JP2008163397A - 柱状ナノ粒子、その製造方法及び磁気記録媒体 - Google Patents

柱状ナノ粒子、その製造方法及び磁気記録媒体 Download PDF

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Abstract

【課題】微細かつ大きなアスペクト比を有する磁気記録用の柱状ナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】化学合成されたほぼ球形の金属ナノ粒子1を溶媒に分散させてナノ粒子分散溶液10を作成し、表面に縦長のナノホール3が形成された基体2表面に塗布、脱泡してナノホール3中にナノ粒子分散溶液10を注入する。その後、融点以下の温度で熱処理して、金属ナノ粒子1の固相反応により細長く成長した柱状ナノ粒子4をナノホール内に形成する。
【選択図】図1

Description

本発明は細長の形状を有する金属からなる柱状ナノ粒子、その製造方法及びその柱状ナノ粒子を用いた磁気記録媒体に関する。
磁気記録装置の高密度記録を実現するには記録媒体のノイズの低減が欠かせない。このノイズの低減には、記録媒体の記録層に用いられる硬磁性粒子の粒径を微細かつ均一にすることが有効である。しかし、従来最も多用されているスパッタ法で製造されるスパッタ膜では、製造される結晶粒径は7nm程度、その粒径分散は20%程度が限界であり、これ以下の微細かつ粒径分散が小さな硬磁性粒子を製造することは難しい。
近年、化学合成による硬磁性金属ナノ粒子の製造方法が開発された。この方法で製造される硬磁性金属ナノ粒子、例えばFePtナノ粒子は、球体をなし、平均粒径が約4nm、粒径分散が約5%と微細かつ粒径分散が小さい。さらに、立方体形状をした同程度の粒径及び粒径分散を有するFePtナノ粒子も化学合成により製造されている。これら化学合成により製造された硬磁性ナノ粒子は、結晶異方性に基づく大きな磁気異方性を有することから、高密度記録媒体の優れた磁性材料となる可能性を有している。(例えば、非特許文献1、2、特許文献1)。
しかし、かかる化学合成により製造された硬磁性金属ナノ粒子は、形状がほぼ球体ないし立方体であり長径と短径との比であるアスペクト比が小さい。このため、スパッタ法で作成された柱状の硬磁性粒子に比べて形状磁気異方性が小さく、かかる硬磁性金属ナノ粒子を用いて磁気記録層を形成しても、磁気記録媒体に要求される十分な磁気異方性を付与することが難しい。
さらに、球体の粒子は、稠密充填しても立方体又は柱状の粒子に比べて充填密度が低く、体積当たりの磁気モーメントが小さくなるため優れたS/N比を得ることができない。
また、化学合成により製造された硬磁性金属ナノ粒子は微小なことから、この金属ナノ粒子を用いた磁気記録層は熱揺らぎ耐性が小さい。即ち、熱揺らぎは耐性は、硬磁性粒子の磁気異方性エネルギーKuとクラスタ体積Vの積Ku×Vに依存する。磁区の最小単位であるクラスタ体積は、硬磁性粒子の体積にほぼ等しいので、微小な硬磁性金属ナノ粒子では非常に小さい。また、球形乃至立方体の硬磁性金属ナノ粒子では、形状磁気異方性が小さいため、磁気異方性エネルギーKuはその殆どが硬磁性金属ナノ粒子の結晶異方性由来のものとなり、あまり大きくはならない。このように、化学合成により製造された硬磁性金属ナノ粒子は、微小かつアスペクト比が小さいことから、磁気異方性エネルギーKuとクラスタ体積Vの積Ku×Vを大きくすることが難しい。このため、磁気記録に十分な大きさの熱揺らぎ耐性を有する磁気記録媒体を製造することが難しい。
上述したノイズ、磁気異方性及び熱揺らぎ耐性の問題は、アスペクト比が大きくかつ微細な粒子、即ち柱状金属ナノ粒子を用いて磁気記録層を形成することで解決することができる。
