JP2008093697A - Flux film forming apparatus, and method for smoothing surface of flux - Google Patents

Flux film forming apparatus, and method for smoothing surface of flux Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformly keep a formed flux film by eliminating the drag of the flux to be caused during the return motion of a flux container. <P>SOLUTION: A flux film forming apparatus 42 comprises a table surface 46 having a recessed portion 50 for forming a flux film. The recessed portion 50 is filled with the flux 40B by horizontally moving the flux container 48 having an opened bottom surface 52 relative to the table surface. A scraper 72 is provided for scraping down the flux 40B stuck on the chamfered portion 60 of the vertical wall surface 58 of the flux container 48 by sliding on the chamfered portion 60 of the vertical wall surface 58 of the flux container 48 by interlocking with the horizontal movement of the flux container 48. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、フラックスの成膜装置及び該成膜装置を利用したフラックス面の平滑化方法に関する。   The present invention relates to a flux film forming apparatus and a flux surface smoothing method using the film forming apparatus.

表面実装機において、基板上に電子部品を装着するときには、該電子部品の装着部にフラックスを塗布する作業が行なわれる。この作業は、フラックスの成膜装置によって薄い膜状とされたフラックス面に電子部品の装着部を接触させることにより、該接触部分にフラックスを転写するという態様で行なわれる。そのため、転写作業を良好に行なうためには、転写するためのフラックス膜を均一に形成しなければならない。   When mounting an electronic component on a substrate in a surface mounter, an operation of applying a flux to the mounting portion of the electronic component is performed. This operation is performed in such a manner that the flux is transferred to the contact portion by bringing the mounting portion of the electronic component into contact with the flux surface that has been made into a thin film by the flux film forming apparatus. Therefore, in order to perform the transfer operation satisfactorily, it is necessary to uniformly form a flux film for transfer.

従来、このフラックスの成膜は、図5に示されるような装置を用いて行なわれていた。   Conventionally, the film formation of this flux has been performed using an apparatus as shown in FIG.

このフラックスの成膜装置10は、フラックス成膜用の凹部12を有するテーブル面14を備える。テーブル面14にはフラックス容器18が水平移動可能に載置されている。フラックス容器18は、その内部にフラックス20を収容しており、且つその底面16が開口されている。そのため、フラックス容器18が位置Paから該凹部12上の位置Pbに移動してくると、該フラックス容器18の底面16自体がいわゆるスクレーパ(へら)の機能を果たし、凹部16の深さdに相当する膜厚のフラックス膜20Aを形成することができる。   The flux film forming apparatus 10 includes a table surface 14 having a recess 12 for forming a flux film. A flux container 18 is placed on the table surface 14 so as to be horizontally movable. The flux container 18 accommodates the flux 20 therein, and the bottom surface 16 is opened. Therefore, when the flux container 18 moves from the position Pa to the position Pb on the concave portion 12, the bottom surface 16 itself of the flux container 18 functions as a so-called scraper (spar) and corresponds to the depth d of the concave portion 16. A flux film 20A having a thickness to be formed can be formed.

しかしながら、この構成に係るフラックスの成膜装置10においては、フラックス容器18の移動によって掻き寄せられたフラックス20の塊20Bが、該フラックス20B自体が有する粘性のために、回収部22に回収されずにフラックス容器18が戻る際にそのまま引き摺られるようにして戻ってきてしまうことがあるという問題があった。   However, in the flux film forming apparatus 10 according to this configuration, the mass 20B of the flux 20 that has been scraped by the movement of the flux container 18 is not recovered by the recovery unit 22 due to the viscosity of the flux 20B itself. When the flux container 18 returns, there is a problem that the flux container 18 may come back as it is dragged.

このような問題に対処する1つの回答として、特許文献1にフラックス容器18の形状に工夫を加えた技術が開示されている。図6にその概略を示す。なお、先の従来例と実質的に同一視できる部分については便宜上同一の符号を付してある。この技術は、フラックス容器18Aを円形に形成し、フラックス容器18Aが凹部12側に進行していくときに、余分のフラックス24をできるだけ進行方向両サイドに押し分けるようにすることで(破線の矢印参照)、フラックス容器18が戻る際に一緒に引き戻されるフラックス量を低減するように試みたものである。   As one answer to cope with such a problem, Patent Document 1 discloses a technique in which a shape of the flux container 18 is added. The outline is shown in FIG. For the sake of convenience, the same reference numerals are assigned to portions that can be substantially identical to the previous conventional example. In this technique, the flux container 18A is formed in a circular shape, and when the flux container 18A advances toward the concave portion 12, the excess flux 24 is pushed as far as possible on both sides in the direction of travel (broken arrows). Reference), which is an attempt to reduce the amount of flux drawn back together when the flux container 18 returns.

