JP2008142805A - Grinding wheel, grinding wheel pellet and manufacturing method of optical element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily judge a life span of a grinding wheel. <P>SOLUTION: An abrasive grain part 20 is constituted of an intermediate layer 21 and an abrasive grain layer 22 formed on an upper surface of the intermediate layer 21. The intermediate layer 21 is formed by nickel electroless plating containing PTFE particles 21a having high lubricating ability and the abrasive grain layer 22 is formed by electroless nickel plating containing diamond abrasive grains 22a. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は研削用砥石、砥石ペレット及び光学素子の製造方法に関する。   The present invention relates to a grinding wheel, a grinding stone pellet, and an optical element manufacturing method.

めっき皮膜を結合材とした研削用砥石は、台皿と、台皿の表面に砥粒を含有するめっきで形成された砥粒層とからなる。   A grinding wheel using a plating film as a binder includes a base plate and an abrasive layer formed by plating containing abrasive grains on the surface of the base plate.

この研削用砥石はレジンボンド砥石やメタルボンド砥石と同様にレンズ等の被加工物の研削、研磨に用いられる。研削、研磨によって砥粒層は次第に摩耗し、台皿の表面が露出した時点で砥石寿命が尽きる。   This grinding wheel is used for grinding and polishing a workpiece such as a lens, like a resin bond grindstone and a metal bond grindstone. The abrasive layer gradually wears due to grinding and polishing, and the wheel life is exhausted when the surface of the platform is exposed.

また、レジンボンドやメタルボンドを結合材とした砥石は台皿の表面に貼り付けられ、その台皿の表面の一部は露出している(特開平10−249734号公報参照)ため、砥石の摩耗を目視で判断することができる。
特開平10−249734号公報
In addition, a grindstone using a resin bond or a metal bond as a binder is attached to the surface of the base plate, and a part of the surface of the base plate is exposed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-249734). Wear can be judged visually.
JP-A-10-249734

しかし、めっき皮膜を結合材とした研削用砥石では、台皿上の表面全体に砥粒層が積層されているため、砥石の寿命を目視で判断することは難しい。被加工物の研削、研磨加工が完了した時点で台皿(基体)の表面が露出すれば被加工物の表面を傷つけることはないが、加工の途中で台皿の表面が露出すると、被加工物の表面に深い傷を付けたり、被加工物が割れたりする。また、台皿自体にも傷がつくため、台皿の再使用が不可能になることがある。   However, in a grinding wheel using a plating film as a binder, the abrasive grain layer is laminated on the entire surface of the platen, so it is difficult to visually determine the life of the grinding wheel. If the surface of the tray (base) is exposed when the workpiece is ground or polished, the surface of the workpiece will not be damaged, but if the surface of the tray is exposed during processing, The surface of the object is deeply scratched or the workpiece is cracked. In addition, since the base plate itself is damaged, the base plate may not be reused.

この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題は砥石の寿命を容易に判断することができるようにすることである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to make it possible to easily determine the life of a grindstone.

上記課題を解決するため請求項1記載の発明は、台皿と、前記台皿の表面にめっきで形成され、固体潤滑剤を含有する中間層と、前記中間層の表面にめっきで形成され、砥粒を含有する砥粒層とを備えていることを特徴とする研削用砥石である。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention of claim 1 is formed by plating on the surface of the platform, the surface of the platform, the intermediate layer containing a solid lubricant, and formed on the surface of the intermediate layer by plating. A grinding wheel comprising an abrasive grain layer containing abrasive grains.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の研削用砥石において、前記固体潤滑剤はPTFE粒子であることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the grinding wheel according to the first aspect, the solid lubricant is PTFE particles.

請求項3記載の発明は、請求項1又は2記載の研削用砥石において、前記中間層、砥粒層は無電解めっき法で形成されることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the grinding wheel according to the first or second aspect, the intermediate layer and the abrasive layer are formed by an electroless plating method.

請求項4記載の発明は、請求項1〜3のいずれか1項記載の研削用砥石を用いることを特徴とする光学素子の製造方法である。   A fourth aspect of the present invention is a method of manufacturing an optical element using the grinding wheel according to any one of the first to third aspects.

請求項5記載の発明は、基体と、前記基体の表面にめっきで形成され、固体潤滑剤を含有する中間層と、前記中間層の表面にめっきで形成され、砥粒を含有する砥粒層とを備えていることを特徴とする砥石ペレットである。   The invention according to claim 5 is a substrate, an intermediate layer formed by plating on the surface of the substrate and containing a solid lubricant, and an abrasive layer formed by plating on the surface of the intermediate layer and containing abrasive grains It is provided with the following.

