JP2008153412A - Method of breaking substrate into pieces, manufacture method of image sensor, and thermosetting adhesive sheet - Google Patents

Method of breaking substrate into pieces, manufacture method of image sensor, and thermosetting adhesive sheet Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of breaking substrate into pieces, a manufacturing method of an image sensor and thermosetting adhesive sheet for preventing bad influence caused by the adhesive layer remaining on the substrate and the like while both chip jump and pick-up property related under tradeoff can be both satisfied. <P>SOLUTION: An adhesive layer laminated on a base film is stuck on a glass substrate, and the glass substrate is mounted on a dicing tape so that the glass substrate is covered with the base film. At least the glass substrate and the adhesive layer are diced and the divided glass substrate is picked up so that the base film remains at the dicing tape and the adhesive layer is applied to the glass substrate in the singulation method of the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板の個片化方法、イメージセンサの製造方法及び熱硬化性接着シートに関する。   The present invention relates to a substrate dividing method, an image sensor manufacturing method, and a thermosetting adhesive sheet.

従来から、接着剤層付き基板の個片化プロセスにおいて、接着剤層表面を直接ダイシングテープへマウントし、ダイシング、ピックアップが行われていた。この際、接着剤層とダイシングテープとの間の密着力が弱すぎると、ダイシング時に個片化されたチップがダイシングテープから外れる、いわゆるチップ飛びが発生し、不良となる。一方、接着剤層とダイシングテープとの間の密着力が強すぎると、ピックアップ時に接着剤層とダイシングテープ間で剥離することができず、やはり不良となる。従って、接着剤層とダイシングテープとの間の密着力は、チップ飛びがなく、かつ安定したピックアップができる状態にコントロールされる必要がある。しかし、通常、両者はトレードオフの関係にあり、チップ飛び及びピックアップ性の双方を満足させるのは困難である。   Conventionally, in the process of separating the substrate with the adhesive layer, the surface of the adhesive layer is directly mounted on a dicing tape, and dicing and pickup are performed. At this time, if the adhesive force between the adhesive layer and the dicing tape is too weak, so-called chip jumping occurs in which chips separated during dicing are detached from the dicing tape, resulting in a defect. On the other hand, if the adhesive force between the adhesive layer and the dicing tape is too strong, it cannot be peeled off between the adhesive layer and the dicing tape at the time of picking up, which is also defective. Therefore, the adhesive force between the adhesive layer and the dicing tape needs to be controlled so that there is no chip skip and stable pickup can be performed. However, normally, both are in a trade-off relationship, and it is difficult to satisfy both chip skipping and pick-up properties.

そこで、紫外線硬化型接着剤層を有するダイシングテープを用いることで、ピックアップ時の接着剤層とダイシングテープとの間の密着力を低下させることが考えられるが、この場合においても、剥離力が十分低下しないと、結果としてピックアップ不良が発生する可能性があった。
また、半導体装置の製造方法として、基材フィルムに接着剤層をコーティングし、この接着剤層を基材フィルムとともにウェハに貼り付け、さらに基材フィルムとともにダイシングシートに貼り付け、ウェハを半導体素子に個片化し、基材フィルムと接着剤層との間で剥離させて半導体素子をピックアップする方法が提案されている(例えば、特許文献1)。この方法では、ウェハの全面に残存した接着剤層を、その後に実装する回路基板等に搭載するために有効に利用することができる場合もあるが、半導体素子の種類によっては、この接着剤層が半導体素子の応用又はそれ自体の特性に悪影響を及ぼす場合もある。
特開2005−203401号公報
Therefore, it is conceivable to reduce the adhesion between the adhesive layer and the dicing tape at the time of picking up by using a dicing tape having an ultraviolet curable adhesive layer. If it does not decrease, a pick-up failure may occur as a result.
In addition, as a method for manufacturing a semiconductor device, an adhesive layer is coated on a base film, the adhesive layer is attached to a wafer together with the base film, and further attached to a dicing sheet together with the base film, and the wafer is formed on a semiconductor element. There has been proposed a method of picking up semiconductor elements by separating them into pieces and separating them between a base film and an adhesive layer (for example, Patent Document 1). In this method, the adhesive layer remaining on the entire surface of the wafer may be effectively used for mounting on a circuit board or the like to be mounted thereafter, but depending on the type of semiconductor element, this adhesive layer May adversely affect the application of the semiconductor device or its own characteristics.
JP-A-2005-203401

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、トレードオフの関係にあるチップ飛びの防止及びピックアップ性の双方を満足させることができ、基板等に残存する接着剤層等による悪影響を回避することができる基板の個片化方法、イメージセンサの製造方法及び熱硬化性接着シートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and can satisfy both of the prevention of chip jump and the pickup property that are in a trade-off relationship, and avoids adverse effects due to the adhesive layer remaining on the substrate and the like. It is an object of the present invention to provide a method for separating a substrate, a method for manufacturing an image sensor, and a thermosetting adhesive sheet.

本発明の基板の個片化方法は、基材フィルム上に積層された接着剤層を、ガラス基板に貼付する工程と、
前記基材フィルムがダイシングテープの粘着面に被着されるように前記ガラス基板をダイシングテープにマウントする工程と、
少なくとも前記ガラス基板及び接着剤層をダイシングする工程と、
前記基材フィルムが前記ダイシングテープに残着し、前記接着剤層が前記ガラス基板に被着するように、個片化された前記ガラス基板をピックアップする工程とを含むことを特徴とする。
The substrate singulation method of the present invention includes a step of attaching an adhesive layer laminated on a base film to a glass substrate;
Mounting the glass substrate on the dicing tape so that the base film is attached to the adhesive surface of the dicing tape;
Dicing at least the glass substrate and the adhesive layer;
And picking up the separated glass substrate so that the base film remains on the dicing tape and the adhesive layer adheres to the glass substrate.

