を受け取る。別の実施形態では、書き込み回路26は、相変化メモリセルのプログラミングを完了した時に、電源22から電流を受け取らない。
一実施形態では、書き込み回路26は、キャパシタおよびパルス発生器に供給される電流を制限することによって、電源22から引き出される電流の量を制限する。キャパシタは、電源22からの電流によって充電される。電源22から引き出される電流は、書き込み回路26が1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムしている間に制御される。書き込み回路26が、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムし、電源22から引き出される電流を制御している間に、キャパシタは、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器に供給する。
一実施形態では、書き込み回路26は、キャパシタの一端およびパルス発生器へ供給される電流を制限し、またパルス発生器からの帰還電流を制限することによって、電源22から引き出される電流の量を制限する。キャパシタは、電源22からの電流によって充電される。電源22から引き出される電流、およびパルス発生器からの帰還電流は、書き込み回路26が1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムしている間に制御される。キャパシタは、書き込み回路26が1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムして、電源22から引き出される電流およびパルス発生器からの帰還電流を制御している間に、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器に供給する。
別の実施形態では、書き込み回路26は、電源22から引き出される電流をチャージポンプによって制御する。一実施形態では、書き込み回路26は、キャパシタの一端を充電させてから他端を充電し、キャパシタの一端における電圧を引き上げることによって、電源22から引き出される電流の量を制限する。キャパシタは、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムするために、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器に供給する。
図2は、相変化メモリ24と同様のメモリ100の一実施形態を示すブロック図である。メモリ100は、書き込み回路26、分配回路104、メモリセル106a,106b,106c、制御装置108、およびセンス回路110を有している。一実施形態では、メモリセル106a〜106cは、メモリセル内の相変化材料がアモルファス状態にあるのか結晶状態にあるのかに基づいてデータを記憶する、相変化メモリセルである。別の実施形態では、メモリセル106a〜106cは、1データビット以上を記憶することのできる、マルチレベルメモリセルである。
各メモリセル106a〜106cは、相変化材料が中間的な抵抗値を持つようにプログラムすることによって、2つまたは2つ以上の状態のいずれか1つに書き込みまたはプログラムすることができる。メモリセル106a〜106cのいずれか1つを中間的な抵抗値にプログラムするためには、アモルファス材料と共存している結晶性材料の量、ひいてはセル抵抗値が、制御装置108および適切な書き込み方式によって制御される。一実施形態では、各メモリセル106a〜106cは、3つの状態のいずれか1つにプログラムすることができる。一実施形態では、各メモリセル106a〜106cは、4つの状態のいずれか1つにプログラムすることができる。別の実施形態では、各メモリセル106a〜106cは、任意の適切な数の状態のいずれか1つにプログラムすることができる。
書き込み回路26は、信号経路112を介して分配回路104に電気的に結合されており、また信号経路114を介して制御装置108に電気的に結合されている。書き込み回路26は、電源経路28を介して電源22に電気的に結合されている。電源22は、電源経路28を介して、メモリ100および書き込み回路26に電力を供給する。書き込み回路26は、電源22から電力を受け取り、そしてメモリセル106a〜106cをプログラムする。
制御装置108は、信号経路116を介して、分配回路104に電気的に結合されている。制御装置108は、信号経路122を介して、センス回路110に電気的に結合されている。センス回路110は、信号経路120を介して、分配回路104に電気的に結合されている。
分配回路104は、信号経路118a〜118cを介して、各メモリセル106a〜106cに電気的に結合されている。分配回路104は、信号経路118aを介して、メモリセル106aに電気的に結合されている。分配回路104は、信号経路118bを介して、メモリセル106bに電気的に結合されており、また信号経路118cを介して、メモリセル106cに電気的に結合されている。一実施形態では、メモリセル106a〜106cは、任意の適切な数のメモリセルを有するメモリセルアレイの一部である。
各メモリセル106a〜106cは、温度変化の影響下において、アモルファス状態から結晶状態、あるいは結晶状態からアモルファス状態へと変化する、相変化材料を含んでいる。従って、一実施形態では、メモリセル106a〜106cのいずれか1つにおいて、アモルファス状態の相変化材料と共存している結晶状態の相変化材料の量によって、メモリセルおよびメモリ100内にデータを記憶するための3つ以上の状態が規定される。