請求項6記載の発明は、台皿と、この台皿に固定された複数の請求項5記載の砥石ペレットとを備えていることを特徴とする研削用砥石である。   The invention described in claim 6 is a grinding wheel characterized by comprising a base plate and a plurality of wheel stone pellets according to claim 5 fixed to the base plate.

請求項7記載の発明は、請求項5又は6記載の研削用砥石を用いることを特徴とする光学素子の製造方法である。   A seventh aspect of the present invention is a method of manufacturing an optical element using the grinding wheel according to the fifth or sixth aspect.

この発明によれば、砥石の寿命を容易に判断することができる。   According to this invention, the life of the grindstone can be easily determined.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1はこの発明の一実施形態に係る研削用砥石の断面を示す概念図である。   FIG. 1 is a conceptual diagram showing a cross section of a grinding wheel according to an embodiment of the present invention.

研削用砥石1は、台皿10と、図示しないレンズを研削する砥粒部20とからなる。   The grinding wheel 1 includes a base plate 10 and an abrasive grain portion 20 for grinding a lens (not shown).

研削用砥石1は例えば台皿10の軸部11を中心として回転し、レンズや光学素子等の被加工物を研削する。軸部11にはモータ(図示せず)の軸のおねじ部を螺合させるためのめねじ部11aが形成されている。   For example, the grinding wheel 1 rotates around the shaft portion 11 of the base plate 10 to grind a workpiece such as a lens or an optical element. The shaft portion 11 is formed with a female screw portion 11a for screwing a male screw portion of a shaft of a motor (not shown).

台皿10の材料としては機械的な剛性が高い金属が適している。具体的な材料としては、めっきの前処理が容易な鉄、黄銅、アルミニウム、ステンレス鋼等がある。無電解めっきを用いて後述する中間層21を形成する場合には、台皿10に何らの触媒の付与を必要とせず、台皿10そのものが触媒となって無電解めっきが析出する鉄が特に適している。なお、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、ポリアミド、PPS(ポリフェニレンサルファイド)等のプラスチック樹脂材を用いてもよい。   A metal having high mechanical rigidity is suitable as a material for the tray 10. Specific examples of the material include iron, brass, aluminum, and stainless steel that can be easily pretreated for plating. In the case of forming an intermediate layer 21 to be described later using electroless plating, it is not particularly necessary to apply any catalyst to the base plate 10, and iron in which the base plate 10 itself becomes a catalyst and electroless plating is deposited is particularly preferable. Is suitable. In addition, you may use plastic resin materials, such as PEEK (polyetheretherketone), polyamide, and PPS (polyphenylene sulfide).

台皿10の表面10aは加工するレンズや光学素子の仕上がり形状に対応した形状になっている。本実施形態では台皿10の表面10aは平面形状の光学素子に対応した形状になっている。   The surface 10a of the tray 10 has a shape corresponding to the finished shape of the lens or optical element to be processed. In this embodiment, the surface 10a of the base plate 10 has a shape corresponding to a planar optical element.

砥粒部20は中間層21と中間層21の上面に形成された砥粒層22とで構成されている。   The abrasive grain portion 20 includes an intermediate layer 21 and an abrasive grain layer 22 formed on the upper surface of the intermediate layer 21.

中間層21にはPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)粒子(固体潤滑剤)21aが含有している。PTFE粒子21aの摩擦係数は非常に低く、氷以下である。また、動摩擦係数よりも静摩擦係数の方が低く、高荷重、低速ではグラファイト、二硫化モリブデン等の他の固体潤滑剤よりも低い摩擦係数(0.04)を示す。中間層21は無電解めっきで形成される。   The intermediate layer 21 contains PTFE (polytetrafluoroethylene) particles (solid lubricant) 21a. The coefficient of friction of the PTFE particles 21a is very low and below ice. In addition, the coefficient of static friction is lower than the coefficient of dynamic friction, and the coefficient of friction (0.04) is lower than that of other solid lubricants such as graphite and molybdenum disulfide at high loads and low speeds. The intermediate layer 21 is formed by electroless plating.

砥粒層22は中間層21を覆う。砥粒層22はダイヤモンド砥粒(砥粒)22aを含有する。この砥粒層22は無電解メッキで形成される。   The abrasive layer 22 covers the intermediate layer 21. The abrasive grain layer 22 contains diamond abrasive grains (abrasive grains) 22a. The abrasive layer 22 is formed by electroless plating.

次に、この研削用砥石1の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the grinding wheel 1 will be described.