この基板の個片化方法では、ガラス基板に貼付された接着剤層が、格子状パターンを有することが好ましい。
また、接着剤層が、エポキシ樹脂を含む熱硬化型接着剤層であることが好ましい。
さらに、(接着剤層と基材フィルムとの間の密着力)<(基材フィルムとダイシングテープとの間の密着力)の関係を満たすことが好ましい。
また、基材フィルムが、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系フィルムであることが好ましい。
In this substrate singulation method, the adhesive layer attached to the glass substrate preferably has a lattice pattern.
Moreover, it is preferable that an adhesive bond layer is a thermosetting adhesive bond layer containing an epoxy resin.
Furthermore, it is preferable to satisfy a relationship of (adhesion force between the adhesive layer and the base film) <(adhesion force between the base film and the dicing tape).
The base film is preferably a polyester-based, polyolefin-based, or polyvinyl chloride-based film.

本発明のイメージセンサの製造方法は、上述した個片化方法で個片化されたガラス基板を、イメージセンサにおける受光部表面を被覆するように貼付し、前記ガラス基板に被着した接着剤層を前記受光部表面とガラス基板との間のギャップ調整層として用いることを特徴とする。
また、本発明の熱硬化性接着シートは、離型フィルム、エポキシ系熱硬化型接着剤層及びダイシング用基材フィルムがこの順に積層されてなることを特徴とする。
The image sensor manufacturing method of the present invention is a method in which the glass substrate singulated by the above-described singulation method is pasted so as to cover the surface of the light receiving part in the image sensor, and is adhered to the glass substrate. Is used as a gap adjustment layer between the light receiving portion surface and the glass substrate.
The thermosetting adhesive sheet of the present invention is characterized in that a release film, an epoxy thermosetting adhesive layer, and a dicing substrate film are laminated in this order.

本発明によれば、チップ飛び及びチップ欠けが無くダイシングができ、かつピックアップ性も良好であるため、簡便に高い歩留まりで接着剤層付きのガラス基板を個片化することができる。さらに、ダイシングテープとして、高価である紫外線硬化型テープを用いることなく汎用のテープを使用できるので、紫外線照射工程及び装置を省略することができるため、大幅なプロセスコストの低減に寄与することができる。   According to the present invention, since there is no chip jump and chip chipping, and dicing is possible and pick-up property is good, a glass substrate with an adhesive layer can be easily separated into individual pieces with a high yield. Furthermore, since a general-purpose tape can be used as the dicing tape without using an expensive ultraviolet curable tape, the ultraviolet irradiation step and the apparatus can be omitted, which can greatly reduce the process cost. .

また、本発明のイメージセンサの製造方法によれば、上述した基板の個片化方法によって得られた接着剤層付きのガラス基板をそのまま利用することができるとともに、接着剤層自体によって、イメージセンサにおける受光部表面とガラス基板との間のギャップを簡便に形成することができる。
さらに、本発明の熱硬化性接着シートは、好適に上述した基板の個片化方法及びイメージセンサの製造方法に利用することができ、これらの方法をより簡便かつ確実に行うことが可能となる。
According to the image sensor manufacturing method of the present invention, the glass substrate with the adhesive layer obtained by the above-described substrate dividing method can be used as it is, and the image sensor can be used by the adhesive layer itself. It is possible to easily form a gap between the surface of the light receiving part and the glass substrate.
Furthermore, the thermosetting adhesive sheet of the present invention can be suitably used for the above-described substrate singulation method and image sensor manufacturing method, and these methods can be performed more easily and reliably. .

本発明の基板の個片化方法は、ガラス基板をダイシングテープに被着する前に、予めガラス基板に、いわゆる接着シートを貼付する。
ここで用いられる接着シートは、基材フィルムとその上に積層された接着剤層とを有するものであれば特に限定されるものではなく、熱硬化性、光硬化性接着シートなどを用いることができる。特に、熱硬化性接着シートであることが好ましい。加熱という簡便な手法により、接着剤層を硬化させることができるからである。
In the substrate singulation method of the present invention, a so-called adhesive sheet is applied to a glass substrate in advance before the glass substrate is attached to a dicing tape.
The adhesive sheet used here is not particularly limited as long as it has a base film and an adhesive layer laminated thereon, and a thermosetting, photocurable adhesive sheet, or the like may be used. it can. In particular, a thermosetting adhesive sheet is preferable. This is because the adhesive layer can be cured by a simple method of heating.

このような接着シートに用いられる基材フィルムは、特に限定されるものではなく、どのようなものでも使用することができる。例えば、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、ポリアルキレングリコール系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂等)、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂(PET等)、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂(PTFE、ETFEなどの含フッ素ポリエチレン等)等からなる高分子フィルム;銅、アルミニウム、ステンレス等の金属シート;PP、PVC、PE、PU、PS、POまたはPETなどのポリマー繊維、レーヨンまたは酢酸セルロースなどの合成繊維、綿、絹または羊毛などの天然繊維およびガラス繊維または炭素繊維などの無機繊維からなる不織布;これら材料の延伸加工、含浸加工等により物理的又は光学的な機能が付与されたシート;ジエン系(スチレン−ブタジエン共重合体、ブタジエン等)、非ジエン系(イソブチレン−イソプレン、塩素化ポリエチレン、ウレタン系等)、熱可塑性樹脂(ナイロン、ポリイミド、熱可塑性エラストマー等)等のゴム成分を含むシート;あるいはこれら1種以上を組み合わせたものなどが挙げられる。なかでも、有機フィルムであることが好ましく、特に、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系フィルムが好ましい。特にこれらは、適当な強度、透明性、柔軟性があるからである。   The base film used for such an adhesive sheet is not particularly limited, and any film can be used. For example, acrylic resin, polyurethane resin, polynorbornene resin, polyalkylene glycol resin, polyolefin resin (polystyrene resin, polyethylene resin, etc.), polyimide resin, polyester resin (PET, etc.), epoxy resin , Polyamide-based resin, polycarbonate-based resin, silicone-based resin, polymer film made of fluorine-based resin (fluorinated polyethylene such as PTFE and ETFE), etc .; copper, aluminum, stainless steel and other metal sheets; PP, PVC, PE, Polymer fibers such as PU, PS, PO or PET, synthetic fibers such as rayon or cellulose acetate, natural fibers such as cotton, silk or wool and non-woven fabrics composed of inorganic fibers such as glass fibers or carbon fibers; Physics by impregnation Sheet with functional or optical function; diene (styrene-butadiene copolymer, butadiene, etc.), non-diene (isobutylene-isoprene, chlorinated polyethylene, urethane, etc.), thermoplastic resin (nylon, polyimide) And a sheet containing a rubber component such as a thermoplastic elastomer; or a combination of one or more of these. Of these, organic films are preferable, and polyester-based, polyolefin-based, and polyvinyl chloride-based films are particularly preferable. This is because they have suitable strength, transparency and flexibility.

