JP2008122996A - Proximity exposure apparatus and method for manufacturing substrate - Google Patents
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Description
本発明は、表示用パネル等の基板の製造において、ガラス基板上にパターンを形成する露光装置及びそれを用いた基板製造方法に係り、特にプロキシミティ方式を用いて複数のショットを行うプロキシミティ露光装置及びそれを用いた基板製造方法に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus that forms a pattern on a glass substrate and a substrate manufacturing method using the same in the manufacture of a substrate such as a display panel, and more particularly, proximity exposure that performs a plurality of shots using a proximity method. The present invention relates to an apparatus and a substrate manufacturing method using the apparatus.
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のTFT(Thin Film Transistor)基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機EL(Electroluminescence)表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術によりガラス基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてフォトマスク(以下、「マスク」と称す)のパターンをガラス基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクとガラス基板との間に微小な間隙(プロキシミティギャップ)を設けてマスクのパターンを転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。 The manufacture of TFT (Thin Film Transistor) substrates, color filter substrates, plasma display panel substrates, organic EL (Electroluminescence) display panel substrates, etc. for liquid crystal display devices used as display panels is performed using an exposure apparatus, photolithography. This is performed by forming a pattern on a glass substrate by a technique. As an exposure apparatus, a projection method in which a pattern of a photomask (hereinafter referred to as “mask”) is projected onto a glass substrate using a lens or a mirror, and a minute gap (proximity gap) between the mask and the glass substrate. ) To transfer the mask pattern. The proximity method is inferior in pattern resolution performance to the projection method, but the configuration of the irradiation optical system is simple, the processing capability is high, and it is suitable for mass production.
近年、表示用パネルの各種基板の製造では、大型化及びサイズの多様化に対応するため、比較的大きなガラス基板を用意し、表示用パネルのサイズに応じて、1枚のガラス基板から1枚又は複数枚の表示用パネルの基板を製造している。この場合、プロキシミティ方式では、ガラス基板の一面を一括して露光しようとすると、ガラス基板と同じ大きさのマスクが必要となり、高価なマスクのコストがさらに増大する。そこで、ガラス基板より比較的小さなマスクを用い、ガラス基板をXY方向にステップ移動させながら、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光する方式が主流となっている。 In recent years, in the manufacture of various substrates for display panels, a relatively large glass substrate is prepared in order to cope with an increase in size and diversification of sizes, and one sheet of a glass substrate is selected according to the size of the display panel. Alternatively, a plurality of display panel substrates are manufactured. In this case, in the proximity method, if one surface of the glass substrate is to be exposed at a time, a mask having the same size as the glass substrate is required, and the cost of the expensive mask is further increased. In view of this, the mainstream method is to divide and expose one surface of a glass substrate into a plurality of shots while using a mask that is relatively smaller than the glass substrate and moving the glass substrate stepwise in the XY direction.
プロキシミティ露光装置は、露光時にガラス基板を真空吸着等により固定するチャックを備えている。チャックは、マスクとガラス基板とのギャップ合わせ及びガラス基板のアライメントを行うステージ上に搭載されている。チャックに対するガラス基板のロード/アンロードは、通常、ロボット等のハンドリングアームにより行われる。そして、ステージによりチャック上のガラス基板のプリアライメント、ギャップ合わせ及びアライメントが行われた後、ショットが行われる。ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光する場合は、プリアライメント後に、XY方向のステップ移動、ギャップ合わせ、アライメント及びショットが繰り返される。従来は、ガラス基板のロード/アンロードを含むこれらの一連の作業の総時間が、タクトタイムとなっていた。 The proximity exposure apparatus includes a chuck that fixes a glass substrate by vacuum suction or the like during exposure. The chuck is mounted on a stage that performs gap alignment between the mask and the glass substrate and alignment of the glass substrate. The loading / unloading of the glass substrate with respect to the chuck is usually performed by a handling arm such as a robot. Then, after pre-alignment, gap alignment and alignment of the glass substrate on the chuck are performed by the stage, a shot is performed. When exposing one surface of the glass substrate in a plurality of shots, step movement in the XY directions, gap alignment, alignment, and shot are repeated after pre-alignment. Conventionally, the total time of these series of operations including loading / unloading of a glass substrate has been a takt time.
