JP2008098257A - Connection structure - Google Patents

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Masanari Mikage
勝成 御影
Kosuke Miura
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a connection structure capable of being reduced in thickness and size while maintaining connection reliability of a flexible wiring board etc. <P>SOLUTION: The connection structure has a rigid printed wiring board 12 in which a wiring 11 having protrusions 13 is formed, a flexible printed wiring board 22 in which a wiring 21 having protrusions 23 is formed, and an anisotropic conductive sheet 30 having through electrodes 36. The protrusions 13, 23 are fitted to the common through electrodes 36, and this configuration allows the printed wiring boards 12, 22 to be firmly connected. Either the protrusions 13, 23 or the through hole 36 is tapered to enable a smooth fitting operation. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、携帯電話等の各種電気機器に用いられる配線同士、特にフレキシブル配線板を他のプリント配線板に接続するための接続構造に関する。   The present invention relates to a connection structure for connecting wirings used in various electric devices such as a mobile phone, in particular, a flexible wiring board to another printed wiring board.

従来より、特に携帯電話等の小型軽量電気機器には、フィルム状配線体、いわゆるフレキシブル配線板が配置されることが多い。フレキシブル配線板は、携帯電話などの開閉機構や回転機構を有する機器中の電気的接続を行うために、極めて便利なものであることから、近年使用頻度が高まっている。フレキシブル配線板は、可撓性に富む反面、剛体構造のリジッド配線板とは異なり、コネクタの挿入口に挿入する際の挿入力を大きくすることは困難である。そこで、フレキシブル配線板を他の配線板に接続する接続構造(コネクタ)として、無挿入力コネクタ(ZIF:Zero Interpose Force)が汎用されている(特許文献1,2参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, film-shaped wiring bodies, so-called flexible wiring boards, are often arranged particularly in small and light electrical devices such as mobile phones. In recent years, flexible wiring boards have been used more frequently because they are very convenient for electrical connection in devices having an opening / closing mechanism and a rotating mechanism such as a mobile phone. The flexible wiring board is rich in flexibility, but unlike a rigid wiring board having a rigid structure, it is difficult to increase the insertion force when the flexible wiring board is inserted into the insertion port of the connector. Therefore, a non-insertion force connector (ZIF: Zero Interpose Force) is widely used as a connection structure (connector) for connecting a flexible wiring board to another wiring board (see Patent Documents 1 and 2).

図7(a),(b)は、一般的なZIF構造のコネクタの構造を示す平面図、および側面図である。同図に示すように、リジッドプリント配線板において、配線101が形成された剛体構造のリジッド基板100の上にZIFコネクタ110が配置されている。フレキシブルプリント配線板においては、フレキシブル基板200の上に配線201が形成されている。ZIFコネクタ110には、配線101に各々接続される金属ワイヤ状の複数の接触子103が設けられている。接触子103は、側方から見てコ字状に設けられおり、そのうち上側先端部は、鈎状となっている。接続を行う際には、フレキシブルプリント配線板は、ZIFコネクタ110の接触子103のコ字状開口部に、ほとんど無挿入力で挿入される。そして、接触子103と配線201とを接触させた状態でロック部105を軸106の回りに回動させて、接触子103の鈎状の上側先端部をフレキシブル基板200に食い込ませるように押圧することで、配線同士の接続が完了する。ロック部105は、その先端部が最下方まで移動したときにZIFコネクタ110の側方に延びる両腕部によって係止される。   FIGS. 7A and 7B are a plan view and a side view showing the structure of a general ZIF connector. As shown in the figure, in a rigid printed wiring board, a ZIF connector 110 is disposed on a rigid substrate 100 having a rigid structure on which wirings 101 are formed. In the flexible printed wiring board, wiring 201 is formed on a flexible substrate 200. The ZIF connector 110 is provided with a plurality of metal wire-like contacts 103 each connected to the wiring 101. The contact 103 is provided in a U shape when viewed from the side, and an upper end portion of the contact 103 has a hook shape. When connecting, the flexible printed wiring board is inserted into the U-shaped opening of the contact 103 of the ZIF connector 110 with almost no insertion force. Then, in a state where the contact 103 and the wiring 201 are in contact with each other, the lock portion 105 is rotated around the shaft 106 to press the hook-shaped upper end portion of the contact 103 into the flexible substrate 200. This completes the connection between the wirings. The lock portion 105 is locked by both arm portions extending to the side of the ZIF connector 110 when the tip end portion moves to the lowest position.

上記ZIFコネクタ110の作動により、フレキシブル基板200上の配線201と、マザーボードであるリジッド基板100上の配線101とが電気的に接続された状態となる。そして、接触子103とフレキシブル基板200上の配線201との接続状態が保持されるように、フレキシブルプリント配線板が把持された状態になる。特許文献1,2には、ロック部105や接触子103の各種構造が開示されている。   By the operation of the ZIF connector 110, the wiring 201 on the flexible substrate 200 and the wiring 101 on the rigid substrate 100 which is a mother board are electrically connected. Then, the flexible printed wiring board is held so that the connection state between the contact 103 and the wiring 201 on the flexible substrate 200 is maintained. Patent Documents 1 and 2 disclose various structures of the lock portion 105 and the contact 103.

特公平6−65090号公報Japanese Patent Publication No. 6-65090 特公平7−24230号公報Japanese Patent Publication No. 7-24230

しかるに、最近のように、携帯電話等の各種電気機器類の小型化の進展に伴い、ZIFコネクタの薄型化,小型化が求められると、上記ZIFコネクタ110における電気的な接続の信頼性を維持することが困難となってきている。   However, as the recent trend toward miniaturization of various electric devices such as mobile phones, when the ZIF connector is required to be thinner and smaller, the reliability of electrical connection in the ZIF connector 110 is maintained. It has become difficult to do.

すなわち、ワイヤ状の接触子103や、接触子103を支持する部分の厚みや幅寸法を、形状を設定状態に保つための機械的強度を保ちつつ、低減すること自体に限界がある。   That is, there is a limit to reducing the wire-like contactor 103 and the thickness and width dimension of the portion supporting the contactor 103 while maintaining the mechanical strength for keeping the shape in the set state.

また、ZIFコネクタ110や接触子103などの厚みや幅寸法を低減すると、上記ZIFコネクタ110の接触子103によるフレキシブルプリント配線板の把持力を十分高く維持することが困難である。反面、この把持力を十分高く維持して接続の信頼性を確保しようとすると、ZIFコネクタ100の薄型化,小型化が困難である。たとえば、配線101,201の幅が0.1mm程度で、挟ピッチ化によって配線間の隙間が0.1mm程度になると、接触子103の幅もそれに対応させる必要が生じるが、その場合には、把持力が弱くなって、フレキシブルプリント配線板が非常に外れやすい。   Further, if the thickness and width dimension of the ZIF connector 110 and the contact 103 are reduced, it is difficult to maintain the gripping force of the flexible printed wiring board by the contact 103 of the ZIF connector 110 sufficiently high. On the other hand, if this gripping force is maintained sufficiently high to ensure connection reliability, it is difficult to make the ZIF connector 100 thinner and smaller. For example, when the width of the wirings 101 and 201 is about 0.1 mm and the gap between the wirings is about 0.1 mm due to the narrow pitch, the width of the contact 103 needs to correspond to that, but in that case, The gripping force is weakened and the flexible printed wiring board is very likely to come off.

