JP2008156387A - 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 - Google Patents
硬化性組成物、硬化膜及び積層体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008156387A JP2008156387A JP2006343525A JP2006343525A JP2008156387A JP 2008156387 A JP2008156387 A JP 2008156387A JP 2006343525 A JP2006343525 A JP 2006343525A JP 2006343525 A JP2006343525 A JP 2006343525A JP 2008156387 A JP2008156387 A JP 2008156387A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- acrylate
- group
- meth
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 C[N+]([O-])O[N+](*1[N+]([O-])O[N+]1[O-])[O-] Chemical compound C[N+]([O-])O[N+](*1[N+]([O-])O[N+]1[O-])[O-] 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
【解決手段】金属酸化物と、酸無水物基を2個有する化合物(A)中の酸無水物基と、酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物など中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物(D)中のカルボキシル基と、さらに、カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(E)中のカルボキシル基に反応しうる官能基とを反応させてなるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物に、アミンを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物とを含有することを特徴とする硬化性組成物。
【選択図】なし
Description
下記一般式(1)で表される酸無水物基を有する化合物(A)中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)、および、酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基を有する化合物(C)中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物(D)中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(E)中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が3,000〜20,000であるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物(X)に、
第一級アミンまたは第二級アミンを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物を含む硬化性組成物に関する。
また、本発明は、アミノ基含有光硬化性化合物が、アクリレート化合物またはメタクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合100モルに対して、第一級アミンまたは第二級アミンが0.5〜50モルとなる比率で反応させてなるものである上記硬化性組成物に関する。
下記一般式(1)で表される酸無水物基を有する化合物(A)中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)、および、酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基を有する化合物(C)中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物(D)中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(E)中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が3,000〜20,000であるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物(X)に、第一級アミンまたは第二級アミンを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物とを含有するものであり、二種類以上の金属酸化物と二種類以上のアミノ基含有光硬化性化合物をそれぞれ含んでも良い。
金属酸化物は、平均一次粒子径が5〜100nmの金属酸化物である。金属酸化物の平均一次粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)または走査型電子顕微鏡(SEM)などを用いて、粒子自身を直接観察することによって測定できる。
日産化学工業(株)製:サンエポックEFR−6N、サンエポックEFR−6NP(五酸化アンチモン)、
石原産業(株)製:SN−100P(ATO)、FS−10P(ATO)、SN−102P(ATO)、FS−12P(ATO)、ET−300W(ATO被覆酸化チタン)、TTO−55(A)(酸化チタン)、TTO−55(B)(酸化チタン)、TTO−55(C)(酸化チタン)、TTO−55(D)(酸化チタン)、TTO−55(S)(酸化チタン)、TTO−55(N)(酸化チタン)、TTO−51(A)(酸化チタン)、TTO−51(C)(酸化チタン)、TTO−S−1(酸化チタン)、TTO−S−2(酸化チタン)、TTO−S−3(酸化チタン)、TTO−S−4(酸化チタン)、TTO−F−1(鉄含有酸化チタン)、TTO−F−2(鉄含有酸化チタン)、TTO−F−3(鉄含有酸化チタン)、TTO−F−11(鉄含有酸化チタン)、ST−01(酸化チタン)、ST−21(酸化チタン)、ST−30L(酸化チタン)、ST−31(酸化チタン)、
三菱マテリアル(株)製:T−1(ITO)、S−1200(酸化スズ)、T-1(ATO)、EP SP-2(PTO)、
三井金属工業(株)製:パストラン(ITO、ATO)、
シーアイ化成(株)製:ナノテックITO、ナノテックSnO2、ナノテックTiO2、ナノテックSiO2、ナノテックAl2O3、ナノテックZnO、
触媒化成工業(株)製:TL−20(ATO)、TL−30(ATO)、TL−30S(PTO)、TL−120(ITO)、TL−130(ITO)、
ハクスイテック(株)製:PazetCK(アルミニウムドープ酸化亜鉛)、PazetGK(ガリウムドープ酸化亜鉛)、
堺化学工業(株)製:SC−18(アルミニウムドープ酸化亜鉛)、FINEX−25(酸化亜鉛)、FINEX−25LP(酸化亜鉛)、FINEX−50(酸化亜鉛)、FINEX−50LP(酸化亜鉛)、FINEX−75(酸化亜鉛)、STR−60C(酸化チタン)、STR−60C-LP(酸化チタン)、STR−100C(酸化チタン)、
住友大阪セメント(株)製:OZC−3YC(酸化ジルコニウム)、OZC−3YD(酸化ジルコニウム)、OZC−3YFA(酸化ジルコニウム)、OZC−8YC(酸化ジルコニウム)、OZC−0S100(酸化ジルコニウム)、
日本電工(株)製:PCS(酸化ジルコニウム)、T−01(酸化ジルコニウム)、PCS−60(酸化ジルコニウム)、
日本アエロジル(株)製:Aluminium Oxide C(酸化アルミニウム)、AEROSIL50(酸化ケイ素)、AEROSIL90G(酸化ケイ素)、AEROSIL130(酸化ケイ素)、AEROSIL200(酸化ケイ素)、AEROSIL200V(酸化ケイ素)、AEROSIL200CF(酸化ケイ素)、AEROSIL200FA(酸化ケイ素)、AEROSIL300(酸化ケイ素)、AEROSIL300CF(酸化ケイ素)、AEROSIL380(酸化ケイ素)、AEROSILR972(酸化ケイ素)、AEROSILR974(酸化ケイ素)、AEROSILR976(酸化ケイ素)、AEROSILR202(酸化ケイ素)、AEROSILR805(酸化ケイ素)、AEROSILR812(酸化ケイ素)、AEROSILR812S(酸化ケイ素)、AEROSILMOX50(酸化ケイ素)、AEROSILTT600(酸化ケイ素)、AEROSILMOX80(酸化ケイ素/酸化アルミニウム)、AEROSILMOX170(酸化ケイ素/酸化アルミニウム)、AEROSILCOX84(酸化ケイ素/酸化アルミニウム)、
