JP2005057645A - Electret capacitor microphone - Google Patents

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Hisayoshi Watanabe
久芳 渡辺
Osamu Sengoku
修 仙石
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive electret capacitor microphone which is very thin and has a simple manufacturing process. <P>SOLUTION: This electret capacitor microphone includes a vibrating electrode 26 composed of a first electret dielectric film with a first electrode film formed thereon, a fixed electrode 36 including a second dielectric film 32 with a second electrode film formed thereon and a metal plate 34 holding the second electret dielectric film 32, wherein the second electret dielectric film 32 is arranged so as to face the first electret dielectric film, a circuit board 40 arranged close to or with a gap to the metal plate 34, and a semiconductor element 46 of a bare chip configuration, wherein an input terminal 46A is arranged on one surface and an output terminal 46B is arranged on the other surface, respectively, and a projecting electrode is formed on each of the surfaces. The semiconductor element 46 is provided between the fixed electrode 36 and the circuit board 40, and electrode terminals on the input terminal 46A and the fixed electrode 36, and the output terminal 46B and the circuit board 40 are respectively connected. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明はエレクトレットを用いたコンデンサマイクロホンで、主として携帯電話機等に使用される小型のものに関する。   The present invention relates to a condenser microphone using an electret, which is mainly used for a mobile phone or the like.

携帯電話機等に使用される一般的なエレクトレットコンデンサマイクロホン(以下、ECMとよぶ)は、エレクトレット誘電体フィルムからなる振動電極と固定電極とで構成するコンデンサユニットと、振動電極と固定電極の間の電圧変化を増幅して電気信号として出力する信号増幅回路から構成されている。また、ECMからの信号に対するノイズ低減のためにフィルタ回路も設けることが多い。   A general electret condenser microphone (hereinafter referred to as an ECM) used for a cellular phone or the like includes a capacitor unit composed of a vibrating electrode made of an electret dielectric film and a fixed electrode, and a voltage between the vibrating electrode and the fixed electrode. It is composed of a signal amplifier circuit that amplifies the change and outputs it as an electrical signal. In addition, a filter circuit is often provided to reduce noise with respect to a signal from the ECM.

従来のECM構成を、図11の断面図および図12の分解斜視図を用いて説明する。なお、わかりやすくするために、各図面は厚さ方向の寸法を拡大して表わしてある。   A conventional ECM configuration will be described with reference to a cross-sectional view of FIG. 11 and an exploded perspective view of FIG. For the sake of simplicity, each drawing shows the dimension in the thickness direction enlarged.

ケース1の一方の面には、音声がエレクトレット誘電体フィルムに伝わるように音声入力開口部1Aが設けられており、その音声入力開口部1Aの内側部には塵埃を防止するための金属製の面布2が貼られている。   A voice input opening 1A is provided on one surface of the case 1 so that the voice is transmitted to the electret dielectric film, and the inner side of the voice input opening 1A is made of a metal for preventing dust. The face cloth 2 is affixed.

ケース1の内部には、一方の表面に第1電極膜が形成され、音響振動により振動する第1エレクトレット誘電体フィルムからなる振動電極3、振動電極3をケース1に固定するための導電性の電極リング4、第2電極膜が形成された第2エレクトレット誘電体フィルム5Aと補強用の金属板5Bを固着して導通接合させた固定電極5、固定電極5と振動電極3とが所定の間隔をあけて対向するように挿入された絶縁性のスペーサ6、固定電極5を支持するための絶縁体7、電気信号をインピーダンス変換し増幅して取出す半導体素子8、およびフィルタ回路を構成するコンデンサ9と抵抗10とが配設されている。   Inside the case 1, a first electrode film is formed on one surface, a vibrating electrode 3 made of a first electret dielectric film that vibrates by acoustic vibration, and a conductive material for fixing the vibrating electrode 3 to the case 1. The fixed electrode 5, the fixed electrode 5 and the vibrating electrode 3 fixedly connected to each other by the electrode ring 4 and the second electret dielectric film 5A on which the second electrode film is formed and the reinforcing metal plate 5B are fixedly connected. Insulating spacers 6 inserted so as to face each other, an insulator 7 for supporting the fixed electrode 5, a semiconductor element 8 for converting an electrical signal by impedance conversion and amplification, and a capacitor 9 constituting a filter circuit And a resistor 10 are disposed.

半導体素子8は、通常パッケージされた電界効果型トランジスタが用いられる。この半導体素子8は図12からわかるように、ピン状の電極端子13A、13Bがパッケージから延在され、その出力側の電極端子13Bは配線基板11の電極配線12に接続されている。一方、入力側の電極端子13Aは、半導体素子8の上面側まで折り曲げられ、導電性接着剤等によって固定電極5の金属板5Bに接続されている。また、コンデンサ9と抵抗10とは、配線基板11上に配置されて電極配線12にそれぞれ接続されている。   As the semiconductor element 8, a normally packaged field effect transistor is used. As can be seen from FIG. 12, the semiconductor element 8 has pin-shaped electrode terminals 13 A and 13 B extending from the package, and the output-side electrode terminal 13 B is connected to the electrode wiring 12 of the wiring substrate 11. On the other hand, the input-side electrode terminal 13A is bent to the upper surface side of the semiconductor element 8 and connected to the metal plate 5B of the fixed electrode 5 by a conductive adhesive or the like. The capacitor 9 and the resistor 10 are disposed on the wiring board 11 and connected to the electrode wiring 12 respectively.

図13はこのECMの回路構成を説明する回路図である。第1エレクトレット誘電体フィルムおよび第2エレクトレット誘電体フィルムで構成するコンデンサにおいて、音響振動により振動電極3が振動することで生じる電圧変動を信号として取出す。この電圧信号を電界効果型トランジスタからなる半導体素子8でインピーダンス変換および増幅し、コンデンサ9と抵抗10とで構成するフィルタ回路を通して電極端子15、16から外部回路(図示せず)に出力する構成となっている。なお、電極端子15、16は、配線基板11に設けられた上下接続導体14を介して内部の電極配線12と接続されている。また、この電極端子15、16のうちの一つは、ケース1と導通してアース回路に接続されている。   FIG. 13 is a circuit diagram for explaining the circuit configuration of the ECM. In the capacitor composed of the first electret dielectric film and the second electret dielectric film, voltage fluctuations caused by vibration of the vibrating electrode 3 due to acoustic vibration are taken out as a signal. The voltage signal is impedance-converted and amplified by the semiconductor element 8 made of a field effect transistor, and is output from the electrode terminals 15 and 16 to an external circuit (not shown) through a filter circuit formed by the capacitor 9 and the resistor 10. It has become. The electrode terminals 15 and 16 are connected to the internal electrode wiring 12 via the upper and lower connection conductors 14 provided on the wiring board 11. One of the electrode terminals 15 and 16 is electrically connected to the case 1 and connected to the earth circuit.

このようなECMは主として携帯電話機に使用されるので、携帯電話機の小型化、高密度化の進展に伴い、特に低背化が強く要求されている。しかしながら、上記の従来構成では、パッケージタイプの半導体素子8の厚さが比較的厚いこと、およびピン状の電極端子13Aを折り曲げて上面側に設けるため、薄くすることが困難であった。   Since such ECM is mainly used for mobile phones, there is a strong demand for lowering the height especially with the progress of downsizing and higher density of mobile phones. However, in the above-described conventional configuration, since the package type semiconductor element 8 is relatively thick and the pin-shaped electrode terminal 13A is bent and provided on the upper surface side, it is difficult to reduce the thickness.

このための対策として、たとえば、半導体素子としてインピーダンス変換回路を含む集積回路素子(IC)を用い、このICをベアチップ構成で配線基板に実装する構成が示されている。パッケージしたICは、通常、その高さが0.6mm以上あるためECMの薄型化が制限されていたが、ベアチップ構成のICを採用し、これをフリップチップボンディングすることによりIC自体を0.3mm程度に薄型化することができ、配線基板を含めたベアチップの厚さを0.8mm程度にすることができる。その結果、ECM全体の薄型化を実現している(たとえば、特許文献1)。   As a countermeasure for this, for example, a configuration in which an integrated circuit element (IC) including an impedance conversion circuit is used as a semiconductor element and this IC is mounted on a wiring board in a bare chip configuration is shown. The packaged IC usually has a height of 0.6 mm or more, so the thickness of the ECM is limited. However, a bare-chip IC is used, and the IC itself is 0.3 mm by flip-chip bonding. The thickness of the bare chip including the wiring board can be reduced to about 0.8 mm. As a result, the entire ECM is thinned (for example, Patent Document 1).

また、フロントエレクトレット型コンデンサマイクロホンにおいて、配線基板の板厚が全体の厚みに占める比率が高いことに着目し、半導体素子を電気的に接続し支持する配線導体が形成された第1配線基板と、この第1配線基板に積層され、半導体素子を貫通させる開口部が形成された第2配線基板とによって構成し、薄型化を達成する構成が示されている。これにより、外径が6mmφ、厚みが1mmのコンデンサマイクロホンを製造できるとしている(たとえば、特許文献2)。
特開平11−266499号公報 特開2001−95097号公報
Further, in the front electret condenser microphone, paying attention to the fact that the ratio of the thickness of the wiring board to the total thickness is high, a first wiring board on which wiring conductors for electrically connecting and supporting the semiconductor elements are formed; A configuration is shown in which the second wiring substrate is formed by being stacked on the first wiring substrate and formed with an opening through which the semiconductor element penetrates, thereby achieving a reduction in thickness. Thus, a condenser microphone having an outer diameter of 6 mmφ and a thickness of 1 mm can be manufactured (for example, Patent Document 2).
JP-A-11-266499 JP 2001-95097 A

上述の第1の例では、エレクトレット誘電体フィルムを保持すると同時に、このエレクトレット誘電体フィルムと配線基板とを電気的に接続するためのホルダが設けられている。このホルダは、全体として絶縁体で構成されており、上端面の一部から内側面、下端面の一部にわたって導電層を形成する必要があり、このような導電層を形成する工程は比較的複雑となり、結果としてコスト高になるという課題があった。   In the first example described above, a holder for electrically connecting the electret dielectric film and the wiring board at the same time as holding the electret dielectric film is provided. This holder is composed of an insulator as a whole, and it is necessary to form a conductive layer from a part of the upper end surface to a part of the inner side surface and the lower end surface. The process of forming such a conductive layer is relatively There was a problem that it was complicated and resulted in high costs.

