JP2008112705A - Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell - Google Patents

Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell Download PDF

Info

Publication number
JP2008112705A
JP2008112705A JP2006296629A JP2006296629A JP2008112705A JP 2008112705 A JP2008112705 A JP 2008112705A JP 2006296629 A JP2006296629 A JP 2006296629A JP 2006296629 A JP2006296629 A JP 2006296629A JP 2008112705 A JP2008112705 A JP 2008112705A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solar cell
dye
sensitized solar
building board
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006296629A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seishi Okayama
誠史 岡山
Masaki Kobayashi
正樹 小林
Satoshi Uchida
聡 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KMEW Co Ltd
Original Assignee
Kubota Matsushitadenko Exterior Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kubota Matsushitadenko Exterior Works Ltd filed Critical Kubota Matsushitadenko Exterior Works Ltd
Priority to JP2006296629A priority Critical patent/JP2008112705A/en
Publication of JP2008112705A publication Critical patent/JP2008112705A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dye-sensitization solar cell that prevents deterioration in power-generation performance or in transparency while preventing dirt from adhering to its surface. <P>SOLUTION: The dye-sensitization solar cell is formed by providing transparent electrodes 22, 23, an electrolyte layer 24, and a particle film 26 between a pair of oppositely-arranged transparent substrates 20, 21. A photocatalytic function layer 13 is provided on the surface of at least one transparent substrate 20. The photocatalytic function layer 13 decomposes dirt such as organic substances adhering to its surface so as to facilitate the run-off of dirt by rain water or the like. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、太陽光発電を行うための色素増感型太陽電池及び建物の外装材や内装材として用いる太陽電池付き建築板に関するものである。   The present invention relates to a dye-sensitized solar cell for performing photovoltaic power generation and a building board with solar cell used as an exterior material or interior material of a building.

従来より、建物の屋根に太陽電池を設けて太陽光発電が行われている。また、最近では、透明性を有する色素増感型太陽電池が開発されており、これを建物の窓ガラスに応用して太陽電池の使用量を増加して発電量を増やすことも提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, solar power generation has been performed by providing solar cells on the roof of a building. Recently, a dye-sensitized solar cell having transparency has been developed, and it has also been proposed to increase the amount of power generation by increasing the amount of solar cell used by applying it to a window glass of a building. (For example, refer to Patent Document 1).

しかし、太陽電池は長期使用(特に屋外での使用)によりその表面に汚れが付着して十分な光が照射されなくなり、発電性能が低下するという問題があった。また、色素増感型太陽電池を窓ガラスに使用した場合も汚れの付着により透明性が低下して窓としての機能が低下するおそれがあった。また、窓ガラスは建物に占める割合が少なく、これに色素増感型太陽電池を適用しても発電量の大きな増加を期待することができなかった。
特開2001−320068号公報
However, there has been a problem that the solar cell has dirt on its surface due to long-term use (especially when used outdoors) and is not irradiated with sufficient light, resulting in a decrease in power generation performance. Further, when a dye-sensitized solar cell is used for a window glass, the transparency may be lowered due to adhesion of dirt, and the function as a window may be lowered. Moreover, the window glass has a small proportion of the building, and even if a dye-sensitized solar cell is applied thereto, a large increase in power generation could not be expected.
JP 2001-320068 A

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、表面に汚れが付着しにくくして発電性能や透明性の低下を防止することができる色素増感型太陽電池を提供することを特徴とするものである。また、本発明は、建物の各所に使用することができて建物一つあたりの発電量を増加することができ、しかも、建物の意匠性を損なわないようにすることができる太陽電池付き建築板を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and is characterized by providing a dye-sensitized solar cell capable of preventing dirt from being attached to the surface and preventing a decrease in power generation performance and transparency. To do. In addition, the present invention can be used in various places of a building, can increase the amount of power generation per building, and can prevent the design of the building from being impaired. Is intended to provide.

本発明の請求項1に係る色素増感型太陽電池4は、対向配置された一対の透明基板20、21の間に、透明電極22、23と電解質層24と粒子膜26とを備えて形成される色素増感型太陽電池において、少なくとも一方の透明基板20の表面に光触媒機能層13を設けて成ることを特徴とするものである。   The dye-sensitized solar cell 4 according to claim 1 of the present invention is formed by including transparent electrodes 22, 23, an electrolyte layer 24, and a particle film 26 between a pair of transparent substrates 20, 21 arranged opposite to each other. In the dye-sensitized solar cell, the photocatalytic function layer 13 is provided on the surface of at least one transparent substrate 20.

本発明の請求項2に係る太陽電池付き建築板Aは、請求項1に記載の色素増感型太陽電池4を、その光触媒機能層13が外方に位置するように建築板3の表面側に設けて成ることを特徴とするものである。   The building board A with a solar cell according to claim 2 of the present invention is the surface side of the building board 3 so that the dye-sensitized solar cell 4 according to claim 1 is positioned outward. It is characterized by being provided in.

本発明の請求項3に係る太陽電池付き建築板Aは、請求項2において、光触媒機能層13が無機質塗膜であることを特徴とするものである。   The building board A with a solar cell according to claim 3 of the present invention is characterized in that, in claim 2, the photocatalytic functional layer 13 is an inorganic coating film.

本発明の請求項4に係る太陽電池付き建築板Aは、請求項2又は3において、透明基板20と光触媒機能層13との間に無機質の紫外線吸収層14を設けて成ることを特徴とするものである。   The building board A with a solar cell according to claim 4 of the present invention is characterized in that, in claim 2 or 3, an inorganic ultraviolet absorbing layer 14 is provided between the transparent substrate 20 and the photocatalytic functional layer 13. Is.

本発明の請求項5に係る太陽電池付き建築板Aは、請求項2乃至4のいずれかにおいて、色素増感型太陽電池4が透明性を有すると共に建築板3の表面に化粧2を施して成ることを特徴とするものである。   The building board A with solar cell according to claim 5 of the present invention is the building board A with solar cell according to any one of claims 2 to 4, wherein the dye-sensitized solar cell 4 has transparency and has a makeup 2 on the surface of the building board 3. It is characterized by comprising.

請求項1に係る色素増感型太陽電池4は、光触媒機能層13によりその表面に付着した有機物などの汚れを分解し、雨水等で流れ落ちやすくすることができ、透明基板20の表面が汚れにくくなって透明性の低下を防止することができるものであり、この結果、色素増感型太陽電池4の粒子膜26や電解質層24にまで光が十分に照射されて発電性能の低下を防止することができるものである。   In the dye-sensitized solar cell 4 according to claim 1, the photocatalyst functional layer 13 can decompose dirt such as organic matter attached to the surface thereof, and can easily flow down with rainwater or the like, and the surface of the transparent substrate 20 is hardly stained. As a result, the particle film 26 and the electrolyte layer 24 of the dye-sensitized solar cell 4 are sufficiently irradiated with light to prevent a decrease in power generation performance. It is something that can be done.

請求項2に係る太陽電池付き建築板Aは、建物の各所に外装材や内装材として使用することができ、建物の窓ガラスのみに色素増感型太陽電池4を用いる場合に比べて、建物一つあたりの色素増感型太陽電池4の使用量を増加することができて発電量を増加することができるものである。しかも、色素増感型太陽電池4を透して建築板3の表面を視認することができ、建物の意匠性を損なわないようにすることができるものである。   The building board A with a solar cell according to claim 2 can be used as an exterior material or an interior material in various places of a building, compared to a case where the dye-sensitized solar cell 4 is used only for a window glass of a building. The amount of dye-sensitized solar cell 4 used per unit can be increased, and the amount of power generation can be increased. Moreover, the surface of the building board 3 can be visually recognized through the dye-sensitized solar cell 4, and the design of the building can be prevented from being impaired.

請求項3に係る太陽電池付き建築板Aは、光触媒機能層13が無機質塗膜であるので、防汚機能の劣化が少なく、長期にわたって機能を維持することができるものである。   Since the photocatalyst functional layer 13 is an inorganic coating film, the building board A with a solar cell according to claim 3 has little deterioration of the antifouling function and can maintain the function over a long period of time.

請求項4に係る太陽電池付き建築板Aは、紫外線吸収層14で紫外線を吸収することができ、建築板3の退色を防止して意匠性の低下を防ぐことができるものである。   The building board A with a solar cell according to claim 4 can absorb ultraviolet rays by the ultraviolet absorbing layer 14, prevent fading of the building board 3, and prevent deterioration in design.

請求項5に係る太陽電池付き建築板Aは、色素増感型太陽電池4を透して建築板3の表面の化粧2を視認することができ、建物の意匠性を向上させることができるものである。   The building board A with a solar cell according to claim 5 can see the makeup 2 on the surface of the building board 3 through the dye-sensitized solar cell 4 and can improve the design of the building. It is.

以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.

本発明の色素増感型太陽電池4は光電変換素子であって、図1に示すように、スペーサ29を介在させて対向配置された一対の透明基板20、21と、各透明基板20、21の対向面に配置される透明電極22、23と、透明電極22、23の間に充填される電解質層24と、一方の透明電極22(23)と電解質層24との間に配置される粒子膜26と、透明基板20の表面に形成される光触媒機能層13とを備えて形成することができる。   The dye-sensitized solar cell 4 of the present invention is a photoelectric conversion element, and as shown in FIG. 1, a pair of transparent substrates 20 and 21 disposed opposite to each other with a spacer 29 interposed therebetween, and the transparent substrates 20 and 21. Transparent electrodes 22, 23 disposed on the opposite surface of each other, electrolyte layer 24 filled between the transparent electrodes 22, 23, and particles disposed between one transparent electrode 22 (23) and the electrolyte layer 24 The film 26 and the photocatalytic function layer 13 formed on the surface of the transparent substrate 20 can be provided.

透明基板20、21としてはガラス板やプラスチック板、プラスチックフィルムなどを使用することができる。このプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリエチレンナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルフォン、ポリエステルスルフォン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、環状ポリオレフィン、ブロム化フェノキシ等が挙げられる。透明電極22、23としては、フッ素をドープした酸化スズ膜(FTO)や酸化インジウムスズ膜(ITO)、金、銀、アルミニウム、インジウム、酸化スズなどを透明基板20、21に蒸着等することにより形成することができる。また、一方の透明電極22(又は23)の表面に白金や金などの金属層28を設けることができる。   As the transparent substrates 20 and 21, a glass plate, a plastic plate, a plastic film, or the like can be used. Examples of the plastic include polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polyethylene naphthalate, syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polycarbonate, polyarylate, polysulfone, polyester sulfone, polyimide, polyetherimide, cyclic polyolefin, brominated phenoxy, and the like. Is mentioned. As the transparent electrodes 22 and 23, a fluorine-doped tin oxide film (FTO), an indium tin oxide film (ITO), gold, silver, aluminum, indium, tin oxide, or the like is deposited on the transparent substrates 20 and 21. Can be formed. Further, a metal layer 28 such as platinum or gold can be provided on the surface of one transparent electrode 22 (or 23).

電解質層24で使用される電解質としては、酸化体と還元体からなる一対の酸化還元系構成物質が溶媒中に含まれていれば、特に限定されないが、酸化体と還元体が同一電荷を持つ酸化還元系構成物質が好ましい。酸化還元系構成物質とは、酸化還元反応において、可逆的に酸化体及び還元体の形で存在する一対の物質である。このような酸化還元系構成物質自体は当業者に公知である。該酸化還元系構成物質は、例えば、塩素化合物−塩素、ヨウ素化合物−ヨウ素、臭素化合物−臭素、タリウムイオン(III)−タリウムイオン(I)、水銀イオン(II)−水銀イオン(I)、ルテニウムイオン(III)−ルテニウムイオン(II)、銅イオン(II)−銅イオン(I)、鉄イオン(III)−鉄イオン(II)、バナジウムイオン(III)−バナジウムイオン(II)、マンガン酸イオン−過マンガン酸イオン、フェリシアン化物−フェロシアン化物、キノン−ヒドロキノン、フマル酸−コハク酸などが挙げられる。言うまでもなく、その他の酸化還元系構成物質も使用できる。中でも、ヨウ素化合物−ヨウ素が好ましく、ヨウ素化合物としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化銅、ヨウ化銀ルビジウム等の金属ヨウ化物、テトラアルキルアンモニウムヨージド、ピリジニウムヨージド等のヨウ化4級アンモニウム塩化合物、ヨウ化ジメチルプロピルイミダゾリウム等のヨウ化ジイミダゾリウム化合物が特に好ましい。また、電解質を溶解するために使用される溶媒は、酸化還元系構成物質を溶解しイオン伝導性に優れた化合物が好ましい。溶媒としては水性溶媒及び有機溶媒の何れも使用できるが、酸化還元系構成物質をより安定するため、有機溶媒が好ましい。例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネ−ト化合物、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、ガンマーブチロラクトン等のエステル化合物、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、1,3−ジオキソシラン、テトラヒドロフラン、2−メチルーテトラヒドラフラン等のエーテル化合物、3−メチル−2−オキサゾジリノン、2−メチルピロリドン等の複素環化合物、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル化合物、スルフォラン、ジジメチルスルフォキシド、ジメチルフォルムアミド等の非プロトン性極性化合物、水などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いることもできるし、また、2種類以上を混合して併用することもできる。中でも、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネ−ト化合物、3−メチル−2−オキサゾジリノン、2−メチルピロリドン等の複素環化合物、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル化合物が特に好ましい。電解質層24としては、液体、固体、もしくはゲル状電解質のいずれも使用することができる。電解質層24を形成する電解質溶液としては、エチレンカーボネートとアセトニトリルの混合溶液にヨウ化テトラプロピルアンモニウムとヨウ素を溶解させたものなどを用いることができる。   The electrolyte used in the electrolyte layer 24 is not particularly limited as long as a pair of redox constituents composed of an oxidant and a reductant are contained in the solvent, but the oxidant and the reductant have the same charge. Redox constituents are preferred. A redox-system constituent substance is a pair of substances that reversibly exist in the form of an oxidant and a reductant in a redox reaction. Such redox constituents are known to those skilled in the art. The oxidation-reduction constituents are, for example, chlorine compound-chlorine, iodine compound-iodine, bromine compound-bromine, thallium ion (III) -thallium ion (I), mercury ion (II) -mercury ion (I), ruthenium. Ion (III) -ruthenium ion (II), copper ion (II) -copper ion (I), iron ion (III) -iron ion (II), vanadium ion (III) -vanadium ion (II), manganate ion -Permanganate ion, ferricyanide-ferrocyanide, quinone-hydroquinone, fumaric acid-succinic acid and the like. Needless to say, other redox constituents can also be used. Among them, iodine compound-iodine is preferable. Examples of the iodine compound include metal iodides such as lithium iodide, potassium iodide, copper iodide, and silver rubidium iodide, and iodides 4 such as tetraalkylammonium iodide and pyridinium iodide. Particularly preferred are diimidazolium iodide compounds such as quaternary ammonium salt compounds and dimethylpropylimidazolium iodide. In addition, the solvent used for dissolving the electrolyte is preferably a compound that dissolves the redox constituent and has excellent ion conductivity. As the solvent, any of an aqueous solvent and an organic solvent can be used, but an organic solvent is preferable in order to make the redox constituent material more stable. For example, carbonate compounds such as dimethyl carbonate, diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, ester compounds such as methyl acetate, methyl propionate, gamma-butyrolactone, diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, 1, Ether compounds such as 3-dioxosilane, tetrahydrofuran and 2-methyl-tetrahydrafuran, heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazodilinone and 2-methylpyrrolidone, nitrile compounds such as acetonitrile, methoxyacetonitrile and propionitrile, sulfolane And aprotic polar compounds such as didimethyl sulfoxide and dimethylformamide, and water. These can be used alone or in combination of two or more. Of these, carbonate compounds such as ethylene carbonate and propylene carbonate, heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazozirinone and 2-methylpyrrolidone, and nitrile compounds such as acetonitrile, methoxyacetonitrile and propionitrile are particularly preferable. As the electrolyte layer 24, any of liquid, solid, or gel electrolyte can be used. As the electrolyte solution for forming the electrolyte layer 24, a solution obtained by dissolving tetrapropylammonium iodide and iodine in a mixed solution of ethylene carbonate and acetonitrile can be used.