一方、半導体デバイス製造時の半導体ウェーハの露光では、一般にプロジェクション方式が採用されている。この場合、半導体ウェーハの熱膨張率が比較的低く、またプロジェクション方式で露光倍率が調整可能なため、露光時の半導体ウェーハの温度管理はあまり問題とはならない。しかしながら、プロキシミティ方式を用いたガラス基板の露光では、ガラス基板の熱膨張率が半導体ウェーハや石英等から成るマスクに比べて高く、かつプロキシミティ方式でマスクのパターンを1対1に転写するため、ガラス基板の温度管理を行わないとパターンのトータルピッチ精度が劣化する。従来は、チャック自体に温度調節機構を設けることにより、チャックに接触するガラス基板の冷却を行っていた。また、特許文献1には、チャックへのガラス基板の搬送前又は搬送中に、ガラス基板の冷却を行う技術が開示されている。
従来のプロキシミティ方式を用いたガラス基板の露光では、チャックに対してガラス基板のロード/アンロードを行う時間、及びプリアライメントに要する時間がそのままタクトタイムに影響を与え、スループットの向上を妨げていた。 In the exposure of a glass substrate using the conventional proximity method, the time for loading / unloading the glass substrate with respect to the chuck and the time required for pre-alignment directly affect the takt time, thereby preventing an increase in throughput. It was.
また、チャック自体に温度調節機構を設けても、ガラス基板のロード後ショットを開始するまでの時間では、ガラス基板を十分に冷却することができなかった。一方、ガラス基板のロード後にガラス基板を冷却する時間を設けると、スループットが低下するという問題があった。このため、従来は、例えば特許文献1に記載のような冷却設備が別途必要であった。 Further, even if the chuck itself is provided with a temperature adjusting mechanism, the glass substrate cannot be sufficiently cooled in the time until the shot is started after loading the glass substrate. On the other hand, when a time for cooling the glass substrate is provided after the glass substrate is loaded, there is a problem that the throughput is lowered. For this reason, conventionally, for example, a cooling facility as described in Patent Document 1 is separately required.
さらに、チャックに対するガラス基板のロード/アンロードをマスクの下で行うと、ロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊する。プロキシミティ方式では、ガラス基板をマスクに極めて接近させて露光を行うため、このような塵埃が問題となる。これを回避するため、ガラス基板のロード/アンロードをマスクの下から離れた位置で行うと、チャックの移動に時間を要する分だけスループットが低下する。 Furthermore, when loading / unloading of the glass substrate with respect to the chuck is performed under the mask, dust generated during loading / unloading floats between the mask and the glass substrate. In the proximity method, the exposure is performed with the glass substrate being very close to the mask, so such dust becomes a problem. In order to avoid this, if loading / unloading of the glass substrate is performed at a position away from the bottom of the mask, the throughput is lowered by the time required for moving the chuck.
本発明の課題は、プロキシミティ方式を用いて複数のショットを行う露光において、スループットを向上させることである。さらに、本発明の課題は、パターンのトータルピッチ精度の劣化を防止することである。また、本発明の課題は、プロキシミティ方式を用いて複数のショットを行う露光において、スループットを向上させ、かつガラス基板のロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊するのを防止することである。 An object of the present invention is to improve throughput in exposure in which a plurality of shots are performed using a proximity method. Furthermore, an object of the present invention is to prevent the deterioration of the total pitch accuracy of the pattern. Another object of the present invention is to improve throughput in exposure in which a plurality of shots are performed using the proximity method, and dust generated during loading / unloading of the glass substrate floats between the mask and the glass substrate. It is to prevent.
