JP2008160111A - デバイス製造方法、コンピュータプログラム製品、およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置において投影システムの調整可能な設定を最適化する方法であって、
デバイスパターンおよび照明機構についてオブジェクトスペクトルおよび瞳充填関数を決定すること、
オブジェクトスペクトルの対称性を決定すること、
対称性に関して、変数として調整可能要素の設定を用いて瞳面内の波面についてのメリット関数を構築すること、および、
メリット関数を最適化することを含む方法。
【選択図】図2
Description
デバイスパターンおよび照明機構についてオブジェクトスペクトルを決定すること、
オブジェクトスペクトルの対称性を決定すること、
対称性に関して、変数として調整可能要素の設定を用いて瞳面内の波面についてのメリット関数を構築すること、および、
メリット関数を最適化することをさらに含む。
デバイスパターンおよび照明機構についてオブジェクトスペクトルを決定すること、
オブジェクトスペクトルの対称性を決定すること、
対称性に関して、変数として調整可能要素の設定を用いて瞳面内の波面についてのメリット関数を構築すること、および、
メリット関数を最適化することをさらに含む、方法を実施するように、リソグラフィ装置を制御するようになっている。
パターンを提供するように構成されるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、
照明機構を用いてパターンを照明するように構成された照明システムと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
それぞれの設定を有する複数の調整可能要素を有し、基板のターゲット部分上にパターンの画像を投影するように構成された投影システムと、
照明システムおよび投影システムの調整可能要素を制御するように構成された制御システムとを備え、制御システムは、
デバイスパターンおよび照明機構についてオブジェクトスペクトルおよび瞳充填関数を決定するように構成された第1決定ユニットと、
オブジェクトスペクトルの対称性を決定するように構成された第2決定ユニットと、
対称性に関して、変数として調整可能要素の設定を用いて瞳面内の波面についてのメリット関数を構築するように構成されたメリット関数構築ユニットと、
メリット関数を最適化するように構成された最適化ユニットとを備える。
−放射ビームB(たとえば、UV放射またはDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(たとえば、マスク)MAを支持するように構築され、一定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに接続された支持構造(たとえば、マスクテーブル)MTと、
−基板(たとえば、レジストコートウェーハ)を保持するように構築され、一定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえば、ウェーハテーブル)と、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを、基板Wのターゲット部分C(たとえば、1つまたは複数のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(たとえば、屈折投影レンズ系)PSとを備える。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、放射ビームに与えられる全体のパターンが、ターゲット部分C上に1度で投影される間、実質的に静止したままにされる(すなわち、単一静的露光)。基板テーブルWTは、その後、異なるターゲット部分Cを露光できるようにXおよび/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光でイメージングされるターゲット部分Cのサイズを制限する。
2.スキャンモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、放射ビームに与えられるパターンが、ターゲット部分C上に投影される間、同期してスキャンされる(すなわち、単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小率)拡大率および画像反転特性によって決めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光におけるターゲット部分の(スキャンしない方向の)幅を制限し、一方、スキャニング運動の長さは、ターゲット部分の(スキャニング方向の)高さを決める。
3.別のモードでは、プログラマブルなパターニングデバイスを保持するマスクテーブルMTは、実質的に静止したままにされ、基板テーブルWTは、放射ビームに与えられるパターンが、ターゲット部分C上に投影される間、移動する、または、スキャンされる。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、プログラマブルなパターニングデバイスは、基板テーブルWTのそれぞれの移動後か、または、スキャン中における連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に参照したタイプのプログラマブルミラーアレイなどの、プログラマブルなパターニングデバイスを利用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (15)
- 瞳面およびそれぞれの設定を有する複数の調整可能要素を有する投影システムを使用して、照明機構を用いて照明されたデバイスパターンの画像を基板上に投影することを含むデバイス製造方法であって、
前記デバイスパターンおよび前記照明機構についてオブジェクトスペクトルを決定すること、
前記オブジェクトスペクトルの対称性を決定すること、
前記対称性に関して、変数として前記調整可能要素の設定を用いて前記瞳面内の波面についてのメリット関数を構築すること、および、