特開2002−172460号公報JP 2002-172460 A

しかしながら、この特許文献1に開示されている成膜装置は、テーブル面14上に存在するフラックス20Bの薄い堆積層を両側部に押し退ける構造であったため、確かにテーブル面14上の中央に堆積されるフラックス24Aについては減らすことができるものの、逆に両側部の堆積は増える傾向となってしまっていた。そのため、フラックス容器18が逆方向に戻る際に凹部12の両側部においてフラックスの「垂れ込み」が発生し、これが均一な成膜に悪影響を及ぼすことがあるという問題があった。   However, since the film forming apparatus disclosed in Patent Document 1 has a structure in which a thin deposition layer of the flux 20B existing on the table surface 14 is pushed away to both sides, it is certainly deposited at the center on the table surface 14. The flux 24A can be reduced, but conversely, the deposition on both sides tends to increase. Therefore, when the flux container 18 returns in the reverse direction, “sagging” of the flux occurs on both sides of the recess 12, which may have a negative effect on uniform film formation.

又、フラックス容器18を凹部12側に進行させる際に該フラックス容器18の立壁面に沿って這い上がった余分のフラックス24が、戻る際に成膜用の凹部12の上部に垂れ落ちてくるという現象が起こることもあり、凹部24の幅方向中央部においてさえも膜厚が不均一となってしまう恐れもあった。   Further, when the flux container 18 is advanced to the concave portion 12 side, the excess flux 24 that crawls along the standing wall surface of the flux container 18 hangs down on the upper portion of the film-forming concave portion 12 when returning. In some cases, the phenomenon may occur, and the film thickness may be non-uniform even in the central portion of the recess 24 in the width direction.

本発明は、このような従来の問題を解消するためになされたものであって、フラックス容器を進行させる際に掻き寄せられた余剰のフラックスの塊が、フラックス容器が戻る際に再び凹部上に引き戻されることがないようにし、凹部全域に亘って常に均一のフラックス膜を形成可能とすることをその課題としている。   The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, and when the flux container is moved forward, the excess flux lump is again put on the recess when the flux container returns. An object of the present invention is to make it possible to form a uniform flux film over the entire recess so as not to be pulled back.

本発明は、フラックス成膜用の凹部を有するテーブル面を備え、該テーブル面に対して底面が開口したフラックス容器を相対的に水平移動させることにより、前記凹部内にフラックスを満たすフラックスの成膜装置において、前記フラックス容器の水平移動と連動して該フラックス容器の立壁面上を摺動し、該立壁面上に付着したフラックスを掻き取るスクレーパを備えた構成とすることにより、上記課題を解決したものである。   The present invention includes a table surface having a concave portion for forming a flux film, and forming a flux film that fills the flux in the concave portion by horizontally moving a flux container whose bottom surface is open relative to the table surface. In the apparatus, the above problem is solved by providing a scraper that slides on the vertical wall surface of the flux container in conjunction with the horizontal movement of the flux container and scrapes off the flux adhering to the vertical wall surface. It is a thing.

即ち、本発明においては、フラックス容器の水平移動によって該フラックス容器が凹部の上部を越えた位置にまで来たときに、該水平移動と連動して立壁面に沿ってスクレーパを摺動させ、この摺動によって該立壁面上に付着したフラックスを掻き取った後に、フラックス容器を凹部側に戻すようにしている。この結果、フラックス容器は、その立壁面上にフラックスが付着していない状態で戻ることができるようになり、既に凹部内に形成されているフラックス膜の均一性が損なわるのを確実に防止することができる。   That is, in the present invention, when the flux container reaches a position beyond the upper part of the concave portion due to the horizontal movement of the flux container, the scraper is slid along the vertical wall in conjunction with the horizontal movement. After the flux adhering to the standing wall surface is scraped off by sliding, the flux container is returned to the concave portion side. As a result, the flux container can be returned in a state where the flux is not adhered on the standing wall surface, and reliably prevents the uniformity of the flux film already formed in the recess. be able to.

