JP2008153065A - プラズマ処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】プラズマ処理の際は、電極を固体誘電体板に確実に接触させることができ、運搬時には、電極の振動による固体誘電体板の損傷を防止できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】筐体２１の底部（一側部）を開放し、そこに固体誘電体板２２を設け、内部２０ａに電極２３を収容する。離間支持手段３０によって、電極２３を、固体誘電体板２２から離間させて支持可能かつこの離間支持を解除可能にする。離間支持の解除状態における電極２３は、固体誘電体板２２に沿う一方向へ略フリーな状態で固体誘電体板２２に当接される。
【選択図】図１

Description

この発明は、処理ガスをプラズマ化して被処理物の表面に接触させ、該表面をプラズマ処理する装置に関する。

例えば、特許文献１に記載のプラズマ処理装置は、底部の開放された筐体を有している。この底部に固体誘電体の板が設けられている。筐体の内部には、長尺状の電極が長手方向にフリーな状態で収容され、固体誘電体板の上面に非固定状態で載置されている。
特開２００６−１２８０７８号公報

上掲特許文献１の電極は、非固定状態になっているため、使用時に熱応力が生じないようにすることができアーク等の異常放電が発生するのを防止できる。しかし、装置の運搬時などには電極が振動しやすく、固体誘電体板を損傷するおそれがある。

上記目的を達成するために、本発明は、処理ガスをプラズマ化して被処理物の表面に接触させ、該表面を処理する装置において、
一側部が開放された筐体と、
前記開放側部を塞ぐようにして、前記筐体に支持された固体誘電体の板と、
前記筐体の内部に収容された前記プラズマ化のための電極と、
前記電極を、前記固体誘電体板から離間させて支持可能かつこの離間支持を解除可能な離間支持手段と、
を備え、前記離間支持の解除状態における前記電極が、前記固体誘電体板に沿う一方向へ略フリーな状態で前記固体誘電体板に当接されることを特徴とする。
これによって、プラズマ処理時には、電極の離間支持を解除する。これにより、電極が固体誘電体板からほぼ独立して自由熱膨張でき、固体誘電体板との熱膨張差や筐体の拘束によって撓み変形を来たすのを防止できる。この結果、電極と固体誘電体板との接触状態を確実に維持でき、電極と固体誘電体板との間にアーク等の異常放電が発生するのを防止することができる。
一方、運搬時をはじめとする非処理時には、電極を固体誘電体板から離して離間支持状態にすることができる。これにより、運搬等によって電極が振動したとしても、その振動が固体誘電体板に直接的に伝わるのを回避することができる。これによって、固体誘電体板の損傷を防止することができる。

前記電極を、前記離間支持の解除状態のとき、前記固体誘電体板に弾性的に押し付ける付勢手段を、更に備えることにしてもよい。
これによって、プラズマ処理時に電極と固体誘電体板との接触を確実に維持することができ、異常放電を一層確実に防止することができる。前記付勢手段は、電極の前記一方向への変位に対してあまり拘束力を有しないようになっていることが好ましい。

前記離間支持手段が、前記筐体の前記開放側部とは反対側から前記電極に向けて伸び、先端が前記電極と連結可能な連結部材を含むことが望ましい。
これによって、電極を固体誘電体板側とは逆側から支持して固体誘電体板から離間させることができる。

前記連結部材は、前記電極に対し着脱自在であることが好ましい。プラズマ処理時には、前記連結部材と電極の連結を解除するのが好ましい。これにより、プラズマ処理時における電極の自由熱膨張をより確実に許容することができる。
前記連結部材が、前記電極を引き寄せるようにして連結することが好ましい。これによって、電極を固体誘電体板から確実に離間支持することができる。

前記連結部材の先端部に、前記電極との連結のためのネジが形成されていることが好ましい。この場合、前記連結部材は、好ましくは軸状をなし、軸線のまわりに回転可能である。
これによって、電極を簡単かつ確実に分離可能に、しかも引き寄せるようにして連結でき、確実に離間支持することができる。
前記電極との連結のためのネジは、雄ネジでもよく、雌ネジでもよい。これに対応して、電極には雌ネジ又は雄ネジを設けるとよい。電極に雌ネジ又は雄ネジを有する部材を一体に取り付けてもよい。