図2(a)〜(e)は製造工程を説明する図である。   2A to 2E are diagrams for explaining the manufacturing process.

まず、台皿10を電解水で洗浄する。なお、台皿10の直径は220mmである。また、台皿10の材料としてステンレス鋼を用いた(図2(a)参照)。   First, the tray 10 is washed with electrolyzed water. In addition, the diameter of the base plate 10 is 220 mm. Moreover, stainless steel was used as the material of the base plate 10 (see FIG. 2A).

次に、台皿10の裏面部にマスキング治具(図示せず)を取り付けてマスキング30を行う(図2(b)参照)。   Next, a masking jig (not shown) is attached to the back surface of the base plate 10 to perform masking 30 (see FIG. 2B).

次に、台皿10をアルカリ系水溶液に漬け、アルカリ系水溶液のけん化作用による脱脂(指紋、油脂等の有機物や静電作用によって付着した塵等の付着物を除去)と、酸による活性化処理を順次行う。   Next, the plate 10 is dipped in an alkaline aqueous solution, degreased by the saponification action of the alkaline aqueous solution (removal of organic matter such as fingerprints and oils and dust attached due to electrostatic action), and activation treatment with acid Are performed sequentially.

その後、塩酸と塩化パラジウムとを主成分とするパラジウム置換液に60秒間漬け、無電解めっきを円滑に行うための触媒層としてパラジウム層を台皿10の表面10aに形成する。なお、黄銅の場合も同様である。また、アルミニウムの場合には、亜鉛置換液に台皿10を漬け、触媒となる亜鉛層を台皿10の表面10aに形成する。なお、触媒性を有する鉄の場合には、この触媒層形成の処理は省略される。   Thereafter, it is soaked in a palladium replacement solution containing hydrochloric acid and palladium chloride as main components for 60 seconds, and a palladium layer is formed on the surface 10a of the tray 10 as a catalyst layer for smoothly performing electroless plating. The same applies to brass. Moreover, in the case of aluminum, the base plate 10 is immersed in a zinc substitution liquid, and the zinc layer used as a catalyst is formed in the surface 10a of the base plate 10. FIG. In the case of iron having catalytic properties, this catalyst layer forming process is omitted.

次に、台皿10をPTFE粒子21aを含む無電解ニッケルめっき液40aに漬け、無電解めっきによって台皿10の表面10aにニッケルめっき皮膜を形成する。このニッケルめっき皮膜が中間層21となる。   Next, the platen 10 is dipped in an electroless nickel plating solution 40a containing PTFE particles 21a, and a nickel plating film is formed on the surface 10a of the platen 10 by electroless plating. This nickel plating film becomes the intermediate layer 21.

無電解ニッケルめっき液40aには、分散剤を含めて1リットル当たり4.5gのPTFE粒子21aが投入されている。所定量(例えば20vol%)のPTFE粒子21aが無電解ニッケルめっき液40a中に均一に分布するように、攪拌機41の攪拌条件が設定されている。90℃に加熱されためっき液40aに1時間漬けたとき、厚さ10μmのニッケルめっき皮膜が形成された(図2(c)参照)。   The electroless nickel plating solution 40a is charged with 4.5 g of PTFE particles 21a per liter including a dispersant. The stirring conditions of the stirrer 41 are set so that a predetermined amount (for example, 20 vol%) of PTFE particles 21a is uniformly distributed in the electroless nickel plating solution 40a. When immersed in a plating solution 40a heated to 90 ° C. for 1 hour, a nickel plating film having a thickness of 10 μm was formed (see FIG. 2C).

PTFE粒子21を含有する無電解めっき液40aは、例えばニムロン(上村工業株式会社製)やカニフロン(日本カニゼン株式会社製)である。   The electroless plating solution 40a containing the PTFE particles 21 is, for example, Nimron (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) or Kaniflon (manufactured by Nippon Kanisen Co., Ltd.).

その後、超音波洗浄装置(図示せず)と浸漬による水洗を行い、台皿10と治具とに付着したPTFE粒子21aを除去する。   Thereafter, ultrasonic cleaning (not shown) and water washing by immersion are performed to remove the PTFE particles 21a adhering to the base plate 10 and the jig.

次に、台皿10をダイヤモンド砥粒22aを含む無電解ニッケルめっき液40bに漬け、無電解めっきによって中間層21の表面にニッケルめっき皮膜を形成する。   Next, the platen 10 is immersed in an electroless nickel plating solution 40b containing diamond abrasive grains 22a, and a nickel plating film is formed on the surface of the intermediate layer 21 by electroless plating.