等が挙げられる。
<<アクリレート化合物またはメタクリレート化合物(X)>>
アミノ基含有光硬化性化合物の原料となるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物(X)について以下に説明する。
酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)、および、酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基を有する化合物(C)中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物(D)中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(E)中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が3,000〜20,000の化合物である。
<一般式(1)で表される酸無水物基を有する化合物(A)>
一般式(1)
化合物(A)は、脂肪族テトラカルボン酸二無水物もしくは芳香族テトラカルボン酸二無水物である。
<酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)>
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、水酸基が特に好ましい。
<酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基を有する化合物(C)>
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、水酸基が特に好ましい。
ヒドロキノン、1,3−ジヒドロキシベンゼン、1,2−ジヒドロキシベンゼン、ビスフェノール、ビスフェノキシエタノールフルオレン、ビスフェノールフルオレン、ビスクレゾールフルオレンなどの芳香族ジオール類;
N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)メチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ブチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ヘキシルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)オクチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ベンジルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)シクロヘキシルアミンなどの3級アミノ基含有ジオール化合物;
その他、硫黄原子含有ジオール、臭素原子含有ジオール等が挙げられる。
さらに、ポリマータイプのポリマーポリオールも本発明の化合物(C)として使用することができる。例えば、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドのブロック共重合体又はランダム共重合体、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのブロック共重合体又はランダム共重合体等のポリエーテルポリオール類;
多価アルコール又はポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール類;
グリコールまたはビスフェノールと炭酸エステルとの反応、あるいは、グリコールまたはビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させる反応などで得られるポリカーボネートポリオール類;
カプロラクトン変性ポリテトラメチレンポリオール等のカプロラクトン変性ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、水添ポリブタジエンポリオール等のポリブタジエン系ポリオール、シリコーン系ポリオール等のポリオールが挙げられる。
<カルボキシル基を有する化合物(D)>
カルボキシル基を有する化合物(D)は、一般式(1)で表される酸無水物基を有する化合物(A)、酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)、及び酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基を有する化合物(C)を反応させて得られるものである。
<カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(E)>
カルボキシル基に反応しうる官能基としては、エポキシ基、オキサゾリン基、またはアミノ基、またはカルボジイミド基、またはイソシアネート基、またはイソチオシアネート基が挙げられる。さらに、化合物(E)としては、カルボキシル基との反応性の点でエポキシ基が特に有用である。
大阪有機化学工業(株)製:ビスコート♯400、
化薬サートマー(株)製:SR−295、
ダイセルUCB(株)製:DPHA、Ebecryl 220、Ebecryl 1290K、Ebecryl 5129、Ebecryl 2220、Ebecryl 6602、
新中村化学工業(株)製:NKエステルA−TMMT、NKオリゴEA−1020、NKオリゴEMA−1020、NKオリゴEA−6310、NKオリゴEA−6320、NKオリゴEA−6340、NKオリゴMA−6、NKオリゴU−4HA、NKオリゴU−6HA、NKオリゴU−324A、
BASF社製:LaromerEA81、
サンノプコ(株)製:フォトマー3016、
荒川化学工業(株)製:ビームセット371、ビームセット575、ビームセット577、ビームセット700、ビームセット710;
根上工業(株)製:アートレジンUN−3320HA、アートレジンUN−3320HB、アートレジンUN−3320HC、アートレジンUN−3320HS、アートレジンUN−9000H、アートレジンUN−901T、アートレジンHDP、アートレジンHDP−3、アートレジン H61、
日本合成化学工業(株)製:紫光UV−7600B、紫光UV−7610B、紫光UV−7620EA、紫光UV−7630B、紫光UV−1400B、紫光UV−1700B、紫光UV−6300B、
共栄社化学(株)製:ライトアクリレートPE−4A、ライトアクリレートDPE−6A、UA−306H、UA−306T、UA−306I、
日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA、KAYARAD DPHA2C、KAYARAD DPHA−40H、KAYARAD D−310、KAYARAD D−330。
(II) 基材/硬化膜/(M)
(III) 基材/(M)/硬化膜/(M)
(IV) (M)/基材/硬化膜
(V) (M)/基材/(M)/硬化膜
(VI) (M)/基材/硬化膜/(M)
(VII) (M)/基材/(M)/硬化膜/(M)
(VIII) (M)/硬化膜/基材/硬化膜
(IX) 硬化膜/(M)/基材/硬化膜
屈折率の異なる膜または情報記録層は、本発明の硬化物が有する機能以外の機能を持つものである。その形成方法は特に限定されず、公知の方法で形成される。例えば蒸着、スパッタなどのドライコーティング法、ロット、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット、スピン等のウェットコーティング方法を用いることができる。用いる材料も限定は無く、必要に応じて、情報記録機能、防眩機能、ニュートンリング防止機能、粘着機能、特定波長の遮断、密着向上、色調補正などの機能の1種類以上を積層体に付与することができる任意の材料を用いることができる。