粒子膜26はルテニウム錯体などの色素25を吸着させた酸化チタンなどの半導体微粒子27を充填することにより形成することができる。色素25としては上記の他に、例えば、アゾ系色素、キノン系色素、キノンイミン系色素、キナクリドン系色素、スクアリリウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、ポルフィリン系色素、フタロシアニン系色素、ペリレン系色素、インジゴ系色素、ナフタロシアニン系色素である。その中でも、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素のような金属錯体色素は、高い量子収率を有し、光に対する耐久性がよいため、光電変換材料には適している。該金属錯体色素としては、銅、ニッケル、鉄、コバルト、バナジウム、スズ、けい素、チタン、ゲルマニウム、コバルト、亜鉛、ルテニウム、マグネシウム、アルミニウム、鉛、マンガン、インジウム、モリブデン、ジルコニウム、アンチモン、タングステン、白金、ビスマス、セレン、銀、カドミウム、白金などの金属が用いられる。この中でも、銅、チタン、亜鉛、アルミニウム、鉄、バナジウム、けい素等の金属錯体色素は高い量子効率を有する。半導体微粒子27としては上記の他に、例えば、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化カドミニウム、酸化インジウム、酸化鉛、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化銅、酸化水銀、酸化銀、酸化マンガン、酸化鉄、酸化バナジウム、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化ガリウム、酸化けい素、酸化クロムなどの如き金属酸化物類、SrTiO、CaTiOのようなペロブスカイト類、硫化カドミウム、硫化亜鉛、硫化インジウム、硫化鉛、硫化モリブデン、硫化タングステン、硫化アンチモン、硫化ビスマス、硫化カドミニウム亜鉛、硫化銅などの如き金属硫化物類、CdSe、InSe、WSe、HgS、PbSe、CdTeの金属カルコゲナイド類、その他GaAs、Si、Se、Cd、Zn、InP、AgBr、PbI、HgI、BiIが挙げられる。また、前記半導体から選ばれる少なくとも一種以上を含む複合体も使用することができる。これらに中でも特に安価で性能に優れたアナターゼ型酸化チタン微粒子が好ましい。酸化チタンの商品名としては、例えば、AMT−600(テイカ株式会社製、商品名、アナターゼ型、平均粒子径30nm)、AMT−100(テイカ株式会社製、商品名、アナターゼ型、1次平均粒子径6nm)、ST−01(石原テクノ製、商品名、アナターゼ型、1次平均粒子径7nm)、ST−21(石原テクノ製、商品名、アナターゼ型、1次平均粒子径20nm)、P−25(日本エアロジル株式会社製、商品名、ルチル・アナタース型結晶、1次平均粒径約30nm)などが挙げられる。半導体微粒子27の1次平均粒子径としては、例えば、1nm〜1000nm、15nm〜100nmの範囲である。半導体微粒子27の粒子径が1nmより小さいと、粒子膜26の空孔径が小さくなり、電解質溶液中の酸化還元物質の移動が困難になって、光変換後の電流値が低くなるので好ましくない。また、半導体微粒子27の1次平均粒子径が1000nmより大きくなると、粒子膜26の表面積が大きくないため、充分な増感色素の担持量を得ることができないので、光変換後の電流値が高くならないため好ましくない。半導体微粒子27への色素25の担持量としては、10−8〜10−6mol/cm、特に0.1〜9.0×10−7mol/cmが好ましい。また、粒子膜26の膜厚は0.01μm〜100μm、好ましくは1μm〜50μmの範囲である。 The particle film 26 can be formed by filling semiconductor fine particles 27 such as titanium oxide on which a dye 25 such as a ruthenium complex is adsorbed. In addition to the above, examples of the dye 25 include azo dyes, quinone dyes, quinone imine dyes, quinacridone dyes, squarylium dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, porphyrins. Dyes, phthalocyanine dyes, perylene dyes, indigo dyes, and naphthalocyanine dyes. Among these, metal complex dyes such as phthalocyanine dyes and naphthalocyanine dyes are suitable for photoelectric conversion materials because they have a high quantum yield and good durability against light. Examples of the metal complex dye include copper, nickel, iron, cobalt, vanadium, tin, silicon, titanium, germanium, cobalt, zinc, ruthenium, magnesium, aluminum, lead, manganese, indium, molybdenum, zirconium, antimony, tungsten, Metals such as platinum, bismuth, selenium, silver, cadmium and platinum are used. Among these, metal complex dyes such as copper, titanium, zinc, aluminum, iron, vanadium, and silicon have high quantum efficiency. As the semiconductor fine particles 27, in addition to the above, for example, zinc oxide, manganese oxide, cadmium oxide, indium oxide, lead oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, antimony oxide, bismuth oxide, copper oxide, mercury oxide, silver oxide, manganese oxide Metal oxides such as iron oxide, vanadium oxide, tin oxide, zirconium oxide, strontium oxide, gallium oxide, silicon oxide, chromium oxide, perovskites such as SrTiO 3 , CaTiO 3 , cadmium sulfide, zinc sulfide, Metal sulfides such as indium sulfide, lead sulfide, molybdenum sulfide, tungsten sulfide, antimony sulfide, bismuth sulfide, cadmium zinc sulfide, copper sulfide, etc., metal chalcogenides of CdSe, In 2 Se 3 , WSe 2 , HgS, PbSe, CdTe Others, GaAs Si, Se, Cd 2 P 3 , Zn 2 P 3, InP, AgBr, include PbI 2, HgI 2, BiI 3 . A composite containing at least one selected from the semiconductors can also be used. Among these, anatase-type titanium oxide fine particles that are particularly inexpensive and excellent in performance are preferable. As a trade name of titanium oxide, for example, AMT-600 (trade name, anatase type, average particle diameter 30 nm, manufactured by Teika Co., Ltd.), AMT-100 (trade name, anatase type, primary average particle, manufactured by Teica Corporation). ST-01 (Ishihara Techno, product name, anatase type, primary average particle size 7 nm), ST-21 (Ishihara Techno, product name, anatase type, primary average particle size 20 nm), P- 25 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name, rutile-anaters type crystal, primary average particle diameter of about 30 nm). The primary average particle diameter of the semiconductor fine particles 27 is, for example, in the range of 1 nm to 1000 nm, 15 nm to 100 nm. If the particle diameter of the semiconductor fine particles 27 is smaller than 1 nm, the pore diameter of the particle film 26 becomes small, the movement of the redox substance in the electrolyte solution becomes difficult, and the current value after photoconversion becomes low. Further, when the primary average particle diameter of the semiconductor fine particles 27 is larger than 1000 nm, since the surface area of the particle film 26 is not large, a sufficient amount of sensitizing dye cannot be obtained, and thus the current value after light conversion is high. It is not preferable because it does not become. The amount of the dye 25 supported on the semiconductor fine particles 27 is preferably 10 −8 to 10 −6 mol / cm 2 , particularly preferably 0.1 to 9.0 × 10 −7 mol / cm 2 . The film thickness of the particle film 26 is 0.01 μm to 100 μm, preferably 1 μm to 50 μm.

本発明において、光触媒機能層13は透明な(クリアーな)光触媒含有の無機塗膜(セラミックコート)であって、これを形成する無機コーティング剤としては、特に限定されるものではないが、光触媒を配合したシリコーン系コーティング剤を用いるのが好ましい。このシリコーン系コーティング剤としては、例えば、特許第2776259号公報に開示されているものを用いることができる。すなわち、
一般式:Si(OR (1)
で表されるケイ素化合物、および/または、コロイド状シリカが、非水系の有機溶媒に分散した有機溶媒分散性であるコロイダルシリカを20〜200重量部、
一般式:RSi(OR (2)
で表されるケイ素化合物を100重量部、
一般式:R Si(OR (3)
で表されるケイ素化合物を0〜60重量部の割合で含有すると共に(上記式(1)〜(3)においてR、Rは1価の炭化水素基を示す)、光触媒を含有するコーティング剤を用いることができる。
In the present invention, the photocatalytic functional layer 13 is a transparent (clear) photocatalyst-containing inorganic coating (ceramic coat), and the inorganic coating agent for forming the coating is not particularly limited. It is preferable to use a blended silicone-based coating agent. As this silicone type coating agent, what is disclosed by patent 2767259 can be used, for example. That is,
General formula: Si (OR 1 ) 4 (1)
20 to 200 parts by weight of colloidal silica having an organic solvent dispersibility in which the silicon compound and / or colloidal silica is dispersed in a non-aqueous organic solvent,
General formula: R 2 Si (OR 1 ) 3 (2)
100 parts by weight of a silicon compound represented by
General formula: R 2 2 Si (OR 1 ) 2 (3)
And a photocatalyst-containing coating (in the above formulas (1) to (3), R 1 and R 2 represent a monovalent hydrocarbon group). An agent can be used.

上記各ケイ素化合物は一般式が下式(4)で表されるものである。
一般式:RnSi(OR4−n (4)
(式(4)中、n=0〜3を示し、R、Rは1価の炭化水素基を示す。)
前式(4)のR、Rは1価の炭化水素基を示す限り限定はされないが、Rとして炭素数1〜8の置換または非置換の炭化水素基を示す。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ビニル基、アリル基等のアニケニル基、クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン置換炭化水素基、及び、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基、γ−メルカプトプロピル基等の置換炭化水素基が挙げられる。なかでも合成の容易さ、または、入手の容易さから炭素数1〜4のアルキル基、及び、フェニル基が好ましい。
Each silicon compound has a general formula represented by the following formula (4).
General formula: R 2 nSi (OR 1 ) 4-n (4)
(In formula (4), n = 0 to 3 is shown, and R 1 and R 2 are monovalent hydrocarbon groups.)
R 1 and R 2 in formula (4) are not limited as long as they represent a monovalent hydrocarbon group, but R 2 represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group and other alkyl groups, cyclopentyl group, cyclohexyl group and other cycloalkyl groups, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropylene. Halogens such as aralkyl groups such as ruthel groups, aryl groups such as phenyl and tolyl groups, anikenyl groups such as vinyl and allyl groups, chloromethyl groups, γ-chloropropyl groups, and 3,3,3-trifluoropropyl groups Examples thereof include substituted hydrocarbon groups and substituted hydrocarbon groups such as γ-methacryloxypropyl group, γ-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group, and γ-mercaptopropyl group. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a phenyl group are preferable because of ease of synthesis or availability.

前式(4)のRには炭素数1〜4のアルキル基を主原料にするものが用いられる。特に、n=0のテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等が例示され、n=1のオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等が例示される。さらに、n=2のジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等が例示され、n=3のトリオルガノアルコキシシランとしては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、ジメチルイソブチルメトキシシラン等が例示される。 As R 1 in the above formula (4), one having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as a main raw material is used. In particular, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane and the like are exemplified as the tetraalkoxysilane of n = 0, and methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane are exemplified as the organotrialkoxysilane of n = 1. , Phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and the like. Further, examples of the n = 2 diorganodialkoxysilane include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, and the like, and n = 3 triorganoalkoxysilane. Examples thereof include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylisopropoxysilane, dimethylisobutylmethoxysilane and the like.

上記R、Rは前式(1)、(2)、(3)において、同一の炭化水素基でもよいし、異なっていてもよい。 R 1 and R 2 in the above formulas (1), (2), and (3) may be the same hydrocarbon group or different.

シリコーン系コーティング剤の調製は、例えば、前式(1)、(2)、(3)で表されるケイ素化合物を溶剤で希釈し、硬化剤として水または触媒を添加し、加水分解、及び、重縮合反応を行い調製される。これらケイ素化合物の重量平均分子量(Mw)はポリスチレン換算で算出される。この調製の際に、無機塗料の重量平均分子量(Mw)をポリスチレン換算で900以上にするのが好ましい。重量平均分子量(Mw)がポリスチレン換算で900未満であると、重縮合反応の際に硬化収縮が大きくなり、焼き付けした無機塗料の塗膜にクラックが発生し易くなる。   Preparation of the silicone-based coating agent includes, for example, diluting a silicon compound represented by the above formulas (1), (2), and (3) with a solvent, adding water or a catalyst as a curing agent, hydrolysis, and It is prepared by performing a polycondensation reaction. The weight average molecular weight (Mw) of these silicon compounds is calculated in terms of polystyrene. In this preparation, it is preferable that the weight average molecular weight (Mw) of the inorganic coating is 900 or more in terms of polystyrene. When the weight average molecular weight (Mw) is less than 900 in terms of polystyrene, curing shrinkage increases during the polycondensation reaction, and cracks are likely to occur in the baked inorganic coating film.