基材フィルムは、その厚みは特に限定されず、例えば、1μm程度以上の厚みを有することが適しており、1〜100μm程度、20〜80μm程度の厚みを有していることが好ましい。これにより、基板への貼り合わせ、基板の切断などの各工程における操作性、作業性を確保することができる。   The thickness of the base film is not particularly limited, and for example, it is suitable to have a thickness of about 1 μm or more, and preferably has a thickness of about 1 to 100 μm, or about 20 to 80 μm. Thereby, the operativity and workability | operativity in each process, such as bonding to a board | substrate and a cutting | disconnection of a board | substrate, are securable.

また、基材フィルムは、その材料、接着剤層を構成する材料等に応じて、接着剤層積層面に、離型性が付与されているものであることが好ましい。離型性は、基材フィルム自体に備えられていてもよいし、例えば、シリコーン油、シリコーン系樹脂等に代表される離型剤等が基材フィルム内に包含又は基材フィルム表面に塗布されていてもよい。特に、別途離型処理が行われる場合には、接着剤層が配置する基材フィルムの一面のみ行うことが好ましい。後述するように、接着剤層と基材フィルムとの間の密着力を、基材フィルムとダイシングテープとの間の密着力よりも小さくすることができ、接着剤層のみを確実にガラス基板に残存しながら、不要である基材フィルム及びダイシングテープを容易にガラス基板から除去することを可能にするためである。   Moreover, it is preferable that the release property is provided to the adhesive layer lamination surface according to the material, the material which comprises an adhesive layer, etc. as for a base film. The releasability may be provided in the base film itself. For example, a release agent represented by silicone oil, silicone resin, etc. is included in the base film or applied to the base film surface. It may be. In particular, when a separate release treatment is performed, it is preferable to perform only one surface of the base film on which the adhesive layer is disposed. As will be described later, the adhesive force between the adhesive layer and the base film can be made smaller than the adhesive force between the base film and the dicing tape, and only the adhesive layer is securely attached to the glass substrate. This is because the unnecessary base film and dicing tape can be easily removed from the glass substrate while remaining.

接着剤層は、当該分野で、半導体ウェハ等を貼着するために用いられている接着シートを構成し得るものであれば特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂を含む接着剤であることが好ましい。
エポキシ樹脂を含む接着剤は、例えば、エポキシ樹脂(A成分)と、硬化剤(B成分)と、任意に硬化促進剤(C成分)とを用いて構成することができる。
エポキシ系樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ジシクロペンタジエン型、クレゾールノボラック型、フェノールノボラック型、ビスフェノール型、ビフェニル型、トリスヒドロキシフェニルメタン型等の各種のエポキシ樹脂を用いることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The adhesive layer is not particularly limited as long as it can constitute an adhesive sheet used for adhering a semiconductor wafer or the like in the field, and is preferably an adhesive containing an epoxy resin, for example. .
The adhesive containing an epoxy resin can be constituted using, for example, an epoxy resin (A component), a curing agent (B component), and optionally a curing accelerator (C component).
The epoxy resin is not particularly limited. For example, various epoxy resins such as dicyclopentadiene type, cresol novolak type, phenol novolak type, bisphenol type, biphenyl type, trishydroxyphenylmethane type, and the like are used. Can do. These may be used alone or in combination of two or more.

また、硬化剤は、上記エポキシ樹脂を硬化させるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、フェノール樹脂を用いることができる。
フェノール樹脂としては、特に限定されるものではなく、ジクロロペンタジエン型フェノール樹脂、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Moreover, a hardening | curing agent will not be specifically limited if the said epoxy resin is hardened, For example, a phenol resin can be used.
The phenol resin is not particularly limited, and examples thereof include dichloropentadiene type phenol resin, phenol novolac resin, cresol novolac resin, and phenol aralkyl resin. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂と硬化剤との配合割合は、硬化剤としてフェノール樹脂を用いた場合には、エポキシ樹脂を硬化させるのに十分な量に設定することが好ましい。例えば、エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して、フェノール樹脂中の水酸基の合計が0.7〜1.5当量となるように配合することが好ましく、0.9〜1.2当量がより好ましい。   The blending ratio of the epoxy resin and the curing agent is preferably set to an amount sufficient to cure the epoxy resin when a phenol resin is used as the curing agent. For example, it is preferable that the total of hydroxyl groups in the phenol resin is 0.7 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of epoxy groups in the epoxy resin, more preferably 0.9 to 1.2 equivalents. preferable.

硬化促進剤は、例えば、アミン系(第1アミン系、第3アミン系、ヒドラジド系、尿素誘導体系、イミダゾール系、アザビシクロ化合物系など)、有機りん系(ホスフィン系、ホスホラン系、りんイミド系など)及びオニウム塩系(ホスホニウム塩系、スルホニウム塩系など)等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
硬化促進剤(C成分)の配合割合は、全接着剤層の0.05〜10重量%の範囲に設定することが適しており、0.1〜3重量%の範囲が好ましく、0.3〜2重量%がより好ましい。
Examples of the curing accelerator include amines (primary amines, tertiary amines, hydrazides, urea derivatives, imidazoles, azabicyclo compounds, etc.), organic phosphoruss (phosphine, phosphorane, phosphorus imide, etc.) ) And onium salt systems (phosphonium salt systems, sulfonium salt systems, etc.). These may be used alone or in combination of two or more.
The mixing ratio of the curing accelerator (component C) is suitably set in the range of 0.05 to 10% by weight of the total adhesive layer, preferably in the range of 0.1 to 3% by weight, 0.3 More preferred is ˜2% by weight.

