JP2008151518A - 試料測定装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】試料の大きさに影響されない低転送倍率の試料測定装置を提供することである。
【解決手段】エネルギ線EBを試料Wに照射することにより生じる光CLを測定する試料測定装置1であって、試料Wを収容する試料収容部2と、前記試料収容部2内の試料Wにエネルギ線EBを照射するエネルギ線照射部3と、前記エネルギ線EBが照射された試料Wから生じる光CLを集光する集光ミラー41と、前記集光ミラー41により集光された光CLを受光して、前記試料収容部2外に伝送する光ファイバ42と、を備え、前記光ファイバ42が、前記試料収容部2内において、前記集光ミラー41に近い支持部42aと、前記集光ミラー41から遠い支持部42bとで支持されている。
【選択図】図1
【解決手段】エネルギ線EBを試料Wに照射することにより生じる光CLを測定する試料測定装置1であって、試料Wを収容する試料収容部2と、前記試料収容部2内の試料Wにエネルギ線EBを照射するエネルギ線照射部3と、前記エネルギ線EBが照射された試料Wから生じる光CLを集光する集光ミラー41と、前記集光ミラー41により集光された光CLを受光して、前記試料収容部2外に伝送する光ファイバ42と、を備え、前記光ファイバ42が、前記試料収容部2内において、前記集光ミラー41に近い支持部42aと、前記集光ミラー41から遠い支持部42bとで支持されている。
【選択図】図1
Description
この発明は、エネルギ線を試料に照射することにより生じる光を測定する試料測定装置に関するものである。
この種の試料測定装置には、エネルギ線である電子線を試料(サンプル)に照射することにより試料から生じる蛍光(カソードルミネッセンス)を用いて、試料の微小領域における物性評価や半導体素子の解析を行うカソードルミネッセンス測定装置がある。
そして、このものは、特許文献1に示すように、試料から生じる蛍光を集光ミラーにより集光し、その集光した光を試料収容部の側壁に固定した光ファイバに導く構造となっている。
しかしながら、試料が大きくなればなるほど、測定時の試料の移動範囲も大きくなり、その移動範囲以上に試料収容部を大きくしなくてはならない。その結果、試料収容部の側壁に設けられた光ファイバと集光ミラーとの距離が長くなってしまい、作動距離(WD)を可及的に小さくしなければならないという制約の下では、転送倍率が低下してしまうという問題がある。
また、光ファイバを試料収容部内に延出させるように側壁に固定して、転送倍率を向上させることも考えられるが、光ファイバを試料収容部の側壁に固定する際に、その光入射端面(受光面)を、集光ミラーの焦点に調節する必要があり、組み立て及びメンテナンス等が極めて難しいという問題がある。
特開2005−5056号
そこで本発明は、試料の大きさに影響されない低転送倍率の試料測定装置を提供することをその主たる所期課題とするものである。
すなわち本発明に係る試料測定装置は、エネルギ線を試料に照射することにより生じる光を測定する試料測定装置であって、試料を収容する試料収容部と、前記試料収容部内の試料にエネルギ線を照射するエネルギ線照射部と、前記エネルギ線が照射された試料から生じる光を集光する集光ミラーと、前記集光ミラーにより集光された光を受光して伝送する光伝達部材と、を備え、前記光伝達部材が、前記試料収容部内において、前記光伝達部材に沿って、前記集光ミラーに近い部分と、前記集光ミラーから遠い部分とで支持されていることを特徴とする。ここで、「試料収容部」とは、試料が収容される空間と、その空間を囲む壁を含む概念である。
このようなものであれば、試料収容部内において光伝達部材を2箇所で支えているので、光伝達部材の固定位置が試料収容部の壁部により制限されることが無く、試料の大きさに関係なく、光伝達部材と集光ミラーとの距離を小さくすることができ、低転送倍率を実現することができるようになる。また、光伝達部材を2箇所で支えることにより、光学設計の自由度が増し、光伝達部材と集光ミラーとの最適な配置を簡単に実現することができるようになる。
