JP2008122988A - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明に係る光学フィルムの製造方法は、親水性高分子を含み構成されるフィルム1を弛みなく張った状態にして、その状態でフィルム1を溶液8中に浸漬し、該溶液8中でフィルム1を延伸することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
即ち、本発明に係る光学フィルムの製造方法であると、フィルムを弛みなく張った状態で溶液中に浸漬させるので、フィルムが過度に膨潤し軟化して延伸時に破断するのを低減する。その結果、スループットを向上させて、高透過率・高偏光度の光学フィルムを製造することができる。
先ず、光学フィルムの製造方法について、偏光板を例にして説明する。本実施の形態に係る光学フィルムの製造方法は、長尺のフィルムの染色工程、架橋工程、延伸工程、乾燥工程等を経て製造した偏光子の両面または片面に、トリアセチルセルロース等の保護フィルムを貼り合わせて偏光板を形成する。
本実施の形態に係る光学フィルムの製造装置について説明する。図1は、光学フィルムの製造装置を概略的に表す説明図であって、同図(a)はフィルムを掛け渡した状態を示し、同図(b)はフィルム浸漬の初期の段階を示し、同図(c)はフィルムを浸漬・延伸する状態を示す。
前記製造方法により得られる偏光子(光学フィルム)は、常法に従って、その少なくとも片面に透明保護層を設けた偏光板とすることができる。透明保護層はポリマーによる塗布層として、またはフィルムのラミネート層等として設けることができる。透明保護層を形成する、透明ポリマーまたはフィルム材料としては、適宜な透明材料を用いうるが、透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮断性などに優れるものが好ましく用いられる。前記透明保護層を形成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、二酢酸セルロースや三酢酸セルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、あるいは前記ポリマーのブレンド物なども前記透明保護層を形成するポリマーの例としてあげられる。
重合度2400、厚み75μmのポリビニルアルコールフィルムを用いて、膨潤、染色、第1架橋、第2架橋、延伸、洗浄、乾燥の各工程を経て、偏光子を作製した。すなわち、30℃の水中で長尺フィルムを浸漬し、さらに初期状態の3倍まで延伸した(膨潤工程)。
本実施例2に於いては、実施例1において使用した第2架橋溶液の温度を50℃から60℃に変更した以外は、実施例1と同様にして、本実施例2に係る光学フィルムを作製した。
本実施例3に於いては、実施例1において使用した第2架橋溶液のホウ酸濃度を4wt%から8wt%に変更しし、その温度を50℃から70℃に変更した以外は、実施例1と同様にして、本実施例3に係る光学フィルムの作製を行った。
本実施例4に於いては、実施例1において使用した第2架橋溶液のホウ酸濃度を4wt%から10wt%に変更し、その温度を50℃から80℃に変更した以外は、実施例1と同様にして、本実施例4に係る光学フィルムの作製を行った。
本比較例1に於いては、第2架橋工程で、長尺フィルムを搬送ロール間に掛け渡す作業の際に、長尺フィルムを浴中に浸けた状態で手作業で浴中のガイドロール間に通して浸漬させた。その他については、実施例1と同様にして比較例1に係る光学フィルムの作製を行った。
本比較例2に於いては、比較例1において使用した第2架橋溶液の温度を50℃から60℃に変更した以外は、比較例1と同様にして、本比較例2に係る光学フィルムの作製を行った。
本比較例3に於いては、比較例1の第2架橋工程において使用した第2架橋溶液のホウ酸濃度を4wt%から8wt%に変更し、その温度を50℃から70℃に変更した以外は、比較例1と同様にして、本比較例3に係る光学フィルムの作製を行った。
本比較例4に於いては、比較例1の第2架橋工程において使用した第2架橋溶液のホウ酸濃度を4wt%から10wt%に変更し、その温度を50℃から80℃に変更した以外は、比較例1と同様にして、本比較例4に係る光学フィルムの作製を行った。
前記実施例及び比較例に於いてそれぞれ作製した光学フィルムについて延伸破断の有無を調べた。すなわち、光学フィルムの作製を10回実施し、光学フィルムの破断した回数をカウントし、破断率を算出した。その結果を下記表1に示す。
2 出口側搬送ロール
3 入口側搬送ロール
4 浴
5 支持部材
6 ガイド部材
7 押入部材
8 溶液
Claims (15)
- 親水性高分子を含み構成されるフィルムを弛みなく張った状態にして、その状態でフィルムを溶液中に浸漬することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
- 前記溶液として架橋剤を含有するものを使用し、前記フィルムを溶液中に浸漬することにより架橋処理を施すことを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記フィルムの延伸を前記溶液中に浸漬した状態で行うことを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記フィルムの溶液中での延伸は、初期状態の5〜7倍となる様に行うことを特徴とする請求項3に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記フィルムを前記溶液に浸漬する前に、フィルムを初期状態の3〜5倍の範囲内で延伸することを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記フィルムは、ポリビニルアルコールフィルムであることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記架橋剤は、ホウ酸またはホウ砂であることを特徴とする請求項2に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記フィルムを浸漬させる溶液の温度は、50℃以上80℃以下であることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記フィルムの浸漬は、該フィルムを溶液に向かって下側に凸状となる様にして、空気溜まりを生じさせることなく行うことを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
- 親水性高分子を含み構成されるフィルムを用いた光学フィルムの製造装置に於いて、
前記フィルムを所定方向に搬送する一対の搬送ロールと、
前記一対の搬送ロール間に位置し、前記フィルムを該搬送ロール間に掛け渡す際にフィルムを下側から支持する1または2以上の支持部材と、
前記フィルムを溶液中に浸漬するための浴と、
前記一対の搬送ロール間に位置する押し入れ部材であって、前記フィルムを溶液中に浸漬させる場合にフィルムを下方に押し下げ、弛みなく張った状態でフィルムを浸漬させる押入部材とを有することを特徴とする光学フィルムの製造装置。 - 前記一対の搬送ロールは、前記溶液中に於いて弛みなく張った状態で浸漬されたフィルムを周速差により延伸させることを特徴とする請求項10に記載の光学フィルムの製造装置。
- 前記一対の搬送ロール間には、前記フィルムのパスラインを調整するガイド部材が設けられており、
前記パスラインの調整は、前記ガイド部材が前記浴内に移動し、浴内で前記支持部材または押入部材の少なくとも何れか一方と異なる高さに位置させることにより行うことを特徴とする請求項10または11に記載の光学フィルムの製造装置。 - 前記支持部材、押入部材またはガイド部材の長尺フィルムと接触する面が曲面を有することを特徴とする請求項10〜12の何れか1項に記載の光学フィルムの製造装置。
- 親水性高分子を含み構成されるフィルムを弛みなく張った状態にし、その状態を維持してフィルムを溶液中に浸漬し、該溶液中でフィルムを初期状態の5〜7倍の範囲内で延伸して得られたものであることを特徴とする光学フィルム。
- 請求項14に記載の光学フィルムが設けられていることを特徴とする画像表示装置。
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