接着剤層には、必要に応じて無機充填剤を含んでいてもよい。無機充填剤としては、特に限定されるものではなく、従来公知の各種充填剤を用いることができる。例えば、石英ガラス粉末、タルク、シリカ粉末(溶融シリカ粉末、結晶性シリカ粉末等)、アルミナ粉末、窒化アルミニウム粉末、窒化ケイ素粉末等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。なかでも、得られる硬化物の線膨張係数を低減することができるという観点から、シリカ粉末を用いることが好ましく、シリカ粉末の中でも、溶融シリカ粉末を用いることが高充填性、高流動性という観点から特に好ましい。   The adhesive layer may contain an inorganic filler as necessary. The inorganic filler is not particularly limited, and various conventionally known fillers can be used. Examples thereof include quartz glass powder, talc, silica powder (fused silica powder, crystalline silica powder, etc.), alumina powder, aluminum nitride powder, silicon nitride powder and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint that the linear expansion coefficient of the obtained cured product can be reduced, it is preferable to use silica powder. Among silica powders, it is preferable to use fused silica powder from the viewpoint of high filling property and high fluidity. Is particularly preferred.

溶融シリカ粉末としては、球状溶融シリカ粉末、破砕溶融シリカ粉末等が挙げられるが、流動性という観点から、球状溶融シリカ粉末を用いることが好ましい。特に、平均粒径が0.2〜30μmの範囲、さらに0.5〜15μmの範囲のものを用いることが好ましい。なお、平均粒径は、例えば、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置を用いて測定することができる。   Examples of the fused silica powder include spherical fused silica powder and crushed fused silica powder. From the viewpoint of fluidity, it is preferable to use spherical fused silica powder. In particular, it is preferable to use those having an average particle diameter in the range of 0.2 to 30 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 15 μm. In addition, an average particle diameter can be measured using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring apparatus, for example.

本発明の接着剤層は、上記成分以外に、必要に応じて、エラストマー成分、難燃剤、離型剤、カーボンブラック等の顔料等の他の添加剤を適宜配合することができる。
エラストマー成分としては、特に限定されるものではなく、エポキシ樹脂組成物に柔軟性、可撓性を付与し得るものであれば、どのような構造の成分でもよい。例えば、ポリアクリル酸エステル等の各種アクリルエステル重合体、ポリブタジエン、SBR、EVA、ポリイソプレン、ポリアクリロニトリル等からなる重合体等が挙げられる。
難燃剤としては、有機リン化合物、酸化アンチモン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等が挙げられる。
In the adhesive layer of the present invention, in addition to the above components, other additives such as an elastomer component, a flame retardant, a release agent, and a pigment such as carbon black can be appropriately blended as necessary.
The elastomer component is not particularly limited and may be any component as long as it can impart flexibility and flexibility to the epoxy resin composition. Examples include various acrylic ester polymers such as polyacrylic acid esters, polymers made of polybutadiene, SBR, EVA, polyisoprene, polyacrylonitrile, and the like.
Examples of the flame retardant include organic phosphorus compounds, antimony oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and the like.

本発明に用いる接着剤層は、特に限定されることなく、当該分野で公知の製造方法により製造することができる。なかでも、膜厚を均一に制御することが容易であるワニス塗工法が好ましい。例えば、このワニス塗工法では、まず、各成分及び任意成分又は添加剤を、所望の配合量で混合し、メチルエチルケトンなどの有機溶剤に溶解又は分散させ、ワニスを調製する。このワニスを、基材フィルム上に塗布、乾燥して、接着剤層を形成する。続いて、基材フィルムとは別個の離型フィルム(基材フィルムと同様の材料が挙げられる)を接着剤層に貼り合せ、巻き取ってもよいし、得られた接着剤層が形成された基材フィルムの自背面に接着剤層が接するように貼り合せ、巻き取ってもよい。乾燥後の全シート厚は特に限定されないが、厚みの均一性と、残存溶剤量の観点から、通常、5〜100μmであり、好ましくは20〜50μmである。このようにして得られるシートは、必要により、所望の厚みになるように積層して使用してもよい。
また、各成分及び任意成分又は添加剤を、直接ニーダーで混練し、固形樹脂層を形成してもよいし、得られた固形樹脂層をシート状に押し出して成膜してもよい。
The adhesive layer used in the present invention is not particularly limited and can be produced by a production method known in the art. Among these, a varnish coating method is preferable because it can easily control the film thickness uniformly. For example, in this varnish coating method, first, each component and optional components or additives are mixed in a desired blending amount and dissolved or dispersed in an organic solvent such as methyl ethyl ketone to prepare a varnish. This varnish is applied onto a substrate film and dried to form an adhesive layer. Subsequently, a release film separate from the base film (including the same material as the base film) may be bonded to the adhesive layer and wound, or the resulting adhesive layer was formed. It may be laminated and wound so that the adhesive layer is in contact with the back surface of the base film. Although the total sheet thickness after drying is not particularly limited, it is usually 5 to 100 μm, preferably 20 to 50 μm, from the viewpoint of thickness uniformity and the amount of residual solvent. The sheet thus obtained may be laminated and used so as to have a desired thickness, if necessary.
Moreover, each component and arbitrary components or additives may be directly kneaded with a kneader to form a solid resin layer, or the obtained solid resin layer may be extruded into a sheet shape to form a film.