上述のような不具合は、フレキシブルプリント配線板とリジッドプリント配線板との接続だけでなく、フレキシブルプリント配線板同士の接続においても生じており、かつ、各種フレキシブル配線板についても生じうる。   The above-described problems occur not only in the connection between the flexible printed wiring board and the rigid printed wiring board but also in the connection between the flexible printed wiring boards, and may also occur in various flexible wiring boards.

本発明の目的は、フレキシブル配線板と他の配線板との電気的接続を保持するための接続構造として、薄型化,小型化が可能で、かつ、接続の信頼性を維持することが可能な構造を提供することにある。   An object of the present invention is to reduce the thickness and size of a connection structure for maintaining an electrical connection between a flexible wiring board and another wiring board, and to maintain connection reliability. To provide a structure.

本発明の接続構造は、配線上に突起部を設けた2つの配線体の間に、筒状の貫通電極を有する板状の中間部材を挟んで、相対応する配線の突起部を共通の貫通電極の両端部にそれぞれ嵌合させたものである。   In the connection structure of the present invention, a plate-like intermediate member having a cylindrical through electrode is sandwiched between two wiring bodies provided with a protruding portion on the wiring, and the corresponding protruding portion of the wiring is shared through The electrode is fitted to both ends of the electrode.

これにより、貫通電極と突起部との嵌合による把持力で2つの配線体が互いに連結されるので、従来のZIFコネクタが不要になる。したがって、接続構造全体の厚みや幅寸法を低減することができ、よって、薄型化,小型化の進展に対応することができる。   As a result, the two wiring bodies are connected to each other by the gripping force generated by the fitting between the through electrode and the protrusion, so that the conventional ZIF connector becomes unnecessary. Therefore, the thickness and width dimension of the entire connection structure can be reduced, and therefore it is possible to cope with the progress of thinning and miniaturization.

突起部または貫通電極の嵌合部のうちいずれか一方の嵌合部分が、テーパを有していることにより、2つの配線体の突起部を貫通電極に嵌合させることが容易になる。   Since either one of the protrusions or the fitting part of the through electrode has a taper, it becomes easy to fit the protrusions of the two wiring bodies to the through electrode.

中間部材が弾性体であることにより、嵌合部における中間部材による突起部の把持力が高くなり、接続の信頼性を確保することができる。   When the intermediate member is an elastic body, the gripping force of the protrusion by the intermediate member in the fitting portion is increased, and connection reliability can be ensured.

中間部材が、複数の微細孔を有する多孔質樹脂を基材とし、貫通電極が基材の各微細孔内を含む内壁部に形成されている構造を採ることにより、中間部材の弾性を保持しつつ、貫通電極における導通不良の発生を抑制することができ、接続の信頼性をより高めることができる。   The intermediate member retains the elasticity of the intermediate member by adopting a structure in which a porous resin having a plurality of micropores is used as a base material and a through electrode is formed on an inner wall portion including the inside of each micropore of the base material. On the other hand, the occurrence of poor conduction in the through electrode can be suppressed, and the connection reliability can be further improved.

本発明の接続構造は、第1の配線体および第2の配線体のうち、少なくともいずれか一方がフレキシブル配線板である場合に、特に効果がある。   The connection structure of the present invention is particularly effective when at least one of the first wiring body and the second wiring body is a flexible wiring board.

本発明の接続構造によると、従来のZIFコネクタではなく、貫通電極を有する板状の中間部材を用いる構造としたので、薄型化,小型化の進展に対応することができる。   According to the connection structure of the present invention, since a plate-like intermediate member having a through electrode is used instead of the conventional ZIF connector, it is possible to cope with the progress of thinning and miniaturization.

(実施の形態1)
−接続構造全体の構造−
図1は、実施の形態1に係る第1の配線体であるリジッドプリント配線板12の平面図である。リジッドプリント配線板12は、一般的には、ガラスエポキシ樹脂等からなるリジッド基板10の上に配線11を形成したものである。リジッド基板10としては、ガラスエポキシ板に限らず、紙フェノール板,紙エポキシ板,フッ素樹脂板,アルミナ板等が用いられる。配線11の材料としては、銅合金を用いるのが一般的であるが、これに限定されるものではない。本実施の形態においては、さらに、配線10の上に、部分円錐状の突起部13が形成されている。本実施の形態においては、突起部13の外周にテーパが設けられているが、必ずしもテーパがなくてもよい。つまり、ストレート円柱状の突起部であっても、後述する貫通電極との嵌合が可能であれば、本発明の基本的な効果を発揮することができる。
(Embodiment 1)
-Overall structure of the connection structure-
FIG. 1 is a plan view of a rigid printed wiring board 12 which is a first wiring body according to the first embodiment. The rigid printed wiring board 12 is generally a wiring board 11 formed on a rigid substrate 10 made of glass epoxy resin or the like. The rigid substrate 10 is not limited to a glass epoxy plate but may be a paper phenol plate, a paper epoxy plate, a fluororesin plate, an alumina plate, or the like. As a material for the wiring 11, a copper alloy is generally used, but is not limited thereto. In the present embodiment, a partial conical protrusion 13 is further formed on the wiring 10. In the present embodiment, a taper is provided on the outer periphery of the protrusion 13, but the taper may not necessarily be provided. That is, even if it is a straight columnar projection, the basic effect of the present invention can be exhibited as long as it can be fitted with a through electrode described later.

図2は、実施の形態1に係る第2の配線体であるフレキシブルプリント配線板22の平面図である。フレキシブルプリント配線板22は、一般的には、ポリイミド樹脂等からなるフレキシブル基板20の上に配線21を形成したものである。フレキシブル基板20としては、ポリイミド板に限らず、ポリエステル板(低温使用),ガラスエポキシ板(薄板)等が用いられる。配線21の材料としては、銅合金を用いるのが一般的であるが、これに限定されるものではない。本実施の形態においては、さらに、配線20の上に、部分円錐状の突起部23が形成されている。本実施の形態においては、突起部23の外周にテーパが設けられているが、必ずしもテーパがなくてもよい。つまり、ストレート円柱状の突起部であっても、後述する貫通電極との嵌合が可能であれば、本発明の基本的な効果を発揮することができる。   FIG. 2 is a plan view of the flexible printed wiring board 22 which is the second wiring body according to the first embodiment. The flexible printed wiring board 22 is generally a wiring board 21 formed on a flexible substrate 20 made of polyimide resin or the like. As the flexible substrate 20, not only a polyimide plate but also a polyester plate (low temperature use), a glass epoxy plate (thin plate), or the like is used. The material of the wiring 21 is generally a copper alloy, but is not limited to this. In the present embodiment, a partial conical projection 23 is further formed on the wiring 20. In the present embodiment, a taper is provided on the outer periphery of the protrusion 23, but the taper may not necessarily be provided. That is, even if it is a straight columnar projection, the basic effect of the present invention can be exhibited as long as it can be fitted to a through electrode described later.