シリコーン系コーティング剤には、前式(1)で表されるケイ素化合物と併用、または、代わりにコロイド状シリカを成分とすることができる。上記コロイド状シリカは、アルコール等の非水系の有機溶媒に分散した有機溶媒分散性のコロイダルシリカである。上記コロイダルシリカは固形分としてのシリカを20〜50重量%含有している。有機溶媒分散性のコロイダルシリカは有機溶媒を水と置換することで容易に調製できる。上記コロイダルシリカが分散している有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコールの誘導体、及び、ジアセトンアルコール等が挙げられ、これらの1種、もしくは2種以上が用いられる。さらに、親水性の有機溶媒と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等も用いることができる。なお、上記コロイダルシリカの上記配合量は、分散媒も含んだ重量である。   The silicone-based coating agent can be used in combination with the silicon compound represented by the above formula (1), or alternatively, colloidal silica as a component. The colloidal silica is an organic solvent-dispersible colloidal silica dispersed in a non-aqueous organic solvent such as alcohol. The colloidal silica contains 20 to 50% by weight of silica as a solid content. The organic solvent-dispersible colloidal silica can be easily prepared by replacing the organic solvent with water. Examples of the organic solvent in which the colloidal silica is dispersed include, for example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol, ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether acetate. And ethylene glycol derivatives, diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether, and diacetone alcohol. One or more of these are used. Furthermore, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketoxime, etc. can be used in combination with a hydrophilic organic solvent. In addition, the said compounding quantity of the said colloidal silica is a weight also including a dispersion medium.

シリコーン系コーティング剤を調製する際に硬化剤として水が汎用されるが、この水の量は、シリコーン系コーティング剤中に45重量%以下が好ましく、25重量%以下がより好ましい。   Water is generally used as a curing agent in preparing the silicone coating agent, and the amount of this water is preferably 45% by weight or less, more preferably 25% by weight or less in the silicone coating agent.

シリコーン系コーティング剤を調製する際に用いられる有機溶剤は、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコールの誘導体、及び、ジアセトンアルコール等が挙げられ、これらの1種、もしくは2種以上が用いられる。さらに、親水性の有機溶媒と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等も用いることができる。   Examples of the organic solvent used in preparing the silicone coating agent include lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol, ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl acetate. Examples thereof include ethylene glycol derivatives such as ether, diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether, and diacetone alcohol. One or more of these are used. Furthermore, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketoxime, etc. can be used in combination with a hydrophilic organic solvent.

シリコーン系コーティング剤を調製する際は、シリコーン系コーティング剤のpHを3.8〜6とすることが望ましい。このpH範囲であるとシリコーン系コーティング剤の保存性が良く、このpH範囲外であると調製期間から塗布できる期間が限られてしまう。このpHの調整方法は限定しないが、例えば、材料を混合した際にpHが3.8未満となった場合、アンモニア等の塩基性試薬を添加して調整すればよく、pHが6を超えた場合、塩酸等の酸性試薬を添加して調整すればよい。また、pHによっては分子量が小さい状態で反応の進行が遅くなった場合、加熱して反応を促進してもよいし、酸性試薬でpHを下げて反応を進めた後に、塩基性試薬を添加して所定のpHとしてもよい。   When preparing a silicone type coating agent, it is desirable to set pH of a silicone type coating agent to 3.8-6. Within this pH range, the preservability of the silicone-based coating agent is good, and when it is outside this pH range, the period during which application can be performed is limited. The method for adjusting the pH is not limited. For example, when the pH is less than 3.8 when the materials are mixed, the pH may be adjusted by adding a basic reagent such as ammonia. In this case, an acid reagent such as hydrochloric acid may be added for adjustment. Depending on the pH, if the reaction progresses slowly with a small molecular weight, the reaction may be promoted by heating, or after the reaction is advanced by lowering the pH with an acidic reagent, a basic reagent is added. It may be a predetermined pH.

そしてこのシリコーン系コーティング剤に光触媒を含有させることによって、光触媒性のシリコーン系コーティング剤として使用することができるものであり、光触媒としては酸化チタンを用いるのが一般的であるが、酸化チタンの他に、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化ゲルマニウム、酸化鉛、酸化カドミウム、酸化銅、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化ロジウム、酸化レニウムなどを挙げることもできる。光触媒の配合量は特に限定されないが、シリコーン系コーティング剤の乾燥固形分に対して20〜80重量%の範囲が好ましい。   The silicone-based coating agent can be used as a photocatalytic silicone-based coating agent by containing a photocatalyst. Generally, titanium oxide is used as the photocatalyst. Zinc oxide, tin oxide, iron oxide, zirconium oxide, tungsten oxide, chromium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, germanium oxide, lead oxide, cadmium oxide, copper oxide, vanadium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, manganese oxide, Cobalt oxide, rhodium oxide, rhenium oxide and the like can also be mentioned. Although the compounding quantity of a photocatalyst is not specifically limited, The range of 20 to 80 weight% is preferable with respect to the dry solid content of a silicone type coating agent.

そして、透明基板20の表面に上記の光触媒含有シリコーン系コーティング剤を塗布して乾燥硬化させることによって光触媒機能層13を形成することができる。このコーティング剤の塗布は、刷毛塗り方式、浸漬方式、スプレー塗布方式、ロールコート方式、ベル方式、フローコート方式、カーテンコート方式、ナイフコート方式など各種の方式で行なうことができるが、均一な厚みの塗膜を容易に得るために、スプレー塗布方式、ロールコート方式、そして回転カップを用いたベル方式のいずれかの方式で塗布を行なうのが好ましい。このように塗膜を均一な厚みで形成することによって、ムラのない塗膜の破壊伸び率を得ることができるものである。また光触媒機能層13の膜厚は0.1〜2μmの範囲が好ましい。尚、光触媒機能層13は一方の透明基板20だけでなく、他方の透明基板21の表面にも設けても良い。   And the photocatalyst functional layer 13 can be formed by apply | coating said photocatalyst containing silicone type coating agent on the surface of the transparent substrate 20, and making it harden by drying. The coating agent can be applied by various methods such as brush coating method, dipping method, spray coating method, roll coating method, bell method, flow coating method, curtain coating method, knife coating method, etc., but with a uniform thickness. In order to easily obtain the coating film, it is preferable to apply by a spray coating method, a roll coating method, or a bell method using a rotating cup. By forming the coating film with a uniform thickness in this way, it is possible to obtain a uniform elongation at break of the coating film. The film thickness of the photocatalytic function layer 13 is preferably in the range of 0.1 to 2 μm. The photocatalytic functional layer 13 may be provided not only on one transparent substrate 20 but also on the surface of the other transparent substrate 21.

色素増感型太陽電池4は透明性を有し、その可視光透過率が20%以上であることが好ましい。色素増感型太陽電池4の可視光透過率が20%未満であれば、色素増感型太陽電池4を透して基材1の化粧2を視認することができず、本発明の太陽電池付き建築板Aを施工した場合に建物の外観などの意匠性が損なわれる。また、色素増感型太陽電池4の可視光透過率は基材1の化粧2を視認するためには高い方が好ましいが、あまりに高すぎると発電効率が低下するため、色素増感型太陽電池4の可視光透過率は80%を上限とするのが好ましい。ここで、色素増感型太陽電池4の可視光透過率が20%以上50%以下である場合は、色素増感型太陽電池4がすりガラスのような作用をするため、基材1の化粧2が滲んでぼけた(不鮮明な)状態に視認されるものであり、この化粧2のぼかし効果により、本発明の太陽電池付き建築板Aを施工した場合に建物の意匠性の向上を図ることができる。また、色素増感型太陽電池4の可視光透過率が50%よりも大きい場合は、色素増感型太陽電池4を透しても基材1の化粧2をはっきりと鮮明に視認することができ、これにより、化粧2に深み感を得ることができて、本発明の太陽電池付き建築板Aを施工した場合に建物の意匠性の向上を図ることができるものである。尚、本発明において可視光透過率は、UV−VIS分光光度計などを用いて測定することができる。   The dye-sensitized solar cell 4 has transparency and preferably has a visible light transmittance of 20% or more. If the visible light transmittance of the dye-sensitized solar cell 4 is less than 20%, the makeup 2 of the substrate 1 cannot be seen through the dye-sensitized solar cell 4, and the solar cell of the present invention. When the attached building board A is constructed, design properties such as the appearance of the building are impaired. Further, the visible light transmittance of the dye-sensitized solar cell 4 is preferably higher for visually recognizing the makeup 2 of the base material 1, but if it is too high, the power generation efficiency is lowered, so that the dye-sensitized solar cell is reduced. The visible light transmittance of 4 is preferably 80% as an upper limit. Here, when the visible light transmittance of the dye-sensitized solar cell 4 is 20% or more and 50% or less, the dye-sensitized solar cell 4 acts like a ground glass. The blurring effect of the makeup 2 can improve the design of the building when the building board A with solar cells of the present invention is applied. it can. In addition, when the visible light transmittance of the dye-sensitized solar cell 4 is larger than 50%, the makeup 2 of the substrate 1 can be clearly and clearly seen through the dye-sensitized solar cell 4. Thus, a deep feeling can be obtained in the makeup 2, and when the building board A with solar cells of the present invention is constructed, the design of the building can be improved. In the present invention, the visible light transmittance can be measured using a UV-VIS spectrophotometer or the like.

建築板3は従来において外壁材(外壁パネル)などの外装材や内壁材(内壁パネル)などの内装材として用いられているものであって、表面に化粧2を施した板状の基材1を用いることができる。基材1としては、セメントを主成分とする窯業系基材(無機質硬化体)や樹脂を主成分とする樹脂系基材、木製基材などの各種材料で形成されたものを使用することができる。また、基材1の表面に凸部5aと凹部5bとからなる凹凸柄5を形成したり、基材1の表面にインクジェット塗装などにより多色あるいは単色の塗膜10(厚み0.1〜100μm程度)を形成したり、あるいは基材1自体に顔料等を配合して着色したりすることにより、基材1の表面に多様な化粧2を施すことができる。   The building board 3 is conventionally used as an interior material such as an exterior material such as an outer wall material (outer wall panel) or an inner wall material (inner wall panel), and has a plate-like base material 1 with a makeup 2 on the surface. Can be used. As the base material 1, it is possible to use a ceramic base material (inorganic hardened body) mainly composed of cement, a resin base material mainly composed of a resin, or a wooden base material. it can. Further, a multi-color or single-color coating film 10 (thickness of 0.1 to 100 μm) is formed on the surface of the base material 1 by forming a concave / convex pattern 5 composed of convex portions 5a and concave portions 5b, or by ink-jet coating on the surface of the base material 1 A wide range of makeup 2 can be applied to the surface of the substrate 1 by coloring the substrate 1 itself with a pigment or the like.

本発明において、建築板3の表面の明度(L値)は色彩測定装置(例えば、コニカミノルタ製のCR−400)の測定で50以上とするのが好ましい。尚、この「L値」は「L*a*b*表色系」での値である。これよりも明度の値が小さいと、建築板3の表面での光の反射が少なくて色素増感型太陽電池4の発電量を増加しにくくなるものである。建築板3の表面の明度を50以上とするためには、例えば、化粧2が光を反射しやすい色であったり光を反射しやすい物質であったりすると、化粧2で反射された光が色素増感型太陽電池4に裏面から入力することになり、発電効率を高めることができる。従って、基材1や塗膜10を顔料の添加などにより白色系にすることにより建築板3の表面の明度を50以上として、基材1や塗膜10で色素増感型太陽電池4側へ光を反射しやすくすることができる。また、基材1や塗膜10にマイカなどの光輝材(反射材)を添加することにより、基材1や塗膜10で色素増感型太陽電池4側へ光を反射しやすくするのが好ましい。さらに、基材1の表面に凹凸柄5を形成することにより、光の反射面積が増大するために、色素増感型太陽電池4側へ光を反射しやすくなって好ましい。建築板3の表面の明度の上限は特に制限はないが、光の反射が大きいほど好ましいので、100である。また、基材1の下端には実部11が突設されていると共に基材1の上端には実受け部12が突設されている。   In the present invention, the lightness (L value) of the surface of the building board 3 is preferably 50 or more as measured by a color measuring device (for example, CR-400 manufactured by Konica Minolta). The “L value” is a value in the “L * a * b * color system”. If the value of brightness is smaller than this, the reflection of light on the surface of the building board 3 is small, and the power generation amount of the dye-sensitized solar cell 4 is difficult to increase. In order to set the lightness of the surface of the building board 3 to 50 or more, for example, when the makeup 2 is a color that easily reflects light or a substance that easily reflects light, the light reflected by the makeup 2 is dyed. Inputting to the sensitized solar cell 4 from the back surface can improve power generation efficiency. Therefore, the brightness of the surface of the building board 3 is set to 50 or more by making the base material 1 and the coating film 10 white by adding pigments and the like, and the base material 1 and the coating film 10 are moved to the dye-sensitized solar cell 4 side. Light can be easily reflected. Further, by adding a bright material (reflecting material) such as mica to the base material 1 or the coating film 10, the base material 1 or the coating film 10 can easily reflect light toward the dye-sensitized solar cell 4 side. preferable. Furthermore, by forming the concave / convex pattern 5 on the surface of the base material 1, the light reflection area is increased, so that light is easily reflected toward the dye-sensitized solar cell 4 side. The upper limit of the lightness of the surface of the building board 3 is not particularly limited, but is 100 because it is preferable as the reflection of light increases. Further, a real part 11 projects from the lower end of the base material 1 and a real receiving part 12 projects from the upper end of the base material 1.