なお、このような接着シートにおいて、少なくとも接着剤層は、格子状のパターンを有していることが好ましい。つまり、所定の大きさの矩形、多角形又は略これらに近似する形状の孔が規則的に打ち抜かれたパターンであることが好ましい。このようなパターンを有していることにより、この接着シートをガラス基板に貼付した状態でダイシングテープにマウント、ダイシングした後に、ガラス基板と接着剤層とともに、基材フィルムから剥離する際に、基材フィルムへの接着剤層の接触面積を小さくすることができるために、接着剤層付きガラス基板を、より小さな力でピックアップすることが可能となる。また、ガラス基板上であって、接着剤層が残存することが許容されない領域又は残存させたくない領域に、打ち抜きパターンを配置し、その領域の外周に格子状のパターンが配置するように、接着シートをガラス基板に貼付することが可能となる。これにより、後述するイメージセンサにおける受光部表面に位置する領域に、受光に影響を及ぼすと考えられる接着剤層が付着、残存することを防止することができる。また、その受光部の外周部分に接着剤層が配置することにより、その接着剤層が、受光部表面とガラス基板との間のギャップ調整層の機能を果たすことが可能となり、より簡便な方法で中空を形成することができるとともに、接着剤層の膜厚制御という簡便な方法によりギャップの幅を調整することができる。   In such an adhesive sheet, it is preferable that at least the adhesive layer has a lattice pattern. That is, it is preferably a pattern in which holes having a predetermined size of rectangle, polygon, or a shape approximately similar to these are punched regularly. By having such a pattern, the substrate is mounted on a dicing tape with the adhesive sheet attached to the glass substrate, and after dicing, together with the glass substrate and the adhesive layer, the base film is peeled off. Since the contact area of the adhesive layer to the material film can be reduced, the glass substrate with the adhesive layer can be picked up with a smaller force. In addition, a punching pattern is arranged on a glass substrate in a region where the adhesive layer is not allowed to remain or a region where it is not desired to remain, and a lattice pattern is arranged on the outer periphery of the region. The sheet can be attached to the glass substrate. Thereby, it is possible to prevent an adhesive layer that is considered to affect the light reception from adhering to and remaining in a region located on the surface of the light receiving unit in the image sensor described later. Further, by arranging an adhesive layer on the outer peripheral portion of the light receiving portion, the adhesive layer can function as a gap adjustment layer between the surface of the light receiving portion and the glass substrate, which is a simpler method. The gap can be formed by a simple method of controlling the film thickness of the adhesive layer.

格子状パターンの大きさは特に限定されず、ガラス基板を利用しようとするイメージセンサの大きさ、特にその受光部の大きさに応じて、適宜調整することができる。例えば、打ち抜き孔の大きさが、1〜5mm×2〜15mm程度、格子の幅が0.5〜3.0mm程度が挙げられる。   The size of the lattice pattern is not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the size of the image sensor that uses the glass substrate, particularly the size of the light receiving portion. For example, the size of the punched hole is about 1 to 5 mm × 2 to 15 mm, and the width of the lattice is about 0.5 to 3.0 mm.

本発明に用いられるガラス基板は、通常、基板上に、半導体素子などが搭載されていない、板状のガラス基板であり、その種類は特に限定されることなく、石英ガラス、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、フッ化物ガラス等、種々のものが挙げられる。なかでも、石英ガラスが好ましい。また、別の観点から、イメージセンサの受光部を被覆するために、所定の屈折率、厚み、光透過性などに精密に制御されたガラス基板であることが好ましい。ガラス基板の厚みは特に限定されないが、例えば、300〜700μm程度が挙げられる。   The glass substrate used in the present invention is usually a plate-like glass substrate on which a semiconductor element or the like is not mounted on the substrate, and the type thereof is not particularly limited, and quartz glass, soda lime glass, borosilicate Various things, such as acid glass, lead glass, fluoride glass, are mentioned. Of these, quartz glass is preferable. From another point of view, it is preferable that the glass substrate is precisely controlled to have a predetermined refractive index, thickness, light transmittance, etc. in order to cover the light receiving portion of the image sensor. Although the thickness of a glass substrate is not specifically limited, For example, about 300-700 micrometers is mentioned.

本発明の基板の個片化方法は、まず、図1(a)に示すように、上述した接着剤層11が形成された基材フィルム12に、離型フィルム13が積層された接着シート10を準備し、図1(c)に示すように、この接着シート10の離型フィルム13をはがし、露出した接着剤層11をガラス基板14に貼付する。これにより、ガラス基板14上に接着剤層11及び基材フィルム12がこの順に積層される。
なお、図1(b)に示すように、接着シート10の接着剤層11をガラス基板14に貼付する前に、接着シート10の少なくとも接着剤層11を格子状のパターン10aに形成することが好ましい。
First, as shown in FIG. 1A, the substrate dividing method according to the present invention includes an adhesive sheet 10 in which a release film 13 is laminated on a base film 12 on which the above-described adhesive layer 11 is formed. As shown in FIG. 1 (c), the release film 13 of the adhesive sheet 10 is peeled off, and the exposed adhesive layer 11 is attached to the glass substrate 14. Thereby, the adhesive bond layer 11 and the base film 12 are laminated | stacked on the glass substrate 14 in this order.
In addition, as shown in FIG.1 (b), before sticking the adhesive bond layer 11 of the adhesive sheet 10 to the glass substrate 14, at least the adhesive bond layer 11 of the adhesive sheet 10 may be formed in the grid | lattice-like pattern 10a. preferable.

次いで、図1(d)に示すように、そのガラス基板14を、基材フィルム12が被着されるようにダイシングテープ15にマウントする。つまり、ダイシングテープ15上に、基材フィルム12、接着剤層11及びガラス基板14がこの順に積層されるようにマウントする。ここで用いるダイシングテープ15は、当該分野において通常用いられるものの何れをも用いることができる。   Next, as shown in FIG. 1D, the glass substrate 14 is mounted on a dicing tape 15 so that the base film 12 is attached. That is, the substrate film 12, the adhesive layer 11, and the glass substrate 14 are mounted on the dicing tape 15 so as to be laminated in this order. As the dicing tape 15 used here, any of those usually used in the field can be used.