即ち、アスペクト比の大きな硬磁性金属ナノ粒子は、大きな形状磁気異方性が付加されるため大きな磁気異方性を有する。また、球体に比べて充填密度も高い。例えば、円柱状粒子の稠密充填密度は、球体粒子の4/3倍と高い。一方、柱状金属ナノ粒子では、磁壁に垂直な断面積を球体又は立方体と同じにしたまま、長径を長くすることで金属ナノ粒子の体積(即ちクラスタの体積)を大きくすることができる。このため、柱状金属ナノ粒子で製造された磁気記録層は、球体又は立方体の金属ナノ粒子で製造された磁気記録層よりも高いS/N比を有する。
また、アスペクト比の大きな硬磁性金属ナノ粒子では、短径を小さく保持したまま粒子の体積を大きくすることができるので、微小粒径(短径)によるノイズの抑制効果を保持しつつ、磁気異方性エネルギーKuとクラスタ体積Vの積Ku×Vを大きくして熱揺らぎ耐性を大きくすることができる。このため、高S/N比かつ高熱揺らぎ耐性を有する磁気記録層を形成することができる。
化学合成により製造された金属ナノ粒子を出発材料として、粒径分散が小さな金属ナノ粒子を製造する方法が知られている。(例えば特許文献2参照。)。
この方法では、陽極酸化により複数の細長のナノホールが形成されたポーラスアルミナを形成し、その上に化学合成により製造された金属ナノ粒子のコロイド溶液を塗布して、ナノホール中に金属ナノ粒子を充填する。その後、加熱して金属ナノ粒子を溶解し冷却することで、径及び高さが揃った金属ナノ粒子がナノホールの底に形成される。
特開2000−054012号公報 特開2005−171306号公報 Sun et al.Science,Vol.187(2000) M.Chen et al.,J.AM.CHEM.SOC.,Vol.128(2006) p7132−7133
上述したように、従来のスパッタ法では、微細な柱状微粒子を形成することが難しく、高いS/N比及び高い熱揺らぎ耐性を有する磁気記録層を形成することが困難であった。
また、化学合成により製造される金属ナノ粒子はアスペクト比が小さい。このため、磁気記録層に使用するに十分なまでに磁気異方性及び熱揺らぎ耐性を大きくすることが難しい。
化学合成により製造された金属ナノ粒子をポーラスアルミナのナノホールに充填し、加熱溶融して柱状の金属ナノ粒子を形成することはできる。しかし、この方法で形成された金属ナノ粒子の直径はナノホールの直径で決まるため直径数nm以下の細い柱状結晶を製造することは難しい。
また、溶融金属を固化して製造するため、柱状金属ナノ粒子の長軸方向を特定の金属結晶軸に合わせることができない。このため、結晶起因の磁気異方性軸を形状起因の磁気異方性軸に一致させることができず、大きな磁気異方性を有する金属ナノ粒子を製造することができない。
本発明は、小さなアスペクト比を有する微細な金属ナノ粒子を出発材料として、小さな直径と高いアスペクト比を有する柱状ナノ粒子を製造する方法、柱状ナノ粒子及びその柱状ナノ粒子を用いて製造される高S/N比と高熱揺らぎ耐性とを有する磁気記録媒体を提供することを目的としている。
上記課題を解決するための本発明の柱状ナノ粒子の製造方法は、金属ナノ粒子を溶媒に分散させたナノ粒子分散溶液を、基体表面に形成されたナノホール中に注入し、次いで、基体を熱処理して、金属ナノ粒子の固相反応により前記ナノホール内に細長く成長した柱状ナノ粒子を形成する。
このようにして形成された柱状ナノ粒子は、例えば基体をエッチャントに溶解することで基体から分離して採取することができる。
上記本発明の柱状ナノ粒子の製造方法では、ナノホール中にナノ粒子分散溶液を充填して熱処理する。この熱処理により金属ナノ粒子の固相反応が生じ、その結果ナノホール内に細長く成長した柱状の金属ナノ粒子(柱状ナノ粒子)が製造される。
