JP2008127544A - Method for processing electronic part and adhesive tape for processing electronic part - Google Patents

Method for processing electronic part and adhesive tape for processing electronic part Download PDF

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JP2008127544A JP2006317493A JP2006317493A JP2008127544A JP 2008127544 A JP2008127544 A JP 2008127544A JP 2006317493 A JP2006317493 A JP 2006317493A JP 2006317493 A JP2006317493 A JP 2006317493A JP 2008127544 A JP2008127544 A JP 2008127544A
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修 栗田
Masashi Kuzutani
昌史 葛谷
Masateru Fukuoka
正輝 福岡
Yasuhiko Oyama
康彦 大山
Taihei Sugita
大平 杉田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for processing an electronic part with an adhesive tape for processing the electronic part, by which the adhesive tape for processing the electronic part can be peeled only by the irradiation of light such as UV rays without leaving an adhesive or the like even in the presence of oxygen, such as in the atmosphere. <P>SOLUTION: This method for processing the electronic part, having a process for adhering an adhesive tape for processing the electronic part to the electronic part, a process for processing the electronic part to which the adhesive tape for processing the electronic part is adhered, and a process for peeling the adhesive tape for processing the electronic part from the electronic part after the processing by the irradiation of light, is characterized in that the electronic part for processing the electronic part has an adhesive layer comprising an adhesive binder polymer, a photopolymerizable monomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds, a photopolymerizable oligomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds, and a photopolymerization initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品加工用粘着テープを用いた電子部品の加工方法であって、大気下等の酸素存在下であっても紫外線等の光を照射するだけで糊残り等を生じることなく電子部品加工用粘着テープを剥離できる電子部品の加工方法、及び、該電子部品の加工方法に用いる電子部品加工用粘着テープに関する。 The present invention relates to a method for processing an electronic component using an adhesive tape for processing an electronic component, and it is possible to produce an electronic component without causing adhesive residue by irradiating light such as ultraviolet rays even in the presence of oxygen in the atmosphere. The present invention relates to a method for processing an electronic component capable of peeling off the component processing adhesive tape, and an electronic component processing adhesive tape used in the method for processing the electronic component.

電子部品の製造時には、研削加工、ダイシング加工、回路転写加工、Micro Electro Mechanical Systems(MEMS)の製造等の種々の加工が施される。このような電子部品の加工方法においては、粘着テープが用いられることが多い。例えば、半導体ウエハの研削加工においては、高純度なシリコン単結晶等から切り出した厚膜ウエハを所定の厚さにまで研削して薄膜ウエハとする場合に、厚膜ウエハを支持板に接着して補強することにより、効率よく作業を進めることが提案されている。このとき厚膜ウエハと支持板とを接着するために両面粘着テープが用いられる。また、研削済の半導体ウエハをダイシングして個々のICチップに切り分ける際には、ダイシングテープと呼ばれる粘着テープが用いられる。また、MEMS等の機械的に脆い電子部品の加工時には、加工用固定テープ等の粘着テープが用いられる。 When manufacturing electronic components, various processes such as grinding, dicing, circuit transfer, and micro electro mechanical systems (MEMS) are performed. In such an electronic component processing method, an adhesive tape is often used. For example, in semiconductor wafer grinding, when a thick film wafer cut from a high-purity silicon single crystal or the like is ground to a predetermined thickness to form a thin film wafer, the thick film wafer is bonded to a support plate. It has been proposed to work efficiently by reinforcing. At this time, a double-sided pressure-sensitive adhesive tape is used to bond the thick film wafer and the support plate. In addition, when a ground semiconductor wafer is diced into individual IC chips, an adhesive tape called a dicing tape is used. Moreover, when processing mechanically brittle electronic parts such as MEMS, an adhesive tape such as a processing fixing tape is used.

電子部品の加工方法に用いられる電子部品加工用粘着テープには、必要な間だけ強固に被着体に接着して固定できる一方で、使用後には容易に剥がせることが要求される。例えば上述の研削加工においては、粘着テープには、研削工程中には強固に接着する一方で、研削工程終了後には得られた薄膜ウエハを損傷することなく支持板から剥がせることが求められる。また、研削済の半導体ウエハをダイシングする際に用いるダイシングテープにも、ダイシング工程中には強固に接着する一方で、ダイシング工程終了後には得られたICチップを損傷することなくダイシングテープから剥がせることが求められる。特に、近年注目されている小型微小ICチップの加工時には、チップサイズが微小なのでダイシング加工後のダイシングテープからの剥離には簡単にかつ迅速に剥離できることが求められる。また、MEMS等の非常に脆い電子部品の加工時には、加工終了時には脆い部材を破壊させたり、傷を付けたりすることなく加工固定用テープから剥がすことが求められる。 The pressure-sensitive adhesive tape for processing an electronic component used in a method for processing an electronic component is required to be easily peeled after use while it can be firmly adhered and fixed to an adherend as long as necessary. For example, in the above-described grinding process, the adhesive tape is required to be firmly bonded during the grinding process, but peeled off from the support plate without damaging the thin film wafer obtained after the grinding process is completed. In addition, it adheres firmly to the dicing tape used when dicing a ground semiconductor wafer during the dicing process, and after the dicing process is completed, the obtained IC chip can be peeled off without being damaged. Is required. In particular, when processing a small micro IC chip that has been attracting attention in recent years, since the chip size is very small, it is required to be able to easily and quickly peel off the dicing tape after dicing. Further, when processing extremely fragile electronic components such as MEMS, it is required to peel the fragile member from the processing fixing tape without damaging or scratching at the end of the processing.

これに対して特許文献1等には、(メタ)アクリル樹脂とラジカル重合開始剤とを含有する光硬化型の粘着剤からなる粘着剤層を有する粘着テープを用いた電子部品の加工方法が記載されている。このような光硬化型の粘着剤は、高い粘着性を有する一方で、紫外線等の光を照射することにより(メタ)アクリル樹脂が架橋して著しく弾性率が上昇し、粘着力が低減する性質を有する。従って、該粘着テープを用いて電子部品の加工を行った後、紫外線等の光を粘着テープに照射すれば、容易に粘着テープを剥離することができるとされている。しかしながら、実際には、紫外線を照射して粘着テープを剥離したときに、粘着テープの周辺部や、接着面に気泡がある場合には該気泡の周辺部に糊残りが生じることがあるという問題があった。これは、酸素によりラジカル反応が阻害されることにより、空気と接する粘着テープの周辺部において充分に架橋反応が進行しないためであると考えられる。特にMEMS加工に使用される時には、加工される部品が立体的ため接着面積部分に比較して、酸素に影響を受ける周辺部の比率が大きくなるため、問題が大きい。また、小型微小ICチップの加工に使用される時にも同様に、チップサイズが微小で接着面積部分に比較して、酸素に影響を受ける周辺部の比率が大きくなるため、問題が大きい。 On the other hand, Patent Document 1 and the like describe a method for processing an electronic component using an adhesive tape having an adhesive layer made of a photocurable adhesive containing a (meth) acrylic resin and a radical polymerization initiator. Has been. Such a photo-curing type pressure-sensitive adhesive has high adhesiveness, but when irradiated with light such as ultraviolet rays, the (meth) acrylic resin is cross-linked, and its elasticity increases remarkably, thereby reducing the adhesive strength. Have Therefore, after processing an electronic component using the adhesive tape, the adhesive tape can be easily peeled off by irradiating the adhesive tape with light such as ultraviolet rays. However, in practice, when the adhesive tape is peeled off by irradiating with ultraviolet rays, if there are bubbles on the periphery of the adhesive tape or on the adhesive surface, adhesive residue may be generated on the periphery of the bubbles. was there. This is considered to be because the cross-linking reaction does not proceed sufficiently in the peripheral part of the pressure-sensitive adhesive tape in contact with air because the radical reaction is inhibited by oxygen. In particular, when used for MEMS processing, the parts to be processed are three-dimensional, and the ratio of the peripheral portion affected by oxygen is larger than that of the bonded area portion. Similarly, when used for processing a small micro IC chip, since the chip size is small and the ratio of the peripheral part affected by oxygen is larger than that of the bonded area part, the problem is great.

このような問題点を解決する方法として、例えば粘着テープの剥離工程を窒素雰囲気下で行うこと等が提案されているが、大掛かりな装置が必要な上、操作が極めて煩雑になるという問題があった。 As a method for solving such problems, for example, it has been proposed to perform the peeling process of the adhesive tape in a nitrogen atmosphere. However, a large-scale apparatus is required and the operation is extremely complicated. It was.

特公平01−056112号公報Japanese Patent Publication No. 01-056112

本発明は、上記現状に鑑み、電子部品加工用粘着テープを用いた電子部品の加工方法であって、大気下等の酸素存在下であっても紫外線等の光を照射するだけで糊残り等を生じることなく電子部品加工用粘着テープを剥離できる電子部品の加工方法、及び、該電子部品の加工方法に用いる電子部品加工用粘着テープを提供することを目的とする。 The present invention is a method of processing an electronic component using an adhesive tape for processing an electronic component in view of the above-described situation, and adhesive residue or the like can be obtained by simply irradiating light such as ultraviolet rays even in the presence of oxygen such as in the atmosphere. It is an object of the present invention to provide an electronic component processing method capable of peeling the electronic component processing pressure-sensitive adhesive tape without causing a problem, and an electronic component processing pressure-sensitive adhesive tape used in the electronic component processing method.

本発明は、電子部品に電子部品加工用粘着テープを貼付する工程と、前記電子部品加工用粘着テープが貼付された電子部品を加工する工程と、光を照射することにより前記加工後の電子部品から前記電子部品加工用粘着テープを剥離する工程とを有する電子部品の加工方法であって、前記電子部品加工用粘着テープは、重量平均分子量が1万〜200万で、かつ、ガラス転移温度が−100℃〜100℃である粘着剤バインダーポリマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性モノマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性オリゴマー、及び、光重合開始剤を含有する粘着剤層を有するものである電子部品の加工方法である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention includes a step of attaching an adhesive tape for processing an electronic component to an electronic component, a step of processing an electronic component to which the adhesive tape for processing an electronic component is applied, and the electronic component after processing by irradiating light. The electronic component processing adhesive tape has a step of peeling the electronic component processing adhesive tape, wherein the electronic component processing adhesive tape has a weight average molecular weight of 10,000 to 2,000,000 and a glass transition temperature. Adhesive binder polymer at -100 ° C to 100 ° C, photopolymerizable monomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds, one or two polymerizable carbon-carbon double bonds It is a processing method of the electronic component which has an adhesive layer containing the photopolymerizable oligomer which has the above, and a photoinitiator.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、鋭意検討の結果、特定の粘着剤バインダーポリマーに光重合性モノマー、光重合性オリゴマー及び光重合開始剤を配合した粘着剤層を有する粘着テープは、紫外線等の光照射前は高い粘着力を発揮する一方、大気下等の酸素存在下であっても紫外線等の光を照射することによって確実に粘着力を低減して、糊残りすることなく容易に剥離できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that an adhesive tape having an adhesive layer in which a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer and a photopolymerization initiator are blended with a specific adhesive binder polymer is not irradiated with light such as ultraviolet rays. While exhibiting high adhesive strength, even in the presence of oxygen, such as in the atmosphere, by irradiating with light such as ultraviolet rays, the adhesive strength is reliably reduced, and it can be easily peeled off without leaving adhesive residue, The present invention has been completed.