前記連結部材が、その伸び方向に沿って進退可能であることが好ましい。
これによって、離間支持解除状態の電極に向かって進出して連結し、電極を固体誘電体板から離間させることができる。

前記離間支持手段が、前記離間支持の解除状態のとき、前記連結部材をその先端方向へ付勢し前記電極に押し当てる付勢手段を含むことが好ましい。
これによって、離間支持解除状態のときは、前記連結部材ががたつくのを防止できるだけでなく、連結部材を介して電極を固体誘電体板に弾性的に押し当てるようにすることができ、電極と固体誘電体板とを確実に当接させることができる。また、離間支持状態のときは、連結部材及び電極の振動を抑えることができる。
前記付勢手段の付勢力を、電極の前記一方向への変位をあまり拘束しない大きさに設定してもよい。

前記離間支持手段が、前記連結部材が先端方向へ進出するのを規制する進出規制部を含むことが好ましい。前記連結部材が、前記進出を規制された状態で前記電極を離間支持するようになっていることが好ましい。

前記筐体の底部が開放されて、そこに前記固体誘電体板が設けられており、この固体誘電体板の上方に前記電極が配置されていることが好ましい。
これによって、離間支持の解除状態の電極を、自重によって固体誘電体に接触させることができる。

本発明は、前記電極が前記フリーな方向に延びる長尺状をなしている場合に特に効果的である。これによって、電極の長手方向への熱膨張による撓みを確実に防止できすることができる。

本発明によれば、プラズマ処理の際は、離間支持解除の状態にすることにより、電極を熱変形に拘わらず固体誘電体板に確実に接触させて異常放電を防止でき、運搬時などの非運転時には、離間支持の状態にすることにより、振動が電極から固体誘電体板に直接伝わるのを回避でき、固体誘電体板の損傷を防止することができる。

以下、本発明の一実施形態を説明する。
図１及び図２に示すように、この実施形態では、誘電体のガラス基板Ｗからなる被処理物Ｗの表面処理を行う。処理内容は、洗浄、表面改質、成膜、エッチング、その他の種々の表面処理に適用可能である。処理は、例えば、大気圧プラズマ放電を利用したプラズマ処理装置１にて行なう。ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０4〜５０．６６３×１０4Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０4〜１０．６６４×１０4Ｐａが好ましく、９．３３１×１０4〜１０．３９７×１０4Ｐａがより好ましい

プラズマ処理装置１は、ステージ１０と、処理ヘッド２０を備えている。ステージ１０は、アルミやステンレス等の金属を主成分として有し、電気的に接地され、後記高圧電極２３に対する接地電極を構成している。ステージ１０の上面に、処理すべき基板Ｗが載置されている。ステージ１０の上面にはアルミナ等の溶射膜等からなる固体誘電体層（図示せず）が形成されている。ガラス（誘電体）製の基板Ｗを固体誘電体層として代用することにしてもよい。

ステージ１０の上方に処理ヘッド２０が配置されている。処理ヘッド２０は、前後方向（図１の紙面直交方向）に延びている。処理ヘッド２０は、図示しない架台に支持されるとともにスキャン機構（図示せず）によって、図１の左右方向にスキャンされるようになっている。処理ヘッド２０が固定される一方、ステージ１０が移動されるようになっていてもよい。

処理ヘッド２０とステージ１０上の基板Ｗとの間には、処理通路１ａが形成されるようになっている。図示は省略するが、処理ヘッド２０には、処理ガス源等を含む処理ガス供給系が接続されている。この処理ガス供給系から処理目的に応じた処理ガスが所定の流量で処理通路１ａに導入されるようになっている。例えば、エッチング処理や撥水化処理では、処理ガスとしてＣＦ_４等のフッ化炭素化合物及び窒素等が用いられる。

処理ヘッド２０について詳述する。処理ヘッド２０は、筐体２１と、固体誘電体板２２と、高圧電極２３を備えている。
筐体２１は、ステンレス等の金属にて構成され、底部（一側部）が開放されるとともに、前後方向（図１の紙面直交方向）に延びている。
筐体２１の底部には固定誘電体板が設けられている。固体誘電体板２２は、アルミナ等のセラミックにて構成されている。固体誘電体板２２の前後左右の縁部には、厚肉の周壁２２ｂが形成されている。この周壁２２ｂが筐体２１に連結されて支持されている。これによって、筐体２１の底部（開放側部）が固体誘電体板２２により塞がれ、処理ヘッド２０の内部に密閉空間２０ａが形成されている。密閉空間２０ａには、例えば窒素が充填されている。