この固相反応によりナノホール内に形成された柱状ナノ粒子は、ナノホールの形状、例えば直径及び深さによりその形状がされることなく、細長い形状に成長する。例えば、多くの場合、ナノホール内に形成された柱状ナノ粒子の直径は出発材料の金属ナノ粒子と略同程度ないしより細く、また柱状ナノ粒子のアスペクト比は2以上である。勿論、条件を選び、出発材料の金属ナノ粒子の直径より太くすることもできる。
また、柱状ナノ粒子の成長方向は、ナノホールの軸方向に依存せず、例えばナノホールの深さ方向の他、斜め又は横(ナノホールの軸と垂直)方向にも成長する。さらに成長方向は金属ナノ粒子の特定の結晶軸方向に向いている。従って、特定の結晶軸を長軸とする柱状ナノ粒子が製造される。
このように、本発明によれば、従来のナノホールに充填した金属ナノ粒子を溶融、固化して形成するナノ粒子の製造方法のように、ナノホールの形状によりナノ粒子の形状が規定されることなく、例えばナノホールより細い柱状ナノ粒子を製造することができる。また、溶融金属を固化するのでは長軸方向と特定の結晶軸とを一致させることは困難である。本発明によれば、特定の結晶軸方向を長軸とする柱状ナノ粒子が容易に製造される。
本発明の熱処理の温度及び処理時間は、金属ナノ粒子及び柱状ナノ粒子の融点未満の温度でなされ、かつ、ナノホール内に柱状ナノ粒子が固相反応により成長する温度及び時間でなされる。
本発明の柱状ナノ粒子を、磁化容易軸方向を長軸とする硬磁性金属からなる柱状ナノ粒子とすることができる。かかる硬磁性金属からなる柱状ナノ粒子は、上述した熱処理により1軸磁気異方性を有する硬磁性金属となる金属ナノ粒子を出発材料として製造することができる。
かかる金属ナノ粒子には、例えば化学合成により製造された硬磁性金属、例えばFePt、FePd又はCoPtがある。これらの硬磁性金属ナノ粒子は、化学合成後に熱処理することで高い1軸磁気異方性を有する結晶構造へ変換される。かかる硬磁性金属ナノ粒子を分散させたナノ粒子分散溶液をナノホール内に充填して熱処理することで、磁気異方性軸方向に成長した柱状ナノ粒子が形成される。この硬磁性金属からなる柱状ナノ粒子は、長軸が1軸磁気異方性の軸とほぼ一致するので形状異方性と結晶の1軸磁気異方性とが加算され、非常に大きな磁気異方性を有する。従って、この硬磁性金属からなる柱状ナノ粒子を磁気記録層に用いることで、低S/N比かつ高熱揺らぎ耐性を有する磁気記録媒体が製造される。
以下、本発明をFePtからなる柱状ナノ粒子の製造方法を参照して詳細に説明する。図1は本発明の実施形態工程断面図であり、図1(a)は化学合成により形成れさた金属ナノ粒子を分散したナノ粒子分散溶液を、図1(b)〜(g)はナノホールが形成された基体断面を表している。
本実施形態では、まず、FePtからなる金属ナノ粒子1(図1(a)に金属ナノ粒子1として示す。)を化学合成により製造する。アルゴン雰囲気中に置かれたフラスコ内に、197mg(0.5mmol)のビスアセチルアセトナイト白金と390mgの1,2−ヘキサデカンジオールとを入れ、ジオクチルエーテル20mLを加える。さらに、安定剤として0.32mL(1.0mmol)のオレイン酸及び0.34mL(1.0mmol)のオレイルアミンを加えた後、0.13mL(1.0mmol)のFe(CO)5 を加えて、攪拌しながら230℃に加熱して30分間反応させ、FePtからなる金属ナノ粒子1がコロイド状に分散した溶液を生成する。その後、溶液を室温まで放冷する。
次いで、40mLのエタノールを加えて遠心分離をおこない、沈殿物を採取する。エタノールを加えることで、不純物が分離される。
次いで、採取された沈殿物に、極性のない溶媒、例えばヘキサンを加えて、FePtからなる金属ナノ粒子1がヘキサン中に分散したナノ粒子分散溶液原液を作成する。なお、このナノ粒子分散溶液原液中のFePtの割合を、1mLのヘキサン中に40mgのFePtが含まれるように調製した。この金属ナノ粒子1の組成は、ICP分析(高周波誘導結合プラズマ分析)によると、Feが47原子%、Ptが53原子%であった。