本発明によるメモリセル106a〜106cの相変化材料は、様々な材料から形成されていてよい。このような材料としては、一般的には、周期表の第6族に属する元素を1つまたは1つ以上含有したカルコゲナイド合金が有用である。一実施形態では、相変化材料は、GeSbTe、SbTe、GeTe、またはAgInSbTeなどのカルコゲナイド化合物材料から形成されている。別の実施形態では、相変化材料は、例えばGeSb、GaSb、InSb、またはGeGaInSbなど、カルコゲナイドを含有しない材料である。別の実施形態では、相変化材料は、Ge、Sb、Te、Ga、As、In、Se、およびSなどの元素を1つまたは1つ以上含有した、任意の適切な材料から形成されている。
制御装置108は、書き込み回路26、センス回路110、および分配回路104を制御する。制御装置108は、マイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、あるいは、書き込み回路26、センス回路110、および分配回路104を制御するためのその他の適切な回路を有している。制御装置108は、メモリセル106a〜106cの抵抗状態をプログラムするために、書き込み回路26および分配回路104を制御する。制御装置108は、メモリセル106a〜106cの抵抗状態を読み出すために、センス回路110および分配回路104を制御する。
書き込み回路26は、メモリセル106a〜106cにプログラミングパルスを供給し、そして各メモリセル106a〜106cの相変化材料に抵抗レベルまたは状態をプログラムする。一実施形態では、書き込み回路26は、信号経路112を介して分配回路104に電圧パルスを供給し、分配回路104は、信号経路118a〜118cを介して、メモリセル106a〜106cに電圧パルスを与える。一実施形態では、分配回路104は、各メモリセル106a〜106cに電圧パルスを制御しながら与える、複数のトランジスタを備えている。一実施形態では、書き込み回路26は、信号経路112を介して分配回路104に電流パルスを供給し、分配回路104は、信号経路118a〜118cを介してメモリセル106a〜106に電流パルスを与える。一実施形態では、分配回路104は、各メモリセル106a〜106cに電流パルスを制御しながら与える、複数のトランジスタを備えている。
書き込み回路26は、メモリセル106a〜106cをプログラムするために、電源22から電力を受け取る。メモリ100は、書き込み回路26がメモリセル106a〜106cをプログラムしている間、例えば書き込み回路26がメモリセル106a〜106cのいずれか1つにリセットパルスを供給している間に、ピーク電力を消費する。書き込み回路26は、メモリ100のピーク電力消費を、電子システム20および電源22の制限内に収まるように制限する。一実施形態では、書き込み回路26は、メモリ100のピーク電力消費を、組み込みランダムアクセスメモリシステムの必要量に適合するように制限する。一実施形態では、書き込み回路26は、メモリ100のピーク電力消費を、組み込みシステム電源と適合するように制限する。別の実施形態では、書き込み回路26は、メモリ100のピーク電力消費を、任意の適切な電子システムと適合するように制限する。
書き込み回路26は、メモリセル106a〜106cを特定の状態にプログラムするために、プログラミングパルス(電流パルスおよび/または電圧パルス)の振幅および幅を制御する。プログラミングパルスのレベルは、相変化メモリセルの相変化材料内において誘起される温度と対応している。書き込み回路26は、標的相変化メモリセルの相変化材料を、その結晶化温度を超えて(しかし融点は超えずに)、結晶状態が得られるように長時間加熱する、1つまたは1つ以上のセットパルスを供給する。書き込み回路26は、標的相変化メモリセルの相変化材料を、その融点を超えて加熱した後、急速に冷却し、これによってアモルファス状態を達成する、リセットパルスを供給する。一実施形態では、書き込み回路26は、相変化材料のアモルファス部分および結晶質部分を形成するために、相変化メモリセルに部分的セットパルスまたは部分的リセットパルスを与えることによって、アモルファス状態と結晶状態との中間の抵抗状態にプログラムする。
メモリ100のピーク電流消費およびピーク電力消費は、書き込み回路26が1つまたは1つ以上のメモリセル106a〜106cをリセットする際に生じる。別の実施形態では、ピーク電流およびピーク電力は、書き込み回路26が任意の適切な(複数の)プログラミングパルスを供給するときに消費される。
リセットパルスの振幅はセットパルスの振幅よりも高く、リセットパルスの幅はセットパルスの幅よりも短い。一実施形態では、リセットパルスの幅は100ns未満である。一実施形態では、リセットパルスの幅は約20nsである。別の実施形態では、リセットパルスの幅は、任意の適切な値であってよい。
センス回路110は、相変化材料の抵抗を検知し、メモリセル106a〜106c内の相変化材料の抵抗状態を示す信号を供給する。センス回路110は、信号経路120を介して、メモリセル106a〜106cの状態を読み出す。分配回路104は、信号経路118a〜118cを介して、センス回路110とメモリセル106a〜106cとの間に読み出し信号を制御しながら与える。一実施形態では、分配回路104は、センス回路110とメモリセル106a〜106cとの間に読み出し信号を制御しながら与える、複数のトランジスタを備えている。
センス回路110は、各メモリセル106a〜106c内の相変化材料2つまたは2つ以上の各状態を読み出すことができる。一実施形態では、相変化材料の抵抗を読み出すために、センス回路110は、選択されたセルの相変化材料に流れる電流を供給し、選択されたセルにおける電圧を読み出す。一実施形態では、センス回路110は、選択されたセルの相変化材料に電圧を供給し、選択されたセルに流れる電流を読み出す。一実施形態では、書き込み回路26が、選択されたセルに電圧を供給し、センス回路110が、選択されたセルに流れる電流を読み出す。一実施形態では、書き込み回路26が、選択されたセルに流れる電流を供給し、センス回路110が、選択されたセルにおける電圧を読み出す。