(製造例1)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製)43.17部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)80.52部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)32.67部、シクロヘキサノン156.36部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.78部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)41.69部、シクロヘキサノン39.58部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.25部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(1)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)2,200、重量平均分子量(MW)8,400であった。
(製造例2)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)65.28部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)52.98部、シクロヘキサノン153.26部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.77部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)33.80部、シクロヘキサノン31.73部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.23部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(2)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,380、重量平均分子量(MW)5,360であった。
(製造例3)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製)40.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)22.27部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)81.33部、シクロヘキサノン143.60部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.72部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)38.63部、シクロヘキサノン36.69部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.15部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(3)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,520、重量平均分子量(MW)5,680であった。
(製造例4)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製)52.20部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD PET−30)54.55部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)39.51部、シクロヘキサノン146.26部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.73部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.41部、シクロヘキサノン48.43部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.17部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(4)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,980、重量平均分子量(MW)7,840であった。
(製造例5)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製)35.00部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD PET−30)36.58部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)52.98部、シクロヘキサノン124.55部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.62部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)33.80部、シクロヘキサノン32.12部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.00部を加え、85℃で6時間撹拌し、
室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(5)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,280、重量平均分子量(MW)4,380であった。
(製造例6)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製)35.00部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD PET−30)36.58部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)52.98部、シクロヘキサノン124.55部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.62部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)33.80部、シクロヘキサノン32.12部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.00部を加え、85℃で6時間撹拌し、
室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(6)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,350、重量平均分子量(MW)5,310であった。
(製造例7)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)96.94部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)39.34部、シクロヘキサノン171.28部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.86部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン47.88部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.37部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(7)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)2,000、重量平均分子量(MW)8,050であった。
(製造例8)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)96.94部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)78.67部、シクロヘキサノン210.61部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)1.05部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン47.35部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.68部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(8)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,250、重量平均分子量(MW)4,980であった。