特許文献1等に記載されている従来の光硬化型粘着テープでは、光硬化型粘着剤自体によって初期の粘着性を発揮し、紫外線等の光照射により該光硬化型粘着剤が架橋硬化することによって粘着力を低減させる剥離機構であると考えられる。従って、酸素により光硬化型粘着剤が架橋硬化反応が阻害されると、その部分の粘着力の低減が不充分となり、糊残り等の原因となるものと考えられる。
これに対して、本発明の電子部品加工用粘着テープの剥離機構は従来の光硬化型粘着テープとは全く異なるものと考えられる。本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層は、粘着剤バインダーポリマーに、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー及び光重合開始剤を配合することにより初期の粘着性を発揮する。即ち、光重合性モノマー、光重合性オリゴマーはそれ自体の粘着性により粘着剤層の粘着性を高めるとともに、粘着剤バインダーポリマー中に分散して粘着剤バインダーポリマーを可塑化し全体としての粘着性を発揮させる、いわば「反応性可塑剤」としての働きを有するものと考えられる。このような本発明の電子部品加工用粘着テープに紫外線等の光を照射すると、光重合性モノマー、光重合性オリゴマーが架橋硬化してこれらに起因する粘着性が失われる。また、架橋硬化前には粘着剤バインダーポリマーの「可塑剤」として働いていた光重合性モノマー、光重合性オリゴマーが、架橋硬化することにより逆に粘着剤バインダーポリマーの粘着力を阻害する。このような機構により、紫外線等の光を照射することにより、電子部品加工用粘着テープは全体として実質的に非粘着性となると考えられる。また、このような剥離機構によることから、本発明の電子部品加工用粘着テープでは、たとえ酸素により光重合性モノマー、光重合性オリゴマーの架橋硬化反応が部分的に阻害されたとしても、全体としての粘着力の低下にはほとんど影響せずに、糊残りすることなく容易に剥離が可能になると考えられる。
In the conventional photocurable pressure-sensitive adhesive tape described in Patent Document 1 and the like, the initial pressure-sensitive adhesive property is exhibited by the photocurable pressure-sensitive adhesive itself, and the photocurable pressure-sensitive adhesive is crosslinked and cured by irradiation with light such as ultraviolet rays. This is considered to be a peeling mechanism that reduces the adhesive force. Therefore, it is considered that when the cross-linking curing reaction of the photocurable pressure-sensitive adhesive is inhibited by oxygen, the adhesive strength of the portion is insufficiently reduced, which may cause adhesive residue and the like.
In contrast, the peeling mechanism of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention is considered to be completely different from the conventional photo-curing pressure-sensitive adhesive tape. The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention exhibits initial pressure-sensitive adhesiveness by blending a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer and a photopolymerization initiator into a pressure-sensitive adhesive binder polymer. That is, the photopolymerizable monomer and the photopolymerizable oligomer increase the adhesiveness of the adhesive layer due to its own adhesiveness, and are dispersed in the adhesive binder polymer to plasticize the adhesive binder polymer and increase the overall adhesiveness. In other words, it is considered to have a function as a “reactive plasticizer”. When such an adhesive tape for processing electronic parts of the present invention is irradiated with light such as ultraviolet rays, the photopolymerizable monomer and the photopolymerizable oligomer are crosslinked and cured, and the adhesiveness due to these is lost. In addition, the photopolymerizable monomer and photopolymerizable oligomer that worked as the “plasticizer” of the pressure-sensitive adhesive binder polymer before cross-linking and curing adversely inhibits the pressure-sensitive adhesive force of the pressure-sensitive adhesive binder polymer. By irradiating light such as ultraviolet rays by such a mechanism, it is considered that the adhesive tape for processing electronic parts becomes substantially non-adhesive as a whole. In addition, because of such a peeling mechanism, the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention as a whole, even if the crosslinking curing reaction of the photopolymerizable monomer and photopolymerizable oligomer is partially inhibited by oxygen. It is considered that it can be easily peeled off without causing any adhesive residue without substantially affecting the lowering of the adhesive strength.

本発明の電子部品の加工方法は、電子部品に電子部品加工用粘着テープを貼付する工程を有する。
本発明の電子部品の加工方法の対象となる電子部品としては特に限定されず、例えば、半導体ウエハ、回路パターンの材料となる金属箔、セラミックグリーンシート、絶縁性回路基板、薄ガラス基板、MEMS、超小型無線ICチップ等が挙げられる。
The processing method of the electronic component of this invention has the process of sticking the adhesive tape for electronic component processing to an electronic component.
The electronic component that is the target of the method of processing an electronic component according to the present invention is not particularly limited. For example, a semiconductor wafer, a metal foil as a circuit pattern material, a ceramic green sheet, an insulating circuit substrate, a thin glass substrate, a MEMS, An ultra-small wireless IC chip can be used.

上記電子部品加工用粘着テープは、重量平均分子量が1万〜200万で、かつ、ガラス転移温度が−100℃〜100℃である粘着剤バインダーポリマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性モノマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性オリゴマー、及び、光重合開始剤を含有する粘着剤層を有するものである。このような電子部品加工用粘着テープもまた、本発明の1つである。 The pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts has a weight-average molecular weight of 10,000 to 2,000,000 and a glass transition temperature of −100 ° C. to 100 ° C., 1 polymerizable carbon-carbon double bond. Or a photopolymerizable monomer having one or more, a photopolymerizable oligomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds, and a pressure-sensitive adhesive layer containing a photopolymerization initiator. . Such an adhesive tape for processing an electronic component is also one aspect of the present invention.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層は、粘着剤バインダーポリマーを含有する。
上記粘着剤バインダーポリマーは、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー及び光重合開始剤を分散させるバインダーの役割を果たすものである。このような粘着剤バインダーポリマーを含有することにより本発明の電子部品加工用粘着テープは、紫外線等の光照射前の高い粘着性と、酸素存在下でも紫外線等の光照射により糊残りすることなく剥離可能な性能とを両立することができる。
The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention contains a pressure-sensitive adhesive binder polymer.
The pressure-sensitive adhesive binder polymer serves as a binder for dispersing the photopolymerizable monomer, the photopolymerizable oligomer and the photopolymerization initiator. By including such a pressure-sensitive adhesive binder polymer, the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention has high adhesiveness before irradiation with light such as ultraviolet rays, and no adhesive remains due to light irradiation such as ultraviolet rays even in the presence of oxygen. It is possible to achieve both the peelable performance.

上記粘着剤バインダーポリマーは、重量平均分子量の下限が1万、上限が200万である。1万未満であると、凝集力が低く、光重合性モノマー、光重合性オリゴマーを加えても充分な粘着力を発揮することができない。200万を超えると、成形性が低く粘着剤層を形成させることが困難となる。好ましい下限は5万、好ましい上限は180万であり、より好ましい下限10万、より好ましい上限は150万である。 The pressure-sensitive adhesive binder polymer has a weight average molecular weight of 10,000 and a maximum of 2,000,000. If it is less than 10,000, the cohesive force is low, and even if a photopolymerizable monomer or photopolymerizable oligomer is added, sufficient adhesive strength cannot be exhibited. If it exceeds 2 million, the moldability is low and it is difficult to form an adhesive layer. A preferable lower limit is 50,000, and a preferable upper limit is 1,800,000. A more preferable lower limit is 100,000, and a more preferable upper limit is 1,500,000.

上記粘着剤バインダーポリマーは、ガラス転移温度の下限が−100℃、上限が100℃である。−100℃未満であると、ポリマー自体の粘着力が高くなり、紫外線等の光を照射した後でも充分に粘着力が低下せずに糊残りの原因となる。100℃を超えると、光重合性モノマー、光重合性オリゴマーを加えても充分な粘着力を発揮することができない。好ましい下限は−80℃、好ましい上限は80℃である。なお、粘着剤バインダーポリマーのガラス転移温度は、ポリマーを構成するモノマーを選択することによって容易に調整することができる。
なお、本明細書においてガラス転移温度とは、以下に示す方法によって測定した値を意味する。即ち、まず、ポリマーを含む溶液をガラス板に薄く引き伸ばし、25℃で7日間乾燥させることによって、乾燥フィルムを得る。得られた乾燥フィルムについて、示差走査熱量分析計(DSC:例えば、理学電気社製等)を用いて、昇温速度=20℃/分、チッ素雰囲気下、サンプル量=20mgの条件で測定する。
The pressure-sensitive adhesive binder polymer has a glass transition temperature having a lower limit of −100 ° C. and an upper limit of 100 ° C. When the temperature is lower than −100 ° C., the adhesive strength of the polymer itself is increased, and the adhesive strength is not sufficiently lowered even after irradiation with light such as ultraviolet rays, which causes adhesive residue. If the temperature exceeds 100 ° C., sufficient adhesive strength cannot be exhibited even if a photopolymerizable monomer or photopolymerizable oligomer is added. A preferred lower limit is −80 ° C. and a preferred upper limit is 80 ° C. In addition, the glass transition temperature of an adhesive binder polymer can be easily adjusted by selecting the monomer which comprises a polymer.
In addition, in this specification, a glass transition temperature means the value measured by the method shown below. That is, first, a solution containing the polymer is thinly drawn on a glass plate and dried at 25 ° C. for 7 days to obtain a dry film. The obtained dry film is measured using a differential scanning calorimeter (DSC: manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.) under the conditions of a temperature increase rate of 20 ° C./min under a nitrogen atmosphere and a sample amount of 20 mg. .