そして、上記の建築板3の表面側(化粧2を施した表面側)に色素増感型太陽電池4を配設することによって、図1に示すような本発明の太陽電池付き建築板Aを形成することができる。建築板3の表面側に色素増感型太陽電池4を配設するにあたっては、各種の方法を採用することができ、例えば、建築板3の表面に色素増感型太陽電池4を接着剤により接着したり、建築板3に色素増感型太陽電池4をビスやネジなどで固定したり、建築板3の表面に枠材や係止金具を設けてこの枠材や係止金具に色素増感型太陽電池4を保持させたりすることができる。ここで、基材1の表面に塗膜10が形成されている場合は、塗膜10の表面に色素増感型太陽電池4を密着させて設けることができ、基材1の表面に塗膜10が形成されていない場合は、基材1の表面に色素増感型太陽電池4を密着させて設けることができる。また、塗膜10又は基材1の表面に密着させる色素増感型太陽電池4の表面は、光触媒機能層13の設けていない方の透明基板21の表面であり、これにより、太陽電池付き建築板Aの外方(最表面)に光触媒機能層13が位置することになる。尚、色素増感型太陽電池4は塗膜10や基材1の表面に密着させる場合だけでなく、若干の隙間を設けても良い。   And the building board A with a solar cell of this invention as shown in FIG. 1 is arrange | positioned by arrange | positioning the dye-sensitized solar cell 4 to the surface side (surface side which gave the makeup | decoration 2) of said building board 3. As shown in FIG. Can be formed. In disposing the dye-sensitized solar cell 4 on the surface side of the building board 3, various methods can be employed. For example, the dye-sensitized solar cell 4 is attached to the surface of the building board 3 with an adhesive. Adhering, fixing the dye-sensitized solar cell 4 to the building board 3 with screws or screws, or providing a frame material or locking metal on the surface of the building board 3 to increase the dye on the frame or locking metal The sensitive solar cell 4 can be held. Here, when the coating film 10 is formed on the surface of the substrate 1, the dye-sensitized solar cell 4 can be provided in close contact with the surface of the coating film 10, and the coating film is formed on the surface of the substrate 1. When 10 is not formed, the dye-sensitized solar cell 4 can be provided in close contact with the surface of the substrate 1. Further, the surface of the dye-sensitized solar cell 4 to be brought into close contact with the surface of the coating film 10 or the base material 1 is the surface of the transparent substrate 21 on which the photocatalytic function layer 13 is not provided. The photocatalytic functional layer 13 is located outside the plate A (outermost surface). In addition, the dye-sensitized solar cell 4 may be provided with a slight gap as well as the case where the dye-sensitized solar cell 4 is closely attached to the surface of the coating film 10 or the substrate 1.

本発明の太陽電池付き建築板Aは、例えば、実受け部12の表面側に実部11を配置して、複数枚の太陽電池付き建築板A、A…を縦横に並べて施工することによって、建物の外壁や内壁などの壁を形成することができる。そして、この壁の表面には色素増感型太陽電池4が設けられているために、色素増感型太陽電池4に太陽光や照明の光などが照射されることにより発電することができる。従って、従来の建物のように屋根のみに太陽電池を配置した場合や窓ガラスに色素増感型太陽電池を配置した場合よりも、建物一つあたりの色素増感型太陽電池4の使用量を増加することができて発電量を増加することができる。また、色素増感型太陽電池4を透して基材1の表面の化粧2が浮き出て視認することができ、建物の意匠性を損なわないようにすることができるものであり、外壁材として用いても違和感がないものである。   The building board A with solar cells of the present invention is, for example, arranged by arranging the real part 11 on the surface side of the actual receiving part 12 and arranging a plurality of building boards A, A ... with solar cells side by side. A wall such as an outer wall or an inner wall of a building can be formed. Since the dye-sensitized solar cell 4 is provided on the surface of the wall, power can be generated by irradiating the dye-sensitized solar cell 4 with sunlight, illumination light, or the like. Therefore, the amount of the dye-sensitized solar cell 4 used per building is smaller than when a solar cell is disposed only on the roof as in a conventional building or when a dye-sensitized solar cell is disposed on a window glass. It can be increased and the amount of power generation can be increased. Moreover, the makeup | decoration 2 of the surface of the base material 1 can be seen through the dye-sensitized solar cell 4 and can be made visible so that the design of the building is not impaired. There is no sense of incongruity even when used.

本発明の色素増感型太陽電池4は、その最外面に光触媒機能層13を備えているために、光触媒機能層13に含有されている光触媒が紫外線の照射で活性化し、光触媒機能層13の表面に付着した汚れを分解することができるものであり、しかも、光触媒機能層13の表面を親水性にするために分解した汚れを雨水などで洗い流すことができ、セルフクリーニング効果を得ることができるものである。従って、色素増感型太陽電池4の透明基板20の表面が汚れにくくなって透明性の低下を防止することができるものであり、この結果、色素増感型太陽電池4の粒子膜26や電解質層24にまで光が十分に照射されて発電性能の低下を防止することができるものである。   Since the dye-sensitized solar cell 4 of the present invention includes the photocatalyst functional layer 13 on the outermost surface, the photocatalyst contained in the photocatalyst functional layer 13 is activated by irradiation with ultraviolet rays, and the photocatalyst functional layer 13 The dirt adhered to the surface can be decomposed, and the decomposed dirt for making the surface of the photocatalytic functional layer 13 hydrophilic can be washed away with rainwater, etc., and a self-cleaning effect can be obtained. Is. Therefore, the surface of the transparent substrate 20 of the dye-sensitized solar cell 4 is less likely to become dirty, and a decrease in transparency can be prevented. As a result, the particle film 26 and the electrolyte of the dye-sensitized solar cell 4 can be prevented. The layer 24 can be sufficiently irradiated with light to prevent a decrease in power generation performance.

尚、本発明の色素増感型太陽電池4は、例えば、外灯、街灯、防犯灯、装飾用ランプあるいは屋根換気システムの補助電源として使用することができる。   The dye-sensitized solar cell 4 of the present invention can be used, for example, as an auxiliary power source for outdoor lights, street lights, security lights, decorative lamps, or roof ventilation systems.

図3に本発明の他の実施の形態の色素増感型太陽電池4を示す。この色素増感型太陽電池4は透明基板20と光触媒機能層13との間に透明な(クリアーな)無機質塗膜(セラミックコート)である紫外線吸収層14を設けたものであり、その他の構成は図2のものと同様である。紫外線吸収層14は特開平9−249822号公報に開示された2種類のシリコーン系コーティング剤を用いて形成することができる。   FIG. 3 shows a dye-sensitized solar cell 4 according to another embodiment of the present invention. This dye-sensitized solar cell 4 is provided with an ultraviolet absorbing layer 14 which is a transparent (clear) inorganic coating film (ceramic coat) between a transparent substrate 20 and a photocatalytic functional layer 13, and other configurations. Is similar to that of FIG. The ultraviolet absorbing layer 14 can be formed using two types of silicone-based coating agents disclosed in JP-A-9-249822.

2種類のうち一方のシリコーン系コーティング剤(以下シリコーン系コーティング剤(1)とする)は、
一般式 (RSi(OR4−m (5)
(式(5)中、R1は各々メチル基、エチル基又はフェニル基を表し、R2は各々炭素数1〜8のアルキル基を表す。mは0,1又は2である。)
で表されるケイ素化合物及び/又はその部分加水分解物を主成分とするケイ素アルコキシド系コーティング剤に、紫外線吸収剤を配合したものである。
One of the two types of silicone coating agents (hereinafter referred to as silicone coating agent (1))
General formula (R 1 ) m Si (OR 2 ) 4-m (5)
(In Formula (5), R1 represents a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, respectively, R2 represents a C1-C8 alkyl group. M is 0, 1 or 2.)
An ultraviolet absorber is blended with a silicon alkoxide-based coating agent mainly composed of a silicon compound represented by formula (1) and / or a partial hydrolyzate thereof.

この一般式(5)で表されるケイ素化合物及び/又はその部分加水分解物を主成分とするケイ素アルコキシドは、次の(i)、(ii)、(iii)の化合物を主成分とする混合物を適当な溶剤で希釈し、硬化剤及び触媒を必要量添加して加水分解及び縮重合させて得ることができ、重量平均分子量Mwがポリスチレン換算で500〜3000で、且つ分子量分布Mw/Mn(Mnは数平均分子量)が1.1〜3.0であるものが望ましい。より好ましくはMw=600〜3000で且つMw/Mn=1.2〜1.8である。重量平均分子量及び分子量分布がこの範囲より小さいときには、縮重合の際の硬化収縮が大きくなり、焼き付け後に塗膜にクラックが発生し易くなる傾向がある。また重量平均分子量及び分子量分布がこの範囲より大きいときには、反応が遅過ぎて硬化し難いか、硬化しても柔らかい塗膜になったり、塗膜のレベリング性が非常に悪いものになったりする傾向がある。
(i):一般式(5)においてm=0で示されるケイ素化合物及びコロイド状シリカ20
〜200重量部
(ii):一般式(5)においてm=1で示されるケイ素化合物100重量部
(iii):一般式(5)においてm=2で示されるケイ素化合物0〜80重量部
これらのケイ素化合物としては後述の(6)式におけるアルコキシシラン類を用いることができる。また成分(i)のコロイド状シリカ(コロイダルシリカ)は微粒子シリカ成分を水、メタノール等の有機溶剤またはこれらの混合溶剤中に分散して使用するが、それらがコロイド状である限り、その粒径や溶剤種等は特に制限されるものではない。尚、成分(i)のコロイド状シリカの配合量は分散媒も含む重量部である。
The silicon alkoxide mainly composed of the silicon compound represented by the general formula (5) and / or a partial hydrolyzate thereof is a mixture mainly composed of the following compounds (i), (ii) and (iii): Can be obtained by diluting with an appropriate solvent, adding a necessary amount of a curing agent and a catalyst, followed by hydrolysis and condensation polymerization, having a weight average molecular weight Mw of 500 to 3000 in terms of polystyrene, and a molecular weight distribution Mw / Mn ( Mn preferably has a number average molecular weight) of 1.1 to 3.0. More preferably, Mw = 600 to 3000 and Mw / Mn = 1.2 to 1.8. When the weight average molecular weight and the molecular weight distribution are smaller than these ranges, the curing shrinkage during the condensation polymerization becomes large, and cracks tend to occur in the coating film after baking. Also, when the weight average molecular weight and molecular weight distribution are larger than this range, the reaction is too slow to be hardened, or even when cured, the film tends to be soft or the leveling property of the film becomes very poor. There is.
(I): silicon compound represented by m = 0 in the general formula (5) and colloidal silica 20
-200 parts by weight (ii): 100 parts by weight of a silicon compound represented by m = 1 in the general formula (5) (iii): 0-80 parts by weight of a silicon compound represented by m = 2 in the general formula (5) As the silicon compound, alkoxysilanes in the later-described formula (6) can be used. Further, the component (i) colloidal silica (colloidal silica) is used by dispersing the fine particle silica component in water, an organic solvent such as methanol, or a mixed solvent thereof, as long as they are colloidal. There are no particular restrictions on the solvent type. In addition, the compounding quantity of the colloidal silica of a component (i) is a weight part also including a dispersion medium.

シリコーン系コーティング剤(1)において必要に応じて用いられる前記の硬化剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、塩酸、リン酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、クロロ酢酸等の有機酸の希薄溶液等の酸性触媒、あるいは後述する塩基性触媒を単独で又は2種以上を併用して使用することができる。また前記成分(i)としてコロイド状シリカを用いる場合は、コロイド状シリカが酸性を示すのでこれが触媒となり、酸性触媒として何も入れなくともよい。   Although it does not specifically limit as said hardening | curing agent used as needed in silicone type coating agent (1), For example, inorganic acids, such as hydrochloric acid, phosphoric acid, a sulfuric acid, formic acid, an acetic acid, chloroacetic acid An acidic catalyst such as a dilute solution of an organic acid such as a basic catalyst described later can be used alone or in combination of two or more. Further, when colloidal silica is used as the component (i), the colloidal silica exhibits acidity, so that it becomes a catalyst, and nothing is required as an acidic catalyst.

シリコーン系コーティング剤(1)において必要に応じて用いられる前記の触媒としては塩基性触媒が使用される。この塩基性触媒としては、特に限定されるものではないが、例えばトリエタノールアミン等のアミン類;γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノシラン類;無機酸(例えば塩酸、硝酸、リン酸等)又は有機酸(例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸等)のアンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、n−ブチルアミン等の塩、あるいは無機酸又は有機酸の塩と第4級アンモニウム塩との複分解塩等を例示することができる。これらの種類や添加量については何等限定されない。   As the catalyst used as necessary in the silicone-based coating agent (1), a basic catalyst is used. The basic catalyst is not particularly limited. For example, amines such as triethanolamine; γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, etc. Aminosilanes; salts of inorganic acids (eg, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.) or organic acids (eg, formic acid, acetic acid, propionic acid, etc.), such as ammonia, trimethylamine, triethylamine, n-butylamine, or inorganic or organic acids Examples thereof include metathesis salts of salts and quaternary ammonium salts. These types and addition amounts are not limited at all.

シリコーン系コーティング剤(1)には前記の成分の他に、必要に応じて、コロイド状シリカ以外の充填剤(例えばアルミナゾル、ヒュームドシリカ等の無機充填剤)、着色剤、希釈溶剤、増粘剤、界面活性剤等の種々の添加剤を1種以上配合することができる。この希釈溶剤としては特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)等のアルコール類;エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類などを挙げることができ、これらを1種あるいは2種以上を併せて使用することができる。   In addition to the above-mentioned components, the silicone-based coating agent (1) may optionally contain a filler other than colloidal silica (for example, inorganic filler such as alumina sol or fumed silica), a colorant, a diluting solvent, a thickening agent. One or more kinds of various additives such as an agent and a surfactant can be blended. Although it does not specifically limit as this dilution solvent, For example, alcohols, such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA); Cellosolves, such as ethylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, etc. can be mentioned, These are 1 type or Two or more kinds can be used in combination.

シリコーン系コーティング剤(1)は、そのpH値を3.8〜6.0に調整することによって前記の分子量の範囲内で安定して使用することができる。pH値がこの範囲外にあると、シリコーン系コーティング剤(1)は安定性が悪くなり、シリコーン系コーティング剤(1)を調製した後の使用できる期間が限られることがある。ここで、pH値調整方法は特に制限されないが、例えばシリコーン系コーティング剤(1)の原料混合時にpH値が3.8未満となった場合は、アンモニア等の塩基性試薬を用いて前記所定範囲内のpH値に調整すればよく、pH値が6.0を超えた場合は、塩酸等の酸性試薬を用いて前記所定範囲内に調整すればよい。またpH値によっては、分子量が小さいまま逆に反応が進まず、前記の分子量範囲に到達させるのに時間がかかる場合は、シリコーン系コーティング剤(1)を加熱して反応を促進させるようにしてもよく、酸性試薬でpH値を下げて反応を進めた後、塩基性試薬で所定のpH値に戻すようにしてもよい。   The silicone-based coating agent (1) can be stably used within the aforementioned molecular weight range by adjusting its pH value to 3.8 to 6.0. If the pH value is outside this range, the silicone-based coating agent (1) becomes less stable, and the usable period after preparing the silicone-based coating agent (1) may be limited. Here, the pH value adjusting method is not particularly limited. For example, when the pH value is less than 3.8 when the raw material of the silicone-based coating agent (1) is mixed, the predetermined range is determined using a basic reagent such as ammonia. What is necessary is just to adjust to the inside pH value, and what is necessary is just to adjust to the said predetermined range using acidic reagents, such as hydrochloric acid, when pH value exceeds 6.0. Also, depending on the pH value, the reaction does not proceed conversely with a small molecular weight, and when it takes time to reach the molecular weight range, the silicone coating agent (1) is heated to promote the reaction. Alternatively, the pH value may be lowered with an acidic reagent and the reaction may be advanced, and then returned to a predetermined pH value with a basic reagent.