このようにして化学合成されたFePtからなる金属ナノ粒子1を、透過電子顕微鏡を用いてその粒径を観測した。観測は、ほぼ300個の金属ナノ粒子1の像を画像処理してなされた。なお、金属ナノ粒子1はほぼ球形であった。
図2は本発明の実施形態の金属ナノ粒子の粒径分布を表す図であり、化学合成されたFePtからなる金属ナノ粒子1の粒径の度数分布を表している。
図2を参照して、化学合成された金属ナノ粒子1の平均粒径は4.7nmであり、その粒径の標準偏差σは0.34nmであった。
次いで、図1(a)を参照して、ナノ粒子分散溶液原液をヘキサンで希釈し、1mLのヘキサン中に10mgのFePtが含まれるように調製する。これにより、スピンコートに適した粘性をもたせることができる。
次いで、ヘキサンで希釈したナノ粒子分散溶液原液に、オレイン酸及びオレインアミンを混合し、よく混ぜる。ヘキサンで希釈したナノ粒子分散溶液原液、オレイン酸及びオレインアミンの混合比は、容量比で1:4:4とした。
この結果、図1(a)を参照して、それぞれ2μLのオレイン酸及びオレインアミンに対して0.4mgのFePtからなる金属ナノ粒子1を含むナノ粒子分散溶液10が調製された。
上述のナノ粒子分散溶液の作成工程とは別に、図1(b)を参照して、ナノホール3が形成された基体2を予め準備する。かかる基体2は、例えば、Al基板1を陽極酸化することで形成される。即ち、陽極酸化により、基板2上に多数のナノホール3が形成されたポーラスアルミナ2bが形成される。
この陽極酸化により形成されるナノホール3は、基板2表面にほぼ150nmの深さを有してほぼ垂直に形成される。そのナノホール3の直径は、陽極酸化の条件により数nm〜数百nmの範囲内において非常に狭い範囲に制御して形成することができる。本実施形態では、ナノホール3の直径は、15nm〜20nmを中心とし約4nm〜約100nmの範囲に分布してる。
次いで、図1(c)を参照して、ナノホール3が形成された基体2上に、ナノ粒子分散溶液10をスピン塗布した。なお、スピン塗布に限らず、他の塗布手段を用いても差し支えない。
次いで、図1(d)を参照して、基体2を真空容器中に置き、真空中に30分間放置して脱泡処理した。その結果、ナノホール3中の気体が抜気され、ナノホール3は金属ナノ粒子1を含有するナノ粒子分散溶液10により充填される。このとき、ナノ粒子分散駅10は、分散安定剤であるオレイン酸及びオレインアミンを十分含有しているので、真空中に放棄している間、塗布されたナノ粒子分散液10が乾燥することはなく、ナノホール3を充填するに十分な低い粘度が保持される。なお、この真空中に放置している間に、ナノ粒子分散溶液中のヘキサンは揮発するが、オレイン酸及びオレインアミンは残留する。
次いで、図1(e)を参照して、熱処理することで柱状金属ナノ粒子を形成する。まず、基体2を真空熱処理炉の真空チャンバ内に載置し、4〜10Paの真空に保持した。その後、真空熱処理炉のヒータに通電して加熱して、炉内温度を2 ℃/分の昇温速度で400℃まで昇温し、400℃に15分間保持した。続いて、ヒータを切断して、真空熱処理炉を自然冷却して室温まで冷却したのち基体2を熱処理炉から取り出した。
なお、この熱処理温度は、金属ナノ粒子1の融点以下でなければならない。また、FePtがfct構造に相変化するように400℃〜900℃以下で行なうことが望ましい。とくに、Al基板1aの溶融を回避するため、400℃〜500℃で行なうことが好ましい。さらに、真空内で熱処理することで、金属ナノ粒子1及び柱状ナノ粒子4の酸化を防ぐことができる。