上記粘着剤バインダーポリマーは、低粘着性であることが好ましい。粘着剤バインダーポリマー自身が高い粘着性を有する場合には、たとえ紫外線等の光を照射して光重合性モノマー、光重合性オリゴマーを架橋硬化させても、充分に粘着力を低減させることができないことがある。上記粘着剤バインダーポリマーの好ましい粘着性については、光重合性モノマー及び光重合性オリゴマーとの配合比にもより一義的には決め得ないが、粘着剤バインダーポリマーの配合比が大きい場合には、より低粘着性であることが好ましく、配合比が小さい場合には、比較的粘着性が高くともよい。 The pressure-sensitive adhesive binder polymer is preferably low-tacky. When the adhesive binder polymer itself has high adhesiveness, even if it is irradiated with light such as ultraviolet rays to crosslink and cure the photopolymerizable monomer and photopolymerizable oligomer, the adhesive force cannot be sufficiently reduced. Sometimes. The preferable adhesiveness of the adhesive binder polymer cannot be determined more uniquely than the mixing ratio of the photopolymerizable monomer and the photopolymerizable oligomer, but when the mixing ratio of the adhesive binder polymer is large, Lower tackiness is preferred, and when the blending ratio is small, the tackiness may be relatively high.

上記粘着剤バインダーポリマーとしては特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル系ポリマー、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水添物、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体の水添物、極性基含有のスチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水添物、極性基含有のスチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体の水添物等が好適である。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The pressure-sensitive adhesive binder polymer is not particularly limited. For example, (meth) acrylic polymer, hydrogenated styrene / butadiene / styrene block copolymer, hydrogenated styrene / isoprene / styrene block copolymer, polar A hydrogenated styrene / butadiene / styrene block copolymer containing a group, a hydrogenated styrene / isoprene / styrene block copolymer containing a polar group, and the like are suitable. These may be used alone or in combination of two or more.

上記(メタ)アクリル系ポリマーとしては特に限定されないが、官能基を有する(メタ)アクリル系モノマーと(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとの共重合体が好適である。
上記官能基を有する(メタ)アクリル系モノマーとしては特に限定されず、例えば、アクリル酸、メタアクリル酸等のカルボキシル基含有モノマー;アクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸4−ヒドロキブチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル等のヒドロキシル基含有モノマー;アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸イソシアネートエチル、メタクリル酸イソシアネートエチル等のイソシアネート基含有モノマー;アクリル酸アミノエチル、メタアクリル酸アミノエチル等のアミノ基含有モノマー等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as said (meth) acrylic-type polymer, The copolymer of the (meth) acrylic-type monomer and (meth) acrylic acid ester-type monomer which have a functional group is suitable.
The (meth) acrylic monomer having the above functional group is not particularly limited, and examples thereof include carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid and methacrylic acid; 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylic acid 4 Hydroxyl group-containing monomers such as hydroxybutyl and 4-hydroxybutyl methacrylate; epoxy group-containing monomers such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; isocyanate group-containing monomers such as isocyanate ethyl acrylate and isocyanate ethyl methacrylate; amino acrylate Examples thereof include amino group-containing monomers such as ethyl and aminoethyl methacrylate.

上記(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとしては特に限定されず、例えば、アルキル基の炭素数が1〜15である(メタ)アクリル酸アルキルエステル等が挙げられ、具体的には例えば、後述する光重合性モノマーの例として挙げられる単官能性の(メタ)アクリル酸エステル系モノマーが挙げられる。 The (meth) acrylic acid ester-based monomer is not particularly limited, and examples thereof include (meth) acrylic acid alkyl esters having 1 to 15 carbon atoms in the alkyl group. A monofunctional (meth) acrylic acid ester monomer may be mentioned as an example of the polymerizable monomer.

上記共重合体は、必要に応じて、更に(メタ)アクリル系モノマー及び(メタ)アクリル酸エステル系モノマーと共重合可能なモノマーに由来する成分を有していてもよい。
上記(メタ)アクリル系モノマー及び(メタ)アクリル酸エステル系モノマーと共重合可能なモノマーとしては特に限定されず、例えば、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル、N−ビニルピロリドン、塩化ビニル等が挙げられる。
The copolymer may further include a component derived from a monomer copolymerizable with the (meth) acrylic monomer and the (meth) acrylic acid ester monomer as necessary.
The monomer copolymerizable with the (meth) acrylic monomer and the (meth) acrylic acid ester monomer is not particularly limited, and examples thereof include vinyl acetate, styrene, acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, and vinyl chloride.

上記(メタ)アクリル系ポリマーは、重合性の炭素−炭素二重結合を有していてもよい。このような重合性の炭素−炭素二重結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーは、後述する光反応性モノマーや光反応性オリゴマーとの相溶性に優れ、また、紫外線等の光照射により光反応性モノマーや光反応性オリゴマーと反応し得る。 The (meth) acrylic polymer may have a polymerizable carbon-carbon double bond. Such a (meth) acrylic polymer having a polymerizable carbon-carbon double bond is excellent in compatibility with a photoreactive monomer and a photoreactive oligomer described later, and is photoreactive by irradiation with light such as ultraviolet rays. It can react with reactive monomers and photoreactive oligomers.

上記重合性の炭素−炭素二重結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーは、例えば、分子内に官能基を有する(メタ)アクリル系ポリマーを予め合成し、これに分子内に上記の官能基と反応する官能基と重合性の炭素−炭素二重結合とを有する化合物(以下、官能基含有不飽和化合物という)を反応させることにより得ることができる。
上記分子内に官能基を有する(メタ)アクリル系ポリマーとしては、一般の(メタ)アクリル系ポリマーの場合と同様に、アルキル基の炭素数が、通常、1〜15の範囲にある(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主モノマーとし、これと官能基を有するモノマーと更に必要に応じてこれらと共重合可能な他の改質用モノマーとを常法によって共重合することにより得られる。
上記官能基含有不飽和化合物としては、上記分子内に官能基を有する(メタ)アクリル系ポリマーの官能基に応じて、上述した官能基を有するモノマーと同様のものを使用することができる。例えば、上記ポリマーの官能基がカルボキシル基の場合はエポキシ基含有モノマーやイソシアネート基含有モノマーが、同官能基がヒドロキシル基の場合はイソシアネート基含有モノマーが、同官能基がエポキシ基の場合はカルボキシル基含有モノマーやアミノ基含有モノマーが、同官能基がアミノ基の場合はエポキシ基含有モノマーが、それぞれ用いられる。
For the (meth) acrylic polymer having a polymerizable carbon-carbon double bond, for example, a (meth) acrylic polymer having a functional group in the molecule is synthesized in advance, and the functional group and It can be obtained by reacting a compound having a reactive functional group and a polymerizable carbon-carbon double bond (hereinafter referred to as a functional group-containing unsaturated compound).
As the (meth) acrylic polymer having a functional group in the molecule, as in the case of a general (meth) acrylic polymer, the carbon number of the alkyl group is usually in the range of 1 to 15 (meth). It is obtained by copolymerizing an alkyl acrylate ester as a main monomer, a monomer having a functional group, and, if necessary, another modifying monomer copolymerizable therewith by a conventional method.
As said functional group containing unsaturated compound, the thing similar to the monomer which has a functional group mentioned above according to the functional group of the (meth) acrylic-type polymer which has a functional group in the said molecule | numerator can be used. For example, when the functional group of the polymer is a carboxyl group, an epoxy group-containing monomer or an isocyanate group-containing monomer is used. When the functional group is a hydroxyl group, an isocyanate group-containing monomer is used. When the functional group is an epoxy group, a carboxyl group is used. When the containing monomer or amino group-containing monomer is an amino group, an epoxy group-containing monomer is used.

上記重合性の炭素−炭素二重結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー中の重合性の炭素−炭素二重結合の割合については特に限定されないが、好ましい上限は3.0ミリ当量/gである。3.0ミリ当量/gを超えると、過度に架橋が掛かり被着体との粘着性が低下し好ましくない。より好ましい上限は2.0ミリ当量/g以下である。下限については特に限定されないが、0.0005ミリ当量/g未満であると、実質的に重合性の炭素−炭素二重結合を有する効果は得られない。 Although the ratio of the polymerizable carbon-carbon double bond in the (meth) acrylic polymer having the polymerizable carbon-carbon double bond is not particularly limited, the preferable upper limit is 3.0 meq / g. . If it exceeds 3.0 milliequivalents / g, crosslinking is excessively performed and the adhesiveness to the adherend is lowered, which is not preferable. A more preferable upper limit is 2.0 meq / g or less. The lower limit is not particularly limited, but if it is less than 0.0005 meq / g, the effect of having a substantially polymerizable carbon-carbon double bond cannot be obtained.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層は、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性モノマーを含有する。上記光重合性モノマーは、本発明の電子部品加工用粘着テープに粘着力を付与する。一方、紫外線等の光を照射したときには架橋硬化することから、粘着力が急速に低下して糊残りすることなく剥離することができる。 The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention contains a photopolymerizable monomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds. The photopolymerizable monomer imparts adhesive force to the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention. On the other hand, since it is crosslinked and cured when irradiated with light such as ultraviolet rays, it can be peeled off without any adhesive residue due to a rapid drop in adhesive strength.

上記光重合性モノマーとしては特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル酸、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する(メタ)アクリル酸エステル系モノマー等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as said photopolymerizable monomer, For example, (meth) acrylic acid, the (meth) acrylic acid ester type monomer etc. which have 1 or 2 or more of polymerizable carbon-carbon double bonds are mentioned.

上記重合性の炭素−炭素二重結合を1個有する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ジフェニルホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシC1−C6アルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer having one polymerizable carbon-carbon double bond include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and isopropyl (meth) acrylate. , Butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate , Octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meta Acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxy Ethyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (Meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate , Isobornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, ( (Meth) acryloylmorpholine, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalate Luric acid, 2- (meth) acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylhexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (Meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, mono [2- (meth) [Acryloyloxyethyl] diphenyl phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4- Dorokishibuchiru (meth) hydroxy C1-C6 alkyl acrylates such as (meth) acrylate.