無電解ニッケルめっき液40bには、粒径2.0〜4.0μmのダイヤモンド砥粒22aが1リットル当たり0.1g投入されている。所定量(例えば10vol%)のダイヤモンド砥粒22aが無電解ニッケルめっき液40b中に均一に分布するように、攪拌機41の攪拌条件が設定されている。90℃に加熱されためっき液に2時間漬けたとき、厚さ30μmのニッケルめっき皮膜が形成された(図2(d)参照)。このニッケルめっき皮膜が砥粒層22となる。   The electroless nickel plating solution 40b is charged with 0.1 g of diamond abrasive grains 22a having a particle size of 2.0 to 4.0 μm per liter. The stirring conditions of the stirrer 41 are set so that a predetermined amount (for example, 10 vol%) of diamond abrasive grains 22a is uniformly distributed in the electroless nickel plating solution 40b. When immersed in a plating solution heated to 90 ° C. for 2 hours, a nickel plating film having a thickness of 30 μm was formed (see FIG. 2D). This nickel plating film becomes the abrasive grain layer 22.

その後、台皿10を無電解ニッケルめっき液40bから取り出し、水洗した後、乾燥し、マスキング30を除去する。その結果、研削砥石1が完成する(図2(e)参照)。   Thereafter, the tray 10 is taken out from the electroless nickel plating solution 40b, washed with water, and then dried to remove the masking 30. As a result, the grinding wheel 1 is completed (see FIG. 2 (e)).

次に、研削砥石1による加工実験を行い、中間層21の効果を確認した。   Next, a processing experiment using the grinding wheel 1 was performed, and the effect of the intermediate layer 21 was confirmed.

石英で形成された直径270mmの平面レンズを被加工物として用いた。加工条件は以下の通りである。
研削装置:舘野製楕円運動型
研削条件 砥石回転数:300rpm
レンズ回転数:50rpm
ゲージ圧力:0.2MPa
研削液:水溶性タイプの研削原液を水で希釈した
研削濃度 原液:水=1:3
A plane lens made of quartz and having a diameter of 270 mm was used as a workpiece. The processing conditions are as follows.
Grinding device: Ogino Elliptical Motion Grinding conditions Grinding wheel rotation speed: 300rpm
Lens rotation speed: 50 rpm
Gauge pressure: 0.2 MPa
Grinding fluid: water-soluble grinding stock solution diluted with water Grinding concentration Stock solution: water = 1: 3

以上の条件で1分間ずつ加工したときの被加工物の摩耗量と研削砥石1の表面とを調べた。加工開始から15分間加工したときの1分間当たりの被加工物の平均摩耗量は30μmであった。また、16分間加工したときのときの1分間当たりの被加工物の平均摩耗量は10μmであった。このとき、研削砥石1を回転させるモータ、レンズを回転させるモータに空転が発生した。なお、空転は目視によってわかる。空転が発生したとき、被加工物の表面には傷等は見られなかった。   The amount of wear of the workpiece and the surface of the grinding wheel 1 were examined when processed for 1 minute each under the above conditions. The average amount of wear of the workpiece per minute when processed for 15 minutes from the start of processing was 30 μm. Moreover, the average amount of wear of the workpiece per minute when machining for 16 minutes was 10 μm. At this time, idling occurred in the motor that rotates the grinding wheel 1 and the motor that rotates the lens. Note that idling can be visually confirmed. When idling occurred, no scratches or the like were found on the surface of the workpiece.

研削砥石1の表面を顕微鏡で観察したところ、砥粒層22は観察されず、しかも台皿10の表面10aが露出していないことから、中間層21の自己潤滑特性によって被加工物に対する研削、研磨が抑制されていることがわかった。このときを研削砥石1の寿命と判断して加工を止めればよい。   When the surface of the grinding wheel 1 is observed with a microscope, the abrasive grain layer 22 is not observed, and the surface 10a of the base plate 10 is not exposed. It was found that polishing was suppressed. Processing may be stopped by judging this time as the life of the grinding wheel 1.

この実施形態によれば、被加工物の研削加工中に砥粒層22が摩滅したとき、中間層21の自己潤滑特性によって生じたモータの空転を容易に検出することができるので、砥石の寿命を容易に判断することができる。また、空転によって台皿10自体の傷や割れを防ぐことができるので、研削砥石1(台皿10)の再使用が可能となる。   According to this embodiment, when the abrasive grain layer 22 is worn out during grinding of the workpiece, idling of the motor caused by the self-lubricating property of the intermediate layer 21 can be easily detected, so that the life of the grinding wheel Can be easily determined. Moreover, since the scratches and cracks of the plate 10 itself can be prevented by idling, the grinding wheel 1 (the plate 10) can be reused.

なお、砥粒層22の形成に電気めっきを用いる場合には、触媒層の有無は問題とならないため、水洗した後に直ちにめっき液中に投入すればよい。砥粒層22の厚さはめっき液に流れる電流量(電流×時間)(例えば、5A/100cm2、30分)によって制御可能である。また、ダイヤモンド砥粒22aの含有量の制御はめっき液に投入するダイヤモンド砥粒22aの量とスターラの攪拌条件とを一定に保つことで制御可能である。 In addition, when using electroplating for formation of the abrasive grain layer 22, since the presence or absence of a catalyst layer does not become a problem, what is necessary is just to put in a plating solution immediately after washing with water. The thickness of the abrasive layer 22 can be controlled by the amount of current flowing in the plating solution (current × time) (for example, 5 A / 100 cm 2 , 30 minutes). The content of the diamond abrasive grains 22a can be controlled by keeping the amount of the diamond abrasive grains 22a charged into the plating solution and the stirring condition of the stirrer constant.

また、上記実施形態では台皿10の表面10aに直接砥粒部20(中間層21と砥粒層22)が形成される研削砥石1を説明したが、接着剤を介して台皿10に円柱上の複数の砥石ペレット(図示せず)を貼り付けて構成される研削砥石に本願発明を適用する場合には、円柱上の砥石ペレットの表面に中間層と砥粒層とを形成すればよい。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the grinding grindstone 1 in which the abrasive grain part 20 (the intermediate | middle layer 21 and the abrasive grain layer 22) is directly formed in the surface 10a of the base plate 10, it is cylindrical on the base plate 10 via an adhesive agent. When the present invention is applied to a grinding wheel configured by attaching a plurality of grinding wheel pellets (not shown) above, an intermediate layer and an abrasive layer may be formed on the surface of the grinding wheel pellets on a cylinder. .

図1はこの発明の一実施形態に係る研削用砥石の断面を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing a cross section of a grinding wheel according to an embodiment of the present invention. 図2(a)〜(e)は製作工程を説明する図である。2A to 2E are diagrams for explaining the manufacturing process.

符号の説明Explanation of symbols

1:研削用砥石、10:台皿、21:中間層、21a:PTFE粒子(固体潤滑剤)、22:砥粒層、22a:ダイヤモンド砥粒(砥粒)。   1: grinding wheel, 10: platform, 21: intermediate layer, 21a: PTFE particles (solid lubricant), 22: abrasive layer, 22a: diamond abrasive (abrasive).

Claims (7)

台皿と、
前記台皿の表面にめっきで形成され、固体潤滑剤を含有する中間層と、
前記中間層の表面にめっきで形成され、砥粒を含有する砥粒層と
を備えていることを特徴とする研削用砥石。
A plate and
An intermediate layer formed on the surface of the platen by plating and containing a solid lubricant,
A grinding wheel comprising: an abrasive layer formed by plating on the surface of the intermediate layer and containing abrasive grains.
前記固体潤滑剤はPTFE粒子であることを特徴とする請求項1記載の研削用砥石。   2. The grinding wheel according to claim 1, wherein the solid lubricant is PTFE particles. 前記中間層、砥粒層は無電解めっき法で形成されることを特徴とする請求項1又は2記載の研削用砥石。   The grinding wheel according to claim 1 or 2, wherein the intermediate layer and the abrasive layer are formed by an electroless plating method. 請求項1〜3のいずれか1項記載の研削用砥石を用いることを特徴とする光学素子の製造方法。   A method for producing an optical element, wherein the grinding wheel according to claim 1 is used. 基体と、
前記基体の表面にめっきで形成され、固体潤滑剤を含有する中間層と、
前記中間層の表面にめっきで形成され、砥粒を含有する砥粒層と
を備えていることを特徴とする砥石ペレット。
A substrate;
An intermediate layer formed on the surface of the substrate by plating and containing a solid lubricant;
A grinding stone pellet, comprising: an abrasive layer formed by plating on the surface of the intermediate layer and containing abrasive grains.
台皿と、この台皿に固定された複数の請求項5記載の砥石ペレットとを備えていることを特徴とする研削用砥石。   A grinding grindstone comprising a base plate and a plurality of grinding stone pellets according to claim 5 fixed to the base plate. 請求項5又は6記載の研削用砥石を用いることを特徴とする光学素子の製造方法。   A method for producing an optical element, wherein the grinding wheel according to claim 5 or 6 is used.
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