図3(a),(b)は、本発明の実施の形態に係る接続構造の接続前、および接続後の構造を示す断面図である。図3(a)に示すように、接続構造は、リジッドプリント配線板12と、フレキシブルプリント配線板22と、貫通電極36を有する中間部材である異方導電性シート30(後に詳細に説明する)とを備えている。図3(a)に示す状態では、異方導電性シート30をリジッド基板10上に設置した後押圧することにより、配線11上の突起部13が、貫通電極36の筒状の貫通電極36に嵌合されている。   3A and 3B are cross-sectional views showing the structure before and after connection of the connection structure according to the embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3A, the connection structure includes an anisotropic conductive sheet 30 that is an intermediate member having a rigid printed wiring board 12, a flexible printed wiring board 22, and a through electrode 36 (described in detail later). And. In the state shown in FIG. 3A, the anisotropic conductive sheet 30 is placed on the rigid substrate 10 and then pressed, so that the protruding portion 13 on the wiring 11 becomes the cylindrical through electrode 36 of the through electrode 36. It is mated.

そして、図3(b)に示すように、フレキシブルプリント配線板22を異方導電性シート30の所定の位置に設置した状態で、フレキシブルプリント配線板22を押圧することにより、配線21上の突起部23が、異方導電性シート30の筒状の貫通電極36に嵌合される。   Then, as shown in FIG. 3 (b), by pressing the flexible printed wiring board 22 in a state where the flexible printed wiring board 22 is installed at a predetermined position on the anisotropic conductive sheet 30, a protrusion on the wiring 21 is obtained. The part 23 is fitted into the cylindrical through electrode 36 of the anisotropic conductive sheet 30.

上述の動作において、異方導電性シート30やフレキシブルプリント配線板22を押圧する手段は、周知慣用の手段、たとえばネジによる締め付け力を利用した機構、油圧もしくは空圧を利用したシリンダ機構など、を用いることができる。また、リペアなどのために、嵌合状態を解除したいときは、連結部を加熱すれば、容易にフレキシブルプリント配線板22等の取り外しができる。そして、リジッドプリント配線板12とフレキシブルプリント配線板22との連結が完了した後は、押圧手段は不要となるので、従来のようなロック機構を有するZIFコネクタは不要である。ただし、常時2つの配線体および中間部材を押圧しておくための簡素な押圧手段を付設しておいてもよい。   In the above-described operation, means for pressing the anisotropic conductive sheet 30 and the flexible printed wiring board 22 are known and commonly used means such as a mechanism using a tightening force by a screw, a cylinder mechanism using hydraulic pressure or pneumatic pressure, and the like. Can be used. Further, when it is desired to release the fitted state for repair or the like, the flexible printed wiring board 22 or the like can be easily removed by heating the connecting portion. Then, after the connection between the rigid printed wiring board 12 and the flexible printed wiring board 22 is completed, the pressing means becomes unnecessary, and thus a conventional ZIF connector having a lock mechanism is unnecessary. However, simple pressing means for always pressing the two wiring bodies and the intermediate member may be provided.

ここで、各配線11(または21)における突起部13(または23)の数は、本実施の形態では複数個(8個)であるが、必ずしも複数個必要ではなく、1本の配線について1つの突起部だけでもよい。本実施の形態では、貫通電極36の内径は、30〜200μm程度であるが、異方導電シート30としては、貫通電極36の内径は10μm以下でも可能である。貫通電極36の厚み、つまり、異方導電性シート30の厚みは、0.1〜0.5mm程度である。配線幅が大きい機種で、内径が200μm程度の貫通電極36を用いる場合には、1本の配線について1つの突起部同士を、1つの貫通電極36の両端部に嵌合させることにより、両プリント配線板13,23に対する把持力を高く保つことができる。   Here, the number of protrusions 13 (or 23) in each wiring 11 (or 21) is a plurality (eight) in the present embodiment, but the number is not necessarily required, and one for one wiring. Only one protrusion may be used. In the present embodiment, the inner diameter of the through electrode 36 is about 30 to 200 μm. However, as the anisotropic conductive sheet 30, the inner diameter of the through electrode 36 may be 10 μm or less. The thickness of the through electrode 36, that is, the thickness of the anisotropic conductive sheet 30 is about 0.1 to 0.5 mm. In the case of using a through electrode 36 having a large wiring width and an inner diameter of about 200 μm, both projections are fitted to both end portions of one through electrode 36 by fitting one projection portion with respect to one wiring. The gripping force for the wiring boards 13 and 23 can be kept high.

−異方導電性シートの構造−
図6(a)〜(e)は、異方導線性シートの製造工程を示す断面図である。以下、図6(a)〜(e)を参照しつつ、異方導電性シートの製造工程について説明する。図6(a)に示す工程では、多孔質PTFE膜であるフレーム板30aを準備する。一般に、合成樹脂を用いて多孔質膜を作製する方法としては、造孔法、相分離法、溶媒抽出法、延伸法、レーザ照射法などが挙げられる。合成樹脂を用いて多孔質膜を形成することにより、板厚方向に弾性を持たせることができるとともに、誘電率をさらに下げることができる。特に、延伸法により得られた多孔質膜(本実施の形態では多孔質PTFE膜)は、耐熱性、加工性、機械的特性、誘電特性などに優れ、しかも均一な孔径分布を有する多孔質膜が得られ易いため、異方導電性シートの基材には最適の材料である。
-Structure of anisotropic conductive sheet-
6 (a) to 6 (e) are cross-sectional views showing a manufacturing process of the anisotropic conductive sheet. Hereinafter, the manufacturing process of the anisotropic conductive sheet will be described with reference to FIGS. In the step shown in FIG. 6A, a frame plate 30a that is a porous PTFE membrane is prepared. Generally, methods for producing a porous film using a synthetic resin include a pore making method, a phase separation method, a solvent extraction method, a stretching method, a laser irradiation method, and the like. By forming a porous film using a synthetic resin, elasticity can be given in the plate thickness direction and the dielectric constant can be further lowered. In particular, the porous film obtained by the stretching method (porous PTFE film in the present embodiment) is excellent in heat resistance, processability, mechanical characteristics, dielectric characteristics, etc., and has a uniform pore size distribution. Therefore, it is an optimum material for the base material of the anisotropic conductive sheet.