上記重合性の炭素−炭素二重結合を1個有する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーの市販品としては、例えば、アロニックス M101、M102、M110、M111、M113、M114、M117、M120、M152、M154、M5300、M5400、M5500、M5600(以上、東亞合成社製)、KAYARAD TC−110S、R−128H、R629、R644(以上、日本化薬社製)、IPAA、AIB、SBAA、TBA、IAAA、HEXA、CHA、NOAA、IOAA、INAA、LA、TDA、MSAA、CAA、HDAA、LTA、STA、ISAA−1、ODAA、NDAA、IBXA、ADAA、TCDA、2−MTA、DMA、ビスコート #150、#150D、#155、#158、#160、#190、#190D、#192、#193、#220、#320、#2311HP、#2000、#2100、#2150、#2180、MTG、HEA、HPA、4HBA(以上、大阪有機化学工業社製)、NKエステル
M−20G、M−40G、M−90G、M−230G、CB−1、SA、S、AMP−10G、AMP−20G、AMP−60G、AMP−90G、A−SA、NLA(以上、新中村化学工業社製)、ACMO(興人社製)、ライトアクリレート IA−A、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DPM−A、PO−A、P−200A、THF−A、IB−XA、HOA−MS、HOA−MPL、HOA−MPE、HOA−HH、IO−A、BZ−A、NP−EA、NP−10EA、HOB−A、FA−108、P−1A、エポキシエステルM−600A、ライトエステルHOA、ライトエステルHOP−A、ライトエステルHOP、ライトエステルHOB、ライトエステルP−1M(以上、共栄社化学社製)、FA−511、FA−512A、FA−513A(以上、日立化成工業社製)、AR−100、MR−100、MR−200、MR−60(以上、大八化学工業社製)、JAMP−100、JAMP−514、JPA−514(以上、城北化学社製)等が挙げられる。
Examples of commercially available (meth) acrylic acid ester monomers having one polymerizable carbon-carbon double bond include Aronics M101, M102, M110, M111, M113, M114, M117, M120, M152, and M154. M5300, M5400, M5500, M5600 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), KAYARAD TC-110S, R-128H, R629, R644 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), IPAA, AIB, SBAA, TBA, IAAA, HEXA , CHA, NOAA, IOAA, INAA, LA, TDA, MSAA, CAA, HDAA, LTA, STA, ISAA-1, ODAA, NDAA, IBXA, ADAA, TCDA, 2-MTA, DMA, Biscote # 150, # 150D, # 155, # 158, # 1 0, # 190, # 190D, # 192, # 193, # 220, # 320, # 2311HP, # 2000, # 2100, # 2150, # 2180, MTG, HEA, HPA, 4HBA (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) Manufactured), NK ester M-20G, M-40G, M-90G, M-230G, CB-1, SA, S, AMP-10G, AMP-20G, AMP-60G, AMP-90G, A-SA, NLA (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), ACMO (Kojinsha), Light Acrylate IA-A, LA, SA, BO-A, EC-A, MTG-A, DPM-A, PO -A, P-200A, THF-A, IB-XA, HOA-MS, HOA-MPL, HOA-MPE, HOA-HH, IO-A, BZ-A, NP-EA, NP-10EA, HOB-A , FA-108, P-1A, epoxy ester M-600A, light ester HOA, light ester HOP-A, light ester HOP, light ester HOB, light ester P-1M (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), FA-511, FA-512A, FA-513A (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200, MR-60 (manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.), JAMP-100, JAMP-514 , JPA-514 (above, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.) and the like.

上記重合性の炭素−炭素二重結合を2個以上有する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシプロピル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジエポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジエポキシジ(メタ)アクリレート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、トリス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer having two or more polymerizable carbon-carbon double bonds include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, and 1,4-butanediol. Di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyling Cold di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane polyoxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxypropyl (meth) ) Acrylate, Trimethylolpropane polyoxyethyl (meth) acrylate, Tris (2-hydroxyethyl) Cyanurate di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate, propylene oxide-added bisphenol A di (meth) Acrylate, propylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, bisphenol A diepoxy di (meth) acrylate, bisphenol F diepoxy di (meth) acrylate, bis [2- (meth) acryloyloxyethyl ] Phosphate, bis [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] ] Phosphate etc. are mentioned.

上記重合性の炭素−炭素二重結合を2個以上有する(メタ)アクリル酸エステル系モノマーの市販品としては、SA−1002、SA−2006、SA−2007、SA−4100、SA−5001、SA−6000、SA−7600、SA−8000、SA−9000(以上、三菱化学社製)、ビスコート #195、#195D、#214HP、#215、#215D、#230、#230D、#260、#295、#295D、#300、#310HP、#310HG、#312、#335HP、#335D、#360、GPT、#400、V#540、#700、GPT、ビスコート3PA(以上、大阪有機化学工業社製)、KAYARAD MANDA、R−526、NPGDA、PEG400DA、R−167、HX−220、HX−620、R−551、R−712、R−604、R−684、GPO−303、TMPTA、THE−330、TPA−320、TPA−330、PET−30、RP−1040、T−1420、DPHA、D−310、D−330、DPCA−20、DPCA−30、DPCA−60、DPCA−120(以上、日本化薬社製)、アロニックス M−210、M−208、M−215、M−220、M−225、M−233、M−240、M−245、M−260、M−270、M−305、M−309、M−310、M−315、M−320、M−350、M−360、M−400、M−408、M−450(以上、東亞合成社製)、SR−212、SR−213、SR−355(以上、サートマー社製)、リポキシSP−1507(以上、昭和高分子社製)、ライトエステルP−2M、P−2A(以上、共栄社化学社製)、EB−169、EB−179、EB−3603、R−DX63182(以上、ダイセル・ユーシービー社製)、ブレンマーPDE150、PDE200、ADE200(以上、日本油脂社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available (meth) acrylic acid ester monomers having two or more polymerizable carbon-carbon double bonds include SA-1002, SA-2006, SA-2007, SA-4100, SA-5001, and SA. -6000, SA-7600, SA-8000, SA-9000 (Mitsubishi Chemical Corporation), Biscote # 195, # 195D, # 214HP, # 215, # 215D, # 230, # 230D, # 260, # 295 # 295D, # 300, # 310HP, # 310HG, # 312, # 335HP, # 335D, # 360, GPT, # 400, V # 540, # 700, GPT, Biscote 3PA (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) ), KAYARAD MANDA, R-526, NPGDA, PEG400DA, R-167, HX-220, H X-620, R-551, R-712, R-604, R-684, GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, PET-30, RP-1040, T-1420, DPHA, D-310, D-330, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-210, M-208, M-215, M- 220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, M-350, M-360, M-400, M-408, M-450 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), SR-212, SR-213, SR-355 (above, made by Sartomer), Lipoxy SP-1507 As mentioned above, Showa High Polymer Co., Ltd.), Light Ester P-2M, P-2A (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EB-169, EB-179, EB-3603, R-DX63182 (above, Daicel UCB) Product), Bremer PDE150, PDE200, ADE200 (manufactured by NOF Corporation) and the like.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層は、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性オリゴマーを含有する。上記光重合性オリゴマーは、本発明の電子部品加工用粘着テープに粘着力を付与する。一方、紫外線等の光を照射したときには架橋硬化することから、粘着力が急速に低下して糊残りすることなく剥離することができる。 The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention contains a photopolymerizable oligomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds. The said photopolymerizable oligomer gives adhesive force to the adhesive tape for electronic component processing of this invention. On the other hand, since it is crosslinked and cured when irradiated with light such as ultraviolet rays, it can be peeled off without any adhesive residue due to a rapid drop in adhesive strength.

本明細書においてオリゴマーとは、ある反復単位を有する低分子重合体を意味し、重量平均分子量が500〜2万であるものを意味する。重量平均分子量が500未満であると、光照射前における粘着力が不充分となることがあり、2万を超えると、紫外線等の光照射後による粘着力の低減が不充分となり、剥離時に糊残りが発生することがある。好ましい上限は1万である。 In the present specification, an oligomer means a low molecular polymer having a certain repeating unit, and means a polymer having a weight average molecular weight of 500 to 20,000. If the weight average molecular weight is less than 500, the adhesive strength before light irradiation may be insufficient, and if it exceeds 20,000, the adhesive force will not be sufficiently reduced after irradiation with light such as ultraviolet rays. The rest may occur. A preferred upper limit is 10,000.

上記光重合性オリゴマーとしては特に限定されないが、例えば、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、シリコーン系アクリレート等が挙げられる。これらの光重合性オリゴマーは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Although it does not specifically limit as said photopolymerizable oligomer, For example, a polyurethane (meth) acrylate, an epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, silicone type acrylate etc. are mentioned. These photopolymerizable oligomers may be used alone or in combination of two or more.

上記ポリウレタン(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、NKオリゴUA−340P、UA−511、UA−4200、UA−512、UA−122P、U−4HA、U−6HA、U−6LPA、U−324A、U−15HA、U−108A、U−200AX、UA−5201A、UA−4100、UA−4400(以上、新中村化学工業社製)、ライトタックPSA−705、PSA−805、PSA−901、PSA−903(以上、共栄社製)オレスターRA1500、RA1574、RA1573、RA1353(以上、三井化学社製)、KAYARAD UX−2201、UX−2301、UX−3204、UX−6101、MU−2100(以上、日本化薬社製)、CN−962、CN−964、CN−965、CN−968、CN−980、CN−981、CN−983、CN−972、CN−975、CN−978(以上、サートマー社製)、Ebecryl230、270、8402、8804、8807、9260、8210、210、4827、6700、220(ダイセル・ユーシービー社製)等が挙げられる。 As a commercial item of the said polyurethane (meth) acrylate, NK oligo UA-340P, UA-511, UA-4200, UA-512, UA-122P, U-4HA, U-6HA, U-6LPA, U- 324A, U-15HA, U-108A, U-200AX, UA-5201A, UA-4100, UA-4400 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Light Tack PSA-705, PSA-805, PSA-901, PSA-903 (above, manufactured by Kyoei Co., Ltd.) Orestar RA1500, RA1574, RA1573, RA1353 (above, manufactured by Mitsui Chemicals), KAYARAD UX-2201, UX-2301, UX-3204, UX-6101, MU-2100 (or Nippon Kayaku Co., Ltd.), CN-962, CN-964, CN-965, CN 968, CN-980, CN-981, CN-983, CN-972, CN-975, CN-978 (sold by Sartomer), Ebecryl 230, 270, 8402, 8804, 8807, 9260, 8210, 210, 4827 , 6700, 220 (manufactured by Daicel UCB) and the like.