本発明のプロキシミティ露光装置は、マスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンをガラス基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、マスクのパターンをガラス基板に露光する露光位置と、ガラス基板を搭載して移動するステージと、ステージ上にガラス基板をロード乃至アンロードする複数のロード/アンロード位置とを備え、ステージが、ロード/アンロード位置と露光位置との間でガラス基板を移動し、露光位置でガラス基板移動方向と直交する方向に当該ガラス基板を移動する機構を有するものである。 The proximity exposure apparatus of the present invention provides an exposure position for exposing a mask pattern to a glass substrate in a proximity exposure apparatus that transfers a mask pattern to the glass substrate by providing a minute gap between the mask and the glass substrate. And a stage on which the glass substrate is mounted and moved, and a plurality of load / unload positions for loading or unloading the glass substrate on the stage, wherein the stage is between the load / unload position and the exposure position. It has a mechanism for moving the glass substrate and moving the glass substrate in a direction orthogonal to the glass substrate moving direction at the exposure position.
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、ステージが、ロード/アンロード位置と露光位置との間でガラス基板を移動するXステージと、Xステージ上に設置され、ガラス基板移動方向と交差する方向に当該ガラス基板を移動するYステージとを有するものである(請求項2)。また、本発明のプロキシミティ露光装置は、ステージが、高さ調整機構を有するZステージをYステージ上に設置し、当該ステージが露光位置にあるとき、当該Zステージを作動してマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行うものである(請求項3)。また、本発明のプロキシミティ露光装置は、ステージが、ガラス基板を固定し、かつ当該ガラス基板の温度を調節する機構を内蔵するチャックを搭載したものである(請求項4)。 Furthermore, in the proximity exposure apparatus of the present invention, the stage moves on the glass substrate between the load / unload position and the exposure position, and is installed on the X stage and intersects the glass substrate moving direction. And a Y stage that moves the glass substrate (claim 2). In the proximity exposure apparatus of the present invention, the stage has a Z stage having a height adjustment mechanism installed on the Y stage, and when the stage is at the exposure position, the Z stage is operated to operate the mask and the glass substrate. (Claim 3). In the proximity exposure apparatus of the present invention, the stage is equipped with a chuck that includes a mechanism for fixing the glass substrate and adjusting the temperature of the glass substrate.
露光位置でガラス基板のXY方向へのステップ移動及びガラス基板の露光を行っている間に、ロード/アンロード位置で露光後のガラス基板のアンロードと、露光前のガラス基板のロードとを行う。タクトタイムには、ガラス基板のロード/アンロードを行う時間が含まれず、代わりにロード/アンロード位置と露光位置との間でチャックを移動するわずかな時間が含まれる。そして、露光位置でガラス基板のXY方向へのステップ移動及びガラス基板の露光を行っている間に、ロード/アンロード位置で露光前のガラス基板の冷却を行う時間が確保される。また、露光位置とは別に設けたロード/アンロード位置でガラス基板のロード/アンロードを行うので、ガラス基板のロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊しない。 During the step movement of the glass substrate in the X and Y directions and the exposure of the glass substrate at the exposure position, the glass substrate is unloaded after the exposure and the glass substrate before the exposure is loaded at the load / unload position. . The tact time does not include time for loading / unloading the glass substrate, but instead includes a short time for moving the chuck between the load / unload position and the exposure position. And while performing the step movement to the XY direction of a glass substrate and exposure of a glass substrate in an exposure position, the time which cools the glass substrate before exposure in a load / unload position is ensured. In addition, since the glass substrate is loaded / unloaded at a load / unload position provided separately from the exposure position, dust generated during loading / unloading of the glass substrate does not float between the mask and the glass substrate.
特に、露光位置でガラス基板をXY方向にステップ移動させて、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光するため、ガラス基板のステップ移動に要する時間が比較的長く、その間に露光前のガラス基板を十分に冷却することができる。 In particular, the glass substrate is stepped in the X and Y directions at the exposure position, and one surface of the glass substrate is divided into a plurality of shots for exposure. The substrate can be sufficiently cooled.
また、露光位置で1つのチャック上のガラス基板のXY方向へのステップ移動及びガラス基板の露光を行っている間に、ロード/アンロード位置でさらに他のチャック上のガラス基板のプリアライメントを行うと、タクトタイムにはプリアライメントに要する時間も含まれなくなる。 Further, during the step movement of the glass substrate on one chuck in the XY direction and the exposure of the glass substrate at the exposure position, pre-alignment of the glass substrate on the other chuck is performed at the load / unload position. The tact time does not include the time required for pre-alignment.