ここで、「転送倍率」=(光伝達部材の受光面の径)/(試料上測定できる発光領域の径)≒(集光ミラーから光伝達部材の受光面までの距離)/(集光ミラーから試料表面までの距離)である。つまり、受光面の径が予め決められたものでは、試料上の測定領域はできるだけ大きい方が良いので、理想的な転送倍率は、1/∞、すなわちゼロとなる。集光ミラーと試料表面との距離を長くすると、電子顕微鏡の解像度が悪くなってしまう。そこで、電子顕微鏡の解像度を保ったまま、転送倍率を小さくするためには、集光ミラーと光伝達部材の受光面との距離を小さくすることを要する。
上記効果を一層顕著にするためには、前記集光ミラーに近い部分が、前記試料収容部における壁部に設けた保持駆動機構により支持されており、前記集光ミラーから遠い部分が、前記壁部に固定支持されていることが望ましい。これならば、光伝達部材、エネルギ線照射部及び集光ミラーをユニット化することや、装置の小型化といった効果も得ることができる。
このように構成した本発明によれば、試料の大きさに影響されない低転送倍率の試料測定装置を提供することできる。
以下に、本発明の試料測定装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。なお、図1は、本実施形態に係る試料測定装置1の模式的構成図であり、図2は、試料測定装置1の集光ミラー41及び光ファイバ42を主として示す拡大断面模式図である。なお、以下において、X方向とは、図1等において左右方向であり、Y方向とは、図1等において紙面に垂直な方向であり、Z方向とは、図1等において上下方向である。
<装置構成>
本実施形態に係る試料測定装置1は、エネルギ線である電子線EBを半導体ウエハ等の試料Wに照射することにより試料Wから生じるカソードルミネッセンスCLを用いて、試料Wの微小領域における物性評価や半導体素子の解析を行うもの、いわゆるカソードルミネッセンス測定装置である。
本実施形態に係る試料測定装置1は、エネルギ線である電子線EBを半導体ウエハ等の試料Wに照射することにより試料Wから生じるカソードルミネッセンスCLを用いて、試料Wの微小領域における物性評価や半導体素子の解析を行うもの、いわゆるカソードルミネッセンス測定装置である。
具体的に、このものは、図1に示すように、試料Wを収容する試料収容部2と、その試料収容部2内に収容された試料Wにエネルギ線である電子線EBを照射するエネルギ線照射部たる電子線照射装置3と、電子線EBの照射によって試料Wから発生するカソードルミネッセンスCLを分光し、検出する光検出部たる検出装置4と、その検出装置4からの出力信号を受信し、前記試料Wを評価等(例えば応力測定)するために所定の演算処理を行う情報処理装置5と、を備えている。
以下、各部2〜5について説明する。
試料収容部2は、電子線EBが照射される測定対象の試料W(サンプル)を収容するものであり、試料Wが載置される試料台201と、当該試料台201をXYZ方向に駆動する駆動機構(図示しない)とを備えている。そして、試料収容部2は、試料のXY方向への移動を制限する側壁部22と、その側壁部22の一方の開口を閉塞して、試料Wの測定対象面と対向する上壁部21と、前記側壁部22の他方の開口を閉塞して、試料Wの裏面(測定対象面とは反対面)と対向する底壁部23と、それら壁21〜23に囲まれた空間から形成されている。
電子線照射装置3は、例えば熱電界放出型の電子銃31と、電子銃31から射出された電子線EBを試料Wの所定部位に収束させるレンズ機構及び電子線EBを走査させるための走査機構等からなる電子線制御機構32と、電子銃31及び電子線制御機構32を内部に有する鏡筒33と、を備えている。鏡筒33の下端部には、前記試料収容部2の上壁部21が連続して設けられている。
検出装置4は、集光ミラー41、光ファイバ42、分光部43及びセンシング部44を備えたものである。
集光ミラー41は、鏡筒33及び試料Wの間に設けられ、試料Wから発生するカソードルミネッセンスCLを最小限の損失で集め光ファイバ42に導くものであり、鏡筒33で収束された電子線EBを通過させ、その電子線EBを試料Wに照射するためのエネルギ線通路と、その通路の軸線上に焦点Fが設定されたミラー面とを有するものである。そして、本実施形態の集光ミラー41は、鏡筒33に固定されて鏡筒33と一体をなす構成としている。ミラー面は、放物面鏡又は楕円面鏡などが考えられるが本実施形態では楕円面鏡を用いている。