図3は、書き込み回路26および電源22の一実施形態を示す図である。書き込み回路26は、電源経路28aおよび28bを介して、電源22に電気的に結合されている。電源22は、電源経路28aおよび28bを介して、電力(すなわち電圧および電流)を書き込み回路26に供給する。書き込み回路26は、相変化メモリセルをプログラムするために、電源22から電力を受け取って、プログラミングパルスを供給する。書き込み回路26は、ピーク電力消費を、電源22の制限内に収まるように制限する。
書き込み回路26は、キャパシタ300、パルス発生器302、スイッチ304、および電流制限制御回路306を有している。スイッチ304は、電界効果トランジスタである。スイッチ304のドレイン−ソース間経路の一端は、電源経路28aを介して電源22に電気的に結合されている。スイッチ304のドレイン−ソース間経路の他端は、電流経路308を介して、パルス発生器302およびキャパシタ300の一端に電気的に結合されている。スイッチ304のゲートは、ゲート経路310を介して、電流制限制御回路306に電気的に結合されている。キャパシタ300の他端は、電源経路28bを介して、パルス発生器302および電源22に電気的に結合されている。一実施形態では、上記電界効果トランジスタは、nチャネル金属酸化膜半導体(NMOS)トランジスタである。一実施形態では、上記電界効果トランジスタは、pチャネル金属酸化膜半導体(PMOS)トランジスタである。
パルス発生器302は、相変化メモリセルをプログラムするために、相変化メモリセル内の相変化材料にプログラミングパルスを供給する。パルス発生器302は、相変化メモリセルを特定の状態にプログラムするために、電流および/または電圧プログラミングパルスの振幅および幅を制御する。パルス発生器302は、相変化メモリセルをプログラミングしている間、例えば相変化メモリセルへリセットパルスを供給している間に、ピーク電力を消費する。
書き込み回路26は、パルス発生器302のピーク電力消費を、電源22の制限内に収まるように制限する。一実施形態では、パルス発生器302は、パルス発生器302が1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをリセットしている間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。別の実施形態では、パルス発生器302が任意の適切な(複数の)プログラミングパルスを供給している間に、ピーク電流およびピーク電力が消費される。
キャパシタ300は、電源22およびスイッチ304を介して充電される。キャパシタ300は、蓄積電荷をプログラミング電流として、電流経路308を介してパルス発生器302に供給する。スイッチ304は、電源22から引き出された後にキャパシタ300およびパルス発生器302によって受け取られる電流を制限するために、電流制限制御回路306によって動作される。
電流制限制御回路306は、電源22から引き出された後にキャパシタ300およびパルス発生器302に供給される電流を調整するために、スイッチ304を制御する。書き込み回路26およびパルス発生器302が活性化されていない場合、電流制限制御回路306は、キャパシタ300を充電させるためにスイッチ304を活性化させる。1つまたは1つ以上のメモリセルをプログラムするために書き込み回路26およびパルス発生器302が活性化されている場合、電流制限制御回路306は、スイッチ304を動作させて、電源22から引き出された後にキャパシタ300およびパルス発生器302に供給される電流を制限する。キャパシタ300は、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器302に供給し、これによってメモリセルのプログラミングが完了する。
一実施形態において、リセットパルスを供給するためにパルス発生器302が活性化されている場合、電流制限制御回路306は、パルス発生器302を介してリセットパルスが供給されている間に、電源22から引き出される電流を制御するためにスイッチ304をオフにする。一実施形態において、リセットパルスを供給するためにパルス発生器302が活性化されている場合、電流制限制御回路306は、パルス発生器302を介してリセットパルスが供給されている間に、伝導する電流を減少させて電源22から引き出される電流を制御するために、スイッチ304にバイアスを印加する。一実施形態において、1つまたは1つ以上のセットパルスを供給するためにパルス発生器が活性化されている場合、電流制限制御回路306は、パルス発生器302を介して(複数の)セットパルスが供給されている間に、電源22から引き出される電流を制限するためにスイッチ304をオフにする。一実施形態において、1つまたは1つ以上のセットパルスを供給するためにパルス発生器が活性化されている場合、電流制限制御回路306は、パルス発生器302を介して(複数の)セットパルスが供給されている間に、伝導する電流を減少させて電源22から引き出される電流を制限するために、スイッチ304にバイアスを印加する。