筐体２１の内部に高圧電極２３が収容されている。電極２３は、アルミやステンレス等の金属にて構成され、大略四角形の断面をなして前後方向に延びている。電極２３の内部には、窒素ガスや水等の冷却媒体を通す冷却路２３ｃが形成されている。
図示は省略するが、電源から給電線が延び、電極２３に接続されている。これによって、電極２３への給電がなされるようになっている。この給電により電極２３とステージ兼接地電極１０との間に電界が印加されて大気圧グロー放電が生成される。これにより、処理通路１ａの中央部が放電空間１ｂとなり、この放電空間１ｂ内に導入された処理ガスがプラズマ化されるようになっている。
電極２３と筐体２１の間は、内部空間２０ａによって隔てられ、空間絶縁されている。筐体２１の内面に絶縁樹脂等からなるライナーを設けることにしてもよい。

図１及び図２に示すように、プラズマ処理時には、電極２３は、固体誘電体板２２の上面に載置された状態になっている。電極２３の前後（図２において左右）の端面は、筐体２１の前後の壁からそれぞれ離れており、両者の間に隙間が形成されている。これにより、電極２３は、固体誘電体板２２の上面内において前後長手方向（一方向）に略フリーな状態になり、熱膨張・収縮が十分に許容されている。

電極２３の上面には、後記連結部材３２との連結用の雌ネジ孔２３ａが形成されている。雌ネジ孔２３ａの上端部は、電極２３の上面に向かうにしたがって拡径するテーパ面２３ｂ（案内面）になっている。

筐体２１の天井面には、電極規制部材２４が垂設されている。電極規制部材２４は、絶縁性の高い樹脂にて構成され、ブロック状をなし、前後方向に離間して複数（図では１つだけ図示）配置されている。電極規制部材２４の左右両端部には、電極規制部２４ａが下に突出するように設けられている。これら左右の電極規制部２４ａの間に、電極２３の上端部が差し入れられている。電極規制部２４ａの内側面と電極２３との間には、ある程度（例えば０．５ｍｍ程度）の遊びが設けられている。電極規制部２４ａは、この遊びを許容しつつ、電極２３の左右方向の変位（回転を含む）を規制している。

筐体２１の上板（開放側部とは反対側）には、離間支持手段３０が設けられている。離間支持手段３０は、前後方向に離間して複数配置されている。ここでは、電極２３の前後両端部の近傍に対応する位置に２つ設けられている。
離間支持手段３０は、ホルダ３１と、連結部材３２と、ばね３５（付勢手段）とを有している。
ホルダ３１は、大径の筒状をなすホルダ本体３１ａと、このホルダ本体３１ａの下面に連なる小径の筒状をなすガイド部３１ｂとを有している。ホルダ本体３１ａの下部にベースフランジ３１ｃが設けられている。このベースフランジ３１ｃが筐体２１の上面に固定されている。ホルダ本体３１ａの下端部とガイド部３１ｂの上端部との間には、段差３１ｄが形成されている。ガイド部３１ｂは、筐体２１の上板を貫通し、その下端が開口されて内部空間２０ａに連なっている。

ホルダ３１の内部に連結部材３２の中間部が収容され保持されている。連結部材３２は、樹脂にて構成され、軸線を上下に向けた軸状をなしている。連結部材３２の上側部は、ホルダ３１より上に突出され、その上端部（基端部）につまみ３３が設けられている。
連結部材３２の中間部には、フランジ３２ｂが設けられている。このフランジ３２ｂの外周縁がホルダ本体３１ａの内周に摺擦するようにして、連結部材３２がホルダ３１に沿って上下にスライド可能（伸び方向に進退可能）になっている。さらに、連結部材３２は、軸線のまわりに回転可能になっている。
フランジ３２ｂの外周部には、ガスケットやＯリング等のシール部材３４が設けられている。このシール部材３４によって、内部空間２０ａからの窒素漏れが防止されている。

連結部材３２の下側部は、ガイド部３１ｂを通り、ヘッド内空間２０ａの内部に垂下され、電極２３に向かって延びている。連結部材３２の下端部（先端部）には、雄ネジ３２ａが設けられている。この雄ネジ３２ａが、電極２３の上面の雌ネジ孔２３ａに螺合可能になっている。連結部材３２の雄ネジ３２ａは、電極２３に分離可能に連結される連結部を構成している。