本発明の基板製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて、ガラス基板上にパターンを形成するものである。 The substrate manufacturing method of the present invention forms a pattern on a glass substrate using any one of the above-described proximity exposure apparatuses.
本発明のプロキシミティ露光装置によれば、プロキシミティ方式を用いて複数のショットを行う露光において、タクトタイムを短縮してスループットを向上させることができる。さらに、ガラス基板を冷却してパターンのトータルピッチ精度の劣化を防止することができる。 According to the proximity exposure apparatus of the present invention, it is possible to shorten the tact time and improve the throughput in exposure in which a plurality of shots are performed using the proximity method. Further, the glass substrate can be cooled to prevent the deterioration of the total pitch accuracy of the pattern.
また、本発明のプロキシミティ露光装置によれば、プロキシミティ方式を用いて複数のショットを行う露光において、タクトタイムを短縮してスループットを向上させ、かつガラス基板のロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊するのを防止することができる。 Further, according to the proximity exposure apparatus of the present invention, in exposure in which a plurality of shots are performed using the proximity method, the tact time is shortened to improve the throughput, and dust generated during loading / unloading of the glass substrate Can be prevented from floating between the mask and the glass substrate.
本発明の基板製造方法によれば、パターンの形成を高いスループットで行い、パターンのトータルピッチ精度の劣化を防止し、またガラス基板のロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊するのを防止することができる。従って、高品質な基板の製造が、高いスループットで可能となる。 According to the substrate manufacturing method of the present invention, pattern formation is performed at a high throughput, deterioration of the total pitch accuracy of the pattern is prevented, and dust generated during loading / unloading of the glass substrate is caused between the mask and the glass substrate. Can be prevented from floating. Therefore, it is possible to manufacture a high-quality substrate with a high throughput.
図1は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。露光装置は、チャック10a,10b、マスク20、マスクホルダ21、ハンドリングアーム30a,30b、及び搬送ライン40を含んで構成されている。露光装置は、その他にも露光用光源及び照射光学系、マスクチェンジャ、ギャップセンサー、アライメント用センサー等を含んでいるが、これらは図1では省略されている。
FIG. 1 is a view showing the schematic arrangement of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. The exposure apparatus includes the
図1は露光装置の一部を上から見た図であって、マスクホルダ21に保持されたマスク20が、ガラス基板の露光を行う露光位置の上空に配置されている。露光位置の左右には、チャックに対してガラス基板のロード/アンロードを行うロード/アンロード位置a,bが配置されている。後述するXステージの移動によって、チャック10aはロード/アンロード位置aと露光位置との間を移動され、チャック10bはロード/アンロード位置bと露光位置との間を移動される。図1は、チャック10aが露光位置にあり、チャック10bがロード/アンロード位置bにある状態を示している。
FIG. 1 is a view of a part of the exposure apparatus as viewed from above. A
チャック10aがロード/アンロード位置aにある時、ハンドリングアーム30aは、搬送ライン40から露光前のガラス基板を受け取ってチャック10aにロードし、またチャック10aから露光後のガラス基板をアンロードして搬送ライン40へ受け渡す。同様に、チャック10bがロード/アンロード位置bにある時、ハンドリングアーム30bは、搬送ライン40から露光前のガラス基板を受け取ってチャック10bにロードし、またチャック10bから露光後のガラス基板をアンロードして搬送ライン40へ受け渡す。図1は、ハンドリングアーム30aがチャック10aからガラス基板1aのアンロードを行うために待機しており、ハンドリングアーム30bがチャック10bに対してガラス基板1bのロード又はアンロードを行っている状態を示している。