上記エポキシ(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、リポキシVR−77、VR−90、VR−60、SP−1506、SP−1509、SP−1519、SP−1563(以上、昭和高分子社製)、CN−104、CN−116、CN−118、CN−119、CN−120、CN−124(サートマー社製)、ビスコート540(大阪有機化学工業社製)、EA−1020、EA−1025、EA−1026、EA−1028(以上、新中村化学工業社製)、Ebecryl600、2958、3700、3701、3708、6040(以上、ダイセル・ユーシービー社製)、ポリエステル(メタ)アクリレートとしては、Ebecryl84、657、810(ダイセル・ユーシービー社製)、オレスターRA2003、RA1050、RA1328、RA1491、RA1205(以上、三井化学社製)、アロニックスM−6100、6200、6500、7100(以上、東亞合成社製)、ポリエーテル(メタ)アクリレートとしては、ブレンマーPDE400、PDE600、PDE1000、ADE400、30PDC−950BH、PP−500、PP−800、55PET−800、PME−4000、PSE−1300(以上、日本油脂社製)、脂肪族(メタ)アクリレートとしては、TEAI−1000(日本曹達社製)、UC−1(クラレ社製)、シリコーン系(メタ)アクリレートとしては、X−22−164A、X−22−164B、X−22−164C(以上、信越化学工業社製)等が挙げられる。 As a commercial item of the said epoxy (meth) acrylate, for example, Lipoxy VR-77, VR-90, VR-60, SP-1506, SP-1509, SP-1519, SP-1563 (above, Showa Polymer Co., Ltd. make) ), CN-104, CN-116, CN-118, CN-119, CN-120, CN-124 (manufactured by Sartomer), Biscote 540 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry), EA-1020, EA-1025, EA-1026, EA-1028 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Ebecryl 600, 2958, 3700, 3701, 3708, 6040 (manufactured by Daicel UCB), polyester (meth) acrylate, Ebecryl 84, 657, 810 (manufactured by Daicel UCB), Olester RA2003, As A1050, RA1328, RA1491, RA1205 (above, Mitsui Chemicals), Aronix M-6100, 6200, 6500, 7100 (above, Toagosei Co., Ltd.), polyether (meth) acrylate, Blemmer PDE400, PDE600, PDE1000 ADE400, 30PDC-950BH, PP-500, PP-800, 55PET-800, PME-4000, PSE-1300 (manufactured by NOF Corporation), aliphatic (meth) acrylates, TEAI-1000 (Nippon Soda) ), UC-1 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and silicone-based (meth) acrylates such as X-22-164A, X-22-164B, X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), etc. Can be mentioned.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層における、上記粘着剤バインダーポリマー、光重合性モノマー及び光重合性オリゴマーとしては、互いに相溶性に優れる組み合わせを選択することが好ましい。例えば、上記粘着剤バインダーポリマーが官能基を有する(メタ)アクリル系モノマーと(メタ)アクリル酸エステル系モノマーとの共重合体である場合には、上記光重合性モノマーとして(メタ)アクリル酸エステル系モノマーを、光重合性オリゴマーとしてポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート又はシリコーン系アクリレートを選択することが好ましい。 As the pressure-sensitive adhesive binder polymer, photopolymerizable monomer, and photopolymerizable oligomer in the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention, it is preferable to select a combination that is mutually compatible. For example, when the pressure-sensitive adhesive binder polymer is a copolymer of a (meth) acrylic monomer having a functional group and a (meth) acrylic acid ester monomer, the (meth) acrylic acid ester is used as the photopolymerizable monomer. It is preferable to select polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, or silicone-based acrylate as the photopolymerizable oligomer.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層における、上記粘着剤バインダーポリマー、光重合性モノマー及び光重合性オリゴマーの配合比としては、これらの合計100重量部における上記粘着剤バインダーポリマーの配合量の好ましい下限は1重量部、好ましい上限は95重量部である。1重量部未満であると、紫外線等の光照射後による粘着力の低減が不充分であり、剥離時に糊残りが発生することがあり、95重量部を超えると、光照射前における粘着力が不充分となることがある。より好ましい下限は20重量部、更に好ましい下限は30重量部である。 In the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for electronic component processing of the present invention, the blending ratio of the pressure-sensitive adhesive binder polymer, photopolymerizable monomer and photopolymerizable oligomer is the blending of the pressure-sensitive adhesive binder polymer in a total of 100 parts by weight. The preferable lower limit of the amount is 1 part by weight, and the preferable upper limit is 95 parts by weight. If the amount is less than 1 part by weight, the adhesive strength is not sufficiently reduced after irradiation with light such as ultraviolet rays, and adhesive residue may occur at the time of peeling. If the amount exceeds 95 parts by weight, the adhesive strength before light irradiation is reduced. It may be insufficient. A more preferred lower limit is 20 parts by weight, and a still more preferred lower limit is 30 parts by weight.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層における、上記粘着剤バインダーポリマー、光重合性モノマー及び光重合性オリゴマーの合計100重量部における上記光重合性モノマーの配合量の好ましい下限が1重量部、好ましい上限が70重量部である。1重量部未満であると、光照射前における粘着力が不充分となることがあり、70重量部を超えると、紫外線等の光照射後による粘着力の低減が不充分となることがある。より好ましい下限は5重量部、より好ましい上限は60重量部である。 In the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for electronic component processing of the present invention, the preferred lower limit of the amount of the photopolymerizable monomer in a total of 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive binder polymer, photopolymerizable monomer and photopolymerizable oligomer is 1 weight. Parts, and the preferred upper limit is 70 parts by weight. If it is less than 1 part by weight, the adhesive strength before light irradiation may be insufficient, and if it exceeds 70 parts by weight, reduction of the adhesive force after irradiation with light such as ultraviolet rays may be insufficient. A more preferred lower limit is 5 parts by weight, and a more preferred upper limit is 60 parts by weight.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層における、上記粘着剤バインダーポリマー、光重合性モノマー及び光重合性オリゴマーの合計100重量部における上記光重合性オリゴマーの配合量の好ましい下限が5重量部、好ましい上限が60重量部である。5重量部未満であると、光照射前における粘着力が不充分となることがあり、60重量部を超えると、紫外線等の光照射後による粘着力の低減が不充分となることがある。より好ましい下限は10重量部、より好ましい上限は55重量部である。 In the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for electronic component processing of the present invention, the preferred lower limit of the blending amount of the photopolymerizable oligomer in a total of 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive binder polymer, photopolymerizable monomer and photopolymerizable oligomer is 5%. Parts, and the preferred upper limit is 60 parts by weight. If it is less than 5 parts by weight, the adhesive strength before light irradiation may be insufficient, and if it exceeds 60 parts by weight, reduction in adhesive force after irradiation with light such as ultraviolet rays may be insufficient. A more preferred lower limit is 10 parts by weight, and a more preferred upper limit is 55 parts by weight.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層は、光重合開始剤を含有する。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン]、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド等が好適である。これらの光重合開始剤は単独で用いてもよいが、2種以上を併用することが好ましい。
The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention contains a photopolymerization initiator.
It does not specifically limit as said photoinitiator, A conventionally well-known thing can be used. Specifically, for example, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, oligo [2-Hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone], bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide and the like are preferable. These photopolymerization initiators may be used alone, but it is preferable to use two or more kinds in combination.

上記光重合開始剤の市販品としては、例えば、イルガキュア184、500、651、819、ダロキュア1173、4265(以上チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、EsacureKK、KIP150、75LT(ラムバーティ社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available photopolymerization initiators include Irgacure 184, 500, 651, 819, Darocur 1173, 4265 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), EsacureKK, KIP150, 75LT (manufactured by Ramberty). It is done.

上記光重合開始剤としては、硬化速度調整する目的で、上記のもののほか、上記の開始剤と組み合わせて、又は、単独で下記の光重合開始剤を用いることができる。このような光重合開始剤としては、例えば、3−メチルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ミヒラーズケトン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネート、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、メチルベンゾイルホルメート、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等が挙げられる。 As the photopolymerization initiator, for the purpose of adjusting the curing rate, the following photopolymerization initiator can be used alone or in combination with the above-described initiator or alone. Examples of such a photopolymerization initiator include 3-methylacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, benzophenone. 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, Michler's ketone, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2 -Methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy -2-propyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoylphenyl phosphinate, 2,4,6 -Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl Examples include phosphine oxide, methyl benzoyl formate, thioxanthone, diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, and 2-chlorothioxanthone.

このような光重合開始剤の市販品としては、例えば、イルガキュア261、369、379、907、1700、1800、1850、2959、CGI−403、ダロキュア953、1116、1664、2273(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、ルシリンTPO、LR8728、LR8893(以上、BASF社製)、エベクリルP36(ダイセル・ユーシービー社製)、ヴァイキュア55(アクゾ社製)、カヤキュアCTX、DETX、BP−100、BMS、2−EAQ(以上、日本化薬社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available photopolymerization initiators include Irgacure 261, 369, 379, 907, 1700, 1800, 1850, 2959, CGI-403, Darocur 953, 1116, 1664, 2273 (above, Ciba Specialty). Chemicals), lucillin TPO, LR8728, LR8883 (above, manufactured by BASF), Evecryl P36 (manufactured by Daicel UCB), Vicure 55 (manufactured by Akzo), Kayacure CTX, DETX, BP-100, BMS, 2-EAQ (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.

上記光重合開始剤の配合量としては、上記粘着剤バインダーポリマー、光重合性モノマー及び光重合性オリゴマーの合計100重量部に対して、好ましい下限は0.01重量部、好ましい上限は20重量部である。0.01重量部未満であると、充分に光重合性モノマー及び光重合性オリゴマーが硬化しないことがあり、20重量部を超えてももはや硬化性には影響せず、かえって電子部品の汚染等の原因となる。より好ましい下限は0.05重量部、より好ましい上限は15重量部である。 As a compounding quantity of the said photoinitiator, a preferable minimum is 0.01 weight part and a preferable upper limit is 20 weight part with respect to a total of 100 weight part of the said adhesive binder polymer, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerizable oligomer. It is. If it is less than 0.01 part by weight, the photopolymerizable monomer and the photopolymerizable oligomer may not be sufficiently cured, and if it exceeds 20 parts by weight, the curability will no longer be affected and the electronic components will be contaminated. Cause. A more preferred lower limit is 0.05 parts by weight, and a more preferred upper limit is 15 parts by weight.

本発明の電子部品加工用粘着テープの粘着剤層は、必要に応じて、他の樹脂成分や、紫外線吸収剤、光安定剤、老化防止剤、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、界面活性剤、保存安定剤、熱重合禁止剤、可塑剤、濡れ性改良剤、密着性付与剤、粘着付与剤(タッキファイヤー)、硬化剤等の添加剤を含有してもよい。 The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts according to the present invention may contain other resin components, ultraviolet absorbers, light stabilizers, anti-aging agents, antifoaming agents, leveling agents, antistatic agents, interfaces as necessary. You may contain additives, such as an activator, a storage stabilizer, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a wettability improving agent, an adhesion imparting agent, a tackifier (tackifier), and a curing agent.

上記他の樹脂成分としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、クロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、ペンタジエン誘導体、SBS(スチレン/ブタジエン/スチレンブロック共重合体)、SIS(スチレン/イソプレン/スチレンブロック共重合体)、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等が挙げられる。 Examples of the other resin component include epoxy resin, polyamide, polyamideimide, polyurethane, polybutadiene, chloroprene, polyether, polyester, pentadiene derivative, SBS (styrene / butadiene / styrene block copolymer), and SIS (styrene / isoprene). / Styrene block copolymer), petroleum resin, xylene resin, ketone resin, fluorine-based oligomer, silicone-based oligomer, polysulfide-based oligomer, and the like.