また、第2の例においては、形状の異なる2枚の配線基板を貼り合せて使用することやケース内部側の配線基板には開口部が必要であること等により、配線基板の加工と組立てが比較的複雑となる。さらに、開口した領域部にコンデンサや半導体素子を実装するために、実装作業が複雑となるという課題もある。   Further, in the second example, the processing and assembly of the wiring board can be performed because two wiring boards having different shapes are attached to each other and the wiring board inside the case requires an opening. It becomes relatively complicated. Furthermore, since the capacitor and the semiconductor element are mounted in the opened region, there is a problem that the mounting work becomes complicated.

本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、非常に薄型で、かつ製造工程が簡単で、低コストのECMを提供することを目的とする。   The present invention solves such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a low-cost ECM that is very thin and has a simple manufacturing process.

上記課題を解決するために本発明のECMは、第1電極膜が一方の表面に形成された第1エレクトレット誘電体フィルムからなる振動電極と、第2電極膜が一方の表面に形成された第2エレクトレット誘電体フィルムと第2エレクトレット誘電体フィルムを保持する保持板とを含み、第2エレクトレット誘電体フィルムの他方の表面が第1エレクトレット誘電体フィルムの他方の表面に対向するように配設された固定電極と、保持板に密接または間隙を有して配設された配線基板と、一方の表面に入力端子、他方の表面に出力端子がそれぞれ配設され、入力端子と出力端子とのそれぞれに突起電極が形成されたベアチップ構成の電気信号をインピーダンス変換し増幅する半導体素子とを含み、半導体素子が固定電極と配線基板との間に配設され、入力端子と固定電極、および出力端子と配線基板上の電極端子とがそれぞれ突起電極を介して接続されている構成からなる。   In order to solve the above problems, an ECM according to the present invention includes a vibrating electrode made of a first electret dielectric film having a first electrode film formed on one surface and a second electrode film formed on one surface. Two electret dielectric films and a holding plate for holding the second electret dielectric film, the other surface of the second electret dielectric film being disposed so as to face the other surface of the first electret dielectric film. A fixed electrode, a wiring board disposed in close contact with or with a gap between the holding plate, an input terminal on one surface, and an output terminal on the other surface, respectively, and an input terminal and an output terminal, respectively. A semiconductor element that impedance-converts and amplifies a bare-chip electrical signal having a protruding electrode formed thereon, and the semiconductor element is disposed between the fixed electrode and the wiring board. Consists structure fixed electrode and the input terminal, and an output terminal and the electrode terminal on the wiring substrate are connected via the protruding electrode, respectively.

この構成により、ベアチップ構成の半導体素子は両面に設けた突起電極により固定電極と配線基板の電極端子に接続されるので、半導体素子を配置する空間を非常に小さくできる。また、固定電極から直接半導体素子に接続し、半導体素子から直接配線基板に接続するので、最短の配線長で接続が可能となる。さらに、従来のように固定電極から配線基板まで接続するための配線形成が不要となる。   With this configuration, since the semiconductor element having the bare chip configuration is connected to the fixed electrode and the electrode terminal of the wiring board by the protruding electrodes provided on both sides, the space for arranging the semiconductor element can be very small. Further, since the fixed electrode is directly connected to the semiconductor element and the semiconductor element is directly connected to the wiring substrate, the connection can be made with the shortest wiring length. Further, it is not necessary to form a wiring for connecting from the fixed electrode to the wiring board as in the prior art.

また、本発明のECMは、固定電極の保持板が第2電極膜と導通接合された金属板からなり、配線基板は半導体素子の厚みより少なくとも大きな間隔を設けて配設され、半導体素子の入力端子が金属板に突起電極を介して接続され、出力端子が配線基板上の電極端子に突起電極を介して接続されている構成からなる。   The ECM of the present invention comprises a metal plate in which the holding plate of the fixed electrode is conductively joined to the second electrode film, and the wiring board is disposed with a gap at least larger than the thickness of the semiconductor element. The terminal is connected to the metal plate via the protruding electrode, and the output terminal is connected to the electrode terminal on the wiring board via the protruding electrode.

この構成により、固定電極は金属板で保持されるので、半導体素子の入力端子と金属板との接続時に金属板を押し付ける荷重が加わっても特性への影響は少なくなる。この結果、歩留まりが高く、信頼性の高いECMを容易に得ることができる。   With this configuration, since the fixed electrode is held by the metal plate, even if a load pressing the metal plate is applied when the input terminal of the semiconductor element is connected to the metal plate, the influence on the characteristics is reduced. As a result, an ECM with a high yield and high reliability can be easily obtained.

また、本発明のECMは、固定電極の保持板が第2電極膜に接着され、かつ半導体素子を収納する形状の開口部が設けられた絶縁板からなり、配線基板は絶縁板に密接して配設され、半導体素子が上記開口部に収納され、入力端子が第2電極膜に突起電極を介して接続され、出力端子が配線基板上の電極端子に突起電極を介して接続されている構成からなる。   The ECM according to the present invention includes an insulating plate in which a holding plate for a fixed electrode is bonded to the second electrode film and an opening having a shape for housing a semiconductor element is provided, and the wiring board is in close contact with the insulating plate. The semiconductor device is disposed in the opening, the input terminal is connected to the second electrode film via the protruding electrode, and the output terminal is connected to the electrode terminal on the wiring board via the protruding electrode. Consists of.

この構成により、保持板内に半導体素子を収納するための空間が設けられるので、さらに薄型にすることができる。また、半導体素子が露出する空間領域が小さいので、半導体素子を密閉して保護しやすくなり、ベアチップ構成の半導体素子の信頼性を向上できる。   With this configuration, since a space for housing the semiconductor element is provided in the holding plate, the thickness can be further reduced. Further, since the space area where the semiconductor element is exposed is small, the semiconductor element can be easily sealed and protected, and the reliability of the semiconductor element having the bare chip configuration can be improved.

また、本発明のECMは、固定電極の保持板が第2電極膜に導通接合された金属板を介して接着され、かつ半導体素子を収納する形状の開口部が設けられた絶縁板からなり、配線基板は絶縁板に密接して配設され、半導体素子が開口部に収納され、入力端子が金属板に突起電極を介して接続され、出力端子が配線基板上の電極端子に突起電極を介して接続されている構成からなる。   The ECM of the present invention comprises an insulating plate in which a holding plate for a fixed electrode is bonded via a metal plate conductively bonded to the second electrode film, and an opening having a shape for housing a semiconductor element is provided. The wiring board is disposed in close contact with the insulating plate, the semiconductor element is accommodated in the opening, the input terminal is connected to the metal plate via the protruding electrode, and the output terminal is connected to the electrode terminal on the wiring board via the protruding electrode. Connected to each other.

この構成により、保持板内に半導体素子を収納するための空間が設けられるので、さらに薄型にすることができる。また、半導体素子が露出する空間領域が小さいので、半導体素子を密閉して保護しやすくなり、ベアチップ構成の半導体素子の信頼性を向上できる。さらに、半導体素子の突起電極を金属板に接続するときに、金属板を押し付ける荷重が加わっても特性への影響は少なくなる。この結果、歩留まりが高く、信頼性の高いECMを容易に得ることができる。   With this configuration, since a space for housing the semiconductor element is provided in the holding plate, the thickness can be further reduced. Further, since the space area where the semiconductor element is exposed is small, the semiconductor element can be easily sealed and protected, and the reliability of the semiconductor element having the bare chip configuration can be improved. Further, when connecting the protruding electrode of the semiconductor element to the metal plate, the influence on the characteristics is reduced even if a load pressing the metal plate is applied. As a result, an ECM with a high yield and high reliability can be easily obtained.

また、本発明のECMは、半導体素子の入力端子の突起電極と固定電極とが導電性接着剤により接続された構成からなる。この構成により、半導体素子と固定電極との接続を室温程度の低温で行うことで、半導体素子の接続工程を簡略化できる。また、配線基板をケース中に挿入するときに、同時に接続することもできる。   The ECM of the present invention has a configuration in which the protruding electrode of the input terminal of the semiconductor element and the fixed electrode are connected by a conductive adhesive. With this configuration, the connection process of the semiconductor element can be simplified by connecting the semiconductor element and the fixed electrode at a low temperature of about room temperature. Further, when the wiring board is inserted into the case, it can be connected at the same time.

また、本発明のECMは、半導体素子の入力端子の突起電極と固定電極とが圧接により電気的に接続された構成からなる。この構成により、半導体素子を配線基板上に接続固定した後、配線基板をケースに挿入すると同時に、半導体素子の突起電極と固定電極との接続を行うことができる。このため、組立て工程が容易なECMを実現できる。   Further, the ECM of the present invention has a configuration in which the protruding electrode of the input terminal of the semiconductor element and the fixed electrode are electrically connected by pressure contact. With this configuration, after the semiconductor element is connected and fixed on the wiring board, the wiring board is inserted into the case, and at the same time, the protruding electrode and the fixed electrode of the semiconductor element can be connected. For this reason, ECM with an easy assembly process can be realized.