When the
図2は、本発明の一実施の形態による露光装置のチャックの概略構成を示す図である。図2はチャックを横から見た図であって、Xステージ12の上にYステージ14、Yステージ14の上にθ,Zステージ15が搭載され、θ,Zステージ15の上にチャック10aが搭載されている。チャック10bも同様である。Xステージ12はXガイド11に沿ってX軸方向へ移動し、Yステージ14はYガイド13に沿ってY軸方向へ移動する。θ,Zステージ15は、θ方向に回転し、またZ軸方向に移動及びチルトする。Xステージ12の移動によって、チャック10aはロード/アンロード位置aと露光位置との間を移動され、チャック10bはロード/アンロード位置bと露光位置との間を移動される。図2は、図1と同様に、チャック10aが露光位置にあり、チャック10bがロード/アンロード位置bにある状態を示している。
FIG. 2 is a view showing a schematic configuration of the chuck of the exposure apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 2 is a side view of the chuck. The
ロード/アンロード位置a,bにおいて、Xステージ12及びYステージ14の移動、並びにθ,Zステージ15の回転によって、チャック10a,10b上のガラス基板のプリアライメントが行われる。また、露光位置において、Xステージ12及びYステージ14の移動によって、チャック10a,10b上のガラス基板のXY方向へのステップ移動が行われる。そして、θ,Zステージ15の移動及びチルトによって、マスク20とガラス基板とのギャップ合わせが行われ、Xステージ12及びYステージ14の移動、並びにθ,Zステージ15の回転によって、ガラス基板のアライメントが行われる。
At the load / unload positions a and b, the glass substrates on the
ロード/アンロード位置a,bにおいて、ガラス基板のロードが行われる際、チャック10a,10bは、内部に収納されている複数のピン16を上昇させ、ハンドリングアーム30a,30bがガラス基板をピン16の先端に搭載した後、ピン16を下降させてガラス基板をチャック面に接触させる。また、ロード/アンロード位置a,bにおいて、ガラス基板のアンロードが行われる際、チャック10a,10bは、ピン16を上昇させてガラス基板をチャック面から離し、ハンドリングアーム30a,30bがピン16の先端からガラス基板を受け取る。ガラス基板のロード/アンロードを行う時間には、ハンドリングアーム30a,30bがガラス基板を保持して移動する時間の他に、これらのピン16の上昇/下降動作の時間が含まれる。
When the glass substrate is loaded at the loading / unloading positions a and b, the
チャック10a,10bは、例えば水冷方式等の温度調節機構を内部に備え、チャック面に接触しているガラス基板からチャック10a,10bへ熱伝導が行われることにより、ガラス基板の冷却が行われる。
The
図3は、本発明の一実施の形態による露光方法を示すフローチャートである。まず、ロード/アンロード位置おいて、一方のチャックにガラス基板のロードを行う(ステップ101)。続いて、ロード/アンロード位置おいて、一方のチャック上のガラス基板のプリアライメントを行う(ステップ102)。プリアライメントが終了すると、一方のチャックをロード/アンロード位置で待機させ、ガラス基板の冷却を行う(ステプ103)。これらの間、露光位置では、他方のチャック上のガラス基板の露光が行われている。 FIG. 3 is a flowchart showing an exposure method according to an embodiment of the present invention. First, a glass substrate is loaded onto one chuck at the load / unload position (step 101). Subsequently, pre-alignment of the glass substrate on one chuck is performed at the load / unload position (step 102). When pre-alignment is completed, one of the chucks is put on standby at the load / unload position, and the glass substrate is cooled (step 103). During these periods, the glass substrate on the other chuck is exposed at the exposure position.
他方のチャック上のガラス基板の露光が終了すると、他方のチャックを露光位置からロード/アンロード位置へ移動させ、一方のチャックをロード/アンロード位置から露光位置へ移動させる(ステップ104)。そして、露光位置において、一方のチャック上のガラス基板の露光を行う(ステップ105〜109)。 When the exposure of the glass substrate on the other chuck is completed, the other chuck is moved from the exposure position to the load / unload position, and one chuck is moved from the load / unload position to the exposure position (step 104). Then, the glass substrate on one chuck is exposed at the exposure position (steps 105 to 109).