この熱処理により、次に述べるように、ナノホール3内にFePtからなる柱状ナノ粒子が形成された。なお、昇温温度を2 ℃/分と遅くすることで、金属ナノ粒子1をナノホール3内に沈降させ、確実に柱状ナノ粒子4を形成することができる。
図3は本発明の実施形態基体断面図であり、ナノホール3内に柱状ナノ粒子4が形成された基板2断面の透過電子顕微鏡像を表している。なお、図3(b)は図3(a)より高倍率で観測した透過電子顕微鏡像を表している。
図3(a)及び(b)を参照して、ポーラスアルミナ2bに形成されたナノホール3の中に、複数の細長く成長した柱状ナノ粒子4が形成されている。直径が6.5nm以下の細いナノホール3には柱状ナノ粒子4が観測されなかった。
図3(b)を参照して、柱状ナノ粒子4の長軸方向は、ナノホール3の長軸方向に関係なくそれぞれ無秩序にばらばらの方向に向いているように見える。また、柱状ナノ粒子4の直径は、例えば2nmであり、金属ナノ粒子1と同程度ないしそれより細いものもある。これは、10nm以上の直径を有するナノホール3内でも同様である。このように、ナノホール3内に形成される柱状ナノ粒子4は、その長軸方向及び形状がナノホール3の形状に依存していない。
表1は、本発明の実施形態柱状ナノ粒子の形状分布の表であり、透過電子顕微鏡により観察された柱状ナノ粒子4の粒子長(長軸方向の長さ)及び粒子直径(長軸に垂直な面内の直径)の度数を表している。なお、表1には、直径6.7nm〜9.3nmの範囲にあるナノホール3内に形成された14個の柱状ナノ粒子4の観測値及びアスペクト比を示した。
Figure 2008163397
表1を参照して、直径6.7nm〜9.3nmのナノホール3内に形成された柱状ナノ粒子4は、粒子長が異なるにも拘わらず、ほぼ2nmの同様な直径を有している。出発材料の金属ナノ粒子1は、図2を参照して、2.5nm以下の粒径を有するものは極めて少ない。
この事実は、柱状ナノ粒子4は、金属ナノ粒子1が単に凝集又は接合して形成されたものではなく。金属ナノ粒子1自体が変形して形成されたことを強く示唆している。本発明の発明者は、熱処理が金属ナノ粒子1の融点未満の温度でなされることから、このような変形は、1個又は複数の金属ナノ粒子1が、固相反応、例えば固相拡散により柱状ナノ粒子3に成長したものと考察している。
これらの柱状ナノ粒子4は、硬磁性材料であるFePtの結晶由来の1軸磁気異方性軸の方向に成長し、その結果、長軸方向と結晶由来の1軸磁気異方性軸とがほぼ一致している。従って、結晶由来の磁気異方性と形状由来の磁気異方性とが加算されるので、柱状ナノ粒子4は大きな1軸磁気異方性を有する。なお、柱状ナノ粒子4は、単結晶の他に複数の単結晶からなるものがあるが、複数の単結晶からなる場合も長軸方向と結晶由来の1軸磁気異方性軸とがほぼ一致していた。
表1から、柱状ナノ粒子4の粒子直径がほぼ一定なので、柱状ナノ粒子4のアスペクト比は粒子長により定まる。本実施形態では、柱状ナノ粒子4の粒子長の平均値は7.4、アスペクト比の平均値は4であった。
上述したように、柱状ナノ粒子4は、電子顕微鏡観察によると、直径が6.5nm未満のナノホール3には形成されていない。このような細いナノホール3には、金属ナノ粒子1も観測されない。このことは、細いナノホール3には金属ナノ粒子1が注入されなかったことを示唆している。従って、本発明におけるナノホール3の直径は、6.5nm以上、即ち平均粒径の1.4倍以上あることが望ましい。
一方、直径が60nmを超えるナノホール3内には、柱状ナノ粒子4に混在する球状の金属ナノ粒子1aが観察された。従って、柱状ナノ粒子4を純粋に抽出するためには、ナノホール3の直径を60nm以下、即ち出発材料の金属ナノ粒子1の平均粒径の12倍以下とすることが好ましい。とくに、ナノホール3の直径を15〜20nmとすることが柱状ナノ粒子4の製造効率の観点から好ましい。もちろん、最適なナノホール3の直径は金属ナノ粒子1若しくはナノ粒子分散溶液の組成又は熱処理条件により変わるから、実験的にナノホール3の直径を適切に選択することが望ましい。