また、本発明のECMは、第1電極膜が一方の表面に形成された第1エレクトレット誘電体フィルムからなる振動電極と、第2電極膜が一方の表面に形成され、半導体素子よりも少なくとも大きな開口部または切り欠き部を有する第2エレクトレット誘電体フィルムと、第2電極膜と導通接続され、開口部または切り欠き部まで延在された入力側電極端子と開口部または切り欠き部に設けられた出力側電極端子とが形成された配線基板と、一方の面に入力端子と出力端子とが配設され、入力端子と出力端子とのそれぞれに突起電極が形成されたベアチップ構成の電気信号をインピーダンス変換し増幅する半導体素子とを含み、第2エレクトレット誘電体フィルムが配線基板に接着固定されるとともに、第2電極膜と入力側電極端子とが接続され、半導体素子の入力端子と配線基板の入力側電極端子、および出力端子と出力側電極端子とがそれぞれ接続され、第2エレクトレット誘電体フィルムの表面と第1エレクトレット誘電体フィルムの表面とが所定の間隔を有して対向する位置に配設された構成からなる。   Further, the ECM of the present invention has a vibrating electrode made of a first electret dielectric film having a first electrode film formed on one surface and a second electrode film formed on one surface, and is at least larger than a semiconductor element. A second electret dielectric film having an opening or notch, and an input-side electrode terminal electrically connected to the second electrode film and extending to the opening or notch, and provided in the opening or notch A wiring board on which the output-side electrode terminals are formed, an input terminal and an output terminal on one surface, and an electric signal of a bare chip configuration in which a protruding electrode is formed on each of the input terminal and the output terminal. The second electret dielectric film is bonded and fixed to the wiring board, and the second electrode film and the input-side electrode terminal are connected to each other. The input terminal of the semiconductor element and the input-side electrode terminal of the wiring board, and the output terminal and the output-side electrode terminal are respectively connected, and the surface of the second electret dielectric film and the surface of the first electret dielectric film are predetermined. It consists of the structure arrange | positioned in the position which opposes at intervals.

この構成により、固定電極の保持板と配線基板とが一体化した構造となり、さらに薄型のECMを実現できる。また、半導体素子および第2エレクトレット誘電体フィルムはあらかじめ配線基板に接続しておき、その後ケースに配線基板を挿入して固定すればECMを作製できるので、組立て工程が大幅に簡略化できる。   With this configuration, the fixed electrode holding plate and the wiring substrate are integrated, and a thinner ECM can be realized. Further, since the ECM can be manufactured by connecting the semiconductor element and the second electret dielectric film to the wiring board in advance and then inserting and fixing the wiring board in the case, the assembly process can be greatly simplified.

また、本発明のECMは、配線基板にはコンデンサ、抵抗およびインダクタから選択した一つ以上の電子部品で構成されるフィルタ回路が膜作製技術により形成されている構成からなる。この構成により、チップ部品を使用する場合に比べて大幅に薄型化でき、ベアチップ構成の半導体素子を使用する場合に薄型化をより有効に実現できる。   The ECM of the present invention has a configuration in which a filter circuit composed of one or more electronic components selected from a capacitor, a resistor, and an inductor is formed on a wiring board by a film manufacturing technique. With this configuration, the thickness can be significantly reduced as compared with the case where a chip component is used, and the thickness can be more effectively realized when a semiconductor element having a bare chip configuration is used.

以上のように、本発明は対向する面上にそれぞれ入力端子と出力端子とが配設されたベアチップ構成の半導体素子が固定電極と配線基板との間に配設され、入力端子と固定電極、および出力端子と配線基板上の電極端子とがそれぞれ接続された構成からなる。   As described above, according to the present invention, a bare chip configuration semiconductor element in which an input terminal and an output terminal are disposed on opposite surfaces is disposed between a fixed electrode and a wiring board, and the input terminal and the fixed electrode, The output terminal and the electrode terminal on the wiring board are connected to each other.

この構成により、ベアチップ構成の半導体素子は両面に設けた突起電極により固定電極と配線基板の電極端子に接続されるので、半導体素子を配置する空間を非常に小さくできる。また、固定電極から直接半導体素子に接続し、半導体素子から直接配線基板に接続するので、最短の配線長で接続が可能となる。さらに、従来のように固定電極から配線基板まで接続するための配線形成が不要となる。これらにより、薄型で、かつ組立て構成が容易なECMを実現できるという大きな効果を奏する。   With this configuration, since the semiconductor element having the bare chip configuration is connected to the fixed electrode and the electrode terminal of the wiring board by the protruding electrodes provided on both sides, the space for arranging the semiconductor element can be very small. Further, since the fixed electrode is directly connected to the semiconductor element and the semiconductor element is directly connected to the wiring substrate, the connection can be made with the shortest wiring length. Further, it is not necessary to form a wiring for connecting from the fixed electrode to the wiring board as in the prior art. As a result, an ECM that is thin and easy to assemble can be realized.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、わかりやすくするために各図面の厚さ方向の寸法を拡大して表わしている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. For ease of understanding, the dimension in the thickness direction of each drawing is shown enlarged.

(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態にかかるECM20の断面図、図2は分解斜視図である。ケース22は、たとえばアルミニウム(Al)からなる円筒状であり、一方の面には音声がエレクトレット誘電体フィルムに伝わるように音声入力開口部22Aが設けられている。音声入力開口部22Aの内側部には、塵埃を防止するための金属製の面布24が貼られている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view of an ECM 20 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an exploded perspective view. The case 22 has a cylindrical shape made of, for example, aluminum (Al), and an audio input opening 22A is provided on one surface so that the audio is transmitted to the electret dielectric film. A metal face cloth 24 for preventing dust is affixed to the inner side of the voice input opening 22A.

ケース22の内部には、振動電極26、振動電極26をケース22に固定するための導電性の電極リング28、固定電極36、固定電極36と振動電極26とが所定の間隔をあけて対向するように挿入された絶縁性のスぺーサ30、固定電極36を支持するための絶縁体38、半導体素子46、フィルタ回路を構成するコンデンサ42と抵抗44、およびこれらが実装される配線基板40が、ケース22の下面部をかしめることにより配設されている。   Inside the case 22, the vibration electrode 26, the conductive electrode ring 28 for fixing the vibration electrode 26 to the case 22, the fixed electrode 36, and the fixed electrode 36 and the vibration electrode 26 face each other with a predetermined interval. The insulating spacer 30 inserted in this manner, the insulator 38 for supporting the fixed electrode 36, the semiconductor element 46, the capacitor 42 and the resistor 44 constituting the filter circuit, and the wiring board 40 on which these are mounted are provided. The lower surface of the case 22 is caulked.

振動電極26は、第1エレクトレット誘電体フィルムの一方の表面に第1電極膜(図示せず)が形成された構成からなる。また、固定電極36は、第2電極膜(図示せず)が一方の表面に形成された第2エレクトレット誘電体フィルム32と、この第2電極膜と導通接合された金属板34から構成されている。   The vibrating electrode 26 has a configuration in which a first electrode film (not shown) is formed on one surface of the first electret dielectric film. The fixed electrode 36 includes a second electret dielectric film 32 having a second electrode film (not shown) formed on one surface thereof, and a metal plate 34 that is conductively joined to the second electrode film. Yes.

配線基板40は、ケース22の内側面上に電極配線40Aが形成されており、この電極配線40Aの所定の位置には電極端子が形成され、それぞれコンデンサ42、抵抗44および半導体素子46や、他の図示しない電子部品等と接続されている。さらに、上下接続導体40Cを介して、外側の表面に外部機器に接続するための電極端子40Bが形成されている。この電極端子40Bは、ECM20の外形状に合せて同心円状に形成されているが、必ずしも同心円状である必要はない。   The wiring board 40 has an electrode wiring 40A formed on the inner side surface of the case 22, and electrode terminals are formed at predetermined positions of the electrode wiring 40A. The capacitor 42, the resistor 44, the semiconductor element 46, etc. Are connected to an electronic component (not shown). Furthermore, an electrode terminal 40B for connecting to an external device is formed on the outer surface via the vertical connection conductor 40C. The electrode terminals 40B are formed concentrically in accordance with the outer shape of the ECM 20, but are not necessarily concentric.

半導体素子46は、本実施の形態ではベアチップ構成の電界効果型トランジスタを用いている。その入力端子46Aは、半導体素子46の上面側、すなわち固定電極36の金属板34に対向する面上に突起電極を有して形成されている。また、その出力端子46Bは、配線基板40に対向する面上に、同様に突起電極を有して形成されている。突起電極を有する入力端子46Aと出力端子46Bとは、それぞれ、たとえば導電性接着剤により金属板34および配線基板40の電極端子と接続されている。   In this embodiment, the semiconductor element 46 uses a field-effect transistor having a bare chip configuration. The input terminal 46 </ b> A is formed with a protruding electrode on the upper surface side of the semiconductor element 46, that is, on the surface of the fixed electrode 36 facing the metal plate 34. The output terminal 46B is similarly formed on the surface facing the wiring substrate 40 with a protruding electrode. The input terminal 46 </ b> A and the output terminal 46 </ b> B having protruding electrodes are connected to the electrode terminals of the metal plate 34 and the wiring board 40 by, for example, a conductive adhesive.