本発明の好ましい実施形態は、前記スクレーパが、棒状の素材を曲折形成したばね体の一部で構成され、該ばね体の他の一部が前記テーブル面側に固定され、前記一部がフラックス容器の前記水平移動と連動して前記立壁面に沿って摺動することにより、前記スクレーパとして機能する構成とすることである。これにより、簡単な構成でフラックス容器の水平移動と連動した動きを行なうスクレーパを構成することができる。   In a preferred embodiment of the present invention, the scraper is constituted by a part of a spring body formed by bending a rod-shaped material, the other part of the spring body is fixed to the table surface side, and the part is a flux. It is set as the structure which functions as the said scraper by sliding along the said standing wall surface in response to the said horizontal movement of a container. Thereby, the scraper which performs the movement interlock | cooperated with the horizontal movement of the flux container by simple structure can be comprised.

又、前記フラックス容器の立壁面の下部に、該フラックス容器の進行方向後ろ側に向けて面取り部が形成されている構成とすると、一層良好である。これにより、立壁面に付着したフラックスをより円滑に且つより確実に掻き取ることができるようになる。   Further, it is more preferable that a chamfered portion is formed at the lower part of the standing wall of the flux container toward the rear side in the traveling direction of the flux container. Thereby, the flux adhering to the standing wall surface can be scraped off more smoothly and more reliably.

なお、テーブル面における前記フラックス容器の前記水平移動の終端部付近に、前記立壁面から掻き取ったフラックスを回収可能な回収部を形成するようにすると、スクレーパによって掻き取った立壁面上のフラックスを円滑に回収することが可能となり、フラックスの引き戻りを一層確実に防止できるようになる。   In addition, when the recovery part which can collect | recover the flux scraped off from the said standing wall surface is formed near the terminal part of the said horizontal movement of the said flux container in a table surface, the flux on the standing wall surface scraped off by the scraper is made. It becomes possible to collect smoothly, and it becomes possible to more reliably prevent the flux from returning.

本発明によれば、フラックス容器を進行させる際に掻き寄せられた余剰のフラックスの塊が、フラックス容器が戻る際に再び凹部上に引き戻されることがないようにし、凹部全域に亘って常に均一のフラックス膜を形成することができる。   According to the present invention, an excessive flux lump that has been squeezed when the flux container is advanced is not pulled back onto the recess again when the flux container returns, and is always uniform over the entire recess. A flux film can be formed.

以下図面に基づいて本発明の実施形態の一例を詳細に説明する。   Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、当該実施形態の一例に係るフラックスの成膜装置の平面図、図2は同正断面図である。   FIG. 1 is a plan view of a flux film forming apparatus according to an example of the embodiment, and FIG. 2 is a front sectional view thereof.

この成膜装置42は、ベース44上にテーブル面46が形成されており、該テーブル面46上をフラックス容器48が(相対的に)水平移動できるようになっている。テーブル面46上には、フラックス成膜用の凹部50が形成されている。一方フラックス容器48は、その底面52が開口している。フラックス容器48の立壁54は、この実施形態では平面視でほぼ正方形とされ、内部にフラックス40が収容されている。立壁54の下部には、該フラックス容器48の進行方向後ろ側に向けて角度α(図4参照)の面取り部60が形成されており、立壁面(立壁54の表面)58は、進行方向後ろ側に曲折している。なお、本明細書においては、便宜上、フラックス容器48が凹部50に向かって移動する方向を進行方向、逆の方向を戻り方向と定義する。この面取り部60の機能については後に詳述する。なお、符号56は、立壁54の上部に載置される蓋体である。   In this film forming apparatus 42, a table surface 46 is formed on a base 44, and a flux container 48 can move (relatively) horizontally on the table surface 46. On the table surface 46, a recess 50 for forming a flux film is formed. On the other hand, the bottom surface 52 of the flux container 48 is open. In this embodiment, the standing wall 54 of the flux container 48 is substantially square in plan view, and the flux 40 is accommodated therein. A chamfered portion 60 having an angle α (see FIG. 4) is formed at the lower portion of the standing wall 54 toward the rear side in the traveling direction of the flux container 48, and the standing wall surface 58 (the surface of the standing wall 54) is rearward in the traveling direction. It is bent to the side. In this specification, for the sake of convenience, the direction in which the flux container 48 moves toward the recess 50 is defined as the traveling direction, and the opposite direction is defined as the return direction. The function of the chamfered portion 60 will be described in detail later. Reference numeral 56 denotes a lid placed on the upper portion of the standing wall 54.