動作中では、電流制限制御回路306は、キャパシタ300を充電させるためにスイッチ304を活性化させる。書き込み回路26は、電源22から電流を受け取り、キャパシタ300は、スイッチ304を介して充電される。次に、上記メモリは、書き込みコマンドを受け取り、書き込み回路26は、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムするために制御される。電流制限制御回路306は、スイッチ304を動作させて、電源22から引き出された後にキャパシタ300およびパルス発生器302に供給される電流を制限する。電流制限制御回路306およびスイッチ304は、電源22から引き出される電流を、電源22の制限内に収まるように制限する。キャパシタ300は、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器302に供給する。書き込み回路26は、電源22から引き出される電流を制限している間に、相変化メモリセルのプログラミングを完了させる。一実施形態では、キャパシタ300およびパルス発生器302は、書き込み回路26が相変化メモリセルのプログラミングを完了させている間に、電源22から電流を受け取る。別の実施形態では、キャパシタ300およびパルス発生器302は、書き込み回路26が相変化メモリセルのプログラミングを完了させている間に、電源22から電流を受け取らない。プログラミングの完了後、電流制限制御回路306は、スイッチ304を活性化させてキャパシタ300を充電させる。
図4は、電源22、およびスイッチを2つ備えた書き込み回路26の一実施形態を示す図である。書き込み回路26は、電源経路28aおよび28bを介して、電源22に電気的に結合されている。電源22は、電源経路28aおよび28bを介して、電力(すなわち電圧および電流)を書き込み回路26に供給する。書き込み回路26は、電源22から電力を受け取り、そして相変化メモリセルをプログラムするためにプログラミングパルスを供給する。書き込み回路26は、ピーク電力消費を、電源22の制限内に収まるように制限する。
書き込み回路26は、キャパシタ400、パルス発生器402、第1のスイッチ404、第2のスイッチ406、および電流制限制御回路408を有している。第1のスイッチ404および第2のスイッチ406は、電界効果トランジスタである。一実施形態では、各スイッチ404および406は、NMOSトランジスタである。一実施形態では、各スイッチ404および406は、PMOSトランジスタである。一実施形態では、スイッチ404および406の一方はNMOSトランジスタであり、他方はPMOSトランジスタである。
第1のスイッチ404のドレイン−ソース間経路の一端は、電源経路28aを介して、電源22に電気的に結合されている。第1のスイッチ404のドレイン−ソース間経路の他端は、順方向電流経路410を介して、パルス発生器402およびキャパシタ400の一端に電気的に結合されている。第2のスイッチ406のドレイン−ソース間経路の一端は、電源経路28bを介して、電源22に電気的に結合されている。第2のスイッチ406のドレイン−ソース間経路の他端は、帰還電流経路412を介して、パルス発生器402およびキャパシタ400の他方に電気的に結合されている。第1のスイッチ404のゲートおよび第2のスイッチ406のゲートは、ゲート経路414を介して、電流制限制御回路408に電気的に結合されている。
パルス発生器402は、相変化メモリセルをプログラムするために、相変化メモリセル内の相変化材料にプログラミングパルスを供給する。パルス発生器402は、相変化メモリセルを特定の状態にプログラムするために、電流および/または電圧プログラミングパルスの振幅および幅を制御する。パルス発生器402は、相変化メモリセルをプログラムしている間、例えば相変化メモリセルにリセットパルスを供給している間に、ピーク電力を消費する。
書き込み回路26は、パルス発生器402のピーク電力消費を、電源22の制限内に収まるように制限する。一実施形態では、パルス発生器402は、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをリセットしている間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。別の実施形態では、パルス発生器402は、任意の適切な(複数の)プログラミングパルスを供給している間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。
キャパシタ400は、電源22、第1のスイッチ404、および第2のスイッチ406を介して充電される。キャパシタ400は、蓄積電荷をプログラミング電流として、順方向電流経路410を介して、パルス発生器402に供給する。第1のスイッチ404は、電源22から引き出された後にキャパシタ400およびパルス発生器402によって受け取られる電流を制限するために、電流制限制御回路408によって動作される。第2のスイッチ406は、パルス発生器402から電源22への帰還電流を制限するために、電流制限制御回路408によって動作される。
電流制限制御回路408は、電源22から引き出された後にキャパシタ400およびパルス発生器402に供給される電流を調整するために、第1のスイッチ404を制御する。電流制限制御回路408は、パルス発生器402から電源22への帰還電流を調整するために、第2のスイッチ406を制御する。
書き込み回路26およびパルス発生器402が活性化されている場合、電流制限制御回路408は、キャパシタ400を充電させるために、第1のスイッチ404および第2のスイッチ406を活性化させる。書き込み回路26およびパルス発生器402が、1つまたは1つ以上のメモリセルをプログラムするために活性化されている場合は、電流制限制御回路408は、電源22から引き出された後にキャパシタ400およびパルス発生器402に供給される電流を制限するために、第1のスイッチ404を動作させる。また、電流制限制御回路408は、パルス発生器402から電源22への帰還電流を制限するために、第2のスイッチ406を動作させる。キャパシタ400は、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器402に供給し、これによってメモリセルのプログラミングが完了する。