次いで、図1(f)を参酌して、基体2上に塗布されたナノ粒子分散溶液10を除去した。この基体2上のナノ粒子分散溶液10には、未反応の金属ナノ粒子1あるいは球状に凝集した金属ナノ粒子1の塊が含まれので、基体2からこれらを除去して純粋な柱状ナノ粒子4を残すためである。この除去は、例えば粗さ#4000番の研摩紙を用いて擦りとった。
次いで、図1(g)を参照して、ポーラスアルミナ2bを溶解するエッチャント5を用いてポーラスアルミナ2bを溶解し、エッチャント5に柱状ナノ粒子4が混合した溶液を採取した。このエッチャント5は、ポーラスアルミナ2bを溶解し、かつ柱状ナノ粒子4を溶解しないものであれば足り、周知の酸、アルカリ又は他の薬品を用いることができる。
その後、遠心分離器を用いてエッチャント5から柱状ナノ粒子4を分離し、柱状ナノ粒子4を採取した。
次いで、柱状ナノ粒子4を磁気記録層に用いた磁気記録媒体及び磁気記録装置の製造方法について説明する。
まず、エッチャント5から分離された柱状ナノ粒子4をヘキサン中に分散させる。このとき、1mLのヘキサン中に10mgのFePtが含まれるように調製する。さらに、この柱状ナノ粒子4がヘキサン中に分散した溶液に、分散安定剤としてオレイルアミン及びオレイン酸を、容量比で1:4:4となるように加え、攪拌する。この結果、それぞれ2μLのオレイン酸及びオレインアミンに対して0.4mgのFePtからなる柱状ナノ粒子1を含む溶液が調製された。なお、ヘキサンを加えることで、柱状ナノ粒子1を含む溶液の粘度を調整した。従って、粘度調整が不要で、かつ柱状ナノ粒子4がコロイド状に分散するときは、オレイン酸及びオレインアミンを加えるのみでヘキサンの添加は不要である。
次いで、スピン塗布により磁気記録媒体の円盤状基体の表面に柱状ナノ粒子4を含む溶液を塗布しベークし、磁気記録層を形成する。このスピン塗布を磁場中、例えば垂直磁場中で行なうことで、柱状ナノ粒子4の1軸磁気異方性軸を例えば垂直方向に揃えた垂直磁気記録層が形成される。これにより、柱状ナノ粒子4を磁気記録材料とする磁気記録媒体が製造される。かかる磁気記録媒体を用いた磁気記録装置、例えばハードデスクは、高S/N比と優れた熱揺らぎ特性を有する。
図4は本発明の実施形態の熱揺らぎ耐性を説明する図であり、立方体金属ナノ粒子と柱状ナノ粒子とについてそれぞれ計算される熱揺らぎ耐性を表している。なお、図4(a)は計算に用いられた立方体金属ナノ粒子及び柱状ナノ粒子の形状を、図4(b)はその計算結果を表している。
図4(a)を参照して、Ku=7×107 erg/ccの結晶起源の1軸磁気異方性エネルギーKuを有する辺長Dの立方体金属ナノ粒子B及び直径D、長さ4Dの円柱状の柱状ナノ粒子Aの熱揺らぎ耐性を、温度T=300KにおけるKuV/kTを算出して評価した。ここで、Vは磁区の単位となる各ナノ粒子A、Bの体積、kはボルツマン定数である。
図4(b)を参照して、KuV/kTは、立方体金属ナノ粒子B(図中の曲線Bとして示す。)よりも柱状ナノ粒子A(図中の曲線Aとして示す。)が大きい。即ち、寸法Dが同じ場合、立方体金属ナノ粒子Bよりも柱状ナノ粒子Aの熱揺らぎ耐性が優れている。この場合、ナノ粒子A、Bの磁化方向の垂直断面積は、それぞれD2 、πD2 /4であり、柱状ナノ粒子Aの方が小さい。従って、これらのナノ粒子A、Bを磁気記録層に用いたとき、円筒状ナノ粒子Aは、立方体金属ナノ粒子Bに比べて、熱揺らぎ耐性に優れかつ高いS/N比を有する磁気記録層が実現される。