上記のようにpH値を調整した場合、または調整しない場合でも、使用に至るまでの間、または少なくとも使用時に、シリコーン系コーティング剤(1)に塩基性触媒を添加すれば縮合反応を促進し、塗膜中の架橋点を増やすことができるので、安定して耐クラック性の良い塗膜を得ることができるものである。また、架橋反応を促進することによって、硬化時間を短縮し、あるいは硬化温度を下げることができるために、経済的である。   Even when the pH value is adjusted as described above, or even when the pH value is not adjusted, the condensation reaction is promoted by adding a basic catalyst to the silicone-based coating agent (1) during use or at least during use. Since the number of crosslinking points in the coating film can be increased, it is possible to stably obtain a coating film having good crack resistance. Further, by promoting the crosslinking reaction, the curing time can be shortened or the curing temperature can be lowered, which is economical.

また、特開平9−249822号公報に開示された2種類のシリコーン系コーティング剤うち、他方のシリコーン系コーティング剤(以下シリコーン系コーティング剤(2)とする)は、
一般式 (RSiX4−n (6)
(式(6)中、R3は各々置換もしくは非置換の炭素数1〜8の1価の炭化水素基を表し
、Xは加水分解性基を表す。nは0〜3の整数である。)
で表される加水分解性オルガノシランを、有機溶媒及び/又は水に分散されたコロイド状
シリカ中で部分加水分解してなる、オルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液(A)と

平均組成式 (RSi(OH)(4−d−e)/2 (7)
(式(7)中、Rは各々置換もしくは非置換の炭素数1〜8の1価の炭化水素基を表し、dおよびeはそれぞれ0.2≦d≦2.0、0.0001≦e≦3、d+e<4の関係を満たす数である。)
で表される、分子中にシラノール基を含有するポリオルガノシロキサン(B)と、
硬化触媒(C)の、
(A),(B),(C)の3成分を必須成分として含有するケイ素アルコキシド系コーティング剤に、紫外線吸収剤を配合したものである。
Of the two types of silicone coating agents disclosed in JP-A-9-249822, the other silicone coating agent (hereinafter referred to as silicone coating agent (2)) is:
General formula (R 3 ) n SiX 4-n (6)
(In Formula (6), R3 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, X represents a hydrolyzable group, and n is an integer of 0 to 3.)
A silica-dispersed oligomer solution of organosilane (A) obtained by partially hydrolyzing the hydrolyzable organosilane represented by the formula (I), in colloidal silica dispersed in an organic solvent and / or water;
Average composition formula (R 4 ) d Si (OH) e O (4-de) / 2 (7)
(In formula (7), R 4 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and d and e are 0.2 ≦ d ≦ 2.0 and 0.0001 ≦, respectively. (a number satisfying the relationship of e ≦ 3 and d + e <4.)
A polyorganosiloxane (B) containing a silanol group in the molecule represented by:
Of the curing catalyst (C),
An ultraviolet absorber is blended with a silicon alkoxide coating agent containing the three components (A), (B), and (C) as essential components.

シリコーン系コーティング剤(2)に用いられる(A)成分のシリカ分散オリゴマーは、被膜形成に際して硬化反応に預かる官能性基としての加水分解性基Xを有するベースポリマーの主成分である。これは、有機溶媒あるいは水、もしくはこれらの混合溶媒に分散したコロイド状シリカに、前記一般式(7)式で表される加水分解性オルガノシランの1種又は2種以上を加え、コロイド状シリカ中の水あるいは別途添加された水により加水分解性オルガノシランを部分加水分解することで得られる。   The silica-dispersed oligomer of component (A) used in the silicone-based coating agent (2) is a main component of a base polymer having a hydrolyzable group X as a functional group that is subjected to a curing reaction during film formation. This is achieved by adding one or more hydrolyzable organosilanes represented by the above general formula (7) to colloidal silica dispersed in an organic solvent, water, or a mixed solvent thereof, to form colloidal silica. It can be obtained by partially hydrolyzing the hydrolyzable organosilane with water therein or water added separately.

前記一般式(6)で表される加水分解性オルガノシラン中のRとしては、炭素数1〜8の置換又は非置換の1価の炭化水素基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基などのアラルキル基;フェニル基、トリル基などのアリール基;ビニル基、アリル基などのアルケニル基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基などのハロゲン置換炭化水素基;γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基、γ−メルカプトプロピル基などの置換炭化水素基等を例示することができる。これらの中でも合成の容易さ、あるいは入手の容易さから炭素数1〜4のアルキル基及び、フェニル基が好ましい。 R 3 in the hydrolyzable organosilane represented by the general formula (6) is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Alkyl groups such as butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group; aralkyl groups such as 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group; phenyl group, tolyl Aryl groups such as vinyl groups; alkenyl groups such as vinyl groups and allyl groups; halogen-substituted hydrocarbon groups such as chloromethyl groups, γ-chloropropyl groups, and 3,3,3-trifluoropropyl groups; γ-methacryloxypropyl groups Substituted hydrocarbon such as γ-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group, γ-mercaptopropyl group, etc. It can be exemplified, and the like. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a phenyl group are preferable because of easy synthesis or availability.

前記一般式(6)中の加水分解性基Xとしては、アルコキシ基、アセトキシ基、オキシム基、エノキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基などが挙げられる。これらの中でも入手の容易さ及びシリカ分散オリゴマー溶液(A)を調製し易いことからアルコキシ基が好ましい。このような加水分解性オルガノシランとしては、上記一般式(6)中のnが0〜3の整数である、モノ−、ジ−、トリ−、テトラ−の各官能性のアルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類などが挙げられる。これらの中でも入手の容易さ及びシリカ分散オリゴマー溶液(A)を調製し易いことからアルコキシシラン類が好ましい。   Examples of the hydrolyzable group X in the general formula (6) include an alkoxy group, an acetoxy group, an oxime group, an enoxy group, an amino group, an aminoxy group, and an amide group. Among these, an alkoxy group is preferable because it is easily available and the silica-dispersed oligomer solution (A) can be easily prepared. Examples of such hydrolyzable organosilanes include mono-, di-, tri-, and tetra-functional alkoxysilanes in which the n in the general formula (6) is an integer of 0 to 3, acetoxy Examples thereof include silanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, and amidosilanes. Among these, alkoxysilanes are preferable because they are easily available and the silica-dispersed oligomer solution (A) can be easily prepared.

特に、n=0のテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどを例示することができ、n=1のオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシランなどを例示することができる。またn=2のジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシランなどを例示することができる。さらにn=3のトリオルガノアルコキシシランとしては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、ジメチルイソブチルメトキシシランなどを例示することができる。また一般にシランカップリング剤とよばれるオルガノシラン化合物もアルコキシシラン類として用いることができる。   In particular, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and the like can be exemplified as the n = 0 tetraalkoxysilane, and the methyltrialkoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and the like can be exemplified as the n = 1 organotrialkoxysilane. Examples thereof include isopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and the like. Examples of n = 2 diorganodialkoxysilanes include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane. Further, examples of the triorganoalkoxysilane with n = 3 include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylisopropoxysilane, and dimethylisobutylmethoxysilane. Organosilane compounds generally called silane coupling agents can also be used as alkoxysilanes.

これらの一般式(6)の加水分解性オルガノシランのうち、50モル%以上がn=1で表される3官能性のものであることが好ましい。より好ましくは60モル%以上であり、最も好ましくは70モル%以上である。n=1の3官能性のものが50モル%未満では、十分な塗膜硬度を得ることが難しいと共に、乾燥硬化性が劣り易くなるものである。   Of these hydrolyzable organosilanes of the general formula (6), 50 mol% or more is preferably a trifunctional compound represented by n = 1. More preferably, it is 60 mol% or more, and most preferably 70 mol% or more. When the trifunctional compound with n = 1 is less than 50 mol%, it is difficult to obtain a sufficient coating film hardness, and the dry curability tends to be inferior.

(A)成分で使用するコロイド状シリカとしては、水分散性あるいはアルコールなどの非水系の有機溶媒分散性コロイド状シリカを使用することができ、前述のシリコーン系コーティング剤(1)に用いられるコロイド状シリカと同様のものを使用することができる。一般にこのようなコロイド状シリカは固形分としてのシリカを20〜50重量%含有しており、この値からシリカ配合量を決定できる。   As the colloidal silica used in the component (A), water-dispersible or non-aqueous organic solvent-dispersible colloidal silica such as alcohol can be used, and the colloid used for the silicone-based coating agent (1) described above. The same silica gel can be used. Generally, such colloidal silica contains 20 to 50% by weight of silica as a solid content, and the amount of silica can be determined from this value.

水分散性コロイド状シリカを使用する場合、固形分以外の成分として存在する水は(A)成分の加水分解に用いることができる。水分散性コロイド状シリカは通常水ガラスから作られるが、このようなコロイド状シリカは市販品を容易に入手することができる。また有機溶媒分散性のコロイド状シリカは、前記水分散性コロイド状シリカの水を有機溶媒と置換することで容易に調製することができる。このような有機溶媒分散性コロイド状シリカも水分散性コロイド状シリカと同様に市販品を容易に入手することができる。コロイド状シリカを分散する有機溶媒の種類は、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノールなどの低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのジエチレングリコール誘導体、ジアセトンアルコール等を挙げることができる。これらからなる群より選ばれた1種もしくは2種以上のものを使用することができるが、これらの親水性有機溶剤と併用してトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシムなども用いることができる。   When water-dispersible colloidal silica is used, water present as a component other than the solid content can be used for hydrolysis of the component (A). Water-dispersible colloidal silica is usually made from water glass, but such colloidal silica is readily available commercially. The organic solvent-dispersible colloidal silica can be easily prepared by replacing the water of the water-dispersible colloidal silica with an organic solvent. Such an organic solvent-dispersible colloidal silica can be easily obtained as a commercial product in the same manner as the water-dispersible colloidal silica. Examples of the organic solvent in which the colloidal silica is dispersed include, for example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether acetate. Examples include ethylene glycol derivatives; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether, and diacetone alcohol. One or two or more selected from the group consisting of these can be used, but in combination with these hydrophilic organic solvents, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Methyl ethyl ketoxime can also be used.

(A)成分中のコロイド状シリカは、シリコーン系コーティング剤(2)の硬化被膜の硬度を高くするために必須のものである。(A)成分中においてコロイド状シリカは、シリカ固形分として5〜95重量%の範囲で含有されるのが好ましい。より好ましくは10〜90重量%、最も好ましくは20〜85重量%の範囲である。含有量が5重量%未満であると所望の被膜硬度が得られず、また95重量%を超えるとシリカの均一分散が困難となり、(A)成分にゲル化等の不都合を招来するおそれがある。   The colloidal silica in the component (A) is essential for increasing the hardness of the cured film of the silicone coating agent (2). In the component (A), the colloidal silica is preferably contained in the range of 5 to 95% by weight as the silica solid content. More preferably, it is 10 to 90 weight%, Most preferably, it is the range of 20 to 85 weight%. If the content is less than 5% by weight, the desired film hardness cannot be obtained, and if it exceeds 95% by weight, it is difficult to uniformly disperse the silica, which may cause inconveniences such as gelation in the component (A). .

(A)成分のオルガノシランのシリカ分散オリゴマーは、通常、一般式(6)の加水分解性オルガノシランを水分散性コロイド状シリカまたは有機溶媒分散性コロイド状シリカの少なくとも一方の中で部分加水分解して得ることができる。加水分解性オルガノシランに対する水の使用量は、加水分解性基X1モルに対して水0.001〜0.5モルが好ましい。水の使用量が0.001モル未満であると充分な部分加水分解物を得ることができず、また水の使用量が0.5モルを超えると部分加水分解物の安定性が悪くなるおそれがある。部分加水分解する方法は特に限定されないものであり、加水分解性オルガノシランとコロイド状シリカとを混合して必要量の水を添加配合すればよく、このとき部分加水分解反応は常温で進行するが、部分加水分解反応を促進させるために60〜100℃に加温するようにしてもよい。さらに部分加水分解反応を促進させる目的で、塩酸、酢酸、ハロゲン化シラン、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタル酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸などの無機酸や有機酸を触媒として用いてもよい。   The silica-dispersed oligomer of organosilane (A) is usually a partial hydrolysis of hydrolyzable organosilane of general formula (6) in at least one of water-dispersible colloidal silica or organic solvent-dispersible colloidal silica. Can be obtained. The amount of water used relative to the hydrolyzable organosilane is preferably 0.001 to 0.5 mol of water with respect to 1 mol of the hydrolyzable group. If the amount of water used is less than 0.001 mol, a sufficient partial hydrolyzate cannot be obtained, and if the amount of water used exceeds 0.5 mol, the stability of the partial hydrolyzate may be deteriorated. There is. The method of partial hydrolysis is not particularly limited, and a hydrolyzable organosilane and colloidal silica may be mixed and mixed with a necessary amount of water. At this time, the partial hydrolysis reaction proceeds at room temperature. In order to promote the partial hydrolysis reaction, it may be heated to 60 to 100 ° C. Furthermore, hydrochloric acid, acetic acid, halogenated silane, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluene for the purpose of promoting partial hydrolysis reaction An inorganic acid such as sulfonic acid or oxalic acid or an organic acid may be used as a catalyst.

(A)成分のオルガノシランのシリカ分散オリゴマーは、長期的に安定した性能を得るために、液のpH値を2.0〜7.0の範囲に、より好ましくはpH2.5〜6.5の範囲に、さらにより好ましくはpH3.0〜6.0の範囲に調整するのがよい。pH値がこの範囲外であると、特に水の使用量がX1モルに対し0.3モル以上のときに(A)成分の長期的な性能低下が著しくなることがある。(A)成分のpH値がこの範囲外にあれば、この範囲より酸性側のときにはアンモニア、エチレンジアミン等の塩基性試薬を添加してpH値を調整すればよく、この範囲より塩基性側のときには塩酸、硝酸、酢酸等の酸性試薬を用いてpH値を調整すればよい。この調整の方法は特に限定されるものではない。   The silica-dispersed oligomer of organosilane as component (A) has a liquid pH value in the range of 2.0 to 7.0, more preferably 2.5 to 6.5, in order to obtain long-term stable performance. It is good to adjust to the range of pH 3.0-6.0 in the range of 3.0-6.0. When the pH value is out of this range, the long-term performance deterioration of the component (A) may be remarkable particularly when the amount of water used is 0.3 mol or more with respect to X1 mol. If the pH value of the component (A) is outside this range, the pH value may be adjusted by adding a basic reagent such as ammonia or ethylenediamine when the pH value is more acidic than this range. What is necessary is just to adjust pH value using acidic reagents, such as hydrochloric acid, nitric acid, and an acetic acid. The adjustment method is not particularly limited.