本実施の形態は、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光する例を示している。まずガラス基板をXY方向へのステップ移動させ(ステップ105)、次にマスク20とガラス基板とのギャップ合わせを行い(ステップ106)、続いてガラス基板のアライメントを行う(ステップ107)。アライメント後、アライメント用センサーをマスク20の上空から退避させて、ショットを行う(ステップ108)。そして、全ショットが終了したか否を判断して(ステップ109)、全ショットが終了するまで、これらのステップを繰り返す。
This embodiment shows an example in which one surface of a glass substrate is exposed by being divided into a plurality of shots. First, the glass substrate is moved stepwise in the XY direction (step 105), then the gap alignment between the
全ショットが終了すると、一方のチャックを露光位置からロード/アンロード位置へ移動させ(ステップ110)、他方のチャックをロード/アンロード位置から露光位置へ移動させる。 When all shots are completed, one chuck is moved from the exposure position to the load / unload position (step 110), and the other chuck is moved from the load / unload position to the exposure position.
ロード/アンロード位置において、一方のチャックからガラス基板のアンロードを行い(ステップ111)、始めに戻る。この間、露光位置では、他方のチャック上のガラス基板の露光が行われている。 At the load / unload position, the glass substrate is unloaded from one chuck (step 111), and the process returns to the beginning. During this time, the glass substrate on the other chuck is exposed at the exposure position.
図4は、本発明の一実施の形態による露光方法のタイムチャートの一例である。図4(a)はチャック10aに搭載されるガラス基板1aについて、図4(b)はチャック10bに搭載されるガラス基板1bについてのタイムチャートである。本実施の形態では、図4(a),(b)に示すように、一方のチャック上のガラス基板のステップ移動、ギャップ合わせ、アライメント及びショット(ステップ105〜109)を行っている間に、他方のチャックに対するガラス基板のロード/アンロード(ステップ111,101)、他方のチャック上のガラス基板のプリアライメント(ステップ102)及び冷却(ステップ103)を行う。従って、図4(c)に示すように、タクトタイムにはガラス基板のロード/アンロード、プリアライメント及び冷却の時間が含まれない。
FIG. 4 is an example of a time chart of the exposure method according to the embodiment of the present invention. 4A is a time chart for the
図5は、従来の露光方法を示すフローチャートである。従来は、ガラス基板を固定しながら冷却するチャックが1つで、露光位置おいて、ガラス基板のロード(ステップ201)及びプリアライメント(ステップ202)が行われていた。ガラス基板の露光は、図3と同様であった。(ステップ203〜207)。そして、露光終了後、露光位置において、ガラス基板のアンロードが行われていた
(ステップ208)。
FIG. 5 is a flowchart showing a conventional exposure method. Conventionally, there is one chuck that cools while fixing the glass substrate, and the glass substrate is loaded (step 201) and pre-aligned (step 202) at the exposure position. The glass substrate exposure was the same as in FIG. (Steps 203-207). After the exposure, the glass substrate was unloaded at the exposure position (step 208).
図6は、従来の露光方法のタイムチャートの一例である。従来、タクトタイムには、ガラス基板のロード/アンロード(ステップ208,201)及びプリアライメント(ステップ202)の時間が含まれていた。ショット前のガラス基板の冷却は、プリアライメント(ステップ202)からアライメント(ステップ205)の間に行われていたが、これらの間ではガラス基板を十分に冷却することができなかった。また、露光位置でガラス基板のロード/アンロードを行っていたため、ロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊するという問題があった。
FIG. 6 is an example of a time chart of a conventional exposure method. Conventionally, the tact time includes loading / unloading (
図3と図5を比較すると、本発明では、従来に対し、ガラス基板の冷却(ステップ103)、チャックの露光位置への移動(ステップ104)及びチャックのロード/アンロード位置への移動(ステップ110)の各工程が追加されている。しかしながら、チャックの移動は比較的短時間で行うことができ、またガラス基板の冷却はタクトタイムに含まれない。従って、図4と図6を比較すると分かるように、本発明のタクトタイムは、従来に比べて短縮されている。 3 and FIG. 5, in the present invention, the glass substrate is cooled (step 103), the chuck is moved to the exposure position (step 104), and the chuck is moved to the load / unload position (step). 110) are added. However, the movement of the chuck can be performed in a relatively short time, and the cooling of the glass substrate is not included in the tact time. Therefore, as can be seen from a comparison between FIG. 4 and FIG. 6, the tact time of the present invention is shortened compared to the prior art.