本実施の形態のECM20の組立ては、たとえば以下のようにして行う。配線基板40上にあらかじめコンデンサ42、抵抗44および半導体素子46や、さらに必要な電子部品等をハンダや導電性接着剤により接続する。一方、ケース22中に、面布24、振動電極26、固定電極36、電極リング28、スぺーサ30および絶縁体38までを配設する。この状態とした後、半導体素子46の入力端子46Aの突起電極に導電性接着剤を塗布し、配線基板40をケース22中に挿入し、ケース22の下面部をかしめることにより、入力端子46Aの突起電極と金属板34とが電気的、機械的に接続される。これにより、ECM20の組立てが完了する。このために、絶縁体38の厚さは、突起電極を含む半導体素子46の厚さよりやや厚く形成している。   The assembly of the ECM 20 of the present embodiment is performed as follows, for example. A capacitor 42, a resistor 44, a semiconductor element 46, and necessary electronic components are connected to the wiring board 40 in advance by solder or a conductive adhesive. On the other hand, the face cloth 24, the vibration electrode 26, the fixed electrode 36, the electrode ring 28, the spacer 30 and the insulator 38 are disposed in the case 22. After this state, a conductive adhesive is applied to the protruding electrode of the input terminal 46A of the semiconductor element 46, the wiring board 40 is inserted into the case 22, and the lower surface portion of the case 22 is caulked to thereby input the input terminal 46A. The protruding electrode and the metal plate 34 are electrically and mechanically connected. Thereby, the assembly of the ECM 20 is completed. For this reason, the insulator 38 is formed to be slightly thicker than the semiconductor element 46 including the protruding electrodes.

このECMの動作について説明する。音声振動が振動電極26に加わり、振動電極26と固定電極36とで構成されるコンデンサにより発生する電圧は、固定電極36から半導体素子46に入力され、インピーダンス変換と増幅とが行われる。この信号が配線基板40に出力される。この配線基板40に出力された信号は、コンデンサ42と抵抗44とで構成されるフィルタ回路を介して、配線基板40の電極端子40Bから外部機器(図示せず)に出力される。一方、振動電極26は、導電体リング28とケース22とを介して配線基板40の電極端子40Bのうちのアース用の電極端子に接続されており、同様に外部機器のアース端子に接続される。以上の動作により、音声を電気信号に変換して外部機器に出力することができる。   The operation of this ECM will be described. A sound vibration is applied to the vibration electrode 26, and a voltage generated by a capacitor composed of the vibration electrode 26 and the fixed electrode 36 is input to the semiconductor element 46 from the fixed electrode 36, and impedance conversion and amplification are performed. This signal is output to the wiring board 40. The signal output to the wiring board 40 is output from the electrode terminal 40B of the wiring board 40 to an external device (not shown) through a filter circuit including a capacitor 42 and a resistor 44. On the other hand, the vibration electrode 26 is connected to the ground electrode terminal of the electrode terminals 40B of the wiring board 40 via the conductor ring 28 and the case 22, and is similarly connected to the ground terminal of the external device. . Through the above operation, sound can be converted into an electrical signal and output to an external device.

なお、フィルタ回路を構成するコンデンサ42と抵抗44とは、チップ部品を実装してもよいが、薄膜形成技術や印刷形成技術等の膜作製技術によって形成すれば、複数のコンデンサや抵抗を内蔵させることも容易であるので、さらに薄型で高機能のECMを実現できる。このような膜作製技術により形成するフィルタ回路は、その厚さが数十μm程度にできるため、ECM20の厚さを増大させることなく、効率よくノイズを防止できる。   The capacitor 42 and the resistor 44 constituting the filter circuit may be mounted with chip parts, but if formed by a film production technique such as a thin film formation technique or a print formation technique, a plurality of capacitors or resistors are incorporated. Since it is also easy, it is possible to realize an even thinner and higher-performance ECM. Since the filter circuit formed by such a film manufacturing technique can have a thickness of about several tens of μm, noise can be efficiently prevented without increasing the thickness of the ECM 20.

本実施の形態によるECM20は、ベアチップ構成で、その両面に突起電極を有する入力端子46Aと出力端子46Bとを備えた半導体素子46を用いているので、その厚さは0.1mmから0.3mm程度とすることができる。また、ピン状の電極端子を用いることもないので、半導体素子46を実装する厚さを従来に比べて大幅に薄型化できる。したがって、ECM全体の厚さを従来に比べて薄くすることができる。   Since the ECM 20 according to the present embodiment uses a semiconductor element 46 having a bare chip configuration and having an input terminal 46A and an output terminal 46B having protruding electrodes on both sides, the thickness thereof is 0.1 mm to 0.3 mm. Can be about. Further, since no pin-shaped electrode terminals are used, the thickness of mounting the semiconductor element 46 can be significantly reduced as compared with the conventional case. Therefore, the thickness of the entire ECM can be reduced as compared with the conventional one.

さらに、本実施の形態のECM20によれば、半導体素子46の入力端子46Aと固定電極36の金属板34との接続は、突起電極上に導電性接着剤を塗布しておき、配線基板40をケース22に挿入し、ケース22の下面部をかしめるだけでよいので、組立て工程を簡略化できる。また、固定電極36から配線基板40に接続するための配線を特に設ける必要がないので、絶縁体38を低コストに作製することもできる。   Furthermore, according to the ECM 20 of the present embodiment, the connection between the input terminal 46A of the semiconductor element 46 and the metal plate 34 of the fixed electrode 36 is performed by applying a conductive adhesive on the protruding electrode, Since it is only necessary to insert the case 22 and caulk the lower surface portion of the case 22, the assembly process can be simplified. In addition, since it is not necessary to provide a wiring for connecting the fixed electrode 36 to the wiring board 40, the insulator 38 can be manufactured at low cost.

なお、本実施の形態では、半導体素子46をコンデンサ42や抵抗44とともにあらかじめ配線基板40に実装した後に、固定電極36の金属板34に導電性接着剤により接続する方法としたが、本発明はこれには限定されない。たとえば、半導体素子46が金属板34に圧着された状態となるように、ケース22をかしめて組立てるようにしてもよい。また、半導体素子46と配線基板40との接続を、金属板34に半導体素子46を接続するときに同時に導電性接着剤を用いて行ってもよい。   In the present embodiment, the semiconductor element 46 is mounted on the wiring board 40 together with the capacitor 42 and the resistor 44 in advance, and then connected to the metal plate 34 of the fixed electrode 36 with a conductive adhesive. This is not a limitation. For example, the case 22 may be crimped and assembled so that the semiconductor element 46 is in a state of being crimped to the metal plate 34. Further, the connection between the semiconductor element 46 and the wiring board 40 may be performed using a conductive adhesive at the same time when the semiconductor element 46 is connected to the metal plate 34.

さらに、本実施の形態では、半導体素子46、コンデンサ42および抵抗44が実装された空間部は、特に積極的に密封する構造とはされていないが、本発明はこれに限定されることはない。たとえば、半導体素子46が実装された領域部を除く配線基板40の表面上に絶縁性の樹脂を塗布しておいた後、配線基板40をケース22に挿入して半導体素子46の入力端子46Aと金属板34との接続を行うと同時に、半導体素子46を取り囲むように空間部に樹脂を充填して外気から遮蔽するようにしてもよい。あるいは、配線基板40の外周部に接着剤を塗布しておき、ケース22の下面部をかしめるときに、配線基板40の外周部と絶縁体38とを接着することで、空間部を外気から遮蔽するようにしてもよい。このようにすることにより、ベアチップ構成の半導体素子46の信頼性をさらに改善できる。   Furthermore, in this embodiment, the space where the semiconductor element 46, the capacitor 42, and the resistor 44 are mounted is not particularly positively sealed, but the present invention is not limited to this. . For example, after applying an insulating resin on the surface of the wiring board 40 except for the region where the semiconductor element 46 is mounted, the wiring board 40 is inserted into the case 22 and the input terminal 46A of the semiconductor element 46 is connected. Simultaneously with the connection with the metal plate 34, the space may be filled with resin so as to surround the semiconductor element 46 and shielded from the outside air. Alternatively, an adhesive is applied to the outer peripheral portion of the wiring substrate 40, and when the lower surface portion of the case 22 is caulked, the outer peripheral portion of the wiring substrate 40 and the insulator 38 are bonded, thereby removing the space portion from the outside air. You may make it shield. By doing so, the reliability of the semiconductor element 46 having a bare chip configuration can be further improved.

(第2の実施の形態)
図3は、本発明の第2の実施の形態によるECM50の断面図である。なお、図1および図2と同じ要素については同じ符号を付している。
(Second Embodiment)
FIG. 3 is a cross-sectional view of an ECM 50 according to the second embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same element as FIG. 1 and FIG.

ケース22は、第1の実施の形態のECM20と同じように、たとえばアルミニウム(Al)で形成された円筒状で、音声入力開口部22Aが設けられている。この音声入力開口部22Aの内面には、内部に塵埃が侵入するのを防ぐ金属製の面布24が貼られている。   As with the ECM 20 of the first embodiment, the case 22 has a cylindrical shape made of aluminum (Al), for example, and is provided with an audio input opening 22A. A metal face cloth 24 is attached to the inner surface of the voice input opening 22A to prevent dust from entering the inside.

ケース22の内部には、一方の表面に第1電極膜(図示せず)が形成された第1エレクトレット誘電体フィルムからなる振動電極26、この振動電極26をケース22に固定するための導電性の電極リング28、固定電極58、この固定電極58と振動電極26とが所定の間隔を有して対向配置させるための絶縁性のスぺーサ30、および配線基板40が所定の位置関係を保持して配設されるとともに、電気的な接続が行われている。   Inside the case 22, a vibrating electrode 26 made of a first electret dielectric film having a first electrode film (not shown) formed on one surface, and conductivity for fixing the vibrating electrode 26 to the case 22. The electrode ring 28, the fixed electrode 58, the insulating spacer 30 for arranging the fixed electrode 58 and the vibrating electrode 26 to face each other with a predetermined distance, and the wiring board 40 maintain a predetermined positional relationship. And electrical connection is made.