一実施形態において、リセットパルスを供給するためにパルス発生器402が活性化されている場合は、電流制限制御回路408は、電源22から引き出される電流を制限するために第1のスイッチ404をオフにし、また、電源22への帰還電流を制限するために第2のスイッチ406をオフにする。一実施形態において、リセットパルスを供給するためにパルス発生器402が活性化されている場合は、電流制限制御回路408は、電源22からの電流をより少なく伝導させるために第1のスイッチ404にバイアスを印加し、また、パルス発生器402から電源22への帰還電流をより少なく伝導させるために第2のスイッチ406にバイアスを印加する。一実施形態において、1つまたは1つ以上のセットパルスを供給するためにパルス発生器402が活性化されている場合は、電流制限制御回路408は、電源22から引き出される電流を制限するために第1のスイッチ404をオフにし、また、電源22への帰還電流を制限するために第2のスイッチ406をオフにする。一実施形態において、1つまたは1つ以上のセットパルスを供給するためにパルス発生器402が活性化されている場合は、電流制限制御回路408は、電源22からの電流をより少なく伝導させるために第1のスイッチ404にバイアスを印加し、また、パルス発生器402から電源22への帰還電流をより少なく伝導させるために第2のスイッチ406にバイアスを印加する。別の実施形態では、電流制限制御回路408は、任意の適切な組み合わせの引き出される順方向電流および帰還電流を制限するために、第1のスイッチ404および第2のスイッチ406を制御する。
動作中では、電流制限制御回路408は、キャパシタ400を充電させるために、第1のスイッチ404および第2のスイッチ406を活性化させる。書き込み回路26は、電源22から電流を受け取り、キャパシタ400は、第1のスイッチ404を介して充電される。次に、上記メモリは、書き込みコマンドを受け取り、書き込み回路26は、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムするために制御される。電流制限制御回路408は、電源22から引き出された後にキャパシタ400およびパルス発生器402へ供給される電流を制限するために、第1のスイッチ404を動作させる。電流制限制御回路408は、パルス発生器402から電源22への帰還電流を制限するために、第2のスイッチ406を動作させる。電流制限制御回路408、第1のスイッチ404、および第2のスイッチ406は、電源22から引き出されて電源22に戻される電流を、電源22の制限内に収まるように制限する。キャパシタ400は、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器402に供給する。書き込み回路26は、電源22から引き出される電流を制限している間に、相変化メモリセルのプログラミングを完了させる。一実施形態では、キャパシタ400およびパルス発生器402は、書き込み回路26が相変化メモリセルのプログラミングを完了させている間に、電源22から電流を受け取る。別の実施形態では、キャパシタ400およびパルス発生器402は、書き込み回路26が相変化メモリセルのプログラミングを完了させている間に、電源22から電流を受け取らない。プログラミングの完了後、電流制限制御回路408は、キャパシタ400を充電させるために、第1のスイッチ404および第2のスイッチ406を活性化させる。
図5は、電源22、およびチャージポンプ500を備えた書き込み回路26の一実施形態を示す図である。書き込み回路26は、電源経路28aおよび28bを介して、電源22に電気的に結合されている。電源22は、電源経路28aおよび28bを介して、書き込み回路26に電力(すなわち電圧および電流)を供給する。書き込み回路26は、電源22から電力を受け取り、そして相変化メモリセルをプログラムするためにプログラミングパルスを供給する。書き込み回路26は、パルス発生器502によって電源22から引き出されるピーク電流、および電源22から引き出されるピーク電力消費を、電源22の制限内に収まるように制限する。
書き込み回路26は、チャージポンプ500およびパルス発生器502を有している。チャージポンプ500は、電源経路28aおよび28bを介して、電源22に電気的に結合されている。パルス発生器502は、電流経路504aおよび504bを介して、チャージポンプ500に電気的に結合されている。
パルス発生器502は、相変化メモリセルをプログラムするために、相変化メモリセル内の相変化材料にプログラミングパルスを供給する。パルス発生器502は、相変化メモリセルを特定の状態にプログラムするために、電流および/または電圧プログラミングパルスの振幅および幅を制御する。パルス発生器502は、相変化メモリセルをプログラムしている間、例えば相変化メモリセルにリセットパルスを供給している間に、ピーク電力を消費する。
書き込み回路26は、パルス発生器502によって電源22から引き出されるピーク電流、および電源22から引き出されるピーク電力消費を、電源22の制限内に収まるように制限する。一実施形態では、パルス発生器502は、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをリセットしている間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。別の実施形態では、パルス発生器502は、任意の適切な(複数の)プログラミングパルスを供給している間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。
チャージポンプ500は、電源経路28aおよび28bを介して、電源22から電圧および電流を受け取る。チャージポンプ500は、パルス発生器502に供給されるプログラミング電圧およびプログラミング電流を生成する。これらのプログラミング電圧およびプログラミング電流は、パルス発生器502のピーク電流消費およびピーク電力消費を供給できる十分な大きさを有している。チャージポンプ500は、パルス発生器502にプログラミング電流を供給し、これによってメモリセルのプログラミングが完了する。チャージポンプ500は、任意の適切な種類のチャージポンプであってよい。