図３に示すように、連結部材３２の雄ネジ３２ａを電極２３の雌ネジ孔２３ａに十分にねじ込んだ状態では、電極２３が連結部材３２によって吊り上げられ、固体誘電体板２２から離れる。この吊り状態を離間支持状態と言うことにする。この離間支持状態では、連結部材３２のフランジ３２ｂがホルダ３１の段差３１ｄに当たり、連結部材３２の下方へのスライド（先端方向への進出）が規制されている。段差３１は、連結部材３２の先端方向への進出位置を規制する進出規制部を構成する。

図１及び図２に示すように、連結部材３２の雄ネジ３２ａが電極２３の雌ネジ孔２３ａから外れた非連結状態では、上記の離間支持が解除され、電極２３が固体誘電体板２２の上に長手方向に略フリーな状態で載置され、固体誘電体板２２に当接される。この電極２３が固体誘電体板２２に当接した状態を「離間支持の解除状態」と言うことにする。連結部材３２の下端部の雄ネジ３２ａは、電極２３のテーパ面２３ｂに当接される。連結部材３２のフランジ３２ｂは、段差３１ｄより上に離れて位置される。

ホルダ３１の内部には、圧縮コイルばね３５が収容されている。このばね３５の下端部がフランジ３２ｂに突き当たっている。これにより、ばね３５が連結部材３２を下方へ付勢している。したがって、非連結状態の連結部材３２の下端部（雄ネジ３２ａ）が、自重で電極２３のテーパ面２３ｂに当接されるだけでなく、ばね３５の付勢力によって押し当てられる。さらに、ばね３５の付勢力は、連結部材３２を介して電極２３に及び、電極２３を固体誘電体２２に押し付けることになる。

上記構成のプラズマ処理装置１は、次のように使用される。
図１及び図２に示すように、プラズマ処理の際は、連結部材３２の雄ネジ３２ａを電極２３の雌ネジ孔２３ａから外して、連結部材３２による電極２３の離間支持を解除する。これによって、電極２３が自重によって固体誘電体板２２上に長手方向に略フリーな状態で載置される。また、連結部材３２が、ばね３５によって下方に付勢され、電極２３の上面に弾性的に押し付けられる。これにより、連結部材３２ががたつくのを防止することができる。

ステージ１０の上面には、処理すべき基板Ｗをセットする。そして、処理ヘッド２０を左右にスキャンさせながら、処理ガスを処理通路１ａに供給するとともに、電極２３に電圧を供給して大気圧グロー放電を生成する。これにより、処理通路１ａの中央部分の処理ガスがプラズマ化（励起、活性化、ラジカル化、イオン化を含む）され、このプラズマ化された処理ガスがステージ１０上の基板Ｗに接触する。これによって、基板Ｗをプラズマ表面処理することができる。
このとき、電極２３の下面（放電面）に被さる固体誘電体板２２により、放電の安定化を図ることができる。

電極２３は、上記の放電によって熱を持ち、主に長手方向に膨張しようとする。この電極２３は、長手方向に略フリーになっており、長手方向に十分に自由熱膨張できるので、内部に熱応力がほとんど発生しない。また、電極２３と固体誘電体板２２は互いに独立して熱膨張でき、互いの熱膨張差による熱応力を及ぼし合うことがない。したがって、熱応力による電極２３の撓み変形を防止することができる。これによって、電極２３と固体誘電体板２２の接触状態を確実に維持することができる。この結果、電極２３と固体誘電体板２２との間に隙間が出来てアーク等の異常放電が起きるのを防止することができる。しかも、電極２３は、連結部材３２を介してばね３５によって固体誘電体板２２に押し当てられているので、電極２３と固体誘電体板２２との接触状態を一層確実に維持することができ、異常放電の発生を一層確実に防止することができる。
電極２３が熱変形しようとするときは、テーパ面２３ｂによって連結部材３２の下端部を案内して、電極２３と連結部材３２とを容易に相対変位させることができる。これにより、離間支持手段３０が電極２３の熱変形を拘束するのを防止することができる。