光ファイバ42は、その先端部分が、測定対象面と対向する壁の測定対象面に最も近い点を通る測定対象面に平行な平面(本実施形態では、上壁部21の下面)を横切るように、試料収容部2内に導入されて、受光面である先端面が集光ミラー41の焦点に配置されるとともに、後端部分が分光部43に接続されている。そして、集光ミラー41により集光されたカソードルミネッセンスCLを分光部43に転送するものである。本実施形態では、光ファイバ42は、試料収容部2内において、収容管であるベローズ管421内に収容され、ベローズ管421とともに光伝達部材を構成している。そして、ベローズ管421の先端部に設けられた透光窓を介して、カソードルミネッセンスCLを受光する。
分光部43は、前記集光ミラー41で集光されたカソードルミネッセンスCLを単色光に分離するもので、例えばモノクロメータを利用して構成している。センシング部44は、光検出部であり、前記分光部43で波長毎に複数に分光された各単色光の強度をそれぞれ測定し、各単色光の強度に応じた値の電流値(又は電圧値)を有する出力信号を出力するものである。
情報処理装置5は、構造としては、CPU、メモリ、入出力インターフェイス、AD変換器、入力手段等からなる汎用又は専用のコンピュータである。そして、前記メモリの所定領域に格納してあるプログラムに基づいてCPUやその周辺機器が作動することにより、この情報処理装置5が、前記検出装置4からの出力信号を受信し、走査した各測定ポイントでの応力等を算出する。
しかして、本実施形態の試料測定装置1は、図2に示すように、前記光ファイバ42が、試料収容部2内において、光ファイバ42に沿って、集光ミラー41に近い部分42a(以下、「第1支持部42a」という。)と、集光ミラー41から遠い部分42b(以下「第2支持部42b」という。)との2箇所で支持されている。具体的に光ファイバ42は、試料収容部2の上壁部21及び試料収容部2内の空間において支持されている。
第1支持部42aは、光ファイバ42の先端部分であり、試料収容部2内の空間に配置されるように、電子線照射装置3が配設される壁(本実施形態では、上壁部21)に設けられた保持駆動機構6により支持されている。
第2支持部42bは、光ファイバ42において、試料収容部2の上壁部21に設けられた挿入孔に嵌合している部分であり、上壁部21に直接固定支持されている。より詳細には、上壁部21に別体に設けられたファイバ固定部材211の取付孔211aに光ファイバ42を固定して、このファイバ固定部材211を上壁部21に固定することにより、光ファイバの第2支持部42bが上壁部21に支持されることになる。なお、本実施形態では、光ファイバ42は、ベローズ管421に収容されているので、ベローズ管421を取付孔211aに溶接などにより気密に固定している。
保持駆動機構6は、真空中において保持駆動可能なものであり、前記光ファイバ42の第1支持部42aを試料収容部2内において支持するとともに、XYZ方向に駆動させて、その受光面を集光ミラー41の焦点に調節するものであり、把持部611を先端に有する駆動アーム61と、その駆動アーム61をXYZ方向に駆動する駆動部62とを備えている。
駆動アーム61は、上壁部21に形成された挿通孔に挿入されて、試料収容部2の空間内に延びるものである。その挿通孔の径は、駆動アーム61のXYZ方向への駆動を可能とするため、駆動アーム61の断面径よりも大きく形成されている。駆動アーム61の基端部には、上壁部21の上面と気密を保ちながら、駆動アーム61のXYZ方向への移動を可能とする可動部材612が設けられている。可動部材612の下面と上壁部21の上面との間にシール部材としてOリングが設けられている。そして、可動部材612は、駆動アーム61がXY方向に移動するときは、駆動アーム61とともに気密を保ちながらXY方向に移動し、駆動アーム61がZ方向に移動するときには、Z方向には移動せず、駆動アーム61の側周面との間に設けられたOリングにより気密を担保している。
<本実施形態の効果>
このように構成した本実施形態に係る試料測定装置1によれば、光ファイバ42を試料収容部2内で2点で支持しているので、試料Wの移動範囲と無関係であり、集光ミラー41と光ファイバ42先端面との位置を短く保つことができ、試料の大きさに関係なく、カソードルミネッセンス測定の低転送倍率を実現することができる。そして、転送倍率を小さくすることができることにより、光ファイバ42の取り付け誤差による測定誤差を可及的に小さくすることができる。また、光学設計の自由度が増し、光ファイバ42と集光ミラー41との最適な光学配置を実現することができる。