本実施の形態の多孔質PTFE膜は、例えば、特公昭42−13560号公報に記載の方法により製造することができる。まず、PTFEの未焼結粉末に液体潤滑剤を混合し、ラム押し出しによってチューブ状または板状に押し出す。厚みの薄いシートが所望な場合は、圧延ロールによって板状体の圧延を行う。押出圧延工程の後、必要に応じて、押出品または圧延品から液体潤滑剤を除去する。こうして得られた押出品または圧延品を少なくとも一軸方向に延伸すると、未焼結の多孔質PTFEが膜状で得られる。未焼結の多孔質PTFE膜は、収縮が起こらないように固定しながら、PTFEの融点である327℃以上の温度に加熱して、延伸した構造を焼結・固定すると、強度の高い多孔質PTFE膜が得られる。多孔質PTFE膜がチューブ状である場合には、チューブを切り開くことにより、平らな膜にすることができる。   The porous PTFE membrane of the present embodiment can be produced by, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 42-13560. First, a liquid lubricant is mixed with the unsintered powder of PTFE, and extruded into a tube shape or a plate shape by ram extrusion. When a thin sheet is desired, the plate is rolled with a rolling roll. After the extrusion rolling process, the liquid lubricant is removed from the extruded product or the rolled product as necessary. When the extruded product or the rolled product thus obtained is stretched at least in a uniaxial direction, unsintered porous PTFE is obtained in the form of a film. An unsintered porous PTFE membrane is highly porous when heated and stretched to a temperature of 327 ° C. or higher, which is the melting point of PTFE, while being fixed so that shrinkage does not occur. A PTFE membrane is obtained. When the porous PTFE membrane is in a tube shape, a flat membrane can be obtained by opening the tube.

次に、図6(b)に示す工程では、延伸法により得られた多孔質PTFE膜であるフレーム板30aの両面に、マスク膜31,32を融着させて3層構成の積層体33を形成し、積層体33全体に貫通孔35を形成する(破線参照)。マスク膜31,32は、フレーム板30aと同じ材質のPTFE膜、好ましくは多孔質PTFE膜を用いる。このとき、たとえば、積層された3枚の多孔質PTFE膜の両面を2枚のステンレス板で挟み、各ステンレス板を高温に加熱することにより、3層の多孔質PTFE膜を互いに融着させることができる。   Next, in the step shown in FIG. 6 (b), the mask films 31 and 32 are fused to both surfaces of the frame plate 30a, which is a porous PTFE film obtained by the stretching method, to form a laminate 33 having a three-layer structure. The through-hole 35 is formed in the whole laminated body 33 (refer to a broken line). As the mask films 31 and 32, a PTFE film made of the same material as that of the frame plate 30a, preferably a porous PTFE film is used. At this time, for example, three layers of porous PTFE membranes are fused to each other by sandwiching both surfaces of three laminated porous PTFE membranes with two stainless steel plates and heating each stainless steel plate to a high temperature. Can do.

一般に、合成樹脂の特定位置の膜厚方向に貫通孔を形成する方法としては、例えば、化学エッチング法、熱分解法、レーザ光や軟X線照射によるアブレーション法、超音波法などが挙げられる。延伸法による多孔質PTFE膜からなる積層体33については、シンクロトロン放射光または波長250nm以下のレーザ光を照射する方法、及び超音波法が好ましい。レーザ方法による貫通孔35の径は、一般的には、5〜100μm程度である。本実施の形態では、貫通孔35の径は30〜200μmである。   In general, examples of a method for forming a through hole in a film thickness direction at a specific position of a synthetic resin include a chemical etching method, a thermal decomposition method, an ablation method using laser light or soft X-ray irradiation, and an ultrasonic method. For the laminate 33 made of a porous PTFE film formed by a stretching method, a method of irradiating synchrotron radiation or laser light having a wavelength of 250 nm or less, and an ultrasonic method are preferable. The diameter of the through-hole 35 by the laser method is generally about 5 to 100 μm. In the present embodiment, the diameter of the through hole 35 is 30 to 200 μm.

超音波法により貫通孔35を形成する方法についての説明は省略するが、特開2004−265844号公報(段落[0042]〜[0051]参照)に開示されている通りである。貫通孔35の断面形状は、円形、星型、八角形、六角形、四角形、三角形など任意である。また、ドリルなどを用いた機械加工によって、貫通孔35を形成してもよい。   Although description about the method of forming the through-hole 35 by the ultrasonic method is omitted, it is as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-265844 (see paragraphs [0042] to [0051]). The cross-sectional shape of the through hole 35 is arbitrary, such as a circle, a star, an octagon, a hexagon, a quadrangle, and a triangle. Further, the through hole 35 may be formed by machining using a drill or the like.

次に、図6(c)に示す工程では、積層体33のコンディショニング、水洗、プレディップを経て、触媒の付与を施す。コンディショニングの目的は、撥水性を有するPTFEの表面にできるだけ親水性を持たせること、および後の工程における触媒(Pd)の付着を容易化することにある。多孔質PTFE膜に対しては、コンディショナーとして、エタノール等のアルコールや、界面活性剤などを含む溶液を用い、コンディショナーを多孔質構造中の各繊維まで浸透させる。   Next, in the step shown in FIG. 6 (c), the catalyst is applied through conditioning, washing and pre-dip of the laminate 33. The purpose of conditioning is to make the surface of PTFE having water repellency as hydrophilic as possible, and to facilitate the adhesion of the catalyst (Pd) in a later step. For the porous PTFE membrane, a solution containing alcohol such as ethanol or a surfactant is used as a conditioner, and the conditioner is infiltrated to each fiber in the porous structure.

そして、プレディップ工程の終了後に、積層体33を、Pdを含む触媒液(たとえば塩化スズ−塩化パラジウムコロイド液)に浸して、積層体33を構成するPTFEの各繊維の表面にPd化合物からなるコロイド粒子を付着させて、貫通孔35の内壁部などの表面領域に、各繊維表面にコロイド粒子が付着してなるコロイド粒子付着領域34を形成する。コロイド粒子付着領域34において、コロイド粒子は連続した層になることは少なく、島状の層となっていることが多い。このとき、各マスク膜31,32の露出している部分の表面領域(図3(c)に示すハッチング領域)にもコロイド粒子付着領域34が形成されることになる。なお、プレディップ工程を省略しても、本発明の効果を発揮することはできる。   And after completion | finish of a pre-dip process, the laminated body 33 is immersed in the catalyst liquid (for example, a tin chloride-palladium chloride colloid liquid) containing Pd, and the surface of each fiber of PTFE constituting the laminated body 33 is made of a Pd compound. Colloidal particles are adhered to form a colloidal particle adhesion region 34 formed by the colloidal particles adhering to the surface of each fiber on the surface region such as the inner wall of the through hole 35. In the colloidal particle adhesion region 34, the colloidal particles are rarely a continuous layer and are often island-shaped layers. At this time, the colloidal particle adhesion region 34 is also formed in the surface region (hatched region shown in FIG. 3C) where the mask films 31 and 32 are exposed. Even if the pre-dip step is omitted, the effect of the present invention can be exhibited.