(製造例9)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)40.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)33.07部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)120.78部、シクロヘキサノン193.85部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.97部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)57.36部、シクロヘキサノン54.74部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.55部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(9)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,400、重量平均分子量(MW)5,460であった。
(製造例10)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)38.43部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD PET−30)59.64部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)43.19部、シクロヘキサノン141.26部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.71部を加え、85℃で6時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)55.11部、シクロヘキサノン53.20部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.13部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(10)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,780、重量平均分子量(MW)7,440であった。
(製造例11)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD PET−30)54.31部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)78.67部、シクロヘキサノン167.99部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.84部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン47.92部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.34部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(11)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,090、重量平均分子量(MW)4,280であった。
(製造例12)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)30.00部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD PET−30)13.90部、EPOXY ACRYLATE FROM(POLY)PROPYLENE GLYCOL(ナガセケムテックス株式会社製:DA−911M)90.58部、シクロヘキサノン134.48部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.67部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)47.32部、シクロヘキサノン45.51部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.08部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(12)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,190、重量平均分子量(MW)4,450であった。
(製造例13)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)96.94部、ECH変性1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD R−167)44.32部、シクロヘキサノン176.26部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.88部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン47.81部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.41部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(13)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)2,100、重量平均分子量(MW)8,100であった。
(製造例14)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)96.94部、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物(共栄社化学株式会社製:エポキシエステル3000A)57.35部、シクロヘキサノン189.29部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.95部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン47.63部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.51部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(14)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,900、重量平均分子量(MW)8,200であった。
(製造例15)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)96.94部、ビスフェノールAジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物(共栄社化学株式会社製:エポキシエステル3000M)60.67部、シクロヘキサノン192.61部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.96部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン47.59部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.54部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(15)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)2,050、重量平均分子量(MW)8,060であった。
(製造例16)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)96.94部、Neopentyl Glycol Diglycidyl Ether(ナガセケムテックス株式会社製:デナコールEX−211)25.60部、シクロヘキサノン157.54部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.79部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン48.06部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.26部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(16)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,940、重量平均分子量(MW)7,860であった。