続いて、図1(e)に示すように、ダイシングテープ15の上方から、ガラス基板14と接着剤層11とをダイシングする。この場合のダイシングは、当該分野で通常使用されているダイシング装置を用いて行うことができる。また、ガラス基板14は完全に切断されている必要があり、接着剤層11も完全に切断されていることが好ましいが、ガラス基板14のピックアップにかかる力に大きな影響を与えない程度に、切断がされていない部分があってもよい。また、基材フィルム12は、完全に切断されていてもよいが、されないことが好ましい。後述するように、基材フィルム12が完全に切断されないことにより、基材フィルム12全体が大きな面積でダイシングテープ15に被覆した状態を維持できるため、より小さな力で基材フィルム12と接着剤層11とを分離することができる。   Subsequently, as shown in FIG. 1E, the glass substrate 14 and the adhesive layer 11 are diced from above the dicing tape 15. Dicing in this case can be performed using a dicing apparatus that is normally used in this field. Further, the glass substrate 14 needs to be completely cut, and the adhesive layer 11 is also preferably cut completely. However, the glass substrate 14 is cut to such an extent that the force applied to the pickup of the glass substrate 14 is not greatly affected. There may be parts that are not. Moreover, although the base film 12 may be cut | disconnected completely, it is preferable not to be carried out. As will be described later, since the base film 12 is not completely cut, the entire base film 12 can be kept in a state of being covered with the dicing tape 15 with a large area. 11 can be separated.

その後、図1(f)に示すように、個片化されたガラス基板14をピックアップする。ここでのピックアップは、基材フィルム12が、ダイシングテープ15に残着し、接着剤層11がガラス基板14に被着するように、基材フィルム12と接着剤層11との間で剥離することにより行われる。従って、(接着剤層11と基材フィルム12との間の密着力)<(基材フィルム12とダイシングテープ15との間の密着力)の関係を満たすことが好ましい。これにより、接着剤層11のみを確実にガラス基板14に残存しながら、不要である基材フィルム12及びダイシングテープ15を容易にガラス基板14から剥離することができる。   Thereafter, as shown in FIG. 1 (f), the separated glass substrate 14 is picked up. The pickup here peels between the base film 12 and the adhesive layer 11 so that the base film 12 remains on the dicing tape 15 and the adhesive layer 11 adheres to the glass substrate 14. Is done. Therefore, it is preferable to satisfy the relationship of (adhesion force between the adhesive layer 11 and the base film 12) <(adhesion force between the base film 12 and the dicing tape 15). Thereby, unnecessary base film 12 and dicing tape 15 can be easily peeled from glass substrate 14 while only adhesive layer 11 remains reliably on glass substrate 14.

続いて、ピックアップした接着剤層付きのガラス基板を、イメージセンサにおける受光部表面を被覆するように貼付することにより、イメージセンサを製造することができる。この場合、ガラス基板に被着した接着剤層を、均一な膜厚で、所望の領域、つまり、ガラス基板の外周又はこの周辺領域にのみ残存させていることが好ましい。これにより、イメージセンサの受光部においてガラス基板とともに接着剤層が配置することを防止することができる。また、接着剤層の厚みによって、受光部表面とガラス基板との間のギャップ幅を制御するギャップ調整層として機能させることが可能となり、イメージセンサの製造方法がより簡便になるとともに、歩留まりの良好なイメージセンサを製造することができる。   Then, an image sensor can be manufactured by sticking the picked-up glass substrate with an adhesive layer so that the light-receiving part surface in an image sensor may be coat | covered. In this case, it is preferable to leave the adhesive layer attached to the glass substrate only in a desired region, that is, the outer periphery of the glass substrate or the peripheral region thereof, with a uniform film thickness. Thereby, it can prevent that an adhesive bond layer arrange | positions with a glass substrate in the light-receiving part of an image sensor. In addition, the thickness of the adhesive layer makes it possible to function as a gap adjustment layer that controls the gap width between the light receiving surface and the glass substrate, making the image sensor manufacturing method simpler and better yield. An image sensor can be manufactured.

なお、本発明におけるイメージセンサの種類、形態等は特に限定されるものではなく、例えば、CMOS、CCD等の撮像素子等が挙げられ、これらが形成された半導体基板/ウェハ上に、任意に、例えば、カラーフィルタ、マイクロレンズ等を介して、上述した接着剤層付きガラス基板を貼付することが好ましい。   In addition, the kind, form, etc. of the image sensor in the present invention are not particularly limited, and examples thereof include an image pickup device such as a CMOS and a CCD, and arbitrarily, on a semiconductor substrate / wafer on which these are formed, For example, it is preferable to attach the glass substrate with an adhesive layer described above via a color filter, a microlens, or the like.

以下に、本発明の基板の個片化方法、イメージセンサの製造方法及び熱硬化性接着シートの実施例を詳細に説明する。
実施例1
まず、以下に示す各成分を準備した。
Hereinafter, embodiments of the substrate singulation method, the image sensor manufacturing method, and the thermosetting adhesive sheet of the present invention will be described in detail.
Example 1
First, each component shown below was prepared.

エポキシ樹脂1(トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、日本化薬製、EPPN−501HY)4.3重量部
エポキシ樹脂2(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン製、エポコールYL−828)4.3重量部、
硬化剤(ノボラック型フェノール樹脂、明和化成製、DL−65)5.2重量部、
アクリル樹脂(アクリル共重合体、ナガセケムテックス製、テイサンレジンSG−P3)14.4重量部
硬化促進剤(テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート(北興化学製、TPP−K)0.9重量部、
シリカ粉末(平均粒径5.5μmの球状溶融シリカ粉末、電気化学工業社製、FB−7SDC)70.9重量部
これらを、分散混合し、シート塗工用ワニスを調製した。
Epoxy resin 1 (Trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, Nippon Kayaku, EPPN-501HY) 4.3 parts by weight Epoxy resin 2 (Bisphenol A type epoxy resin, Japan Epoxy Resin, Epocol YL-828) 4.3 weights Part,
Curing agent (Novolac type phenolic resin, Meiwa Kasei, DL-65) 5.2 parts by weight,
Acrylic resin (acrylic copolymer, manufactured by Nagase ChemteX, Teisan Resin SG-P3) 14.4 parts by weight Curing accelerator (tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (manufactured by Hokuko Chemical, TPP-K) 0.9 parts by weight)
70.9 parts by weight of silica powder (spherical fused silica powder having an average particle size of 5.5 μm, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., FB-7SDC) These were dispersed and mixed to prepare a sheet coating varnish.