成膜装置42には、棒状の素材を平面視でほぼU字形に曲折形成したばね体62が付設されている。ばね体62は、一対の固定部64A、64B、一対のアーム部68A、68B及びスクレーパ72からなる。固定部64A、64Bは、ばね体62の最も外側に位置し、ベース44上(テーブル面側)に固定される。アーム部68A、68Bは、この一対の固定部64A、64Bのそれぞれの端部66A、66Bからそれぞれ立ち上り角θで立ち上っている。スクレーパ72は、このアーム部68A、68Bの頂部70A、70Bを連結する部分に対応している。アーム部68A、68Bの前記立ち上り角θは、スクレーパ72を介して該アーム部68A、68Bに下側への負荷が加えられたときに縮小可能である。即ち、スクレーパ72は、立ち上り角θ相当高さH1からテーブル面46とほぼ同一の高さH2にまで押し下がることができ、また、負荷が取り除かれることによってアーム部68A、68Bのばね力により立ち上り角θ相当高さH1にまで復帰できる(後述)。   The film forming apparatus 42 is provided with a spring body 62 formed by bending a rod-shaped material into a substantially U shape in plan view. The spring body 62 includes a pair of fixing portions 64A and 64B, a pair of arm portions 68A and 68B, and a scraper 72. The fixing portions 64A and 64B are located on the outermost side of the spring body 62, and are fixed on the base 44 (table surface side). The arm portions 68A and 68B rise from the respective end portions 66A and 66B of the pair of fixing portions 64A and 64B at a rising angle θ. The scraper 72 corresponds to a portion connecting the top portions 70A and 70B of the arm portions 68A and 68B. The rising angle θ of the arm portions 68A and 68B can be reduced when a downward load is applied to the arm portions 68A and 68B via the scraper 72. In other words, the scraper 72 can be pushed down from the height H1 corresponding to the rising angle θ to the height H2 that is substantially the same as the table surface 46, and is lifted by the spring force of the arm portions 68A and 68B when the load is removed. The angle can be returned to the height corresponding to the angle θ (described later).

なお、図の符号80は、テーブル面46におけるフラックス容器48の水平移動の終端部付近に形成され、立壁面58から掻き取ったフラックス40を回収可能なフラックス溜り(回収部)である。又、符号82は逆側のフラックス溜りを示している。   Reference numeral 80 in the figure denotes a flux reservoir (collection unit) that is formed near the end of the horizontal movement of the flux container 48 on the table surface 46 and can collect the flux 40 scraped from the standing wall surface 58. Reference numeral 82 denotes a flux pool on the opposite side.

次にこの成膜装置42の作用を説明する。   Next, the operation of the film forming apparatus 42 will be described.

フラックス容器48は、テーブル面46に密着した状態で、該テーブル面46に対して相対的に水平移動し、位置P1から位置P4へと移動する(図1及び図3参照)。   The flux container 48 moves horizontally relative to the table surface 46 in close contact with the table surface 46, and moves from the position P1 to the position P4 (see FIGS. 1 and 3).

図3の(A)で示されるように、フラックス容器48が位置P1に位置しているとき、ばね体64のアーム部68A、68Bは、立ち上り角θを維持している。従って、スクレーパ72は最高高さH1にある。   As shown in FIG. 3A, when the flux container 48 is located at the position P1, the arms 68A and 68B of the spring body 64 maintain the rising angle θ. Accordingly, the scraper 72 is at the maximum height H1.

図3(B)に示されるように、フラックス容器48の移動が進行して位置P2付近にまで来ると、余剰のフラックス40Bが立壁面58の面取り部60付近に堆積し始める。   As shown in FIG. 3B, when the movement of the flux container 48 proceeds and reaches the vicinity of the position P <b> 2, the surplus flux 40 </ b> B starts to be accumulated near the chamfered portion 60 of the standing wall 58.