(製造例17)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)35.00部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD DPHA)144.69部、1,6−ヘキサンジオール(和光純薬株式会社製)10.44部、シクロヘキサノン190.12部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業製)0.95部を加え、85℃で8時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本株式会社製)50.19部、シクロヘキサノン47.62部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.52部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(17)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)1,500、重量平均分子量(MW)5,800であった。
(製造例18)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製)80.0部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業(株)製:ビスコート#300)250.0部、ヒドロキノン0.16部、シクロヘキサノン141.2部を仕込み、85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業(株)製)1.65部を加え、85℃で8時間撹拌し、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本(株)製)77.3部、シクロヘキサノン33.9部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン2.65部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して、(メタ)アクリレート化合物(18)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分70%、数平均分子量(MN)870、重量平均分子量(MW)2,830であった。
(製造例19)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに、ブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化株式会社製:リカシッド BT−100)100.0部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製:KAYARAD PET−30)463.2部、ヒドロキノン0.28部、シクロヘキサノン563.2部を仕込み85℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業(株)製)2.82部を加え、85℃で8時間撹拌し、グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本(株)製)143.4部、シクロヘキサノン146.5部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン4.53部を加え、85℃で6時間撹拌し、室温まで冷却し、(メタ)アクリレート化合物(19)のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分50%、数平均分子量(MN)920、重量平均分子量(MW)2,200であった。
(金属酸化物分散ペーストの作成:実施例1〜17、比較例1及び2)
上記製造例により作成した各アミノ基含有光硬化性化合物を用い、表1に示す配合により金属酸化物分散を行ない、金属酸化物分散ペーストを作成した。分散方法は、仮分散(ジルコニアビーズ(1.25mm)をメディアとして用い、ペイントシェイカーで1時間分散)と、本分散(ジルコニアビーズ(0.1mm)をメディアとして用い、寿工業(株)製分散機UAM−015で分散)の2段階で行なった。
表1において、
Sb2O5:日産化学工業(株)製「サンエポックEFR−6N」(平均一次粒子径:20nm)
ATO:三菱マテリアル(株)製「T-1」(平均一次粒子径:20nm)
ITO:シーアイ化成(株)製「ナノテックITO」(平均一次粒子径:30nm)
PTO:三菱マテリアル(株)製「EP SP−2」(平均一次粒子径:10nm)
AlドープZnO:ハクスイテック(株)製「PazetCK」(平均一次粒子径:30nm)
SnO2:三菱マテリアル(株)製「S−2000」(平均一次粒子径:20nm)
ZrO2:日本電工(株)製「PCS−60」(平均一次粒子径:20nm)
ATO被覆TiO2:石原産業(株)製「ET−300W」(平均一次粒子径:45nm)
SiO2:日本アエロジル(株)製「AEROSIL50」(平均一次粒子径:30nm)
Al2O5:日本アエロジル(株)製「Aluminium Oxide C」(平均一次粒子径:13nm)
市販多官能モノマー:荒川化学工業(株)製「ビームセット750」(ビスフェノールAエチレンオキサイド変性アクリレート、分子量(MW)512
MIBK:メチルイソブチルケトン
メトブタ:3−メトキシ−1−ブタノール
(塗料化及び硬化膜評価:実施例1〜13、比較例1及び2)
上記で調整した金属酸化物分散ペーストを用いて、表2に示す組成の硬化性組成物を調整した。得られた硬化性組成物を、100μm厚の易接着処理PETフィルム(東洋紡(株)製「コスモシャインA−4100」)に、バーコーターで、乾燥後の膜厚が5μmになるように塗工した後、高圧水銀ランプで400mJ/cm2の紫外線を照射し、帯電防止用ハードコート層(硬化膜)を形成した。得られた帯電防止用ハードコート層について、下記の方法で表面抵抗、耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性(ヘイズ)および耐光性を評価した。その結果を表2に示す。
表2において、
光硬化性化合物(1):日本合成化学(株)製「紫光UV−1700B」
光硬化性化合物(2):日本化薬(株)製「KAYARAD DPHA」
光重合開始剤:チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア184」
溶剤:PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)
*1:金属酸化物ペーストが分散不良だったので未測定
(反射防止膜(積層体)の作製及び評価:実施例14〜19)
(低屈折率塗液の作製)
1,2,9,10−テトラアクリロイルオキシ−4,4,5,5,6,6,7,7−オクタフルオロデカン50重量部、シリカゾル30%分散液(日産化学工業(株)製MEK-ST)120重量部、2’、2’―ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピオン酸(2−ヒドロキシ)−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11―ノナデカフルオロウンデシル10重量部、ブチルアルコール900重量部、光重合開始剤(日本化薬(株)製KAYACURE BMS)5重量部を混合し、低屈折率塗液を調整した。
表3において
光硬化性化合物(1):日本合成化学(株)製「紫光UV−1700B」
光重合開始剤:チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア184」
基材:100μm厚の易接着処理PETフィルム(東洋紡(株)製「コスモシャインA−4100」、易接着処理面(屈折率1.60)に塗工)
溶剤:PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)
(評価方法)
(1)表面抵抗
硬化膜の表面抵抗(Ω/□)を、以下の基準に従って評価した。
表面抵抗が1×1012より高く1×1014以下の場合:B
表面抵抗が1×1014を超える場合:D
(2)耐擦傷性