また、磁気記録層に必要とされるKuV/kT>50の磁気異方性エネルギーを有する硬磁性ナノ粒子は、円筒状の柱状ナノ粒子Aでは寸法Dは2.1nm以上あれば足りる。これに対して、立方体金属ナノ粒子Bでは寸法Dは3.1nm以上が必要である。このように、本実施形態の柱状ナノ粒子4の如き柱状ナノ粒子Aは、化学合成されたほぼ球ないし立方体状の金属ナノ粒子1に比較して、同じ熱揺らぎ耐性を有しつつ、磁化方向に垂直な断面積が小さな微小粒径とすることができる。このため、高い熱揺らぎ耐性と高いS/N比とを有する磁気記録媒体が実現される。
上述した本発明の実施形態において、FePt金属ナノ粒子1を用いたが、これに拘わらず1軸磁気異方性を有する硬磁性材料、例えば化学合成されたFePd又はCoPtをもちいることもできる。さらに、他の方法で製造された1軸磁気異方性を有する硬磁性金属ナノ粒子を用いることもできる。
また、陽極酸化により形成されたポーラスアルミナ3bに代えて、他の方法及び材料により製造される表面に細長いナノホール3が形成された基体2を用いても差し支えない。ただし、基体2の少なくとナノホール3の形成部分は、エッチャントにより柱状ナノ粒子を溶解せずに基体のナノホール3形成部分が溶解される材料でなければならない。
なお、本実施形態では硬磁性材料からなる柱状ナノ粒子について説明したが、本発明は金属材料からなる柱状ナノ粒子の製造にも適用することができる。
上述した本明細書には以下の付記記載の発明が開示されている。
(付記1)金属ナノ粒子を溶媒に分散させたナノ粒子分散溶液を作成する工程と、
前記ナノ粒子分散溶液を、基体表面に形成されたナノホール中に注入する工程と、
次いで、前記基体を熱処理して、前記金属ナノ粒子の固相反応により前記ナノホール内に柱状ナノ粒子を形成する工程とを有する柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記2)前記基体をエッチャントに溶解して、前記柱状ナノ粒子を前記基体から分離する工程を有することを特徴とする付記1記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記3)前記金属ナノ粒子は、化学合成により製造された球状又は立方体状のナノ粒子からなることを特徴とする付記1又は2記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記4)前記熱処理後の前記金属ナノ粒子は、1軸磁気異方性を有する硬磁性金属からなり、
前記柱状ナノ粒子は、磁化容易軸方向を長軸とする前記硬磁性金属からなることを特徴とする付記1、2又は3記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記5)前記硬磁性金属はFePt、FePd又はCoPtであることを特徴とする付記3又は4記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記6)前記熱処理は400℃〜900℃の範囲で行なうことを特徴とする付記5記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記7)前記ナノ粒子分散溶液を前記ナノホール中に注入する工程は、前記基体の表面に前記ナノ粒子分散溶液を塗布した後、前記基体を真空中に置く工程を含み、
前記柱状ナノ粒子を形成した後、前記基体上に塗布された前記ナノ粒子分散溶液を除去する工程と、
次いで、前記基体をエッチャントに溶解する工程とを有することを特徴とする付記1〜6の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記8)前記ナノホールの直径は、前記金属ナノ粒子の平均粒径の1.4倍以上かつ4倍以下であることを特徴とする付記1〜7の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記9)前記ナノホールが形成された前記基体は、陽極酸化により製造されたポーラスアルミナからなることを特徴とする付記1〜8の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記10)前記金属ナノ粒子の平均直径が3〜5nmであり、