固定電極58は本実施の形態では、一方の表面に第2電極膜54が形成された第2エレクトレット誘電体フィルム52と、第2電極膜54に接着された樹脂等からなる補強板56とから構成されている。補強板56には図4に示すように、半導体素子46よりやや大きな形状の開口部56Aが設けられている。第1の実施の形態と同じ構成からなる配線基板40上には、薄膜技術により形成されたコンデンサ60と抵抗62とが設けられている。半導体素子46は、補強板56の開口部56Aに相当する位置の配線基板40上で、電極配線40Aに設けられた電極端子と半導体素子46の出力端子46Bとが接続されている。また、半導体素子46の入力端子46Aと固定電極58の第2電極膜54とが導電性接着剤により接続されている。   In the present embodiment, the fixed electrode 58 includes a second electret dielectric film 52 having a second electrode film 54 formed on one surface, and a reinforcing plate 56 made of a resin or the like adhered to the second electrode film 54. It is configured. As shown in FIG. 4, the reinforcing plate 56 is provided with an opening 56 </ b> A having a shape slightly larger than that of the semiconductor element 46. On the wiring board 40 having the same configuration as that of the first embodiment, a capacitor 60 and a resistor 62 formed by thin film technology are provided. In the semiconductor element 46, the electrode terminal provided in the electrode wiring 40 </ b> A and the output terminal 46 </ b> B of the semiconductor element 46 are connected on the wiring substrate 40 at a position corresponding to the opening 56 </ b> A of the reinforcing plate 56. Further, the input terminal 46A of the semiconductor element 46 and the second electrode film 54 of the fixed electrode 58 are connected by a conductive adhesive.

このECM50の組立て方法については、第1の実施の形態と同様に行うことができるので説明は省略する。   The method for assembling the ECM 50 can be performed in the same manner as in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

本実施の形態のECM50では、補強板56中に開口部56Aを設け、この開口部56A中に半導体素子46を収納しているので、第1の実施の形態のECM20の場合のような空間部が不要となるので、さらに薄型にできる。   In the ECM 50 of the present embodiment, the opening 56A is provided in the reinforcing plate 56, and the semiconductor element 46 is accommodated in the opening 56A. Therefore, the space portion as in the case of the ECM 20 of the first embodiment is used. Can be further reduced.

なお、固定電極58の第2エレクトレット誘電体フィルム52の厚さが2μm〜5μmで、第2電極膜54は0.1μm〜0.5μm程度であるので、半導体素子46の入力端子46Aを接続するときに大きな加重が加わると損傷することがある。このため、突起電極上に導電性接着剤を塗布し、この導電性接着剤が開口部56Aに露出した第2電極膜54に対して広い面積で接続されるとともに固着させるようにすることが望ましい。   Since the thickness of the second electret dielectric film 52 of the fixed electrode 58 is 2 μm to 5 μm and the second electrode film 54 is about 0.1 μm to 0.5 μm, the input terminal 46A of the semiconductor element 46 is connected. Sometimes heavy loads can cause damage. For this reason, it is desirable to apply a conductive adhesive on the protruding electrode so that the conductive adhesive is connected and fixed to the second electrode film 54 exposed in the opening 56A in a wide area. .

さらに、本実施の形態のECM50の変形例のECM70断面構成を図5に示す。なお、図3および図4と同じ要素については、同じ符号を付している。   Further, FIG. 5 shows a cross-sectional configuration of the ECM 70 of a modified example of the ECM 50 of the present embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same element as FIG. 3 and FIG.

図5に示すECM70は、固定電極66の構成が図3に示すECM50とは異なる。すなわち、固定電極66は、この変形例のECM70の場合、第2エレクトレット誘電体フィルム52、この一方の表面に形成された第2電極膜54、開口部56Aが設けられた補強板56および第2電極膜54に導通接合された0.05mm程度の厚さの金属板64から構成されている。また、補強板56は、金属板64に接着されている。その他の構成については、図3に示すECM50と同じである。   The ECM 70 shown in FIG. 5 is different from the ECM 50 shown in FIG. 3 in the configuration of the fixed electrode 66. That is, in the case of the ECM 70 of this modification, the fixed electrode 66 includes the second electret dielectric film 52, the second electrode film 54 formed on one surface thereof, the reinforcing plate 56 provided with the opening 56A, and the second It is composed of a metal plate 64 having a thickness of about 0.05 mm that is conductively joined to the electrode film 54. The reinforcing plate 56 is bonded to the metal plate 64. Other configurations are the same as those of the ECM 50 shown in FIG.

このように、第2電極膜54と補強板56との間に金属板64を挿入することにより、半導体素子46の入力端子46Aに設けた突起電極と金属板64とを圧接により接続することも可能となり、ケース22の下面部でかしめるときの加重によりECM70の製造歩留まりが低下することがなくなる。   Thus, by inserting the metal plate 64 between the second electrode film 54 and the reinforcing plate 56, the protruding electrode provided on the input terminal 46A of the semiconductor element 46 and the metal plate 64 may be connected by pressure contact. This makes it possible to prevent the manufacturing yield of the ECM 70 from being reduced by the weight applied when caulking at the lower surface of the case 22.

(第3の実施の形態)
図6は、本発明の第3の実施の形態によるECM80の断面図を示す。なお、図1から図5に示す要素と同じ要素については同じ符号を付している。
(Third embodiment)
FIG. 6 shows a cross-sectional view of an ECM 80 according to a third embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same element as the element shown in FIGS.

本実施の形態のECM80は、固定電極88の構成が第1の実施の形態および第2の実施の形態のECMとは異なるので、固定電極88の構成を主体として説明する。   The ECM 80 of the present embodiment is different from the ECMs of the first embodiment and the second embodiment in the configuration of the fixed electrode 88, and therefore, the configuration of the fixed electrode 88 will be mainly described.

図7は、この固定電極88の外観斜視図である。本実施の形態では、第2電極膜84が一方の表面に形成された第2エレクトレット誘電体フィルム82は、図6、図7からわかるように、円形状の外周領域の一部が切り欠かれている。   FIG. 7 is an external perspective view of the fixed electrode 88. In the present embodiment, as can be seen from FIGS. 6 and 7, the second electret dielectric film 82 having the second electrode film 84 formed on one surface has a part of a circular outer peripheral region cut out. ing.

配線基板86は、表面に薄膜技術または印刷形成技術等によりコンデンサ(図示せず)や抵抗(図示せず)が形成され、電極配線86Aがさらに表面層に形成されている。この電極配線86Aと上下接続導体86Dを介して、外側面に外部機器(図示せず)と接続するための電極端子86Cが設けられている。電極配線86Aは、第2エレクトレット誘電体フィルム82よりもやや大きな形状に加工されており、半導体素子90の入力端子90Aと接続する領域部を除く全面で第2電極膜84と導通接合されている。また、その一部は第2エレクトレット誘電体フィルム82を貼りつけた後でも露出しており、この領域部で半導体素子90の入力端子90Aと接続されている。さらに、半導体素子90の出力端子90Bと接続するための電極配線86Bが、電極配線86Aと同一面上で、かつ対向する位置に形成されている。   The wiring board 86 has a capacitor (not shown) and a resistor (not shown) formed on the surface thereof by a thin film technique or a print forming technique, and an electrode wiring 86A is further formed on the surface layer. An electrode terminal 86C for connecting to an external device (not shown) is provided on the outer surface via the electrode wiring 86A and the vertical connection conductor 86D. The electrode wiring 86A is processed to have a shape slightly larger than that of the second electret dielectric film 82, and is electrically connected to the second electrode film 84 on the entire surface excluding the region connected to the input terminal 90A of the semiconductor element 90. . Further, a part of the film is exposed even after the second electret dielectric film 82 is attached, and is connected to the input terminal 90A of the semiconductor element 90 in this region. Further, an electrode wiring 86B for connecting to the output terminal 90B of the semiconductor element 90 is formed on the same surface as the electrode wiring 86A and at a position facing it.

第2エレクトレット誘電体フィルム82は、第2電極膜84と電極配線86Aとが導通接合されて配線基板86上に固着されている。   In the second electret dielectric film 82, the second electrode film 84 and the electrode wiring 86 </ b> A are conductively bonded and fixed to the wiring substrate 86.

また、ベアチップ構成の半導体素子90は、本実施の形態では入力端子90Aおよび出力端子90Bともに同一面上に形成されており、これらには突起電極(図示せず)が設けられている。半導体素子90はこの突起電極を介して、入力端子90Aが電極配線86Aと接続され、出力端子90Bが電極配線86Bと接続されている。この接続は、導電性接着剤による方法であってもよいし、突起電極をハンダや金(Au)で形成しておき、ハンダ接合や金−スズ(Au−Sn)接合等の方法であってもよい。このようにして、第2エレクトレット誘電体フィルム82に加えて、配線基板86上に半導体素子90およびフィルタ回路を構成するコンデンサ(図示せず)と抵抗(図示せず)等を含んでなる固定電極88が構成されている。   Further, in this embodiment, the bare chip-structured semiconductor element 90 is formed on the same surface for both the input terminal 90A and the output terminal 90B, and is provided with a protruding electrode (not shown). The semiconductor element 90 has an input terminal 90A connected to the electrode wiring 86A and an output terminal 90B connected to the electrode wiring 86B through the protruding electrodes. This connection may be a method using a conductive adhesive, or may be a method such as solder bonding or gold-tin (Au-Sn) bonding in which protruding electrodes are formed of solder or gold (Au). Also good. In this way, in addition to the second electret dielectric film 82, a fixed electrode including a capacitor (not shown), a resistor (not shown), and the like constituting a semiconductor element 90 and a filter circuit on the wiring board 86. 88 is configured.