このように構成した本実施形態に係る試料測定装置1によれば、光ファイバ42を試料収容部2内で2点で支持しているので、試料Wの移動範囲と無関係であり、集光ミラー41と光ファイバ42先端面との位置を短く保つことができ、試料の大きさに関係なく、カソードルミネッセンス測定の低転送倍率を実現することができる。そして、転送倍率を小さくすることができることにより、光ファイバ42の取り付け誤差による測定誤差を可及的に小さくすることができる。また、光学設計の自由度が増し、光ファイバ42と集光ミラー41との最適な光学配置を実現することができる。
光ファイバ42の第1支持部を保持駆動機構6により調節することができるので、組み立て及びメンテナンス時の、光ファイバ42の受光面の、集光ミラー41の焦点への調節が極めて簡単になる。
第1支持部42a、第2支持部42bを試料収容部2内に配設するために、上壁部21に設けた取付孔211aと電子線照射装置3を試料収容部2内に配設するために上壁部21に設けた取付部(本実施形態では、上壁部21のうち、電子線照射装置3が取り付けられている部分)との相対的な位置が固定してあるので、試料収容部2の大きさが変化しても、同じ光学配置を用いることができる。
さらに、光ファイバ42が、試料収容部2の上壁部21から導入されるとともに、その上壁部21に設けられた保持駆動機構6により支持されているので、試料収容部2の側壁部22と上壁部21とを分離して、その上壁部21、電子線照射装置3及び集光ミラー41をユニット化することができ、半導体ウエハ等の試料Wのサイズに関係無く、同一のユニットを用いることができるようになる。これにより、カソードルミネッセンス測定に最適な光学配置を、そのユニットのみにより担保することができ、あらゆる大きさの試料Wであっても高精度な測定が可能となる。さらに、上壁部21を側壁部22よりも厚くした試料収容部2があるが、このようなものに対して、側壁部22から光ファイバ42を導入しようとすれば、側壁部22を補強部材により補強する必要があるが、本実施形態のように上壁部21から導入することにより、必ずしも補強部材を必要としない。
<その他の変形実施形態>
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。以下の説明において前記実施形態に対応する部材には同一の符号を付すこととする。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。以下の説明において前記実施形態に対応する部材には同一の符号を付すこととする。
例えば、図3に示すように、上壁部21に突設部212を設け、その外側壁212aから光伝達部材を導入するようにしても良い。このようなものであれば、光伝達部材を壁に対して垂直に導入することができるので、導入しやすくなり、溶接などの封止も行いやすくすることができる。
例えば、前記実施形態では、光ファイバ42の第1支持部42aが、保持駆動機構6により支持されているが、その他、図4に示すように、光ファイバ42の第1支持部42aを集光ミラー41又は鏡筒33に直接固定するようにしても良い。具体的には、光ファイバ42を収容しているベローズ管421の先端側周面に設けた固定部材7を集光ミラー41又は鏡筒33に固定する。
また、前記実施形態では、集光ミラー41は、鏡筒33に取り付けられ、一体をなすものであったが、これに限定されず、鏡筒33と別体をなすものであり、試料収容部2内に固定されるものであっても良い。
さらに、前記実施形態では、光ファイバ42の第2支持部42bが、上壁部21に固定支持されているが、その他、光ファイバ42を側壁部22から試料収容部2内に導入して、その側壁部22に固定支持させるようにしても良い。この場合、試料Wの移動を妨げないよう、側壁部22において、試料Wよりも上方に設けることが望ましい。
加えて、前記実施形態では、光ファイバを試料収容部2の上壁部及び保持駆動機構により2箇所で支持するものであったが、その他、3箇所以上で支持するようにしても良い。