上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系の紫外線吸収剤が挙げられ、市販品としてはTINUVIN P、234、320、326、327、328、213、400(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、スミソーブ110、130、140、220、250、300、320、340、350、400(以上、住友化学工業社製)等が挙げられる。 Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole type and triazine type ultraviolet absorbers, and commercially available products include TINUVIN P, 234, 320, 326, 327, 328, 213, 400 (above, Ciba Specialty Chemicals), Sumisorb 110, 130, 140, 220, 250, 300, 320, 340, 350, 400 (above, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like.

上記老化防止剤としては、例えば、フェノール系老化防止剤、アリルアミン系老化防止剤、ケトンアミン系老化防止剤等を挙げることができ、それらの市販品としてはアンチゲンW、S、P、3C、6C、RD−G、FR、AW(以上、住友化学工業社製)等が挙げられる。 Examples of the anti-aging agent include a phenol-based anti-aging agent, an allylamine-based anti-aging agent, a ketone amine-based anti-aging agent and the like, and commercially available products thereof include Antigen W, S, P, 3C, 6C, RD-G, FR, AW (above, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like.

上記消泡剤としては、例えば、フローレンAC−202、AC−300、AC−303、AC−326F、AC−900、AC−1190、AC−2000(以上、共栄社化学社製)を例とするSi原子やF原子を含まない有機共重合体;フローレンAC−901、AC−950、AC−1140、AO−3、AO−4OH(以上、共栄社化学社製)、FS1265、SH200、SH5500、SC5540、SC5570、F−1、SD5590(以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)等のシリコーン系消泡剤;メガファックF−142D、F−144D、F−178K、F−179、F−815(以上、大日本インキ化学工業社製)等のフッ素原子含有消泡剤等が挙げられる。 Examples of the antifoaming agent include Si such as Floren AC-202, AC-300, AC-303, AC-326F, AC-900, AC-1190, and AC-2000 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). Organic copolymer containing no atoms or F atoms; Florene AC-901, AC-950, AC-1140, AO-3, AO-4OH (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), FS1265, SH200, SH5500, SC5540, SC5570 , F-1, SD5590 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and the like; Megafac F-142D, F-144D, F-178K, F-179, F-815 (above, Fluorine atom-containing antifoaming agents such as Dainippon Ink and Chemicals).

上記レベリング剤としては、例えば、ポリフローNo.7、No.38、No.50E、S、75、No.75、No.77、No.90、No.95、No.300、No.460、ATF、KL−245(以上、共栄社化学社製)等を挙げることができる。 Examples of the leveling agent include polyflow no. 7, no. 38, no. 50E, S, 75, No. 75, no. 77, no. 90, no. 95, no. 300, no. 460, ATF, KL-245 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like.

上記密着性付与剤としては、例えば、アルコキシシリル基を有するチオール化合物、リン酸エステル化合物等が挙げられる。これら化合物は、特に金属表面に対する密着性付与に効果がある。
上記アルコキシシリル基を有するチオール化合物としては、例えば、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルモノメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトアルキル−モノ、ジ又はトリ−メトキシシランが挙げられ、これらの市販品としては、SH6062、AY43−062(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)、サイラエースS810(チッソ社製)、KBM803(信越化学工業社製)等が挙げられる。
上記リン酸エステル化合物としては、例えば、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ジフェニルホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、トリス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート等が挙げられ、これらの市販品としては、ライトエステルP−1M、P−2M、ライトアクリレートP−1A、P−2A(以上、共栄社化学社製)、KAYAMER PM−2、PM−21(以上、日本化薬社製)等が挙げられる。
Examples of the adhesion-imparting agent include thiol compounds having an alkoxysilyl group, phosphate ester compounds, and the like. These compounds are particularly effective in imparting adhesion to the metal surface.
Examples of the thiol compound having an alkoxysilyl group include mercaptoalkyl-mono, di- or tri-methoxysilane such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethylmonomethoxysilane, and γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane. Examples of these commercially available products include SH6062, AY43-062 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone), Sila Ace S810 (manufactured by Chisso), KBM803 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the like.
Examples of the phosphoric acid ester compound include mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] diphenyl phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, Bis [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, bis [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate and the like, and these commercially available products include Light ester P-1M, P-2M, light acrylate P-1A, P-2A (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYAMER PM-2, PM-21 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned.

上記粘着付与剤(タッキファイヤー)としては、例えば、脂環族飽和炭化水素樹脂、ロジンエステル系樹脂等が挙げられ、市販品としては、アルコンP−70、P−90、P−100、M−90、M−100、M−135、SP−10、KR−1840、KR−1842、スーパーエステルA−75、A−115(以上、荒川化学工業社製)が挙げられる。 Examples of the tackifier (tackifier) include alicyclic saturated hydrocarbon resins and rosin ester resins, and commercially available products include Alcon P-70, P-90, P-100, M- 90, M-100, M-135, SP-10, KR-1840, KR-1842, Superesters A-75, A-115 (above, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.).

上記硬化剤としては、例えば、イソシアネート基を有する化合物等が挙げられ、市販品としては、コロネート(日本ポリウレタン工業社製)が挙げられる。 As said hardening | curing agent, the compound etc. which have an isocyanate group are mentioned, for example, Coronate (made by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) is mentioned as a commercial item.

本発明の電子部品加工用粘着テープにおける上記粘着剤層の厚さとしては、紫外線の照射量や粘着力によって選択すればよいが、好ましい下限は1μm、好ましい上限は1000μmであり、より好ましい下限は5μm、より好ましい上限は500μmであり、更に好ましい下限は10μm、より好ましい上限は100μmである。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer in the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention may be selected depending on the irradiation amount of ultraviolet rays and the adhesive strength, but the preferred lower limit is 1 μm, the preferred upper limit is 1000 μm, and the more preferred lower limit is A more preferable upper limit is 5 μm, and a more preferable lower limit is 10 μm, and a more preferable upper limit is 100 μm.

本発明の電子部品加工用粘着テープは、基材の一方の面にのみ粘着剤層が形成された片面粘着テープであってもよく、両面に粘着剤層が形成された両面粘着テープであってもよい。
上記基材としては特に限定されないが、光を透過又は通過するものであることが好ましく、例えば、アクリル、オレフィン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ABS、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、ウレタン、ポリイミド等の透明な樹脂からなるシート、網目状の構造を有するシート、孔が開けられたシート等が挙げられる。
The pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention may be a single-sided pressure-sensitive adhesive tape in which a pressure-sensitive adhesive layer is formed only on one surface of a substrate, and is a double-sided pressure-sensitive adhesive tape in which a pressure-sensitive adhesive layer is formed on both sides. Also good.
Although it does not specifically limit as said base material, It is preferable that it is what permeate | transmits or passes light, For example, transparent, such as an acryl, an olefin, a polycarbonate, vinyl chloride, ABS, a polyethylene terephthalate (PET), nylon, urethane, a polyimide And a sheet made of a simple resin, a sheet having a network structure, a sheet having holes, and the like.

本発明の電子部品加工用粘着テープを製造する方法としては特に限定されず、例えば、上記粘着剤バインダーポリマー、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合開始剤及び必要に応じて添加する添加剤の所定量を適当な溶剤に溶解した溶液を、ドクターナイフやスピンコーター等を用いて所定の厚さになるように離型基材上に塗工して塗膜を形成した後、該塗膜を基材に転写して、上記溶剤を揮発させる方法等が挙げられる。 The method for producing the pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention is not particularly limited. For example, the above-mentioned pressure-sensitive adhesive binder polymer, photopolymerizable monomer, photopolymerizable oligomer, photopolymerization initiator, and addition to be added as necessary A solution obtained by dissolving a predetermined amount of an agent in an appropriate solvent is applied onto a release substrate so as to have a predetermined thickness using a doctor knife, a spin coater, etc., and then a coating film is formed. Examples include a method of transferring the film to a substrate and volatilizing the solvent.

上記溶剤としては特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−メチル−5−ヘキサノン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;塩化メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン系溶剤;エチレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコール−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系溶剤が挙げられる。これらの溶剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The solvent is not particularly limited. For example, aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and 2-methyl-5-hexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate Examples of the solvent include halogen solvents such as methyl chloride, dichloromethane and dichloroethane; and glycol ether solvents such as ethylene glycol ethyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol-n-propyl ether and propylene glycol methyl ether acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明の電子部品の加工方法では、次いで上記粘着テープが貼付された電子部品を加工する工程を行う。
上記加工としては特に限定されず、例えば、研削加工、ダイシング加工、回路転写加工、MEMSの製造等の通常電子部品に施される加工が挙げられる。
In the method for processing an electronic component according to the present invention, a step of processing the electronic component to which the adhesive tape is attached is then performed.
The processing is not particularly limited, and examples thereof include processing usually applied to electronic components such as grinding processing, dicing processing, circuit transfer processing, and MEMS manufacturing.

上記切削加工としては、具体的には例えば、上記粘着テープが貼付された電子部品の粘着テープが貼付されていない側の面を高速回転する研磨用砥石を用いて切削水をかけながら所望の厚さにまで研削する加工等が挙げられる。上記粘着テープが両面粘着テープである場合には、該両面粘着テープを介してガラス板や樹脂板等の支持板を貼り付けてもよい。このような支持板により補強することにより、電子部品を損傷することなく切削加工を施すことができる。 Specifically, as the cutting process, for example, a desired thickness is applied while applying cutting water using a polishing grindstone that rotates at high speed on the surface of the electronic component to which the adhesive tape is affixed. The process etc. which grind to the thickness are mentioned. When the pressure-sensitive adhesive tape is a double-sided pressure-sensitive adhesive tape, a support plate such as a glass plate or a resin plate may be attached via the double-sided pressure-sensitive adhesive tape. By reinforcing with such a support plate, cutting can be performed without damaging the electronic component.

上記ダイシング加工としては、具体的には例えば、上記粘着テープが貼付された電子部品を、ダイシングブレードを用いて切断する加工等が挙げられる。この場合、上記粘着テープは、いわゆるダイシングテープの役割を果たす。小型微小チップの微小切断加工もいわゆるダイシング加工に含まれる。 Specific examples of the dicing process include a process of cutting an electronic component to which the adhesive tape is attached using a dicing blade. In this case, the adhesive tape serves as a so-called dicing tape. Micro cutting of small micro chips is also included in so-called dicing processing.