一実施形態では、チャージポンプ500は、キャパシタを充電電圧に接続し、キャパシタの一端を充電電圧値に充電させる。このキャパシタは充電電圧から遮断され、キャパシタの他端は充電電圧に接続され、そして充電電圧値に充電される。これによって、キャパシタの一端における電圧が倍加する。
図6は、電源22、および3つのスイッチチャージポンプ600を備えた書き込み回路26の一実施形態を示す図である。書き込み回路26は、電源経路28を介して電源22に電気的に結合されており、電源22は、リファレンス29(例えばグランド)に電気的に結合されている。電源22は、電源経路28を介して、書き込み回路26に電力(すなわち電圧および電流)を供給する。書き込み回路26は、電源22から電力を受け取り、そして相変化メモリセルをプログラムするためにプログラミングパルスを供給する。書き込み回路26は、パルス発生器602によって電源22から引き出されるピーク電流を制限し、書き込み回路26は、電源22から引き出されるピーク電力消費を、電源22の制限内に収まるように制限する。
書き込み回路26は、チャージポンプ600およびパルス発生器602を有している。チャージポンプ600は、電源経路28を介して、電源22に電気的に結合されている。パルス発生器602は、プログラミング電流経路604を介して、チャージポンプ600に電気的に結合されている。パルス発生器602は、リファレンス606(例えばグランド)に電気的に結合されている。
一実施形態では、チャージポンプ600は、キャパシタ608、第1のスイッチ610、第2のスイッチ612、第3のスイッチ614、およびチャージポンプ制御回路616を有している。第1のスイッチ610、第2のスイッチ612、および第3のスイッチ614は、電界効果トランジスタである。一実施形態では、各スイッチ610,612,614は、NMOSトランジスタである。一実施形態では、各スイッチ610,612,614は、PMOSトランジスタである。一実施形態では、各スイッチ610,612,614は、NMOSトランジスタとPMOSトランジスタとを任意かつ適切に組み合わせたものであってよい。別の実施形態では、第1のスイッチ610、第2のスイッチ612、および第3のスイッチ614は、任意の適切な種類のスイッチであってよい。
第1のスイッチ610のドレイン−ソース間経路の一端は、第2のトランジスタ612のドレイン−ソース間経路の一端に電気的に結合されており、また、電源経路28を介して電源22に電気的に結合されている。第1のスイッチ610のドレイン−ソース間経路の他端は、プログラミング電流経路604を介して、パルス発生器602およびキャパシタ608の一端に電気的に結合されている。第2のスイッチ612のドレイン−ソース間経路の他端は、経路618を介して、キャパシタ608の他端および第3のトランジスタ614の一端に電気的に結合されている。第3のスイッチ614のドレイン−ソース間経路の他端は、リファレンス620(例えばグランド)に電気的に結合されている。
チャージポンプ制御回路616は、第1のスイッチ610のゲート、第2のスイッチ612のゲート、および第3のスイッチ614のゲートに電気的に結合されている。第1のスイッチ610のゲートは、第1のゲート経路622を介して、チャージポンプ制御回路616に電気的に結合されている。第2のスイッチ612のゲートは、第2のゲート経路624を介して、チャージポンプ制御回路616に電気的に結合されている。第3のスイッチ614のゲートは、第3のゲート経路626を介して、チャージポンプ制御回路616に電気的に結合されている。
パルス発生器602は、相変化メモリセルをプログラムするために、相変化メモリセル内の相変化材料にプログラミングパルスを供給する。パルス発生器602は、相変化メモリセルを特定の状態にプログラムするために、電流および/または電圧パルスの振幅および幅を制御する。パルス発生器602は、相変化メモリセルをプログラムしている間、例えば相変化メモリセルにリセットパルスを供給している間に、ピーク電力を消費する。
書き込み回路26は、パルス発生器602のピーク電流およびピーク電力消費に対応するために、電源22から引き出されるピーク電流および電力を制限する。書き込み回路26は、電源22から引き出されるピーク電流および電力を、電源22の制限内に収まるように制限する。一実施形態では、パルス発生器602は、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをリセットしている間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。別の実施形態では、パルス発生器602は、任意の適切な(複数の)プログラミングパルスを供給している間に、ピーク電流およびピーク電力を消費する。
キャパシタ608は電源22を介して充電され、また、蓄積電荷をプログラミング電流として、プログラミング電流経路604を介してパルス発生器602に供給する。チャージポンプ制御回路616は、電源22から引き出される電流、およびキャパシタ608およびパルス発生器602が受け取る電流を制限するために、第1のスイッチ610および第2のスイッチ612を制御する。チャージポンプ制御回路616はまた、キャパシタ608の電圧値を制御するために、第3のスイッチを制御する。
例えば書き込み回路26およびパルス発生器602が活性化されていないときに、キャパシタ608を充電させるために、充電パルス制御回路616は、第1のスイッチ610および第3のスイッチ614をオンにし、第2のスイッチ612をオフにする。電源22は、キャパシタ608の一端を充電電圧値に充電させる。次に、充電パルス制御回路616は、第1のスイッチ610および第3のスイッチ614をオフにし、第2のスイッチ612をオンにする。電源22は、キャパシタ608の他端を充電電圧値に充電させる。これによって、キャパシタ608の一端の参照番号604における電圧値が実質的に倍加する。