塗工物を学振試験機にセットし、スチールウールのNo.0000を用いて、荷重250gで10回学振させた。取り出した塗工物について、キズのつき具合を以下の5段階の目視評価に従って判断した。数値が大きいほど、硬化膜の耐擦傷性が良好であることを示す。
4:僅かにキズが付いている
3:キズは付いているが、基材は見えていない
2:キズが付き、一部硬化膜が剥がれている
1:硬化膜が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
(3)鉛筆硬度
JIS−K5600に準拠し、鉛筆硬度試験機(HEIDON社製Scratching Tester HEIDON−14)を用い、鉛筆の芯の硬さを種々変えて、荷重500gにて5回試験をした。5回中、1回も傷がつかない、もしくは1回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その硬化膜の鉛筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、硬化膜の鉛筆硬度が、
2H以上:A
H:B
Hより低い:D
と判定した。
(4)透明性(Haze値)
得られた塗工物における濁度(Haze値)を、Hazeメーターを用いて測定した。
(5)耐光性
光連続照射時の経時での黄変は、用途展開上、非常に好ましくない。そこで、光連続照射時の黄変性を確認した。
3.5未満のもの:A
3.5以上のもの:D
と判定した。
(6)屈折率
得られた硬化膜の屈折率を、株式会社アタゴ製アッベ屈折率計を用いて測定した。
(7)反射干渉縞
得られた硬化膜の反射干渉縞を、以下の基準に従い目視にて評価した。
D:反射干渉縞が観察できる
(8)経時安定性
得られた硬化性組成物を褐色瓶に詰め、遮光状態で40℃、2週間放置し、その粘度変化を以下の基準に従い評価した。
D:粘度増加率10%以上
Claims (11)
- 平均一次粒子径が5〜100nmの金属酸化物と、
下記一般式(1)で表される酸無水物基を有する化合物(A)中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)、および、酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基を有する化合物(C)中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物(D)中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(E)中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が3,000〜20,000であるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物(X)に、
第一級アミンまたは第二級アミンを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物を含む硬化性組成物。
一般式(1)
(ここで、R1は、4価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。) - アミノ基含有光硬化性化合物が、アクリレート化合物またはメタクリレート化合物(X)中のエチレン性不飽和二重結合100モルに対して、第一級アミンまたは第二級アミンが0.5〜50モルとなる比率で反応させてなるものである請求項1記載の硬化性組成物。
- 酸無水物基に反応しうる1個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)が、酸無水物基に反応しうる1つの官能基と3個以上の不飽和二重結合とを有する化合物(B1)であることを特徴とする請求項1または2記載の硬化性組成物。
- 酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基を有する化合物(C)が、酸無水物基に反応しうる2個以上の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物(C1)であることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の硬化性組成物。
- 第一級アミンまたは第二級アミンが、脂肪族モノアミンであることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の硬化性組成物。
- 金属酸化物が、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする請求項1〜5いずれかに記載の硬化性組成物。
- さらに、溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して10〜100重量%の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする請求項1〜6いずれかに記載の硬化性組成物。
- 請求項1〜7いずれかに記載の硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜。
- 請求項1〜7いずれかに記載の硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法。
- 請求項9記載の製造方法で製造されてなる積層体。
- 反射防止膜である請求項10記載の積層体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006343525A JP4888105B2 (ja) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006343525A JP4888105B2 (ja) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008156387A true JP2008156387A (ja) | 2008-07-10 |
JP4888105B2 JP4888105B2 (ja) | 2012-02-29 |
Family
ID=39657684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006343525A Active JP4888105B2 (ja) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4888105B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009040847A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 |
JP5910781B1 (ja) * | 2015-05-18 | 2016-04-27 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 金属酸化物組成物およびその硬化膜 |
US9403991B2 (en) | 2012-05-31 | 2016-08-02 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating composition |
US9778398B2 (en) | 2012-05-31 | 2017-10-03 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating film and preparation method thereof |
US9926461B2 (en) | 2012-05-31 | 2018-03-27 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating film |
JP7078169B1 (ja) | 2021-12-10 | 2022-05-31 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 透明電極フィルム |
WO2022196760A1 (ja) * | 2021-03-18 | 2022-09-22 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 積層体および透明電極フィルム |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4954487A (ja) * | 1972-09-29 | 1974-05-27 | ||
JPH07252333A (ja) * | 1994-02-08 | 1995-10-03 | Dow Corning Corp | 耐摩耗性塗料 |