処理を行わない時、特に処理ヘッド２０を運搬する時などには、連結部材３２のつまみ３３を回し、雄ネジ３２ａを電極２３の雌ネジ孔２３ａにねじ込む。このとき、テーパ面２３ｂによって雄ネジ２３ａを雌ネジ孔２３ａに確実に誘導することができる。また、電極規制部２４ａが電極２３の側部に当たって電極２３を回り止めする。電極２３の長手方向に離間した２つの連結部材３２を併行してねじ込むことによっても、電極２３を回り止めできる。
連結部材３２は、電極２３へのねじ込みにより、当初、下降していく。これに伴い、ばね３５が伸長していく。やがて、連結部材３２のフランジ３２ｂが段差３１ｄに突き当たる。この時点までは、電極２３が固体誘電体板２２に当接した状態すなわち離間支持解除状態を維持する。フランジ３２ｂが段差３１ｄに突き当たると、連結部材３２は、それ以上、下降できなくなる。したがって、そこから更に連結部材３２を電極２３にねじ込むと、電極２３が固体誘電体板２２から離間して浮き上がる。これによって、図３に示すように、電極２３を離間支持状態にすることができる。電極２３と固体誘電体板２２との離間距離は、例えば３ｍｍとする。

この離間支持状態では、例えば処理ヘッド２０を運搬するなどして振動や衝撃が加わり、内部の電極２３ががたついたとしても、電極２３と固体誘電体板２２が離間されているので、固体誘電体板２２には電極２３の振動が直接的に伝わらないようにすることができる。これによって、固体誘電体板２２が損傷するのを防止することができる。また、ばね３５によって連結部材３２を付勢することにより、振動を抑えることができる。

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、離間支持解除の状態は、連結部材３２の雄ネジ３２ａが電極２３の雌ネジ孔２３ａから外れた非連結状態だけでなく、雄ネジ３２ａが雌ネジ孔２３ａにねじ込まれ、かつ、連結部材３２のフランジ３２ｂが段差３１ｄに達していない状態、或いは、フランジ３２ｂがちょうど段差３１ｄに当接し、電極２３が未だ固体誘電体板２２から離間していない状態も含まれ、この状態でプラズマ処理することにしてもよい。その場合、連結部材３２を少なくとも電極２３の長手方向に変位可能にし、電極２３の自由熱膨張を妨げないようにするのが好ましい。フランジ３２ｂが段差３１ｄに当たった後、更に連結部材３２をねじ込んで電極２３が固体誘電体板２２から離間した段階ではじめて離間支持の状態になる。
離間支持時には、電極２３を電極規制部材２４の上底面に当たるまで吊り上げることにしてもよく、そうすると、電極２３のがたつき自体を抑えることができ、運搬作業等の容易化を図ることができる。

連結部材３２の先端部に、電極２３との連結部として雄ネジ３２ａに代えてナット（雌ネジ）を設けてもよい。この場合、電極２３には上記ナットに螺合するボルトを一体に設けておくとよい。
連結部材３２は、電極２３と連結可能であればよく、雄ネジや雌ネジ等のネジ手段に限られず、フック等の引っ掛け手段を有して電極２３の係止部に引っ掛けられるようになっていてもよく、電気的又磁気的な作用で電極２３を引き寄せるようになっていてもよい。或いは、離間支持手段３０が、流体圧や電磁力によって電極を解除可能に離間支持するようになっていてもよい。
連結部材３２は、電極２３から分離可能になっているのが好ましいが、分離されずに連結状態を維持するようになっていてもよく、電極２３が連結部材３２と一体になって固体誘電体板２２に対し接離されるようになっていてもよい。

付勢手段３５が、離間支持手段３０から離れた位置に配置され、付勢力を、連結部材３２を介さずに電極２３に直接作用させるようになっていてもよい。
付勢手段３５は、弾性的な押し力を連結部材３２（又は電極２３）に作用させ得るものであればよく、圧縮コイルばねに限られず、引っ張りコイルばねを用いてもよく、板ばねを用いてもよく、ばねに限られず、ゴム等の弾性部材を用いてもよく、流体圧や電磁力などで押し力を発現させる機構を用いてもよい。付勢手段３５は、電極２３の長手方向への熱変形に対しては、あまり拘束しないことが好ましい。
付勢手段３５によって電極２３を固体誘電体板２２に押し当てる限り、必ずしも固体誘電体板２２を水平にしてその上側に電極２３を配置する必要性はなく、固体誘電体板２２を起立させ、これに電極２３を横から宛がってもよく、水平な固体誘電体板２２の下側に電極２３を宛がうことにしてもよい。
一方、付勢手段３５の付勢力を、連結部材３２が非連結時にがたつくのを防止し得る程度にし、或いは電極２３の自重による固体誘電体板２２への接触圧と比べ無視できる程度に小さくしてもよい。そうすると、電極２３の長手方向への熱変形を確実に許容することができる。
付勢手段３５を省略してもよい。
電極２３は、長尺でなくてもよい。