この固定電極88を振動電極26に対して所定の間隔を保持するようにスペーサ92を介して対向させ、ケース22の下面部をかしめれば組立てが完了してECM80が得られる。   If the fixed electrode 88 is opposed to the vibrating electrode 26 via a spacer 92 so as to maintain a predetermined distance and the lower surface portion of the case 22 is crimped, the assembly is completed and the ECM 80 is obtained.

以上のように本実施の形態によれば、配線基板86が第2エレクトレット誘電体フィルム82の補強板の役割も果たし、かつ、半導体素子90は振動電極26と第2エレクトレット誘電体フィルム82とでつくられる空間部に収納されるので、さらに全体を薄型にすることができる。また、本実施の形態では、配線基板86上に第2エレクトレット誘電体フィルム82や半導体素子90を含むほとんどすべての部品を実装した後に、ケース22中に挿入すれば組立てが行えるので組立て工程の簡略化も可能となる。   As described above, according to the present embodiment, the wiring board 86 also serves as a reinforcing plate for the second electret dielectric film 82, and the semiconductor element 90 includes the vibrating electrode 26 and the second electret dielectric film 82. Since it is housed in the created space, the whole can be made thinner. In the present embodiment, since almost all components including the second electret dielectric film 82 and the semiconductor element 90 are mounted on the wiring board 86 and then inserted into the case 22, the assembly process can be simplified. It becomes possible.

なお、本実施の形態では、半導体素子90を実装するために、第2エレクトレット誘電体フィルム82の外周部の一部を切り欠いたが、本発明はこれに限定されることはない。たとえば、第2エレクトレット誘電体フィルム82に開口部を設けて、この開口部に位置する配線基板86上に電極配線86A、86Bを形成して半導体素子90を実装してもよい。   In the present embodiment, in order to mount the semiconductor element 90, a part of the outer periphery of the second electret dielectric film 82 is cut out, but the present invention is not limited to this. For example, the semiconductor element 90 may be mounted by providing an opening in the second electret dielectric film 82 and forming the electrode wirings 86A and 86B on the wiring substrate 86 located in the opening.

また、第1の実施の形態から第3の実施の形態までにおいては、ケースの下面部をかしめることでECMを組立てる構成で説明したが、本発明はこれに限定されない。たとえば、円筒状のケースを用いて、このケースの下面部に配線基板を嵌め込み、その後固定電極、振動電極、電極リング、スぺーサおよび絶縁体を配設し、最後に面布を貼りつける構成としてもよい。   In the first to third embodiments, the ECM is assembled by caulking the lower surface portion of the case. However, the present invention is not limited to this. For example, a cylindrical case is used, a wiring board is fitted into the lower surface of the case, a fixed electrode, a vibration electrode, an electrode ring, a spacer and an insulator are then disposed, and finally a face cloth is attached. It is good.

そして、以上の実施の形態において、面布24をケース22の内側に示したが、ケース22の外側であってもよい。   In the above embodiment, the face cloth 24 is shown inside the case 22, but it may be outside the case 22.

本実施例では、第1の実施の形態のECM20を基本とし、フィルタ回路構成を一部変更した変形例のECM200について説明する。図8は、本実施例のECM200の断面構成を示す図である。また、図9は、配線基板140上において、フィルタ回路構成を示す平面図である。図10は、本実施例のECM200の回路構成を説明する回路図である。なお、図1および図2と同じ要素については同じ符号を付している。   In this example, an ECM 200 according to a modification in which the ECM 20 of the first embodiment is used as a base and the filter circuit configuration is partially changed will be described. FIG. 8 is a diagram showing a cross-sectional configuration of the ECM 200 of the present embodiment. FIG. 9 is a plan view showing a filter circuit configuration on the wiring board 140. FIG. 10 is a circuit diagram illustrating the circuit configuration of the ECM 200 according to the present embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same element as FIG. 1 and FIG.

本実施例においては、配線基板140の構造が第1の実施の形態で説明したECM20と異なる点であるので、この配線基板140を主体に説明する。配線基板140は、樹脂基材181の固定電極36に対向する面上に下層電極配線182a、182b、182c、182dが形成されている。下層電極配線182aは、下部コンデンサ電極層を兼ねており、この電極端子部が露出するように誘電体層184を形成する。さらに、この誘電体層184上に、上部コンデンサ電極層185a、185bが形成されている。下層電極配線182a、誘電体層184および上部コンデンサ電極層185aにより第1のコンデンサ190が構成され、同様に下層電極配線182a、誘電体層184および上部コンデンサ電極層185bにより第2のコンデンサ195が形成されている。抵抗層186a、186bが下層電極配線182b、182c間と、下層電極配線182b、182d間とに形成されて、それぞれの下層電極配線182b、182c、182dとを含めて第1の抵抗100と第2の抵抗105とが構成される。これら二つの抵抗と二つのコンデンサとから本実施例のフィルタ回路が構成される。   In this example, the structure of the wiring board 140 is different from the ECM 20 described in the first embodiment, and therefore this wiring board 140 will be mainly described. In the wiring substrate 140, lower electrode wirings 182 a, 182 b, 182 c, and 182 d are formed on the surface of the resin base material 181 that faces the fixed electrode 36. The lower electrode wiring 182a also serves as a lower capacitor electrode layer, and a dielectric layer 184 is formed so that this electrode terminal portion is exposed. Further, upper capacitor electrode layers 185 a and 185 b are formed on the dielectric layer 184. The first capacitor 190 is constituted by the lower layer electrode wiring 182a, the dielectric layer 184 and the upper capacitor electrode layer 185a. Similarly, the second capacitor 195 is formed by the lower layer electrode wiring 182a, the dielectric layer 184 and the upper capacitor electrode layer 185b. Has been. Resistance layers 186a and 186b are formed between the lower layer electrode wirings 182b and 182c and between the lower layer electrode wirings 182b and 182d. The first resistor 100 and the second resistor 100 including the lower layer electrode wirings 182b, 182c and 182d The resistor 105 is configured. These two resistors and two capacitors constitute the filter circuit of this embodiment.

また、樹脂基材181の外側面には、外部機器(図示せず)に接続するための電極端子146、148が形成されている。これらの電極端子146、148は、それぞれ上下接続導体142、144により下層電極配線182c、182aに接続されている。   In addition, electrode terminals 146 and 148 for connecting to an external device (not shown) are formed on the outer surface of the resin base material 181. These electrode terminals 146 and 148 are connected to lower layer electrode wirings 182c and 182a by upper and lower connection conductors 142 and 144, respectively.

以下、配線基板140の具体的な製造工程について説明する。樹脂基材181として、厚さが0.13mmのガラスエポキシ基材を用いた。このガラスエポキシ基材上に銅(Cu)薄膜をスパッタリング法により約200nmの厚さに形成し、所定のパターン加工を行い下層電極配線182a、182b、182c、182dを形成した。つぎに、この下層電極配線182aの電極端子部のみが露出するようにマスキングした後、二酸化ケイ素(SiO)薄膜をスパッタリング法により約100nmの厚さに形成して誘電体層184とした。さらに、この誘電体層184上に銅(Cu)薄膜を同様にスパッタリング法により約200nmの厚さに形成し、所定の加工を行い上部コンデンサ電極層185a、185bを形成した。この工程により、第1のコンデンサ190と第2のコンデンサ195とが形成される。 Hereinafter, a specific manufacturing process of the wiring board 140 will be described. As the resin substrate 181, a glass epoxy substrate having a thickness of 0.13 mm was used. A copper (Cu) thin film was formed on the glass epoxy substrate to a thickness of about 200 nm by sputtering, and predetermined pattern processing was performed to form lower layer electrode wirings 182a, 182b, 182c, and 182d. Next, after masking so that only the electrode terminal portion of this lower layer electrode wiring 182a was exposed, a silicon dioxide (SiO 2 ) thin film was formed to a thickness of about 100 nm by a sputtering method to form a dielectric layer 184. Further, a copper (Cu) thin film was similarly formed on the dielectric layer 184 by sputtering to a thickness of about 200 nm, and predetermined processing was performed to form upper capacitor electrode layers 185a and 185b. By this step, the first capacitor 190 and the second capacitor 195 are formed.

つぎに、ニッケル−クロム(Ni−Cr)合金をスパッタリング法により形成し、下層電極配線182bと、下層電極配線182c、182dとの間にシート抵抗値が1000Ω/□の長方形状の抵抗層186a、186bを形成した。この工程により、第1の抵抗100と第2の抵抗105とが形成される。   Next, a nickel-chromium (Ni—Cr) alloy is formed by a sputtering method, and a rectangular resistance layer 186a having a sheet resistance value of 1000Ω / □ between the lower electrode wiring 182b and the lower electrode wiring 182c, 182d, 186b was formed. By this step, the first resistor 100 and the second resistor 105 are formed.

なお、本実施例の第1のコンデンサ190と第2のコンデンサ195の容量値は、それぞれ100pFと10pFであり、第1の抵抗100と第2の抵抗105の抵抗値は、どちらも150Ωとなるようにした。   Note that the capacitance values of the first capacitor 190 and the second capacitor 195 in this embodiment are 100 pF and 10 pF, respectively, and the resistance values of the first resistor 100 and the second resistor 105 are both 150Ω. I did it.