上記回路転写加工としては、具体的には例えば、まず上記粘着テープが貼付された電子部品(金属箔)をスパッタリング等して、上記粘着テープ上に回路パターンを形成して回路形成用転写材とし、該回路形成用転写材の回路パターン上に、半硬化状態にある絶縁性基板、又は、セラミックグリーンシートを熱プレスする加工等が挙げられる。 Specifically, as the circuit transfer processing, for example, first, an electronic component (metal foil) to which the adhesive tape is attached is sputtered to form a circuit pattern on the adhesive tape to obtain a transfer material for circuit formation. In addition, a process of hot pressing an insulating substrate in a semi-cured state or a ceramic green sheet on the circuit pattern of the circuit forming transfer material can be used.

上記MEMS製造加工としては、具体的には例えば、プリンターヘッド、圧力センサ、加速度センサー、ジャイロスコープ、デジタルミラーデバイス、ガスクロマトグラフ、マイクロモーター、櫛歯型アクチュエータ、光スキャナ、カンチレバー、流路モジュール、HDDヘッド、光スイッチ、撮影素子、等の電子部品をシリコン基板上で集積化したデバイスを加工すること等が挙げられる。 Specifically, the MEMS manufacturing process includes, for example, a printer head, a pressure sensor, an acceleration sensor, a gyroscope, a digital mirror device, a gas chromatograph, a micromotor, a comb-shaped actuator, an optical scanner, a cantilever, a flow path module, and an HDD. For example, it is possible to process a device in which electronic components such as a head, an optical switch, and a photographing element are integrated on a silicon substrate.

本発明の電子部品の加工方法では、次いで光を照射することにより上記加工後の電子部品から上記電子部品加工用粘着テープを剥離する工程を行う。
本発明の電子部品加工用粘着テープは、酸素存在下であっても紫外線等の光を照射することにより確実に粘着力が低下し、従来のような窒素雰囲気下で操作を行わなくとも糊残り等を生じることなく、確実に粘着テープを剥離することができる。
In the electronic component processing method of the present invention, the step of peeling the electronic component processing adhesive tape from the processed electronic component is then performed by irradiating light.
The pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts of the present invention reliably reduces the adhesive strength by irradiating with light such as ultraviolet rays even in the presence of oxygen, and the adhesive remains without operation in a conventional nitrogen atmosphere. The adhesive tape can be surely peeled off without causing such as.

本発明によれば、電子部品加工用粘着テープを用いた電子部品の加工方法であって、大気下等の酸素存在下であっても紫外線等の光を照射するだけで糊残り等を生じることなく電子部品加工用粘着テープを剥離できる電子部品の加工方法、及び、該電子部品の加工方法に用いる電子部品加工用粘着テープを提供することができる。 According to the present invention, a method for processing an electronic component using an adhesive tape for processing an electronic component, in which an adhesive residue or the like is generated only by irradiating light such as ultraviolet rays even in the presence of oxygen in the atmosphere or the like. The processing method of the electronic component which can peel the adhesive tape for electronic component processing without, and the adhesive tape for electronic component processing used for the processing method of this electronic component can be provided.

以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(粘着剤バインダーポリマーの調製)
(1)粘着剤バインダーポリマー1の調製
トルエン150重量部、n−ブチルアクリレート60重量部、メチルメタクリレート35重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート5重量部、アゾビスイソブチロニトリル0.4重量部を4口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で70℃、6時間攪拌して反応させた後、更に80℃、1時間反応させて、粘着剤バインダーポリマー1のトルエン溶液を得た。
(Preparation of adhesive binder polymer)
(1) Preparation of adhesive binder polymer 1 150 parts by weight of toluene, 60 parts by weight of n-butyl acrylate, 35 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 0.4 parts by weight of azobisisobutyronitrile. After putting into a 4-necked flask and reacting by stirring at 70 ° C. for 6 hours in a nitrogen atmosphere, the reaction was further performed at 80 ° C. for 1 hour to obtain a toluene solution of the pressure-sensitive adhesive binder polymer 1.

(2)粘着剤バインダーポリマー2の調製
トルエン150重量部、n−ブチルアクリレート90重量部、メチルメタクリレート10重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート5重量部、アゾビスイソブチロニトリル0.4重量部を4口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で70℃、6時間攪拌して反応させた後、更に80℃、1時間反応させて、粘着剤バインダーポリマー2のトルエン溶液を得た。
(2) Preparation of adhesive binder polymer 2 150 parts by weight of toluene, 90 parts by weight of n-butyl acrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 0.4 parts by weight of azobisisobutyronitrile. After putting into a 4-necked flask and reacting by stirring at 70 ° C. for 6 hours in a nitrogen atmosphere, the mixture was further reacted at 80 ° C. for 1 hour to obtain a toluene solution of the adhesive binder polymer 2.

(3)粘着剤バインダーポリマー3の調製
トルエン150重量部、n−ブチルアクリレート20重量部、メチルメタクリレート75重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート5重量部、アゾビスイソブチロニトリル0.4重量部を4口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で70℃、6時間攪拌して反応させた後、更に80℃、1時間反応させて、粘着剤バインダーポリマー3のトルエン溶液を得た。
(3) Preparation of pressure-sensitive adhesive binder polymer 3 150 parts by weight of toluene, 20 parts by weight of n-butyl acrylate, 75 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 0.4 parts by weight of azobisisobutyronitrile. After putting into a 4-necked flask and reacting by stirring at 70 ° C. for 6 hours in a nitrogen atmosphere, the reaction was further performed at 80 ° C. for 1 hour to obtain a toluene solution of the pressure-sensitive adhesive binder polymer 3.

得られた粘着剤バインダーポリマー1〜3について以下の方法により重量平均分子量及びガラス転移温度を測定した。
結果を表1に示した。
About the obtained adhesive binder polymers 1-3, the weight average molecular weight and the glass transition temperature were measured with the following method.
The results are shown in Table 1.

(重量平均分子量の測定)
GPC法(Gel Permeation Chromatography法)により、カラム;TSK gel Multipore HXL−IV×2本(東ソー株式会社製)、溶離液;テトラヒドロフラン(THF)、濃度;0.05重量%、温度;40℃、注入量;100μL、流量;1mL/minの条件にてポリスチレン換算の重量平均分子量を求めた。
(Measurement of weight average molecular weight)
By GPC method (Gel Permeation Chromatography method), column: TSK gel Multipore HXL-IV × 2 (manufactured by Tosoh Corporation), eluent: tetrahydrofuran (THF), concentration: 0.05 wt%, temperature: 40 ° C., injection The weight average molecular weight in terms of polystyrene was determined under the conditions of amount: 100 μL, flow rate: 1 mL / min.

(ガラス転移温度の測定)
粘着剤バインダーポリマー1〜3のトルエン溶液を市販の離型基材(商品名:HS−10;東山フィルム社製)上に薄く塗工し、25℃、7日間乾燥させることによって乾燥フィルムを得た。得られた乾燥フィルム20mgを秤量し、示差走査熱量分析計(理学電気社製)を用いて、昇温速度=20℃/分、チッ素雰囲気下の条件で測定してガラス転移温度を求めた。
(Measurement of glass transition temperature)
The toluene solution of the adhesive binder polymers 1 to 3 is thinly coated on a commercially available release substrate (trade name: HS-10; manufactured by Higashiyama Film Co., Ltd.) and dried at 25 ° C. for 7 days to obtain a dry film. It was. 20 mg of the obtained dried film was weighed and measured using a differential scanning calorimeter (manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.) at a rate of temperature increase of 20 ° C./min under a nitrogen atmosphere to determine the glass transition temperature. .

Figure 2008127544
Figure 2008127544

(実施例1)
粘着剤バインダーポリマー1を50重量部、光重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名:KAYARAD DPHA;日本化薬社製)を25重量部、光重合性オリゴマーとしてポリウレタン4官能アクリレート(分子量600、商品名:NKオリゴU−4HA;新中村化学工業社製)を25重量部、光重合開始剤としてα−ヒドロキシアセトフェノン(商品名:イルガキュア(Irgacure)184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)を2重量部及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド(商品名:DAROCURE TPO;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)を1重量部、粘着剤バインダーポリマーに含まれるトルエン及び別途追加したメチルエチルケトンとともに混合して粘着性樹脂組成物を得た。
(Example 1)
50 parts by weight of the adhesive binder polymer 1, 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a photopolymerizable monomer, and a polyurethane tetrafunctional acrylate (molecular weight 600) as a photopolymerizable oligomer , Trade name: NK Oligo U-4HA; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and α-hydroxyacetophenone (trade name: Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator. 2 parts by weight and 1 part by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (trade name: DAROCURE TPO; manufactured by Ciba Specialty Chemicals), toluene contained in the adhesive binder polymer and methyl ethyl keto added separately The mixture was mixed with an adhesive to obtain an adhesive resin composition.

ポリエチレンテレフタレート(PET)からなる市販の離型基材(商品名:HS−10;東山フィルム社製)に、得られた粘着性樹脂組成物を、乾燥後膜厚が30μmになるよう、アプリケーターにて塗布し、110℃で5分間乾燥して粘着剤層を得た。
次に、粘着シート用の基材として、市販のポリエチレンテレフタレートからなる基材(商品名:コスモシャイン4300;東山フィルム社製)を別途用意し、離型基材と粘着シート用の基材とを、離型基材の面上に形成された粘着剤層を挟持するように積層し、粘着シート用の基材に2kgゴムロールにて押しあてて、粘着剤層を粘着シート用の基材に転写して、基材の片面に粘着剤層が形成された電子部品加工用粘着テープを得た。
To an applicator so that the film thickness after drying is 30 μm on a commercially available release substrate (trade name: HS-10; manufactured by Higashiyama Film Co., Ltd.) made of polyethylene terephthalate (PET). And then dried at 110 ° C. for 5 minutes to obtain an adhesive layer.
Next, a base material made of commercially available polyethylene terephthalate (trade name: Cosmo Shine 4300; manufactured by Higashiyama Film Co., Ltd.) is separately prepared as the base material for the pressure-sensitive adhesive sheet, and a release base material and a base material for the pressure-sensitive adhesive sheet are prepared. Laminate the pressure-sensitive adhesive layer formed on the surface of the release substrate, press the pressure-sensitive adhesive layer onto the pressure-sensitive adhesive sheet substrate with a 2 kg rubber roll, and transfer the pressure-sensitive adhesive layer to the pressure-sensitive adhesive sheet substrate. And the adhesive tape for electronic component processing in which the adhesive layer was formed in the single side | surface of a base material was obtained.