次に、図6(d)に示す工程で、フレーム板30aの両面からマスク膜31,32をはがす。このとき、フレーム板30aの両面にはコロイド粒子形成領域34は形成されていない。一方、フレーム板30aの側端部もコロイド粒子付着領域34が形成されているが、この部分に形成されているコロイド粒子付着領域34は、この工程の終了後、または無電解めっきの終了後に適宜除去される。   Next, in the step shown in FIG. 6D, the mask films 31 and 32 are peeled off from both surfaces of the frame plate 30a. At this time, the colloidal particle formation region 34 is not formed on both surfaces of the frame plate 30a. On the other hand, the colloidal particle adhesion region 34 is also formed on the side edge of the frame plate 30a. The colloidal particle adhesion region 34 formed in this part is appropriately formed after the end of this step or after the end of the electroless plating. Removed.

次に、図6(e)に示す工程で、無電解めっきを行なって、貫通電極36を形成するが、その前に、希塩酸、希硫酸等を用いて、Pd化合物からなるコロイド粒子付着領域34中のPdを活性化する処理を行う。これにより、活性化された触媒粒子が形成される。この触媒粒子は、Pd化合物(たとえばパラジウム−塩化スズ)と、Pd単体とを含んでいるのが一般的であり、すべてのコロイド粒子がPd単体に変化していなくても、Pdが表面に露出していれば、無電解めっきの触媒としての機能は発揮することができる。その後、フレーム板30aの表面に付着している処理液を水洗により洗い落とす。   Next, in the step shown in FIG. 6E, electroless plating is performed to form the through electrode 36. Before that, a colloidal particle adhesion region 34 made of a Pd compound is used by using diluted hydrochloric acid, diluted sulfuric acid, or the like. A process for activating Pd therein is performed. Thereby, activated catalyst particles are formed. The catalyst particles generally contain a Pd compound (for example, palladium-tin chloride) and simple Pd, and Pd is exposed on the surface even if all the colloidal particles are not changed to simple Pd. If it does, the function as a catalyst of electroless plating can be exhibited. Thereafter, the treatment liquid adhering to the surface of the frame plate 30a is washed away with water.

無電解めっき工程では、硫酸銅などの銅イオンを含む溶液と、ホルムアルデヒドなどの還元剤とを用いた無電解Cuめっきにより、硫酸銅溶液などから触媒粒子の周囲にCuを析出させる。析出したCuも触媒活性を有しているので、めっき時間に応じた厚みのCu層が形成されることになる。Cuの無電解めっきが終了すると、水洗をしてから、次工程に進む。   In the electroless plating step, Cu is deposited around the catalyst particles from a copper sulfate solution or the like by electroless Cu plating using a solution containing copper ions such as copper sulfate and a reducing agent such as formaldehyde. Since the deposited Cu also has catalytic activity, a Cu layer having a thickness corresponding to the plating time is formed. When the electroless plating of Cu is completed, the process proceeds to the next step after washing with water.

次に、Cu層の表面に触媒を付着させるために、再びフレーム板30aを触媒液に浸漬する。ここでは、触媒液として塩化パラジウム溶液を用いる。プレディップやコンディショニングを行なわず、かつ、触媒液が塩化スズを含んでいないので、Cu層で覆われていない,PTFEが露出している部分には、触媒粒子はほとんど付着しない。その後、水洗を行なって、表面に残留する触媒液を除去する。   Next, in order to adhere the catalyst to the surface of the Cu layer, the frame plate 30a is immersed again in the catalyst solution. Here, a palladium chloride solution is used as the catalyst solution. Pre-dip and conditioning are not performed, and the catalyst liquid does not contain tin chloride, so that the catalyst particles hardly adhere to the exposed portions of PTFE that are not covered with the Cu layer. Thereafter, washing with water is performed to remove the catalyst solution remaining on the surface.

次に、硫酸ニッケル等のNiイオンを含む溶液と、ホスフィン酸イオンを含む還元剤とを用いた無電解Niめっき(実際にはNi−P合金めっき)により、Cu層上にNi合金層(実際にはNi−P合金層)を堆積する。その後、水洗を行う。   Next, an Ni alloy layer (actually Ni-P alloy plating) is used on the Cu layer by electroless Ni plating (actually Ni-P alloy plating) using a solution containing Ni ions such as nickel sulfate and a reducing agent containing phosphinate ions. Is deposited with a Ni-P alloy layer). Then, it is washed with water.

その後、置換金めっきにより、Au層を形成する。電気化学的に貴な金属(Au)のイオンを含む溶液に、電気化学的に卑な金属(Ni)を浸すと、卑な金属の溶解で放出される電子によって貴な金属イオンが還元され、貴な金属(Au)の被膜が卑な金属(Ni)表面上に析出する。以上の工程により、触媒粒子,Cu層,Ni−P合金層およびAu層からなる貫通電極36を形成する。なお、置換めっきの後、自己触媒型の無電解めっきによりAu層を形成してもよい。その後、水洗、アルコール置換を経て乾燥することにより、無電解めっき工程を終了する。   Thereafter, an Au layer is formed by displacement gold plating. When an electrochemically noble metal (Ni) is immersed in a solution containing electrochemically noble metal (Au) ions, noble metal ions are reduced by electrons released by the dissolution of the noble metal, A noble metal (Au) coating is deposited on the base metal (Ni) surface. Through the steps described above, the through electrode 36 composed of catalyst particles, a Cu layer, a Ni—P alloy layer, and an Au layer is formed. Note that the Au layer may be formed by autocatalytic electroless plating after displacement plating. Then, the electroless plating process is completed by drying through water washing and alcohol substitution.

上記異方導電性シート30の製造工程においては、フレーム板30aを両面からマスク膜31,32で挟んで、積層体33を形成してから、貫通孔の形成、触媒液への浸漬を行なったが、積層体33は必ずしも形成する必要はない。たとえば、フレーム板単独で、貫通孔の形成、触媒付与、活性化処理、無電解めっきなど、図3(c)−(e)に示す工程を施してもよい。その場合、フレーム板の板面にも無電解めっき層が形成されるが、研磨などによって除去すればよい。ただし、本実施の形態のように、積層体33に貫通孔35を形成することにより、高精度の貫通孔35が得られる。また、余分な無電解めっき層を形成しないことで、製造コストも削減することができる。   In the manufacturing process of the anisotropic conductive sheet 30, the frame plate 30 a is sandwiched between the mask films 31 and 32 from both sides to form the laminated body 33, and then the through holes are formed and immersed in the catalyst solution. However, the stacked body 33 is not necessarily formed. For example, the steps shown in FIGS. 3C to 3E, such as formation of through holes, application of a catalyst, activation treatment, and electroless plating, may be performed on the frame plate alone. In that case, an electroless plating layer is also formed on the plate surface of the frame plate, but may be removed by polishing or the like. However, by forming the through hole 35 in the stacked body 33 as in the present embodiment, a highly accurate through hole 35 can be obtained. In addition, the manufacturing cost can be reduced by not forming an extra electroless plating layer.