その後、半導体素子46の出力端子46Bと接続する下層電極配線182a、182dの電極端子部を除く全面に二酸化ケイ素(SiO)薄膜と窒化シリコン(Si)薄膜の二層構成からなる保護層(図示せず)を同様にスパッタリング法により形成した。これにより配線基板140が完成する。 After that, a protection composed of a two-layer structure of a silicon dioxide (SiO 2 ) thin film and a silicon nitride (Si 3 N 4 ) thin film on the entire surface except for the electrode terminal portions of the lower layer electrode wirings 182 a and 182 d connected to the output terminal 46 B of the semiconductor element 46. A layer (not shown) was similarly formed by sputtering. Thereby, the wiring board 140 is completed.

ケース22の形状は、直径が7mmで肉厚が0.4mmである。また、振動電極26としては、厚さが2μmのポリフェニレンサルファイドからなる第1エレクトレット誘電体フィルムを用いて、この一方の面上に蒸着により第1電極膜を形成して用いた。この振動電極26を、スペーサ30の外周面上に熱プレスにより接着した。このスペーサ30の厚さは0.1mmとした。電極リング28の厚さは0.2mmとした。半導体素子46はベアチップ構成の電界効果型トランジスタであり、その厚さは0.1mm、入力端子46Aと出力端子46Bとに形成した突起電極は金(Au)メッキにより約30μmの厚さに形成した。   The shape of the case 22 is 7 mm in diameter and 0.4 mm in thickness. As the vibrating electrode 26, a first electret dielectric film made of polyphenylene sulfide having a thickness of 2 μm was used, and a first electrode film was formed on one surface by vapor deposition. The vibrating electrode 26 was bonded on the outer peripheral surface of the spacer 30 by hot pressing. The spacer 30 has a thickness of 0.1 mm. The thickness of the electrode ring 28 was 0.2 mm. The semiconductor element 46 is a bare-chip field effect transistor having a thickness of 0.1 mm, and protruding electrodes formed on the input terminal 46A and the output terminal 46B are formed to a thickness of about 30 μm by gold (Au) plating. .

以上のようにして組立てられたECM200は、その厚さを約0.8mmとすることができるだけでなく、コンデンサ2個と抵抗2個とからなるフィルタ回路を内蔵させることができた。このECM200のノイズ除去性能を評価した。評価方法は、電界効果型トランジスタである半導体素子46の入力に115dBμVの雑音を入力して500MHz以上の出力ノイズレベルを測定することにより行った。その結果、従来のECMの場合の平均的なノイズレベルが40dBmVであったのに対して、本実施例のECM200の場合には85dBmVであった。また、音量の劣化度合いを加速試験により評価した結果、30℃の温度条件で5年相当使用しても約20%の変動しか生じないことが認められ、良好な結果を得た。   The ECM 200 assembled as described above can not only have a thickness of about 0.8 mm, but can also incorporate a filter circuit including two capacitors and two resistors. The noise removal performance of this ECM200 was evaluated. The evaluation method was performed by inputting 115 dBμV noise to the input of the semiconductor element 46, which is a field effect transistor, and measuring an output noise level of 500 MHz or higher. As a result, the average noise level in the case of the conventional ECM was 40 dBmV, whereas in the case of the ECM200 of the present embodiment, it was 85 dBmV. Further, as a result of evaluating the degree of deterioration of the sound volume by an acceleration test, it was recognized that only about 20% of the fluctuation occurred even when used for 5 years under a temperature condition of 30 ° C., and good results were obtained.

なお、本実施例では、樹脂基材181上に銅(Cu)薄膜からなる下層電極配線182a、182b、182c、182dを形成したが、この銅(Cu)薄膜上にさらにニッケル(Ni)薄膜と金(Au)薄膜とからなる積層膜を形成すると、耐湿性がさらに改善されるので望ましい。また、銅(Cu)薄膜のかわりに、アルミニウム(Al)を蒸着形成し、180℃、10時間相当の加熱処理を行った後に、誘電体層184と抵抗層186a、186bとを形成してもよい。   In this embodiment, the lower electrode wirings 182a, 182b, 182c, and 182d made of a copper (Cu) thin film are formed on the resin substrate 181, but a nickel (Ni) thin film is further formed on the copper (Cu) thin film. It is desirable to form a laminated film made of a gold (Au) thin film because the moisture resistance is further improved. Alternatively, instead of the copper (Cu) thin film, aluminum (Al) is deposited and subjected to heat treatment at 180 ° C. for 10 hours, and then the dielectric layer 184 and the resistance layers 186a and 186b are formed. Good.

また、樹脂基材181として、ガラスエポキシ基材に限定されることはなく、たとえばポリイミド基材を用いてもよい。さらに、エレクトレット誘電体フィルムとして、ポリフェニレンサルファイドのかわりに、同じ厚さのシンジオタクチックポリスチレンフィルムを用いてもよい。   Moreover, as the resin base material 181, it is not limited to a glass epoxy base material, For example, you may use a polyimide base material. Furthermore, as the electret dielectric film, a syndiotactic polystyrene film having the same thickness may be used instead of polyphenylene sulfide.

さらに、誘電体層184として、ジビニルビフェニルモノマを塗布して電子線照射により硬化させた後、240℃で熱硬化させて用いてもよい。   Further, as the dielectric layer 184, divinyl biphenyl monomer may be applied and cured by electron beam irradiation, and then thermally cured at 240 ° C. for use.

また、本発明のECMは、第1電極膜と第2電極膜との間には、第1エレクトレット誘電体フィルムまたは第2エレクトレット誘電体フィルムの少なくとも一方が介在する構造とすることもできる。特に、第2エレクトレット誘電体フィルムは直接振動することがないので、エレクトレット化が容易になる。また、第2電極膜として厚みが50μmを超えるアルミニウム箔を用いた場合、アルミニウム蒸着膜と異なり、第2エレクトレット誘電体フィルムの熱収縮や速い冷却を気にすることなく、安定した分極処理を行うことができる。また、第1電極膜と第2電極膜間の体積が小さすぎて音声信号が歪む場合は、音圧を開放するために第2エレクトレット誘電体フィルムを小さくしたり、第2電極膜とを含めて貫通孔を設けて音圧を下方の外部に逃がす構造としてもよい。そのときの貫通孔は電子部品や電気配線のない領域部の配線基板を突き抜けてもよい。   Further, the ECM of the present invention may have a structure in which at least one of the first electret dielectric film or the second electret dielectric film is interposed between the first electrode film and the second electrode film. In particular, since the second electret dielectric film does not vibrate directly, electretization is facilitated. Also, when an aluminum foil having a thickness of more than 50 μm is used as the second electrode film, unlike the aluminum vapor deposition film, stable polarization treatment is performed without worrying about thermal contraction or fast cooling of the second electret dielectric film. be able to. Further, when the volume of the first electrode film and the second electrode film is too small and the audio signal is distorted, the second electret dielectric film is made smaller to release the sound pressure, and the second electrode film is included. It is good also as a structure which provides a through-hole and releases sound pressure to the exterior below. The through-hole at that time may penetrate through the wiring board in the region where there is no electronic component or electrical wiring.

本発明にかかるECMは、半導体素子を配置する空間を非常に小さくでき、かつ最短の配線長で接続が可能で、しかも固定電極から配線基板まで接続するための配線形成が不要となるので、薄型で、かつ組立て構成が容易なECMを実現できることから、携帯電話機等の用途に適用できる。   The ECM according to the present invention can reduce the space in which the semiconductor element is arranged, can be connected with the shortest wiring length, and does not require the formation of wiring for connecting from the fixed electrode to the wiring board. In addition, since it is possible to realize an ECM that is easy to assemble, it can be applied to applications such as mobile phones.

本発明の第1の実施の形態にかかるECMの断面図Sectional drawing of ECM concerning the 1st Embodiment of this invention 同実施の形態におけるECMの分解斜視図The exploded perspective view of ECM in the embodiment 本発明の第2の実施の形態にかかるECMの断面図Sectional drawing of ECM concerning the 2nd Embodiment of this invention 同実施の形態のECMに用いられる補強板の斜視図The perspective view of the reinforcement board used for ECM of the embodiment 同実施の形態における変形例のECMの断面図Sectional drawing of ECM of the modification in the embodiment 本発明の第3の実施の形態にかかるECMの断面図Sectional drawing of ECM concerning the 3rd Embodiment of this invention 同実施の形態のECMの固定電極の外観斜視図External perspective view of fixed electrode of ECM of same embodiment 本発明の実施例にかかるECMの断面図Sectional drawing of ECM concerning the Example of this invention 同実施例におけるECMの配線基板上においてフィルタ回路を構成する形状を示す平面図The top view which shows the shape which comprises a filter circuit on the wiring board of ECM in the Example 同実施例におけるECMの回路構成を説明する回路図The circuit diagram explaining the circuit structure of ECM in the same Example 従来のECM構成を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the conventional ECM structure 同ECMの分解斜視図Exploded perspective view of the ECM 同ECMの回路構成を説明する回路図Circuit diagram for explaining the circuit configuration of the ECM