シリコーン系コーティング剤(2)で用いる(B)成分のシラノール基含有ポリオルガノシロキサンは、平均組成式が上記(7)式で表されるものであり、(7)式中のRとしては、上記(6)式中のRと同じものを例示することができるが、R中の5〜50重量%はフェニル基である。フェニル基が5重量%未満では塗膜の伸びが低下しクラックが発生し易くなり、50重量%を超えると硬化が遅くなり過ぎてしまうおそれがある。この他のRは好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、ビニル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−アミノプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基などの置換炭化水素基、より好ましくはメチル基およびエチル基のアルキル基である。また(7)式中、d及びeはそれぞれ0.2≦d≦2.0、0.0001≦e≦3、d+e<4の関係を満たす数であり、dが0.2未満又はeが3を超えると、硬化被膜にクラックを生じるなどの不都合があり、またdが2を超え4以下の場合又はeが0.0001未満であると、硬化がうまく進行しないものである。 The (B) component silanol group-containing polyorganosiloxane used in the silicone-based coating agent (2) has an average composition formula represented by the above formula (7), and R 4 in the formula (7) is: it can be exemplified the same as R 3 of the above (6) wherein 5 to 50 wt% in R 4 is a phenyl group. If the phenyl group is less than 5% by weight, the elongation of the coating film is reduced and cracks are likely to occur, and if it exceeds 50% by weight, curing may be too slow. The other R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a vinyl group, a γ-glycidoxypropyl group, a γ-methacryloxypropyl group, a γ-aminopropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl. Substituted hydrocarbon groups such as groups, more preferably alkyl groups of methyl and ethyl groups. In the formula (7), d and e are numbers satisfying the relations 0.2 ≦ d ≦ 2.0, 0.0001 ≦ e ≦ 3, and d + e <4, respectively, and d is less than 0.2 or e is If it exceeds 3, there are disadvantages such as cracks in the cured film, and if d is more than 2 and 4 or less, or if e is less than 0.0001, curing does not proceed well.

このような(7)式のシラノール基含有ポリオルガノシロキサン(B)は、例えば、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、もしくはこれらに対応するアルコキシシランの1種もしくは2種以上の混合物を公知の方法により大量の水で加水分解することによって得ることができる。シラノール基含有ポリオルガノシロキサンを得るために、アルコキシシランを用いて公知の方法で加水分解した場合、加水分解されないアルコキシ基が微量に残ることがある。つまりシラノール基と極微量のアルコキシ基が共存するようなポリオルガノシロキサンが得られることがあるが、このようなポリオルガノシロキサンを用いても差支えない。   Such a silanol group-containing polyorganosiloxane (B) of the formula (7) is, for example, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, phenyltrichlorosilane, diphenyldichlorosilane, or one or two alkoxysilanes corresponding thereto. The above mixture can be obtained by hydrolyzing with a large amount of water by a known method. In order to obtain a silanol group-containing polyorganosiloxane, when it is hydrolyzed by a known method using alkoxysilane, an unhydrolyzed alkoxy group may remain in a trace amount. That is, a polyorganosiloxane in which a silanol group and a trace amount of an alkoxy group coexist may be obtained, but such a polyorganosiloxane may be used.

またこのような(B)成分のシラノール基含有ポリオルガノシロキサンの分子量は700〜20000が好ましい。ここでいう分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定による標準ポリスチレン換算による重量平均分子量であり、700未満の場合、形成された塗膜の硬化性が遅く、またクラックが発生し易くなり、20000を超える場合、顔料を添加されたシリコーン系コーティング剤(2)から形成された塗膜に光沢がなく、また平滑性も悪くなるおそれがある。   Further, the molecular weight of the silanol group-containing polyorganosiloxane as the component (B) is preferably 700 to 20000. The molecular weight here is a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene by GPC (gel permeation chromatography) measurement, and when it is less than 700, the curability of the formed coating film is slow and cracks are likely to occur. When it exceeds 20000, there is a possibility that the coating film formed from the silicone-based coating agent (2) to which the pigment is added has no gloss and the smoothness is also deteriorated.

シリコーン系コーティング剤(2)で用いる(C)成分の硬化触媒は、上記の(A)成分と(B)成分との縮合反応を促進し、被膜を硬化させるものである。このような触媒としては、アルキルチタン酸塩、オクチル酸錫およびジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジマレート等のカルボン酸の金属塩;ジブチルアミン−2−ヘキソエート、ジメチルアミンアセテート、エタノールアミンアセテート等のアミン塩;酢酸テトラメチルアンモニム等のカルボン酸第4級アンモニウム塩;テトラエチルペンタミン等のアミン類;N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミン系シランカップリング剤;p−トルエンスルホン酸、フタル酸、塩酸等の酸類;アルミニウムアルコキシド、アルミニウムキレート等のアルミニウム化合物、水酸化カリウムなどのアルカリ触媒、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、チタニウムテトラアセチルアセトネート等のチタニウム化合物、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルモノクロロシラン等のハロゲン化シラン等があるが、これらの他にも(G)成分と(H)成分との縮合反応に有効なものであれば特に制限されない。   The curing catalyst of the component (C) used in the silicone-based coating agent (2) accelerates the condensation reaction between the components (A) and (B) and cures the film. Examples of such catalysts include metal salts of carboxylic acids such as alkyl titanates, tin octylate and dibutyltin dilaurate, dioctyltin dimaleate; amine salts such as dibutylamine-2-hexoate, dimethylamine acetate, and ethanolamine acetate; Carboxylic acid quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium acetate; amines such as tetraethylpentamine; N-β-aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyl Amine-based silane coupling agents such as dimethoxysilane; acids such as p-toluenesulfonic acid, phthalic acid and hydrochloric acid; aluminum compounds such as aluminum alkoxide and aluminum chelate; alkali catalysts such as potassium hydroxide; tetraisopropyl titanate; There are titanium compounds such as trabutyl titanate and titanium tetraacetylacetonate, and halogenated silanes such as methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, and trimethylmonochlorosilane. In addition to these, components (G) and (H) There is no particular limitation as long as it is effective for the condensation reaction.

(A)成分と(B)成分の配合割合は、(A)成分1〜99重量部に対して(B)成分99〜1重量部であり、好ましくは(A)成分5〜95重量部に対して(H)成分95〜5重量部、より好ましくは(A)成分10〜90重量部に対して(H)成分90〜10重量部である(但し、(A)成分と(B)成分の合計量100重量部)。(A)成分が1重量部未満であると常温硬化性に劣ると共に十分な被膜硬度が得られない。逆に(A)成分が99重量部を超えると硬化性が不安定で且つ良好な被膜が得られないおそれがある。   The blending ratio of the component (A) and the component (B) is 99 to 1 part by weight of the component (B) with respect to 1 to 99 parts by weight of the component (A), preferably 5 to 95 parts by weight of the component (A). In contrast, 95 to 5 parts by weight of component (H), more preferably 90 to 10 parts by weight of component (H) with respect to 10 to 90 parts by weight of component (A) (provided that component (A) and component (B) Total amount of 100 parts by weight). When the component (A) is less than 1 part by weight, the room temperature curability is inferior and sufficient film hardness cannot be obtained. On the other hand, if the component (A) exceeds 99 parts by weight, the curability is unstable and a good film may not be obtained.

また(C)成分の硬化触媒の添加量は、(A)成分と(B)成分の合計100重量部に対して0.0001〜10重量部であることが好ましい。より好ましくは0.0005〜8重量部であり、最も好ましくは0.0007〜5重量部である。硬化触媒(C)の添加量が0.0001重量部未満であると常温で硬化しない場合があり、また硬化触媒(C)の添加量が10重量部を超えると被膜の耐熱性や耐候性が悪くなる場合がある。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the curing catalyst of (C) component is 0.0001-10 weight part with respect to a total of 100 weight part of (A) component and (B) component. More preferably, it is 0.0005-8 weight part, Most preferably, it is 0.0007-5 weight part. If the addition amount of the curing catalyst (C) is less than 0.0001 parts by weight, it may not be cured at room temperature, and if the addition amount of the curing catalyst (C) exceeds 10 parts by weight, the heat resistance and weather resistance of the coating may be reduced. It may get worse.

上記のように調製されるシリコーン系コーティング剤(1)あるいは(2)には顔料や艶消し剤、フィラーなどを添加しても良い。添加する顔料種としては、カーボンブラック、キナクリドン、ナフトールレッド、シアニンブルー、シアニングリーン、ハンザイエロー等の有機顔料や、酸化チタン、硫酸バリウム、弁柄、炭酸カルシウム、アルミナ、酸化鉄赤、複合金属酸化物等の無機顔料がよく、これらの群から選ばれる1種もしくは2種以上を組み合わせて使用することができる。なかでも、耐候性を向上させるには無機顔料が好ましい。またフィラーとしてはシリカ粉や硫酸バリウム等を用いることができるものであり、上記に列挙する群から選ばれる1種もしくは2種以上を組み合わせて使用することができる。顔料やフィラーの粒径は特に限定されないが、平均粒径で0.01〜4μm程度が好ましい。   You may add a pigment, a matting agent, a filler, etc. to the silicone type coating agent (1) or (2) prepared as mentioned above. Examples of pigments to be added include organic pigments such as carbon black, quinacridone, naphthol red, cyanine blue, cyanine green, and hansa yellow, titanium oxide, barium sulfate, petal, calcium carbonate, alumina, iron oxide red, and composite metal oxide. An inorganic pigment such as a product is good, and one or two or more selected from these groups can be used in combination. Among these, inorganic pigments are preferable for improving weather resistance. Moreover, silica powder, barium sulfate, etc. can be used as a filler, and it can be used combining 1 type (s) or 2 or more types chosen from the group enumerated above. The particle diameter of the pigment or filler is not particularly limited, but is preferably about 0.01 to 4 μm in average particle diameter.

顔料の添加量は顔料の種類により隠蔽性が異なるので特に限定されないが、無機顔料の場合、樹脂固形分100重量部に対して15〜80重量部の範囲が好ましい。15重量部未満の場合は隠蔽性を十分に得ることができず、また80重量部を超えると塗膜の平滑性が悪くなるおそれがある。顔料の分散は通常の方法でおこなうことができ、またその際に分散剤、分散助剤、増粘剤、カップリング剤等を使用することが可能である。   The amount of pigment added is not particularly limited because the concealability varies depending on the type of pigment, but in the case of an inorganic pigment, a range of 15 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin solid content is preferable. When the amount is less than 15 parts by weight, the concealability cannot be sufficiently obtained, and when it exceeds 80 parts by weight, the smoothness of the coating film may be deteriorated. The pigment can be dispersed by an ordinary method, and a dispersant, a dispersion aid, a thickener, a coupling agent, and the like can be used at that time.

そして、シリコーン系コーティング剤(1)あるいは(2)に紫外線吸収剤を添加することによって、紫外線吸収性のコーティング剤を得ることができる。紫外線吸収剤としては、2(2′ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物や、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物などの有機系紫外線吸収剤や、微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンなどの無機系紫外線吸収剤を用いることができるものであり、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤とを併用することもできる。   And an ultraviolet-absorbing coating agent can be obtained by adding an ultraviolet absorber to a silicone type coating agent (1) or (2). Examples of ultraviolet absorbers include organic ultraviolet absorbers such as benzotriazole compounds such as 2 (2′hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, benzophenone compounds such as 2,4-dihydroxybenzophenone, and particulate zinc oxide. And an inorganic ultraviolet absorber such as fine particle titanium oxide can be used, and an organic ultraviolet absorber and an inorganic ultraviolet absorber can be used in combination.

有機系の紫外線吸収剤はシリコーン系コーティング剤(1)あるいは(2)に比較的容易に分散させることができる。この有機系の紫外線吸収剤の添加量は特に制限されるものではないが、シリコーン系コーティング剤(1)あるいは(2)の固形分に対して、固形分として0.1〜30重量%の範囲が好ましい。添加量が0.1重量%未満では紫外線カットによる耐候性の向上の効果が不十分になり、また30重量%を超えて添加すると有機系紫外線吸収剤の色が強くなるために好ましくない。   The organic ultraviolet absorber can be relatively easily dispersed in the silicone coating agent (1) or (2). The addition amount of the organic ultraviolet absorber is not particularly limited, but is in the range of 0.1 to 30% by weight as the solid content with respect to the solid content of the silicone coating agent (1) or (2). Is preferred. If the addition amount is less than 0.1% by weight, the effect of improving the weather resistance due to UV cut becomes insufficient, and if it exceeds 30% by weight, the color of the organic ultraviolet absorber becomes strong, which is not preferable.

無機系紫外線吸収剤である微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンについても添加量は特に制限されるものではないが、シリコーン系コーティング剤(1)あるいは(2)の固形分に対して0.1〜20重量%の範囲が好ましい。添加量が0.1重量%未満では紫外線カットによる耐候性の向上の効果が不十分になり、また20重量%を超えると白く濁ってくる。   The addition amount of fine particle zinc oxide and fine particle titanium oxide which are inorganic ultraviolet absorbers is not particularly limited, but is 0.1 to 20 with respect to the solid content of the silicone coating agent (1) or (2). A range of% by weight is preferred. If the added amount is less than 0.1% by weight, the effect of improving the weather resistance due to UV cut becomes insufficient, and if it exceeds 20% by weight, it becomes cloudy white.