次に、このワニスを、厚さ50μmのポリエステルフィルムA(三菱化学ポリエステル製、MRF−50)上にコンマコーターにて塗工し、乾燥し、ポリエステルフィルムB(三菱化学ポリエステル製、MRX−38)を貼り合せることにより、熱硬化性接着シートを得た。ここでの接着剤層は30μm、接着シートの総膜厚は118μmであった。
得られた熱硬化性接着シートを打ち抜き金型により格子状に打ち抜き、パターン化された接着シートを得た。この際のパターンは、打ち抜き孔のサイズが2.0×2.5mm、格子状パターン幅が0.7mm程度であった。
Next, this varnish was coated on a 50 μm thick polyester film A (Mitsubishi Chemical Polyester, MRF-50) with a comma coater, dried, and polyester film B (Mitsubishi Chemical Polyester, MRX-38). Was bonded to obtain a thermosetting adhesive sheet. The adhesive layer here was 30 μm, and the total thickness of the adhesive sheet was 118 μm.
The obtained thermosetting adhesive sheet was punched into a lattice shape by a punching die to obtain a patterned adhesive sheet. The pattern at this time had a punched hole size of about 2.0 × 2.5 mm and a lattice pattern width of about 0.7 mm.

次いで、接着シート上のポリエステルフィルムAを剥離し、接着剤層をガラスウェハ上にロールラミネータを用いて貼り付けた。このようにして得られたガラス基板をダイシングテープ上に接着剤層上のポリエステルフィルムBが付いたままマウントし、ダイサーによってガラス基板上からダイシングした。ダイシングは、例えば、DISCO製DFG−651のダイサーを用い、回転数:38000rpm、刃厚:300μmのレジンブレードを用いて、粘着剤層及び基材との切り込みの総量を50μm程度とし、速度40mm/sec、切断時水量:1.5L/分の条件で切断を実施した。この際に、チップ飛び、チップ欠けをカウントした。その結果を表1に示す。
表1から明らかなように、チップ飛び、チップ欠け等は全く発生せず、ピックアップ性も良好であった。
Next, the polyester film A on the adhesive sheet was peeled off, and the adhesive layer was stuck on the glass wafer using a roll laminator. The glass substrate thus obtained was mounted on a dicing tape with the polyester film B on the adhesive layer attached thereto, and diced from the glass substrate by a dicer. For dicing, for example, a DISC DFG-651 dicer is used, a resin blade with a rotation speed of 38000 rpm and a blade thickness of 300 μm is used, and the total amount of cut with the adhesive layer and the substrate is about 50 μm, and the speed is 40 mm / Cutting was carried out under the conditions of sec, water amount at cutting: 1.5 L / min. At this time, chip skipping and chip chipping were counted. The results are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, no chip skipping, chip chipping or the like occurred, and the pick-up property was good.

実施例2
ポリエステルフィルムBを用いる代わりに、ポリオレフィンフィルムを用いたこと以外は、実施例1と実質的に同様にダイシング性を評価した。その結果を表1に示す。
表1から明らかなように、チップ飛び、チップ欠け等は全く発生せず、ピックアップ性も良好であった。
Example 2
Instead of using the polyester film B, the dicing property was evaluated substantially in the same manner as in Example 1 except that a polyolefin film was used. The results are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, no chip skipping, chip chipping or the like occurred, and the pick-up property was good.

実施例3
ポリエステルフィルムBを用いる代わりに、ポリ塩化ビニル(三菱化学MKV社製、KMフィルム)を用いたこと以外は、実施例1と実質的に同様にダイシング性を評価した。その結果を表1に示す。
表1から明らかなように、チップ飛び、チップ欠け等は全く発生せず、ピックアップ性も良好であった。
Example 3
The dicing property was evaluated in substantially the same manner as in Example 1 except that polyvinyl chloride (manufactured by Mitsubishi Chemical MKV, KM film) was used instead of the polyester film B. The results are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, no chip skipping, chip chipping or the like occurred, and the pick-up property was good.

比較例1
ガラス基板をダイシングテープ上に貼り合せる際、ポリエステルフィルムBを剥離した状態でマウントを行った以外は、実施例1と実質的に同様にダイシング性を評価した。その結果を表1に示す。
表1から明らかなように、100個中35個のチップで、接着剤層/ダイシングテープ間の密着力が強く、ピックアップができなかった。
Comparative Example 1
When the glass substrate was bonded onto the dicing tape, the dicing property was evaluated in substantially the same manner as in Example 1 except that the mounting was performed with the polyester film B peeled off. The results are shown in Table 1.
As is apparent from Table 1, 35 out of 100 chips had a strong adhesive force between the adhesive layer / dicing tape and could not be picked up.

比較例2
ダイシングテープとしてUV硬化型ダイシングテープを用いたこと以外は、比較例1と実質的に同様にダイシング性を評価した。その結果を表1に示す。
表1から明らかなように、100個中5個のチップで、接着剤層/ダイシングテープ間の密着力が強く、ピックアップができなかった。
Comparative Example 2
Dicing properties were evaluated in substantially the same manner as Comparative Example 1 except that a UV curable dicing tape was used as the dicing tape. The results are shown in Table 1.
As is clear from Table 1, the adhesion between the adhesive layer / dicing tape was strong with 5 out of 100 chips, and pickup could not be performed.