JPH08259660A (ja) * | 1995-03-09 | 1996-10-08 | Basf Ag | ウレタン(メタ)アクリレート |
JPH1115152A (ja) * | 1997-06-26 | 1999-01-22 | Toray Ind Inc | 感光性ポリイミド前駆体組成物およびその製造方法 |
JP2003342337A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Fujifilm Arch Co Ltd | 光硬化性組成物、カラーフィルターおよび液晶表示装置 |
-
2006
- 2006-12-20 JP JP2006343525A patent/JP4888105B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4954487A (ja) * | 1972-09-29 | 1974-05-27 | ||
JPH07252333A (ja) * | 1994-02-08 | 1995-10-03 | Dow Corning Corp | 耐摩耗性塗料 |
JPH08259660A (ja) * | 1995-03-09 | 1996-10-08 | Basf Ag | ウレタン(メタ)アクリレート |
JPH1115152A (ja) * | 1997-06-26 | 1999-01-22 | Toray Ind Inc | 感光性ポリイミド前駆体組成物およびその製造方法 |
JP2003342337A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Fujifilm Arch Co Ltd | 光硬化性組成物、カラーフィルターおよび液晶表示装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009040847A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 |
US9403991B2 (en) | 2012-05-31 | 2016-08-02 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating composition |
US9701862B2 (en) | 2012-05-31 | 2017-07-11 | Lg Chem, Ltd. | Method of preparing hard coating film |
US9778398B2 (en) | 2012-05-31 | 2017-10-03 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating film and preparation method thereof |
US9884977B2 (en) | 2012-05-31 | 2018-02-06 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating composition |
US9896597B2 (en) | 2012-05-31 | 2018-02-20 | Lg Chem, Ltd. | Method of preparing hard coating film |
US9926461B2 (en) | 2012-05-31 | 2018-03-27 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating film |
US10294387B2 (en) | 2012-05-31 | 2019-05-21 | Lg Chem, Ltd. | Hard coating film |
JP5910781B1 (ja) * | 2015-05-18 | 2016-04-27 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 金属酸化物組成物およびその硬化膜 |
WO2022196760A1 (ja) * | 2021-03-18 | 2022-09-22 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 積層体および透明電極フィルム |
JP7078169B1 (ja) | 2021-12-10 | 2022-05-31 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 透明電極フィルム |
JP2023086587A (ja) * | 2021-12-10 | 2023-06-22 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 透明電極フィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4888105B2 (ja) | 2012-02-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4924425B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 | |
JP4692630B2 (ja) | 金属酸化物分散体の製造方法、積層体および分散剤 | |
JP4888105B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 | |
TWI599586B (zh) | 活性能量線硬化型樹脂組成物、活性能量線硬化型樹脂組成物之製造方法、塗料、塗膜及薄膜 | |
JP2008050480A (ja) | 硬化性組成物 | |
JP5186768B2 (ja) | 帯電防止用硬化性組成物、硬化膜及び積層体 | |
JP2009132763A (ja) | 硬化性組成物 | |
JP2010059339A (ja) | 帯電防止用硬化性組成物、硬化膜及び積層体 | |
EP2371871A1 (en) | Curable composition comprising inorganic oxide microparticles that are surface-modified with maleimide groups | |
JP6750666B2 (ja) | 積層体、及び積層体の製造方法 | |
KR20180108456A (ko) | 활성에너지선 경화형 하드코팅제, 경화도포막, 적층필름 | |
JP6323145B2 (ja) | 接着剤およびそれを用いた光学部材 | |
JP2009040847A (ja) | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 | |
JP6827631B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物 | |
JP6540186B2 (ja) | 金属酸化物組成物およびその硬化膜 | |
JP2011195693A (ja) | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 | |
JP5910781B1 (ja) | 金属酸化物組成物およびその硬化膜 | |
JP2008115234A (ja) | 光硬化性帯電防止剤およびその製造方法 | |
JP2017087604A (ja) | 導電性積層体及び金属酸化物組成物 | |
JP2008115252A (ja) | 情報記録媒体 | |
JP2008152881A (ja) | 情報記録媒体 | |
KR20170018785A (ko) | 투명도전막을 갖는 적층체 및 적층체의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090803 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111020 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111115 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111128 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4888105 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141222 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |