JP2008141289A - Condenser microphone and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a condenser microphone capable of improving the adhesiveness between the core material of a casing substrate and a circuit board, and between the core material of the casing substrate and a top substrate, when bonding the circuit board and the top substrate to the front and the rear of the casing substrate with an adhesive, respectively, and to provide the condenser microphone. <P>SOLUTION: In the method of manufacturing the condenser microphone, a hole section 152 for a through hole is formed in a bonding region of a casing frame, and conductive patterns 24c, 24p are formed, on the front and rear of the casing frame including the inner surface of the hole section 152 and the bonding region. The hole section 152, positioned in the bonding region, is filled with an insulating synthetic resin, and the conductive pattern 24p in the bonding region is removed by etching. The top substrate and the circuit board are bonded and fixed to the bonding region, on the front and rear of the casing frame via an adhesive sheet. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は、携帯電話、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ等の機器に用いられるコンデンサマイクロホンの製造方法及びコンデンサマイクロホンに関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a condenser microphone and a condenser microphone used in devices such as a mobile phone, a video camera, and a personal computer.

従来のコンデンサマイクロホンは、例えば、音孔を有する缶状のアルミニュウムなどの円筒状の金属ケースに部品を収容した構造となっている。例えば、前記金属ケース内には、最下部品として回路基板が配置され、この回路基板上に電界効果トランジスタ等の電装品が実装されている。そして、回路基板の上に一対のスペーサに挟まれた背極が配置され、最上部には下面に金属薄板などの振動膜を接合した振動膜支持枠が設けられている。そして、前記金属ケースの下端を回路基板の下面にかしめて封止してある。そして、前記金属ケースは、コンデンサマイクロホンの電磁シールドの機能を有するようにされている。ところで、上記のようなコンデンサマイクロホンでは、部品点数が多く、組み立ての生産性が低くて製造コストがかさむ問題があった。   A conventional condenser microphone has a structure in which components are housed in a cylindrical metal case such as a can-like aluminum having a sound hole, for example. For example, a circuit board is disposed as the lowest component in the metal case, and electrical components such as field effect transistors are mounted on the circuit board. A back electrode sandwiched between a pair of spacers is disposed on the circuit board, and a vibration film support frame having a vibration film such as a metal thin plate bonded to the lower surface is provided on the top. The lower end of the metal case is caulked and sealed to the lower surface of the circuit board. The metal case has a function of electromagnetic shielding of a condenser microphone. By the way, the condenser microphone as described above has a problem that the number of parts is large, the assembly productivity is low, and the manufacturing cost is increased.

そこで、コンデンサマイクロホンを、下記の方法で製造することが提案されている(特許文献1)。この製造方法では、電界効果トランジスタ等の電装品を実装した回路基板、背極基板、スペーサ、及び振動膜を張るための筐体基板のそれぞれについて、多数の部品が格子状に縦横に並んで一体につながっているシート状の集合部材を用意し、これらの部品を集合部材のまま重ねて接合する。そして、このように得られた積層状態の集合部材は、部品が積層された構成のコンデンサマイクロホンが格子状に多数隣接してつながれている。そして、この集合部材を各製品領域間の境界線に沿ってカッターでダイシングすることにより、分割された各片をそれぞれコンデンサマイクロホンとして得ることができる。これによって一度に多数の製品を得ることができる。   Thus, it has been proposed to manufacture a condenser microphone by the following method (Patent Document 1). In this manufacturing method, a large number of parts are integrated vertically and horizontally in a grid pattern for each of a circuit board on which electrical components such as field effect transistors are mounted, a back electrode board, a spacer, and a housing board for stretching a vibration film. A sheet-like collective member connected to is prepared, and these components are overlapped and joined together with the collective member. In the laminated member thus obtained, a large number of condenser microphones having a structure in which components are laminated are connected in a grid pattern. Then, by dicing this aggregate member with a cutter along the boundary line between each product region, each of the divided pieces can be obtained as a condenser microphone. As a result, a large number of products can be obtained at one time.

前記のように積層構造で製造されるコンデンサマイクロホンにおいては、他に、例えば、筐体基板の上下両面にトップ基板及び電装品を実装する回路基板を積層するタイプのものもある。このように主に3層の基板(回路基板、筐体基板、トップ基板)から構成された積層構造のコンデンサマイクロホンでは、各基板は接着剤により互いに接着されるとともに、各基板のそれぞれに導電性のスルーホール(バイアホール)が設けられて、同スルーホールにより各基板の表裏面に設けられた銅箔等の金属層の導通を確保するようにされている。
特開2002−345092号公報
As another example of the condenser microphone manufactured in a laminated structure as described above, there is a type in which, for example, a top substrate and a circuit board on which electrical components are mounted are laminated on both upper and lower surfaces of a housing substrate. Thus, in the capacitor microphone having a laminated structure mainly composed of three layers of substrates (circuit substrate, housing substrate, and top substrate), the substrates are bonded to each other by an adhesive, and each substrate is electrically conductive. Through holes (via holes) are provided, and conduction of metal layers such as copper foil provided on the front and back surfaces of each substrate is ensured by the through holes.
JP 2002-345092 A

ところが、上記のように主に3層の基板(回路基板、筐体基板、トップ基板)から構成された積層構造のコンデンサマイクロホンでは、筐体基板の上下両面に対して回路基板とトップ基板をそれぞれ接着する際、前記金属層に対する接着剤の接着性が基板のコア材(例えば、ガラスエポキシ樹脂板)に対する接着性と比較すると大きく劣る。これは、金属層の表面は平滑度が基板のコア材よりも良いため、接着剤の接着強度が下がるためである。   However, in a capacitor microphone having a laminated structure mainly composed of three layers of substrates (circuit board, housing board, and top board) as described above, the circuit board and the top board are respectively mounted on the upper and lower surfaces of the housing board. When bonding, the adhesiveness of the adhesive to the metal layer is greatly inferior to the adhesiveness to the core material (for example, glass epoxy resin plate) of the substrate. This is because the surface of the metal layer has a smoothness better than that of the core material of the substrate, so that the adhesive strength of the adhesive is lowered.

又、このコンデンサマイクロホンを基板に実装する際のリフロー時のようにコンデンサマイクロホンに熱が印加された場合、筐体基板のコア材(例えば、ガラスエポキシ樹脂板)の熱膨張率と金属層(例えば銅箔)の熱膨張率とでは、筐体基板のコア材の方が大きいため、前記コア材が金属層を押し上げることとなる。この場合、熱印加時には、スルーホール(バイアホール)で繋がった筐体基板表裏面の金属層はコア材の膨張内圧により離れる方向に力が加わる。このため、スルーホールの強度が十分でない場合には、表裏面の金属層にクラックが入り、導通がとれなくなる虞がある。   Further, when heat is applied to the condenser microphone as in reflow when the condenser microphone is mounted on the substrate, the coefficient of thermal expansion of the core material (for example, glass epoxy resin plate) of the housing substrate and the metal layer (for example, In terms of the coefficient of thermal expansion of the copper foil, the core material of the housing substrate is larger, so the core material pushes up the metal layer. In this case, when heat is applied, a force is applied in a direction in which the metal layers on the front and back surfaces of the casing substrate connected by through holes (via holes) are separated by the expansion internal pressure of the core material. For this reason, when the strength of the through hole is not sufficient, the metal layers on the front and back surfaces are cracked, and there is a possibility that conduction cannot be obtained.

この発明の目的は、筐体基板の表裏面に対して回路基板とトップ基板をそれぞれ接着剤にて接着する際、筐体基板のコア材と回路基板、及び筐体基板のコア材とトップ基板との接着性を向上することができるコンデンサマイクロホンの製造方法及びコンデンサマイクロホンを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a core material and a circuit board for a housing substrate, and a core material and a top substrate for a housing substrate when the circuit board and the top substrate are respectively bonded to the front and back surfaces of the housing substrate with an adhesive. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a condenser microphone and a condenser microphone that can improve adhesiveness.

上記の目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、第1金属層を有する筐体基板の表裏面に接着領域を設け、該接着領域に対してそれぞれトップ基板と、電装品を搭載する回路基板とが接着剤により接着されて構成されるコンデンサマイクロホンの製造方法において、前記接着領域にスルーホール用の貫通孔を形成する第1工程と、前記貫通孔の内面及び前記接着領域を含む前記筐体基板の表裏面に第2金属層を形成する第2工程と、前記接着領域に位置する前記貫通孔に充填剤を充填する第3工程と、前記接着領域の第1及び第2金属層を除去する第4工程と、前記筐体基板の表裏面の接着領域に対して接着剤を介して前記トップ基板及び前記回路基板を接着固定する第5工程を含むことを特徴とするコンデンサマイクロホンの製造方法を要旨とするものである。   In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, an adhesive region is provided on the front and back surfaces of the housing substrate having the first metal layer, and a top substrate and an electrical component are respectively provided to the adhesive region. In a method of manufacturing a capacitor microphone in which a circuit board to be mounted is bonded with an adhesive, a first step of forming a through hole for a through hole in the bonding region, an inner surface of the through hole, and the bonding region A second step of forming a second metal layer on the front and back surfaces of the housing substrate, a third step of filling the through hole located in the adhesion region with a filler, and first and second of the adhesion region. A capacitor comprising: a fourth step of removing the metal layer; and a fifth step of bonding and fixing the top substrate and the circuit substrate to the bonding regions on the front and back surfaces of the housing substrate through an adhesive. Microphone manufacturing Law is to summarized as.

請求項1の発明によれば、筐体基板の表裏面に対して回路基板とトップ基板をそれぞれ接着剤にて接着する際、接着領域には金属層がないため、筐体基板のコア材と回路基板、及び筐体基板のコア材とトップ基板との接着性が向上する。   According to the first aspect of the present invention, when the circuit board and the top substrate are bonded to the front and back surfaces of the housing substrate with the adhesive, respectively, since there is no metal layer in the bonding region, The adhesion between the circuit board and the core material of the housing board and the top board is improved.

請求項2の発明は、請求項1において、前記充填剤が、前記第4工程において使用されるエッチング液に反応しない樹脂充填剤であることを特徴とする。
請求項2の発明によれば、貫通孔に充填される充填剤が、第4工程において使用されるエッチング液に反応しない樹脂充填剤であることにより、第4工程のエッチング処理では、貫通孔内、すなわち接着領域に位置する樹脂充填剤の表裏面が変化しない。この結果、第5工程において行われる接着処理時の接着剤使用量が増加したり、或いは、接着剤を塗布した場合に樹脂充填剤の表裏面と塗布された接着剤との間に空隙が形成されるといったことがなく、接着性に悪影響を及ぼすことがない。
The invention of claim 2 is characterized in that, in claim 1, the filler is a resin filler that does not react with the etching solution used in the fourth step.
According to the second aspect of the present invention, the filler filled in the through hole is a resin filler that does not react with the etching solution used in the fourth step. That is, the front and back surfaces of the resin filler located in the adhesion region do not change. As a result, the amount of adhesive used during the bonding process performed in the fifth step is increased, or a gap is formed between the front and back surfaces of the resin filler and the applied adhesive when the adhesive is applied. It will not be adversely affected and will not adversely affect adhesion.

請求項3の発明は、請求項1又は請求項2において、前記第1工程は、筐体基板となる部位を複数個有する筐体基板集合部材の同筐体基板となる部位毎の周囲に対し、一部を残して前記貫通孔を形成するものであり、前記第5工程は、前記トップ基板となる部位を複数個有するトップ基板集合部材の同トップ基板となる各部位を、前記筐体基板となる各部位の表面の接着領域に対してそれぞれ接着剤を介して接着固定するとともに、前記回路基板となる部位を複数個有する回路基板集合部材の同回路基板となる各部位を、前記筐体基板となる各部位の裏面の接着領域に対して接着剤を介して接着固定するものであることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the first step is performed with respect to the periphery of each part to be the housing substrate of the housing substrate assembly member having a plurality of parts to be the housing substrate. The through hole is formed leaving a part, and in the fifth step, each portion to be the top substrate of the top substrate assembly member having a plurality of portions to be the top substrate is formed on the housing substrate. Each of the parts to be the same circuit board of the circuit board assembly member having a plurality of parts to be the circuit boards is bonded and fixed to the bonding region on the surface of each part to be the circuit board by using an adhesive. It is characterized in that it is bonded and fixed to an adhesive region on the back surface of each part to be a substrate through an adhesive.

請求項3の発明によれば、筐体基板集合部材、トップ基板集合部材、及び回路基板集合部材を積層して、コンデンサマイクロホンを製造する場合において、請求項1や、請求項2の作用効果を容易に実現できる。   According to the invention of claim 3, in the case of manufacturing a condenser microphone by laminating the housing substrate assembly member, the top substrate assembly member, and the circuit board assembly member, the effects of claim 1 and claim 2 are obtained. It can be easily realized.

請求項4の発明は、請求項3において、さらに、第5工程の後に、前記貫通孔が形成された部位をダイシングする工程を備えていることを特徴とする。
請求項4の発明によれば、筐体基板集合部材、トップ基板集合部材、及び回路基板集合部材を積層して、コンデンサマイクロホンを製造する場合において、各集合部材から分離したコンデンサマイクロホンを製造する場合に、請求項3の作用効果を容易に実現できる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the method further includes a step of dicing the portion where the through hole is formed after the fifth step.
According to the invention of claim 4, in the case of manufacturing a condenser microphone by laminating the housing substrate assembly member, the top substrate assembly member, and the circuit board assembly member, the capacitor microphone separated from each assembly member is manufactured. In addition, the function and effect of the third aspect can be easily realized.

請求項5の発明は、金属層を有する筐体基板の表裏面に接着領域を設け、該接着領域に対してそれぞれトップ基板と、電装品を搭載する回路基板とが接着剤により接着されて構成されるコンデンサマイクロホンにおいて、前記筐体基板の表裏面の全接着領域に対して、前記金属層を介さずに接着剤にてそれぞれトップ基板と、電装品を搭載する回路基板とが接着固定されていることを特徴とするコンデンサマイクロホンを要旨とするものである。   The invention according to claim 5 is configured such that an adhesive region is provided on the front and back surfaces of the housing substrate having the metal layer, and the top substrate and the circuit board on which the electrical component is mounted are bonded to the adhesive region with an adhesive. In the condenser microphone, the top substrate and the circuit board on which the electrical components are mounted are bonded and fixed to the entire adhesion region on the front and back surfaces of the housing substrate with an adhesive without using the metal layer. The gist of the present invention is a condenser microphone.

請求項5の発明によれば、筐体基板の表裏面に対して回路基板とトップ基板をそれぞれ接着剤にて接着する際、接着領域には金属層がない。このため、筐体基板のコア材と回路基板、及び筐体基板のコア材とトップ基板との接着性が向上する。   According to the fifth aspect of the present invention, when the circuit board and the top substrate are bonded to the front and back surfaces of the housing substrate with the adhesive, there is no metal layer in the bonding region. For this reason, the adhesiveness of the core material and circuit board of a housing substrate, and the core material and top substrate of a housing substrate improves.

以上のように、この発明によれば、筐体基板の表裏面に対して回路基板とトップ基板をそれぞれ接着剤にて接着する際、筐体基板のコア材と回路基板、及び筐体基板のコア材とトップ基板との接着性を向上することができる効果を奏する。   As described above, according to the present invention, when the circuit board and the top substrate are respectively bonded to the front and back surfaces of the housing substrate with the adhesive, the core material of the housing substrate, the circuit substrate, and the housing substrate There is an effect that the adhesion between the core material and the top substrate can be improved.

以下に、この発明の実施形態を、図1〜図7を参照して説明する。
図1及び図2に示すように、この実施形態のコンデンサマイクロホン21の筐体22は、実装基板としての平板状の回路基板23と、筐体基板としての四角枠状の筐体基枠24と、トップカバーとしての平板状のトップ基板25とを積層して、接着シート27A,27Bにより一体に固定した構造となっている。前記回路基板23,筐体基枠24及びトップ基板25はエポキシ樹脂等の樹脂製の電気絶縁体により構成されている。本実施形態では、前記部材はガラス布基材エポキシ樹脂にて構成されているが、エポキシ樹脂に限定されるものではない。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.
As shown in FIGS. 1 and 2, the housing 22 of the condenser microphone 21 of this embodiment includes a flat circuit board 23 as a mounting board, and a square frame-like housing base frame 24 as a housing board. A flat top substrate 25 as a top cover is laminated and fixed integrally with adhesive sheets 27A and 27B. The circuit board 23, the casing base frame 24, and the top board 25 are made of an electrical insulator made of resin such as epoxy resin. In this embodiment, although the said member is comprised by the glass cloth base material epoxy resin, it is not limited to an epoxy resin.

図4(a)に示すように回路基板23の上面(なお、回路基板23の表面ともいう)には導電部材としての銅箔よりなる導電パターン23a,23b,23cが形成されている。なお、本明細書で、上面とは回路基板23を下にし、筐体基枠24を中間に配置し、トップ基板25を上に配置したときに、上を向く面をいい、下面とは下に向く面をいう。なお、図3、図4(a)においては、説明の便宜上、導電パターン23a,23b,23cはハッチングで示されている。   As shown in FIG. 4A, conductive patterns 23a, 23b, and 23c made of copper foil as a conductive member are formed on the upper surface of the circuit board 23 (also referred to as the surface of the circuit board 23). In this specification, the upper surface means a surface facing upward when the circuit board 23 is placed downward, the casing base frame 24 is arranged in the middle, and the top board 25 is arranged upward, and the lower surface is the lower surface. The surface that faces In FIGS. 3 and 4A, the conductive patterns 23a, 23b, and 23c are indicated by hatching for convenience of explanation.

図4(a)に示すように導電パターン23aは、第1端部が回路基板23上面において、長手方向の一端部寄りに、かつ、短手方向の一側端部寄りに位置するとともに、第2端部51が回路基板23上面において中央部寄りに延出されている。そして、導電パターン23aの第1端部は、導通部50とされている。   As shown in FIG. 4A, the conductive pattern 23a has a first end located on the upper surface of the circuit board 23 near one end in the longitudinal direction and near one end on the short side. Two end portions 51 extend toward the center on the upper surface of the circuit board 23. The first end portion of the conductive pattern 23 a is a conduction portion 50.

ここで、回路基板23上面において、回路基板23の厚み方向に貫通する中心軸O(図4(a)参照)に対してそれぞれ直交する短手方向の軸をx軸とし、長手方向の軸をy軸という。   Here, on the upper surface of the circuit board 23, the axis in the short direction perpendicular to the central axis O (see FIG. 4A) penetrating in the thickness direction of the circuit board 23 is the x axis, and the axis in the longitudinal direction is This is called the y-axis.

そして、回路基板23上面において、x軸を対称軸とする前記導通部50とは線対称の領域P1及びy軸を対称軸とする導通部50の線対称の領域P2、及び中心軸Oを中心点とした導通部50の点対称の領域P3は、導電パターンが設けられていない領域(以下、無導電パターン領域という)に含まれている。なお、無導電パターン領域とは、回路基板23上面において、前記導電パターン23cに囲まれるとともに、導電パターン23a、23bを除外した領域である。導電パターン23bは、本実施形態では、複数(本実施形態では4個)設けられている。   Then, on the upper surface of the circuit board 23, the conductive portion 50 having the x axis as the symmetry axis is centered on the central axis O and the region P1 that is line symmetric with respect to the conductive portion 50 and the line symmetry region P2 of the conduction portion 50 having the y axis as the symmetry axis. The point-symmetrical region P3 of the conduction part 50 as a point is included in a region where no conductive pattern is provided (hereinafter referred to as a non-conductive pattern region). The non-conductive pattern region is a region on the upper surface of the circuit board 23 that is surrounded by the conductive pattern 23c and excludes the conductive patterns 23a and 23b. In the present embodiment, a plurality of conductive patterns 23b (four in this embodiment) are provided.

前記導電パターン23cは、アース用の導電パターンであって、筐体基枠24の枠形状に相対するように枠状に設けられている。導電パターン23a,23bは、部品接続のための導電パターンであって、電源入力用や値信号取り出し用となっている。   The conductive pattern 23 c is a ground conductive pattern, and is provided in a frame shape so as to face the frame shape of the housing base frame 24. The conductive patterns 23a and 23b are conductive patterns for connecting components, and are used for power supply input and value signal extraction.

又、図3、図4(b)に示すように、導電パターン23a〜23cの一部の上面及び無導電パターン領域において、領域P1及〜P3を含む面はレジスト52にて覆われている。なお、説明の便宜上、図4(b)においては、レジスト52はハッチングで図示されている。   Further, as shown in FIGS. 3 and 4B, the surfaces including the regions P <b> 1 to P <b> 3 are covered with a resist 52 in a part of the upper surfaces of the conductive patterns 23 a to 23 c and the non-conductive pattern regions. For convenience of explanation, in FIG. 4B, the resist 52 is shown by hatching.

レジスト52は、絶縁部材として例えばエポキシ樹脂等からなるが、この材質に限定されるものではなく、絶縁性の合成樹脂であればよい。又、レジスト52は、その全体(すなわち領域P1〜P3を含む全体)に亘って同一の膜厚に形成されるとともに導通部50と同じ厚みとされている。すなわち、領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分と、導通部50とは回路基板23上面を基準として同じ高さ(すなわち、厚み)となるようにされている。導通部50とレジスト52の厚みは、通常20μm〜40μm程度に設定されている。なお、本実施形態における導通部50とレジスト52の厚みは、30μmに設定されている。レジスト52において、導通部50に近辺は切り欠き52aが形成されて導通部50を露出するようにされている。又、レジスト52において、導電パターン23aの第2端部51、各導電パターン23bの一端部、及び、導電パターン23cの一部に対応した部分には窓52bが設けられて、当該部分が窓52bを介して露出されている。   The resist 52 is made of, for example, an epoxy resin as an insulating member, but is not limited to this material, and may be an insulating synthetic resin. The resist 52 is formed to have the same film thickness throughout the entire area (that is, the entire area including the regions P1 to P3) and has the same thickness as the conductive portion 50. That is, the portion of the resist 52 located in the regions P1 to P3 and the conductive portion 50 are set to have the same height (that is, thickness) with respect to the upper surface of the circuit board 23. The thickness of the conductive part 50 and the resist 52 is normally set to about 20 μm to 40 μm. In addition, the thickness of the conduction | electrical_connection part 50 and the resist 52 in this embodiment is set to 30 micrometers. In the resist 52, a notch 52 a is formed in the vicinity of the conductive portion 50 so that the conductive portion 50 is exposed. Further, in the resist 52, a window 52b is provided at a portion corresponding to the second end portion 51 of the conductive pattern 23a, one end portion of each conductive pattern 23b, and a part of the conductive pattern 23c. Is exposed through.

又、導電パターン23cの枠状の周部は、レジスト52にて覆われていない露出部分とされて筐体基枠24と相対する。
又、図4(c)に示すように回路基板23の下面(なお、回路基板23の裏面ともいう)には銅箔よりなる複数の導電パターン23d,23e(図1には、1つの導電パターン23dのみ図示されている。)が形成されている。なお、図4(c)においては、説明の便宜上、導電パターン23d,23eはハッチングで示されている。
The frame-shaped peripheral portion of the conductive pattern 23 c is an exposed portion that is not covered with the resist 52 and is opposed to the housing base frame 24.
Further, as shown in FIG. 4C, a plurality of conductive patterns 23d and 23e made of copper foil are formed on the lower surface of the circuit board 23 (also referred to as the back surface of the circuit board 23). Only 23d is shown). In FIG. 4C, the conductive patterns 23d and 23e are hatched for convenience of explanation.

そして、回路基板23には、複数のスルーホール23gが設けられるとともに、同スルーホール23gの内周に図示しないに導電層が形成されている。そして、同複数のスルーホールのうち、いくつかのスルーホール23gの導電層を介して、前記導電パターン23cは、回路基板23下面の導電パターン23dに対して接続される。導電パターン23dにおいては、その一部がアース端子となる。   The circuit board 23 is provided with a plurality of through holes 23g, and a conductive layer (not shown) is formed on the inner periphery of the through hole 23g. The conductive pattern 23c is connected to the conductive pattern 23d on the lower surface of the circuit board 23 through conductive layers of some through holes 23g among the plurality of through holes. A part of the conductive pattern 23d serves as a ground terminal.

又、同複数のうち、残りのいくつかのスルーホールの導電層を介して、導電パターン23a,23bは回路基板23下面に設けられた信号出力端子(図示しない)や電源入力端子(図示しない)に接続される導電パターン23eに対して接続されている。   In addition, the conductive patterns 23a and 23b are connected to the signal output terminals (not shown) and the power supply input terminals (not shown) provided on the lower surface of the circuit board 23 through the conductive layers of the remaining through holes. The conductive pattern 23e is connected to the conductive pattern 23e.

なお、回路基板23内には、図1に示すように銅箔よりなる中間層23fが設けられ、導電パターン23cと,導電パターン23d間を電気接続するスルーホール23gに電気的に接続されている。   In the circuit board 23, an intermediate layer 23f made of copper foil is provided as shown in FIG. 1, and is electrically connected to the conductive pattern 23c and the through hole 23g that electrically connects the conductive pattern 23d. .

又、回路基板23上には、筐体22内に設けられた電装部品としてのインピーダンス変換素子を構成する電界効果トランジスタ26が実装されている。電界効果トランジスタ26は、導電パターン23aの第2端部51と、複数の導電パターン23bのうち、いくつかの導電パターン23bの一端に電気的に接続されている。   On the circuit board 23, a field effect transistor 26 constituting an impedance conversion element as an electrical component provided in the housing 22 is mounted. The field effect transistor 26 is electrically connected to the second end portion 51 of the conductive pattern 23a and one end of several conductive patterns 23b among the plurality of conductive patterns 23b.

前記筐体基枠24は、上下両端に開口部を有し、図1に示すようにその上下両端面及び側壁外側面には銅箔よりなる連続した導電パターン24a,24b,24cが形成されている。導電パターン24a,24bは、図2,図5に示すように筐体基枠24の上下両開口部周縁に対して環状に設けられている。なお、図2,図5においては、導電パターン24aのみ図示されているが、導電パターン24bも、図2,図5に示される導電パターン24aと同様の形状に形成されている。   The casing base frame 24 has openings at both upper and lower ends. As shown in FIG. 1, continuous conductive patterns 24a, 24b and 24c made of copper foil are formed on the upper and lower end surfaces and the side wall outer surface. Yes. As shown in FIGS. 2 and 5, the conductive patterns 24 a and 24 b are provided annularly with respect to the peripheral edges of the upper and lower openings of the housing base frame 24. 2 and 5, only the conductive pattern 24a is shown, but the conductive pattern 24b is also formed in the same shape as the conductive pattern 24a shown in FIGS.

導電パターン24cは、筐体基枠24の側壁外側面において、同筐体基枠24の4つのコーナ部Cの外側面を除いた部分に設けられた凹部24i内面に銅等の金属が含まれた導電ペーストが塗布されることにより、若しくは、銅箔メッキ等の金属箔メッキを施すことにより形成され、導電パターン24a,24bを電気的に接続する(図1参照)。導電パターン24cは金属層に相当する。   The conductive pattern 24c includes a metal such as copper on the inner surface of the recess 24i provided on the outer surface of the side wall of the housing base frame 24 except for the outer surfaces of the four corner portions C of the housing base frame 24. The conductive patterns 24a and 24b are electrically connected (see FIG. 1) by applying a conductive paste or applying a metal foil plating such as a copper foil plating. The conductive pattern 24c corresponds to a metal layer.

又、筐体基枠24に導電パターンやスルーホールを形成する最終段階で、導電パターン24a,24b上にさらに金属メッキ層を形成してもよい。これにより、樹脂を充填したスルーホールよりも導電パターン24a,24bが表面に突出するため、接着シート27Aの入り込む隙間が大きくなり接着強度の増加が図れる。なお、導電パターン24a,24b上にさらに金属メッキ層を形成したときの導電パターン24a,24bの厚みは25μm〜40μmの程度が望ましい。   In addition, a metal plating layer may be further formed on the conductive patterns 24a and 24b in the final stage of forming the conductive pattern and the through hole in the casing base frame 24. Accordingly, since the conductive patterns 24a and 24b protrude from the surface of the through hole filled with the resin, a gap into which the adhesive sheet 27A enters is increased, and the adhesive strength can be increased. The thickness of the conductive patterns 24a and 24b when a metal plating layer is further formed on the conductive patterns 24a and 24b is preferably about 25 μm to 40 μm.

図5において、Q1は筐体基枠24の凹部24iに設けられた導電パターン24cの範囲を示している。このように、筐体基枠24の側壁外側面に設けられた凹部24iにおいて導電パターン24cが設けられることにより、電磁シールドができるようにされている。導電パターン24cが設けられた部位が電磁シールド部に相当する。   In FIG. 5, Q <b> 1 indicates a range of the conductive pattern 24 c provided in the recess 24 i of the housing base frame 24. As described above, the conductive pattern 24 c is provided in the recess 24 i provided on the outer side surface of the side wall of the housing base frame 24, so that electromagnetic shielding can be performed. A portion where the conductive pattern 24c is provided corresponds to an electromagnetic shield portion.

又、筐体基枠24の外側面において、図5に示すように導電パターン24cが設けられていない部位154aは筐体基枠24のコーナ部Cに設けられている。導電パターン24cが設けられていない部位154aは後述する製造方法で示される連結部154の一部を構成し、同部位154aの外側面は無電磁シールド部に相当する。図5において、Q2は、無電磁シールド部の範囲を示している。又、下面側の導電パターン24bは図1に示すように回路基板23上の前記導電パターン23cを介して回路基板23下面の導電パターン23dに対して接続されている。   Further, as shown in FIG. 5, a portion 154 a where the conductive pattern 24 c is not provided on the outer surface of the housing base frame 24 is provided in the corner portion C of the housing base frame 24. The part 154a where the conductive pattern 24c is not provided constitutes a part of the connecting part 154 shown in the manufacturing method described later, and the outer surface of the part 154a corresponds to a non-electromagnetic shield part. In FIG. 5, Q2 indicates the range of the non-electromagnetic shield part. The conductive pattern 24b on the lower surface side is connected to the conductive pattern 23d on the lower surface of the circuit board 23 via the conductive pattern 23c on the circuit board 23 as shown in FIG.

凹部24i内は、エポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂により充填されて充填部24jが形成されている(図1参照)。前記エポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂は、充填剤及び樹脂充填剤に相当する。   The recess 24i is filled with an insulating synthetic resin such as an epoxy resin to form a filling portion 24j (see FIG. 1). The insulating synthetic resin such as the epoxy resin corresponds to a filler and a resin filler.

そして、筐体基枠24において、前記充填部24jの上下両面と、導電パターン24cが設けられていない部位154aの上下両面により略四角枠状の接着領域SRa,SRbが形成されている。なお、図5においては、筐体基枠24の上面に設けられた接着領域SRaのみ図示されている。接着領域は、四角枠状に限定されるものではなく、他の形状であってもよく、要は筐体基枠24の枠形状に相似した形状であればよい。   In the housing base frame 24, substantially square frame-shaped adhesion regions SRa and SRb are formed by the upper and lower surfaces of the filling portion 24j and the upper and lower surfaces of the portion 154a where the conductive pattern 24c is not provided. In FIG. 5, only the adhesion region SRa provided on the upper surface of the casing base frame 24 is shown. The adhesion region is not limited to the rectangular frame shape, but may be another shape, and it may be any shape as long as it is similar to the frame shape of the housing base frame 24.

図1、図2に示すように筐体基枠24の下部の開口部周縁、すなわち、接着領域SRbは、前記導電パターン23cの外方に配置された四角環状をなす接着剤としての接着シート27Aにより前記回路基板23に対して一体に接着固定されている。なお、接着シート27Aの材質は、充填部24jに使用される樹脂充填剤と同材質とされている。そして、回路基板23上の前記電界効果トランジスタ26の電装部品が、この筐体基枠24内に収容配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the opening peripheral edge of the lower portion of the housing base frame 24, that is, the adhesion region SRb is an adhesive sheet 27A as a square-shaped adhesive disposed outside the conductive pattern 23c. Thus, the circuit board 23 is integrally bonded and fixed. The material of the adhesive sheet 27A is the same material as the resin filler used for the filling portion 24j. The electric component of the field effect transistor 26 on the circuit board 23 is accommodated in the housing base frame 24.

又、接着シート27Aの材質は、接着シート27Aの筐体基枠24の基板に使用されている樹脂材部分と同様の構成であるとよい。これにより、接着シート27Aと回路基板23及びトップ基板25とも同様に樹脂材部分と同様の素材であると同様の効果が得られるものである。   The material of the adhesive sheet 27A may be the same as that of the resin material part used for the substrate of the housing base frame 24 of the adhesive sheet 27A. Accordingly, the same effect can be obtained if the adhesive sheet 27A, the circuit board 23, and the top board 25 are made of the same material as the resin material portion.

図1に示すように前記トップ基板25の上下両面には銅箔等よりなる導電パターン25a,25bが形成されている。トップ基板25には、外部から音を取り込むための音孔28が形成されている。   As shown in FIG. 1, conductive patterns 25a and 25b made of copper foil or the like are formed on the upper and lower surfaces of the top substrate 25. The top substrate 25 is formed with a sound hole 28 for taking in sound from the outside.

図1、図2に示すように筐体基枠24の上部の開口部周縁、すなわち、接着領域SRaは、前記導電パターン24aの外方に配置された四角環状をなす接着剤としての接着シート27Bにより前記トップ基板25が一体に接着固定されている。なお、接着シート27Bの材質は、充填部24jに使用される樹脂充填剤と同材質とされている。このようにして、筐体基枠24の上部の開口部周縁はトップ基板25に対してスペーサ29、振動膜30を介して一体に連結されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the peripheral edge of the opening at the top of the housing base frame 24, that is, the adhesive region SRa is an adhesive sheet 27 </ b> B serving as a square ring-shaped adhesive disposed outside the conductive pattern 24 a. Thus, the top substrate 25 is integrally bonded and fixed. The material of the adhesive sheet 27B is the same material as the resin filler used for the filling portion 24j. In this manner, the opening periphery of the upper portion of the casing base frame 24 is integrally connected to the top substrate 25 via the spacer 29 and the vibration film 30.

図1及び図2に示すように、前記筐体基枠24とトップ基板25との間には、絶縁性フィルムからなる環状のスペーサ29が挟持固定されている。又、スペーサ29は導電パターン24aに対して導電性接着剤により接着されている。スペーサ29の上面にはPPS(ポリフェニレンサルファィド)フィルム等の絶縁性を有する合成樹脂薄膜よりなる振動膜30が接着により張設されており、その振動膜30の下面には金蒸着よりなる導電層30aが形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, an annular spacer 29 made of an insulating film is sandwiched and fixed between the housing base frame 24 and the top substrate 25. The spacer 29 is bonded to the conductive pattern 24a with a conductive adhesive. A vibration film 30 made of an insulating synthetic resin thin film such as a PPS (polyphenylene sulfide) film is stretched on the upper surface of the spacer 29 by adhesion, and a conductive film made of gold vapor deposition is formed on the lower surface of the vibration film 30. Layer 30a is formed.

振動膜30及びスペーサ29には図示しないスルーホールが設けられ、導電層30aは、同スルーホールに充填された導電ペースト、及びスペーサ29と筐体基枠24(正確にはスペーサ29と導電パターン24a)間の導電性接着剤(図示しない)を介して導電パターン24aと導通可能にされている。   A through hole (not shown) is provided in the vibration film 30 and the spacer 29, and the conductive layer 30a includes a conductive paste filled in the through hole, the spacer 29 and the casing base frame 24 (more precisely, the spacer 29 and the conductive pattern 24a). ) Between the conductive pattern 24a through a conductive adhesive (not shown).

図1に示すように、前記トップ基板25には複数のスルーホール36が形成され、それらのスルーホール36の内周面には前記導電パターン25a,25bと連続する導電パターン25cが設けられている。また、スルーホール36内には導電性接着剤37aが充填され、この導電性接着剤37aと前記導電パターン25cとにより導電部37が形成されている。この導電部37は前記振動膜30の下面を折り返して形成された折返し部30b(図1参照)の導電層30aと電気接続されている。なお、スルーホール36内の導電性接着剤37aは充填されなくても導電パターン25cが形成されていればよく、又、スルーホール36内の導電パターン25cが形成されていない場合は、導電性接着剤37aを充填するのみでもよい。なお、導電パターン25cと導電性接着剤37aとが両方形成されることで導電性やシールド性は向上する。   As shown in FIG. 1, a plurality of through holes 36 are formed in the top substrate 25, and conductive patterns 25c continuous with the conductive patterns 25a and 25b are provided on the inner peripheral surfaces of the through holes 36. . The through hole 36 is filled with a conductive adhesive 37a, and a conductive portion 37 is formed by the conductive adhesive 37a and the conductive pattern 25c. The conductive portion 37 is electrically connected to the conductive layer 30a of the folded portion 30b (see FIG. 1) formed by folding the lower surface of the vibration film 30. Note that the conductive pattern 25c may be formed even if the conductive adhesive 37a in the through hole 36 is not filled, and if the conductive pattern 25c in the through hole 36 is not formed, the conductive adhesive 25a may be formed. It is also possible to only fill the agent 37a. In addition, electroconductivity and shielding property improve by forming both the conductive pattern 25c and the electroconductive adhesive agent 37a.

そして、トップ基板25の導電パターン25a,25bは、導電部37、導電層30a,前述した振動膜30に設けられた図示しないスルーホールの導電ペースト、スペーサ29と導電パターン24a間の導電性接着剤、及び筐体基枠24上の導電パターン24a〜24cを介して回路基板23上の前記アース端子に至る導電路が形成されている。   The conductive patterns 25a and 25b of the top substrate 25 include a conductive portion 37, a conductive layer 30a, a conductive paste in a through hole (not shown) provided in the vibration film 30, and a conductive adhesive between the spacer 29 and the conductive pattern 24a. In addition, a conductive path to the ground terminal on the circuit board 23 is formed through the conductive patterns 24 a to 24 c on the housing base frame 24.

筐体基枠24内において、振動膜30の下面にはスペーサ29を介在させて極板としてのバックプレート31が対向配置されている。このバックプレート31は、ステンレス鋼板からなるバックプレート本体31aの上面にPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフィルム31bが貼着されて構成されている。そのフィルム31bにはコロナ放電等による分極処理が施されており、この分極処理によりフィルム31bはエレクトレット層を構成している。本実施形態では、前記バックプレート31は背極を構成しており、この実施形態のコンデンサマイクはバックエレクトレットタイプで構成されている。   In the housing base frame 24, a back plate 31 as an electrode plate is disposed opposite to the lower surface of the vibration film 30 with a spacer 29 interposed therebetween. The back plate 31 is configured by attaching a film 31b such as PTFE (polytetrafluoroethylene) to the upper surface of a back plate body 31a made of a stainless steel plate. The film 31b is subjected to polarization treatment by corona discharge or the like, and the film 31b constitutes an electret layer by this polarization treatment. In the present embodiment, the back plate 31 constitutes a back electrode, and the condenser microphone of this embodiment is constituted by a back electret type.

さらに、前記バックプレート31は、筐体基枠24の内周形状よりも小さな外周形状となる平面形ほぼ長円状をなすように形成されていて、それらの内外周面間には隙間Pが形成されている。バックプレート31の中央部には前記振動膜30の振動による空気移動を許容するための透孔32が形成されている。このバックプレート31は、フィルム31bを貼着したステンレス鋼の板材をフィルム31b側から、すなわち、図2の上方側から下方側へ向かって打ち抜き刃(図示しない)により打ち抜いて形成される。   Further, the back plate 31 is formed so as to have a substantially oval shape in a planar shape having an outer peripheral shape smaller than the inner peripheral shape of the housing base frame 24, and a gap P is formed between the inner and outer peripheral surfaces thereof. Is formed. A through hole 32 for allowing air movement due to vibration of the vibration film 30 is formed at the center of the back plate 31. The back plate 31 is formed by punching a stainless steel plate with a film 31b attached from the film 31b side, that is, from the upper side to the lower side in FIG. 2 with a punching blade (not shown).

図1、図2に示すように、前記筐体基枠24内において、バックプレート31と回路基板23との間にはバネ材よりなる保持部材33が圧縮状態で介装され、この保持部材33の弾性力によりバックプレート31が振動膜30の反対側からスペーサ29の下面と当接する方向に加圧されている。これにより、振動膜30とバックプレート31との間に所定の間隔が保持されて、それらの間に所定の容量を確保したコンデンサ部が形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, a holding member 33 made of a spring material is interposed between the back plate 31 and the circuit board 23 in the casing base frame 24 in a compressed state. The back plate 31 is pressed from the opposite side of the vibration film 30 in a direction in contact with the lower surface of the spacer 29 by the elastic force. As a result, a predetermined interval is maintained between the vibration film 30 and the back plate 31, and a capacitor portion that secures a predetermined capacity is formed between them.

前記保持部材33は、ステンレス鋼板の表裏両面に金メッキを施してなる板材を打ち抜き成形することにより形成され、ほぼ四角環状の枠部33aと、その枠部33aの四隅から下部両側方に向かって斜めに突出する4つの脚部33bとを備えている。従って、枠部33aの下方における脚部33b間には空間Sが形成されている。そして、この実施形態においては、図1に示すように、回路基板23上の前記電界効果トランジスタ26が前記空間S内であって、各一対の脚部33b間に配置される。   The holding member 33 is formed by stamping and forming a plate material obtained by performing gold plating on both the front and back surfaces of a stainless steel plate. The holding member 33 is substantially square-shaped frame portion 33a and obliquely toward the lower side from the four corners of the frame portion 33a. And four leg portions 33b projecting from each other. Accordingly, a space S is formed between the leg portions 33b below the frame portion 33a. In this embodiment, as shown in FIG. 1, the field effect transistor 26 on the circuit board 23 is disposed in the space S and between each pair of leg portions 33b.

前記保持部材33の枠部33aの上面にはバックプレート31の下面に当接する4つの球面状の突部としての接触部34が突出形成されるとともに、各脚部33bの先端下面には4つの球面状の突部としての接触部35が突出形成されている。   The upper surface of the frame portion 33a of the holding member 33 is formed with four contact portions 34 as spherical projections that come into contact with the lower surface of the back plate 31, and four lower end surfaces of the leg portions 33b. A contact portion 35 is formed as a spherical protrusion.

複数の脚部33bのうち、1つの各脚部33bは導通部50に対し接触部35を介して接触され、残りの各脚部33bは、前記回路基板23上面において、無導電パターン領域に含まれる領域P1〜P3に位置するレジスト52上面に対して接触部35を介して接触されている。   Among each of the plurality of leg portions 33b, one leg portion 33b is brought into contact with the conducting portion 50 via the contact portion 35, and the remaining leg portions 33b are included in the non-conductive pattern region on the upper surface of the circuit board 23. The upper surface of the resist 52 located in the regions P <b> 1 to P <b> 3 is in contact via the contact portion 35.

さて、このコンデンサマイクロホン21において、音源からの音波がトップ基板25の音孔28を介して振動膜30に至ると、その振動膜30は音の周波数、振幅及び波形に応じて振動される。そして、振動膜30の振動に伴って、振動膜30とバックプレート31との間隔が設定値から変化し、コンデンサ部のインピーダンスが変化する。このインピーダンスの変化が、インピーダンス変換素子により電圧信号に変換されて出力される。   In the condenser microphone 21, when the sound wave from the sound source reaches the vibration film 30 through the sound hole 28 of the top substrate 25, the vibration film 30 is vibrated according to the frequency, amplitude, and waveform of the sound. As the vibration film 30 vibrates, the distance between the vibration film 30 and the back plate 31 changes from the set value, and the impedance of the capacitor portion changes. This change in impedance is converted into a voltage signal by the impedance conversion element and output.

(製造方法)
次に、上記のように構成されたコンデンサマイクロホン21の製造方法について説明する。
(Production method)
Next, a method for manufacturing the condenser microphone 21 configured as described above will be described.

コンデンサマイクロホン21は、複数のシート状の集合部材を積層等を行って組み付けた後、分割されて形成されるものである。この製造方法においては、図6に示すように、回路基板部材140、筐体基枠形成部材150、振動膜形成部材200、トップカバー形成部材250、バックプレート31及び保持部材33等を用いて複数のコンデンサマイクロホン21を製造する。回路基板部材140は回路基板集合部材に相当する。筐体基枠形成部材150は筐体基板集合部材に相当する。トップカバー形成部材250はトップ基板集合部材に相当する。   The condenser microphone 21 is formed by stacking a plurality of sheet-like assembly members by stacking or the like and then dividing the assembly. In this manufacturing method, as shown in FIG. 6, a plurality of circuit board members 140, a casing base frame forming member 150, a vibration film forming member 200, a top cover forming member 250, a back plate 31, a holding member 33, and the like are used. The condenser microphone 21 is manufactured. The circuit board member 140 corresponds to a circuit board assembly member. The housing base frame forming member 150 corresponds to a housing substrate assembly member. The top cover forming member 250 corresponds to a top substrate assembly member.

前記回路基板部材140は、前記回路基板23を複数形成するための集合部材としての絶縁基板であって、シート状に形成され、回路基板23となる部位上面においては導電パターン23a,23b,23cが、回路基板23となる部位下面においては、導電パターン23d,23eがそれぞれ複数形成されている。   The circuit board member 140 is an insulating substrate as a collective member for forming a plurality of the circuit boards 23, and is formed in a sheet shape. A plurality of conductive patterns 23d and 23e are formed on the lower surface of the part to be the circuit board 23.

前記筐体基枠形成部材150は、前記筐体基枠24を複数形成するための集合部材としての板材である。ここで、筐体基枠形成部材150を形成する方法を図7(a)〜(e)を参照して説明する。   The casing base frame forming member 150 is a plate material as an aggregate member for forming a plurality of casing base frames 24. Here, a method of forming the casing base frame forming member 150 will be described with reference to FIGS.

まず、コア材としての絶縁基板Kcの表裏面に20μm〜40μm程度の銅箔よりなる第1金属層としての導電パターンKa,Kbを有する両面基板K(すなわち、プリント配線板)において、筐体基枠24となる部位間や、両面基板Kの周縁部に対して、ルータやドリル等により孔加工を施す。これにより、両面基板Kに貫通孔としての孔部152を縦横に所定ピッチで複数形成する(図7(a)参照)。この孔部152は、スルーホール(バイアホール)として形成されるが、後述するダイシングされた後は、筐体基枠24の凹部24iとなるものであり、孔部152が形成される領域は、後にダイシングされる部分を除いて接着領域SRa,SRbとなる領域である。   First, in a double-sided board K (that is, a printed wiring board) having conductive patterns Ka and Kb as first metal layers made of copper foil of about 20 μm to 40 μm on the front and back surfaces of an insulating substrate Kc as a core material, Hole processing is performed between the parts to be the frame 24 and the peripheral edge of the double-sided substrate K by a router, a drill, or the like. Thereby, a plurality of hole portions 152 as through holes are formed in the double-sided substrate K at predetermined pitches in the vertical and horizontal directions (see FIG. 7A). The hole 152 is formed as a through hole (via hole), but after dicing described later, the hole 152 becomes a recess 24i of the housing base frame 24. The region where the hole 152 is formed is as follows. Except for the portion to be diced later, this is a region that becomes the adhesion regions SRa and SRb.

なお、図6では、説明の便宜上、孔部152内の充填部24jが省略されて図示されている。前記孔部152が形成されることにより、各筐体基枠24となる部位は、互いに隣接する部位に対して連結部154を介して連結される。なお、前記互いに隣接する部位は、筐体基枠24となる部位及び筐体基枠形成部材150の周縁部を含む趣旨である。   In FIG. 6, for convenience of explanation, the filling portion 24j in the hole 152 is omitted and illustrated. By forming the hole portion 152, the portions to be the casing base frames 24 are connected to the adjacent portions through the connecting portion 154. In addition, the mutually adjacent site | part is the meaning containing the site | part used as the housing | casing base frame 24, and the peripheral part of the housing | casing base frame formation member 150. FIG.

次に、図7(b)に示すように、孔部152内面に導電ペーストが塗布されることにより、若しくは、銅箔メッキ等の金属箔メッキを施すことにより、導電パターン24cを形成する。   Next, as shown in FIG. 7B, the conductive pattern 24c is formed by applying a conductive paste on the inner surface of the hole 152 or by applying metal foil plating such as copper foil plating.

この場合、筐体基枠24となる部位の上下両面において、接着領域SRa,SRbとならない領域(例えば、両面基板Kの導電パターンKa,Kbにおいて導電パターン24a,24bとなる領域等を含む)にはマスク(図示しない)を施す。これは、例えば、同導電パターン24a,24bとなる領域上に、導電パターン24cの形成時に新たな導電パターン層が形成されないようにしておくためである。前記導電パターン24cが形成されると、マスクが施されていない部分の導電パターンKa,Kb上、すなわち、接着領域SRa,SRbの一部となる、例えば、連結部154上下両面には導電パターン24cの形成と同時に金属層としての第2金属層としての導電パターン24pが形成される。   In this case, the upper and lower surfaces of the portion that becomes the housing base frame 24 are regions that do not become the adhesion regions SRa and SRb (for example, include regions that become the conductive patterns 24a and 24b in the conductive patterns Ka and Kb of the double-sided substrate K). Applies a mask (not shown). This is because, for example, a new conductive pattern layer is not formed on the regions to be the conductive patterns 24a and 24b when the conductive pattern 24c is formed. When the conductive pattern 24c is formed, the conductive pattern 24c is formed on the portions of the conductive patterns Ka and Kb that are not masked, that is, part of the adhesion regions SRa and SRb. Simultaneously with the formation of, a conductive pattern 24p as a second metal layer as a metal layer is formed.

次に、図7(c)に示すように、導電パターン24cが形成された後に孔部152内に充填剤及び樹脂充填剤としてのエポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂を充填して充填部24jを設ける。なお、エポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂は後述するエッチング液とは反応しない材質が選択されている。   Next, as shown in FIG. 7C, after the conductive pattern 24c is formed, the hole portion 152 is filled with an insulating synthetic resin such as an epoxy resin as a filler and a resin filler to form a filling portion 24j. Provide. Note that a material that does not react with an etchant described later is selected for the insulating synthetic resin such as an epoxy resin.

続いて、図7(d)に示すように、充填部24jの上下両部において両面基板Kから盛り上がった部分を切削してし、充填部24jの上下両端面を平面にする。又、この際に導電パターンKa,Kbの表面まで削られる。導電パターンKa,Kbの厚みは10μm〜25μm程度が望ましい。   Subsequently, as shown in FIG. 7 (d), the portions raised from the double-sided substrate K at both the upper and lower portions of the filling portion 24j are cut, and the upper and lower end surfaces of the filling portion 24j are made flat. At this time, the surfaces of the conductive patterns Ka and Kb are cut off. The thickness of the conductive patterns Ka and Kb is preferably about 10 μm to 25 μm.

次に、図7(e)に示すように、前記マスクが導電パターン24a,24bとなる領域上に施された状態で、エッチング液にて連結部154上の導電パターンKa,Kbを除去する。この結果、接着領域SRa,SRbとなる連結部154上下両面及び、充填部24jの上下両面は金属層が設けられていないものとなる。   Next, as shown in FIG. 7E, the conductive patterns Ka and Kb on the connecting portion 154 are removed with an etching solution in a state where the mask is applied to the regions to be the conductive patterns 24a and 24b. As a result, the upper and lower surfaces of the connecting portion 154 to be the adhesion regions SRa and SRb and the upper and lower surfaces of the filling portion 24j are not provided with metal layers.

この後、前記マスクを除去して、導電パターン24a,24bとなる領域を露出する。
次に、振動膜形成部材200について説明する。
前記振動膜形成部材200は、前記振動膜30を複数形成するための島部材202が縦横に配置された集合部材としてのシート材である。又、振動膜形成部材200には、振動膜30となる各島部材202が連結部204を介して枠部材206及び隣接する島部材202と連結されるとともに、各島部材202のコーナには、折返し部30bが形成されている形成されている。なお、スペーサ29は各島部材202に下面に対して接合されている。トップカバー形成部材250は、トップ基板25を複数形成するための集合部材としての基板であって、トップ基板25となる部位の領域において音孔28や導電パターン25a,25bが縦横に所定ピッチで形成されている。
Thereafter, the mask is removed to expose regions to be conductive patterns 24a and 24b.
Next, the vibration film forming member 200 will be described.
The vibration film forming member 200 is a sheet material as a collective member in which island members 202 for forming a plurality of vibration films 30 are arranged vertically and horizontally. In addition, each island member 202 to be the vibration film 30 is connected to the vibration film forming member 200 via the connecting portion 204 with the frame member 206 and the adjacent island member 202, and at each corner of each island member 202, A folded portion 30b is formed. The spacer 29 is bonded to the lower surface of each island member 202. The top cover forming member 250 is a substrate as a collective member for forming a plurality of top substrates 25, and the sound holes 28 and the conductive patterns 25a and 25b are formed at predetermined pitches in the vertical and horizontal directions in the region where the top substrate 25 is to be formed. Has been.

コンデンサマイクロホン21を製造するには、予め回路基板部材140に対して電界効果トランジスタ26を実装した状態で、該回路基板部材140を筐体基枠形成部材150に対して導電性接着剤及び接着シート27Aにより接着することにより両者を一体化する。なお、図6では説明の便宜上、一部の接着シート27Aのみ図示されているが、接着シート27Aは、回路基板23となる部位毎に使用される。   In order to manufacture the capacitor microphone 21, a conductive adhesive and an adhesive sheet are attached to the housing base frame forming member 150 in a state where the field effect transistor 26 is mounted on the circuit board member 140 in advance. Both are integrated by bonding with 27A. In FIG. 6, only a part of the adhesive sheet 27 </ b> A is shown for convenience of explanation, but the adhesive sheet 27 </ b> A is used for each part to be the circuit board 23.

次に、この組み立てられたアッシーに対して、保持部材33、バックプレート31を筐体基枠24に相当する部位内に収納する。次に、前記アッシーに対して振動膜形成部材200を導電性接着剤及び接着シート27Bを使用して接着する。このとき、該導電性接着剤により、筐体基枠24に相当する部位の導電パターン24aと島部材202のスペーサ29が接着される。なお、図6では説明の便宜上、一部の接着シート27Bのみ図示されているが、接着シート27Bは、筐体基枠24となる部位毎に使用される。   Next, the holding member 33 and the back plate 31 are housed in a portion corresponding to the housing base frame 24 with respect to the assembled assembly. Next, the vibration film forming member 200 is bonded to the assembly using a conductive adhesive and an adhesive sheet 27B. At this time, the conductive pattern 24 a corresponding to the housing base frame 24 and the spacer 29 of the island member 202 are bonded by the conductive adhesive. In FIG. 6, for convenience of explanation, only a part of the adhesive sheet 27 </ b> B is illustrated, but the adhesive sheet 27 </ b> B is used for each part to be the casing base frame 24.

そして、この後、トップカバー形成部材250を導電性接着剤を使用して、振動膜形成部材200が積層されたアッシーに対して接着する。このとき、トップカバー形成部材250の各導電パターン25bと振動膜30とが前記接着剤にて接着される。この後、ダイヤモンドブレード等を用いてダイシング(切断)し、複数のコンデンサマイクロホン21とする。   Thereafter, the top cover forming member 250 is bonded to the assembly on which the vibration film forming member 200 is laminated using a conductive adhesive. At this time, each conductive pattern 25b of the top cover forming member 250 and the vibration film 30 are bonded with the adhesive. Thereafter, dicing (cutting) is performed using a diamond blade or the like to form a plurality of condenser microphones 21.

なお、図6では、説明の便宜上、2×2=4個のコンデンサマイクロホン21を形成する状態を示しているが、実際は、一度に数百個のコンデンサマイクロホン21を形成する。   FIG. 6 shows a state where 2 × 2 = 4 condenser microphones 21 are formed for convenience of explanation, but in reality, several hundred condenser microphones 21 are formed at a time.

本実施形態のコンデンサマイクロホン21の製造方法は、以下の特徴を有する。
(1) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21の製造方法は、筐体基枠24(筐体基板)の接着領域SRa,SRbにスルーホール用の孔部152(貫通孔)を形成し(第1工程)、孔部152の内面及び接着領域SRa,SRbを含む筐体基枠24の表裏面に導電パターン24c,24p(第2金属層)を形成するようにした(第2工程)。そして、接着領域SRa,SRbに位置する孔部152に充填剤としてのエポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂を充填するようにし(第3工程)、接着領域SRa,SRbの導電パターンKa,Kb(第1金属層)及び導電パターン24p(第2金属層)を、切削やエッチングにより除去するようにした(第4工程)。そして、筐体基枠24(筐体基板)の表裏面の接着領域SRa,SRbに対して接着シート27A,27B(接着剤)を介してトップ基板25及び回路基板23を接着固定するようにした(第5工程)。
The method for manufacturing the condenser microphone 21 of the present embodiment has the following characteristics.
(1) In the method for manufacturing the condenser microphone 21 of the present embodiment, through holes 152 (through holes) are formed in the adhesion regions SRa and SRb of the housing base frame 24 (housing substrate) (first step). ), Conductive patterns 24c and 24p (second metal layer) are formed on the inner surface of the hole 152 and the front and back surfaces of the housing base frame 24 including the adhesion regions SRa and SRb (second step). The holes 152 located in the adhesion regions SRa and SRb are filled with an insulating synthetic resin such as an epoxy resin as a filler (third step), and the conductive patterns Ka and Kb (first step) of the adhesion regions SRa and SRb are filled. The first metal layer) and the conductive pattern 24p (second metal layer) were removed by cutting or etching (fourth step). Then, the top substrate 25 and the circuit board 23 are bonded and fixed to the bonding regions SRa and SRb on the front and back surfaces of the casing base frame 24 (the casing substrate) via the adhesive sheets 27A and 27B (adhesive). (5th process).

この結果、本実施形態によれば、筐体基枠24の表裏面に対して回路基板23とトップ基板25をそれぞれ接着シート27A,27Bにて接着する際、全接着領域SRa,SRbには金属層がないため、筐体基枠24の絶縁基板Kc(コア材)と回路基板23、及び筐体基枠24の絶縁基板Kcとトップ基板25との接着性を向上することができる。   As a result, according to the present embodiment, when the circuit board 23 and the top board 25 are bonded to the front and back surfaces of the casing base frame 24 by the adhesive sheets 27A and 27B, respectively, the metal is not added to all the bonding regions SRa and SRb. Since there is no layer, the adhesion between the insulating substrate Kc (core material) of the housing base frame 24 and the circuit board 23 and the insulating substrate Kc of the housing base frame 24 and the top substrate 25 can be improved.

(2) 本実施形態のコンデンサマイクロホンの製造方法では、孔部152に充填される充填剤としてのエポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂が、第4工程において使用されるエッチング液に反応しない樹脂充填剤としている。従って、第4工程のエッチング処理では、孔部152内、すなわち接着領域SRa,SRbに位置するエポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂の表裏面が変化しない。この結果、第5工程において行われる接着処理時の接着剤使用量が増加したり、或いは、接着剤を塗布した場合に樹脂充填剤の表裏面と塗布された接着剤との間に空隙が形成されといったことがなく、接着性に悪影響を及ぼすことがない。   (2) In the method for manufacturing a condenser microphone according to the present embodiment, an insulating synthetic resin such as an epoxy resin as a filler that fills the hole 152 is a resin filler that does not react with the etching solution used in the fourth step. It is said. Therefore, in the etching process of the fourth step, the front and back surfaces of the insulating synthetic resin such as epoxy resin located in the hole 152, that is, in the adhesion regions SRa and SRb are not changed. As a result, the amount of adhesive used during the bonding process performed in the fifth step is increased, or a gap is formed between the front and back surfaces of the resin filler and the applied adhesive when the adhesive is applied. There is no such thing, and there is no adverse effect on adhesion.

(3) 本実施形態のコンデンサマイクロホンの製造方法の第1工程においては、筐体基枠24(筐体基板)となる部位を複数個有する筐体基枠形成部材150(筐体基板集合部材)の筐体基枠24となる部位の周囲に対し、一部を残して孔部152(貫通孔)を形成するようにした。又、第5工程では、トップカバー形成部材250(トップ基板集合部材)のトップ基板となる各部位を、筐体基枠24となる各部位の表面の接着領域SRaに対してそれぞれ接着シート27A(接着剤)を介して接着固定するようにした。又、回路基板部材140(回路基板集合部材)の回路基板23となる各部位を、筐体基枠24となる各部位の裏面の接着領域SRbに対して接着シート27B(接着剤)を介して接着固定するようにした。この結果、筐体基枠形成部材150(筐体基板集合部材)、トップカバー形成部材250(トップ基板集合部材)、及び回路基板部材140(回路基板集合部材)を積層して、コンデンサマイクロホンを製造する場合において、上記(1)、(2)の作用効果を容易に実現できる。   (3) In the first step of the method for manufacturing the condenser microphone of the present embodiment, a housing base frame forming member 150 (housing substrate assembly member) having a plurality of parts to be the housing base frame 24 (housing substrate). A hole 152 (through hole) is formed with a part remaining around the portion to be the casing base frame 24. Further, in the fifth step, the respective parts to be the top substrate of the top cover forming member 250 (top substrate assembly member) are respectively attached to the adhesive regions SRa on the surface of the respective parts to be the casing base frame 24 with the adhesive sheets 27A ( The adhesive was fixed via an adhesive). In addition, each part to be the circuit board 23 of the circuit board member 140 (circuit board assembly member) is attached to the adhesive region SRb on the back surface of each part to be the casing base frame 24 via an adhesive sheet 27B (adhesive). Adhesion was fixed. As a result, the capacitor base microphone forming member 150 (casing substrate assembly member), the top cover forming member 250 (top substrate assembly member), and the circuit board member 140 (circuit substrate assembly member) are laminated to produce a capacitor microphone. In this case, the effects (1) and (2) can be easily realized.

(4) 本実施形態のコンデンサマイクロホンの製造方法では、第5工程の後に、孔部152が形成された部位をダイシングするようにした。この結果、本実施形態によれば、筐体基枠形成部材150、トップカバー形成部材250、及び回路基板部材140を積層して、コンデンサマイクロホンを製造する場合において、各集合部材から分離したコンデンサマイクロホンを製造する場合に、請求項3の作用効果を容易に実現できる。   (4) In the method for manufacturing the condenser microphone according to the present embodiment, the portion where the hole 152 is formed is diced after the fifth step. As a result, according to the present embodiment, when the condenser microphone is manufactured by stacking the casing base frame forming member 150, the top cover forming member 250, and the circuit board member 140, the condenser microphone separated from each assembly member In the case of manufacturing, the effect of claim 3 can be easily realized.

(5) 本実施形態のコンデンサマイクロホンは、筐体基枠24の表裏面に接着領域SRa,SRbを有し、筐体基枠24の表裏面の全接着領域SRa,SRbに対してそれぞれトップ基板25と、電装品を搭載する回路基板23とが金属層を介さずに接着剤により接着されている。この結果、筐体基枠24の絶縁基板Kc(コア材)と回路基板23、及び筐体基枠24の絶縁基板Kc(コア材)とトップ基板25との接着性が向上する。   (5) The condenser microphone of the present embodiment has adhesive regions SRa and SRb on the front and back surfaces of the housing base frame 24, and is a top substrate for all the adhesive regions SRa and SRb on the front and back surfaces of the housing base frame 24, respectively. 25 and the circuit board 23 on which the electrical components are mounted are bonded by an adhesive without using a metal layer. As a result, the adhesion between the insulating substrate Kc (core material) of the housing base frame 24 and the circuit board 23 and the insulating substrate Kc (core material) of the housing base frame 24 and the top substrate 25 is improved.

なお、接着領域SRa,SRbに位置する前記充填部24jの上下両面と、トップ基板25及び回路基板23と、充填部24jが接着剤と同材質であるため、接着性が損なわれることがない。   In addition, since the upper and lower surfaces of the filling portion 24j located in the bonding regions SRa and SRb, the top substrate 25 and the circuit board 23, and the filling portion 24j are made of the same material as the adhesive, the adhesiveness is not impaired.

なお、この実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
○ 前記実施形態ではバックプレート本体31aをステンレス鋼板から構成したが、真鍮板で構成したり、チタン板等により構成してもよい。
In addition, this embodiment can also be changed and embodied as follows.
In the above embodiment, the back plate main body 31a is made of a stainless steel plate, but may be made of a brass plate or a titanium plate.

○ 振動膜30をエレクトレット用の高分子フィルムにより構成したホイルエレクトレットタイプのコンデンサマイクロホンの製造方法においてこの発明を具体化してもよい。
○ 昇圧回路を有するチャージポンプ型のコンデンサマイクの製造方法においてこの発明を具体化してもよい。このように構成した場合には、エレクトレット層に替えて、振動膜30及びバックプレート31に互いに対向する電極が設けられる。
The present invention may be embodied in a method of manufacturing a foil electret type condenser microphone in which the vibration film 30 is made of a polymer film for electrets.
The present invention may be embodied in a method for manufacturing a charge pump type capacitor microphone having a booster circuit. In the case of such a configuration, electrodes facing each other are provided on the vibration film 30 and the back plate 31 in place of the electret layer.

○ 又、前記実施形態ではバックエレクトレット型のエレクトレットコンデンサマイクロホンについて説明を行ったが、フロントエレクトレット型のエレクトレットコンデンサマイクロホンに当該発明を適応しても構わない。   In the above embodiment, the back electret type electret condenser microphone has been described. However, the present invention may be applied to a front electret type electret condenser microphone.

○ 前記実施形態の回路基板23に実装されるインピーダンス変換素子は例示であり、静電容量の変動を検出できる公知のものであれば、アナログ/デジタルの何れの動作方法を採るものであっても適用できる。   The impedance conversion element mounted on the circuit board 23 of the above embodiment is an example, and any analog / digital operation method may be used as long as it is a known one that can detect a change in capacitance. Applicable.

○ 前記実施形態では、接着領域SRa,SRbの導電パターンKa,Kb(第1の金属層)及び導電パターン24p(第2の金属層)を、切削及びエッチングにより除去するようにした(第4工程)が、この方法に限定されるものではない。導電パターンKa,Kb(第1の金属層)及び導電パターン24pの除去をエッチング液によりエッチングのみで行っても良く、或いは、切削だけで行っても良い。   In the embodiment, the conductive patterns Ka and Kb (first metal layer) and the conductive pattern 24p (second metal layer) in the adhesion regions SRa and SRb are removed by cutting and etching (fourth process). ) Is not limited to this method. The removal of the conductive patterns Ka and Kb (first metal layer) and the conductive pattern 24p may be performed only by etching with an etching solution, or may be performed only by cutting.

本発明の一実施形態のコンデンサマイクロホンを示す断面図。Sectional drawing which shows the condenser microphone of one Embodiment of this invention. 図1のコンデンサマイクロホンの分解斜視図。The disassembled perspective view of the condenser microphone of FIG. 回路基板23表面上の導電パターンとレジストとの位置関係を示す説明図。Explanatory drawing which shows the positional relationship of the conductive pattern on the circuit board 23 surface, and a resist. (a)は回路基板23表面上の導電パターンの平面図、(b)は導電パターンの平面図、(c)は回路基板23裏面上の導電パターンの平面図。(A) is a top view of the conductive pattern on the circuit board 23 surface, (b) is a plan view of the conductive pattern, and (c) is a plan view of the conductive pattern on the back surface of the circuit board 23. 筐体基枠24の平面図。The top view of the housing | casing base frame 24. FIG. コンデンサマイクロホンの製造に用いる各部材を示す斜視図。The perspective view which shows each member used for manufacture of a condenser microphone. (a)〜(e)はコンデンサマイクロホンの孔部152及びその周辺の形成工程を示す説明図。(A)-(e) is explanatory drawing which shows the hole 152 of a condenser microphone, and the formation process of its periphery.

符号の説明Explanation of symbols

21…コンデンサマイクロホン、23…回路基板、
24…筐体基枠(筐体基板)、24c…導電パターン、
24p…導電パターン(第2金属層)、
25…トップ基板、27A,27B…接着シート(接着剤)、
152…孔部(貫通孔)、Ka,Kb…導電パターン(第1金属層)、
SRa,SRb…接着領域。
21 ... Condenser microphone, 23 ... Circuit board,
24 ... Housing base frame (housing substrate), 24c ... Conductive pattern,
24p ... conductive pattern (second metal layer),
25 ... Top substrate, 27A, 27B ... Adhesive sheet (adhesive),
152 ... hole (through hole), Ka, Kb ... conductive pattern (first metal layer),
SRa, SRb: Adhering region.

Claims (5)

第1金属層を有する筐体基板の表裏面に接着領域を設け、該接着領域に対してそれぞれトップ基板と、電装品を搭載する回路基板とが接着剤により接着されて構成されるコンデンサマイクロホンの製造方法において、
前記接着領域にスルーホール用の貫通孔を形成する第1工程と、
前記貫通孔の内面及び前記接着領域を含む前記筐体基板の表裏面に第2金属層を形成する第2工程と、
前記接着領域に位置する前記貫通孔に充填剤を充填する第3工程と、
前記接着領域の第1及び第2金属層を除去する第4工程と、
前記筐体基板の表裏面の接着領域に対して接着剤を介して前記トップ基板及び前記回路基板を接着固定する第5工程を含むことを特徴とするコンデンサマイクロホンの製造方法。
An adhesive microphone is provided in which a bonding region is provided on the front and back surfaces of a housing substrate having a first metal layer, and a top substrate and a circuit board on which an electrical component is mounted are bonded to the bonding region with an adhesive. In the manufacturing method,
A first step of forming a through hole for a through hole in the adhesive region;
A second step of forming a second metal layer on the front and back surfaces of the housing substrate including the inner surface of the through hole and the adhesion region;
A third step of filling the through hole located in the adhesion region with a filler;
A fourth step of removing the first and second metal layers in the adhesion region;
A method of manufacturing a condenser microphone, comprising: a fifth step of bonding and fixing the top substrate and the circuit substrate to an adhesive region on the front and back surfaces of the housing substrate through an adhesive.
前記充填剤が、前記第4工程において使用されるエッチング液に反応しない樹脂充填剤であることを特徴とする請求項1に記載のコンデンサマイクロホンの製造方法。   The method for manufacturing a condenser microphone according to claim 1, wherein the filler is a resin filler that does not react with the etching solution used in the fourth step. 前記第1工程は、筐体基板となる部位を複数個有する筐体基板集合部材の同筐体基板となる部位毎の周囲に対し、一部を残して前記貫通孔を形成するものであり、
前記第5工程は、前記トップ基板となる部位を複数個有するトップ基板集合部材の同トップ基板となる各部位を、前記筐体基板となる各部位の表面の接着領域に対してそれぞれ接着剤を介して接着固定するとともに、前記回路基板となる部位を複数個有する回路基板集合部材の同回路基板となる各部位を、前記筐体基板となる各部位の裏面の接着領域に対して接着剤を介して接着固定するものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のコンデンサマイクロホンの製造方法。
The first step is to form the through hole leaving a part of the periphery of each portion to be the housing substrate of the housing substrate assembly member having a plurality of portions to be the housing substrate,
In the fifth step, each of the parts of the top substrate assembly member having a plurality of parts to be the top substrate is attached to the adhesive region on the surface of each part to be the housing substrate. And adhesively fix each part to be the same circuit board of the circuit board assembly member having a plurality of parts to be the circuit board to an adhesive region on the back surface of each part to be the housing substrate. 3. The method of manufacturing a condenser microphone according to claim 1, wherein the condenser microphone is bonded and fixed.
さらに、第5工程の後に、前記貫通孔が形成された部位をダイシングする工程を備えていることを特徴とする請求項3に記載のコンデンサマイクロホンの製造方法。   4. The method of manufacturing a condenser microphone according to claim 3, further comprising a step of dicing the portion where the through hole is formed after the fifth step. 金属層を有する筐体基板の表裏面に接着領域を設け、該接着領域に対してそれぞれトップ基板と、電装品を搭載する回路基板とが接着剤により接着されて構成されるコンデンサマイクロホンにおいて、
前記筐体基板の表裏面の全接着領域に対して、前記金属層を介さずに接着剤にてそれぞれトップ基板と、電装品を搭載する回路基板とが接着固定されていることを特徴とするコンデンサマイクロホン。
In a condenser microphone configured by providing an adhesive region on the front and back surfaces of a housing substrate having a metal layer, and a top substrate and a circuit board on which electrical components are mounted respectively bonded to the adhesive region with an adhesive,
A top substrate and a circuit board on which an electrical component is mounted are bonded and fixed to each other on the front and back surfaces of the housing substrate with an adhesive without using the metal layer. Condenser microphone.
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