書き込み回路26およびパルス発生器602が、1つまたは1つ以上のメモリセルをプログラムするために活性化されている場合、チャージポンプ制御回路616は、第2のスイッチ612をオフにし、キャパシタ608は、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器602に供給する。これによって、メモリセルのプログラミングが完了する。別の実施形態では、チャージポンプ制御回路616は、第2のスイッチ612をオンのままにすることができ、キャパシタ608は、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器602に供給する。これによって、メモリセルのプログラミングが完了する。
動作中では、充電パルス制御回路616は、第1のスイッチ610および第3のスイッチ614をオンにし、第2のスイッチ612をオフにする。電源22は、キャパシタ608の一端を充電電圧値に充電させる。次に、充電パルス制御回路616は、第1のスイッチ610および第3のスイッチ614をオフにし、第2のスイッチ612をオンにする。電源22は、キャパシタ608の他端を充電電圧値に充電させる。これによって、キャパシタ608の一端の参照番号604における電圧値が実質的に倍加する。
次に、上記メモリは書き込みコマンドを受け取り、書き込み回路26は、1つまたは1つ以上の相変化メモリセルをプログラムするために制御される。チャージポンプ制御回路616は、第2のスイッチ612をオフにし、第1のスイッチ610および第3のスイッチ614はオフのまま維持する。キャパシタ608は、蓄積電荷をプログラミング電流としてパルス発生器602に供給し、これによってメモリセルのプログラミングが完了する。一実施形態では、プログラミング完了後に、チャージポンプ制御回路616は、キャパシタ608を再充電させるために、第1のスイッチ610、第2のスイッチ612、および第3のスイッチ614を制御する。
書き込み回路26は、電源22から引き出される電流を制御している間に、相変化メモリセルのプログラミングを完了する。チャージポンプ制御回路616は、電源22から引き出される電流、およびキャパシタ608およびパルス発生器602が受け取る電流を、電源22の制限内に収まるように制御するために、第1のスイッチ610、第2のスイッチ612、および第3のスイッチ614を制御する。
一実施形態では、メモリの書き込みスループットを上げるために、図6に示されているような並列回路が2つまたは2つ以上用いられる。各チャネルは、或るサイクルにおいてチャネル1が充電されて、その他全てが放電または不活性にされ、次のサイクルにおいてチャネル2が充電されて、その他全てが放電または不活性にされるようにキャパシタの充電および放電が制御されるメモリアレイの一部に、電力を供給する。このような構成によって、最大電力消費を単一チャネルの電力消費へ制限する一方で、スループットを上げることができる。
一実施形態では、上記構成は、ビット線バイアスを制御するために用いられる。別の実施形態では、上記構成は、ワード線バイアスを制御するために用いられる。別の実施形態では、上記構成は、ワード線およびビット線バイアスを制御するために用いられる。
本明細書において、具体的な実施形態について図示および説明してきたが、当該分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の範囲を逸脱することなく、図示および説明してきたこれらの実施形態の代わりに、様々な別の、および/または同等の実施形態を用いることができることについて理解するであろう。本出願は、本明細書に記載の具体的な実施形態の任意の適応または改変を含んでいる。従って本発明は、特許請求の範囲および特許請求の範囲に相当する部分によってのみ限定される。
Claims (30)
- 少なくとも2つの各状態にプログラム可能な複数の抵抗メモリセルと、
上記複数の抵抗メモリセルをプログラムするために書き込みパルスを供給するパルス発生器と、
上記複数の抵抗メモリセルをプログラムするために、第1の電流を受け取り、当該第1の電流を制限し、また、蓄積電荷を第2の電流として上記パルス発生器に供給する回路とを備えたメモリ。 - 上記回路は、上記蓄積電荷を上記第2の電流として上記パルス発生器に供給するキャパシタを備えている請求項1に記載のメモリ。
- 上記回路は、上記パルス発生器が上記複数の抵抗メモリセルのうちの少なくとも1つをリセットするときに、上記蓄積電荷を上記第2の電流として上記パルス発生器に供給するために上記第1の電流を制限する制御装置を備えている請求項1に記載のメモリ。
- 上記回路は、上記第1の電流を受け取り、上記蓄積電荷を上記第2の電流として上記パルス発生器に供給するチャージポンプを備えている請求項1に記載のメモリ。
- 上記複数の抵抗メモリセルは、Ge、Sb、Te、Ga、As、In、Se、およびSのうちの少なくとも1つを含有した相変化メモリセルを有している請求項1に記載のメモリ。
- 少なくとも2つの各状態にプログラム可能な複数の相変化メモリセルと、
上記複数の相変化メモリセルをプログラムするために書き込みパルスを供給するパルス発生器と、
上記複数の相変化メモリセルをプログラムするために、第1の電流を受け取り、当該第1の電流を制限し、また、蓄積電荷を第2の電流として上記パルス発生器に供給する回路とを備えているメモリ。 - 上記回路は、上記蓄積電荷を上記第2の電流として上記パルス発生器に供給するキャパシタを備えている請求項6に記載のメモリ。