ここで、紫外線吸収剤は一般に紫外線を吸収して熱に変換する働きがあり、有機系紫外線吸収剤は長期の間にこの働きは小さくなるために寿命がある。これに対して無機系紫外線吸収剤の寿命は半永久的であり、紫外線吸収剤としては微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンのような無機系紫外線吸収剤を用いるのが好ましい。しかし、微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンはシリコーン系コーティング剤(1)あるいは(2)に対する分散性が悪く、凝集して塗膜が白く濁り、この結果、紫外線カットの効果が極端に低下するおそれがある。また微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンの粉体にはいずれも光触媒作用があり、耐候性の低いアクリル樹脂やアルキッド樹脂などを用いる場合、樹脂自身が劣化して長期保存安定性が得られない。このために溶剤に微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンを分散して使用することが考えられるが、微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンは溶剤中で沈降が早く、この方法で分散性を高めることは難しい。   Here, the ultraviolet absorber generally has a function of absorbing ultraviolet light and converting it into heat, and the organic ultraviolet absorber has a lifetime because this function is reduced over a long period of time. On the other hand, the lifetime of the inorganic ultraviolet absorber is semi-permanent, and it is preferable to use an inorganic ultraviolet absorber such as fine particle zinc oxide or fine particle titanium oxide as the ultraviolet absorber. However, fine particle zinc oxide and fine particle titanium oxide have poor dispersibility in the silicone-based coating agent (1) or (2), and agglomerate and the coating film becomes cloudy white. is there. In addition, fine zinc oxide and fine titanium oxide powders have a photocatalytic action. When an acrylic resin or alkyd resin having low weather resistance is used, the resin itself deteriorates and long-term storage stability cannot be obtained. For this reason, it is conceivable to use fine zinc oxide or fine particle titanium oxide dispersed in a solvent. However, fine zinc oxide or fine particle titanium oxide settles quickly in the solvent, and it is difficult to improve the dispersibility by this method.

一方、上記の(A)のオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液に用いる一般式(RSiX4−nで表される加水分解性オルガノシランには微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンを容易に分散させることができ、この分散液は透明性に優れ、長期貯蔵安定性にも優れている。そこでこの加水分解性オルガノシランに微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンを添加して分散させた状態で使用するのが好ましい。加水分解性オルガノシランに微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンを直接添加する他に、(RSiX4−nの加水分解性オルガノシランをコロイド状シリカ中で部分加水分解して調製した(A)のオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液に微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンを添加して分散させるようにしてもよく、微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンを分散させたこのシリカ分散オリゴマー溶液をシリコーン系コーティング剤(1)あるいは(2)に添加することによって、微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンを配合したコーティング剤を調製することができる。この場合、微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンの一次粒子(凝集していない粒子)の粒径は0.01μm〜0.5μmのものであることが好ましく、(A)のオルガノシランのシリカ分散オリゴマー溶液100重量部に対して微粒子酸化亜鉛や微粒子酸化チタンは200重量部程度まで分散させることが可能である(200重量部を超えると増粘が激しくなって攪拌不能になる)。上記の分散はサンドミルやボールミル、ペイントシェーカーなど一般的な混合装置を用いておこなうことができる。またこの際に耐候性が落ちないレベルで添加助剤やフィラーを添加してもよい。 On the other hand, in the hydrolyzable organosilane represented by the general formula (R 3 ) n SiX 4-n used in the silica-dispersed oligomer solution of organosilane (A), fine zinc oxide and fine titanium oxide are easily dispersed. This dispersion is excellent in transparency and long-term storage stability. Therefore, it is preferable to use the hydrolyzable organosilane in a state in which fine particle zinc oxide or fine particle titanium oxide is added and dispersed. In addition to directly adding fine particle zinc oxide or fine particle titanium oxide to hydrolyzable organosilane, (R 3 ) n SiX 4-n hydrolyzable organosilane was prepared by partial hydrolysis in colloidal silica (A ) The silica dispersion oligomer solution of organosilane may be dispersed by adding fine particle zinc oxide or fine particle titanium oxide, and this silica dispersed oligomer solution in which fine particle zinc oxide or fine particle titanium oxide is dispersed is used as a silicone coating agent. By adding to (1) or (2), a coating agent containing fine zinc oxide or fine titanium oxide can be prepared. In this case, the primary particle (non-aggregated particles) of the fine particle zinc oxide or fine particle titanium oxide is preferably 0.01 μm to 0.5 μm, and the silica-dispersed oligomer solution of organosilane of (A) Fine zinc oxide or fine titanium oxide can be dispersed up to about 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight (when the amount exceeds 200 parts by weight, the viscosity increases and stirring becomes impossible). The dispersion can be performed using a general mixing apparatus such as a sand mill, a ball mill, or a paint shaker. At this time, an additive aid or filler may be added at a level that does not lower the weather resistance.

そして、透明基板20の表面に上記の紫外線吸収剤含有シリコーン系コーティング剤(1)または(2)を塗布して乾燥硬化させることによって紫外線吸収層14を形成することができる。このコーティング剤の塗布は、刷毛塗り方式、浸漬方式、スプレー塗布方式、ロールコート方式、ベル方式、フローコート方式、カーテンコート方式、ナイフコート方式など各種の方式で行なうことができるが、均一な厚みの塗膜を容易に得るために、スプレー塗布方式、ロールコート方式、そして回転カップを用いたベル方式のいずれかの方式で塗布を行なうのが好ましい。このように塗膜を均一な厚みで形成することによって、ムラのない塗膜の破壊伸び率を得ることができるものである。また紫外線吸収層14の膜厚は2〜15μmの範囲が好ましい。また、紫外線吸収層14の表面に上記と同様にして光触媒含有シリコーン系コーティング剤を塗布して乾燥硬化させることによって、光触媒機能層13を形成し、色素増感型太陽電池4を得ることができるものである。   And the ultraviolet absorption layer 14 can be formed by apply | coating said ultraviolet absorber containing silicone type coating agent (1) or (2) to the surface of the transparent substrate 20, and making it harden by drying. The coating agent can be applied by various methods such as brush coating method, dipping method, spray coating method, roll coating method, bell method, flow coating method, curtain coating method, knife coating method, etc., but with a uniform thickness. In order to easily obtain the coating film, it is preferable to apply by a spray coating method, a roll coating method, or a bell method using a rotating cup. By forming the coating film with a uniform thickness in this way, it is possible to obtain a uniform elongation at break of the coating film. The film thickness of the ultraviolet absorbing layer 14 is preferably in the range of 2 to 15 μm. In addition, a photocatalyst-containing silicone coating agent is applied to the surface of the ultraviolet absorbing layer 14 in the same manner as described above, followed by drying and curing, thereby forming the photocatalytic functional layer 13 and obtaining the dye-sensitized solar cell 4. Is.

図3に示す色素増感型太陽電池4を上記と同様にして建築板3の表面に取り付けることによって、図4に示す太陽電池付き建築板Aを形成することができる。そして、色素増感型太陽電池4の透明基板20の表面を被覆して紫外線吸収層14を形成した場合は、紫外線吸収層14中の紫外線吸収剤の作用(一般に紫外線を吸収して熱に変換する働き)により、紫外線吸収層14で紫外線を吸収することができ、基材1の化粧2に達しないようにすることができるものであり、これにより、基材1及び化粧2(塗膜10を含む)の退色を発生しにくくすることができる。   By attaching the dye-sensitized solar cell 4 shown in FIG. 3 to the surface of the building board 3 in the same manner as described above, the building board A with solar cells shown in FIG. 4 can be formed. When the ultraviolet absorbing layer 14 is formed by coating the surface of the transparent substrate 20 of the dye-sensitized solar cell 4, the action of the ultraviolet absorbent in the ultraviolet absorbing layer 14 (generally absorbs ultraviolet rays and converts them into heat). Therefore, the ultraviolet absorbing layer 14 can absorb ultraviolet rays so as not to reach the makeup 2 of the base material 1, and thereby the base material 1 and the makeup 2 (coating film 10). (Including the discoloration) can be made difficult to occur.

本発明の太陽電池付き建築板Aは、外壁材として用いるだけでなく、屋根材や床材あるいは幕板、雨樋などの建築部材として用いることができる。   The building board A with a solar cell of the present invention can be used not only as an outer wall material but also as a building member such as a roofing material, a flooring material, a curtain, or a rain gutter.

以下本発明を実施例によって具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples.

(実施例1)
建築板3としては、クボタ松下電工外装(株)製の製品名「キャストストライプ」を用いた。この建築板3は従来から外壁材として使用されているものであって、セメントを主成分とする窯業系の基材1の表面に凹凸柄5と塗膜10とからなる化粧2を形成したものである。
(Example 1)
As the building board 3, the product name “Cast Stripe” manufactured by Kubota Matsushita Electric Works Co., Ltd. was used. This building board 3 has been conventionally used as an outer wall material, and is formed with a makeup 2 made up of a concavo-convex pattern 5 and a coating film 10 on the surface of a ceramic base material 1 mainly composed of cement. It is.

色素増感型太陽電池4は以下のようにして作成した。透明電極22、23を有する透明基板20、21としては導電性ガラス板(日本板硝子製のFTOガラス、10Ω、サイズ100×100mm)を用いた。酸化チタンペーストとしては、Soralonix SA Ti-Nanoxide T (ソーラロニクス社製)を用いた。色素溶液としては、ルテニウム錯体[RuL2(NCS)2,L=4,4'-dicarboxy-2,2'bipyridine]のアセトニトリル/t−ブタノール50/50vol%溶液を用いた。電解質層24を形成する電解質溶液としては、溶質がLiI(0.1M)とI(0.05M)と4-tertiary-butylpyridine(0.5M)とDMPII(0.6M)であり(括弧内はモル数)、溶媒が3−メトキシプロピオンニトリルであるものを用いた。そして、まず、酸化チタンペーストを導電性ガラス板の表面にスクリーン印刷法又はスキージ法にて塗布する(酸化チタンの膜厚5〜10μm)。次に、酸化チタンペーストを塗布した導電性ガラス板を電気炉にて500℃×1.5時間焼成する。次に、この焼成した導電性ガラス板を室温まで冷却する。次に、この冷却した導電性ガラス板をルテニウム色素溶液に24時間浸漬し、導電性ガラス板の酸化チタン膜(粒子膜26)上に色素(ルテニウム錯体)25を吸着させた(ガラス板1という)。次に、上記とは異なる他の導電性ガラス板の表面に白金を蒸着させると共にこれに予め電解質溶液を注入するための孔を形成し、これを対極として準備した(ガラス板2という)。次に、ガラス板1とガラス板2とを接着し、この接着後、上記孔から電解質溶液を注入し、この後、孔を接着剤で封止した。この後、透明基板20の表面(透明電極23や粒子膜26が形成されていない方の外面)に、光触媒含有シリコーン系コーティング剤をスプレー方式で塗布し、150℃で1分間焼き付けることによって、膜厚0.5μmの光触媒機能層13を形成した。光触媒含有シリコーン系コーティング剤は次のようにして調製した。まず、メチルトリメトキシシラン100重量部に、テトラエトキシシラン10重量部、IPAオルガノシリカゾルを90重量部、ジメチルジメトキシシラン30重量部、イソプロピルアルコール(IPA)100重量部を混合した後に、水90重量部を添加し、攪拌した。これを、60℃の恒温槽中で重量平均分子量Mwを1500に調製した後、この調製した液に酸化チタンを20重量部添加して攪拌することによって、光触媒含有のシリコーン系コーティング剤を得た。これにより、図1に示すような色素増感型太陽電池4を形成した。この色素増感型太陽電池4の光透過率は60%であった。 The dye-sensitized solar cell 4 was prepared as follows. As the transparent substrates 20 and 21 having the transparent electrodes 22 and 23, conductive glass plates (FTO glass made by Nippon Sheet Glass, 10Ω, size 100 × 100 mm) were used. As the titanium oxide paste, Soralonix SA Ti-Nanoxide T (manufactured by Solaronics) was used. As the dye solution, an acetonitrile / t-butanol 50/50 vol% solution of ruthenium complex [RuL 2 (NCS) 2 , L = 4,4′-dicarboxy-2,2′bipyridine] was used. As the electrolyte solution for forming the electrolyte layer 24, the solutes are LiI (0.1M), I 2 (0.05M), 4-tertiary-butylpyridine (0.5M), and DMPII (0.6M) (in parentheses). Is the number of moles), and the solvent is 3-methoxypropiononitrile. First, a titanium oxide paste is applied to the surface of the conductive glass plate by a screen printing method or a squeegee method (thickness of titanium oxide is 5 to 10 μm). Next, the conductive glass plate coated with the titanium oxide paste is baked in an electric furnace at 500 ° C. for 1.5 hours. Next, the fired conductive glass plate is cooled to room temperature. Next, the cooled conductive glass plate was immersed in a ruthenium dye solution for 24 hours, and the dye (ruthenium complex) 25 was adsorbed on the titanium oxide film (particle film 26) of the conductive glass plate (referred to as glass plate 1). ). Next, platinum was vapor-deposited on the surface of another conductive glass plate different from the above, and a hole for injecting an electrolyte solution was previously formed thereon, and this was prepared as a counter electrode (referred to as glass plate 2). Next, the glass plate 1 and the glass plate 2 were bonded together, and after the bonding, an electrolyte solution was injected from the hole, and then the hole was sealed with an adhesive. Thereafter, the photocatalyst-containing silicone-based coating agent is applied to the surface of the transparent substrate 20 (the outer surface on which the transparent electrode 23 and the particle film 26 are not formed) by a spray method, and baked at 150 ° C. for 1 minute. A photocatalytic functional layer 13 having a thickness of 0.5 μm was formed. The photocatalyst-containing silicone coating agent was prepared as follows. First, 10 parts by weight of tetraethoxysilane, 90 parts by weight of IPA organosilica sol, 30 parts by weight of dimethyldimethoxysilane, and 100 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA) are mixed with 100 parts by weight of methyltrimethoxysilane, and then 90 parts by weight of water. Was added and stirred. After preparing a weight average molecular weight Mw of 1500 in a constant temperature bath at 60 ° C., 20 parts by weight of titanium oxide was added to the prepared liquid and stirred to obtain a photocatalyst-containing silicone coating agent. . Thereby, the dye-sensitized solar cell 4 as shown in FIG. 1 was formed. The light transmittance of this dye-sensitized solar cell 4 was 60%.

そして、上記建築板3の塗膜10の表面に上記の色素増感型太陽電池4の透明基板21の表面(光触媒機能層13が形成されていない方の透明基板21の外面)を接着剤により接着することにより本発明の太陽電池付き建築板Aを形成した。   The surface of the transparent substrate 21 of the dye-sensitized solar cell 4 (the outer surface of the transparent substrate 21 on which the photocatalytic function layer 13 is not formed) is adhered to the surface of the coating film 10 of the building board 3 with an adhesive. The building board A with a solar cell of the present invention was formed by bonding.