Figure 2008153412
Figure 2008153412

実施例4
実施例1で得られたガラス基板は、大きさが2.35×2.85mmであり、その外周部に幅0.35mm程度の接着剤層が形成されている。このガラス基板を、シリコンウェハ上に形成されたCCD素子の受光部表面を被覆するように貼付し、イメージセンサを製造した。
このようにして得られたイメージセンサでは、特別な工程を経ることなく、そのギャップが接着剤層の厚みとして簡便に制御された中空を、受光部表面に確保することができた。
Example 4
The glass substrate obtained in Example 1 has a size of 2.35 × 2.85 mm, and an adhesive layer having a width of about 0.35 mm is formed on the outer periphery thereof. This glass substrate was pasted so as to cover the surface of the light receiving portion of the CCD element formed on the silicon wafer, and an image sensor was manufactured.
In the image sensor obtained in this way, a hollow whose gap was easily controlled as the thickness of the adhesive layer could be secured on the surface of the light receiving part without passing through a special process.

本発明は、好適には、イメージセンサ等を構成するガラス基板に利用することができるが、ガラス基板のみならず、半導体ウェハ、例えば、シリコンウェハ、ゲルマニウムウェハ、ガリウム・ヒ素ウェハ、回路基板、セラミック基板、金属基板、プラスチック基板及びこれら封止樹脂で封止した封止樹脂基板等の広範囲の加工の全てに対して利用することができる。   The present invention can be preferably used for a glass substrate constituting an image sensor or the like, but is not limited to a glass substrate, but also a semiconductor wafer such as a silicon wafer, a germanium wafer, a gallium arsenide wafer, a circuit substrate, a ceramic. It can be used for all of a wide range of processing such as substrates, metal substrates, plastic substrates, and sealing resin substrates sealed with these sealing resins.

本発明の基板の個片化方法を説明するための概略断面工程図である。It is a schematic sectional process drawing for demonstrating the board | substrate individualization method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 接着シート
11 接着剤層
12 基材フィルム
13 離型フィルム
14 ガラス基板
15 ダイシングテープ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Adhesive sheet 11 Adhesive layer 12 Base film 13 Release film 14 Glass substrate 15 Dicing tape

Claims (7)

基材フィルム上に積層された接着剤層を、ガラス基板に貼付する工程と、
前記基材フィルムがダイシングテープの粘着面に被着されるように前記ガラス基板をダイシングテープにマウントする工程と、
少なくとも前記ガラス基板及び接着剤層をダイシングする工程と、
前記基材フィルムが前記ダイシングテープに残着し、前記接着剤層が前記ガラス基板に被着するように、個片化された前記ガラス基板をピックアップする工程とを含む基板の個片化方法。
A step of attaching an adhesive layer laminated on a base film to a glass substrate;
Mounting the glass substrate on the dicing tape so that the base film is attached to the adhesive surface of the dicing tape;
Dicing at least the glass substrate and the adhesive layer;
Picking up the glass substrate separated so that the base film remains on the dicing tape and the adhesive layer adheres to the glass substrate.
ガラス基板に貼付された接着剤層が、格子状パターンを有する請求項1に記載の個片化方法。   The singulation method according to claim 1, wherein the adhesive layer attached to the glass substrate has a lattice pattern. 接着剤層が、エポキシ樹脂を含む熱硬化型接着剤層である請求項1又は2に記載の個片化方法。   The singulation method according to claim 1 or 2, wherein the adhesive layer is a thermosetting adhesive layer containing an epoxy resin. (接着剤層と基材フィルムとの間の密着力)<(基材フィルムとダイシングテープとの間の密着力)の関係を満たす請求項1に記載の個片化方法。   The singulation method according to claim 1, which satisfies a relationship of (adhesion force between the adhesive layer and the base film) <(adhesion force between the base film and the dicing tape). 基材フィルムが、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系フィルムである請求項1に記載の個片化方法。   The singulation method according to claim 1, wherein the base film is a polyester-based, polyolefin-based, or polyvinyl chloride-based film. 請求項1に記載の個片化方法で個片化されたガラス基板を、イメージセンサにおける受光部表面を被覆するように貼付し、前記ガラス基板に被着した接着剤層を前記受光部表面とガラス基板との間のギャップ調整層として用いるイメージセンサの製造方法。   The glass substrate singulated by the singulation method according to claim 1 is attached so as to cover a light receiving portion surface in an image sensor, and an adhesive layer attached to the glass substrate is attached to the light receiving portion surface. A manufacturing method of an image sensor used as a gap adjustment layer between a glass substrate. 離型フィルム、エポキシ系熱硬化型接着剤層及びダイシング用基材フィルムがこの順に積層されてなる熱硬化性接着シート。   A thermosetting adhesive sheet obtained by laminating a release film, an epoxy thermosetting adhesive layer, and a substrate film for dicing in this order.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013082834A (en) * 2011-10-12 2013-05-09 Kaneka Corp Image sensor using organopolysiloxane-based composition

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04249343A (en) * 1991-02-05 1992-09-04 Sharp Corp Substrate separating method
JP2003234360A (en) * 2002-02-12 2003-08-22 Mitsubishi Electric Corp Adhesive sheet for electronic component, and semiconductor device using the same
JP2004266163A (en) * 2003-03-03 2004-09-24 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive sheet and method for manufacturing semiconductor chip with adhesive agent
JP2005179654A (en) * 2003-11-27 2005-07-07 Jsr Corp Hot-melt adhesive composition
JP2005203401A (en) * 2004-01-13 2005-07-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2006100586A (en) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd Grinding method for laminate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04249343A (en) * 1991-02-05 1992-09-04 Sharp Corp Substrate separating method
JP2003234360A (en) * 2002-02-12 2003-08-22 Mitsubishi Electric Corp Adhesive sheet for electronic component, and semiconductor device using the same
JP2004266163A (en) * 2003-03-03 2004-09-24 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive sheet and method for manufacturing semiconductor chip with adhesive agent
JP2005179654A (en) * 2003-11-27 2005-07-07 Jsr Corp Hot-melt adhesive composition
JP2005203401A (en) * 2004-01-13 2005-07-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2006100586A (en) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd Grinding method for laminate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013082834A (en) * 2011-10-12 2013-05-09 Kaneka Corp Image sensor using organopolysiloxane-based composition

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