- 上記回路は、上記パルス発生器が上記複数の相変化メモリセルのうちの少なくとも1つをリセットするときに、上記蓄積電荷を上記第2の電流として上記パルス発生器に供給するために上記第1の電流を制御する制御装置を備えている請求項6に記載のメモリ。
- 上記回路は、第1のスイッチを備えており、
上記制御装置は、上記第1の電流を制御するために上記第1のスイッチを動作させる請求項8に記載のメモリ。 - 上記回路は、第2のスイッチを備えており、
上記制御装置は、上記パルス発生器からの帰還電流を制御するために上記第2のスイッチを動作させる請求項9に記載のメモリ。 - 上記回路は、
第1のスイッチと、
第2のスイッチと、
第3のスイッチとを備えており、
上記制御装置は、
キャパシタの一端を第1の電圧値に充電させ、当該キャパシタの他端を第2の電圧値に充電させ、これによって上記キャパシタの一端における上記第1の電圧値が上記第2の電圧値分高くなるように、上記第1のスイッチ、上記第2のスイッチ、および上記第3のスイッチを動作させる請求項8に記載のメモリ。 - 上記回路は、
上記第1の電流を受け取り、上記蓄積電荷を上記第2の電流として上記パルス発生器に供給するチャージポンプを備えている請求項6に記載のメモリ。 - 上記回路は、
キャパシタと、
上記第1の電流を上記キャパシタおよび上記パルス発生器に供給するために上記第1の電流を制御する制御装置とを備えている請求項6に記載のメモリ。 - 上記各相変化メモリセルは、Ge、Sb、Te、Ga、As、In、Se、およびSのうちの少なくとも1つを含有している請求項6に記載のメモリ。
- 少なくとも2つの各状態にプログラム可能な複数の相変化メモリセルと、
上記複数の相変化メモリセルをプログラムするために書き込みパルスを供給するパルス発生器と、
キャパシタと、
上記パルス発生器が上記複数の相変化メモリセルのうちの少なくとも1つをリセットするときに、電源から上記キャパシタによって受け取られる電流を制限する制御回路とを備えているメモリシステム。 - 上記キャパシタは、上記パルス発生器が上記複数の相変化メモリセルのうちの少なくとも1つをリセットするときに、蓄積電荷を上記パルス発生器に供給する請求項15に記載のメモリシステム。
- 第1のスイッチを備えており、
上記制御回路は、上記キャパシタへの上記電流を制御するため、および、上記キャパシタの一端を充電させるために上記第1のスイッチを制御する請求項15に記載のメモリシステム。 - 第2のスイッチを備えており、
上記制御回路は、上記パルス発生器からの帰還電流を調整するために上記第2のスイッチを動作させる請求項17に記載のメモリシステム。 - 第2のスイッチを備えており、
上記制御回路は、上記キャパシタの他端を充電させるために上記第2のスイッチを動作させる請求項17に記載のメモリシステム。 - 少なくとも2つの各状態にプログラム可能な複数の相変化メモリセルと、
上記複数の相変化メモリセルをプログラムする手段と、
第1の電流を受け取る手段と、
上記複数の相変化メモリセルがプログラムされるときに上記第1の電流を制限する手段と、
上記複数の相変化メモリセルをプログラムするために、蓄積電荷を第2の電流として、プログラムする上記手段に供給する手段とを備えているメモリ。 - 上記第1の電流を制限する上記手段は、
第1のスイッチと、
上記第1の電流を制限するために上記第1のスイッチを制御する手段とを備えている請求項20に記載のメモリ。 - 第2のスイッチを備えており、
上記第1のスイッチを制御する上記手段は、上記プログラムする手段からの帰還電流を制御するために上記第2のスイッチを動作させる請求項21に記載のメモリ。 - キャパシタと、
第2のスイッチとを備えており、
上記第1のスイッチを制御する上記手段は、上記キャパシタの一端を充電させるために上記第1のスイッチを動作させ、また上記第2のスイッチを動作させる請求項21に記載のメモリ。 - メモリのプログラム方法であって、
相変化メモリセルを備える工程と、
第1の電流を受け取る工程と、
上記複数の相変化メモリセルがプログラムされるときに、上記第1の電流を制限する工程と、
蓄積電荷を第2の電流として上記複数の相変化メモリセルへ供給する工程とを含んでいるプログラム方法。 - 上記第1の電流を制限する上記工程は、
第1のスイッチを備える工程と、
上記第1の電流を制限するために上記第1のスイッチを制御する工程とを含んでいる請求項24に記載のプログラム方法。 - 第2のスイッチを備える工程と、
パルス発生器からの帰還電流を制御するために上記第2のスイッチを制御する工程とを含んでいる請求項25に記載のプログラム方法。 - キャパシタを備える工程と、
第2のスイッチを備える工程と、
上記キャパシタの一端を充電させるために上記第1のスイッチを制御する工程と、
上記キャパシタの他端を充電させるために上記第2のスイッチを制御する工程とを含んでいる請求項25に記載のプログラム方法。 - 蓄積電荷を供給する上記工程は、
キャパシタを備える工程と、
上記第1の電流を介して上記キャパシタを充電させるために、上記第1の電流を制御する工程と、
上記蓄積電荷を上記第2の電流として供給するために、上記キャパシタへの上記第1の電流を制限する工程とを含んでいる請求項24に記載のプログラム方法。 - メモリのプログラム方法であって、
複数の相変化メモリセルを備える工程と、
キャパシタを備える工程と、
上記複数の相変化メモリセルをプログラムする工程と、
上記複数の相変化メモリセルがプログラムされるときに、電源から上記キャパシタによって受け取られる電流を制限する工程とを含んでいるプログラム方法。 - 上記パルス発生器が上記複数の相変化メモリセルのうちの少なくとも1つをリセットするときに、蓄積電荷をパルス発生器へ供給する工程を含んでいる請求項29に記載のプログラム方法。
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