以上の工程によって形成された異方導電性シート30は、貫通孔35の内壁部に形成された導通部となる貫通電極36とを備えている。これにより、板厚方向に導電性を有し板面方向には導通性がないという、異方導電性機能が付与される。導通部となる各貫通電極36間の電気的短絡を防ぐために、フレーム板30aは絶縁体であることが必要である。本実施の形態では、異方導電性シート30に弾性と高強度とを併せてもたせるために、フレーム板30aを多孔質膜の合成樹脂によって構成している。   The anisotropic conductive sheet 30 formed by the above steps includes a through electrode 36 serving as a conductive portion formed on the inner wall portion of the through hole 35. Thereby, the anisotropic conductive function of having conductivity in the plate thickness direction and no conductivity in the plate surface direction is provided. In order to prevent an electrical short circuit between the through electrodes 36 serving as a conduction portion, the frame plate 30a needs to be an insulator. In the present embodiment, in order to make the anisotropic conductive sheet 30 have both elasticity and high strength, the frame plate 30a is made of a synthetic resin of a porous film.

本実施の形態の多孔質膜のフレーム板30aを構成する合成樹脂材料としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリふっ化ビニリデン(PVDF)、ポリふっ化ビニリデン共重合体、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE樹脂)などのフッ素樹脂;ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアミド(PA)、変性ポリフェニレンエーテル(mPPE)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリスルホン(PSU)、ポリエーテルスルホン(PES)、液晶ポリマー(LCP)などのエンジニアリングプラスチック、などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、加工性、機械的特性、誘電特性などを総合的に考慮すると、PTFEが優れた特性を有している。したがって、本実施の形態においては、フレーム板30aとして、多孔質PTFE膜(多孔質ポリテトラフルオロエチレン膜)を用いている。本実施の形態においては、後述するように、延伸法により得られた多孔質PTFE膜を用いているので、フレーム板30aは、それぞれPTFEにより形成された非常に細い繊維(フィブリル)と該繊維によって互いに連結された結節(ノード)とからなる微細繊維状組織(多孔質構造)を有している。   Synthetic resin materials constituting the porous membrane frame plate 30a of the present embodiment include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl. Fluorine resins such as vinyl ether copolymer (PFA), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinylidene fluoride copolymer, ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE resin); polyimide (PI), polyamideimide (PAI) ), Polyamide (PA), modified polyphenylene ether (mPPE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone (PEEK), polysulfone (PSU), polyethersulfone (PES), liquid crystal polymer (LCP), etc. -Engineering plastic, and the like. Among these, PTFE has excellent characteristics when comprehensively considering heat resistance, workability, mechanical characteristics, dielectric characteristics, and the like. Therefore, in the present embodiment, a porous PTFE film (porous polytetrafluoroethylene film) is used as the frame plate 30a. In the present embodiment, as will be described later, since a porous PTFE membrane obtained by a stretching method is used, the frame plate 30a is formed by very thin fibers (fibrils) formed by PTFE and the fibers, respectively. It has a fine fibrous structure (porous structure) composed of nodes (nodes) connected to each other.

本実施の形態においては、フレーム板30aとして使用する多孔質PTFE膜は、気孔率が20〜80%程度であることが好ましい。多孔質PTFE膜は、微細孔の平均孔径が10μm以下あるいはバブルポイントが2kPa以上であることが好ましく、導通部のファインピッチ化の観点からは、平均孔径が1μm以下あるいはバブルポイントが10kPa以上であることがより好ましい。多孔質PTFE膜の膜厚は、使用目的や使用箇所に応じて適宜選択することができるが、通常、0.05〜3mmである。   In the present embodiment, the porous PTFE membrane used as the frame plate 30a preferably has a porosity of about 20 to 80%. The porous PTFE membrane preferably has an average pore diameter of 10 μm or less or a bubble point of 2 kPa or more from the viewpoint of fine pitching of the conducting part, and an average pore diameter of 1 μm or less or a bubble point of 10 kPa or more. It is more preferable. The thickness of the porous PTFE membrane can be appropriately selected according to the purpose of use and the location of use, but is usually 0.05 to 3 mm.

貫通電極36は、貫通孔35の内壁面および微細孔内を含む内壁部に、管厚が0.2〜5μmの多層金属めっき層(無電解めっき層)を有している。つまり、無電解めっきの際に、内壁面から微細孔内に侵入した触媒粒子や金属によって、多孔質PTFE膜の繊維も含まれる表面領域に貫通電極36が形成されている。本実施の形態では、貫通電極36は、繊維の表面に付着した触媒粒子を核として堆積したCu層,Ni合金層(Ni−P合金層)およびAu層によって構成されている。ただし、Cu層は、必ずしもなくてもよい。   The through electrode 36 has a multilayer metal plating layer (electroless plating layer) with a tube thickness of 0.2 to 5 μm on the inner wall portion including the inner wall surface of the through hole 35 and the inside of the fine hole. That is, in the electroless plating, the through electrode 36 is formed in the surface region including the fibers of the porous PTFE film by the catalyst particles and the metal that have entered the fine holes from the inner wall surface. In the present embodiment, the through electrode 36 is constituted by a Cu layer, a Ni alloy layer (Ni—P alloy layer), and an Au layer deposited using catalyst particles attached to the fiber surface as nuclei. However, the Cu layer is not necessarily required.

上述のように、無電解めっきの際、触媒粒子は貫通孔35の内壁面だけでなく多孔質PTFE膜の微細孔から内部に侵入して繊維の表面に付着するので、多層金属めっき層も、多孔質PTFE膜の微細孔から内部に浸透して堆積されている。すなわち、貫通電極36には、多層金属めっき層だけでなく多孔質PTFE膜の繊維も混在していることになる。この貫通電極36は、多孔質構造の樹脂部の表面に付着して形成されているため、貫通電極36自体も多孔質としての特性を有している。そして、異方導電性シート30の板厚方向に圧縮荷重を加えることにより、各貫通電極36間の絶縁性を維持しつつ、異方導電性シート30の板厚方向のみに導電性が付与される(異方導電性)。また、圧縮荷重を除去すると、貫通電極36を含む異方導電性シート30全体が弾性回復するので、本実施の形態の異方導電性シート30は、繰り返して使用することができる。   As described above, during electroless plating, the catalyst particles penetrate not only through the inner wall surface of the through-hole 35 but also through the micropores of the porous PTFE film and adhere to the fiber surface. The porous PTFE membrane is deposited by penetrating into the inside from the micropores. That is, the through electrode 36 includes not only the multilayer metal plating layer but also the fibers of the porous PTFE film. Since the through electrode 36 is formed by adhering to the surface of the resin portion having a porous structure, the through electrode 36 itself has a characteristic of being porous. Then, by applying a compressive load in the thickness direction of the anisotropic conductive sheet 30, conductivity is imparted only in the thickness direction of the anisotropic conductive sheet 30 while maintaining insulation between the through electrodes 36. (Anisotropic conductivity). Further, when the compressive load is removed, the entire anisotropic conductive sheet 30 including the through electrode 36 is elastically recovered, so that the anisotropic conductive sheet 30 of the present embodiment can be used repeatedly.