符号の説明Explanation of symbols

1,22 ケース
1A,22A,56A 開口部
2,24 面布
3,26 振動電極
4,28 電極リング
5,36,58,66,88 固定電極
5A,32,52,82 第2エレクトレット誘電体フィルム
5B,34,64 金属板
6,30,92 スぺーサ
7,38 絶縁体
8,46,90 半導体素子
9,42,60 コンデンサ
10,44,62 抵抗
11,40,86,140 配線基板
12,40A,86A,86B 電極配線
13A,13B,15,16,40B,86C,146,148 電極端子
20,50,70,80,200 エレクトレットコンデンサマイクロホン(ECM)
40C,86D,142,144 上下接続導体
46A,90A 入力端子
46B,90B 出力端子
54,84 第2電極膜
56 補強板
100 第1の抵抗
105 第2の抵抗
181 樹脂基材
182a,182b,182c,182d 下層電極配線
184 誘電体層
185a,185b 上部コンデンサ電極層
190 第1のコンデンサ
195 第2のコンデンサ
186a,186b 抵抗層
1, 22 Case 1A, 22A, 56A Opening 2, 24 Face cloth 3, 26 Vibration electrode 4, 28 Electrode ring 5, 36, 58, 66, 88 Fixed electrode 5A, 32, 52, 82 Second electret dielectric film 5B, 34, 64 Metal plate 6, 30, 92 Spacer 7, 38 Insulator 8, 46, 90 Semiconductor element 9, 42, 60 Capacitor 10, 44, 62 Resistance 11, 40, 86, 140 Wiring board 12, 40A, 86A, 86B Electrode wiring 13A, 13B, 15, 16, 40B, 86C, 146, 148 Electrode terminal 20, 50, 70, 80, 200 Electret condenser microphone (ECM)
40C, 86D, 142, 144 Upper and lower connecting conductors 46A, 90A Input terminal 46B, 90B Output terminal 54, 84 Second electrode film 56 Reinforcing plate 100 First resistor 105 Second resistor 181 Resin substrate 182a, 182b, 182c, 182d Lower layer electrode wiring 184 Dielectric layer 185a, 185b Upper capacitor electrode layer 190 First capacitor 195 Second capacitor 186a, 186b Resistance layer

Claims (8)

第1電極膜が一方の表面に形成された第1エレクトレット誘電体フィルムからなる振動電極と、
第2電極膜が一方の表面に形成された第2エレクトレット誘電体フィルムと前記第2エレクトレット誘電体フィルムを保持する保持板とを含み、前記第2エレクトレット誘電体フィルムの他方の表面が前記第1エレクトレット誘電体フィルムの他方の表面に対向するように配設された固定電極と、
前記保持板に密接または間隙を有して配設された配線基板と、
一方の表面に入力端子、他方の表面に出力端子がそれぞれ配設され、前記入力端子と前記出力端子とのそれぞれに突起電極が形成されたベアチップ構成の電気信号をインピーダンス変換し増幅する半導体素子とを含み、
前記半導体素子が前記固定電極と前記配線基板との間に配設され、前記入力端子と前記固定電極、および前記出力端子と前記配線基板上の電極端子とがそれぞれ前記突起電極を介して接続されていることを特徴とするエレクトレットコンデンサマイクロホン。
A vibrating electrode comprising a first electret dielectric film having a first electrode film formed on one surface;
A second electret dielectric film having a second electrode film formed on one surface thereof; and a holding plate for holding the second electret dielectric film, wherein the other surface of the second electret dielectric film is the first electret dielectric film. A fixed electrode disposed to face the other surface of the electret dielectric film;
A wiring board disposed in close contact with or with a gap to the holding plate;
An input terminal on one surface, an output terminal on the other surface, and a semiconductor element for impedance-converting and amplifying an electric signal of a bare chip configuration in which a protruding electrode is formed on each of the input terminal and the output terminal; Including
The semiconductor element is disposed between the fixed electrode and the wiring board, and the input terminal and the fixed electrode, and the output terminal and the electrode terminal on the wiring board are connected via the protruding electrodes, respectively. An electret condenser microphone characterized by
前記固定電極の前記保持板は、前記第2電極膜と導通接合された金属板からなり、
前記配線基板は、前記半導体素子の厚みより少なくとも大きな間隔を設けて配設され、
前記半導体素子の前記入力端子が前記金属板に前記突起電極を介して接続され、前記出力端子が前記配線基板上の前記電極端子に前記突起電極を介して接続されていることを特徴とする請求項1に記載のエレクトレットコンデンサマイクロホン。
The holding plate of the fixed electrode is made of a metal plate that is conductively joined to the second electrode film,
The wiring board is disposed with an interval at least larger than the thickness of the semiconductor element,
The input terminal of the semiconductor element is connected to the metal plate via the protruding electrode, and the output terminal is connected to the electrode terminal on the wiring board via the protruding electrode. Item 2. An electret condenser microphone according to Item 1.
前記固定電極の前記保持板は、前記第2電極膜に接着され、かつ前記半導体素子を収納する形状の開口部が設けられた絶縁板からなり、
前記配線基板は、前記絶縁板に密接して配設され、
前記半導体素子が前記開口部に収納され、前記入力端子が前記第2電極膜に前記突起電極を介して接続され、前記出力端子が前記配線基板上の前記電極端子に前記突起電極を介して接続されていることを特徴とする請求項1に記載のエレクトレットコンデンサマイクロホン。
The holding plate of the fixed electrode is composed of an insulating plate that is bonded to the second electrode film and provided with an opening having a shape for housing the semiconductor element,
The wiring board is disposed in close contact with the insulating plate,
The semiconductor element is housed in the opening, the input terminal is connected to the second electrode film via the protruding electrode, and the output terminal is connected to the electrode terminal on the wiring substrate via the protruding electrode. The electret condenser microphone according to claim 1, wherein the electret condenser microphone is provided.
前記固定電極の前記保持板は、前記第2電極膜に導通接合された金属板を介して接着され、かつ前記半導体素子を収納する形状の開口部が設けられた絶縁板からなり、
前記配線基板は、前記絶縁板に密接して配設され、
前記半導体素子が前記開口部に収納され、前記入力端子が前記金属板に前記突起電極を介して接続され、前記出力端子が前記配線基板上の前記電極端子に前記突起電極を介して接続されていることを特徴とする請求項1に記載のエレクトレットコンデンサマイクロホン。
The holding plate of the fixed electrode is composed of an insulating plate that is bonded via a metal plate that is conductively bonded to the second electrode film, and that is provided with an opening having a shape that houses the semiconductor element,
The wiring board is disposed in close contact with the insulating plate,
The semiconductor element is housed in the opening, the input terminal is connected to the metal plate via the protruding electrode, and the output terminal is connected to the electrode terminal on the wiring board via the protruding electrode. The electret condenser microphone according to claim 1, wherein:
前記半導体素子の前記入力端子の前記突起電極と前記固定電極とが導電性接着剤により接続されたことを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかに記載のエレクトレットコンデンサマイクロホン。 The electret condenser microphone according to any one of claims 1 to 4, wherein the protruding electrode of the input terminal of the semiconductor element and the fixed electrode are connected by a conductive adhesive. 前記半導体素子の前記入力端子の前記突起電極と前記固定電極とが圧接により電気的に接続されたことを特徴とする請求項2または請求項4に記載のエレクトレットコンデンサマイクロホン。 5. The electret condenser microphone according to claim 2, wherein the protruding electrode and the fixed electrode of the input terminal of the semiconductor element are electrically connected by pressure contact. 第1電極膜が一方の表面に形成された第1エレクトレット誘電体フィルムからなる振動電極と、
第2電極膜が一方の表面に形成され、半導体素子よりも少なくとも大きな開口部または切り欠き部を有する第2エレクトレット誘電体フィルムと、
前記第2電極膜と導通接続され、前記開口部または前記切り欠き部まで延在された入力側電極端子と、前記開口部または前記切り欠き部に設けられた出力側電極端子とが形成された配線基板と、
一方の面に入力端子と出力端子とが配設され、前記入力端子と前記出力端子とのそれぞれに突起電極が形成されたベアチップ構成の電気信号をインピーダンス変換し増幅する半導体素子とを含み、
前記第2エレクトレット誘電体フィルムが前記配線基板に接着固定されるとともに、前記第2電極膜と前記入力側電極端子とが接続され、前記半導体素子の前記入力端子と前記配線基板の前記入力側電極端子、および前記出力端子と前記出力側電極端子とがそれぞれ接続され、前記第2エレクトレット誘電体フィルムの表面と前記第1エレクトレット誘電体フィルムの表面とが所定の間隔を有して対向する位置に配設されたことを特徴とするエレクトレットコンデンサマイクロホン。
A vibrating electrode comprising a first electret dielectric film having a first electrode film formed on one surface;
A second electret dielectric film having a second electrode film formed on one surface and having at least a larger opening or notch than the semiconductor element;
An input-side electrode terminal electrically connected to the second electrode film and extending to the opening or the notch, and an output-side electrode terminal provided in the opening or the notch are formed. A wiring board;
An input terminal and an output terminal on one side, and a semiconductor element that impedance-converts and amplifies an electric signal of a bare chip configuration in which a protruding electrode is formed on each of the input terminal and the output terminal,
The second electret dielectric film is bonded and fixed to the wiring board, the second electrode film and the input side electrode terminal are connected, and the input terminal of the semiconductor element and the input side electrode of the wiring board A terminal, and the output terminal and the output-side electrode terminal are connected to each other, and the surface of the second electret dielectric film and the surface of the first electret dielectric film are opposed to each other with a predetermined interval. An electret condenser microphone characterized by being arranged.
前記配線基板には、コンデンサ、抵抗およびインダクタから選択した一つ以上の電子部品で構成されるフィルタ回路が膜作製技術により形成されていることを特徴とする請求項1から請求項7までいずれかに記載のエレクトレットコンデンサマイクロホン。 8. The circuit board according to claim 1, wherein a filter circuit including one or more electronic components selected from a capacitor, a resistor, and an inductor is formed on the wiring board by a film manufacturing technique. The electret condenser microphone described in 1.
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