(実施例2〜8)
表2に示した組成にて粘着性樹脂組成物を調製した以外は実施例1と同様にして、電子部品加工用粘着テープを得た。なお、用いた化合物は以下のようである。トリメチロールプロパントリアクリレート(商品名:TMPTA;ダイセル・ユーシービー社製)、ポリエステル6官能アクリレート(分子量2300、商品名:CN2300;サートマー社製)、ポリウレタン2官能アクリレート(分子量500、商品名:Ebecryl270;ダイセル・ユーシービー社製)。
(Examples 2 to 8)
An adhesive tape for processing electronic parts was obtained in the same manner as in Example 1 except that an adhesive resin composition was prepared with the composition shown in Table 2. The compounds used are as follows. Trimethylolpropane triacrylate (trade name: TMPTA; manufactured by Daicel UCB), polyester hexafunctional acrylate (molecular weight 2300, trade name: CN2300; manufactured by Sartomer), polyurethane bifunctional acrylate (molecular weight 500, trade name: Ebecryl 270; (Daicel UCB).

(比較例1〜3)
表3に示した組成にて粘着性樹脂組成物を調製した以外は実施例1と同様にして、電子部品加工用粘着テープを得た。
(Comparative Examples 1-3)
An adhesive tape for processing electronic parts was obtained in the same manner as in Example 1 except that an adhesive resin composition was prepared with the composition shown in Table 3.

(比較例4)
下記の化合物を酢酸エチルに溶解させ、紫外線を照射して重合を行い、重量平均分子量70万のアクリル共重合体を得た。
2−エチルヘキシルアクリレート 100重量部
アクリル酸 1重量部
2−ヒドロキシエチルアクリレート 5重量部
光重合開始剤 0.2重量部
(イルガキュア651、50%酢酸エチル溶液)
ラウリルメルカプタン 0.01重量部
得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、2−イソシアナトエチルメタクリレート3.5重量部を加えて反応させ、更に、反応後の酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、ウレタンアクリレート(10官能)(新中村化学工業社製、NKオリゴU324A)30重量部、ポリイソシアネート0.5重量部、光重合開始剤(イルガキュア651)0.1重量部を混合し(メタ)アクリレート基を重合性反応基とする光硬化型粘着剤の酢酸エチル溶液を調製した。
(Comparative Example 4)
The following compounds were dissolved in ethyl acetate and polymerized by irradiating with ultraviolet rays to obtain an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 700,000.
2-ethylhexyl acrylate 100 parts by weight Acrylic acid 1 part by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 0.2 part by weight (Irgacure 651, 50% ethyl acetate solution)
0.01 parts by weight of lauryl mercaptan 0.01 parts by weight of resin solid content of 100 parts by weight of the ethyl acetate solution containing the acrylic copolymer was added and reacted with 3.5 parts by weight of 2-isocyanatoethyl methacrylate. 30 parts by weight of urethane acrylate (10 functional) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Oligo U324A), 0.5 parts by weight of polyisocyanate, photopolymerization initiator with respect to 100 parts by weight of resin solid content of the later ethyl acetate solution (Irgacure 651) 0.1 part by weight was mixed to prepare an ethyl acetate solution of a photocurable pressure-sensitive adhesive having a (meth) acrylate group as a polymerizable reactive group.

ポリエチレンテレフタレート(PET)からなる市販の離型基材(商品名:HS−10;東山フィルム社製)に、得られた光硬化型粘着剤の酢酸エチル溶液を、乾燥後膜厚が30μmになるよう、アプリケーターにて塗布し、110℃で5分間乾燥して粘着剤層を得た。次に、粘着シート用の基材として、市販のポリエチレンテレフタレートからなる基材(商品名:コスモシャイン4300;東山フィルム社製)を別途用意し、離型基材と粘着シート用の基材とを、離型基材の面上に形成された粘着剤層を挟持するように積層し、粘着シート用の基材に2kgゴムロールにて押しあてて、粘着剤層を粘着シート用の基材に転写して、基材の片面に粘着剤層が形成された電子部品加工用粘着テープを得た。 The obtained photocurable adhesive ethyl acetate solution is dried on a commercially available release substrate made of polyethylene terephthalate (PET) (trade name: HS-10; manufactured by Higashiyama Film Co., Ltd.), and the film thickness becomes 30 μm after drying. So that it was applied with an applicator and dried at 110 ° C. for 5 minutes to obtain an adhesive layer. Next, a base material made of commercially available polyethylene terephthalate (trade name: Cosmo Shine 4300; manufactured by Higashiyama Film Co., Ltd.) is separately prepared as the base material for the pressure-sensitive adhesive sheet, and a release base material and a base material for the pressure-sensitive adhesive sheet are prepared. Laminate the pressure-sensitive adhesive layer formed on the surface of the release substrate, press the pressure-sensitive adhesive layer onto the pressure-sensitive adhesive sheet substrate with a 2 kg rubber roll, and transfer the pressure-sensitive adhesive layer to the pressure-sensitive adhesive sheet substrate. And the adhesive tape for electronic component processing in which the adhesive layer was formed in the single side | surface of a base material was obtained.

(評価)
実施例1〜8、比較例1〜4で製造した電子部品加工用粘着テープを用いて、以下の工程によりシリコンウエハのダイシング加工を行った。
(Evaluation)
Using the adhesive tapes for electronic component processing manufactured in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4, the silicon wafer was diced by the following steps.

(シリコンウエハと粘着テープとの貼り合わせ工程)
電子部品加工用粘着テープの粘着剤層を保護する離型基材を剥がし、直径20cm、厚さ約750μmのシリコンウエハとダイシングフレームに貼り付け、ダイシングフレームに電子部品加工用粘着テープを介して貼付された構成体を得た。
(Attaching process of silicon wafer and adhesive tape)
The release substrate that protects the adhesive layer of the adhesive tape for electronic component processing is peeled off and attached to a silicon wafer having a diameter of 20 cm and a thickness of about 750 μm and a dicing frame, and then attached to the dicing frame via the adhesive tape for electronic component processing. The obtained composition was obtained.

(ダイシング工程)
ダイシングフレームに電子部品加工用粘着テープを介して貼付されたシリコンウエハを、5mm角サイズのチップ状にダイシングした。
ダイシングの際にシリコンウエハが動く等の要因によりダイシング不良が発生したか否かを目視にて観察したが、実施例1〜8、比較例1〜4で製造したいずれの電子部品加工用粘着テープも充分な粘着力を発揮して、ダイシング不良の発生は全く認められなかった。
(Dicing process)
A silicon wafer attached to the dicing frame via an adhesive tape for processing electronic components was diced into 5 mm square chip shapes.
Although it was visually observed whether or not dicing failure occurred due to factors such as movement of the silicon wafer during dicing, any one of the adhesive tapes for processing electronic components manufactured in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4 was used. However, sufficient adhesive strength was exhibited and no occurrence of dicing failure was observed.

(粘着テープの剥離工程)
大気下にて、ダイシングして得たチップ状体の粘着テープ面側から、超高圧水銀灯を用いて365nmの紫外線を照射強度が50mW/cmとなるよう照度を調節して1分間照射した。その後、チップをピックアップし、得られたチップを目視にて観察し、チップの周辺部に糊残りがあるかを観察した。
結果を表2、3に示した。
(Adhesive tape peeling process)
From the pressure-sensitive adhesive tape surface side of the chip-like body obtained by dicing in the atmosphere, irradiation with ultraviolet rays of 365 nm using an ultrahigh pressure mercury lamp was performed for 1 minute while adjusting the illuminance so that the irradiation intensity was 50 mW / cm 2 . Thereafter, the chip was picked up, and the obtained chip was visually observed to see if there was any adhesive residue on the periphery of the chip.
The results are shown in Tables 2 and 3.

Figure 2008127544
Figure 2008127544

Figure 2008127544
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本発明によれば、電子部品加工用粘着テープを用いた電子部品の加工方法であって、大気下等の酸素存在下であっても紫外線等の光を照射するだけで糊残り等を生じることなく電子部品加工用粘着テープを剥離できる電子部品の加工方法、及び、該電子部品の加工方法に用いる電子部品加工用粘着テープを提供することができる。 According to the present invention, a method for processing an electronic component using an adhesive tape for processing an electronic component, in which an adhesive residue or the like is generated only by irradiating light such as ultraviolet rays even in the presence of oxygen in the atmosphere or the like. The processing method of the electronic component which can peel the adhesive tape for electronic component processing without, and the adhesive tape for electronic component processing used for the processing method of this electronic component can be provided.

Claims (2)

電子部品に電子部品加工用粘着テープを貼付する工程と、前記電子部品加工用粘着テープが貼付された電子部品を加工する工程と、光を照射することにより前記加工後の電子部品から前記電子部品加工用粘着テープを剥離する工程とを有する電子部品の加工方法であって、
前記電子部品加工用粘着テープは、重量平均分子量が1万〜200万で、かつ、ガラス転移温度が−100℃〜100℃である粘着剤バインダーポリマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性モノマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性オリゴマー、及び、光重合開始剤を含有する粘着剤層を有するものである
ことを特徴とする電子部品の加工方法。
A step of affixing an electronic component processing adhesive tape to an electronic component; a step of processing the electronic component having the electronic component processing adhesive tape affixed; and by irradiating light to the processed electronic component from the electronic component A method of processing an electronic component having a step of peeling the processing adhesive tape,
The pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic parts has a weight-average molecular weight of 10,000 to 2,000,000 and a glass transition temperature of −100 ° C. to 100 ° C., 1 polymerizable carbon-carbon double bond. Or a photopolymerizable monomer having one or more, a photopolymerizable oligomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds, and a pressure-sensitive adhesive layer containing a photopolymerization initiator. An electronic component processing method characterized by the above.
電子部品の加工に供する電子部品加工用粘着テープであって、重量平均分子量が1万〜200万で、かつ、ガラス転移温度が−100℃〜100℃である粘着剤バインダーポリマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性モノマー、重合性の炭素−炭素二重結合を1個又は2個以上有する光重合性オリゴマー、及び、光重合開始剤を含有する粘着剤層を有することを特徴とする電子部品加工用粘着テープ。 A pressure-sensitive adhesive tape for processing electronic components, a pressure-sensitive adhesive binder polymer having a weight average molecular weight of 10,000 to 2,000,000 and a glass transition temperature of −100 ° C. to 100 ° C., polymerizable carbon -Adhesive containing a photopolymerizable monomer having one or more carbon double bonds, a photopolymerizable oligomer having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds, and a photopolymerization initiator An adhesive tape for processing electronic parts, characterized by having an agent layer.
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