本発明は、放電空間の内部に被処理物を直接配置する所謂ダイレクト式のプラズマ処理に限られず、放電空間の外部に被処理物を配置し、これに向けてプラズマ化された処理ガスを吹き付ける所謂リモート式のプラズマ処理にも適用可能である。大気圧プラズマ処理に限られず、低圧下でのプラズマ処理にも適用可能である。
ヘッド２０の電極２３と対をなす他の電極として、ステージ１０に代えて、筒状をなすロール電極でもよく、被処理物が他の電極を兼ねていてもよい。

本発明は、例えばカラーフィルタやフラットパネルディスプレイ用のガラス基板のプラズマ表面処理等に適用可能である。

本発明の一実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置を、電極の離間支持解除の状態で、図２のI−I線に沿って示す正面断面図である。 上記プラズマ処理装置を、電極の離間支持解除の状態で、図１のII−II線に沿って示す側面断面図である。 上記プラズマ処理装置を、電極の離間支持の状態で示す正面断面図である。

符号の説明

Ｗ ガラス基板（被処理物）
１ プラズマ処理装置
１０ ステージ
１ａ 処理通路
２０ 処理ヘッド
２０ａ 処理ヘッド内部空間
２１ 筐体
２２ 固体誘電体板
２２ｂ 周壁
２３ 高圧電極
２３ａ 雌ネジ孔
２３ｂ テーパ面（案内面）
２３ｃ 冷却路
２４ 電極規制部材
２４ａ 電極規制部
３０ 離間支持手段
３１ ホルダ
３１ａ ホルダ本体
３１ｂ ガイド部
３１ｃ ベースフランジ
３１ｄ 段差（進出規制部）
３２ 連結部材（離間支持手段）
３２ａ 雄ネジ
３２ｂ フランジ
３３ つまみ
３４ シール部材
３５ 圧縮コイルばね（付勢手段）

Claims (10)

1. 処理ガスをプラズマ化して被処理物の表面に接触させ、該表面を処理する装置において、
   一側部が開放された筐体と、
   前記開放側部を塞ぐようにして、前記筐体に支持された固体誘電体の板と、
   前記筐体の内部に収容された前記プラズマ化のための電極と、
   前記電極を、前記固体誘電体板から離間させて支持可能かつこの離間支持を解除可能な離間支持手段と、
   を備え、前記離間支持の解除状態における前記電極が、前記固体誘電体板に沿う一方向へ略フリーな状態で前記固体誘電体板に当接されることを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 前記電極を、前記離間支持の解除状態のとき、前記固体誘電体板に弾性的に押し付ける付勢手段を、更に備えたことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. 前記離間支持手段が、前記筐体の前記開放側部とは反対側から前記電極に向けて伸び、先端が前記電極と連結可能な連結部材を含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
4. 前記連結部材が、前記電極を引き寄せるようにして連結することを特徴とする請求項３に記載のプラズマ処理装置。
5. 前記連結部材の先端部に、前記電極との連結のためのネジが形成されていることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理装置。
6. 前記連結部材が、その伸び方向に沿って進退可能であることを特徴とする請求項３〜５の何れかに記載のプラズマ処理装置。
7. 前記離間支持手段が、前記離間支持の解除状態のとき、前記連結部材をその先端方向へ付勢し前記電極に押し当てる付勢手段を含むことを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理装置。
8. 前記離間支持手段が、前記連結部材の先端方向への進出を規制する進出規制部を含み、前記連結部材が、前記進出を規制された状態で前記電極を離間支持することを特徴とする請求項６又は７に記載のプラズマ処理装置。
9. 前記筐体の底部が開放されて、そこに前記固体誘電体板が設けられており、この固体誘電体板の上方に前記電極が配置されていることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のプラズマ処理装置。
10. 前記電極が前記フリーな方向に延びる長尺状をなしていることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載のプラズマ処理装置。

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