図3の(C)は、フラックス容器48の移動が更に進行してその立壁面58がちょうどスクレーパ72に接触した状態を示している。このときフラックス容器48は移動の終端である位置P4の若干手前の位置P3にある。   FIG. 3C shows a state in which the movement of the flux container 48 further proceeds and the standing wall 58 just contacts the scraper 72. At this time, the flux container 48 is at a position P3 slightly before the position P4 that is the end of movement.

フラックス容器48が位置P3に至ると、図4の(A)に拡大して示すように、スクレーパ72は立ち上り角θ相当の高さH1から面取り部60上を摺動しながら下降を開始し、フラックス容器48が位置P4に至った段階では図4の(B)に示されるような最下高さH2にまて低下してくる。この結果、立壁面58の面取り部60付近に付着していたフラックス40Bはそのほぼ全量が掻き取られてフラックス溜り80に収容される。   When the flux container 48 reaches the position P3, as shown in an enlarged view in FIG. 4A, the scraper 72 starts to descend while sliding on the chamfer 60 from the height H1 corresponding to the rising angle θ, At the stage where the flux container 48 reaches the position P4, it is lowered to the lowest height H2 as shown in FIG. As a result, almost all of the flux 40B adhering to the vicinity of the chamfered portion 60 of the standing wall 58 is scraped off and accommodated in the flux reservoir 80.

図3に戻って、この状態が図3の(D)の状態である。このようにして立壁面58(の面取り部60)に付着していたフラックス40Bはフラックス溜り80に強制的に掻き取り・収容されるため、フラックス容器48が位置P1に向けて戻るときには立壁面58にはフラックス40Bは付着しておらず、凹部50上に張られたフラックス膜Aの上部はフラックス容器48の底面52によって掻き取られた平滑な面がそのまま維持されることになる(図3(E))。   Returning to FIG. 3, this state is the state shown in FIG. Since the flux 40B adhering to the standing wall 58 (the chamfered portion 60) is forcibly scraped and accommodated in the flux reservoir 80 in this way, when the flux container 48 returns toward the position P1, the standing wall 58 The flux 40B is not adhered to the upper surface of the flux film A stretched on the recess 50, and the smooth surface scraped off by the bottom surface 52 of the flux container 48 is maintained as it is (FIG. 3 ( E)).

なお、上記実施形態においては、フラックス容器の水平移動と連動してフラックス容器の立壁面上を摺動するスクレーパを、棒状の素材を曲折形成したばね体の一部によって構成するようにしていたが、本発明においては、スクレーパをどのような構成によって立壁面上で摺動させるかについては特に限定されない。要は、前記フラックス容器の水平移動によって該フラックス容器の立壁面が前記凹部の上部を越えた位置にまで来たときに、該水平移動と連動して立壁面に沿ってスクレーパを摺動させることができれば足りる。   In the above embodiment, the scraper that slides on the vertical wall surface of the flux container in conjunction with the horizontal movement of the flux container is configured by a part of a spring body formed by bending a rod-shaped material. In the present invention, the structure by which the scraper is slid on the standing wall surface is not particularly limited. In short, when the vertical movement of the flux container reaches the position where the vertical wall of the flux container exceeds the upper part of the recess, the scraper is slid along the vertical wall in conjunction with the horizontal movement. If you can do it.

上記実施形態のように、フラックス容器の水平移動自体をスクレーパの摺動の「駆動源」として利用できれは、簡単な構造でコストも低く抑えられるので好ましいが、例えば、より完全な掻き取りを求める場合には、水平移動によってフラックス容器が終端位置(あるいは終端付近)に到達したときに立壁面上を往復する電動のスクレーパにスイッチが入るような構成としても良く、このような構成も、本発明で言う「フラックス容器の水平移動と連動して該フラックス容器の立壁面上を摺動するスクレーパ」の概念に含まれる。   It is preferable that the horizontal movement of the flux container itself can be used as a “driving source” for sliding the scraper as in the above-described embodiment, because it is simple in structure and low in cost, but for example, more complete scraping is possible. If required, the configuration may be such that when the flux container reaches the end position (or near the end) by horizontal movement, an electric scraper that reciprocates on the vertical wall is switched on. It is included in the concept of “scraper sliding on the vertical wall surface of the flux container in conjunction with the horizontal movement of the flux container” in the invention.