さらに加えて、試料収容部2の側壁部22と上壁部21とを分離して、その上壁部21、電子線照射装置3及び集光ミラー41をユニット化しても良い。これにより、試料サイズよりも小さいユニットを用いてカソードルミネッセンス測定を行うことが可能となる。
その上、前記実施形態ではセンシング部44をフォトマルチプライヤ(PMT)を用いて構成しているが、測定する波長領域によって使用する機器を変えても構わない。例えば赤外(1μm〜)においては、Ge検出器、Pbs検出器、赤外PMT等を用いることが好ましい。また、光−電子変換効率、ダイナミックレンジ、S/Nに優れているといったことからCCDを利用してもよい。CCDによればスペクトルの一括検出も可能である。
その他、前述した実施形態や変形実施形態の一部又は全部を適宜組み合わせてよいし、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
1 ・・・試料測定装置
W ・・・試料
EB ・・・エネルギ線(電子線)
CL ・・・光(カソードルミネッセンス)
2 ・・・試料収容部
21 ・・・上壁部
22 ・・・側壁部
3 ・・・エネルギ線照射部(電子線照射装置)
31 ・・・電子銃
32 ・・・電子線制御機構
33 ・・・鏡筒
4 ・・・検出装置
41 ・・・集光ミラー
42 ・・・光ファイバ
42a・・・集光ミラーに近い部分(第1支持部)
42b・・・集光ミラーから遠い部分(第2支持部)
5 ・・・情報処理装置
6 ・・・保持駆動機構
W ・・・試料
EB ・・・エネルギ線(電子線)
CL ・・・光(カソードルミネッセンス)
2 ・・・試料収容部
21 ・・・上壁部
22 ・・・側壁部
3 ・・・エネルギ線照射部(電子線照射装置)
31 ・・・電子銃
32 ・・・電子線制御機構
33 ・・・鏡筒
4 ・・・検出装置
41 ・・・集光ミラー
42 ・・・光ファイバ
42a・・・集光ミラーに近い部分(第1支持部)
42b・・・集光ミラーから遠い部分(第2支持部)
5 ・・・情報処理装置
6 ・・・保持駆動機構
Claims (2)
- エネルギ線を試料に照射することにより生じる光を測定する試料測定装置であって、
試料を収容する試料収容部と、
前記試料収容部内の試料にエネルギ線を照射するエネルギ線照射部と、
前記エネルギ線が照射された試料から生じる光を集光する集光ミラーと、
前記集光ミラーにより集光された光を受光して伝送する光伝達部材と、を備え、
前記光伝達部材が、前記試料収容部内において、前記集光ミラーに近い支持部と、前記集光ミラーから遠い支持部とで支持されている試料測定装置。 - 前記集光ミラーに近い支持部が、前記試料収容部における壁部に設けた保持駆動機構により支持されており、
前記集光ミラーから遠い支持部が、前記壁部に固定支持されている請求項1記載の試料測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006336712A JP2008151518A (ja) | 2006-12-14 | 2006-12-14 | 試料測定装置 |
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JP2006336712A JP2008151518A (ja) | 2006-12-14 | 2006-12-14 | 試料測定装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010212233A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-09-24 | Univ Of Tokyo | 透過型電子顕微鏡 |
-
2006
- 2006-12-14 JP JP2006336712A patent/JP2008151518A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010212233A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-09-24 | Univ Of Tokyo | 透過型電子顕微鏡 |
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