前記ナノホールの直径が6.5nm〜20nmであることを特徴とする付記1〜9の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記11)前記金属ナノ粒子の平均直径が3〜5nmであり、
前記ナノホールの直径が15nm〜20nmであることを特徴とする付記1〜10の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
(付記12)付記1〜11の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法により製造された前記柱状ナノ粒子。
(付記13)付記12記載の柱状ナノ粒子を含有する磁気記録層を有する磁気記録媒体。
(付記14)付記13記載の磁気記録媒体を備えた磁気記録装置。
本発明を磁気記録装置、例えばハードディスク装置の磁気記録媒体に用いられる硬磁性微粒子の製造に適用することで、優れた熱揺らぎ耐性及び高S/N比を有する磁気記録装置が実現される。
本発明の実施形態工程断面図 本発明の実施形態の金属ナノ粒子の粒径分布を表す図 本発明の実施形態基体断面図 本発明の実施形態の熱揺らぎ耐性を説明する図
符号の説明
1 金属ナノ粒子
2 基体
2a 基板
2b ポーラスアルミナ
3 ナノホール
4 柱状ナノ粒子
5 エッチャント

Claims (7)

  1. 金属ナノ粒子を溶媒に分散させたナノ粒子分散溶液を作成する工程と、
    前記ナノ粒子分散溶液を、基体表面に形成されたナノホール中に注入する工程と、
    次いで、前記基体を熱処理して、前記金属ナノ粒子の固相反応により前記ナノホール内に柱状ナノ粒子を形成する工程とを有する柱状ナノ粒子の製造方法。
  2. 前記熱処理後の前記金属ナノ粒子は、1軸磁気異方性を有する硬磁性金属からなり、
    前記柱状ナノ粒子は、磁化容易軸方向を長軸とする前記硬磁性金属からなることを特徴とする請求項1記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
  3. 前記ナノ粒子分散溶液を前記ナノホール中に注入する工程は、前記基体の表面に前記ナノ粒子分散溶液を塗布した後、前記基体を真空中に置く工程を含み、
    前記柱状ナノ粒子を形成した後、前記基体上に塗布された前記ナノ粒子分散溶液を除去する工程と、
    次いで、前記基体をエッチャントに溶解する工程とを有することを特徴とする請求項1又は2記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
  4. 前記ナノホールの直径は、前記金属ナノ粒子の平均粒径の1.4倍以上かつ4倍以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
  5. 前記ナノホールが形成された前記基体は、陽極酸化により製造されたポーラスアルミナからなることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法。
  6. 請求項1乃至5の何れかに記載の柱状ナノ粒子の製造方法により製造された前記柱状ナノ粒子。
  7. 請求項6記載の柱状ナノ粒子を含有する磁気記録層を有する磁気記録媒体。
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