貫通電極36の管厚は、嵌合状態で導通部である貫通電極36の抵抗値が0.1Ω以下になるようにすることが好ましい。   It is preferable that the tube thickness of the through electrode 36 is such that the resistance value of the through electrode 36 which is a conducting portion in the fitted state is 0.1Ω or less.

本実施の形態によると、従来採用されていたZIFコネクタに代えて、板状の異方導電性シート30(中間部材)を介して、リジッドプリント配線板12およびフレキシブルプリント配線板22の配線11,21間の電気的接続を行うようにしたので、薄型化,小型化に容易に対応することができる。すなわち、ZIFコネクタに代えて、板状の異方導電性シート30を用いているので、大幅な薄型化が可能である。異方導電性シート30の厚みは、0.1mm程度まで小さくしても十分高い強度が得られる。そして、必要に応じて、多くの突起部13,23および貫通電極36を介して、両プリント配線板12,22に対する把持力を大きく確保することができる。   According to the present embodiment, instead of the conventionally used ZIF connector, the wires 11 of the rigid printed wiring board 12 and the flexible printed wiring board 22 are arranged via the plate-like anisotropic conductive sheet 30 (intermediate member). Since the electrical connection between 21 is performed, it is possible to easily cope with a reduction in thickness and size. That is, since the plate-like anisotropic conductive sheet 30 is used instead of the ZIF connector, the thickness can be significantly reduced. Even if the thickness of the anisotropic conductive sheet 30 is reduced to about 0.1 mm, a sufficiently high strength can be obtained. If necessary, a large gripping force for the printed wiring boards 12 and 22 can be secured via the many protrusions 13 and 23 and the through electrodes 36.

特に、本実施の形態では、異方導電性シート30のように、弾性体である多孔質PTFEを異方導電性シート30の基材として用いているので、異方導電性シート30の貫通電極36と各突起部13,23との嵌合の際の弾性変形を利用して、各プリント配線板12,22に対する把持力が向上する。したがって、接続構造による電気的接続の信頼性がさらに向上する。   In particular, in the present embodiment, like the anisotropic conductive sheet 30, the porous PTFE that is an elastic body is used as the base material of the anisotropic conductive sheet 30. The gripping force with respect to the printed wiring boards 12 and 22 is improved by utilizing the elastic deformation at the time of fitting between the protrusion 36 and the protrusions 13 and 23. Therefore, the reliability of electrical connection by the connection structure is further improved.

また、多孔質樹脂の中でも、特に多孔質PTFEは、強度や耐熱性が大きく、繰り返し加重による弾性の劣化もほとんどないことから、長期間使用しても弾性の劣化による把持力の低下防止することができる。   Among porous resins, especially porous PTFE has high strength and heat resistance, and since there is almost no deterioration in elasticity due to repeated loading, it can prevent a decrease in gripping force due to deterioration in elasticity even after long-term use. Can do.

(実施の形態2)
図4は、実施の形態2に係る接続構造を示す断面図である。実施の形態1における図3(a),(b)と共通の部材については、同じ符号を付して説明を省略する。同図に示すように、本実施の形態では、各配線11,21上の突起部13a,13bはテーパのない円柱形状であり、貫通電極36の両端部にテーパが設けられている。この場合にも、上記実施の形態1と同じ効果を奏することは容易に理解することができる。なお、貫通電極36のテーパ形状は、実施の形態1で説明した貫通孔35の形成(図6(c)参照)をドリルで行い、ドリルの先端のテーパを利用することによって実現できる。また、レーザ加工によっても、円錐状の貫通孔35を形成することができる。
(Embodiment 2)
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a connection structure according to the second embodiment. The members common to FIGS. 3A and 3B in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. As shown in the figure, in the present embodiment, the protrusions 13 a and 13 b on the wirings 11 and 21 have a cylindrical shape without a taper, and the both ends of the through electrode 36 are tapered. Also in this case, it can be easily understood that the same effects as those of the first embodiment can be obtained. The tapered shape of the through electrode 36 can be realized by performing the formation of the through hole 35 described in the first embodiment (see FIG. 6C) with a drill and using the taper at the tip of the drill. The conical through hole 35 can also be formed by laser processing.

(他の実施の形態)
図5は、実施の形態1の変形例に係るリジッドプリント配線板12またはフレキシブルプリント配線板22の断面図である。実施の形態1における図3(a),(b)と共通の部材については、同じ符号を付して説明を省略する。この変形例においては、配線11,21の上に、バンプ状の突起部13b,23bが設けられている。このような構造を有することにより、嵌合のための作業性もよく、かつ、突起部13b,23bが抜けにくいので、特に優れた把持力を発揮することができる。突起部13b,23bの形成は、周知慣用のバンプ形成プロセスを用いて行うことができる。
(Other embodiments)
FIG. 5 is a cross-sectional view of rigid printed wiring board 12 or flexible printed wiring board 22 according to a modification of the first embodiment. The members common to FIGS. 3A and 3B in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. In this modification, bump-like protrusions 13b and 23b are provided on the wirings 11 and 21, respectively. By having such a structure, workability for fitting is good and the protrusions 13b and 23b are difficult to come off, so that particularly excellent gripping force can be exhibited. The protrusions 13b and 23b can be formed using a well-known and commonly used bump formation process.

上記実施の形態では、中間部材として、多孔質PTFE膜からなるフレーム板30aの貫通孔35の内壁部に、触媒粒子と無電解めっき層とを形成してなる異方導電性シート30を用いたが、本発明の中間部材は、このような異方導電性シート30に限定されるものではない。たとえば、多孔質ではない汎用樹脂からなる板に貫通孔を形成して、無電解めっきなどにより、貫通電極を設けたものでもよい。   In the above-described embodiment, the anisotropic conductive sheet 30 in which the catalyst particles and the electroless plating layer are formed on the inner wall portion of the through hole 35 of the frame plate 30a made of the porous PTFE film is used as the intermediate member. However, the intermediate member of the present invention is not limited to such an anisotropic conductive sheet 30. For example, a through-hole may be formed in a plate made of a general-purpose resin that is not porous, and a through-electrode may be provided by electroless plating or the like.