以上説明した実施の形態によれば、ガラス基板のロード/アンロード、プリアライメント及び冷却の時間がタクトタイムに含まれないので、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させることができる。そして、露光前にチャック上でガラス基板の冷却を行うことができるので、パターンのトータルピッチ精度の劣化を防止することができる。 According to the embodiment described above, the loading / unloading, pre-alignment, and cooling times of the glass substrate are not included in the tact time, so that the tact time can be shortened and the throughput can be improved. And since a glass substrate can be cooled on a chuck | zipper before exposure, the deterioration of the total pitch precision of a pattern can be prevented.
特に、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光するため、1枚のガラス基板の露光時間が比較的長く、その間にガラス基板を十分に冷却することができる。 In particular, since one surface of the glass substrate is exposed by being divided into a plurality of shots, the exposure time of one glass substrate is relatively long, and the glass substrate can be sufficiently cooled during that time.
また、露光位置とは別に設けたロード/アンロード位置でガラス基板のロード/アンロードを行うので、ガラス基板のロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊するのを防止することができる。 Also, since the glass substrate is loaded / unloaded at a load / unload position provided separately from the exposure position, dust generated during loading / unloading of the glass substrate is prevented from floating between the mask and the glass substrate. Can be prevented.
なお、以上説明した実施の形態では、ガラス基板を固定しながら冷却するチャックを2つ設けていたが、本発明はこれに限らず、チャックを3つ以上設けてもよい。 In the embodiment described above, two chucks for cooling while fixing the glass substrate are provided. However, the present invention is not limited to this, and three or more chucks may be provided.
本発明の露光方法及び露光装置を用いてガラス基板上にパターンを形成することにより、パターンの形成を高いスループットで行い、かつパターンのトータルピッチ精度の劣化を防止し、またガラス基板のロード/アンロード時に発生した塵埃がマスクとガラス基板との間に浮遊するのを防止することができる。従って、高品質な基板の製造が、高いスループットで可能となる。 By forming a pattern on a glass substrate using the exposure method and the exposure apparatus of the present invention, the pattern can be formed with high throughput, the deterioration of the total pitch accuracy of the pattern can be prevented, and the load / unload of the glass substrate can be prevented. It is possible to prevent dust generated during loading from floating between the mask and the glass substrate. Therefore, it is possible to manufacture a high-quality substrate with a high throughput.
1a,1b ガラス基板
10a,10b チャック
11 Xガイド
12 Xステージ
13 Yガイド
14 Yステージ
15 θ,Zステージ
16 ピン
20 マスク
21 マスクホルダ
30a,30b ハンドリングアーム
40 搬送ライン
1a,
Claims (5)
フォトマスクのパターンをガラス基板に露光する露光位置と、
前記ガラス基板を搭載して移動するステージと、
前記ステージ上に前記ガラス基板をロード乃至アンロードする複数のロード/アンロード位置とを備え、
前記ステージは、前記ロード/アンロード位置と前記露光位置との間で前記ガラス基板を移動し、前記露光位置でガラス基板移動方向と直交する方向に当該ガラス基板を移動する機構を有することを特徴とするプロキシミティ露光装置。 In a proximity exposure apparatus that transfers a photomask pattern to a glass substrate by providing a small gap between the photomask and the glass substrate,
An exposure position for exposing the photomask pattern to the glass substrate;
A stage that carries and moves the glass substrate;
A plurality of load / unload positions for loading or unloading the glass substrate on the stage;
The stage has a mechanism for moving the glass substrate between the load / unload position and the exposure position, and moving the glass substrate in a direction orthogonal to the glass substrate movement direction at the exposure position. Proximity exposure equipment.
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