前記メリット関数を最適化すること、
をさらに含む方法。 - 前記メリット関数は、フォーカスおよび前記投影画像のオーバレイ(overlay)を含む群から選択される少なくとも1つの変数を表す、
請求項1に記載の方法。 - 前記最適化の前に前記メリット関数を線形化することをさらに含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記パターンは、共通の配向を有する複数の線形フィーチャを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記オブジェクトスペクトルおよび瞳充填関数を決定することは、前記瞳面内の前記波面の位相を表す関数を決定することを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記波面の位相を表す前記関数は、位相値の行列である、
請求項5に記載の方法。 - メリット関数を決定することは、前記パターン内の構造の回折強度を決定することを含み、前記メリット関数は、回折強度の和を含む、
請求項1に記載の方法。 - コンピュータ読取可能媒体上に記録された命令を含むコンピュータプログラム製品であって、
前記命令は、瞳面およびそれぞれの設定を有する複数の調整可能要素を有する投影システムを使用して、照明機構を用いて照明されたデバイスパターンの画像を基板上に投影することを含むデバイス製造方法を実施するものであって、
前記デバイスパターンおよび前記照明機構についてオブジェクトスペクトルを決定すること、
前記オブジェクトスペクトルの対称性を決定すること、
前記対称性に関して、変数として前記調整可能要素の設定を用いて前記瞳面内の波面についてのメリット関数を構築すること、および、
前記メリット関数を最適化すること、
をさらに含む方法を実施するように、リソグラフィ装置を制御するようになっている、
コンピュータプログラム製品。 - 前記メリット関数は、フォーカスおよび前記投影画像のオーバレイを含む群から選択される少なくとも1つの変数を表す、
請求項8に記載のコンピュータプログラム製品。 - 前記方法は、前記最適化の前に前記メリット関数を線形化することをさらに含む、
請求項8に記載のコンピュータプログラム製品。 - 前記パターンは、共通の配向を有する複数の線形フィーチャを含む、
請求項8に記載のコンピュータプログラム製品。 - 前記オブジェクトスペクトルおよび瞳充填関数を決定することは、前記瞳面内の前記波面の位相を表す関数を決定することを含む、
請求項8に記載のコンピュータプログラム製品。 - 前記波面の位相を表す前記関数は、位相値の行列である、
請求項12に記載のコンピュータプログラム製品。 - メリット関数を決定することは、前記パターン内の構造の回折強度を決定することを含み、前記メリット関数は、回折強度の和を含む、
請求項8に記載のコンピュータプログラム製品。 - リソグラフィ装置であって、
パターンを提供するように構成されるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、
照明機構を用いて前記パターンを照明するように構成された照明システムと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
それぞれの設定を有する複数の調整可能要素を有し、前記基板のターゲット部分上に前記パターンの画像を投影するように構成された投影システムと、
前記照明システムおよび前記投影システムの前記調整可能要素を制御するように構成された制御システムと、
を備え、
前記制御システムは、
前記デバイスパターンおよび前記照明機構についてオブジェクトスペクトルを決定するように構成された第1決定ユニットと、
前記オブジェクトスペクトルの対称性を決定するように構成された第2決定ユニットと、
前記対称性に関して、変数として前記調整可能要素の設定を用いて前記瞳面内の波面についてのメリット関数を構築するように構成されたメリット関数構築ユニットと、
前記メリット関数を最適化するように構成された最適化ユニットと、
を備えるリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/642,984 US7307690B1 (en) | 2006-12-21 | 2006-12-21 | Device manufacturing method, computer program product and lithographic apparatus |
US11/642,984 | 2006-12-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008160111A true JP2008160111A (ja) | 2008-07-10 |
JP4824665B2 JP4824665B2 (ja) | 2011-11-30 |
Family
ID=38792877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007324234A Active JP4824665B2 (ja) | 2006-12-21 | 2007-12-17 | デバイス製造方法、コンピュータプログラム製品、およびリソグラフィ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7307690B1 (ja) |
JP (1) | JP4824665B2 (ja) |
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JP4824665B2 (ja) | 2011-11-30 |
US20080170212A1 (en) | 2008-07-17 |
US7456931B2 (en) | 2008-11-25 |
US7307690B1 (en) | 2007-12-11 |
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