又、これに関連し、上記実施形態ではフラックス容器の立壁面の下部に面取り部を形成し、スクレーパの摺動がより円滑に行なえるように工夫していたが、電動のスクレーパの場合は勿論、例えば、ばね体のアーム部の長さや立ち上り角を適宜に設定することにより、面取り部が無くてもスクレーパが立壁面を摺動しながら下降するように構成するのは可能である。従って、本発明においては、面取り部の形成も必ずしも必須の要件ではない。   In this regard, in the above embodiment, the chamfered portion is formed at the lower portion of the standing wall of the flux container so that the scraper can slide more smoothly. However, in the case of an electric scraper, of course. For example, by appropriately setting the length and rising angle of the arm portion of the spring body, the scraper can be configured to descend while sliding on the standing wall surface even without the chamfered portion. Therefore, in the present invention, the formation of the chamfered portion is not necessarily an essential requirement.

更に、上記実施形態においては、テーブル面におけるフラックス容器の水平移動の終端部付近に立壁面から掻き取ったフラックスを収容可能な収容部を形成するようにして掻き取られたフラックスが再び戻されにくい構成としていたが、例えば、フラックス成膜用の凹部からフラックス容器の水平移動の終端部までの距離を大きく取れるときには、この収容部についてもその形成を省略できる場合がある。   Further, in the above-described embodiment, the flux scraped off so as to form an accommodating portion capable of accommodating the flux scraped from the standing wall surface near the terminal end portion of the horizontal movement of the flux container on the table surface is difficult to return again. For example, when the distance from the concave part for forming the flux film to the terminal part of the horizontal movement of the flux container can be made large, the formation of the accommodating part may be omitted in some cases.

表面実装機において基板上に電子部品を装着する際のフラックス塗布を行なうためのフラックス膜を形成する分野において利用可能である。   The present invention can be used in the field of forming a flux film for performing flux application when mounting electronic components on a substrate in a surface mounter.

本発明の実施形態の一例に係るフラックスの成膜装置の概略平面図1 is a schematic plan view of a flux film forming apparatus according to an example of an embodiment of the present invention. 同正断面図Same sectional view フラックス容器がテーブル面上を移動していく過程を示す作業工程図Working process diagram showing the process of the flux container moving on the table surface スクレーパによってフラックスが掻き取られる過程を示す部分拡大図Partial enlarged view showing the process of scraping off the flux by the scraper 従来のフラックスの成膜装置の一例を示すもので、(A)はその概略平面図、(B)〜(D)はそのフラックス容器がテーブル面上を移動していく作業過程を示す正断面図An example of the conventional flux film-forming apparatus is shown, (A) is a schematic plan view thereof, and (B) to (D) are front sectional views showing a work process in which the flux container moves on the table surface. 他の従来の一例を示すもので、(A)はその概略平面図、(B)はその正断面図The other conventional example is shown, (A) is a schematic plan view thereof, (B) is a front sectional view thereof.

符号の説明Explanation of symbols

40…フラックス
42…成膜装置
46…テーブル面
48…フラックス容器
50…凹部
52…底面
54…立壁
56…蓋体
58…立壁面
60…面取り部
62…ばね体
64…固定部
66…端部
68…アーム部
70…頂部
72…スクレーパ
80、82…フラックス溜り
DESCRIPTION OF SYMBOLS 40 ... Flux 42 ... Film-forming apparatus 46 ... Table surface 48 ... Flux container 50 ... Concave 52 ... Bottom surface 54 ... Standing wall 56 ... Lid body 58 ... Standing wall surface 60 ... Chamfering part 62 ... Spring body 64 ... Fixed part 66 ... End part 68 ... arm part 70 ... top part 72 ... scraper 80, 82 ... flux reservoir

Claims (5)