一方、中間部材を構成する樹脂が弾性を有していることにより、フレキシブルプリント配線板22を把持する把持力を高めることができるが、金属からなる貫通電極36の弾性は小さい。そこで、中間部材を構成する樹脂が多孔質であることにより、貫通電極36も多孔質になるので、貫通電極36全体としてはバネのような弾性を有することになる。よって、中間部材の基材樹脂として、多孔質樹脂を用いることが好ましい。   On the other hand, since the resin constituting the intermediate member has elasticity, the gripping force for gripping the flexible printed wiring board 22 can be increased, but the elasticity of the through electrode 36 made of metal is small. Therefore, since the resin constituting the intermediate member is porous, the through electrode 36 is also porous, and the entire through electrode 36 has elasticity like a spring. Therefore, it is preferable to use a porous resin as the base resin of the intermediate member.

多孔質樹脂の中でも多孔質PTFEは、上述のように、長期間の使用における信頼性が高いが、反面高価であることから、コストを低減する目的で、他の安価な多孔質樹脂を用いることも可能である。   Among the porous resins, as described above, porous PTFE has high reliability in long-term use, but is expensive, but uses other inexpensive porous resins for the purpose of reducing costs. Is also possible.

上記実施の形態では、第1の配線体としてリジッドプリント配線板12(略称PCB)を用い、第2の配線体としてフレキシブルプリント配線板22(略称FPC)を用いた例について説明したが、本発明の第1の配線体は、リジッドプリント配線板12に限らず、フレキシブルプリント配線板であってもよい。また、フレキシブル配線板であっても、フレキシブルフラットケーブル(FFC)と呼ばれるものがあり、これら各種配線基板同士の接続に用いることができる。ただし、一方は、フレキシブル配線板であることが望ましい。リジッド配線基板同士の電気的接続を行う場合には、本発明よりも簡素な構造を採りうるからである。   In the above embodiment, an example in which the rigid printed wiring board 12 (abbreviated as PCB) is used as the first wiring body and the flexible printed wiring board 22 (abbreviated as FPC) is used as the second wiring body has been described. The first wiring body is not limited to the rigid printed wiring board 12 but may be a flexible printed wiring board. Moreover, even if it is a flexible wiring board, there exists what is called a flexible flat cable (FFC), and it can be used for the connection of these various wiring boards. However, it is desirable that one is a flexible wiring board. This is because a simpler structure than that of the present invention can be adopted when electrical connection is made between rigid wiring boards.

上記開示された本発明の実施の形態の構造は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの記載の範囲に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。   The structure of the embodiment of the present invention disclosed above is merely an example, and the scope of the present invention is not limited to the scope of these descriptions. The scope of the present invention is indicated by the description of the scope of claims, and further includes meanings equivalent to the description of the scope of claims and all modifications within the scope.

本発明は、携帯電話などの電気機器に搭載されるフレキシブル配線板と他の配線基板との配線間の電気接続を行うコネクタとして利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used as a connector that performs electrical connection between wirings between a flexible wiring board mounted on an electric device such as a mobile phone and another wiring board.

実施の形態1に係る第1の配線体であるリジッドプリント配線板の平面図である。3 is a plan view of a rigid printed wiring board that is a first wiring body according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係る第2の配線体であるフレキシブルプリント配線板の平面図である。3 is a plan view of a flexible printed wiring board that is the second wiring body according to Embodiment 1. FIG. (a),(b)は、(A), (b) 本発明の実施の形態2に係る接続構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the connection structure which concerns on Embodiment 2 of this invention. 実施の形態1の変形例に係るリジッドプリント配線板およびフレキシブルプリント配線板の断面図である。6 is a cross-sectional view of a rigid printed wiring board and a flexible printed wiring board according to a modification of the first embodiment. FIG. (a)〜(e)は、実施の形態に係る異方導電性シートの製造工程を示す断面図である。(A)-(e) is sectional drawing which shows the manufacturing process of the anisotropically conductive sheet which concerns on embodiment. (a),(b)は、一般的なZIF構造のコネクタの構造を示す平面図、および側面図である。(A), (b) is the top view and side view which show the structure of the connector of a general ZIF structure.

符号の説明Explanation of symbols

10 リジッド基板
11 配線
12 リジッドプリント配線板
13 突起部
20 フレキシブル基板
21 配線
22 フレキシブルプリント配線板
23 突起部
30 異方導電性シート
30a フレーム板
31 マスク膜
32 マスク膜
35 貫通孔
36 貫通電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Rigid board | substrate 11 Wiring 12 Rigid printed wiring board 13 Protruding part 20 Flexible board 21 Wiring 22 Flexible printed wiring board 23 Protruding part 30 Anisotropic conductive sheet 30a Frame board 31 Mask film 32 Mask film 35 Through-hole 36 Through-electrode

Claims (5)

突起部を有する第1の配線が形成された第1の配線体と、
突起部を有する第2の配線が形成された第2の配線体と、
筒状の貫通電極を有する板状の中間部材とを備え、
前記第1の配線の突起部および前記第2の配線の突起部は、共通の筒状の貫通電極の両端部にそれぞれ嵌合されている、接続構造。
A first wiring body on which a first wiring having a protrusion is formed;
A second wiring body on which a second wiring having a protrusion is formed;
A plate-like intermediate member having a cylindrical through electrode,
The connection structure in which the protrusion of the first wiring and the protrusion of the second wiring are respectively fitted to both ends of a common cylindrical through electrode.
請求項1記載の接続構造において、
前記突起部または貫通電極のうちいずれか一方の嵌合部分は、テーパを有している、接続構造。
The connection structure according to claim 1,
The connection structure in which either one of the protrusion or the through electrode has a tapered portion.
請求項1または2記載の接続構造において、
前記中間部材は、弾性体である、接続構造。
The connection structure according to claim 1 or 2,
The connection structure, wherein the intermediate member is an elastic body.
請求項1〜3のいずれかに記載の接続構造において、
前記中間部材は、
複数の微細孔を有する多孔質樹脂を基材としており、
前記貫通電極は、前記基材の前記各微細孔内を含む内壁部に形成されている、接続構造。
In the connection structure in any one of Claims 1-3,
The intermediate member is
Based on a porous resin having a plurality of micropores,
The through electrode is a connection structure formed on an inner wall portion including the inside of each micropore of the base material.
請求項1〜4のいずれかに記載の接続構造において、
前記第1の配線体および第2の配線体のうち、少なくともいずれか一方はフレキシブル配線板である、接続構造。
In the connection structure in any one of Claims 1-4,
A connection structure in which at least one of the first wiring body and the second wiring body is a flexible wiring board.
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