(実施例2)
透明基板20と光触媒機能層13との間に紫外線吸収層14を形成した以外は実施例1と同様にして太陽電池付き建築板Aを形成した。紫外線吸収剤含有のシリコーン系コーティング剤は次のようにして調製した。まず、メチルトリメトキシシラン100重量部、テトラエトシキシラン20重量部、イソプロピルアルコールオルガノシリカゾル(触媒化学化成工業株式会社製「OSCAL1432」、SiO含有量30重量%)150重量部、ジメチルジメトキシシラン40重量部及びイソプロピルアルコール100重量部を混合し、さらに水200重量部を添加して攪拌し、これを60℃の恒温槽中で重量平均分子量Mwを1200に調整することによって、ケイ素アルコキシドを調製した。次に、このケイ素アルコキシドに、紫外線吸収剤の酸化亜鉛を固形分全量に対して13重量%及びつや消し剤のコロイダルシリカを固形分全量に対して4重量%配合したシリコーン系コーティング剤を得た。この紫外線吸収剤及びつや消し剤を配合したシリコーン系コーティング剤を透明基板20の表面(透明電極23や粒子膜26が形成されていない方の外面)にバーコーターで塗布し、焼付けエネルギーが5000℃・secになる条件で焼き付けることによって、膜厚4μmの無機塗膜の紫外線吸収層14を形成した。この後、紫外線吸収層14の表面に上記と同様にして、光触媒含有シリコーン系コーティング剤を塗布して硬化させることによって、光触媒機能層13を形成した。この色素増感型太陽電池4の光透過率は60%であった。
(Example 2)
A building board A with solar cells was formed in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet absorbing layer 14 was formed between the transparent substrate 20 and the photocatalytic functional layer 13. A silicone-based coating agent containing an ultraviolet absorber was prepared as follows. First, 100 parts by weight of methyltrimethoxysilane, 20 parts by weight of tetraethoxysilane, 150 parts by weight of isopropyl alcohol organosilica sol (“OSCAL1432” manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., SiO 2 content 30% by weight), 40 parts by weight of dimethyldimethoxysilane And 100 parts by weight of isopropyl alcohol were mixed, 200 parts by weight of water was further added and stirred, and a silicon alkoxide was prepared by adjusting the weight average molecular weight Mw to 1200 in a thermostatic bath at 60 ° C. Next, a silicone-based coating agent was obtained by blending the silicon alkoxide with 13% by weight of zinc oxide as an ultraviolet absorber with respect to the total amount of solids and 4% by weight of colloidal silica as a matting agent with respect to the total amount of solids. A silicone-based coating agent containing this ultraviolet absorber and matting agent is applied to the surface of the transparent substrate 20 (the outer surface on which the transparent electrode 23 and the particle film 26 are not formed) with a bar coater, and the baking energy is 5000 ° C. The ultraviolet absorbing layer 14 of an inorganic coating film having a film thickness of 4 μm was formed by baking under the conditions of sec. Thereafter, the photocatalyst functional layer 13 was formed by applying and curing a photocatalyst-containing silicone coating agent on the surface of the ultraviolet absorbing layer 14 in the same manner as described above. The light transmittance of this dye-sensitized solar cell 4 was 60%.

そして、実施例1と同様にして上記建築板3の塗膜10の表面に上記の色素増感型太陽電池4の透明基板21の表面(光触媒機能層13が形成されていない方の透明基板21の外面)を接着剤により接着することにより本発明の太陽電池付き建築板Aを形成した。   In the same manner as in Example 1, the surface of the transparent substrate 21 of the dye-sensitized solar cell 4 on the surface of the coating film 10 of the building board 3 (the transparent substrate 21 on which the photocatalytic function layer 13 is not formed). The building board A with a solar cell of the present invention was formed by adhering the outer surface of the solar cell with an adhesive.

(比較例1)
光触媒機能層13を形成しないようにした色素増感型太陽電池4を用いた以外は実施例1と同様にして太陽電池付き建築板を形成した。
(Comparative Example 1)
A building board with a solar cell was formed in the same manner as in Example 1 except that the dye-sensitized solar cell 4 in which the photocatalytic function layer 13 was not formed was used.

上記の実施例1、2及び比較例1において、色素増感型太陽電池を透して建築板3の化粧2を見たときの外観の意匠性を評価した。意匠性の評価の基準は、建築板3の化粧2の柄や色が鮮明に視認できるものを○と、建築板3の化粧2の柄や色が鮮明に視認できないものを×と評価した。また、実施例1、2及び比較例1において、照射光量100mW/cmの光を色素増感型太陽電池4に照射したときの発電量(W)を測定した。また、実施例1、2及び比較例1において、耐汚れ性試験を行った。この試験は太陽電池付き建築板の色素増感型太陽電池の光触媒機能層13の表面に5%カーボン液を塗布し、その塗布前後での色を色彩測定装置CR−400(コニカミノルタ製)で測定した。そして、5%カーボン液の塗布前後での色差ΔEが3以下で汚れが少ない場合を○と、5%カーボン液の塗布前後での色差ΔEが3より大きく汚れが多い場合を×と評価した。また、実施例1、2及び比較例1において、上記の耐汚れ性試験後の色素増感型太陽電池4の可視光透過率を紫外可視分光光度計により測定した(UV−VIS測定)。そして、5%カーボン液の塗布前後での可視光透過率の低下が20%以下の場合を○と、5%カーボン液の塗布前後での可視光透過率の低下が20%より大きい場合を×と評価した。尚、比較のため、実施例1において、色素増感型太陽電池4を用いなかったもの(すなわち建築板3のみ)と、建築板3を用いなかったもの(すなわち色素増感型太陽電池4のみ)とを比較例2、3として併せて評価した。結果を表1に示す。 In Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 described above, the design of the appearance when the makeup 2 of the building board 3 was seen through the dye-sensitized solar cell was evaluated. The criteria for the evaluation of the design were evaluated as ○ when the pattern and color of the makeup 2 of the building board 3 were clearly visible, and × when the pattern and color of the makeup 2 of the building board 3 were not clearly visible. In Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, the power generation amount (W) when the dye-sensitized solar cell 4 was irradiated with light having an irradiation light amount of 100 mW / cm 2 was measured. In Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, a stain resistance test was performed. In this test, 5% carbon liquid was applied to the surface of the photocatalytic functional layer 13 of the dye-sensitized solar cell of the building board with solar cell, and the color before and after the application was measured with a color measuring device CR-400 (manufactured by Konica Minolta). It was measured. Then, the case where the color difference ΔE before and after the application of the 5% carbon liquid was 3 or less and the stain was small was evaluated as ◯, and the case where the color difference ΔE before and after the application of the 5% carbon solution was larger than 3 and the stain was large was evaluated as x. In Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, the visible light transmittance of the dye-sensitized solar cell 4 after the stain resistance test was measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-VIS measurement). A case where the decrease in visible light transmittance before and after the application of the 5% carbon liquid is 20% or less and a case where the decrease in visible light transmittance before and after the application of the 5% carbon liquid is greater than 20% It was evaluated. For comparison, in Example 1, the dye-sensitized solar cell 4 was not used (that is, only the building board 3) and the building board 3 was not used (that is, only the dye-sensitized solar cell 4). And Comparative Examples 2 and 3 were evaluated together. The results are shown in Table 1.

Figure 2008112705
Figure 2008112705

本発明の色素増感型太陽電池の実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of the dye-sensitized solar cell of this invention. 本発明の太陽電池付き建築板の実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of the building board with a solar cell of this invention. 本発明の色素増感型太陽電池の他の実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of other embodiment of the dye-sensitized solar cell of this invention. 本発明の太陽電池付き建築板の他の実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of other embodiment of the building board with a solar cell of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

A 太陽電池付き建築板
3 建築板
4 色素増感型太陽電池
13 光触媒機能層
14 紫外線吸収層
20 透明基板
21 透明基板
22 透明電極
23 透明電極
24 電解質層
26 粒子膜
A Building board with solar cell 3 Building board 4 Dye-sensitized solar cell 13 Photocatalytic functional layer 14 Ultraviolet absorbing layer 20 Transparent substrate 21 Transparent substrate 22 Transparent electrode 23 Transparent electrode 24 Electrolyte layer 26 Particle film

Claims (5)

対向配置された一対の透明基板の間に、透明電極と電解質層と粒子膜とを備えて形成される色素増感型太陽電池において、少なくとも一方の透明基板の表面に光触媒機能層を設けて成ることを特徴とする色素増感型太陽電池。   In a dye-sensitized solar cell formed with a transparent electrode, an electrolyte layer, and a particle film between a pair of opposed transparent substrates, a photocatalytic function layer is provided on the surface of at least one transparent substrate. A dye-sensitized solar cell characterized by the above. 請求項1に記載の色素増感型太陽電池を、その光触媒機能層が外方に位置するように建築板の表面側に設けて成ることを特徴とする太陽電池付き建築板。   A building board with a solar cell, wherein the dye-sensitized solar cell according to claim 1 is provided on the surface side of the building board so that the photocatalytic functional layer is located outward. 光触媒機能層が無機質塗膜であることを特徴とする請求項2に記載の太陽電池付き建築板。   The building board with solar cells according to claim 2, wherein the photocatalytic functional layer is an inorganic coating film. 透明基板と光触媒機能層との間に無機質の紫外線吸収層を設けて成ることを特徴とする請求項2又は3に記載の太陽電池付き建築板。   The building board with solar cell according to claim 2 or 3, wherein an inorganic ultraviolet absorbing layer is provided between the transparent substrate and the photocatalytic functional layer. 色素増感型太陽電池が透明性を有すると共に建築板の表面に化粧を施して成ることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の太陽電池付き建築板。
5. The building board with solar cells according to claim 2, wherein the dye-sensitized solar cell has transparency and is decorated on the surface of the building board. 6.
JP2006296629A 2006-10-31 2006-10-31 Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell Pending JP2008112705A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006296629A JP2008112705A (en) 2006-10-31 2006-10-31 Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006296629A JP2008112705A (en) 2006-10-31 2006-10-31 Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008112705A true JP2008112705A (en) 2008-05-15

Family

ID=39445096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006296629A Pending JP2008112705A (en) 2006-10-31 2006-10-31 Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008112705A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010123556A (en) * 2008-11-21 2010-06-03 Hiroshi Kitamura Substrate (case) for dye-sensitized solar cell
JP2013191401A (en) * 2012-03-14 2013-09-26 Sanyu Rec Co Ltd Dye-sensitized solar cell
CN103911915A (en) * 2014-03-31 2014-07-09 宋旭 Wallpaper with photoelectric conversion function and preparation method of wallpaper

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0867835A (en) * 1994-08-31 1996-03-12 Matsushita Electric Works Ltd Antimicrobial inorganic coating
JP2003298087A (en) * 2002-03-29 2003-10-17 Matsushita Electric Works Ltd Solar cell system
JP2003308892A (en) * 2002-04-18 2003-10-31 Bridgestone Corp Organic pigment sensitizing metal oxide semiconductor electrode and organic pigment sensitizing solar battery
JP2004222225A (en) * 2002-11-20 2004-08-05 Sony Corp Portable communication device
JP2005104760A (en) * 2002-09-30 2005-04-21 Showa Denko Kk Metal oxide structure containing titanium oxide, method for producing the same, and use of the same
JP2006024477A (en) * 2004-07-08 2006-01-26 Aisin Seiki Co Ltd Dye-sensitized solar battery and mounting method of the same
JP2006090061A (en) * 2004-09-27 2006-04-06 Matsushita Electric Works Ltd Decoration panel

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0867835A (en) * 1994-08-31 1996-03-12 Matsushita Electric Works Ltd Antimicrobial inorganic coating
JP2003298087A (en) * 2002-03-29 2003-10-17 Matsushita Electric Works Ltd Solar cell system
JP2003308892A (en) * 2002-04-18 2003-10-31 Bridgestone Corp Organic pigment sensitizing metal oxide semiconductor electrode and organic pigment sensitizing solar battery
JP2005104760A (en) * 2002-09-30 2005-04-21 Showa Denko Kk Metal oxide structure containing titanium oxide, method for producing the same, and use of the same
JP2004222225A (en) * 2002-11-20 2004-08-05 Sony Corp Portable communication device
JP2006024477A (en) * 2004-07-08 2006-01-26 Aisin Seiki Co Ltd Dye-sensitized solar battery and mounting method of the same
JP2006090061A (en) * 2004-09-27 2006-04-06 Matsushita Electric Works Ltd Decoration panel

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010123556A (en) * 2008-11-21 2010-06-03 Hiroshi Kitamura Substrate (case) for dye-sensitized solar cell
JP2013191401A (en) * 2012-03-14 2013-09-26 Sanyu Rec Co Ltd Dye-sensitized solar cell
CN103911915A (en) * 2014-03-31 2014-07-09 宋旭 Wallpaper with photoelectric conversion function and preparation method of wallpaper

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008112704A (en) Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell
JP4461656B2 (en) Photoelectric conversion element
EP1447433B1 (en) Coating material composition and article having coating film formed therewith
TWI481677B (en) Near-infrared shield coating agent which is curable with ordinary temperature and the near-infrared shield coating prepared using the same and the process for preparing the coating
WO2001003232A1 (en) Photoelectric cell
JP4100863B2 (en) Photoelectric cell
JP4199490B2 (en) Coating material composition
JP2007035594A (en) Photoelectric cell
JP5108278B2 (en) Building board with solar cell
JP2008112705A (en) Dye-sensitization solar cell and construction board provided with solar cell
JP4376511B2 (en) Photoelectric cell
JP4637474B2 (en) Dye-sensitized solar cell
JP4820152B2 (en) Composite coating structure and painted exterior materials
JP2006012490A (en) Mixed aqueous solution for semiconductor electrode, semiconductor electrode, photoelectric conversion element, solar cell, and manufacturing method for them
JP2003298087A (en) Solar cell system
JP4650660B2 (en) Mixed aqueous solution for semiconductor electrode, semiconductor electrode, photoelectric conversion element, solar cell, and production method thereof
JP2008111321A (en) Building board with solar cell
JP2001102101A (en) Photoelectric cell
JP2014024908A (en) Composition for ultraviolet absorption member, and ultraviolet adsorption member obtained by using the same
JP4397013B2 (en) Photocatalyst composition
JP3016520B2 (en) Method for producing hybrid particles
JP2004209345A (en) Photocatalyst composition and photocatalyst body formed from the same
CN103380535A (en) Dye-sensitized solar cell for low light intensities
JP4195951B2 (en) Milky white glass globe for lighting and lighting device
JP2001325998A (en) Manufacturing method of pigment sensitization type solar battery

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120710

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120910

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121009

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121210

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130108