フラックス成膜用の凹部を有するテーブル面を備え、該テーブル面に対して底面が開口したフラックス容器を相対的に水平移動させることにより、前記凹部内にフラックスを満たすフラックスの成膜装置において、
前記フラックス容器の水平移動と連動して該フラックス容器の立壁面上を摺動し、該立壁面上に付着したフラックスを掻き取るスクレーパを備えた
ことを特徴とするフラックスの成膜装置。
In the film forming apparatus for flux that fills the flux in the recess by horizontally moving a flux container having a table surface having a recess for flux film formation and having a bottom surface opened with respect to the table surface.
A flux film forming apparatus comprising a scraper that slides on a vertical wall surface of the flux container in conjunction with horizontal movement of the flux container and scrapes off the flux adhering to the vertical wall surface.
請求項1において、
前記スクレーパが、棒状の素材を曲折形成したばね体の一部で構成され、
該ばね体の他の一部が前記テーブル面側に固定され、前記一部がフラックス容器の前記水平移動と連動して前記立壁面に沿って摺動することにより、前記スクレーパとして機能する
ことを特徴とするフラックスの成膜装置。
In claim 1,
The scraper is composed of a part of a spring body formed by bending a rod-shaped material,
The other part of the spring body is fixed on the table surface side, and the part functions as the scraper by sliding along the standing wall surface in conjunction with the horizontal movement of the flux container. A featured flux deposition system.
請求項1または2において、
前記フラックス容器の立壁面の下部に、該フラックス容器の進行方向後ろ側に向けて面取り部が形成されている
ことを特徴とするフラックスの成膜装置。
In claim 1 or 2,
A flux film forming apparatus, wherein a chamfered portion is formed at a lower portion of a standing wall surface of the flux container toward a rear side in a traveling direction of the flux container.
請求項1〜3のいずれかにおいて、
前記テーブル面における前記フラックス容器の前記水平移動の終端部付近に、前記立壁面から掻き取ったフラックスを回収可能な回収部が形成されている
ことを特徴とするフラックスの成膜装置。
In any one of Claims 1-3,
A flux film forming apparatus characterized in that a collecting unit capable of collecting the flux scraped off from the standing wall surface is formed in the vicinity of the end of the horizontal movement of the flux container on the table surface.
フラックス成膜用の凹部を有するテーブル面を備え、該テーブル面に対して底面が開口したフラックス容器を相対的に水平移動させることにより、前記凹部内にフラックスを満たすフラックスの成膜装置におけるフラックス面の平滑化方法において、
前記フラックス容器の水平移動によって該フラックス容器の立壁面が前記凹部の上部を越えた位置にまで来たときに、該水平移動と連動して前記立壁面に沿ってスクレーパを摺動させる工程と、
該摺動によって立壁面上に付着したフラックスを掻き取った後に、前記フラックス容器を前記凹部側に戻す工程と、を含む
ことを特徴とするフラックスの成膜装置におけるフラックス面の平滑化方法。
A flux surface in a flux film forming apparatus that includes a table surface having a concave portion for forming a flux film, and that horizontally moves a flux container having a bottom surface opened relative to the table surface, so that the flux fills the concave portion. In the smoothing method of
A step of sliding a scraper along the vertical wall in conjunction with the horizontal movement when the vertical wall of the flux container has reached a position beyond the upper portion of the recess by horizontal movement of the flux container;
A method of smoothing a flux surface in a flux film forming apparatus, comprising: scraping off the flux adhering to the standing wall surface by the sliding and then returning the flux container to the concave portion side.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107107227B (en) * 2014-11-11 2019-11-05 株式会社新川 Scaling powder accumulation device
CN113097109A (en) * 2021-03-31 2021-07-09 华天科技(南京)有限公司 Soldering flux disc capable of preventing Bump cold solder joint, dipping system and method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0939198A (en) * 1995-07-25 1997-02-10 Nec Kansai Ltd Screen printer
JP2001257224A (en) * 2000-03-10 2001-09-21 Sanyu Rec Co Ltd Resin printing perforated plate and resin printing method by use of thereof
JP2002172460A (en) * 2000-12-05 2002-06-18 Towa Corp Device for and method of coating flux
JP2003023036A (en) * 2001-07-06 2003-01-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of mounting electronic component having bump

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6293317B1 (en) * 1999-04-12 2001-09-25 Esec Trading Sa Method and device for the application of a liquid substance
JP2001198505A (en) * 2000-01-19 2001-07-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Supply device for paste
JP4412915B2 (en) * 2003-05-09 2010-02-10 富士機械製造株式会社 Flux transfer apparatus and flux transfer method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0939198A (en) * 1995-07-25 1997-02-10 Nec Kansai Ltd Screen printer
JP2001257224A (en) * 2000-03-10 2001-09-21 Sanyu Rec Co Ltd Resin printing perforated plate and resin printing method by use of thereof
JP2002172460A (en) * 2000-12-05 2002-06-18 Towa Corp Device for and method of coating flux
JP2003023036A (en) * 2001-07-06 2003-01-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of mounting electronic component having bump

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